JP4612408B2 - Circuit structure - Google Patents

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Description

この発明は、一般的には回路構成体に関し、特定的には電子・電気機器等に使用されるFPC(フレキシブルプリント基板)等の回路構成体に関するものである。 This invention generally relates to a circuit structure, the particular those related to the circuit assembly, such as FPC (flexible printed circuit board) used in electrical and electronic equipment and the like.

従来の回路構成体は、たとえばICカード、携帯電話、携帯端末(PDA)、携帯音源(ラジオ、携帯テープレコーダー、携帯CDプレイヤー等)、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等に用いられるので、比較的小型のものが多く、近年ますます小型化、薄膜化が進んでいる。   Conventional circuit components are used in, for example, IC cards, cellular phones, portable terminals (PDAs), portable sound sources (radio, portable tape recorder, portable CD player, etc.), digital cameras, digital video cameras, and the like, so that they are relatively small. In recent years, miniaturization and thinning have been progressing.

回路構成体を製造する方法としては、たとえば、特開2004−46360号公報(特許文献1)に記載されているような方法が知られている。この製造方法は、次の製造工程からなる。まず、樹脂フィルムと金属箔とを貼り合せる。次に、金属箔上にレジストインキを用いてレジスト層を印刷する。その後、レジスト層が被覆されていない部分の金属箔をエッチング処理により溶解除去する。必要に応じてレジスト層を剥離除去する。   As a method for manufacturing a circuit structure, for example, a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-46360 (Patent Document 1) is known. This manufacturing method includes the following manufacturing steps. First, a resin film and a metal foil are bonded together. Next, a resist layer is printed on the metal foil using a resist ink. Thereafter, the portion of the metal foil not covered with the resist layer is dissolved and removed by etching. If necessary, the resist layer is peeled off.

しかしながら、従来の回路構成体の製造方法では、長尺の回路構成体を製造するのが困難であった。すなわち、このような工程では、ICカード用等の小型の回路構成体の製造は可能であるが、長尺の回路構成体の製造は困難あるいは不可能である。なぜなら、上記のレジスト層を印刷するためには、グラビア版等の版胴(グラビアロール等)を使用する必要があるが、版胴の大きさ(最大:幅1500mm×直径300mm程度)に制限があるからである。   However, it is difficult to manufacture a long circuit structure by the conventional method of manufacturing a circuit structure. That is, in such a process, it is possible to manufacture a small circuit structure for an IC card or the like, but it is difficult or impossible to manufacture a long circuit structure. This is because, in order to print the resist layer, it is necessary to use a plate cylinder (gravure roll or the like) such as a gravure plate, but there is a limit to the size of the plate cylinder (maximum: width 1500 mm × diameter about 300 mm). Because there is.

また、長尺の回路構成体を製造するために、上記のような従来の製造方法により短冊状の回路構成体を複数製造し、半田付けや導電性ペースト等により短冊状の回路構成体を繋ぎ合わせることも考えられる。しかし、半田付けで短冊状の回路構成体を繋ぎ合わせた場合は、半田付けの際に発生する熱伝導により、基材としての樹脂フィルムが熱破損・熱収縮するため、良好な寸法精度や外観が得られないという問題がある。特に金属箔がアルミニウム箔の場合には、回路パターン層を構成する金属箔同士を良好に接着させることが可能な半田がないのが実情である。他方、導電性ペーストを用いて短冊状の回路構成体を繋ぎ合わせた場合は、接続部の接触抵抗が増加する上、導電性ペーストの経年変化や接着不良により十分な性能が得られないおそれがある。
特開2004−46360号公報
In addition, in order to manufacture a long circuit structure, a plurality of strip circuit structures are manufactured by the conventional manufacturing method as described above, and the strip circuit structures are connected by soldering or conductive paste. It is possible to combine them. However, when strip-shaped circuit components are joined together by soldering, the resin film as the base material is thermally damaged and contracted by the heat conduction that occurs during soldering. There is a problem that cannot be obtained. In particular, when the metal foil is an aluminum foil, there is no solder that can satisfactorily bond the metal foils constituting the circuit pattern layer. On the other hand, when strip-shaped circuit components are connected using conductive paste, the contact resistance of the connection portion increases, and sufficient performance may not be obtained due to secular change or poor adhesion of the conductive paste. is there.
JP 2004-46360 A

そこで、この発明の目的は、工業的に連続生産可能であって、信頼性と寸法精度に優れた長尺の回路構成体を提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to provide a long circuit structure that can be industrially produced continuously and has excellent reliability and dimensional accuracy.

この発明に従った回路構成体は、樹脂を含む基材と、この基材の表面の上に形成された回路パターン層とを備えた回路構成体であって、この回路構成体が、第1と第2の回路構成体部分と、第1と第2と第3の接続部分と、第1と第2の折り返し回路構成体部分とを含む。第1の回路構成体部分は、一つの方向に直線状に延在する回路パターン層部分を有する。第2の回路構成体部分は、この第1の回路構成体部分の回路パターン層部分が延びる方向とほぼ同じ方向に直線状に延在する回路パターン層部分を有する。L字形状の第1の接続部分は、第1の回路構成体部分の一方端に一体的に基材の表面に平行に接続された一方端を有するほぼ三角形状の第1の折り返し回路構成体部分は、第1の接続部分のL字形状の他方端に一体的に連続して基材の表面に平行に形成され、第1の接続部分のL字形状の他方端部が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように基材の表面に平行に折り返されている。第2の接続部分は、第1の折り返し回路構成体部分の一方端に一体的に基材の表面に平行に接続され、第1および第2の回路構成体部分とほぼ同じ方向に延在している。ほぼ三角形状の第2の折り返し回路構成体部分は、第2の接続部分の一方端に一体的に連続して基材の表面に平行に形成され、第2の接続部分が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように基材の表面に平行に折り返されている。L字形状の第3の接続部分は、第2の折り返し回路構成体部分の一方端に接続された一方端と、第2の回路構成体部分の一方端に一体的に基材の表面に平行に接続された他方端と、を有する

