JP4614844B2 - Laser processing method and laser processing apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、レーザ加工方法及びレーザ加工装置に関し、特に、トレパニング加工により加工対象物に穴を形成するレーザ加工方法及びレーザ加工装置に関する。   The present invention relates to a laser processing method and a laser processing apparatus, and more particularly to a laser processing method and a laser processing apparatus for forming a hole in a workpiece by trepanning processing.

レーザビームのビームスポットより大きな開口を有する穴を形成するトレパニング加工が行われている。図7を参照して、従来のトレパニング加工方法について説明する。加工対象物50の表面上に、円周状の軌道51が画定されている。軌道51上に、レーザビームを入射させるべき複数の目標入射位置P、P等が配置されている。被加工面上のレーザビームの入射位置を、ガルバノスキャナにより移動させる。 Trepanning is performed to form a hole having an opening larger than the beam spot of the laser beam. A conventional trepanning method will be described with reference to FIG. A circumferential track 51 is defined on the surface of the workpiece 50. On the trajectory 51, a plurality of target incident positions P A , P B and the like on which the laser beam is to be incident are arranged. The incident position of the laser beam on the work surface is moved by a galvano scanner.

まず、軌道51上の第1の目標入射位置Pに、ガルバノスキャナが整定される。整定完了後、ガルバノスキャナを通して、第1の目標入射位置にレーザビームを入射させる。これにより、目標入射位置Pに対応する穴Hが形成される。次に、目標入射位置が軌道51上の第2の目標入射位置Pに移動され、ガルバノスキャナが整定される。整定完了後、ガルバノスキャナを通して、第2の目標入射位置Pにレーザビームを入射させる。これにより、目標入射位置Pに対応する穴Hが形成される。 First, the first target incident position P A of the orbit 51, the galvanometer scanner is settled. After the setting is completed, the laser beam is incident on the first target incident position through the galvano scanner. Thus, holes H A corresponding to the target incident position P A is formed. Next, the target incident position is moved to the second target incident position P B on the trajectory 51, and the galvano scanner is set. After completion of the setting, the laser beam is incident on the second target incident position P B through the galvano scanner. Thus, holes H B corresponding to the target incident position P B is formed.

このように、軌道51上の目標入射位置にガルバノスキャナを整定し、整定完了後に、ガルバノスキャナを通して目標入射位置にレーザビームを入射させる工程が複数回繰り返される。各目標入射位置に入射したレーザビームで形成された穴同士が部分的に重なることにより、ビームスポットより大きな1つの穴が形成される。   As described above, the process of setting the galvano scanner at the target incident position on the trajectory 51 and allowing the laser beam to enter the target incident position through the galvano scanner after the completion of the setting is repeated a plurality of times. One hole larger than the beam spot is formed by partially overlapping the holes formed by the laser beams incident on the target incident positions.

次に、図8を参照して、例えば上述のトレパニング加工等に従来用いられているガルバノスキャナについて説明する。ガルバノスキャナは、第1のスキャナ54及び第2のスキャナ55を含んで構成される。第1のスキャナ54が、被加工面上でレーザビームの入射位置を一方向に移動させ、第2のスキャナ55が、被加工面上でレーザビームの入射位置を、第1のスキャナ54による移動方向と直交する方向に移動させる。両スキャナの動作を組み合わせることにより、被加工面上で2次元方向にレーザビームの入射位置を移動させることができる。   Next, a galvano scanner conventionally used for the above-described trepanning process or the like will be described with reference to FIG. The galvano scanner includes a first scanner 54 and a second scanner 55. The first scanner 54 moves the incident position of the laser beam on the processing surface in one direction, and the second scanner 55 moves the incident position of the laser beam on the processing surface by the first scanner 54. Move in a direction perpendicular to the direction. By combining the operations of both scanners, the incident position of the laser beam can be moved in a two-dimensional direction on the processing surface.

ガルバノスキャナは、ガルバノ制御装置(ガルバノドライバ)53により制御される。ガルバノ制御装置53は、主制御装置52により制御される。主制御装置52は、例えばパーソナルコンピュータを含んで構成される。ガルバノ制御装置53は、入力インターフェース53a、メモリ53b、出力回路53c、及び演算回路53dを含んで構成される。   The galvano scanner is controlled by a galvano control device (galvano driver) 53. The galvano controller 53 is controlled by the main controller 52. The main controller 52 includes a personal computer, for example. The galvano controller 53 includes an input interface 53a, a memory 53b, an output circuit 53c, and an arithmetic circuit 53d.

図7を参照して説明したトレパニング加工方法において、目標入射位置Pにレーザビームを入射させた後、目標入射位置をPからPまで移動させる場合のガルバノスキャナの制御について説明する。ここで、目標入射位置Pを始点と呼び、目標入射位置Pを終点と呼ぶこととする。 In trepanning method described with reference to FIG. 7, after entering the laser beam to the target incident position P A, describing a target incident position control of the galvano scanner in the case of moving from P A to P B. Here, it referred to as a starting point the target incident position P A, it is assumed that the target incident position P B is referred to as the end point.

主制御装置52が、終点Pに対応する位置データを、ガルバノ制御装置53の入力インターフェース53aに送出する。目標入射位置を終点Pまで移動させるために、終点Pまでの経路を定める必要がある。終点Pまでの経路が、演算回路53dに予め定められた形状(例えば直線状)となるように、演算回路53dが、終点Pの位置データに基づいて、経路を定める位置データ(経路上に設定される各点の位置データ)を生成する。この位置データを、経路位置データと呼ぶこととする。制御周期(例えば50μs)ごとの経路位置データが生成される。 The main control device 52 sends position data corresponding to the end point P B to the input interface 53 a of the galvano control device 53. In order to move the target incident position to the end point P B, it is necessary to determine a route to the end point P B. Route to the end point P B is, so that the arithmetic circuit 53d into a predetermined shape (e.g., straight), the arithmetic circuit 53d, based on the position data of the end point P B, the position data (route to route Position data of each point set to) is generated. This position data is referred to as route position data. Path position data for each control cycle (for example, 50 μs) is generated.

経路位置データが、メモリ53bに格納される。制御周期ごとに、メモリ53bから出力回路53cに経路位置データが読み出される。出力回路53cが、経路位置データに基づいて第1のスキャナ54及び第2のスキャナ55を制御することにより、目標入射位置が、終点Pまで移動する。ガルバノスキャナが終点Pに整定された後、被加工面にレーザビームを入射する。このようなガルバノスキャナについて、例えば特許文献1に開示されている。 The route position data is stored in the memory 53b. For each control cycle, path position data is read from the memory 53b to the output circuit 53c. The output circuit 53c controls the first scanner 54 and the second scanner 55 based on the path position data, so that the target incident position moves to the end point P B. After the galvano scanner is set to the end point P B , the laser beam is incident on the surface to be processed. Such a galvano scanner is disclosed in Patent Document 1, for example.

特開2002−196275号公報JP 2002-196275 A

高品質な穴を形成することが可能なトレパニング加工技術が望まれている。また、時間効率の良いトレパニング加工技術が望まれている。   A trepanning technique capable of forming high-quality holes is desired. In addition, a time-efficient trepanning technique is desired.

本発明の一目的は、より高品質な穴を形成するトレパニング加工に適用可能なレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a laser processing method and a laser processing apparatus applicable to trepanning processing for forming a higher quality hole.

本発明の他の目的は、時間効率の良いトレパニング加工に適用可能なレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a laser processing method and a laser processing apparatus applicable to time-efficient trepanning processing.

