JP4606215B2 - Photochromic optical article and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、耐久性が優れたフォトクロミックプラスチックレンズ等のフォトクロミック性光学物品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a photochromic optical article such as a photochromic plastic lens having excellent durability and a method for producing the same.

フォトクロミック眼鏡とは、太陽光のような紫外線を含む光が照射される屋外ではレンズが速やかに着色してサングラスとして機能し、そのような光の照射がない屋内においては退色して透明な通常の眼鏡として機能する眼鏡であり、特にフォトクロミックプラスチックレンズを用いたものは近年その需要が増大している。   Photochromic glasses are lenses that quickly color and function as sunglasses when exposed to light containing ultraviolet rays such as sunlight. Demand for spectacles that function as spectacles, particularly those using photochromic plastic lenses, has increased in recent years.

フォトクロミック性を有するプラスチックレンズの製法としては、大別して、次の3つの方法が知られている。(尚、以下の説明においては、フォトクロミック性を有していない通常のレンズを、単にレンズ基材と呼ぶ。)
(i)モノマーにフォトクロミック化合物を溶解させそれを重合させることにより直接フォトクロミックレンズを得る方法(練り混み法);
(ii)フォトクロミック化合物を含む組成物中にレンズ基材を含浸させることにより、その表面にフォトクロミック層を形成する方法(含浸法);
(iii)フォトクロミック化合物が分散されている組成物(フォトクロミックコーティング剤)をレンズ基材の表面にコーティングすることにより、その表面にフォトクロミック層を形成する方法(コーティング法);
上記の方法の中で、練り込み法は、良好なフォトクロミック性を発現させるためには特殊なモノマー組成物を使用する必要があるという制約がある。また、含浸法においてはレンズ基材としてフォトクロミック化合物を拡散し易い柔らかい基材を用いる必要がある。これに対して、コーティング法は、原理的にはどのようなレンズ基材に対してもフォトクロミック性を付与できるという利点を有しており、最近、特に注目されている。
As a method for producing a plastic lens having photochromic properties, the following three methods are broadly known. (In the following description, a normal lens that does not have photochromic properties is simply referred to as a lens substrate.)
(i) A method of directly obtaining a photochromic lens by dissolving a photochromic compound in a monomer and polymerizing it (mixing method);
(ii) A method (impregnation method) of forming a photochromic layer on the surface of a composition containing a photochromic compound by impregnating a lens substrate;
(iii) A method (coating method) of forming a photochromic layer on the surface of a lens substrate by coating a composition (photochromic coating agent) in which a photochromic compound is dispersed;
Among the above methods, the kneading method has a limitation that it is necessary to use a special monomer composition in order to develop good photochromic properties. In the impregnation method, it is necessary to use a soft base material that easily diffuses the photochromic compound as the lens base material. On the other hand, the coating method has an advantage that, in principle, photochromic properties can be imparted to any lens substrate, and has recently attracted particular attention.

コーティング法においては、レンズ基材にフォトクロミック層を強固に密着させることが大きな技術課題であったが、レンズ基材に対して高い密着性を有するフォトクロミック層を形成し得るコーティング剤も開発され、その実用化が現実のものとなりつつある。例えば、特許文献1には、このようなフォトクロミックコーティング剤として、「シラノール基または加水分解によりシラノール基を生成する基を有するラジカル重合性単量体を含有するラジカル重合性単量体、アミン化合物およびフォトクロミック化合物を夫々特定量含有してなる硬化性組成物」が提案されている。   In the coating method, it was a big technical problem to firmly adhere the photochromic layer to the lens substrate, but a coating agent that can form a photochromic layer having high adhesion to the lens substrate has also been developed. Practical use is becoming a reality. For example, Patent Document 1 discloses such a photochromic coating agent as “a radical polymerizable monomer containing a radical polymerizable monomer having a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis, an amine compound, and A curable composition containing a specific amount of a photochromic compound has been proposed.

このように、コーティング法はフォトクロミックレンズの製法として非常に優れた方法であるといえるが、このようなコーティング法によりフォトクロミック層が形成されたレンズでは、長期間使用するとフォトクロミック層中のフォトクロミック化合物が劣化して発色濃度が低下したり黄変して未発色の状態(紫外線未照射の状態)でもレンズが黄色に着色したりするという問題があり、特にフォトクロミック化合物として、フォトクロミック性の良好なインデノナフトピラン化合物を用いた場合には、その劣化が顕著である。また、このような問題は、含浸法によりフォトクロミック層が形成されているレンズでも同様に生じていた。このフォトクロミック化合物の劣化の主原因は、フォトクロミック化合物が、大気中の酸素に触れて酸化劣化することにある。   In this way, the coating method can be said to be a very excellent method for producing a photochromic lens. However, when a photochromic layer is formed by such a coating method, the photochromic compound in the photochromic layer deteriorates when used for a long time. As a photochromic compound, indenonaphthopi has a good photochromic property. When a orchid compound is used, the deterioration is remarkable. In addition, such a problem is similarly generated in a lens in which a photochromic layer is formed by an impregnation method. The main cause of the deterioration of the photochromic compound is that the photochromic compound is oxidized and deteriorated by contact with oxygen in the atmosphere.

このようなフォトクロミック層中のフォトクロミック化合物の酸化劣化を防止する方法として、特許文献2には、20μm程度の厚みのフォトクロミック層の表面に、金属酸化物粒子または金属微粒子よりなる薄膜を形成させることが提案されている。   As a method for preventing such oxidative degradation of the photochromic compound in the photochromic layer, Patent Document 2 discloses that a thin film made of metal oxide particles or metal fine particles is formed on the surface of a photochromic layer having a thickness of about 20 μm. Proposed.

国際公開第03/011967号パンフレットInternational Publication No. 03/011967 Pamphlet 特開平6−192651号公報JP-A-6-192651

しかしながら、この特許文献2で提案されているような薄膜では、ある程度は酸化劣化を抑制し、フォトクロミック層の特性低下を防止することができるのであるが、その効果は未だ十分ではなく、実用性の面からフォトクロミック耐久性をさらに向上することが求められている。特に、近年開発されたインデノナフトピラン化合物のようにフォトクロミック性の良好な化合物を用いた場合には、特許文献2のように、単に金属酸化物等の薄膜を設けただけでは、フォトクロミック特性の低下を有効に抑制することができず、その優れたフォトクロミック性を長期間にわたって維持することが困難となっていた。   However, the thin film as proposed in Patent Document 2 can suppress oxidation degradation to some extent and prevent deterioration of the characteristics of the photochromic layer, but the effect is not yet sufficient and practical. From the aspect, it is required to further improve the photochromic durability. In particular, when a compound having a good photochromic property such as an indenonaphthopyran compound developed in recent years is used, the photochromic property can be obtained simply by providing a thin film such as a metal oxide as in Patent Document 2. The decrease cannot be effectively suppressed, and it has been difficult to maintain the excellent photochromic property for a long period of time.

従って本発明の目的は、プラスチックレンズ等の光学基板の表面に、フォトクロミック化合物としてインデノナフトピラン化合物を含むフォトクロミック層が形成されており、酸化劣化によるフォトクロミック層の特性低下が高度に抑制され、フォトクロミック性の耐久性に極めて優れたフォトクロミック性光学物品及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to form a photochromic layer containing an indenonaphthopyran compound as a photochromic compound on the surface of an optical substrate such as a plastic lens, and the deterioration of the characteristics of the photochromic layer due to oxidative degradation is highly suppressed. An object of the present invention is to provide a photochromic optical article and a method for producing the same, which are extremely excellent in durability.