A circuit structure according to the present invention is a circuit structure including a base material containing a resin and a circuit pattern layer formed on the surface of the base material. And a second circuit component part, first, second and third connection parts, and first and second folded circuit component parts. The first circuit component part has a circuit pattern layer part extending linearly in one direction. The second circuit component portion has a circuit pattern layer portion extending linearly substantially in the same direction as the direction in which the circuit pattern layer portion of the first circuit component portion extends. The first connection portion of the L-shaped, having one end which is parallel connected integrally the surface of the substrate at one end of the first circuit component portion. The substantially triangular first folded circuit structure portion is integrally formed continuously with the L-shaped other end of the first connection portion in parallel with the surface of the substrate, and the first connection portion L It is folded back in parallel to the surface of the substrate so as to extend in a direction substantially perpendicular to the direction in which the other end of the letter shape extends. The second connection part is integrally connected to one end of the first folded circuit structure part in parallel to the surface of the base material, and extends in substantially the same direction as the first and second circuit structure parts. ing. The substantially triangular second folded circuit structure portion is formed integrally and continuously on one end of the second connection portion and in parallel with the surface of the substrate, with respect to the direction in which the second connection portion extends. It is folded back in parallel with the surface of the substrate so as to extend in a substantially orthogonal direction. Third connecting portion of the L-shaped, and the end while the one connected to an end of the second folding circuit structure portion, parallel to the surface of the integrally substrate at one end of the second circuit component parts And the other end connected to .

以上のようにこの発明によれば、信頼性と寸法精度に優れた長尺の回路構成体を工業的に連続生産可能である。   As described above, according to the present invention, a long circuit structure excellent in reliability and dimensional accuracy can be industrially continuously produced.

図1〜図6は、この発明の一つの実施の形態に従った長尺の回路構成体の製造工程を順に示す平面図と断面図である。図2は図1のII−II線に沿った方向からみた断面図である。   1 to 6 are a plan view and a cross-sectional view sequentially illustrating a manufacturing process of a long circuit structure according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view seen from the direction along line II-II in FIG.

図1に示すように、樹脂フィルム基材11の上に回路パターン層13を形成することにより、回路構成体母材を準備する。回路パターン層13は図2に示す工程で製造される。   As shown in FIG. 1, by forming a circuit pattern layer 13 on a resin film substrate 11, a circuit component base material is prepared. The circuit pattern layer 13 is manufactured by the process shown in FIG.

図2の(A)に示すように、金属箔130の一方面に接着剤層12を介在させて樹脂フィルム基材11を熱接着またはドライラミネート接着等によって金属箔130に固着する。このようにして、金属箔130と樹脂フィルム基材11との積層体を準備する。   As shown in FIG. 2A, the resin film substrate 11 is fixed to the metal foil 130 by thermal bonding or dry lamination bonding with the adhesive layer 12 interposed on one surface of the metal foil 130. Thus, the laminated body of the metal foil 130 and the resin film base material 11 is prepared.

図2の(B)に示すように、電子・電気機器の回路仕様に従った所定のパターンを有するレジストインキ層14をグラビア印刷等によって金属箔130の表面上に印刷する。印刷後、レジストインキ層14の硬化処理を行う。   As shown in FIG. 2B, a resist ink layer 14 having a predetermined pattern according to the circuit specifications of the electronic / electric device is printed on the surface of the metal foil 130 by gravure printing or the like. After printing, the resist ink layer 14 is cured.

図2の(C)に示すように、レジストインキ層14をマスクとして用いて金属箔130をエッチングすることにより、すなわち、レジストインキ層14によって被覆されていない部分の金属箔130を溶解除去することにより、回路パターン層13を形成する。   As shown in FIG. 2C, the metal foil 130 is etched using the resist ink layer 14 as a mask, that is, the portion of the metal foil 130 not covered with the resist ink layer 14 is dissolved and removed. Thus, the circuit pattern layer 13 is formed.

その後、図2の(D)に示すように、必要に応じてレジストインキ層14を除去する。   Thereafter, as shown in FIG. 2D, the resist ink layer 14 is removed as necessary.

このようにして準備された回路構成体母材において、図1にて一点鎖線で示すように切り抜き領域20に従って、回路パターン層13とともに樹脂フィルム基材11を切り抜く、または打ち抜く。このとき、回路パターン層13の一方の端縁から他方の端縁に向かって回路構成体母材を切断するが、他方の端縁部にて回路パターン層13が連続した回路構成体接続部分を残し、他方の端縁部以外の部分で分離された第1と第2の分離回路構成体部分とを形成する。すなわち、図3に示すように、回路パターン層13が連続した接続部(導通部)13cを残し、回路パターン層13の分離部13aを有する第1の分離回路構成体部分として分離体1aと、回路パターン層13の分離部13bを有する第2の分離回路構成体部分として分離体1bとを形成する。   In the circuit component base material prepared in this manner, the resin film substrate 11 is cut out or punched out together with the circuit pattern layer 13 in accordance with the cutout region 20 as shown by a one-dot chain line in FIG. At this time, the circuit component base material is cut from one edge of the circuit pattern layer 13 toward the other edge, but the circuit component connection portion where the circuit pattern layer 13 is continuous at the other edge is formed. The first and second separation circuit component parts are left and separated at a part other than the other edge part. That is, as shown in FIG. 3, the separation body 1 a as a first separation circuit constituent part having a separation portion 13 a of the circuit pattern layer 13, leaving a connection portion (conduction portion) 13 c in which the circuit pattern layer 13 is continuous, The separation body 1b is formed as a second separation circuit constituent body portion having the separation portion 13b of the circuit pattern layer 13.

