JP4608654B2

JP4608654B2 - 一重項酸素発生光増感剤及びそれを用いた一重項酸素発生方法

Info

Publication number: JP4608654B2
Application number: JP2004513398A
Authority: JP
Inventors: 稔藤井; ビクターティモシェンコ; ドミトリーコバレフ; エーゴングロス; ヨーヒムディーナー; ニコライクンツナー
Original assignee: New Industry Research Organization NIRO
Current assignee: New Industry Research Organization NIRO
Priority date: 2002-06-18
Filing date: 2003-06-13
Publication date: 2011-01-12
Anticipated expiration: 2023-06-13
Also published as: AU2003241661A1; WO2003106583A1; JPWO2003106583A1

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、励起状態にある酸素分子である一重項酸素を高効率で大量に製造することができる一重項酸素発生光増感剤及びそれを用いた一重項酸素発生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸素分子の励起状態である一重項酸素は、大気中にある通常の酸素に比べ、非常に活性であり、様々な化学反応や生体の営みに深く関与している。また、その殺菌作用、細胞障害作用等のため生物、医学の分野においても非常に重要な物質であり、光力学療法として癌治療にも応用されている。
【０００３】
一重項酸素は、一般には有機色素分子を光増感剤として、光増感剤から酸素分子へのエネルギー移動により生成される。しかしながら、これまでに開発された光増感剤はそれぞれ長所短所を持ち合わせており、実用面において理想的な特性を持つ光増感剤は実現されていない。また、化学、生物、医学等の多方面にわたって活用されており、一重項酸素を効率的に生成する方法に関する研究が精力的に推進されている。その一例として、例えば、特開２００１−４５４２号公報に開示のものがある。
【０００４】
しかしながら、従来の有機色素分子光増感剤は、（１）多くの材料が人体に有害である、（２）励起に特定波長の光が必要である、（３）エネルギー移動効率が低い、（４）溶液中に溶け込んだ状態の一重項酸素しか生成できない、等々の問題点があり、全く新しい概念に基づいたより実用的な光増感剤の開発が待たれている。
【０００５】
本発明は、前記問題点を解決するためになされたものであり、半導体デバイスの分野でもっとも重要な材料であるシリコン（以下、Ｓｉという。）結晶と、地球上の全ての生物にとって最も重要な物質である酸素分子の新たな関係を創生する。具体的には、Ｓｉ結晶をナノメーターサイズの多孔質状Ｓｉ（以下、ポーラスＳｉという。）とすることにより、酸素分子に対する光増感剤としての機能を引き出し、励起状態にある酸素分子（一重項酸素）を高効率で大量に生産できるＳｉナノ結晶で形成されてなる一重項酸素発生光増感剤およびそれを用いた一重項酸素発生方法を提供することを目的とする。
【発明の開示】
【０００６】
本発明者らは、半導体結晶をナノメーターサイズまで小さくすると、その電子状態が「分子」と類似したものになることに着目し、ナノ結晶が一重項酸素に対する光増感剤として作用する可能性について鋭意研究を行ってきた。その結果、最近Ｓｉ結晶をナノメーターサイズまで小さくすることにより（Ｓｉナノ結晶）、一重項酸素に対する光増感剤としての機能が発現することを見出し本発明を完成した。