本発明の第1の観点によれば、加工対象物上で目標入射位置を移動させると、レーザビームの入射位置が移動後の目標入射位置に向かって移動するようにレーザビームを走査するビーム走査器を用いてレーザ加工を行う方法において、(a)表面上に、レーザビームを入射させるべき閉じた軌道が画定された加工対象物の該軌道上の始点に、前記ビーム走査器の目標入射位置を移動させる工程と、(b)目標入射位置が前記始点を出発し前記軌道に沿って移動するように前記ビーム走査器を制御しながら、該ビーム走査器を通してパルスレーザビームを前記加工対象物に入射させ、前記パルスレーザビームの相互に連続するパルスのビームスポット同士を部分的に重ならせて、前記軌道の全周に亘り前記パルスレーザビームを照射する工程とを、前記工程(a)における始点を異ならせて少なくとも2回繰り返すレーザ加工方法が提供される。 According to the first aspect of the present invention, when the target incident position is moved on the workpiece, the beam scanning is performed to scan the laser beam so that the laser beam incident position moves toward the moved target incident position. In a method of performing laser processing using a scanner, (a) a target incident position of the beam scanner at a start point on the trajectory of a workpiece on which a closed trajectory on which a laser beam is to be incident is defined on a surface; a step of moving, (b) while controlling the beam scanner so that the target incident position is moved starting the start point along said trajectory, said workpiece with a pulsed laser beam through said beam scanner to be incident on, the pulse laser beam mutually beam spot between successive pulses by overlap partially, the steps you irradiating the pulsed laser beam over the entire circumference of the track A laser processing method of repeating at least two times with different starting point in the step (a) is provided.

本発明の第2の観点によれば、第1の観点のレーザ加工方法の工程(b)において、各目標入射位置にビーム走査器を整定させることなく、前記軌道に沿って目標入射位置を移動させるレーザ加工方法が提供される。   According to the second aspect of the present invention, in step (b) of the laser processing method of the first aspect, the target incident position is moved along the trajectory without setting the beam scanner at each target incident position. A laser processing method is provided.

本発明の第3の観点によれば、レーザビームを入射させるべき閉じた軌道が表面上に画定された加工対象物を保持する保持台と、パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームを、前記保持台に保持された加工対象物に入射させ、外部から目標入射位置が入力されると、パルスレーザビームの入射位置が目標入射位置に向かって移動するようにパルスレーザビームを走査するビーム走査器と、前記レーザ光源を制御するとともに、前記ビーム走査器に目標入射位置を与える制御装置とを有し、該制御装置は、(a)前記加工対象物の軌道上の始点の位置を、目標入射位置として前記ビーム走査に与える工程、及び(b)目標入射位置が前記始点から出発して前記軌道に沿って移動するように、前記ビーム走査器に与える目標入射位置を変化させながら、前記レーザ光源からパルスレーザビームを出射させ、前記パルスレーザビームの相互に連続するパルスのビームスポット同士を部分的に重ならせて、前記軌道の全周に亘り前記パルスレーザビームを照射する工程を、前記工程(a)における始点を異ならせて少なくとも2回繰り返すレーザ加工装置が提供される。 According to a third aspect of the present invention, a holding base for holding a workpiece in which a closed track on which a laser beam is to be incident is defined on a surface, a laser light source that emits a pulsed laser beam, and the laser light source When the pulse laser beam emitted from the laser beam is incident on the workpiece to be held on the holding table and the target incident position is input from the outside, the incident position of the pulse laser beam moves toward the target incident position. A beam scanner that scans a pulse laser beam, and a control device that controls the laser light source and provides a target incident position to the beam scanner, the control device comprising: (a) the workpiece to be processed; the position of the starting point on the trajectory, the process gives the beam scanner as a target incident position, and (b) to the target incident position is moved along said trajectory starting from the start point The while changing the target incident position given to the beam scanner, to emit a pulsed laser beam from the laser light source, a beam spot between successive pulses to one another of the pulse laser beam by overlapping partially, wherein a step wherein you irradiating the pulsed laser beam over the entire circumference of the track, the laser processing apparatus is provided to repeat at least two times with different starting point in the step (a).

本発明の第4の観点によれば、第3の観点のレーザ加工装置の制御装置が、工程(b)において、各目標入射位置に前記ビーム走査器を整定させることなく、前記軌道に沿って目標入射位置を移動させるように、該ビーム走査器を制御するレーザ加工装置が提供される。   According to the fourth aspect of the present invention, in the step (b), the control device for the laser processing apparatus according to the third aspect moves along the trajectory without setting the beam scanner at each target incident position. A laser processing apparatus is provided for controlling the beam scanner to move the target incident position.

第1の観点のレーザ加工方法及び第3の観点のレーザ加工装置は、工程(a)及び(b)を、始点を異ならせて少なくとも2回繰り返す。例えば、工程(b)で目標入射位置が移動する軌道上の部分の、始点近傍とその他の区間とで、入射するレーザビームのエネルギ密度が異なるような場合について考える。このような場合、工程(a)及び(b)を、始点を異ならせて2回以上繰り返すことにより、始点の位置が軌道上で分散するので、軌道の周方向に関するエネルギ密度分布を均一に近づけることができる。これにより、加工品質の向上が図られる。   The laser processing method according to the first aspect and the laser processing apparatus according to the third aspect repeat steps (a) and (b) at least twice with different starting points. For example, consider a case where the energy density of the incident laser beam is different between the vicinity of the start point and other sections of the portion on the orbit where the target incident position moves in step (b). In such a case, steps (a) and (b) are repeated twice or more with different starting points, so that the positions of the starting points are dispersed on the orbit, so that the energy density distribution in the circumferential direction of the orbit is made closer to the uniform. be able to. Thereby, improvement of processing quality is achieved.

第2の観点のレーザ加工方法及び第4の観点のレーザ加工装置は、工程(b)において、軌道上の各目標入射位置にビーム走査器を整定させることなく、目標入射位置を移動させる。軌道上の各目標入射位置にビーム走査器を整定させて、各目標入射位置にレーザビームを入射させるレーザ加工に比べて、時間効率の向上が図られる。   The laser processing method according to the second aspect and the laser processing apparatus according to the fourth aspect move the target incident position in step (b) without setting the beam scanner to each target incident position on the orbit. Time efficiency can be improved compared to laser processing in which a beam scanner is set at each target incident position on the orbit and a laser beam is incident on each target incident position.

図1は、本発明の実施例によるレーザ加工装置を概略的に示す。レーザ光源1が、パルスレーザビームを出射する。所望の期間中に一定のパルス周期でパルスレーザビームが出射されるように、主制御装置8がレーザ光源1を制御する。   FIG. 1 schematically shows a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The laser light source 1 emits a pulse laser beam. The main controller 8 controls the laser light source 1 so that a pulse laser beam is emitted at a constant pulse period during a desired period.

レーザ光源1から出射されたパルスレーザビームが、ガルバノスキャナ2とfθレンズ5とを経て、加工対象物6の表面(被加工面)に入射する。保持台7が加工対象物6を保持する。被加工面に平行なXY面を有し、fθレンズに固定されたXY直交座標系が画定されている。   A pulsed laser beam emitted from the laser light source 1 is incident on the surface (surface to be processed) of the workpiece 6 through the galvano scanner 2 and the fθ lens 5. The holding table 7 holds the workpiece 6. An XY orthogonal coordinate system having an XY plane parallel to the surface to be processed and fixed to the fθ lens is defined.

ガルバノスキャナ2は、第1のスキャナ3及び第2のスキャナ4を含んで構成される。第1のスキャナ3は、走査ミラー3a及び揺動機構3bを含んで構成され、第2のスキャナ4は、走査ミラー4a及び揺動機構4bを含んで構成される。走査ミラー3a及び4aが、それぞれパルスレーザビームを反射させる。揺動機構3b及び4bが、それぞれ、走査ミラー3a及び4aを揺動させる。   The galvano scanner 2 includes a first scanner 3 and a second scanner 4. The first scanner 3 includes a scanning mirror 3a and a swing mechanism 3b, and the second scanner 4 includes a scan mirror 4a and a swing mechanism 4b. The scanning mirrors 3a and 4a reflect the pulse laser beam, respectively. The swing mechanisms 3b and 4b swing the scanning mirrors 3a and 4a, respectively.