そして、図4に示すように、第1および第2の分離回路構成体部分における回路パターン層部分として、分離体1aおよび1bにおける回路パターン層13の分離部13aと13bとが一つの方向に沿って連続して延在するように分離体1aと1bを配置する。このとき、回路パターン層13が連続した接続部13cを垂直方向に起こすとともに、回路パターン層13の分離部13aと13bとが延在する方向と交差する方向に接続部13cを折り曲げる。すなわち、回路パターン層13が連続した回路構成体接続部分を折り返すことにより、折り返し回路構成体部分を形成する。これにより、図5に示すように、回路パターン層13の分離部13aと13bに対してほぼ垂直方向に起こされた回路パターン層13の折り返し部13dと13eとが折り返し回路構成体部分に形成される。   As shown in FIG. 4, as the circuit pattern layer portions in the first and second separation circuit constituent portions, the separation portions 13a and 13b of the circuit pattern layer 13 in the separation bodies 1a and 1b are along one direction. The separators 1a and 1b are arranged so as to extend continuously. At this time, the connection portion 13c in which the circuit pattern layer 13 is continuous is raised in the vertical direction, and the connection portion 13c is bent in a direction intersecting with the extending direction of the separation portions 13a and 13b of the circuit pattern layer 13. That is, the folded circuit structure part is formed by folding back the circuit structure connection part in which the circuit pattern layer 13 is continuous. As a result, as shown in FIG. 5, the folded portions 13d and 13e of the circuit pattern layer 13 raised in the direction substantially perpendicular to the separating portions 13a and 13b of the circuit pattern layer 13 are formed in the folded circuit structure portion. The

その後、必要に応じて、図6に示すように、折り返し部13dと13eを一方側に、たとえば、一つの方向に沿って連続して延在するように配置された分離部13aおよび13bのうち、分離部13b側に、折り重ねることにより、または折り畳むことにより、折り重ね部13fを形成する。このようにして本発明の長尺の回路構成体1を作製することができる。必要に応じて、折り重ね部13fを有する折り返し回路構成体部分を樹脂フィルム基材11に固定したり、別途用意した適当な大きさの樹脂フィルム等を被覆してもよい。   Thereafter, if necessary, as shown in FIG. 6, the folded portions 13d and 13e are arranged on one side, for example, among the separating portions 13a and 13b arranged so as to continuously extend along one direction. Then, the folded portion 13f is formed by folding or folding on the separation portion 13b side. In this way, the long circuit structure 1 of the present invention can be produced. If necessary, the folded circuit component having the folded portion 13f may be fixed to the resin film substrate 11 or may be covered with a resin film of an appropriate size prepared separately.

図7は、上述のようにして製造された本発明の一つの実施の形態の長尺の回路構成体1の部分平面図(A)、部分平面図(A)においてB−B線に沿った方向からみた部分断面拡大図(B)、部分断面拡大図(B)において矢印Cで示す方向からみた側面図(C)である。   FIG. 7 is a partial plan view (A) of the long circuit structure 1 according to one embodiment of the present invention manufactured as described above, along the line BB in the partial plan view (A). It is the partial sectional enlarged view (B) seen from the direction, and the side view (C) seen from the direction shown by the arrow C in the partial sectional enlarged view (B).

特に図7の(C)に示すように、回路パターン層13の折り返し部13dと13eは、図7の(A)のB−B線に沿った方向に交差する方向、すなわち、回路パターン層13の分離部13aと13bとが延在する方向にほぼ直交する方向に折り返されている。また、図7の(B)に示すように、回路パターン層13の分離部13bの一方端部がB−B線方向に折り返されて、この一方端部に一体的に連続して折り返し部13eと13dが形成されている。   In particular, as shown in FIG. 7C, the folded portions 13d and 13e of the circuit pattern layer 13 intersect with the direction along the line BB in FIG. 7A, that is, the circuit pattern layer 13 The separating portions 13a and 13b are folded in a direction substantially orthogonal to the extending direction. Further, as shown in FIG. 7B, one end portion of the separation portion 13b of the circuit pattern layer 13 is folded back in the BB line direction, and the folded portion 13e is integrally and continuously connected to the one end portion. And 13d are formed.

なお、上記の実施の形態では、回路パターン層13の分離部13aと13bを一定幅の単なる線状パターンで示しているが、各種電気素子等を接続する、または形成するために電子・電気機器の回路仕様に従った種々の形状からなる所定のパターンで形成してもよい。   In the above-described embodiment, the separation portions 13a and 13b of the circuit pattern layer 13 are shown as simple linear patterns with a constant width. However, electronic / electrical devices are used to connect or form various electric elements. It may be formed in a predetermined pattern having various shapes according to the circuit specifications.

本発明の回路構成体1において回路パターン層13を形成するために用いられる金属箔としては、厚みが5μ以上100μm以下のアルミニウム箔、銅箔等を用いることができ、特に軽量性の観点からアルミニウム箔を用いるのが好ましい。アルミニウム箔は、上記の厚みを満たせば公知の純アルミニウム箔、アルミニウム合金箔であってもよい。具体的には、純アルミニウム(JIS(AA)1000系、たとえば1N30、1N70等)、Al−Mn系(JIS(AA)3000系、たとえば3003、3004等)、Al−Mg系(JIS(AA)5000系)、Al−Fe系(JIS(AA)8000系、たとえば8021、8079等)等の箔を採用することができる。アルミニウム箔に含まれる鉄(Fe)、シリコン(Si)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、マンガン(Mn)、マグネシウム(Mg)、ガリウム(Ga)等の成分については、JIS等で規定されている公知の含有量の範囲内であれば差し支えない。しかしながら、これらの添加元素または不可避的不純物元素は、アルミニウム箔の強度、電気抵抗を大幅に左右するので、要求性能に応じて適宜選択または制御すればよい。また、アルミニウム箔は熱処理によってもその強度、電気抵抗が変化するので、必要に応じて硬質材、半硬質材、軟質材を使い分ければよい。また、アルミニウム箔には、必要に応じて、脱脂・洗浄、アンカーコート、プライマー、表面処理等を施すこともできる。   As the metal foil used for forming the circuit pattern layer 13 in the circuit structure 1 of the present invention, an aluminum foil, a copper foil, or the like having a thickness of 5 μm to 100 μm can be used. It is preferable to use a foil. The aluminum foil may be a known pure aluminum foil or aluminum alloy foil as long as the above thickness is satisfied. Specifically, pure aluminum (JIS (AA) 1000 series, such as 1N30, 1N70, etc.), Al-Mn series (JIS (AA) 3000 series, such as 3003, 3004 etc.), Al-Mg series (JIS (AA)). 5000-based), Al-Fe-based (JIS (AA) 8000-based, for example, 8021, 8079, etc.) foils can be employed. Iron (Fe), silicon (Si), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (Ti), zirconium (Zr), zinc (Zn), manganese (Mn) contained in the aluminum foil, About components, such as magnesium (Mg) and gallium (Ga), if it exists in the range of the well-known content prescribed | regulated by JIS etc., it does not interfere. However, these additive elements or unavoidable impurity elements greatly affect the strength and electrical resistance of the aluminum foil, and may be appropriately selected or controlled according to the required performance. In addition, since the strength and electrical resistance of aluminum foil change by heat treatment, a hard material, a semi-hard material, and a soft material may be properly used as necessary. In addition, the aluminum foil can be subjected to degreasing / washing, anchor coating, primer, surface treatment and the like, if necessary.