本発明によれば、少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が樹脂中に分散されたフォトクロミック層が形成されている光学基板と、該フォトクロミック層上に厚さ0.1〜20μmの緩衝層を介して形成された金属酸化物の蒸着薄膜とからなるフォトクロミック性光学物品であって
前記フォトクロミック化合物として下記一般式(1):

Figure 0004606215

〔前記式(1)において、
26 、R 27 、R 28 およびR 30 は、それぞれ、水酸基、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシメチル基、ヒドロキシメチル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記インデノナフト環に結合している置換もしくは非置換の複素環基、又は前記複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり;
環Qは脂肪族炭化水素環基であり;
y、y’、y”およびy”’は、各々、0〜2の整数であり;
29 は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基である〕
で表されるインデノナフトピラン化合物が使用され、且つ前記フォトクロミック層は、30〜50μmの厚みを有しているとともに、
前記金属酸化物薄膜は、0.01〜μmの厚みを有しており、且つ単層構造を有していることを特徴とするフォトクロミック性光学物品が提供される。 According to the present invention, an optical substrate having a photochromic layer in which a photochromic compound is dispersed in a resin is formed on at least one surface, and a buffer layer having a thickness of 0.1 to 20 μm is formed on the photochromic layer. a photochromic optical article comprising a deposition film of metal oxides,
As the photochromic compound, the following general formula (1):
Figure 0004606215

[In the above formula (1),
R 26 , R 27 , R 28 and R 30 are each a hydroxyl group, alkyl group, trifluoromethyl group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, alkoxymethyl group, hydroxymethyl group, aralkoxy group, amino group, substituted An amino group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and a nitrogen atom as a heteroatom, and the nitrogen atom is bonded to the indenonaft ring Substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a condensed heterocyclic group obtained by condensing an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring to the heterocyclic group;
Ring Q is an aliphatic hydrocarbon ring group;
y, y ′, y ″ and y ″ ′ are each an integer from 0 to 2;
R 29 is a dialkylamino group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group having a nitrogen atom as a heteroatom and the nitrogen atom bonded to the phenyl group]
And the photochromic layer has a thickness of 30 to 50 μm, and an indenonaphthopyran compound represented by :
The metal oxide thin film has a thickness of 0.01 to 1 μm and has a single layer structure , and a photochromic optical article is provided.

本発明によれば、また、少なくとも一方の表面に、上記一般式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物が樹脂中に分散され且つ30〜50μmの厚みを有するフォトクロミック層が厚さ0.1〜20μmの緩衝層を介して形成された光学基板を用意し、前記フォトクロミック層上に、0.01〜1μmの厚みを有しており、且つ単層構造の金属酸化物薄膜を蒸着法により形成することを特徴とするフォトクロミック性光学物品の製造方法が提供される。 According to the present invention, the photochromic layer having a thickness of 30 to 50 μm and an indenonaphthopyran compound represented by the general formula (1) dispersed in the resin has a thickness of 0. An optical substrate formed through a buffer layer of 1 to 20 μm is prepared, and a metal oxide thin film having a thickness of 0.01 to 1 μm and having a single layer structure is formed on the photochromic layer by vapor deposition. A method for producing a photochromic optical article is provided.

本発明は、インデノナフトピラン化合物が分散された樹脂により形成されたフォトクロミック層は、酸化劣化によるフォトクロミック性の低下の度合いが、該フォトクロミック層の厚みに大きく依存するという他のフォトクロミック化合物を用いた場合には見られない性質を有しているという新規知見に基づいてなされたものであり、その厚みを30〜50μmと比較的厚くし、このような厚みのあるフォトクロミック層上に金属酸化物薄膜を設けることにより、酸化劣化によるフォトクロミック層の特性低下を有効に抑制し、インデノナフトピラン化合物の優れたフォトクロミック性を長期間にわたって持続させることに成功したものである。このようにインデノナフトピラン化合物を用いた場合にのみ、フォトクロミック層の厚みを比較的厚くすることによってフォトクロミック層の特性低下が抑制されることはまったく予想外であるが、その理由を、本発明者等は次のように推定している。   In the present invention, the photochromic layer formed of a resin in which an indenonaphthopyran compound is dispersed uses another photochromic compound in which the degree of reduction in photochromic properties due to oxidative degradation greatly depends on the thickness of the photochromic layer. It was made on the basis of a new finding that it has a property that is not seen in some cases, and its thickness is made comparatively thick at 30 to 50 μm, and a metal oxide thin film is formed on the photochromic layer having such a thickness. Thus, it is possible to effectively suppress deterioration in characteristics of the photochromic layer due to oxidative degradation and to maintain the excellent photochromic properties of the indenonaftpyran compound over a long period of time. Thus, it is quite unexpected that the degradation of the characteristics of the photochromic layer is suppressed by making the thickness of the photochromic layer relatively thick only when the indenonaftpyran compound is used. Estimates are as follows.

即ち、インデノナフトピラン化合物が分散されているフォトクロミック層が薄い場合には、金属酸化物薄膜を設けているにもかかわらず、該フォトクロミック層を透過する酸素を完全に遮断することはできず、僅かな量ではあるが、酸素が該フォトクロミック層内の全体に拡散し、該層内の全体にわたってインデノナフトピラン化合物が酸化劣化し、フォトクロミック性が低下する(即ち、フォトクロミック耐久性が低い)。例えば、後述する比較例に示されているように、フォトクロミック層の厚みが20μm程度のときには、フォトクロミック耐久性がかなり低い。このようなフォトクロミック性の低下は、他のフォトクロミック化合物を用いた場合も同様である(比較例6)。 That is, when the photochromic layer in which the indenonaphthopyran compound is dispersed is thin, it is not possible to completely block oxygen transmitted through the photochromic layer despite the provision of the metal oxide thin film. Although it is a small amount, oxygen diffuses throughout the photochromic layer, and the indenonaphthopyran compound is oxidatively deteriorated throughout the layer, so that the photochromic property is lowered (that is, the photochromic durability is low). For example, as shown in Comparative Example 7 described later, when the thickness of the photochromic layer is about 20 μm, the photochromic durability is considerably low. Such a decrease in photochromic properties is the same when other photochromic compounds are used (Comparative Example 6).

しかるに、インデノナフトピラン化合物が分散されているフォトクロミック層の厚みが30〜50μmとなると、実施例1等に示されているように、フォトクロミック性の低下が著しく抑制されており、フォトクロミック耐久性の内特に黄変抑制効果が、著しく向上していることが判る。ところが、他のフォトクロミック化合物が分散されているフォトクロミック層では、その厚みが40μmの場合にも、フォトクロミック耐久性の向上は十分でなく、その黄変抑制効果も低い(比較例2)。この事実から考えると、インデノナフトピラン化合物を用いた場合には、この化合物が他のフォトクロミック化合物に比して耐酸化性(酸化劣化に対する耐久性)に優れており、このため、フォトクロミック層の厚みを厚くすることにより、金属酸化物薄層を透過した僅かな量の酸素は、フォトクロミック層の上部領域(金属酸化物薄膜側)で遮断され、その内部までの拡散が抑制されるものと考えられる。即ち、劣化が上部領域で止まり、フォトクロミック層の内部或いは下方領域(基板側)までは劣化が進行しないのである。他のフォトクロミック化合物では、耐酸化性が低く且つ光のみで劣化する機構が大きいと考えられるため、フォトクロミック層の厚みを厚くしたとしてもフォトクロミック層全体にわたって劣化が進行してしまい、この結果、フォトクロミック耐久性の向上がみられないものと考えられる。   However, when the thickness of the photochromic layer in which the indenonaphthopyran compound is dispersed is 30 to 50 μm, as shown in Example 1 or the like, the deterioration of the photochromic property is remarkably suppressed, and the photochromic durability is improved. In particular, it can be seen that the yellowing suppression effect is remarkably improved. However, in the photochromic layer in which other photochromic compounds are dispersed, even when the thickness is 40 μm, the improvement in photochromic durability is not sufficient and the yellowing suppression effect is low (Comparative Example 2). Considering this fact, when an indenonaftpyran compound is used, this compound is superior in oxidation resistance (durability against oxidation degradation) compared to other photochromic compounds. By increasing the thickness, a small amount of oxygen that permeated through the thin metal oxide layer is blocked at the upper region of the photochromic layer (the metal oxide thin film side), and diffusion to the inside is suppressed. It is done. That is, the deterioration stops in the upper region, and does not proceed to the inside or the lower region (substrate side) of the photochromic layer. Other photochromic compounds are considered to have low oxidation resistance and a large mechanism for deterioration only by light, so even if the thickness of the photochromic layer is increased, the deterioration proceeds throughout the photochromic layer, resulting in photochromic durability. It is considered that there is no improvement in sex.

このように、本発明のフォトクロミック性光学物品では、酸化劣化によるフォトクロミック層の特性低下が有効に抑制されているため、フォトクロミック性の耐久性が著しく優れており、長期間使用しても、インデノナフトピラン化合物が未発色の状態で黄色に着色することがなく、また該化合物の発色状態における色の濃度が低下しないという特徴を有する。   As described above, in the photochromic optical article of the present invention, since the deterioration of the characteristics of the photochromic layer due to oxidative degradation is effectively suppressed, the durability of the photochromic property is remarkably excellent. The topyran compound is not colored yellow in an uncolored state, and the color density in the colored state of the compound does not decrease.