すなわち、本発明に係る一重項酸素発生光増感剤は、Ｓｉナノ結晶で形成されてなるものである。また、このＳｉナノ結晶が、水素終端化されていることが好ましい。また、Ｓｉナノ結晶は、発光された光のエネルギーが１．４〜２．０ｅＶの範囲であって、１．６３ｅＶに発光ピークを有するものであることが好ましい。また、Ｓｉナノ結晶が、ポーラスシリコンであることが好ましい。また、このポーラスシリコンが、ポストエッチング処理されていることが好ましい。
【０００７】
また、本発明に係る一重項酸素発生方法は、前述の一重項酸素発生光増感剤を、酸素を含む雰囲気中に置き、前記一重項酸素発生光増感剤に光を照射することによって、一重項酸素を発生するものである。ここで、一重項酸素発生光増感剤を、酸素を含む雰囲気中に置く方法としては、低温において、酸素を表面に吸着させる方法や、一重項酸素発生光増感剤を酸素ガス雰囲気中に置く方法、酸素ガスが溶け込んだ液体内に置く方法等、この一重項酸素発生光増感剤が酸素と接触する方法であれば、その方法は、特に限定されるものではない。
一重項酸素の生成には、前述したように、従来は、有機色素分子光増感剤から酸素分子へのエネルギー移動により、基底状態にある酸素分子を励起状態に持ち上げる方法が一般に用いられていた。しかしながら、この方法には溶液に溶け込んだ状態の一重項酸素しか得られない（ガス状態の生成は困難）、光増感剤の励起に色素の吸収スペクトルにマッチした特定波長の光しか利用できない、エネルギー移動効率が低い、等の問題点があった。ところが、Ｓｉナノ結晶、特に、ポーラスＳｉは、第１に、Ｓｉナノ結晶は固体であり、その表面に物理吸着または衝突した酸素分子にエネルギー移動し一重項酸素を生成するため、ガス状態の一重項酸素を発生することができる。第２に、ポーラスＳｉは、多孔質状であり膨大な表面積を有するため、非常に小さい体積で大量の一重項酸素を生成することができる。第３に、Ｓｉナノ結晶は、近赤外光の一部から可視光全域の光を吸収するため、励起光源の種類を選ばない。自然光（太陽光）による高効率な一重項酸素生成が可能になると、大気汚染や水汚染対策に一重項酸素を利用できる可能性があり、その効果は計り知れない。第４に、Ｓｉナノ結晶の電子状態は分子と類似しており、励起状態が三重項状態と一重項状態に分裂しているという特性を有している。Ｓｉナノ結晶の場合、三重項状態のみならず、一重項状態の寿命も非常に長く、効率よく三重項状態が形成されるため、エネルギー移動効率が非常に高い。これは、Ｓｉが間接遷移型半導体であるためであり、発光デバイスとしては不適切な材料であるというＳｉの最大の欠点が、この場合は重要な長所となっている。第５に、Ｓｉは人体に無害であるため、生物、医学分野での応用にも適している。
【０００８】
なお、ここでいうＳｉナノ結晶とは、サイズが数ナノメーターから数十ナノメーター程度のＳｉ結晶をいう。このＳｉナノ結晶は、量子サイズ効果（量子閉じ込め効果）により、バルクＳｉ結晶とは異なる電子状態を持つ。バルクＳｉ結晶が近赤外領域にバンドギャップを持つのに対して、Ｓｉナノ結晶ではサイズの減少に伴ってバンドギャップが近赤外領域から可視領域にシフトしている。また、ポーラスＳｉとは、Ｓｉ結晶の陽極化成により生成される多孔質状のＳｉをいう。このポーラスＳｉの骨格は、Ｓｉナノワイヤー若しくはナノ結晶により形成されている。陽極化成に用いるＳｉの極性（ｎ型、ｐ型）、不純物濃度、結晶面方向、陽極化成時の電流値等を制御することにより、孔（ポア）及びナノワイヤー、ナノ結晶のサイズ、形、成長方向等を制御することができる。
【０００９】
また、光増感剤とは、光により励起された後、その励起エネルギーを他の物質に移動し（エネルギー移動）、その物質を励起状態に持ち上げる作用をする物質をいう。一般に、光学遷移が禁制で、光吸収が非常に小さい材料の励起状態を生成するために用いられるものである。また、エネルギー移動とは、ある物質から他の物質に励起エネルギーを伝達することをいう。ここで、Ｓｉナノ結晶を励起する方法としては、外部からＳｉナノ結晶に光を照射する方法及び、Ｓｉナノ結晶に電流を注入し、励起する方法等、いずれの方法であっても良い。