本発明の回路構成体1を構成する樹脂フィルム基材11は、ポリエチレン(高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン等)、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、塩化ビニル、低収縮性ポリエチレンテレフタレートおよび低収縮性ポリエチレンナフタレート、塩化ビニリデン、エチレン・ビニルアルコール共重合体、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体等のフィルムから選ばれる少なくとも1種が好ましく、これらの中でも特にポリエチレンテレフタレートフィルムおよびポリエチレンナフタレートフィルムから選ばれる少なくとも1種が好ましい。樹脂フィルム基材11の厚みは、9μm以上200μm以下が好ましく、より好ましくは12μm以上100μm以下である。   The resin film substrate 11 constituting the circuit structure 1 of the present invention is made of polyethylene (high density polyethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene, etc.), polypropylene, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), Nylon, vinyl chloride, low-shrinkage polyethylene terephthalate and low-shrinkage polyethylene naphthalate, vinylidene chloride, ethylene / vinyl alcohol copolymer, PBT (polybutylene terephthalate), ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer At least one selected from films such as coalescence is preferable, and among these, at least one selected from polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film is particularly preferable. The thickness of the resin film substrate 11 is preferably 9 μm or more and 200 μm or less, more preferably 12 μm or more and 100 μm or less.

金属箔130と樹脂フィルム基材11との固着は、公知の接着方法により積層させればよく、接着剤層12の材料として、たとえば、2液硬化型ウレタン系接着剤、ポリエーテルウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリエステルポリオール系接着剤、ポリエステルポリウレタンポリオール系接着剤等を用いたドライ・ラミネーション、共押出し、押出しコート、アンカーコート剤を用いた熱ラミネーション等による方法が採用できる。   The metal foil 130 and the resin film substrate 11 may be fixed by a known bonding method. Examples of the material of the adhesive layer 12 include a two-component curable urethane adhesive and a polyether urethane adhesive. A method using dry lamination using a polyester adhesive, polyester polyol adhesive, polyester polyurethane polyol adhesive, co-extrusion, extrusion coating, thermal lamination using an anchor coating agent, or the like can be employed.

なお、金属箔および樹脂フィルムは、それぞれ1枚に限定されるものではなく、それぞれ同種または異種のものを2枚以上積層することもできる。たとえば、樹脂フィルムの両面に金属箔を積層してもよい。   The metal foil and the resin film are not limited to one each, and two or more of the same type or different types can be laminated. For example, you may laminate | stack metal foil on both surfaces of a resin film.

この発明の製造方法においてレジストインキ層14を形成するために用いられるレジストインキは特に限定されないが、たとえば、分子中に少なくとも1個のカルボキシル基を有するアクリルモノマーとアルカリ可溶性樹脂とを主成分とする紫外線硬化型レジストインキを用いるのが好ましい。このレジストインキは、グラビア印刷が可能であり、耐酸性を有し、かつアルカリによって容易に剥離除去することが可能であるので、連続大量生産に適している。このレジストインキを用いて金属箔に所定の回路パターンでグラビア印刷を施し、紫外線を照射して硬化させた後、通常の方法に従って、たとえば塩化第2鉄水溶液等による金属箔の酸エッチング、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリによるレジストインキ層の剥離除去を行なうことによって、回路パターン層を形成することができる。なお、上記のアルカリ可溶性樹脂に代えて酸可溶性樹脂を用いた場合は、アルカリ溶液によって金属箔をエッチングし、有機酸または無機酸を用いてレジストインキ層の剥離除去を行なうこともできる。   The resist ink used for forming the resist ink layer 14 in the production method of the present invention is not particularly limited. For example, the main component is an acrylic monomer having at least one carboxyl group in the molecule and an alkali-soluble resin. It is preferable to use an ultraviolet curable resist ink. This resist ink is suitable for continuous mass production because it can be gravure printed, has acid resistance, and can be easily removed by alkali. After applying gravure printing to the metal foil with a predetermined circuit pattern using this resist ink and curing it by irradiating with ultraviolet rays, the metal foil is acid-etched, for example, with ferric chloride aqueous solution, hydroxylated, etc. in accordance with a normal method. The circuit pattern layer can be formed by peeling and removing the resist ink layer with an alkali such as an aqueous sodium solution. When an acid-soluble resin is used in place of the alkali-soluble resin, the resist ink layer can be peeled and removed using an organic acid or an inorganic acid by etching the metal foil with an alkaline solution.

グラビア印刷する際には、後でエッチングによって形成される回路パターン層の分離部13aと13bの長手方向が揃うように、複数の分離部に相当するレジストインキ層14を形成するためのグラビアセルを、グラビアロールの周方向または幅方向にほぼ平行に整列させて形成すればよい。もちろん、回路パターン層の接続部13cに相当するレジストインキ層14を形成する部分にもグラビアセルを形成するのはいうまでもない。   When performing gravure printing, a gravure cell for forming a resist ink layer 14 corresponding to a plurality of separation portions is prepared so that the longitudinal directions of the separation portions 13a and 13b of the circuit pattern layer formed later by etching are aligned. The gravure rolls may be formed so as to be aligned substantially parallel to the circumferential direction or the width direction. Of course, it goes without saying that a gravure cell is also formed in a portion where the resist ink layer 14 corresponding to the connection portion 13c of the circuit pattern layer is formed.

本発明の回路構成体1は、全長(長手方向の長さ)1600mm以上、個々の分離体1aまたは1bの長さ(長手方向の長さ)は、200mm以上1000mm以下であるのが好ましい。   The circuit structure 1 of the present invention preferably has a total length (length in the longitudinal direction) of 1600 mm or more, and the length (length in the longitudinal direction) of each individual separator 1a or 1b is preferably 200 mm or more and 1000 mm or less.

図8は、この発明のもう一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において準備される回路構成体母材の一例を示す平面図である。   FIG. 8 is a plan view showing an example of a circuit component base material prepared in the method of manufacturing a circuit component according to another embodiment of the present invention.