第1のスキャナ3の有する走査ミラー3aを揺動させることにより、被加工面上で、パルスレーザビームの入射位置がX方向に移動する。第2のスキャナ4の有する走査ミラー4aを揺動させることにより、被加工面上で、パルスレーザビームの入射位置が、Y方向に移動する。両走査ミラーの揺動動作を組み合わせることにより、被加工面上で、2次元方向にパルスレーザビームを移動させることができる。ガルバノスキャナ2は、ガルバノ制御装置(ガルバノドライバ)9により制御される。ガルバノ制御装置9は、主制御装置8により制御される。   By oscillating the scanning mirror 3a of the first scanner 3, the incident position of the pulse laser beam moves in the X direction on the surface to be processed. By oscillating the scanning mirror 4a of the second scanner 4, the incident position of the pulse laser beam moves in the Y direction on the surface to be processed. By combining the swinging motions of both scanning mirrors, the pulse laser beam can be moved in a two-dimensional direction on the surface to be processed. The galvano scanner 2 is controlled by a galvano control device (galvano driver) 9. The galvano controller 9 is controlled by the main controller 8.

次に、図2を参照して、ガルバノスキャナ2を制御するための主制御装置8及びガルバノ制御装置9について詳しく説明する。主制御装置8は、例えばパーソナルコンピュータを含んで構成され、演算回路8aを有する。演算回路8aは、例えばパーソナルコンピュータの中央演算処理装置(CPU)である。ガルバノ制御装置9は、入力インターフェース9a、メモリ9b、及び出力回路9cを含んで構成される。入力インターフェース9aは、例えばデュアルポートランダムアクセスメモリ(DPRAM)から構成される。   Next, the main controller 8 and the galvano controller 9 for controlling the galvano scanner 2 will be described in detail with reference to FIG. The main control device 8 includes, for example, a personal computer and has an arithmetic circuit 8a. The arithmetic circuit 8a is, for example, a central processing unit (CPU) of a personal computer. The galvano control device 9 includes an input interface 9a, a memory 9b, and an output circuit 9c. The input interface 9a is composed of, for example, a dual port random access memory (DPRAM).

被加工面上に画定された軌道の始点から終点まで、この軌道に沿ってレーザビームが走査されるように、ガルバノスキャナ2を制御する場合について考える。主制御装置8の演算回路8aが、軌道上の始点から終点までの間に設定される各指令入射位置に対応するXY座標データ(これを指令入射位置データと呼ぶこととする)を生成する。軌道上に設定される指令入射位置の個数は、例えば100個程度である。主制御装置8の演算回路8aで生成された指令入射位置データが、ガルバノ制御装置9の入力インターフェース9aに格納され、さらに、メモリ9bに転送される。   Consider a case where the galvano scanner 2 is controlled so that the laser beam is scanned along the trajectory from the start point to the end point of the trajectory defined on the processing surface. The arithmetic circuit 8a of the main control device 8 generates XY coordinate data (referred to as command incident position data) corresponding to each command incident position set between the start point and end point on the trajectory. The number of command incident positions set on the orbit is, for example, about 100. The command incident position data generated by the arithmetic circuit 8a of the main control device 8 is stored in the input interface 9a of the galvano control device 9, and further transferred to the memory 9b.

主制御装置8が、ガルバノ制御装置9に移動コマンドを発行する。移動コマンドは、軌道上に設定される全ての指令入射位置のXY座標データがガルバノ制御装置9に入力された後に発行される。ガルバノ制御装置9は、移動コマンドを受信すると、メモリ9bから、指令入射位置データを、指令入射位置ごとに、例えば50μs周期で出力回路9cに送出する。   The main control device 8 issues a movement command to the galvano control device 9. The movement command is issued after the XY coordinate data of all command incident positions set on the trajectory are input to the galvano controller 9. When the galvano control device 9 receives the movement command, it sends the command incident position data from the memory 9b to the output circuit 9c for each command incident position, for example, at a cycle of 50 μs.

出力回路9cは、メモリ9bから転送された指令入射位置データに基づき、第1のスキャナ3の揺動機構3b及び第2のスキャナ4の揺動機構4bを制御する。メモリ9bから出力回路9cに転送された指令入射位置データで特定される、被加工面上の位置を、目標入射位置と呼ぶこととする。このようにして、被加工面上で、始点から終点まで軌道に沿って、制御周期(例えば50μs)ごとに、目標入射位置を移動させることができる。   The output circuit 9c controls the swing mechanism 3b of the first scanner 3 and the swing mechanism 4b of the second scanner 4 based on the command incident position data transferred from the memory 9b. The position on the processing surface specified by the command incident position data transferred from the memory 9b to the output circuit 9c is referred to as a target incident position. In this way, the target incident position can be moved at every control cycle (for example, 50 μs) along the trajectory from the start point to the end point on the processing surface.

ガルバノスキャナ2を通ったレーザビームが入射すると想定される被加工面上の位置を、実入射位置と呼ぶこととする。被加工面上で目標入射位置が移動すると、移動後の目標入射位置に向かって実入射位置が移動するように、レーザビームが走査される。   A position on the processing surface on which the laser beam that has passed through the galvano scanner 2 is assumed to be incident is referred to as an actual incident position. When the target incident position moves on the processing surface, the laser beam is scanned so that the actual incident position moves toward the target incident position after the movement.

実施例の主制御装置8及びガルバノ制御装置9は、始点から終点までの経路を定める位置データ(経路上に設定される各点の位置データ)を、主制御装置8の有する演算回路8aが生成する。従来のガルバノスキャナにおいては、始点から終点までの経路を定める位置データを、ガルバノ制御装置が有する演算回路が生成する。   In the main control device 8 and the galvano control device 9 of the embodiment, the arithmetic circuit 8a of the main control device 8 generates position data (position data of each point set on the route) that determines the route from the start point to the end point. To do. In a conventional galvano scanner, an arithmetic circuit included in a galvano control device generates position data that defines a route from a start point to an end point.

主制御装置8の有する演算回路8aは、例えばパーソナルコンピュータのCPUである。パーソナルコンピュータのCPUは、ガルバノ制御装置が有する演算回路に比べて高速な計算が可能である。このため、実施例の主制御装置8及びガルバノ制御装置9を用いれば、始点から終点までの経路の形状を、従来のもの(例えば直線状)よりも複雑にすることが容易となる。   The arithmetic circuit 8a included in the main control device 8 is, for example, a CPU of a personal computer. The CPU of the personal computer can perform calculation at a higher speed than the arithmetic circuit included in the galvano control device. For this reason, if the main controller 8 and the galvano controller 9 of the embodiment are used, the shape of the path from the start point to the end point can be made more complicated than the conventional one (for example, a straight line shape).

なお、主制御装置8とガルバノ制御装置9とをまとめて1つの制御装置と考え、この制御装置がガルバノスキャナ2を制御すると考えることもできる。   The main control device 8 and the galvano control device 9 can be considered as a single control device, and this control device can be considered to control the galvano scanner 2.

次に、図3を参照して、ある目標入射位置にガルバノスキャナ2を整定する方法について説明する。走査ミラー3aの揺動角が、走査ミラー3aの基準姿勢からの変位角で定義され、走査ミラー4aの揺動角が、走査ミラー4aの基準姿勢からの変位角で定義される。走査ミラー3aの揺動角が、実入射位置のX座標に対応し、走査ミラー4aの揺動角が、実入射位置のY座標に対応する。   Next, a method for setting the galvano scanner 2 at a certain target incident position will be described with reference to FIG. The swing angle of the scanning mirror 3a is defined as a displacement angle from the reference posture of the scanning mirror 3a, and the swing angle of the scanning mirror 4a is defined as a displacement angle from the reference posture of the scanning mirror 4a. The swing angle of the scanning mirror 3a corresponds to the X coordinate of the actual incident position, and the swing angle of the scanning mirror 4a corresponds to the Y coordinate of the actual incident position.

整定させたい目標入射位置のX座標及びY座標に対応する揺動角を、それぞれQ及びQとする。揺動角Q及びQを、それぞれ、目標揺動角Q及びQと呼ぶこととする。X用走査ミラー3aについて説明を進める。 The swing angles corresponding to the X and Y coordinates of the target incident position to be set are Q x and Q y , respectively. The swing angles Q x and Q y will be referred to as target swing angles Q x and Q y , respectively. The description of the X scanning mirror 3a will be continued.