また、本発明において、フォトクロミック層上に設ける金属酸化物の薄層は、例えば単層であり、反射防止膜のような多層構造ではないため、コスト面のメリットが大きく、汎用レンズとしても十分使えるものである。 In the present invention, the metal oxide thin layer provided on the photochromic layer is, for example, a single layer and does not have a multilayer structure such as an antireflection film. Is.

図1を参照して、本発明のフォトクロミック性光学物品は、全体として200で示すフォトクロミック基板を有しており、このフォトクロミック基板200は、光学基板201の表面にフォトクロミック層202が形成されて構造を有している。また、このフォトクロミック層202上には、金属酸化物薄膜300が緩衝層600を介して、蒸着法により蒸着薄膜として設けられている緩衝層600は、図1の例では、プライマー層400と無機微粒子分散層500とから形成されているが、後述するように、プライマー層400のみを緩衝層600として使用することもできるし、無機微粒子分散層500のみを緩衝層600として使用することもでき、さらには、無機微粒子分散層500の上にもプライマー層400を設けることもできる。 Referring to FIG. 1, the photochromic optical article of the present invention has a photochromic substrate denoted by 200 as a whole, and this photochromic substrate 200 has a structure in which a photochromic layer 202 is formed on the surface of an optical substrate 201. Have. On the photochromic layer 202, a metal oxide thin film 300 is provided as a vapor-deposited thin film by a vapor deposition method through a buffer layer 600 . In the example of FIG. 1, the buffer layer 600 is formed of the primer layer 400 and the inorganic fine particle dispersion layer 500, but as described later, only the primer layer 400 can be used as the buffer layer 600, and the inorganic layer is inorganic. Only the fine particle dispersion layer 500 can be used as the buffer layer 600, and the primer layer 400 can also be provided on the inorganic fine particle dispersion layer 500.

尚、金属酸化物薄膜300は、後述するように、単層構造を有しているものであるが、かかる薄膜300は、所謂反射防止膜とは明確に異なっている。即ち、フォトクロミック層の表面に金属酸化物薄膜を形成する技術としては、高級グレードのレンズにおいて、レンズの表面反射率を低減し、ちらつきを抑え見やすくするために行なわれる反射防止処理がある。この反射防止処理により形成される反射防止膜は、屈折率の異なる金属酸化物からなる薄層を所定の順序で5層〜7層積層した多層構造を有するものであるが、本発明における金属酸化物薄膜は、積層構造とせず単層であり、表面反射率を低減させる反射防止機能を実質的に有していない Incidentally, the metal oxide thin film 300, as described below, but those that have a single So構 granulation, such thin film 300 is clearly different from the so-called anti-reflection film. That is, as a technique for forming a metal oxide thin film on the surface of a photochromic layer, there is an antireflection treatment performed in a high-grade lens to reduce the surface reflectance of the lens, to suppress flickering and to make it easy to see. The antireflection film formed by this antireflection treatment has a multilayer structure in which five to seven thin layers made of metal oxides having different refractive indexes are laminated in a predetermined order. The physical thin film is not a laminated structure but a single layer , and has substantially no antireflection function for reducing the surface reflectance.

[光学基板201]
光学基板201は、透明な板状体であり、表裏1対の主表面を有しており、該板状体は湾曲していてもよく、その厚さも必ずしも一定である必要は無い。例えば、本発明のフォトクロミック性光学物品をフォトクロミックレンズとして使用する場合には、この光学基板201は、レンズ形状を有するものとなる。尚、この光学基板201自体はフォトクロミック性を有していない。
[Optical substrate 201]
The optical substrate 201 is a transparent plate-like body, and has a pair of front and back main surfaces. The plate-like body may be curved, and the thickness thereof is not necessarily constant. For example, when the photochromic optical article of the present invention is used as a photochromic lens, the optical substrate 201 has a lens shape. The optical substrate 201 itself does not have photochromic properties.

また、透明な板状体の光学基板201は、透明性と適度な強度を確保できる限り、任意の材料、例えばプラスチックや、各種無機材料から形成されていてよい。このようなプラスチックとしては、各種の熱硬化性又は熱可塑性プラスチック樹脂、例えば、(メタ)アクリル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単量体又はジアリルフタレート単量体を硬化したアリル系樹脂;ポリイソシアネート単量体及びポリチオール単量体を硬化させたチオウレタン系樹脂;ウレタン系樹脂;チオエポキシ系樹脂;ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン等のオレフィン樹脂;エポキシ樹脂;ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂を例示することができる。また、無機材料としては、無機ガラス、石英ガラス、透光性セラミック等を例示することができる。   Further, the optical substrate 201 having a transparent plate-like body may be made of any material, for example, plastic or various inorganic materials as long as transparency and appropriate strength can be ensured. Such plastics include various thermosetting or thermoplastic resins such as (meth) acrylic resins; polycarbonate resins; allyl resins obtained by curing diethylene glycol bisallyl carbonate monomers or diallyl phthalate monomers. Thiourethane resin cured with polyisocyanate monomer and polythiol monomer; urethane resin; thioepoxy resin; polyester resin such as polyethylene terephthalate; olefin resin such as polypropylene, polyethylene and polystyrene; epoxy resin; Examples thereof include vinyl resins such as vinyl. Moreover, as an inorganic material, inorganic glass, quartz glass, translucent ceramic, etc. can be illustrated.

さらに光学基板201は、フォトクロミック層202との密着性を向上させるために、プライマー処理やプラズマ処理或いはコロナ放電処理等の表面処理が施されたものであってもよい。このような表面処理としては、例えば、塩基性水溶液又は酸性水溶液への含浸による化学的処理、研磨剤を用いた研磨処理、大気圧プラズマおよび低圧プラズマ等を用いたプラズマ処理等を挙げることができる。このような表面処理は、特にフォトクロミック層202をコーティング法により形成する場合に特に有用である。
Further, the optical substrate 201 may be subjected to surface treatment such as primer treatment, plasma treatment, or corona discharge treatment in order to improve adhesion to the photochromic layer 202. Examples of such surface treatment include chemical treatment by impregnation into a basic aqueous solution or acidic aqueous solution, polishing treatment using an abrasive, plasma treatment using atmospheric pressure plasma, low pressure plasma, and the like. . Such surface treatment is particularly useful when the photochromic layer 202 is formed by a coating method.

[フォトクロミック層202]
光学基板201の表面に形成されているフォトクロミック層202は、フォトクロミック化合物が分散した樹脂で構成される。このフォトクロミック層202の存在により、所定のフォトクロミック反応による色の可逆変化を有するものである。図1の例では、光学基板201の一方の面にのみフォトクロミック層202が形成されているが、用途に応じて、所定形状の光学基板201の全表面に形成されていてもよいし、一方の表面の全面に形成されていてもよいし、或いは一方の表面に部分的に形成されていてもよい。
[Photochromic layer 202]
The photochromic layer 202 formed on the surface of the optical substrate 201 is made of a resin in which a photochromic compound is dispersed. The presence of the photochromic layer 202 has a reversible change in color due to a predetermined photochromic reaction. In the example of FIG. 1, the photochromic layer 202 is formed only on one surface of the optical substrate 201, but may be formed on the entire surface of the optical substrate 201 having a predetermined shape, depending on the application. It may be formed on the entire surface, or may be partially formed on one surface.

本発明においては、フォトクロミック層202中に分散されているフォトクロミック化合物として、後述する一般式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物を使用することが極めて重要である。この化合物は、クロメン化合物の一種であり、発色、退色速度等のフォトクロミック特性に特に優れるフォトクロミック化合物として近年開発されたものである。また、該化合物は、酸化劣化に対する耐久性にも優れており、このようなインデノナフトピラン化合物を用いてフォトクロミック層202を形成することにより、フォトクロミック耐久性を格段に向上させることが可能となる。 In the present invention, as the photochromic compound dispersed in the photochromic layer 202, it is extremely important to use an indenonaphthopyran compound represented by the following general formula (1) . This compound is a kind of chromene compound and has been recently developed as a photochromic compound that is particularly excellent in photochromic properties such as color development and fading speed. Further, the compound is excellent in durability against oxidative degradation, and by forming the photochromic layer 202 using such an indenonaphthopyran compound, the photochromic durability can be remarkably improved. .