図8に示すように、樹脂フィルム基材51の上に回路パターン層53を形成することにより、回路構成体母材を準備する。回路パターン層53は、図2に示す工程と同様にして製造される。   As shown in FIG. 8, by forming a circuit pattern layer 53 on a resin film substrate 51, a circuit component base material is prepared. The circuit pattern layer 53 is manufactured in the same manner as the process shown in FIG.

このようにして準備された回路構成体母材において、図8にて一点鎖線で示すように切り抜き領域60に従って、回路パターン層53とともに樹脂フィルム基材51を切り抜く、または打ち抜く。このとき、回路パターン層53の一方の端縁から他方の端縁に向かって回路構成体母材を切断するが、ほぼT字状に切り込み、他方の端縁部にて回路パターン層53が連続した回路構成体接続部分を残し、他方の端縁部以外の部分で分離された第1と第2の分離回路構成体部分とを形成する。すなわち、図8に示すように、回路パターン層53が連続した接続部(導通部)53c、53d、53eを残し、回路パターン層53の分離部53aを有する第1の分離回路構成体部分と、回路パターン層53の分離部53bを有する第2の分離回路構成体部分とを形成する。   In the circuit component base material thus prepared, the resin film base material 51 is cut out or punched out together with the circuit pattern layer 53 in accordance with the cutout region 60 as shown by a one-dot chain line in FIG. At this time, the circuit component base material is cut from one edge of the circuit pattern layer 53 toward the other edge, but is cut into a substantially T shape, and the circuit pattern layer 53 continues at the other edge. The first and second separated circuit component parts separated by the part other than the other edge portion are formed, leaving the circuit structure connection part. That is, as shown in FIG. 8, the first separation circuit constituent part having the separation part 53a of the circuit pattern layer 53, leaving the connection parts (conduction parts) 53c, 53d, 53e in which the circuit pattern layer 53 is continuous, A second separation circuit component portion having a separation portion 53b of the circuit pattern layer 53 is formed.

そして、図8にて二点鎖線で示す折り返し線70で折り返すことによって、すなわち、分離部53aと53bの表面が同じ側に位置するように折り返し線70で山折りすることによって、第1と第2の折り返し回路構成体部分を形成する。   Then, by folding back at a folding line 70 indicated by a two-dot chain line in FIG. 8, that is, by folding at the folding line 70 so that the surfaces of the separating portions 53a and 53b are located on the same side, the first and first 2 folding circuit components are formed.

図9は、上述のようにして製造された回路構成体における回路パターン層53のみを示す平面図である。   FIG. 9 is a plan view showing only the circuit pattern layer 53 in the circuit structure manufactured as described above.

この回路構成体は、第1と第2の回路構成体部分と、第1と第2と第3の接続部分と、第1と第2の折り返し回路構成体部分とを含む。図9に示すように、第1の回路構成体部分は、一つの方向に延在する回路パターン層部分として分離部53aを有する。第2の回路構成体部分は、この第1の回路構成体部分の分離部53aが延びる方向とほぼ同じ方向に延在する回路パターン層部分として分離部53bを有する。   The circuit structure includes first and second circuit structure parts, first, second and third connection parts, and first and second folded circuit structure parts. As shown in FIG. 9, the first circuit component part has a separation part 53a as a circuit pattern layer part extending in one direction. The second circuit component portion has a separation portion 53b as a circuit pattern layer portion extending in substantially the same direction as the direction in which the separation portion 53a of the first circuit structure portion extends.

第1の接続部分は、第1の回路構成体部分に一体的に接続されており、分離部53aに電気的に接続された回路パターン層部分として接続部53cを有する。第1の折り返し回路構成体部分は、第1の接続部分に一体的に連続して形成され、たとえば、L字形状の第1の接続部分が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返されており、接続部53cに電気的に接続された回路パターン層部分として、たとえば、ほぼ三角形状の折り返し部53fを有し、折り返し部53fは、たとえば、L字形状の接続部53cが延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返されている。   The first connection part is integrally connected to the first circuit component part, and has a connection part 53c as a circuit pattern layer part electrically connected to the separation part 53a. The first folded circuit component portion is formed integrally and continuously with the first connection portion, and extends, for example, in a direction substantially orthogonal to the direction in which the L-shaped first connection portion extends. The circuit pattern layer portion that is folded back and electrically connected to the connection portion 53c has, for example, a substantially triangular folded portion 53f. The folded portion 53f is, for example, an L-shaped connection portion 53c. Is folded so as to extend in a direction substantially perpendicular to the extending direction.

第2の接続部分は、第1の折り返し回路構成体部分に一体的に接続されており、折り返し部53fに電気的に接続された回路パターン層部分として接続部53dを有する。図9に示すように、回路パターン層部分としての接続部53dは、折り返し部53fにて折り返されることにより、裏側に配置されている。第2の折り返し回路構成体部分は、第2の接続部分に一体的に連続して形成され、第2の接続部分が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返されており、接続部53dに電気的に接続された回路パターン層部分として、たとえば、ほぼ三角形状の折り返し部53gを有し、折り返し部53gは、接続部53dが延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返されている。   The second connection part is integrally connected to the first folded circuit component part, and has a connection part 53d as a circuit pattern layer part electrically connected to the folded part 53f. As shown in FIG. 9, the connection portion 53d as the circuit pattern layer portion is disposed on the back side by being folded back by the folded portion 53f. The second folded circuit component part is formed integrally and continuously with the second connection part, and is folded so as to extend in a direction substantially perpendicular to the direction in which the second connection part extends. The circuit pattern layer portion electrically connected to the connection portion 53d has, for example, a substantially triangular folded portion 53g, and the folded portion 53g extends in a direction substantially orthogonal to the direction in which the connecting portion 53d extends. Wrapped to exist.

第3の接続部分は、第2の折り返し回路構成体部分と第2の回路構成体部分の間を一体的に接続しており、折り返し部53gと分離部53bの間を一体的に接続する回路パターン層部分として、たとえば、L字形状の接続部53eを有する。   The third connection portion integrally connects the second folded circuit component portion and the second circuit component portion, and integrally connects the folded portion 53g and the separating portion 53b. As the pattern layer portion, for example, an L-shaped connection portion 53e is provided.