図3に、揺動角が目標揺動角Qとなるように揺動機構を制御した場合の、走査ミラー3aの揺動角の時間変動を示す。この例では、制御前の揺動角が、目標揺動角Qより小さい。目標揺動角Qを含む揺動角の許容範囲Aが定められている。また、走査ミラー3aが整定されたかどうか判断するための待ち時間Sが定められている。 3 shows the swing angle of the case of controlling the swing mechanism so that the target oscillating angle Q x, the time variation of the oscillation angle of the scanning mirror 3a. In this example, the swinging angle of the front control is smaller than the target swing angle Q x. Permissible range A of oscillation angle including the target swing angle Q x are determined. In addition, a waiting time S for determining whether the scanning mirror 3a is set is determined.

揺動角が目標揺動角Qとなるように制御されると、揺動角は増加し、時刻tに許容範囲A内に入る。その後、揺動角は増加を続け、ある時刻に目標揺動角Qに到達する。しかし、走査ミラー3aの慣性等に起因して、揺動角はさらに増加を続け、時刻tに許容範囲Aから外れる。その後、揺動角は、所定の極大値まで増加したのち減少に転じ、時刻tに再び許容範囲A内に入る。 When the swing angle is controlled to become the target swing angle Q x , the swing angle increases and falls within the allowable range A at time t 0 . Thereafter, the swing angle continues to increase, and reaches the target swing angle Q x at a certain time. However, due to inertia or the like of the scanning mirror 3a, Yuradokaku continues to increase further, at time t 1 deviates from the allowable range A. Thereafter, the swing angle is started to decline after increased up to a predetermined maximum value, reenters within the permissible range A at time t 2.

時刻tに再び許容範囲A内に入った後、揺動角は減少を続け、ある時刻に再び目標揺動角Qに到達する。しかし、走査ミラー3aの慣性等に起因して、揺動角はさらに減少を続ける。揺動角は、所定の極小値まで減少したのち増加に転じる。この極小値は、許容範囲A内に収まっている。このように、揺動角は、減衰振動しながら目標揺動角Qに近づく。時刻t以後、揺動角は許容範囲Aから外れない。 After entering into the time t 2 again allowed range A, the swing angle continues to decrease, again reaches the target oscillating angle Q x at a certain time. However, the swing angle continues to decrease due to the inertia of the scanning mirror 3a. The swing angle starts to increase after decreasing to a predetermined minimum value. This minimum value is within the allowable range A. Thus, the swing angle is close to the target swing angle Q x while attenuating vibrations. Time t 2 after the swing angle does not deviate from the permissible range A.

許容範囲A外から許容範囲A内に入った時刻から、待ち時間Sの間、揺動角が許容範囲A内に収まっていたら、走査ミラー3aが目標揺動角に(つまり目標入射位置に)整定されたと判断する。この例では、時刻tから待ち時間Sだけ経過した時刻tにおいて、走査ミラー3aが、目標揺動角Qに整定されたと判断される。 If the swing angle is within the allowable range A during the waiting time S from the time when it enters the allowable range A from outside the allowable range A, the scanning mirror 3a reaches the target swing angle (that is, the target incident position). Judge that it was settled. In this example, at time t 3 when passed from time t 2 only waiting time S, the scanning mirror 3a is determined to have been stabilized at the target swing angle Q x.

以上、X用走査ミラー3aについて説明したが、Y用走査ミラー4aについても同様である。X用走査ミラー3a及びY用4aの双方が整定されることにより、ガルバノスキャナ2が整定される。   The X scanning mirror 3a has been described above, but the same applies to the Y scanning mirror 4a. By setting both the X scanning mirror 3a and the Y scanning 4a, the galvano scanner 2 is set.

次に、図4を参照して、本願発明者の先の提案によるレーザ加工方法、及びそれに起因する問題点について説明する。まず、レーザ加工方法について説明する。図4は、加工対象物6の平面図である。被加工面上に、円周状の閉じた軌道Tが画定されており、軌道T上に始点Pが配置されている。 Next, with reference to FIG. 4, the laser processing method proposed by the inventors of the present application and the problems resulting therefrom will be described. First, the laser processing method will be described. FIG. 4 is a plan view of the workpiece 6. On the work surface, circumferential closed trajectory T are defined, the start point P s is disposed on the track T.

まず、始点Pに、目標入射位置を移動させ、ガルバノスキャナ2を整定させる。次に、始点Pから軌道Tに沿って目標入射位置を周回させる。図4に示す例では、矢印で示すように、目標入射位置を時計周りに周回させる。 First, the starting point P s, moves the target incident position, thereby settling the galvanometer scanner 2. Then, along the track T to around the target incident position from the start point P s. In the example shown in FIG. 4, the target incident position is rotated clockwise as indicated by an arrow.

目標入射位置が軌道Tに沿って等角速度で周回するように、指令入射位置データが生成されている。目標入射位置を周回させている期間中は、軌道T上の各目標入射位置にガルバノスキャナ2が整定されるまでの待ち時間S(図3参照)を確保しない(ガルバノスキャナ2を整定させない)。目標入射位置の周回に対応して、実入射位置がほぼ軌道Tに沿って周回する。   The command incident position data is generated so that the target incident position circulates along the trajectory T at a constant angular velocity. During the period in which the target incident position is circulated, the waiting time S (see FIG. 3) until the galvano scanner 2 is set at each target incident position on the trajectory T is not ensured (the galvano scanner 2 is not set). Corresponding to the rotation of the target incident position, the actual incident position circulates substantially along the trajectory T.

目標入射位置が周回している期間中に、被加工面にパルスレーザビームを入射させる。被加工面上のビームスポットは、例えば円形である。パルスレーザビームのパルスは、一定の周期で被加工面に入射する。パルスレーザビームが実際に入射する被加工面上の位置を、パルス入射位置と呼ぶこととする。   A pulsed laser beam is incident on the surface to be processed during the period in which the target incident position is circulating. The beam spot on the processing surface is, for example, circular. The pulse of the pulse laser beam is incident on the surface to be processed with a constant period. A position on the processing surface where the pulse laser beam is actually incident is referred to as a pulse incident position.

目標入射位置の移動開始と同時に、パルスレーザビームの入射を開始する。移動開始に先立って、始点Pにガルバノスキャナ2が整定されているので、パルスレーザビームの最初のパルスのパルス入射位置が、始点Pとほぼ一致する。その後のパルスのパルス入射位置P〜P10が、実入射位置の軌跡上(ほぼ軌道T上)に配置される。パルス入射位置が終点P10に到達したら、被加工面へのパルスレーザビームの入射と、目標入射位置の移動とを終了する。この例では、パルス入射位置の終点P10が、パルス入射位置の始点Pと一致している。 Simultaneously with the start of the movement of the target incident position, the incidence of the pulse laser beam is started. Prior to moving the start, since the galvanometer scanner 2 is stabilized at the starting point P s, a pulse incident position of the first pulse of the pulse laser beam, substantially coincides with the start point P s. The pulse incident positions P 1 to P 10 of the subsequent pulses are arranged on the trajectory of the actual incident position (substantially on the trajectory T). When pulse incident position reaches the end point P 10, and ends the incidence of the pulsed laser beam to the work surface, and the movement of the target incident position. In this example, the end point P 10 of the pulse incident position is coincident with the start point P s of pulse incident position.

なお、ガルバノスキャナ2による目標入射位置の移動のタイミングと、パルスレーザビームの入射タイミングとが、同期している必要はない。言い換えると、ガルバノ制御装置9が揺動機構3b及び4bを制御するタイミングと、レーザ光源1からパルスレーザビームのパルスが出射されるタイミングとが同期している必要はない。   Note that the timing of movement of the target incident position by the galvano scanner 2 and the incident timing of the pulse laser beam do not need to be synchronized. In other words, the timing at which the galvano control device 9 controls the rocking mechanisms 3b and 4b and the timing at which the pulse of the pulse laser beam is emitted from the laser light source 1 do not have to be synchronized.