【００１０】
ここで、本発明に係るポーラスＳｉは、Ｓｉ基板をフッ酸とエタノールアルコールが１対１の割合で混合された混合溶液に浸け、数分間通電することによってＳｉの陽極化成によってＳｉがエッチングされて表面から所定の深さの孔（ポア）が形成されることで作製されている。また、使用できるＳｉ基板としては、単結晶、多結晶の別を問わずに使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、実施例により、本発明をより具体的に説明する。
（ポーラスＳｉの作製）
Ｓｉウェハー（ｐ型（１００）、１ｍΩｃｍ〜１００Ωｃｍ）をフッ酸（５０％）とエタノールアルコールの１対１の混合溶液に浸漬し、１０〜５０ｍＡ／ｃｍ^２で数分間通電した。これによって、Ｓｉの陽極化成によって、Ｓｉウェハーの表面から４０μｍ程度の深さまでポーラスＳｉを得た。エッチングされずに残ったＳｉナノワイヤー（ナノ結晶）の平均直径は数ｎｍで、ポロシティー（多孔度）は１０％〜９０％程度である。また、この際にＳｉナノ結晶は、水素終端化される。また、ここでいう、Ｓｉナノ結晶は、粒径が１ｎｍ〜５０ｎｍであるものである。
【００１２】
第１図（ａ）にポーラスＳｉの平面透過型電子顕微鏡写真を示す。観察は試料の平面方向に対して行った。試料がスポンジ状の多孔質構造になっているのがわかる。拡大図の格子縞はＳｉの（１１１）面に対応しており、エッチングされずに残った柱部分がＳｉナノ結晶より構成されていることがわかる。第１図（ｂ）は、ポーラスＳｉの断面の走査型電子顕微鏡写真を示す。
【００１３】
第２図に一重項酸素が三重項酸素に緩和する時に放出する近赤外発光（約１．２６μｍ）を検出できるシステムの概要を示す。この検出システムは、近赤外発光分光分析装置２（ＩｎＧａＡｓダイオードアレー、感度範囲（８００−１７００ｎｍ））と時間分解発光分光分析装置３（ＳｉＩＣＣＤ）及び、Ｓｉナノ結晶を冷却するためのコールドフィンガー型のクライオスタット１（４Ｋ−３００Ｋ）とで構成されている。具体的には、ポーラスＳｉ試料をコールドフィンガー型のクライオスタット１内に固定し、このＳｉ試料に外部から励起光を照射する。なお、このクライオスタット１には、酸素濃度を厳密に制御する精密ガスバルブ４が取り付けており、バルブ４を介してターボ分子ポンプ５と酸素ボンベ６に接続してある。また、本システムには、近赤外領域の発光測定と全く同じ試料の状態下で、ポーラスＳｉからの可視発光を常にモニターできるように、光学系の途中に必要に応じて光ファイバーを設置できるようにしており、光ファイバーを通して可視領域の発光をＳｉＩＣＣＤ３で測定できる。この構成により、近赤外領域から可視領域までの広範囲にわたって、全く同じ環境（試料温度、酸素濃度、吸着酸素量等）下で発光を測定することができる。
【００１４】
第３図に、極低温（４Ｋ）におけるポーラスＳｉの発光スペクトルを示す。縦軸は対数で表示している。破線は、ポーラスＳｉのポアに何も吸着させず真空中で測定したスペクトル、実線はポアに酸素を吸着した状態のスペクトルを示す。酸素の吸着は、高温（１００Ｋ以上）でクライオスタット内に適当な圧力の酸素を導入し、その後試料を冷却することにより行った。通常、低温ではポーラスＳｉは２つのブロードな発光バンドを持つ。高エネルギー側のバンドはポーラスＳｉ内に閉じ込められた励起子からの発光で、ポーラスＳｉを構成するナノ結晶のサイズや形の分布を反映しスペクトルが非常にブロードなものになっている。低エネルギー側の発光は、ポーラスＳｉ表面の欠陥（ダングリングボンド）に起因する発光である。ポーラスＳｉのポアに酸素を吸着するとスペクトル形状が次のように大きく変化する。（１）酸素分子の第２励起状態（^１Σ）と基底状態（^３Σ）のエネルギー差に対応する１．