いいかえれば、第1の折り返し回路構成体部分は、第1の回路構成体部分の一方端部が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返されており、分離部53aの一方端部としての接続部53cが延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返された回路パターン層部分として折り返し部53fを有する。第2の折り返し回路構成体部分は、第2の回路構成体部分に一体的に連続して形成され、第2の回路構成体部分の一方端部が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返され、第1の折り返し回路構成体部分に一体的に接続されており、分離部53bに電気的に接続され、分離部53bの一方端部としての接続部53eが延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように折り返され、かつ、折り返し部53fに電気的に接続された回路パターン層部分として折り返し部53gを有する。   In other words, the first folded circuit component portion is folded so as to extend in a direction substantially orthogonal to the direction in which one end portion of the first circuit component portion extends, and one of the separation portions 53a. A folded portion 53f is provided as a circuit pattern layer portion folded so as to extend in a direction substantially orthogonal to the extending direction of the connecting portion 53c as an end portion. The second folded circuit component portion is formed integrally and continuously with the second circuit component portion, and extends in a direction substantially orthogonal to the direction in which one end of the second circuit component portion extends. Folded in such a way that it is integrally connected to the first folded circuit component part, electrically connected to the separating part 53b, and in a direction in which the connecting part 53e as one end of the separating part 53b extends. On the other hand, a folded portion 53g is provided as a circuit pattern layer portion that is folded back so as to extend in a substantially orthogonal direction and is electrically connected to the folded portion 53f.

図9に示される回路パターン層53において、接続部53cの長さL1、接続部53dの長さL2、接続部53eの長さL3は、任意に設定すればよく、必要に応じて調整されるが、分離部53aまたは分離部53bの長さに比べてかなり短く、実質的に無視できるだけの長さでもよく、実質的に0に近い長さでもよい。回路パターン層部分として分離部53aと、回路パターン層部分として分離部53bとが接続部(導通部)53c、53d、53eを介して電気的に接続されていればよい。この実施の形態でも、信頼性と寸法精度に優れた長尺の回路構成体を工業的に連続生産可能である。   In the circuit pattern layer 53 shown in FIG. 9, the length L1 of the connecting portion 53c, the length L2 of the connecting portion 53d, and the length L3 of the connecting portion 53e may be set arbitrarily and adjusted as necessary. However, it may be considerably shorter than the length of the separation portion 53a or the separation portion 53b, may be a length that can be substantially ignored, or may be a length that is substantially close to zero. The separation part 53a as the circuit pattern layer part and the separation part 53b as the circuit pattern layer part may be electrically connected via the connection parts (conduction parts) 53c, 53d, and 53e. Also in this embodiment, a long circuit structure excellent in reliability and dimensional accuracy can be industrially continuously produced.

なお、本発明の回路構成体は、電気・電子機器等のフレキシブルプリント基板として使用することができるが、必要に応じてさらにICチップ、ダイオード、コンデンサ、抵抗、コイル等の電気・電子部品を実装することもできる。また、回路構成体の表面、裏側またはその両面に白色PET等の隠蔽シートを積層することもできる。   The circuit structure of the present invention can be used as a flexible printed circuit board for electric / electronic devices, etc., but if necessary, further mount electric / electronic components such as IC chips, diodes, capacitors, resistors, coils, etc. You can also Moreover, a concealing sheet such as white PET can be laminated on the front surface, back surface, or both surfaces of the circuit structure.

金属箔130としての厚みが30μmのアルミニウム箔(JIS 1N30材)の一方面にウレタン系ドライラミネート接着剤1.5g/mを塗布し、ドライラミネート法により接着剤層12を介在させて、樹脂フィルム基材11としての厚みが38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを貼り合せた。アルミニウム箔の他方面には、図1に示される回路パターン層13の形状になるように、下記の組成のレジストインキをグラビア印刷し、照射線量480W/cmのUVランプで15秒間照射し、レジストインキ層を硬化させた。 A urethane dry laminate adhesive 1.5 g / m 2 is applied to one surface of an aluminum foil (JIS 1N30 material) having a thickness of 30 μm as a metal foil 130, and an adhesive layer 12 is interposed by a dry laminate method to form a resin. A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 38 μm as the film substrate 11 was bonded. The other surface of the aluminum foil is gravure-printed with a resist ink having the following composition so as to have the shape of the circuit pattern layer 13 shown in FIG. 1, and irradiated with a UV lamp with an irradiation dose of 480 W / cm for 15 seconds. The ink layer was cured.

次に、7%塩酸水溶液を用いて、レジストインキ層で被覆されていない部分のアルミニウム箔をエッチング処理にて溶解除去した。その後、温度20℃の1%水酸化ナトリウム水溶液に10秒間浸漬してレジストインキ層を剥離した。水洗後、温度70℃の温風で乾燥させることにより、回路構成体母材を作製した。   Next, a 7% hydrochloric acid aqueous solution was used to dissolve and remove the portion of the aluminum foil not covered with the resist ink layer by etching. Thereafter, the resist ink layer was peeled off by dipping in a 1% aqueous sodium hydroxide solution at a temperature of 20 ° C. for 10 seconds. After washing with water, the circuit component base material was produced by drying with warm air at a temperature of 70 ° C.

接続部13cによって連続した回路パターン層13を備えた回路構成体母材を図3に示すような形状に切り抜き、分離体1aと1bとを形成し、接続部13cを図4〜図6に示すように折り曲げることによって、図7に示すような回路パターン層13の折り重ね部13fを有する回路構成体の試験片(回路パターン層の幅は15mm)を作製した。この試験片を本発明の実施例として以下の試験例1で用いた。   The circuit component base material provided with the continuous circuit pattern layer 13 by the connecting portion 13c is cut out into a shape as shown in FIG. 3 to form the separated bodies 1a and 1b. The connecting portion 13c is shown in FIGS. In this way, a test piece (circuit pattern layer width of 15 mm) of the circuit structure having the folded portion 13f of the circuit pattern layer 13 as shown in FIG. 7 was produced. This test piece was used in the following Test Example 1 as an example of the present invention.