また、本発明においては、フォトクロミック層202の厚みを30〜50μm、特に30〜40μmの範囲に設定することも極めて重要である。先に述べたように、上記のインデノナフトピラン化合物が分散されたフォトクロミック層202の厚みを上記範囲に設定することにより、該化合物の酸化劣化に対する耐久性が十分に発揮され、後述する金属酸化物薄膜300の酸素遮断機能と相俟って、フォトクロミック耐久性を著しい向上がもたらされるのである。例えば、インデノナフトピラン化合物以外のフォトクロミック化合物を用いた場合には、酸化劣化によるフォトクロミック特性の低下が大きく、フォトクロミック耐久性の向上は得られず、インデノナフトピラン化合物を用いたとしても、フォトクロミック層の厚みが30μmよりも薄い場合には、金属酸化物薄膜300を透過するわずかな量の酸素による劣化の影響が無視できなくなり、やはりフォトクロミック耐久性の向上はもたらされない。また、フォトクロミック層の厚みが50μmより厚くなると、経済的でない他、フォトクロミックの耐久性向上効果も低下してしまう。おそらく、クラック等の欠陥が発生しやすくなり、金属酸化物薄膜300を透過するわずかな量の酸素が、物理的要因によりフォトクロミック層202の全体にわたって拡散してしまうためではないかと思われる。   In the present invention, it is also very important to set the thickness of the photochromic layer 202 in the range of 30 to 50 μm, particularly 30 to 40 μm. As described above, by setting the thickness of the photochromic layer 202 in which the above-mentioned indenonaphthopyran compound is dispersed within the above range, the durability against the oxidative deterioration of the compound is sufficiently exhibited, and metal oxidation described later is performed. Combined with the oxygen barrier function of the physical thin film 300, the photochromic durability is remarkably improved. For example, when a photochromic compound other than an indenonaphthopyran compound is used, the photochromic property is greatly reduced due to oxidative degradation, and the photochromic durability cannot be improved. Even if an indenonaphthopyran compound is used, the photochromic When the thickness of the layer is less than 30 μm, the influence of deterioration due to a slight amount of oxygen that passes through the metal oxide thin film 300 cannot be ignored, and the improvement of the photochromic durability is not brought about. In addition, when the thickness of the photochromic layer is greater than 50 μm, it is not economical and the effect of improving the durability of the photochromic is also reduced. Presumably, defects such as cracks are likely to occur, and a slight amount of oxygen that permeates the metal oxide thin film 300 is diffused throughout the photochromic layer 202 due to physical factors.

本発明で用いられる上述したインデノナフトピラン化合物としては、下記式(1)で示されるものが用いられる。 The indenonaphthopyran compound described above for use in the present invention, as needed use those represented by the following formula (1).

Figure 0004606215
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〔前記式(1)において、[In the above formula (1),
R 2626 、R, R 2727 、R, R 2828 およびRAnd R 3030 は、それぞれ、水酸基、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシメチル基、ヒドロキシメチル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記インデノナフト環に結合している置換もしくは非置換の複素環基、又は前記複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり;Are a hydroxyl group, an alkyl group, a trifluoromethyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, an alkoxymethyl group, a hydroxymethyl group, an aralkoxy group, an amino group, a substituted amino group, a cyano group, a nitro group, and a halogen atom, respectively. , An aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group having a nitrogen atom as a heteroatom and the nitrogen atom bonded to the indenonaphtho ring Or a condensed heterocyclic group obtained by condensing an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring to the heterocyclic group;
環Qは脂肪族炭化水素環基であり;Ring Q is an aliphatic hydrocarbon ring group;
y、y’、y”およびy”’は、各々、0〜2の整数であり;y, y ', y "and y"' are each integers from 0 to 2;
R 2929 は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基である〕Is a dialkylamino group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group having a nitrogen atom as a heteroatom and the nitrogen atom being bonded to the phenyl group]

発明において、上記式(1)で示されるインデノナフトピラン化合物は、1種単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる In the present invention, the indenonaphthopyran compound represented by the above formula (1) can be used alone or in combination of two or more .

ォトクロミック層202におけるインデノナフトピラン化合物の含有量は、良好な発色濃度及び耐久性が得られるという観点から0.1〜20質量%の範囲であるのが好適である。また、より耐久性を良く且つ初期着色を低減させるためには、この含有量は1〜10質量%の範囲であるのが特に好ましい。 The content of indenonaphthopyran compound in photochromic layer 202 is suitably in the range from the point of view of 0.1 to 20 wt% of good color density and durability. In order to improve durability and reduce initial coloring, the content is particularly preferably in the range of 1 to 10% by mass.

また、フォトクロミック層202には、フォトクロミックレンズの色調をグレー及びブラウン等の中間色に調整する等の理由から、前記式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物に加えて、他のフォトクロミック化合物が分散されていてもよい。このような他のフォトクロミック化合物としては、例えばフルギミド化合物、スピロオキサジン化合物、クロメン化合物、前記式(1)で表されるもの以外のインデノナフトピラン化合物等の公知のフォトクロミック化合物を、目的とする発色色調に応じて1種単独で或いは2種以上の組み合わせで、上記式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物と併用することができる。 In addition to the indenonaphthopyran compound represented by the above formula (1) , the photochromic layer 202 contains other photochromic compounds in order to adjust the color tone of the photochromic lens to an intermediate color such as gray and brown. It may be distributed. Examples of such other photochromic compounds include known photochromic compounds such as fulgimide compounds, spirooxazine compounds, chromene compounds, and indenonaphthopyran compounds other than those represented by the formula (1). Depending on the color tone, it can be used alone or in combination of two or more with the indenonaphthopyran compound represented by the above formula (1) .

上記のフルギミド化合物、スピロオキサジン化合物およびクロメン化合物としては、例えば特開平2−28154号公報、特開昭62−288830号公報、WO94/22850号明細書、WO96/14596号明細書などに記載されている化合物が使用できる。また、特開2001-114775号、特開2001-031670号、特開2001-011067号、特開2001-011066号、特開2000-347346号、特開2000-344762号、特開2000-344761号、特開2000-327676号、特開2000-327675号、特開2000-256347号、特開2000-229976号、特開2000-229975号、特開2000-229974号、特開2000-229973号、特開2000-229972号、特開2000-219687号、特開2000-219686号、特開2000-219685号、特開平11-322739号、特開平11-286484号、特開平11-279171号、特開平10-298176号、特開平09-218301号、特開平09-124645号、特開平08-295690号、特開平08-176139号、特開平08-157467号等に記載されたフォトクロミック化合物も使用することができる。   Examples of the fulgimide compound, spirooxazine compound and chromene compound described in JP-A-2-28154, JP-A-62-228830, WO94 / 22850, WO96 / 14596, etc. Can be used. Also, JP 2001-114775, JP 2001-031670, JP 2001-011067, JP 2001-011066, JP 2000-347346, JP 2000-344762, JP 2000-344761. JP, 2000-327676, JP 2000-327675, JP 2000-256347, JP 2000-229976, JP 2000-229975, JP 2000-229974, JP 2000-229973, JP 2000-229972, JP 2000-219687, JP 2000-219686, JP 2000-219685, JP 11-322739, JP 11-286484, JP 11-279171, Special The photochromic compounds described in Kaihei 10-298176, JP 09-218301, JP 09-124645, JP 08-295690, JP 08-176139, JP 08-157467, etc. are also used. be able to.

本発明においては、インデノナフトピラン化合物と併用する各種のフォトクロミック化合物の中でも、フォトクロミック特性の耐久性向上の効果が高く、さらに発色濃度および退色速度が良好であり、インデノナフトピラン化合物の優れた特性を損なわないという点から、クロメン化合物が好適である。このようなクロメン化合物の具体例としては、国際公開94/22850号パンフレット、国際公開98/45281号パンフレット、米国特許5,932,725号、米国特許6,525,194号等を挙げることができるが、最も好適なクロメン化合物としては、下記で示されるクロメン化合物を例示できる。   In the present invention, among various photochromic compounds used in combination with indenonaphthopyran compounds, the effect of improving the durability of photochromic properties is high, the color density and fading speed are also good, and the indenonaphthopyran compounds are excellent. A chromene compound is preferred because it does not impair the properties. Specific examples of such chromene compounds include WO94 / 22850 pamphlet, WO98 / 45281 pamphlet, US Pat. No. 5,932,725, US Pat. No. 6,525,194, and the like. However, examples of the most suitable chromene compound include chromene compounds shown below.