パルスレーザビームにより、被加工面に、パルス入射位置P、P〜P10の各々に対応した穴が形成される。図4において、各パルス入射位置P、P〜P10を中心とする円が、それぞれのパルス入射位置に対応した穴の開口を示す。各パルス入射位置に対応する穴の開口同士が部分的に重なることにより、ビームスポットよりも大きな一つの穴(これをトレパニング加工穴と呼ぶこととする)が形成される。各パルス入射位置に対応する穴の開口同士が部分的に重なって、一つの穴が形成されるように、ビームスポットの半径に対する軌道Tの半径の比率が選択されている。 With the pulse laser beam, holes corresponding to each of the pulse incident positions P s and P 1 to P 10 are formed on the processing surface. In FIG. 4, circles centered on the respective pulse incident positions P s and P 1 to P 10 indicate hole openings corresponding to the respective pulse incident positions. When the openings of the holes corresponding to the respective pulse incident positions partially overlap each other, one hole larger than the beam spot (hereinafter referred to as a trepanning hole) is formed. The ratio of the radius of the trajectory T to the radius of the beam spot is selected so that the openings of the holes corresponding to the pulse incident positions partially overlap to form one hole.

このレーザ加工方法では、ガルバノスキャナ2を整定させることなく、目標入射位置を軌道Tに沿って周回させながら、ガルバノスキャナ2を通して被加工面にレーザビームを入射させて、トレパニング加工穴を形成する。周回の途中でガルバノスキャナ2を整定させないので、周回の途中でガルバノスキャナ2の整定を繰り返す従来のトレパニング加工方法に比べて、時間効率の向上が図られる。   In this laser processing method, a trepanning hole is formed by allowing a laser beam to enter the surface to be processed through the galvano scanner 2 while rotating the target incident position along the trajectory T without setting the galvano scanner 2. Since the galvano scanner 2 is not set during the circulation, the time efficiency can be improved as compared with the conventional trepanning method that repeats the setting of the galvano scanner 2 during the rotation.

次に、このレーザ加工方法に起因する問題点について説明する。始点Pから軌道Tに沿って、目標入射位置が等角速度で移動するように、ガルバノ制御装置9が、ガルバノスキャナ2を制御する。つまり、実入射位置を軌道Tに沿って等角速度で移動させるようにしたい。実入射位置を等角速度で移動させるためには、走査ミラー3a及び4aを所定の角速度で揺動させる必要がある。 Next, problems caused by this laser processing method will be described. And from the starting point P s along the track T, as the target incident position is moved at a constant angular velocity, the galvanometer controller 9 controls the galvanometer scanner 2. That is, it is desired to move the actual incident position along the trajectory T at an equal angular velocity. In order to move the actual incident position at a constant angular velocity, the scanning mirrors 3a and 4a need to be swung at a predetermined angular velocity.

しかし、実入射位置の移動開始前に、ガルバノスキャナ2は始点Pに整定されており、走査ミラー3a及び4aはともにほぼ静止している。したがって、実際には、実入射位置の移動開始と同時に移動角速度を等角速度にすることはできない(移動開始時点の移動角速度はほぼゼロである)。実入射位置の移動角速度は、移動開始後から加速した後に、等角速度になる。実入射位置の移動角速度が加速している期間を加速期間と呼び、その後、実入射位置の移動角速度が等角速度に維持されている期間を等角速度期間と呼ぶこととする。 However, before starting the movement of the actual incident position, galvano-scanner 2 is stabilized at the starting point P s, the scanning mirrors 3a and 4a are both substantially stationary. Therefore, in practice, the moving angular velocity cannot be made equal to the angular velocity at the same time as the movement of the actual incident position starts (the moving angular velocity at the start of movement is almost zero). The moving angular velocity at the actual incident position becomes equal angular velocity after acceleration from the start of movement. A period during which the moving angular velocity at the actual incident position is accelerated is referred to as an acceleration period, and thereafter a period during which the moving angular velocity at the actual incident position is maintained at a constant angular velocity is referred to as a constant angular velocity period.

パルスレーザビームのパルスは、一定の周期で被加工面に入射する。したがって、軌道T上で互いに最隣接するパルス入射位置同士の間隔(これをパルス入射間隔と呼ぶこととする)は、加速期間中において、実入射位置の移動角速度の増加とともに広くなり、等角速度期間中は一定となる。加速期間中、特に、実入射位置の移動開始の直後は(つまり、始点Pの近傍では)、等角速度期間中に比べて移動角速度が遅いので、パルス入射間隔が狭い。 The pulse of the pulse laser beam is incident on the surface to be processed with a constant period. Therefore, the interval between the pulse incident positions closest to each other on the trajectory T (referred to as the pulse incident interval) becomes wider during the acceleration period with the increase in the moving angular velocity of the actual incident position, and the equiangular velocity period. The inside is constant. During the acceleration period, in particular, immediately after the start of movement of the actual incident position (i.e., in the vicinity of the starting point P s), the moving velocity than during constant velocity period is slow, the pulse incident spacing is narrow.

互いに最隣接するパルス入射位置に入射するパルスレーザビームの入射領域(ビームスポット内の領域)同士の重なりは、パルス入射間隔が狭いほど大きくなる。したがって、特に、始点Pの近傍に入射する総エネルギの密度は、等角速度期間中に実入射位置が通過する軌跡上に配置されたパルス入射位置(例えばパルス入射位置P)の近傍に入射する総エネルギの密度より高くなる。このように、軌道Tの周方向に関するエネルギ密度の分布を、均一に近づけることができない。 The overlap between the pulse laser beam incident regions (regions in the beam spot) incident on the pulse incident positions closest to each other increases as the pulse incident interval decreases. Therefore, in particular, the density of the total energy incident in the vicinity of the start point P s is incident in the vicinity of the pulse incident position (for example, the pulse incident position P 6 ) arranged on the locus through which the actual incident position passes during the equiangular velocity period. Higher than the total energy density. Thus, the energy density distribution in the circumferential direction of the trajectory T cannot be made uniform.

なお、トレパニング加工穴の開口形状を円周状に近づけるには、軌道T上(厳密には実入射位置の軌跡上)に配置されるパルス入射位置の個数を充分に多くすればよい(上述の例では説明のため、パルス入射位置の個数を実際の加工より少なくした)。パルス入射位置の個数を増やすには、例えば、パルス周期が一定であるとき、目標入射位置の移動角速度を遅くすればよい。また例えば、目標入射位置の移動角速度が一定であるとき、パルス周期を短くすればよい。図4に一点鎖線で示す円周が、パルス入射位置の個数が充分に多い場合のトレパニング加工穴の開口形状を示す。   In order to make the opening shape of the trepanning hole close to the circumference, the number of pulse incident positions arranged on the trajectory T (strictly on the trajectory of the actual incident position) should be sufficiently increased (described above). In the example, for the sake of explanation, the number of pulse incident positions is less than the actual machining). In order to increase the number of pulse incident positions, for example, when the pulse period is constant, the moving angular velocity of the target incident position may be decreased. Further, for example, when the moving angular velocity of the target incident position is constant, the pulse cycle may be shortened. The circumference indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 4 shows the opening shape of the trepanning hole when the number of pulse incident positions is sufficiently large.

例えば、パルスレーザビームの繰り返し周波数は10kHzである。この場合、1つのトレパニング加工穴は、例えば50ショットで開けられる。パルスレーザビームの50ショットに要する時間は5msとなる。ガルバノ制御装置の制御周期が、例えば50μsである。この場合、トレパニング加工穴を開けるために軌道T上に設定される目標入射位置の個数は(トレパニング加工穴を開ける5msの期間に必要な目標入射位置の個数は)、100個程度となる。   For example, the repetition frequency of the pulse laser beam is 10 kHz. In this case, one trepanning hole is formed with 50 shots, for example. The time required for 50 shots of the pulse laser beam is 5 ms. The control cycle of the galvano control device is, for example, 50 μs. In this case, the number of target incident positions set on the trajectory T in order to open the trepanning hole (the number of target incident positions necessary for a period of 5 ms for opening the trepanning hole) is about 100.

なお、上述の例では、パルス入射位置の終点がパルス入射位置の始点に到達してから、被加工面へのレーザビーム入射を終了させた。この場合は、目標入射位置の始点から終点まで移動する経路が、閉じている。   In the above-described example, the laser beam incident on the processing surface is terminated after the end point of the pulse incident position reaches the start point of the pulse incident position. In this case, the path from the start point to the end point of the target incident position is closed.