<レジストインキ組成>
1)ベッカサイトJ−896(大日本インキ化学工業社製ロジン−マレイン酸樹脂):21重量部
2)2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸:25重量部
3)ユニディックV−5510(大日本インキ化学工業社製プレポリマー、モノマーの混合物):8重量部
4)イルガキュア184(商品名):3重量部
5)酢酸エチル:28重量部
6)変性アルコール:12重量部
7)フタロシアニンブルー:1重量部
8)シリカ:2重量部
比較試験のために、上記と同様の方法によって図3に示されるような回路構成体母材として幅15mm×長さ150mmの試験片を作製した。この試験片を以下の試験例2〜6で用いた。
<Resist ink composition>
1) Beccasite J-896 (Rosin-maleic acid resin manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.): 21 parts by weight 2) 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid: 25 parts by weight 3) Unidic V-5510 (large Nippon Ink Chemical Co., Ltd. prepolymer and monomer mixture): 8 parts by weight 4) Irgacure 184 (trade name): 3 parts by weight 5) Ethyl acetate: 28 parts by weight 6) Modified alcohol: 12 parts by weight 7) Phthalocyanine blue: 1 part by weight 8) Silica: 2 parts by weight For a comparative test, a test piece having a width of 15 mm and a length of 150 mm was prepared as a base material for a circuit component as shown in FIG. 3 by the same method as described above. This test piece was used in the following Test Examples 2 to 6.

(試験例1)
試験片をそのままの状態で、直流4端子法(電圧測定端子間は50mm、n=5)にて抵抗値を測定した。また、回路パターン層と樹脂フィルム基材との積層部分の引張破断強度(チャック間距離100mm、歪速度200mm/min)を測定した。また、外観を目視により評価した。
(Test Example 1)
The resistance value was measured by the direct current four-terminal method (50 mm between voltage measurement terminals, n = 5) with the test piece as it was. Further, the tensile breaking strength (distance between chucks: 100 mm, strain rate: 200 mm / min) of the laminated portion of the circuit pattern layer and the resin film substrate was measured. Moreover, the external appearance was evaluated visually.

(試験例2)
試験片を長手方向中央で切断し、図10に示すように重ね合せ、重ね合わせ部15が導通するように半田付けで直径が約5mmの半田層30(1個所)を形成し、重ね合わせ部15を含んだ状態で試験例1と同様の評価を行った。
(Test Example 2)
The test piece is cut at the center in the longitudinal direction, overlapped as shown in FIG. 10, and a solder layer 30 (one place) having a diameter of about 5 mm is formed by soldering so that the overlapping portion 15 is conductive. 15 was included, and the same evaluation as in Test Example 1 was performed.

(試験例3)
試験片を長手方向中央で切断し、上記と同じアルミニウム箔(幅15mm×長さ20mm)を用いて、図11の(A)と(B)に示すように重ね合わせ、重ね合わせ部15aと15bのそれぞれが導通するように半田付けで直径が約5mmの半田層31a、31b、32a、32b(片側2個所づつ計4個所)を形成し、重ね合わせ部15aと15bを含んだ状態で試験例1と同様の評価を行った。
(Test Example 3)
The test piece was cut at the center in the longitudinal direction, and overlapped as shown in FIGS. 11A and 11B using the same aluminum foil (width 15 mm × length 20 mm) as above, and the overlapping portions 15a and 15b. A solder layer 31a, 31b, 32a, 32b (2 locations on each side, 4 locations in total) having a diameter of about 5 mm is formed by soldering so that each of them is conductive, and a test example including the overlapping portions 15a and 15b Evaluation similar to 1 was performed.

(試験例4)
図11の(C)で示すように半田付けで直径が約5mmの半田層31、32(片側1個所づつ計2個所)を形成した以外は、試験例3と同様に評価した。
(Test Example 4)
Evaluation was performed in the same manner as in Test Example 3 except that solder layers 31 and 32 (two locations in total on one side) were formed by soldering as shown in FIG.

(試験例5)
試験片を長手方向中央で切断し、図12に示すように重ね合わせ、重ね合わせ部が導通するように直径が約5mmの大きさでクリンピング処理(かしめ処理1個所)を行い、重ね合わせ部15を含んだ状態で試験例1と同様の評価を行った。
(Test Example 5)
The test piece is cut at the center in the longitudinal direction, overlapped as shown in FIG. 12, and subjected to a crimping process (one caulking process) with a diameter of about 5 mm so that the overlapped part is conducted, and the overlapped part 15 The same evaluation as in Test Example 1 was performed.

(試験例6)
試験片を長手方向中央で切断し、図12に示すように重ね合わせ、重ね合わせ部が導通するように導電性塗料(商品名:ドータイト)を塗布して直径が約5mmの塗布層(2個所)を形成し、重ね合わせ部15を含んだ状態で試験例1と同様の評価を行った。
(Test Example 6)
The test piece is cut at the center in the longitudinal direction, overlapped as shown in FIG. 12, and a conductive paint (trade name: Dotite) is applied so that the overlapped portion is conductive, and an application layer having a diameter of about 5 mm (two locations). ) And the same evaluation as in Test Example 1 was performed with the overlapping portion 15 included.

以上の評価結果を表1に示す。   The above evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0004612408
表1から、本発明の回路構成体の試験片を用いた試験例1では、電気抵抗値が低い値に維持され、引張破断強度も高い値に保持されるとともに、外観にも異常が見られなかったが、比較例としての試験例2〜4では接続部において接触抵抗が増加して電気抵抗値が高くなるだけでなく、引張破断強度も低く、基材としての樹脂フィルムであるPETフィルムが収縮し、また試験例5では重ね合わせ部において接続することができず、試験例6では接続部において接触抵抗が増加して電気抵抗値が高くなるだけでなく、引張破断強度も低くなったことがわかる。
Figure 0004612408
From Table 1, in Test Example 1 using the test piece of the circuit structure of the present invention, the electrical resistance value is maintained at a low value, the tensile fracture strength is maintained at a high value, and the appearance is also abnormal. However, in Test Examples 2 to 4 as comparative examples, not only the contact resistance increased at the connection portion and the electrical resistance value increased, but also the tensile rupture strength was low, and the PET film which is a resin film as a substrate In Test Example 5, it was not possible to connect at the overlapping portion. In Test Example 6, not only the contact resistance increased and the electrical resistance value increased at the connection portion, but also the tensile strength at break became low. I understand.