Figure 0004606215
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これらの他のフォトクロミック化合物は、一般に、前述した一般式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物の優れた特性を損なわない程度の量で使用されるべきであり、一般に、フォトクロミック層202中の含有量を、一般式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物の75質量%以下とすることが好ましい。 These other photochromic compounds should generally be used in an amount that does not impair the excellent properties of the indenonaphthopyran compound represented by the general formula (1) described above. The content of is preferably 75% by mass or less of the indenonaphthopyran compound represented by the general formula (1) .

本発明において、上述したフォトクロミック層202は、それ自体公知の含浸法或いはコーティング法によって光学基板201の表面に形成することができる。   In the present invention, the above-described photochromic layer 202 can be formed on the surface of the optical substrate 201 by a known impregnation method or coating method.

含浸法では、前述したフォトクロミック化合物(インデノナフトピラン化合物)をバインダーとなる樹脂とともに所定の有機溶媒に溶解乃至分散させたコート液を調製し、このコート液中に光学基板201を浸漬することによりコート液の膜を形成し、次いで乾燥することによりフォトクロミック層202が形成され、例えば、米国特許第5739243号明細書に開示されている含浸法が好適に採用される。一方、コーティング法では、フォトクロミック化合物及び重合性単量体を含む硬化性組成物からなるそれ自体公知のコーティング剤を、前述した光学基板201の表面(必要により前述した表面処理が行われている)に塗布して重合硬化させることにより、フォトクロミック層202が形成される。特に、コーティング剤としては、例えば国際公開第03/011967号パンフレットに開示されている硬化性組成物からなるものが好適である。本発明においては、既に述べた通り、光学基板201に対する制約が少ないなどの点で、コーティング法によりフォトクロミック層202を形成することが好ましい。   In the impregnation method, a coating liquid in which the above-described photochromic compound (indenonaphthopyran compound) is dissolved or dispersed in a predetermined organic solvent together with a resin serving as a binder is prepared, and the optical substrate 201 is immersed in the coating liquid. A photochromic layer 202 is formed by forming a coating liquid film and then drying, and for example, an impregnation method disclosed in US Pat. No. 5,739,243 is suitably employed. On the other hand, in the coating method, a known coating agent made of a curable composition containing a photochromic compound and a polymerizable monomer is used as the surface of the optical substrate 201 described above (the surface treatment described above is performed if necessary). The photochromic layer 202 is formed by applying and polymerizing and curing. In particular, the coating agent is preferably made of a curable composition disclosed in, for example, WO 03/011967 pamphlet. In the present invention, as already described, it is preferable to form the photochromic layer 202 by a coating method in that there are few restrictions on the optical substrate 201.

尚、コーティング法によりフォトクロミック層202を形成する場合、コーティング剤(硬化性組成物)中のフォトクロミック化合物、特にインデノナフトピラン化合物は、硬化により形成されるフォトクロミック層202中の含有量が前述した範囲となるような量で配合され、また、フォトクロミック層202の厚みを前述した範囲(30〜50μm)に調整し得るように、コーティング剤の粘度(20℃)は20〜1000cP、特に50〜500cPの範囲にあるのがよい。さらに、コーティング剤中の重合性単量体としては、種々のラジカル重合性単量体を使用することができるが、少なくともその一部として、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのエポキシ系モノマーや、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランなどの分子内にシラノール基または加水分解によりシラノール基を生成する基を有するシリル系モノマーを用いることが、光学基板201に対する密着性を向上させるという点で好適である。   When the photochromic layer 202 is formed by a coating method, the content of the photochromic compound in the coating agent (curable composition), particularly the indenonaphthopyran compound, in the photochromic layer 202 formed by curing is in the above-described range. The viscosity (20 ° C.) of the coating agent is 20 to 1000 cP, particularly 50 to 500 cP, so that the thickness of the photochromic layer 202 can be adjusted to the above-described range (30 to 50 μm). It should be in range. Furthermore, as the polymerizable monomer in the coating agent, various radical polymerizable monomers can be used, but at least a part thereof is an epoxy monomer such as glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate, γ- It is preferable to use a silyl-based monomer having a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis, such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, in terms of improving adhesion to the optical substrate 201.

また、上記のコーティング剤中には、重合硬化形態に応じて、種々の過酸化物やアゾ化合物などのラジカル重合開始剤やベンゾインメチルエーテルなどの光重合開始剤が配合され、さらに、フォトクロミック化合物の耐久性の向上、発色速度の向上、退色速度の向上や密着性向上のために、或いは色調調整のために、硬化触媒、界面活性剤、酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色防止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、可塑剤等の添加剤を添加されていてもよい。
前記ラジカル重合性単量体として、特に本発明の耐久性向上効果が顕著に現れること及びフォトクロミック特性及びフォトクロミック樹脂層の密着性が良好であるとの観点から好適に用いられる配合例を例示すると、
全ラジカル重合性単量体100重量部に対して、
A)エポキシ系モノマーまたは/及びシリル系モノマーが、0.1〜30重量部
B)ラジカル重合性基を3つ以上有する単量体を少なくとも5重量部含んでなる、中硬度又は高硬度モノマーが5〜65重量部、
C)低硬度モノマーが5〜90重量部配合されていることが特に好ましい。
Further, in the above coating agent, various polymerization initiators such as radical polymerization initiators such as peroxides and azo compounds and photopolymerization initiators such as benzoin methyl ether are blended, and further, photochromic compound Curing catalysts, surfactants, antioxidants, radical scavengers, UV stabilizers, UV absorbers, to improve durability, improve color development speed, improve fading speed and adhesion, or adjust color tone Additives such as an agent, a release agent, an anti-coloring agent, an antistatic agent, a fluorescent dye, a dye, a pigment, a fragrance, and a plasticizer may be added.
As an example of the radically polymerizable monomer, a compounding example that is suitably used from the viewpoint that the durability improving effect of the present invention is particularly noticeable and that the photochromic properties and the adhesion of the photochromic resin layer are good,
For 100 parts by weight of all radical polymerizable monomers,
A) An epoxy monomer or / and a silyl monomer are 0.1 to 30 parts by weight B) A medium or high hardness monomer comprising at least 5 parts by weight of a monomer having three or more radical polymerizable groups 5 to 65 parts by weight,
C) It is particularly preferable that 5 to 90 parts by weight of the low hardness monomer is blended.

ここで、B)及びC)の、高、中及び低高度モノマーとは、単独重合体のLスケールロックウェル硬度が60以上、特に65〜130を示すものを高硬度モノマーとして分類でき、単独重合体のLスケールロックウェル硬度が40以下を示すものが低硬度モノマーである。更に単独硬化体のLスケールロックウェル硬度が40を超え60未満を示すモノマーが中硬度モノマーと定義できる。高硬度モノマーは、硬化後の硬化体の耐溶剤性、硬度、耐熱性等を向上させる効果を有し、低硬度モノマーは、硬化体を強靭なものとしまたフォトクロミック化合物の退色速度を向上させる効果を有し、更に必要に応じて中硬度モノマーを組み合わせることで、本発明の耐久性向上効果に優れ且つフォトクロミック特性、強度に優れたフォトクロミック樹脂を与える。   Here, the high, medium and low high monomers of B) and C) can be classified as those having a homopolymer L scale Rockwell hardness of 60 or more, particularly 65 to 130 as a high hardness monomer. A low-hardness monomer has a combined L-scale Rockwell hardness of 40 or less. Furthermore, a monomer having an L scale Rockwell hardness of more than 40 and less than 60 of a single cured product can be defined as a medium hardness monomer. High-hardness monomer has the effect of improving the solvent resistance, hardness, heat resistance, etc. of the cured product after curing, and low-hardness monomer has the effect of making the cured product tough and improving the fading speed of the photochromic compound. Further, by combining a medium hardness monomer as necessary, a photochromic resin excellent in the durability improving effect of the present invention and having excellent photochromic properties and strength is provided.