６３ｅＶより高エネルギー側で発光が非常に弱くなり、超高感度のＣＣＤでも観測が困難になる。なお、縦軸は対数表示である。（２）１．６３ｅＶ以下においても発光強度が１桁以上低下するとともに、周期的な振動構造が観測される。（３）高エネルギー側の励起子の発光のみならず、低エネルギー側の欠陥からの発光も酸素吸着により強度が低下する。（４）酸素分子の第１励起状態（^１Δ）と基底状態（^３Σ）のエネルギー差に対応する０．９８ｅＶに比較的シャープな発光が現れる（挿入図（左）参照）。このシャープな発光は、生成された一重項酸素が通常の三重項酸素に緩和するときに放出するフォトンを検出したものであり、一重項酸素生成の直接的な証拠である。さらに、後ほど示すようにポーラスＳｉの発光のクエンチの程度と一重項酸素の発光強度の間には強い相関がある。このことは、酸素分子がポーラスＳｉを構成するＳｉナノ結晶からのエネルギー移動により励起されていることを示している。互いの発光強度に相関が見られることから、一重項酸素からの発光を直接観測することなく、Ｓｉナノ結晶の発光のクエンチの程度を測定することにより一重項酸素発生の状況を間接的に調べることができる。
【００１５】
第３図において、１．６３ｅＶより高エネルギー側でポーラスＳｉの発光のクエンチが特に顕著であることから、Ｓｉナノ結晶中の励起子は酸素分子の^１Σ状態とより強くカップリングすると考えられる。これには、エネルギー移動時の軌道角運動量保存が関与していると考えている。^１Σ状態へのエネルギー移動においては軌道角運動量は保存されるが、^１Δ状態へのエネルギー移動では軌道角運動量の変化を伴うためエネルギー移動割合が小さくポーラスＳｉの発光のクエンチも小さいと考えられる。Ｓｉナノ結晶から酸素分子へのエネルギー移動のメカニズムを詳細に調べるためには、ナノ結晶内の励起と酸素分子の結合（カップリング）の強度のエネルギー依存性を知る必要がある。しかしながら、第３図において酸素を吸着した状態で観測されるスペクトルは、カップリング強度とポーラスＳｉを構成するＳｉナノ結晶のサイズ、形分布によるスペクトルの不均一広がりをかけ合わせたものになっている。これらの影響を取り除き、純粋にカップリング強度とエネルギーの関係を抽出するため、真空状態のスペクトルを酸素を吸着した状態のスペクトルで割り算した結果を第４図に示す。
【００１６】
第４図では、値が大きいほど発光のクエンチの程度が大きくなる。^１Σ状態のエネルギーに対応する１．６３ｅＶにおいてクエンチが最大になっていることがわかる。非常に多くの構造が見られるが、構造の周期はすべてＳｉのＴＯフォノンのエネルギー（フォノンの状態密度のピークエネルギー、約６３ｍｅＶ）と一致している。このフォノン構造の観測は、^１Δ状態へのエネルギー移動時にエネルギー保存則を満足するためＳｉナノ結晶中でフォノンが放出されていることを示唆している。^１Δ状態のエネルギー（０．９８ｅＶ）から数えると、最大で８個のＴＯフォノンの放出に伴う構造が観測されている。通常、エネルギー移動のレートはエネルギーを与える側（ドナー）と受け取る側（アクセプター）のスペクトルの重なりに強く依存するため、共鳴的なエネルギー移動に比べてフォノンの放出を伴うエネルギー移動のレートは極端に小さくなる。今回、最大で８個のＴＯフォノンの放出を伴うエネルギー移動による構造が観測された原因は、低温においてＳｉナノ結晶の励起子の寿命が極端に長いことにあると考えている。酸素を吸着した状態で４Ｋでは通常は１．６３ｅＶ以上で発光はほとんど観測されない。しかしながら少し高温（４０Ｋ〜５０Ｋ程度）で測定を行うとクエンチが小さくなり１．６３ｅＶ以上においても微弱な発光が観測される。第４図において、１．６３ｅＶ以上のエネルギーでもスペクトルに構造があらわれていることがわかる。構造をよりクリアにするためにスペクトルを２回微分したものを同時に示す。１．６３ｅＶ以上と同様に、ＳｉのＴＯフォノンのエネルギーの周期で構造が現れており、^１Σ状態へのエネルギー移動においてもＳｉ中のフォノンの放出によりエネルギー保存則が満たされていることがわかる。