しかし、パルス入射位置の終点が、パルス入射位置の始点の少し手前に配置されていても、トレパニング加工穴を開けることは可能である。つまり、軌道T上の目標入射位置の終点が、目標入射位置の始点より少し手前に配置されていても(軌道T上の目標入射位置の終点が目標入射位置の始点に到達する少し前に、目標入射位置の移動を終了させるとしても)、トレパニング加工穴を開けることは可能である。この場合は、目標入射位置の始点から終点まで移動する経路が閉じていない。   However, even if the end point of the pulse incident position is located slightly before the start point of the pulse incident position, it is possible to make a trepanning hole. That is, even if the end point of the target incident position on the trajectory T is arranged slightly before the start point of the target incident position (a little before the end point of the target incident position on the trajectory T reaches the start point of the target incident position, It is possible to drill a trepanning hole (even if the movement of the target incident position is terminated). In this case, the path from the start point to the end point of the target incident position is not closed.

被加工面上に形成したい所望のトレパニング加工穴に対応するように、閉じた軌道Tを画定することができる。軌道T上の目標入射位置の始点を出発し、軌道Tの少なくとも一部に沿って目標入射位置を移動させながら、被加工面にパルスレーザビームを入射させることにより、トレパニング加工穴を形成することができる。   A closed trajectory T can be defined to correspond to the desired trepanning hole to be formed on the work surface. Forming a trepanning hole by starting a target incident position on the trajectory T and causing the pulsed laser beam to enter the work surface while moving the target incident position along at least a part of the trajectory T. Can do.

次に、図5を参照し、実施例によるレーザ加工方法について説明する。この方法では、図4を参照して説明したレーザ加工工程(これをトレパニング走査工程と呼ぶこととする)を、軌道Tの周方向に関して始点を異ならせて複数回繰り返す。以下、トレパニング走査工程を3回繰り返す場合について具体的に説明する。   Next, the laser processing method according to the embodiment will be described with reference to FIG. In this method, the laser processing step (referred to as a trepanning scanning step) described with reference to FIG. 4 is repeated a plurality of times with different starting points in the circumferential direction of the trajectory T. Hereinafter, the case where the trepanning scanning process is repeated three times will be specifically described.

図5の上段が、1回目の工程に対応する。加工対象物6の表面上に円周状の軌道Tが画定されており、軌道T上に点PS1が配置されている。点PS1を始点として、1回目のトレパニング走査工程を実施する。これにより、トレパニング加工穴Hが形成される。 The upper part of FIG. 5 corresponds to the first step. A circumferential trajectory T is defined on the surface of the workpiece 6, and a point PS 1 is disposed on the trajectory T. The first trepanning scanning process is performed starting from the point P S1 . Thereby, the trepanning hole H is formed.

図5の中段が、2回目の工程に対応する。軌道T上で、1回目の工程の始点PS1を時計周りに120°ずらした位置に、点PS2が配置されている。点PS2を始点として、2回目のトレパニング走査工程を実施する。これにより、トレパニング加工穴Hが深くなる。 The middle part of FIG. 5 corresponds to the second process. On the trajectory T, the point P S2 is arranged at a position shifted from the start point P S1 of the first process by 120 ° clockwise. As a starting point the point P S2, implementing the second trepanning scanning process. Thereby, the trepanning hole H is deepened.

図5の下段が、3回目の工程に対応する。軌道T上で、2回目の工程の始点PS2を時計周りに120°ずらした位置に(または、軌道T上で、1回目の工程の始点PS1を時計周りに240°ずらした位置に)、点PS3が配置されている。点PS3を始点として、3回目のトレパニング走査工程を実施する。これにより、トレパニング加工穴Hがさらに深くなる。 The lower part of FIG. 5 corresponds to the third step. On the trajectory T, the starting point P S2 of the second process is shifted 120 ° clockwise (or on the trajectory T, the starting point P S1 of the first process is shifted 240 ° clockwise). , Point PS3 is arranged. As a starting point the point P S3, carrying out the third trepanning scanning process. Thereby, the trepanning hole H becomes deeper.

図5を参照して説明したレーザ加工方法では、始点を異ならせて複数回のトレパニング走査工程を行う。これにより、エネルギ密度の高い始点の位置が、軌道T上の周方向に関して分散されるので、軌道Tの周方向に関するエネルギ密度分布を均一に近づけることができる。つまり、形成されたトレパニング加工穴の開口の周方向に関して、エネルギ密度分布を均一に近づけることができる。これにより、トレパニング加工穴の加工品質の向上が図られる。なお、毎回のトレパニング走査工程において、目標入射位置を始点に移動させたときに、ガルバノスキャナが整定される。   In the laser processing method described with reference to FIG. 5, the trepanning scanning process is performed a plurality of times with different starting points. Thereby, since the position of the starting point with high energy density is dispersed in the circumferential direction on the track T, the energy density distribution in the circumferential direction of the track T can be made closer to uniform. That is, the energy density distribution can be made to be uniform in the circumferential direction of the opening of the formed trepanning hole. Thereby, improvement of the processing quality of the trepanning hole is achieved. In each trepanning scanning step, the galvano scanner is set when the target incident position is moved to the start point.

加工対象物に入射させるパルスレーザビームとして、必要に応じて種々の波長、種々のパルス周期のものを用いることができる。例えば、紫外領域の波長を有するパルスレーザビームが用いられる。加工対象物は、どのようなものでもよいが、例えば表面に銅箔が積層された樹脂部材である。   As the pulse laser beam incident on the object to be processed, those having various wavelengths and various pulse periods can be used as necessary. For example, a pulsed laser beam having a wavelength in the ultraviolet region is used. Although what kind of thing may be processed, it is the resin member by which the copper foil was laminated | stacked on the surface, for example.

このような樹脂部材に紫外パルスレーザビームを入射させ、銅箔を貫通し、底面に樹脂部材が露出するトレパニング加工穴を形成する場合について考える。1回のトレパニング走査のみ行う場合、高いエネルギ密度となる走査の始点近傍で、穴の開口形状の、円周形状からの歪が大きい。上述のように始点を異ならせて複数回のトレパニング走査を行うことにより、穴の開口の周方向に関してエネルギ密度分布が均一に近づけられるので、1回のトレパニング走査のみ行う場合に比べて、穴の開口形状が円周形状に近づく(真円度が高くなる)。   Consider a case where an ultraviolet pulse laser beam is incident on such a resin member, a trepanning hole is formed through the copper foil and exposing the resin member on the bottom surface. When only one trepanning scan is performed, distortion from the circumferential shape of the opening shape of the hole is large in the vicinity of the scanning start point where the energy density is high. By performing trepanning scanning multiple times with different starting points as described above, the energy density distribution can be made uniform in the circumferential direction of the opening of the hole, so that compared to the case where only one trepanning scanning is performed, The opening shape approaches the circumferential shape (the roundness increases).

上述の例では、トレパニング走査工程を3回繰り返した。2回目の工程の始点が、1回目の工程の始点を軌道Tの周方向に120°だけずらした位置に配置され、3回目の工程の始点が、2回目の工程の始点を軌道Tの周方向に120°だけずらした位置に配置された。これにより、3回分の工程に対応する3つの始点が、軌道Tの周方向に関して均等な間隔で配置される。なお、例えば、上述のようにトレパニング走査工程を3回繰り返す工程を単位として、これを複数回繰り返すことも可能である。   In the above example, the trepanning scanning process is repeated three times. The start point of the second step is arranged at a position shifted from the start point of the first step by 120 ° in the circumferential direction of the trajectory T, and the start point of the third step is the circumference of the trajectory T. It was arranged at a position shifted by 120 ° in the direction. As a result, three start points corresponding to three steps are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the track T. For example, as described above, the trepanning scanning process can be repeated a plurality of times with a process of repeating the trepanning scanning process three times.

Nを2以上の整数として、トレパニング走査工程をN回繰り返す場合には、ある回のトレパニング走査工程の始点が、その直前の回のトレパニング走査工程の始点を軌道Tの周方向に360°/N(またはその整数倍)だけずらした位置に配置されるようにすることにより、軌道Tの周方向に関するエネルギ密度の分布を均一に近づけることが容易となる。   When N is an integer of 2 or more and the trepanning scanning process is repeated N times, the starting point of a certain trepanning scanning process is 360 ° / N in the circumferential direction of the trajectory T. By arranging them at positions shifted by (or an integral multiple thereof), it becomes easy to make the energy density distribution in the circumferential direction of the trajectory T uniform.