ここで、Lスケールロックウェル硬度とは、JIS−B7726に従って測定される硬度を意味する。各モノマーの単独重合体について該測定を行うことにより上記硬度の条件を満足するかどうかを簡単に判断することができる。具体的には、モノマーを重合させて厚さ2mmの硬化体を得、これを25℃の室内で1日保持した後にロックウェル硬度計を用いて、Lスケールロックウェル硬度を測定することにより容易に確認することができる。なお、上記Lスケールロックウェル硬度の測定に供する重合体は、仕込んだ単量体の有す重合性基の90%以上が重合する条件で注型重合して得たものである。このような条件で重合された硬化体のLスケールロックウェル硬度は、ほぼ一定の値として測定される。   Here, L scale Rockwell hardness means hardness measured according to JIS-B7726. It is possible to easily determine whether or not the above-mentioned hardness condition is satisfied by performing the measurement on the homopolymer of each monomer. Specifically, the monomer is polymerized to obtain a cured product having a thickness of 2 mm, and this is easily maintained by measuring the L scale Rockwell hardness using a Rockwell hardness meter after holding it in a room at 25 ° C. for one day. Can be confirmed. The polymer used for the measurement of the L scale Rockwell hardness is obtained by cast polymerization under a condition in which 90% or more of the polymerizable groups of the charged monomer are polymerized. The L scale Rockwell hardness of the cured body polymerized under such conditions is measured as a substantially constant value.

前記高硬度モノマー、低硬度モノマー及び中硬度モノマーとしては、夫々前記特許文献国際公開第03/011967号に開示されているフォトクロミックコーティング剤で使用されている高硬度モノマー、低硬度モノマー及び中硬度モノマーと同じものが使用できる。   As the high hardness monomer, low hardness monomer and medium hardness monomer, the high hardness monomer, low hardness monomer and medium hardness monomer used in the photochromic coating agent disclosed in the above-mentioned patent document WO 03/011967, respectively. The same can be used.

エポキシ系モノマー或いはシリル系モノマーは、基材、プライマー層或いはハードコート層等のその他の構成要素との密着性向上成分として働くが、密着性を更に向上させる目的で、アミン化合物からなる硬化触媒を用いるのが特に好適である。硬化触媒の配合量は、ラジカル重合性単量体100重量部に対してさらには1〜10重量部の範囲であるのが好適である。   Epoxy monomer or silyl monomer acts as a component for improving adhesion to other components such as a substrate, primer layer or hard coat layer, but for the purpose of further improving adhesion, a curing catalyst comprising an amine compound is used. It is particularly preferred to use it. The amount of the curing catalyst is preferably in the range of 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the radical polymerizable monomer.

このようなコーティング剤は、コーティング法によりフォトクロミックレンズを製造する場合に好適なコーティング剤として、本発明者等が提案した出願(国際公開第03/011967号パンフレット、特願2002−354291及び特願2002−372835号)に詳述されている。
Such a coating agent is an application proposed by the present inventors as a coating agent suitable for producing a photochromic lens by a coating method (WO 03/011967 pamphlet, Japanese Patent Application No. 2002-354291 and Japanese Patent Application No. 2002). -372835).

[金属酸化物薄膜300]
金属酸化物薄膜300は、フォトクロミック層202への酸素透過を遮断するために形成する蒸着薄膜であり、その厚みは0.01〜μmの範囲であり、特に好ましくは0.01〜0.5μmの範囲である。この範囲よりも小さい膜厚のときには酸素に対するバリアー性が低下し、フォトクロミック耐久性を向上させることが困難となり、膜厚がこの範囲よりも大きいときには、この薄膜300にクラックなどの外観不良が生じやすくなる。
[Metal oxide thin film 300]
The metal oxide thin film 300 is a deposited thin film formed to block oxygen permeation to the photochromic layer 202, and has a thickness in the range of 0.01 to 1 μm , particularly preferably 0.01 to 0.5 μm. Range . When the film thickness is smaller than this range, the barrier property against oxygen is lowered, and it becomes difficult to improve the photochromic durability. When the film thickness is larger than this range, appearance defects such as cracks are likely to occur in the thin film 300. Become.

このような金属薄膜300は、透明性が確保されている限り、種々の金属酸化物から形成されていてよい。例えば、この金属酸化物薄膜300は、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、或いはこれらの酸化物成分を含む複合金属酸化物等から形成される。これらの中でも、着色を有さないという点から、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属酸化物や、酸化チタン/酸化ジルコニウム/酸化スズ系複合金属酸化物、酸化チタン/酸化ジルコニウム/酸化珪素系複合金属酸化物等が好適であり、太陽光の暴露による耐久性を向上させる効果が高いという観点から、酸化珪素、酸化チタン及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも1種から形成されている薄膜が特に好適であり、酸化珪素からなる薄膜が最も好適である。また、この薄膜300は、単層構造として設ける。従って、このような金属酸化物薄膜300は、先にも述べたように、5層以上の積層構造を有する反射防止膜とは明確に異なり、反射防止膜よりも簡単に形成でき、コスト面で有利である。 Such a metal thin film 300 may be formed of various metal oxides as long as transparency is ensured. For example, the metal oxide thin film 300 is formed of silicon oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, or a composite metal oxide containing these oxide components. Among these, at least one metal oxide selected from the group consisting of silicon oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide and zinc oxide, and titanium oxide / zirconium oxide / tin oxide from the point of not having coloring. From the viewpoint that the composite metal oxide, titanium oxide / zirconium oxide / silicon oxide composite metal oxide, etc. are suitable and the effect of improving the durability by exposure to sunlight is high, silicon oxide, titanium oxide and zinc oxide A thin film made of at least one selected from the group consisting of is particularly suitable, and a thin film made of silicon oxide is most preferred. The thin film 300 is provided as a single layer structure. Therefore, as described above, such a metal oxide thin film 300 is clearly different from an antireflection film having a laminated structure of five or more layers, and can be formed more easily than an antireflection film. It is advantageous.

上記の金属酸化物薄膜は、化学蒸着法(CVD)、物理蒸着法(PVD)、真空蒸着法などの蒸着法により作成する。すなわち、金属酸化物薄膜は蒸着薄膜として形成することにより、光学基板の耐熱温度よりも低温で成膜しやすくなり好適である。 The metal oxide thin film is formed by a vapor deposition method such as chemical vapor deposition (CVD), physical vapor deposition (PVD), or vacuum vapor deposition. That is, the metal oxide thin film is preferably formed as a vapor-deposited thin film because it can be easily formed at a temperature lower than the heat resistant temperature of the optical substrate.

[緩衝層600]
本発明においては、上述した金属酸化物薄膜300は、図1に示すように緩衝層600を介してフォトクロミック層202上に設ける。即ち、前述したインデノナフトピラン化合物は、優れたフォトクロミック性を有するフォトクロミック化合物であるが、このようなフォトクロミック化合物を分散させたフォトクロミック層202の上に、直接、金属酸化物薄膜300を蒸着法により形成すると、フォトクロミック性の応答速度が低下するという現象が生じる。
[Buffer layer 600]
In the present invention, the above-described metal oxide thin film 300 is provided on the photochromic layer 202 via the buffer layer 600 as shown in FIG. That is, the above-described indenonaphthopyran compound is a photochromic compound having excellent photochromic properties, but the metal oxide thin film 300 is directly deposited on the photochromic layer 202 in which such a photochromic compound is dispersed by a vapor deposition method. When formed, a phenomenon that the response speed of the photochromic property is lowered occurs.

このような現象は、インデノナフトピラン化合物が、前述した一般式(1)で表されるもの、すなわち、式(1)中のR 29 に相当する基がアミノ基を含有している場合(一般式(1)のR 29 は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基)において顕著であり、応答速度の低下傾向は最も大きい。これらのインデノナフトピランでは、分子の自由度が、蒸着によって密に形成された金属酸化物薄膜300によって大きく制限されてしまい、この結果として、フォトクロミック応答速度が大きく低下してしまうのである。しかるに、フォトクロミック層202と金属酸化物薄膜300との間に緩衝層600を介在させることにより、上記のフォトクロミック化合物の自由度が金属酸化物薄膜300によって制限されず、応答速度の低下を有効に回避することが可能となる。 Such a phenomenon occurs when the indenonaphthopyran compound is represented by the general formula (1) described above, that is, when the group corresponding to R 29 in the formula (1) contains an amino group ( R 29 in the general formula (1) may be more pronounced der dialkylamino group, a nitrogen atom in the substituted or unsubstituted heterocyclic group and the nitrogen atom has as a hetero atom is bonded to the phenyl group), The tendency for the response speed to decrease is the largest. In these indenonaphthopyrans, the degree of molecular freedom is largely limited by the metal oxide thin film 300 formed densely by vapor deposition, and as a result, the photochromic response speed is greatly reduced. However, by interposing the buffer layer 600 between the photochromic layer 202 and the metal oxide thin film 300, the degree of freedom of the photochromic compound is not limited by the metal oxide thin film 300, and a reduction in response speed is effectively avoided. It becomes possible to do.