【００１７】
第５図に、低温（４Ｋ）において得られた酸素吸着量が異なる２種類のデータを比較する。縦軸は第５図と同様にクエンチの度合いを示している。吸着量が多い場合（破線）は少ない場合（実線）に比べて、発光のクエンチの程度が大きく、また一重項酸素からの発光も強いことがわかる（第５図では、酸素吸着状態のスペクトルを真空状態のスペクトルで割り算しているため、一重項酸素からの発光は下向きのピークとして現れる。）。酸素吸着量が大きい場合は、１．６３ｅＶ以下でクエンチの程度はだらだらと変化しており、バルクＳｉのバンドギャップ以下まで連続している。発光のクエンチは^１Δ状態のエネルギーより低エネルギー側でも観測される。一方、酸素吸着量が小さい場合は、１．６３ｅＶからバルクＳｉのバンドギャップまではほとんどクエンチが見られず、バンドギャップ以下のエネルギーで再びクエンチが観測される。この結果は非常に重要な意味を持つ。前述のようにバルクＳｉのバンドギャップ以下の発光は、Ｓｉナノ結晶表面のダングリングボンドに起因する。励起子のダングリングボンドへの捕獲は、励起子の発光寿命に比べて極端に短いため、一つでもダングリングボンドを持つナノ結晶は室温では発光を示さず、このようなナノ結晶の存在がポーラスＳｉ試料全体の発光量子効率を決定している。１．６３ｅＶ以下で発光のクエンチがほとんど観測されないような酸素吸着量が少ない状態においてもダングリングボンドの発光のクエンチが観測されたことは、励起子から酸素分子の^１Σ状態へのエネルギー移動時間がダングリングボンドへのトラップの時間と同等であることを示している。発光に寄与しない“暗い”ナノ結晶からもエネルギー移動が可能であるということは、高効率な一重項酸素の発生が可能であることを示している。
【００１８】
第６図に１１０ＫにおけるポーラスＳｉの発光スペクトル（ａ）と発光のクエンチの程度（ｂ）を示す。酸素濃度を７通り変化させている。酸素濃度が増加するに伴い、発光強度が低下する（発光のクエンチが大きくなる）ことがわかる。第６図（ｂ）で、発光のクエンチは１．６３ｅＶでもっとも顕著であり、１．８５ｅＶにも構造が見られる。その他の領域ではクエンチはほとんど観測されない。１．６３ｅＶのピークは酸素分子の^１Σ状態のエネルギーに一致しており、このクエンチがＳｉナノ結晶から酸素分子へのエネルギー移動によるものであることがわかる。つまり、ガス状態の酸素分子にたいしても、Ｓｉが光増感剤として機能する。１．８５ｅＶの構造は、２つの酸素分子のペアの^１Δ状態への励起に対応しており、この構造も一重項酸素形成によるものである。
【００１９】
１．６３ｅＶ付近でポーラスＳｉの発光のクエンチが最も大きいことは、低温において酸素分子がポーラスＳｉに吸着している場合と一致している。低温では、^１Σ状態へのエネルギー移動に比べると効率が小さいものの、^１Δ状態へのエネルギー移動も観測される。また、Ｓｉナノ結晶内でフォノンを放出することにより酸素のエネルギー準位とのエネルギーのミスマッチが解消されている。そのため、ポーラスＳｉを形成するほぼすべてのナノ結晶がエネルギー移動に寄与することができる（全観測領域でポーラスＳｉの発光がクエンチする）。一方、ガス状態では１．６３ｅＶの低エネルギー側で発光のクエンチが急激に小さくなり、１．４ｅＶ以下ではクエンチは全く見られない。このことは、ガス状態では^１Δ状態へのエネルギー移動の効率が非常に小さいことを示している。また、^１Σ状態の高エネルギー側でもクエンチの程度は^１Σ状態のエネルギーから遠ざかるとともに小さくなる。つまり、ガス状態では酸素分子の^１Σ状態のエネルギーもしくは、酸素分子ペアの２^１Δ状態のエネルギーに一致するバンドギャップエネルギーを持つＳｉナノ結晶のみが酸素分子に共鳴的にエネルギー移動することができる。