以上に開示された実施の形態や実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態や実施例ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものである。   It should be considered that the embodiments and examples disclosed above are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments and examples but by the scope of claims, and includes all modifications and variations within the scope and meaning equivalent to the scope of claims.

この発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において準備される回路構成体母材の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the circuit structure base material prepared in the manufacturing method of the circuit structure according to one embodiment of this invention. 回路構成体における回路パターン層の形成工程を順に示し、図1のII−II線に沿った方向からみた断面図(A)、(B)、(C)および(D)である。It is sectional drawing (A), (B), (C), and (D) which showed the formation process of the circuit pattern layer in a circuit structure in order, and was seen from the direction along the II-II line of FIG. この発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において作製される分離体を示す平面図である。It is a top view which shows the isolation | separation body produced in the manufacturing method of the circuit structure body according to one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において接続部の折り曲げの第1工程を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st process of bending of a connection part in the manufacturing method of the circuit structure body according to one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において接続部の折り曲げの第2工程を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd process of the bending of a connection part in the manufacturing method of the circuit structure according to one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において接続部の折り曲げの第3工程を示す平面図である。It is a top view which shows the 3rd process of bending of a connection part in the manufacturing method of the circuit structure body according to one embodiment of this invention. この発明の一つの実施の形態の長尺の回路構成体の部分平面図(A)、部分平面図(A)においてB−B線に沿った方向からみた部分断面拡大図(B)、部分断面拡大図(B)において矢印Cで示す方向からみた側面図(C)である。1A is a partial plan view of a long circuit structure according to an embodiment of the present invention, FIG. 2B is a partial cross-sectional enlarged view as seen from the direction along the line B-B in FIG. It is the side view (C) seen from the direction shown by the arrow C in an enlarged view (B). この発明のもう一つの実施の形態に従った回路構成体の製造方法において準備される回路構成体母材の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the circuit structure base material prepared in the manufacturing method of the circuit structure according to another embodiment of this invention. 図8に示される回路構成体母材を用いて製造された回路構成体における回路パターン層のみを示す平面図である。It is a top view which shows only the circuit pattern layer in the circuit structure manufactured using the circuit structure base material shown by FIG. この発明の比較例として作製された試験片の重ね合わせ部の一つの接続方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one connection method of the overlap part of the test piece produced as a comparative example of this invention. この発明の比較例として作製された試験片の重ね合わせ部のもう一つの接続方法を示す断面図(A)と平面図(B)(C)である。It is sectional drawing (A) and top view (B) (C) which show another connection method of the overlapping part of the test piece produced as a comparative example of this invention. この発明の比較例として作製された試験片の重ね合わせ部の別の接続方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another connection method of the overlap part of the test piece produced as a comparative example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:回路構成体、1a,1b:分離体、11,51:樹脂フィルム基材、12:接着剤層、13,53:回路パターン層、13a,13b,53a,53b:分離部、13c,53c,53d,53e:接続部、13d,13e,53f,53g:折り返し部、13f:折り重ね部、14:レジストインキ層、20,60:切り抜き領域、70:折り返し線、130:金属箔。   1: Circuit component, 1a, 1b: Separator, 11, 51: Resin film substrate, 12: Adhesive layer, 13, 53: Circuit pattern layer, 13a, 13b, 53a, 53b: Separation part, 13c, 53c 53d, 53e: connecting portion, 13d, 13e, 53f, 53g: folded portion, 13f: folded portion, 14: resist ink layer, 20, 60: cutout region, 70: folded line, 130: metal foil.

Claims (1)

樹脂を含む基材と、
この基材の表面の上に形成された回路パターン層とを備えた回路構成体であって、
当該回路構成体は、
一つの方向に直線状に延在する回路パターン層部分を有する第1の回路構成体部分と、
この第1の回路構成体部分の回路パターン層部分が延びる方向とほぼ同じ方向に直線状に延在する回路パターン層部分を有する第2の回路構成体部分と、
前記第1の回路構成体部分の一方端に一体的に前記基材の表面に平行に接続された一方端を有するL字形状の第1の接続部分と、
前記第1の接続部分のL字形状の他方端に一体的に連続して前記基材の表面に平行に形成され、前記第1の接続部分のL字形状の他方端部が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように前記基材の表面に平行に折り返されたほぼ三角形状の第1の折り返し回路構成体部分と、
前記第1の折り返し回路構成体部分の一方端に一体的に前記基材の表面に平行に接続され、前記第1および第2の回路構成体部分とほぼ同じ方向に延在する第2の接続部分と、
前記第2の接続部分の一方端に一体的に連続して前記基材の表面に平行に形成され、前記第2の接続部分が延びる方向に対してほぼ直交する方向に延在するように前記基材の表面に平行に折り返されたほぼ三角形状の第2の折り返し回路構成体部分と、
前記第2の折り返し回路構成体部分の一方端に接続された一方端と、前記第2の回路構成体部分の一方端に一体的に前記基材の表面に平行に接続された他方端と、を有するL字形状の第3の接続部分と、
を含む、回路構成体。
A base material containing a resin;
A circuit structure comprising a circuit pattern layer formed on the surface of the substrate,
The circuit structure is
A first circuit component portion having a circuit pattern layer portion extending linearly in one direction;
A second circuit component portion having a circuit pattern layer portion extending linearly substantially in the same direction as the direction in which the circuit pattern layer portion of the first circuit component portion extends,
An L-shaped first connection portion having one end integrally connected to one end of the first circuit component portion in parallel to the surface of the base;
The L-shaped other end of the first connecting portion is formed integrally and parallel to the surface of the substrate, and the L-shaped other end of the first connecting portion extends in the extending direction. A substantially triangular first folded circuit component portion folded in parallel with the surface of the base material so as to extend in a direction substantially orthogonal to each other ,
A second connection integrally connected to one end of the first folded circuit component portion in parallel to the surface of the base material and extending in substantially the same direction as the first and second circuit component portions Part,
The second connection portion is integrally formed continuously with one end of the second connection portion and parallel to the surface of the base material, and extends in a direction substantially orthogonal to the direction in which the second connection portion extends. A substantially triangular second folded circuit component portion folded in parallel to the surface of the substrate;
One end connected to one end of the second folded circuit component part , and the other end integrally connected to one end of the second circuit component part in parallel to the surface of the base material ; An L-shaped third connecting portion having
A circuit structure including:
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