従って、このような緩衝層600の厚みは、0.1〜20μmの範囲内とすべきである。この厚みが0.1μmよりも薄いと、フォトクロミック化合物に適度な自由度を与えることができず、金属酸化物薄膜300による応答速度の低下を免れず、一方、この厚みが20μmを越えると、クラック等の欠陥を生じ易くなってしまうし、また応答速度の低下を抑制する効果が増大するわけでもない。   Therefore, the thickness of the buffer layer 600 should be in the range of 0.1 to 20 μm. If this thickness is less than 0.1 μm, a moderate degree of freedom cannot be given to the photochromic compound, and a reduction in response speed due to the metal oxide thin film 300 is unavoidable. On the other hand, if this thickness exceeds 20 μm, cracks will occur. Such a defect is likely to occur, and the effect of suppressing a decrease in response speed does not increase.

本発明において、このような緩衝層600は、プライマー層や無機微粒子分散層とすることができ、総厚みが上述した範囲内である限り、プライマー層と無機微粒子分散層との積層構造を緩衝層600とすることもでき、例えば、図1に示されているように、プライマー層400の上に無機微粒子分散層500を形成し、或いは、このような無機微粒子分散層500の上にさらにプライマー層400を設けた積層構造を緩衝層600として機能させることもできる。   In the present invention, such a buffer layer 600 can be a primer layer or an inorganic fine particle dispersed layer, and the laminated structure of the primer layer and the inorganic fine particle dispersed layer has a buffer layer as long as the total thickness is within the above-described range. For example, as shown in FIG. 1, an inorganic fine particle dispersion layer 500 is formed on the primer layer 400, or a primer layer is further provided on the inorganic fine particle dispersion layer 500. The stacked structure provided with 400 can also function as the buffer layer 600.

このような緩衝層600として機能するプライマー層400は、密着性向上や耐衝撃性向上を目的とする公知のプライマーを用いて形成されるものであり、例えばエポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等のプライマーを含む塗布液を使用し、スピンコーティングやディッピングにより塗布し、加熱することにより形成することができる。このようなプライマー層400の厚みは、通常1〜5μm程度である。   The primer layer 400 functioning as such a buffer layer 600 is formed using a known primer for the purpose of improving adhesion and impact resistance, and includes, for example, an epoxy resin, a urethane resin, and an acrylic resin. It can be formed by using a coating solution containing a primer such as resin, applying by spin coating or dipping, and heating. The thickness of such a primer layer 400 is usually about 1 to 5 μm.

また、緩衝層600として機能する無機粒子分散層500は、無機粒子をバインダー樹脂に分散させたものであり、無機粒子が分散されているため、特に蒸着により形成される金属酸化物薄膜300に対する密着性が高いという特性を有している。このような無機粒子分散層500は、例えばシリコーン系コーティング剤のように、無機化合物のコロイド粒子とバインダーとなる加水分解可能な有機ケイ素化合物またはその加水分解物とを主成分とするコーティング剤を塗布し、硬化させることにより形成することができる。   In addition, the inorganic particle dispersion layer 500 functioning as the buffer layer 600 is obtained by dispersing inorganic particles in a binder resin, and since inorganic particles are dispersed, the adhesion to the metal oxide thin film 300 formed particularly by vapor deposition. It has the characteristic that the property is high. The inorganic particle dispersion layer 500 is coated with a coating agent mainly composed of a colloidal particle of an inorganic compound and a hydrolyzable organosilicon compound as a binder or a hydrolyzate thereof, such as a silicone coating agent. Then, it can be formed by curing.

上記コーティング剤における無機化合物のコロイド粒子としては、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン等の金属酸化物、及びこれら金属酸化物を含む複合酸化物を挙げることができ、該コーティング剤中に、固形分換算で20乃至70質量%、特に30乃至60質量%の範囲で含有させるのがよい。このコロイド粒子含量が上記範囲よりも多いと、無機粒子分散層500とフォトクロミック層202やプライマー層400との密着性が低下する傾向があり、場合によっては、フォトクロミック層202上に直接無機粒子分散層500を形成したとき、緩衝層としての機能が低下し、フォトクロミック化合物の応答性低下防止機能が損なわれてしまうこともある。   Examples of the colloidal particles of the inorganic compound in the coating agent include metal oxides such as silicon oxide, zinc oxide, cerium oxide, zirconium oxide, iron oxide, and titanium oxide, and composite oxides containing these metal oxides. In the coating agent, it is preferably contained in the range of 20 to 70% by mass, particularly 30 to 60% by mass in terms of solid content. When the colloidal particle content is larger than the above range, the adhesion between the inorganic particle dispersion layer 500 and the photochromic layer 202 or the primer layer 400 tends to decrease. In some cases, the inorganic particle dispersion layer is directly formed on the photochromic layer 202. When 500 is formed, the function as a buffer layer is lowered, and the responsiveness reduction preventing function of the photochromic compound may be impaired.

また、加水分解可能な有機ケイ素化合物またはその加水分解物としては、一般にシランカップリング剤として使用されているものが好適に使用される。このような有機ケイ素化合物の具体例としては、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、アリルトリアルコキシシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラアセトキシシラン等を例示することができる。このような有機ケイ素化合物またはその加水分解物からなるバインダーは、固形分換算で30乃至80質量%となる程度の量でコーティング剤中に配合されているのがよい。   Moreover, what is generally used as a silane coupling agent is used suitably as a hydrolysable organosilicon compound or its hydrolyzate. Specific examples of such organosilicon compounds include γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, vinyltrialkoxysilane, allyltrialkoxysilane, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraacetoxysilane and the like can be exemplified. The binder made of such an organosilicon compound or a hydrolyzate thereof is preferably blended in the coating agent in an amount of 30 to 80% by mass in terms of solid content.

また、上記のシリコーン系コーティング剤には、前述したもの以外に、他の添加剤、例えば、酸、レベリング剤、硬化触媒を含有していてもよく、さらに有機溶媒を含有していてもよい。   Moreover, in addition to what was mentioned above, said silicone type coating agent may contain other additives, for example, an acid, a leveling agent, a curing catalyst, and may further contain an organic solvent.

酸は、バインダーとなる有機ケイ素化合物の加水分解及び縮合を促進させるために使用されるものであり、塩酸等の鉱酸が好適に使用される。このような酸は、一般に、有機ケイ素化合物1モルに対して1〜10ミリモルの量で使用される。   The acid is used to promote hydrolysis and condensation of the organosilicon compound serving as a binder, and a mineral acid such as hydrochloric acid is preferably used. Such an acid is generally used in an amount of 1 to 10 mmol per 1 mol of the organosilicon compound.

有機溶媒は、コーティング剤の粘度を調整して塗布性を高めるために使用され、或いは前述したコロイド粒子の分散媒(ゾル)として使用されるものであり、メタノール、イソプロパノール、t−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジオキサンが好適に使用できる。このような有機溶媒のコーティング剤中含量は、一般に、40〜90重量%である。   The organic solvent is used to adjust the viscosity of the coating agent to enhance the coating property, or is used as a dispersion medium (sol) for the colloidal particles described above, and includes methanol, isopropanol, t-butyl alcohol, di-acid. Acetone alcohol, ethylene glycol monoisopropyl ether, and dioxane can be preferably used. The content of the organic solvent in the coating agent is generally 40 to 90% by weight.

レベリング剤としては、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、デカグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール・ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等を挙げることができる。このようなレベリング剤の含有量は、コーティング剤当り0.01〜3質量%程度である。   Leveling agents include sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, decaglycerin fatty acid ester, propylene glycol / pentaerythritol fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbit fatty acid ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid Examples thereof include esters and polyoxyethylene alkyl ethers. The content of such a leveling agent is about 0.01 to 3% by mass per coating agent.