この原因として次のことが考えられる。ガス状態ではエネルギー移動は酸素分子のポーラスＳｉ表面への衝突イベントの間に行われる。ナノ結晶中の励起子と^１Σ状態のカップリングは非常に強いため、衝突の間にエネルギー移動が終了することが可能だが、^１Δ状態とのカップリングは比較的弱く（エネルギー移動時間が長く）、衝突イベントの間にエネルギー移動を行うことが困難であると考えられる。また、励起子のエネルギーと^１Δ状態、^１Σ状態の間にエネルギーのミスマッチがあるとエネルギー保存則を満足するためにナノ結晶中でフォノンを放出する必要があり、放出するフォノンの数に応じてエネルギー移動レートは低下する。低温では、酸素分子はナノ結晶表面に吸着しており、また励起子の寿命が非常に長いため、フォノンの放出を伴う非共鳴エネルギー移動が可能だが、ガス状態ではこのような過程はより困難になると考えられる。
【００２０】
Ｓｉナノ結晶のバンドギャップ（発光エネルギー）はそのサイズに依存して変化する。第７図にＳｉナノ結晶の発光ピークエネルギー（バンドギャップに対応）とサイズの関係を示す。第７図はＳｉＯ_２薄膜中に埋め込まれたＳｉナノ結晶のデータでありポーラスＳｉのものとは完全には一致しないが、このエネルギー領域では大きな違いはないと考えられる（同じサイズで比較するとポーラスＳｉでは発光ピークエネルギーが高エネルギー側にある傾向がある。）。第８図より、Ｓｉナノ結晶からガス状態の酸素分子へエネルギー移動し一重項酸素を発生させるためにはＳｉナノ結晶のサイズが２．５ｎｍ程度、もしくはそれ以下である必要があることがわかる。そのため、構成するＳｉナノ結晶のサイズが２．５ｎｍ程度であるポーラスＳｉの生成方法を開発することが実用上は非常に重要であるが、本発明に係るポーラスＳｉを構成するＳｉナノ結晶は球形ではなく、楕円形もしくはワイヤー状であり、サイズは特に限定されるものではない。
【００２１】
第８図に室温でのポーラスＳｉの発光スペクトルと酸素導入に伴う発光のクエンチの程度を示す。１１０Ｋの場合に比べるとクエンチの程度が小さいが、酸素濃度に依存して発光がクエンチしていく様子がわかる。このことは、室温においてもＳｉナノ結晶からのエネルギー移動により一重項酸素が生成していることを示している。また、１１０Ｋの場合と同様に、発光のクエンチは１．６３ｅＶで最も大きくなっており、室温の場合も直径２．５ｎｍ程度のＳｉナノ結晶において、エネルギー移動が最も効率的に行われることがわかる。
【００２２】
１１０Ｋのデータと比較すると、室温でのポーラスＳｉの発光のクエンチは小さい。温度、酸素圧力、発光のクエンチの関係を詳細にしらべるため、３種類の温度で発光のクエンチの程度を測定した。第９図に結果を示す（○：１２０Ｋ、□：２００Ｋ、△：３００Ｋ）。第９図で横軸は酸素圧力、縦軸は酸素導入に伴う発光強度のクエンチの程度を示す。発光のクエンチは低温ほど大きいことがわかる。また、クエンチの程度はある酸素濃度で飽和し、それ以上酸素濃度を増加してもクエンチの程度はそれほど大きくならない。この結果を説明するために、各条件におけるポーラスＳｉ表面に吸着する酸素分子の量についてラングミュアの吸着等温式により考察する。ポーラスＳｉ表面における酸素分子の全吸着サイトに占める酸素分子が吸着したサイトの割合θ（Ｔ，Ｐ）は、下記式(１)で与えられる。
【００２３】
【数１】

【００２４】
ここでＰは酸素圧力、Ｋ（Ｔ）は吸着平衡定数である。酸素導入によるポーラスＳｉの発光のクエンチの割合が、酸素の被覆率に比例すると仮定すると、クエンチの程度（Ｑ）は、下記式(２)であらわされる。
【００２５】
【数２】

【００２６】
（Ｔ），とθ（Ｔ）をフィッティングパラメーターとし、第９図の実験結果をフィッティングした結果を実線で示す。式（２）により実験結果が非常によく再現できていることがわかる。つまり、Ｓｉナノ結晶からガス状態の酸素分子へのエネルギー移動の割合は、ナノ結晶表面の酸素の被覆率に比例する。フィッティングにより得られたＡ（Ｔ）、Ｋ（Ｔ）を第１１図にまとめて示す。