なお、軌道Tの周方向に関するエネルギ密度の分布を均一に近づける観点から、各回のトレパニング走査工程で、軌道Tに沿って目標入射位置を移動させる量は、等しいことが好ましい。例えば、トレパニング走査工程の1回当たりに、Mを1以上の整数として、目標入射位置を軌道T上でM周させるようにする。   Note that, from the viewpoint of making the energy density distribution in the circumferential direction of the trajectory T uniform, the amount of movement of the target incident position along the trajectory T in each trepanning scanning step is preferably equal. For example, for each time of the trepanning scanning process, M is set to an integer of 1 or more, and the target incident position is made to make M rounds on the trajectory T.

次に、図6(A)を参照して、第1の変形例によるレーザ加工方法について説明する。図5を参照して説明した方法では、1つのトレパニング加工穴に対して、3回のトレパニング走査工程を連続して行った。これはバースト加工に対応する。以下のように、サイクル加工に対応する加工を行うことも可能である。   Next, a laser processing method according to the first modification will be described with reference to FIG. In the method described with reference to FIG. 5, three trepanning scanning steps are continuously performed for one trepanning hole. This corresponds to burst processing. It is also possible to perform processing corresponding to cycle processing as follows.

図6(A)に示すように、加工対象物6の表面に、レーザビームを入射すべき複数の円周状の軌道T〜Tが画定されている。各軌道T〜Tに対して、図5を参照して説明したように、始点を異ならせて、例えば3回ずつのトレパニング走査工程を行って、トレパニング加工穴H〜Hを形成する。ただし、1つのトレパニング加工穴に対して、2回連続してトレパニング走査工程が行われないようにする。例えば、軌道T〜Tに対して順に1回目のトレパニング走査工程を行い、次に、軌道T〜Tに対して順に2回目のトレパニング走査工程を行い、次に、軌道T〜Tに対して順に3回目のトレパニング走査工程を行うようにすればよい。 As shown in FIG. 6A, a plurality of circumferential trajectories T 1 to T 3 on which the laser beam is to be incident are defined on the surface of the workpiece 6. For each of the trajectories T 1 to T 3 , as described with reference to FIG. 5, trepanning holes H 1 to H 3 are formed by performing a trepanning scanning process, for example, three times with different starting points. To do. However, the trepanning scanning process is not performed twice for one trepanning hole. For example, performs first trepanning scanning step in order with respect to the track T 1 through T 3, then a second time trepanning scanning step in order with respect to the track T 1 through T 3, then the track T 1 ~ A third trepanning scanning process may be performed sequentially for T3.

次に、図6(B)を参照して、第2の変形例によるレーザ加工方法について説明する。加工対象物6の表面に、同心の円周状の軌道T〜Tが画定されている。軌道Tの外側に軌道Tが配置され、軌道Tの外側に軌道Tが配置されている。 Next, a laser processing method according to a second modification will be described with reference to FIG. Concentric circumferential tracks T 4 to T 6 are defined on the surface of the workpiece 6. Track T 5 is disposed outside the track T 4, trajectory T 6 on the outside of the track T 5 is arranged.

軌道Tの半径は、軌道T上の入射位置に入射したレーザビームのビームスポットが、軌道Tの中心を含まない程度に大きい。よって、軌道Tに沿って、指令入射位置を周回させながら、被加工面にパルスレーザビームを入射させると、穴ではなく、軌道Tに沿った環状の溝が形成される。軌道Tについても同様である。なお、このように、ビームスポットが軌道の中心を含まず、軌道に沿った環状の溝が形成される場合も、トレパニング走査工程と呼ぶこととする。軌道Tについては、ビームスポットが軌道Tの中心を含み、トレパニング走査工程で穴が形成される。 The radius of the trajectory T 5, the laser beam beam spot incident on the incident position on the trajectory T 5 is larger to the extent that does not include the center of the track T 5. Thus, along the track T 5, while around the command incidence position and is incident pulsed laser beam on the work surface, rather than the hole, an annular groove along the track T 5 is formed. The same applies to the track T 6. Note that the case where the beam spot does not include the center of the trajectory and an annular groove is formed along the trajectory is referred to as a trepanning scanning process. The track T 4, the beam spot comprises a central track T 4, holes are formed by trepanning scanning process.

まず、軌道Tに対するトレパニング走査工程により、軌道Tに対応する穴を形成する。次に、軌道Tに対するトレパニング走査工程により、軌道Tに沿った環状の溝を形成する。軌道Tに対するトレパニング走査工程で形成される環状の溝が、軌道Tに対するトレパニング走査工程で形成される穴と重なりを持つように、軌道Tの半径が選択されている。これにより、軌道Tに対するトレパニング走査工程で形成された穴の半径を拡大することができる。 First, by trepanning scanning process for the track T 4, forming a hole corresponding to the track T 4. Then, by trepanning scanning process for the track T 5, to form an annular groove along the track T 5. An annular groove formed in the trepanning scanning process for the trajectory T 5 is, so that it has an overlap with the hole formed by trepanning scanning process for track T 4, the radius of the track T 5 is selected. Thus, it is possible to enlarge the radius of the hole formed by trepanning scanning process for the track T 4.

さらに、軌道Tに対するトレパニング走査工程により、軌道Tに沿った環状の溝を形成する。軌道Tに対するトレパニング走査工程で形成される環状の溝が、軌道Tに対するトレパニング走査工程で形成される環状の溝と重なりを持つように、軌道Tの半径が選択されている。これにより、穴の半径をさらに拡大することができる。軌道T〜Tに沿ったトレパニング走査工程が終了すると、軌道Tに沿った環状の溝の外径と等しい直径を有する穴Hが形成される。 Furthermore, by trepanning scanning process for the track T 6, to form an annular groove along the track T 6. An annular groove formed in the trepanning scanning process for the track T 6 is, so that it has an overlap with the annular groove formed by trepanning scanning process for track T 5, the radius of the track T 6 is selected. Thereby, the radius of a hole can be expanded further. When the trepanning scanning process along the trajectories T 4 to T 6 is completed, a hole H 4 having a diameter equal to the outer diameter of the annular groove along the trajectory T 6 is formed.

各軌道T、T及びTに対して、始点を異ならせて複数回のトレパニング走査工程を行うようにすれば、各軌道T、T及びTの周方向に関してエネルギ密度分布を均一に近づけることができる。 For each track T 4, T 5 and T 6, if so at different starting performing a plurality of trepanning scanning step, the energy density distribution in the circumferential direction of the track T 4, T 5 and T 6 Can be close to uniform.

なお、トレパニング走査工程を行うための軌道は円周状に限らない。円周状の軌道以外の、他の形状の閉じた軌道に対しても、軌道の周方向に関して始点を異ならせて複数回のトレパニング走査工程を行うことにより、軌道の周方向に関するエネルギ密度分布を均一に近づけることができる。   Note that the trajectory for performing the trepanning scanning process is not limited to a circumferential shape. Even for a closed track other than a circular track, the energy density distribution in the track circumferential direction can be obtained by performing a plurality of trepanning scanning steps with different starting points in the track circumferential direction. Can be close to uniform.

なお、レーザビームにより穴を形成する加工について説明したが、穴を形成する加工でなくとも、実施例のトレパニング加工と同様に加工対象物にレーザビームを入射させる加工において、レーザビームを入射すべき軌道の周方向に関するエネルギ密度分布を均一に近づけることができる。   In addition, although the process which forms a hole with a laser beam was demonstrated, in the process which makes a laser beam inject into a process target similarly to the trepanning process of an Example even if it is not the process which forms a hole, a laser beam should be incident It is possible to make the energy density distribution in the circumferential direction of the track closer to uniform.