【００２７】
温度の上昇とともに、Ｋ（Ｔ）、Ａ（Ｔ）ともに小さくなり、結果として発光のクエンチの程度（一重項酸素生成量）が小さくなる。Ｋ（Ｔ）の低下は酸素濃度を高くすることにより克服できるため、実際上特に問題ない。Ａ（Ｔ）の低下は、同じ量の酸素が吸着しても、温度が高いほどエネルギー移動の効率が小さいことを意味している。この原因については、完全には明らかになっていないが、最も大きい原因はエネルギー移動に寄与しているであろうと考えられる三重項励起子の割合が減少することにあると考えられる。より効率よく一重項酸素を生成するためには、ポーラスＳｉを冷却した状態で使用することが望ましい。
【００２８】
また、ポーラスＳｉを陽極化成後に、フッ酸（５０％）とエタノールアルコールの１対１の混合溶液に浸漬しポストエッチングを行うと、第１０図に示すように、発光クエンチの強度は、ポストエッチングの時間が長くなるに従い、強くなることが分かる。これは、ポストエッチングされることによって、ポーラスＳｉの各孔の内面が均等にエッチングされ、各Ｓｉナノ結晶間のネック部分が細くなるためであると考えられる。
【００２９】
本発明に係る一重項酸素発生光増感剤は、励起光を与えることによって簡単に一重項酸素を発生することができるため、例えば、この一重項酸素発生光増感剤を酸素が通過できる孔を有したＳｉＯ_２等のガラスによって挟み込み、カセット状に形成し、空気が通過する前後のいずれかからそのカセット表面に励起光を与えることによって、通過する空気のうち、酸素が一重項酸素となり、通過する空気中の細菌等の滅菌或いは殺菌が可能なフィルターとして使用することが可能となる。しかし一重項酸素を長時間放出し続ける事により性能が劣化して必要な一重項酸素を放出しする事が困難に成る事が起こり得るが、カセット状の一重項酸素フィルターを交換するか、もしくは前述のポストエッチングを行う事でカセットの再生を簡易に行え、性能が回復して再使用する事が容易にできる。
【００３０】
本発明に係る一重項酸素発生光増感剤は、以上のように構成されており、Ｓｉナノ結晶に酸素を吸着させて、励起光を与えることによって簡単に一重項酸素を発生することができるため、例えば、この一重項酸素発生光増感剤を酸素が通過できる孔を有したＳｉＯ_２等のガラスによって挟み込み、カセット状に形成し、空気が通過する前後のいずれかからそのカセット表面に励起光を与えることによって、通過する空気のうち、酸素が一重項酸素となり、通過する空気中の細菌等の滅菌或いは殺菌が可能なフィルターとして使用することが可能となる。なお、この際、発生する一重項酸素が直接人間に接触するようであれば、発生してくる一重項酸素は、直接外部に放出しないように、一旦水槽等に通し、バブリングして、使用することが好ましい。一重項酸素は、溶液中で、μ秒単位で直ぐに三重項状態の通常の酸素に変化してしまうからである。
【００３１】
また、Ｓｉナノ結晶を前述実施形態の一例として示した以外に、例えば、粉末状として使用することもできる。この場合は、その粉末状の一重項酸素発生増感剤を体内の必要な部分に、導入し、体外から光を照射することよって体内の各種部位に形成された病巣を、発生した一重項酸素で小さくすることも可能となり、工業的な使用方法以外に医学的用途に適用可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明は、以上のように一重項酸素発生光増感剤としてナノメーターサイズのＳｉ結晶を用いる。このため、従来の一重項酸素発生光増感剤として用いられていた有機色素分子光増感剤と異なり、（１）豊富で安価な材料（低コスト）、（２）人体に無害、（３）簡便な製造プロセス、（４）量産化が容易、（５）励起光の波長を選ばず、紫外〜可視全域の光を有効利用、（６）高エネルギー移動効率、（７）ガス状態（気体状態）もしくは溶液中に溶けこんだ状態の一重項酸素が発生可能であるという効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
第１図（ａ）は、ポーラスＳｉの透過型電子顕微鏡像の一例を示す図である。試料の平面方向を観察している。多孔質構造になっていることがわかる。拡大図の格子縞はＳｉの｛１１１｝面（０．３１ｎｍ）に対応しており、エッチングされずに残った柱部分がＳｉナノ結晶より構成されていることがわかる。ポーラスＳｉの平面透過型電子顕微鏡写真を示す図である。第１図（ｂ）は、このポーラスＳｉの断面の電子顕微鏡写真を示す図である。
第２図は、一重項酸素からの発光を測定するシステムの概略模式図である。
第３図は、低温（４Ｋ）におけるポーラスＳｉの発光スペクトル。破線はポーラスＳｉのポアに酸素を吸着せず真空中で測定したスペクトルを示す図である。実線は、ポアに酸素を吸着した状態のスペクトル。挿入図（左）は、一重項酸素からの発光スペクトルの拡大図、挿入図（右）は、酸素分子の電子配置を示す。
第４図は、真空中で測定した発光スペクトルを酸素吸着状態で測定したスペクトルで割り算した結果を示す図である。値が大きいほど、酸素吸着による発光のクエンチが大きいことに対応している。高エネルギー側のデータは発光が完全にクエンチしない条件下で測定した。構造をよりクリアに示すため、スペクトルの２回微分を示す。
第５図は、真空中で測定した発光スペクトルを酸素吸着状態で測定したスペクトルで割り算した結果（４Ｋ）を示す図である。酸素吸着量の異なる２種類のデータを示している（破線：吸着量大、実線：吸着量小）。
第６図（ａ）は、１１０ＫでのポーラスＳｉの発光スペクトルを示し、第６図（ｂ）は、酸素ガス導入による発光のクエンチの程度を示す図である。酸素圧力は７種類変化している。
第７図は、Ｓｉナノ結晶の発光スペクトルとサイズの関係（ＳｉＯ_２薄膜中に埋め込まれたＳｉナノ結晶のデータ）を示す図である。サイズが小さくなるとともに発光ピークが高エネルギー側にシフトする。ポーラスＳｉの発光のサイズ依存性とは完全には一致しないが、このエネルギー領域では大きな違いは無いと考えられる。
第８図（ａ）は、室温でのポーラスＳｉの発光スペクトルを示し、第８図（ｂ）は、酸素ガス導入による発光のクエンチの程度を示す図である。酸素圧力は８種類変化している。
第９図は、発光のクエンチの程度と酸素圧力の関係を示す図である。（□：１２０Ｋ、○：２００Ｋ、△：３００Ｋ）。実線は、式（４）によるフィッティング結果を示すものである。
第１０図は、ポストエッチング時間と発光強度及びクエンチ強度との関係を示す図である。
第１１図は、第９図に示すフィッティングした結果より得られたＡ（Ｔ）、Ｋ（Ｔ）を表にまとめた図である。

Claims

シリコンナノ結晶で形成されてなる一重項酸素発生光増感剤。
前記シリコンナノ結晶が、水素終端化されている請求項１に記載の一重項酸素発生光増感剤。
前記シリコンナノ結晶は、発光された光のエネルギーが１．４〜２．０ｅＶの範囲であり、１．６３ｅＶに発光ピークを有する請求項１に記載の一重項酸素発生増感剤。
前記シリコンナノ結晶は、水素終端化され、発光された光のエネルギーが１．４〜２．０ｅＶの範囲であり、１．６３ｅＶに発光ピークを有する請求項１に記載の一重項酸素発生増感剤。
前記シリコンナノ結晶が、水素終端化されている請求項１に記載の一重項酸素発生光増感剤。
前記シリコンナノ結晶が、ポーラスシリコンである請求項１に記載の一重項酸素発生光増感剤。
前記ポーラスシリコンが、ポストエッチング処理されている請求項６に記載の一重項酸素発生光増感剤。
シリコンナノ結晶で形成されてなる一重項酸素発生光増感剤を、酸素を含む雰囲気中に置き、前記一重項酸素発生光増感剤に光を照射することによって、一重項酸素を発生する一重項酸素発生方法。