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。   Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

本発明の実施例によるレーザ加工装置の概略図である。It is the schematic of the laser processing apparatus by the Example of this invention. 実施例によるレーザ加工装置において、ガルバノスキャナを制御するための主制御装置及びガルバノ制御装置のブロック図である。FIG. 3 is a block diagram of a main controller and a galvano controller for controlling a galvano scanner in the laser processing apparatus according to the embodiment. ガルバノスキャナの整定について説明するための、走査ミラーの揺動角の時間変化を示すグラフである。It is a graph which shows the time change of the rocking | fluctuation angle of a scanning mirror for demonstrating the setting of a galvano scanner. 本願発明者の先の提案によるレーザ加工方法について説明するための加工対象物の平面図である。It is a top view of the process target object for demonstrating the laser processing method by the previous proposal of this inventor. 実施例によるレーザ加工方法について説明するための加工対象物の平面図である。It is a top view of the processed object for demonstrating the laser processing method by an Example. 図6(A)及び図6(B)は、それぞれ、第1及び第2の変形例によるレーザ加工方法について説明するための加工対象物の平面図である。FIGS. 6A and 6B are plan views of the object to be processed for describing the laser processing methods according to the first and second modifications, respectively. 従来のトレパニング加工方法について説明するための加工対象物の平面図である。It is a top view of the processing target object for demonstrating the conventional trepanning processing method. 従来のレーザ加工装置において、ガルバノスキャナを制御するための主制御装置及びガルバノ制御装置のブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of a main controller and a galvano controller for controlling a galvano scanner in a conventional laser processing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 レーザ光源
2 ガルバノスキャナ
3 第1のスキャナ
3a (第1のスキャナの)走査ミラー
3b (第1のスキャナの走査ミラーを揺動させる)揺動機構
4 第2のスキャナ
4a (第2のスキャナの)走査ミラー
4b (第2のスキャナの走査ミラーを揺動させる)揺動機構
5 fθレンズ
6 加工対象物
7 保持台
8 主制御装置
9 ガルバノ制御装置
T 軌道
s1、Ps2、Ps3 始点
H トレパニング加工穴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser light source 2 Galvano scanner 3 1st scanner 3a (1st scanner) Scanning mirror 3b (Swinging the scanning mirror of 1st scanner) Oscillation mechanism 4 2nd scanner 4a (2nd scanner ) Scanning mirror 4b (swinging the scanning mirror of the second scanner) Oscillating mechanism 5 fθ lens 6 Work object 7 Holding base 8 Main controller 9 Galvano controller T Trajectory P s1 , P s2 , P s3 Start point H Trepanning hole

Claims (9)

加工対象物上で目標入射位置を移動させると、レーザビームの入射位置が移動後の目標入射位置に向かって移動するようにレーザビームを走査するビーム走査器を用いてレーザ加工を行う方法において、
(a)表面上に、レーザビームを入射させるべき閉じた軌道が画定された加工対象物の該軌道上の始点に、前記ビーム走査器の目標入射位置を移動させる工程と、
(b)目標入射位置が前記始点を出発し前記軌道に沿って移動するように前記ビーム走査器を制御しながら、該ビーム走査器を通してパルスレーザビームを前記加工対象物に入射させ、前記パルスレーザビームの相互に連続するパルスのビームスポット同士を部分的に重ならせて、前記軌道の全周に亘り前記パルスレーザビームを照射する工程と
を、前記工程(a)における始点を異ならせて少なくとも2回繰り返すレーザ加工方法。
In a method of performing laser processing using a beam scanner that scans a laser beam so that the incident position of the laser beam moves toward the target incident position after movement when the target incident position is moved on the workpiece,
(A) moving a target incident position of the beam scanner to a starting point on the trajectory of a workpiece on which a closed trajectory on which a laser beam is to be incident is defined on the surface;
While (b) the target incident position controls the beam scanner to move starting the start point along the trajectory, is incident pulsed laser beam onto the workpiece through the beam scanner, the pulse a beam spot between successive pulses to one another of the laser beam by overlapping partially, and a step wherein you irradiating the pulsed laser beam over the entire circumference of the track, by varying the starting point in the step (a) Laser processing method repeated at least twice.
前記工程(b)において、各目標入射位置にビーム走査器を整定させることなく、前記軌道に沿って目標入射位置を移動させる請求項1に記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein in the step (b), the target incident position is moved along the trajectory without setting a beam scanner at each target incident position. 前記工程(a)は、前記軌道上の始点にビーム走査器を整定させる工程を含む請求項1または2に記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein the step (a) includes a step of setting a beam scanner at a starting point on the orbit. 前記工程(b)において、パルスレーザビームのパルスが一定の周期で前記加工対象物に入射する請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。 Wherein In the step (b), the laser processing method according to any one of claims 1 to 3 pulses of the pulsed laser beam is incident on the workpiece at a constant period. 前記工程(b)において、目標入射位置の移動とは非同期でパルスレーザビームの入射を行う請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。 Wherein In the step (b), the laser processing method according to any one of claims 1 to 4 with the movement of the target incident position for incident pulsed laser beam asynchronously. 前記軌道が円周状であり、Nを2以上の整数として、前記工程(a)及び(b)をN回繰り返し、ある回の工程(a)及び(b)の始点が、その直前の回の工程(a)及び(b)の始点を前記軌道の周方向に360°/Nまたはその整数倍だけずらした位置に配置される請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。 The trajectory is circular, N is an integer of 2 or more, and the steps (a) and (b) are repeated N times. The starting point of a certain step (a) and (b) is laser processing method in step (a) and starting point according to any one of claims 1 to 5 arranged in 360 ° / N or an integral multiple thereof shifted by a position in the circumferential direction of the trajectory of (b) . Mを1以上の整数として、前記工程(b)1回あたり、目標入射位置を前記軌道上でM周させる請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。 The M as an integer of 1 or more, the step (b) per laser processing method according to any one of claims 1 to 6 for M dividing the target incident position on the track. レーザビームを入射させるべき閉じた軌道が表面上に画定された加工対象物を保持する保持台と、
パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームを、前記保持台に保持された加工対象物に入射させ、外部から目標入射位置が入力されると、パルスレーザビームの入射位置が目標入射位置に向かって移動するようにパルスレーザビームを走査するビーム走査器と、
前記レーザ光源を制御するとともに、前記ビーム走査器に目標入射位置を与える制御装置とを有し、
該制御装置は、
(a)前記加工対象物の軌道上の始点の位置を、目標入射位置として前記ビーム走査に与える工程、及び
(b)目標入射位置が前記始点から出発して前記軌道に沿って移動するように、前記ビーム走査器に与える目標入射位置を変化させながら、前記レーザ光源からパルスレーザビームを出射させ、前記パルスレーザビームの相互に連続するパルスのビームスポット同士を部分的に重ならせて、前記軌道の全周に亘り前記パルスレーザビームを照射する工程
を、前記工程(a)における始点を異ならせて少なくとも2回繰り返すレーザ加工装置。
A holding table for holding a workpiece in which a closed track on which a laser beam is to be incident is defined on a surface;
A laser light source for emitting a pulsed laser beam;
When a pulse laser beam emitted from the laser light source is incident on a workpiece to be held on the holding table and a target incident position is input from the outside, the incident position of the pulse laser beam is directed toward the target incident position. A beam scanner that scans the pulsed laser beam to move; and
A controller for controlling the laser light source and providing a target incident position to the beam scanner;
The control device
(A) the position of the starting point on the trajectory of the workpiece, steps applied to the beam scanner as a target incident position, and (b) the target incident position is moved along said trajectory starting from the start point As described above, while changing the target incident position applied to the beam scanner, a pulse laser beam is emitted from the laser light source , and beam spots of successive pulses of the pulse laser beam are partially overlapped with each other. the laser processing apparatus of the pulsed laser beam process you irradiating over the entire circumference of the track is repeated at least twice with different starting point in the step (a).
前記工程(b)において、各目標入射位置に前記ビーム走査器を整定させることなく、前記軌道に沿って目標入射位置を移動させるように、前記制御装置が、該ビーム走査器を制御する請求項8に記載のレーザ加工装置。   In the step (b), the control device controls the beam scanner so as to move the target incident position along the trajectory without setting the beam scanner to each target incident position. The laser processing apparatus according to 8.
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