また、硬化触媒は、加水分解された有機ケイ素化合物の重縮合を促進して硬化させるものであり、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の過塩素酸類、Cu(II)、Zn(II)、Co(II)、Ni(II)、Be(II)、Ce(III)、Ta(III)、Ti(III)、Mn(III)、La(III)、Cr(III)、V(III)、Co(III)、Fe(III)、Al(III)、Ce(IV)、Zr(IV)、V(IV)等を中心原子とするアセチルアセトナート;アミン、グリシン等のアミノ酸;ルイス酸;有機金属塩;等が好適に使用される。これらの硬化触媒は、固形分当り、0.1〜3重量%の量でコーティング剤中に添加される。   Further, the curing catalyst is to accelerate and cure the polycondensation of the hydrolyzed organosilicon compound, and perchloric acids such as perchloric acid, ammonium perchlorate and magnesium perchlorate, Cu (II), Zn (II), Co (II), Ni (II), Be (II), Ce (III), Ta (III), Ti (III), Mn (III), La (III), Cr (III), Acetylacetonate with V (III), Co (III), Fe (III), Al (III), Ce (IV), Zr (IV), V (IV), etc. as the central atom; amino acids such as amine and glycine Lewis acid; organometallic salt; etc. are preferably used. These curing catalysts are added to the coating agent in an amount of 0.1 to 3% by weight per solid content.

このような無機粒子分散層500の厚みは、通常1〜5μmである。   The thickness of the inorganic particle dispersion layer 500 is usually 1 to 5 μm.

尚、上述した無機粒子分散層500には、所謂プラスチックレンズ等の表面に設けられるハードコート膜を形成するためのコーティング剤を用いて形成することもできるが、ハードコート膜として設けられるものではないため、コーティング剤中の無機粒子含量は、ハードコート膜用コーティング剤のそれよりも少量であっても構わない。また、無機粒子分散層500がハードコート膜と同程度の無機粒子含量を有する時には、このような無機粒子分散層500は、必要により、ハードコート膜として金属酸化物薄膜300の表面に設けることができる。   In addition, although it can also form in the inorganic particle dispersion layer 500 mentioned above using the coating agent for forming the hard-coat film | membrane provided in the surface of what is called a plastic lens etc., it is not provided as a hard-coat film | membrane. Therefore, the content of inorganic particles in the coating agent may be smaller than that of the coating agent for hard coat film. Further, when the inorganic particle dispersion layer 500 has the same inorganic particle content as that of the hard coat film, such an inorganic particle dispersion layer 500 may be provided on the surface of the metal oxide thin film 300 as a hard coat film, if necessary. it can.

以下の実施例及び比較例において、次のフォトクロミック化合物を用いた。
インデノナフトピラン(a):
In the following examples and comparative examples, the following photochromic compounds were used.
Indenonaft Piran (a):

Figure 0004606215
Figure 0004606215

インデノナフトピラン(b): Indenonaft Piran (b):

Figure 0004606215
Figure 0004606215

クロメン(A): Chromen (A):

Figure 0004606215
Figure 0004606215

クロメン(B): Chromen (B):

Figure 0004606215
Figure 0004606215

クロメン(C): Chromen (C):

Figure 0004606215
Figure 0004606215

また、実施例及び比較例で得られたフォトクロミック性光学物品についてのフォトクロミック特性は、以下の項目について行なった。
(1)最大吸収波長(λmax):
浜松ホトニクス製キセノンランプL−2380(300mW)を用い、エアロマスフィルター(コーニング社製)を介して、下記の照射条件で試料のフォトクロミック性光学物品に、120秒間光照射して発色させた。
Moreover, the photochromic characteristic about the photochromic optical article obtained by the Example and the comparative example was performed about the following items.
(1) Maximum absorption wavelength (λmax):
Using a xenon lamp L-2380 (300 mW) manufactured by Hamamatsu Photonics, the sample photochromic optical article was irradiated with light through an aeromass filter (manufactured by Corning) for 120 seconds under the following irradiation conditions to cause color development.

光照射条件;
温度:20±1℃
表面でのビーム強度
365nm=2.4mW/cm
254nm=24μm/cm
この時の最大吸収波長(λmax)を(株)大塚電子工業製の分光光度計(瞬間マルチチャンネルフォトディテクターMCPD1000)により求めた。なお、最大吸収波長は、発色時の色調に関係する。
(2)発色濃度(Abs.):
前記と同様に試料のフォトクロミック性光学物品に120秒間光照射し、その最大吸収波長(λmax)における吸光度(ε120)を測定し、さらに、光照射していない状態の該光学物品の該波長における吸光度(ε)を測定し、両者の差(ε120−ε)を求めこれを発色濃度Aとした。この値が高いほどフォトクロミック性が優れているといえる。
(3)耐久性:
得られたフォトクロミック性光学物品を、スガ試験器(株)製キセノンウェザーメーターX25(フェードメーター)により50時間促進劣化させた。この促進劣化前後で、発色濃度を測定し、下記式により、残存率を求め、発色の耐久性の指標とした。
Light irradiation conditions;
Temperature: 20 ± 1 ° C
Beam intensity at the surface
365 nm = 2.4 mW / cm 2
254 nm = 24 μm / cm 2
The maximum absorption wavelength (λmax) at this time was determined with a spectrophotometer (instant multichannel photodetector MCPD1000) manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The maximum absorption wavelength is related to the color tone at the time of color development.
(2) Color density (Abs.):
In the same manner as described above, the photochromic optical article of the sample was irradiated with light for 120 seconds, the absorbance (ε 120 ) at the maximum absorption wavelength (λmax) was measured, and further, the optical article at the wavelength of the optical article not irradiated with light was measured. Absorbance (ε 0 ) was measured, the difference between the two (ε 1200 ) was determined, and this was defined as the color density A. It can be said that the higher this value, the better the photochromic properties.
(3) Durability:
The obtained photochromic optical article was accelerated and deteriorated for 50 hours by a Xenon weather meter X25 (fade meter) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. The color density was measured before and after this accelerated deterioration, and the residual rate was determined by the following formula, which was used as an index of color durability.

残存率(%)=(A50/A)×100
:促進劣化前の発色濃度
50:促進劣化後の発色濃度
この残存率が高いほど発色の耐久性が高い。
(4)黄色度(イエローインデックス;YI):
上記と同様に50時間の劣化促進試験を行ない、劣化促進前後でのフォトクロミック性光学物品の発色前(フォトクロミック化合物が未発色の状態)での黄色度の変化(ΔYI)を、下記式により求めた。
Residual rate (%) = (A 50 / A 0 ) × 100
A 0 : Color density before accelerated deterioration A 50 : Color density after accelerated deterioration The higher the residual ratio, the higher the durability of color development.
(4) Yellowness (Yellow Index; YI):
A 50-hour degradation acceleration test was performed in the same manner as described above, and the change in yellowness (ΔYI) before and after color development of the photochromic optical article before and after degradation acceleration (the photochromic compound was not colored) was determined by the following formula. .

△YI=YI50−YI
YI;劣化促進前の黄色度
YI50;劣化促進後の黄色度
なお、黄色度は、スガ試験機(株)製の色差計(SM−4)を用いて測定した。YI値が高いほど、黄色度が強く、△YI値が大きいほど、劣化前後での黄変度が大きいことを示す。
(5)退色速度:
前記と同様に試料のフォトクロミック性光学物品に120秒間光照射し、光照射を止めた時点から、該光学物品の最大吸収波長(λmax)における吸光度が先に測定された発色濃度Aの半分の値になるまでの時間(t1/2;分)を測定し、この時間(t1/2)を退色速度として評価した。この時間(t1/2)が短い程、フォトクロミック性が優れている。
実施例1
ビスエチレングリコールジアリルカーボネート硬化体からなる2mm厚みのレンズ基材(屈折率=1.50)を用意し、さらにプライマーとして竹林化学工業株式会社製プライマーPFR4(湿気硬化型ウレタンプライマー)を用意した。
ΔYI = YI 50 −YI 0
YI 0 ; yellowness before accelerating deterioration YI 50 ; yellowness after accelerating deterioration Yellowness was measured using a color difference meter (SM-4) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. The higher the YI value, the stronger the yellowness, and the larger the ΔYI value, the greater the degree of yellowing before and after deterioration.
(5) Fading speed:
As described above, the sample photochromic optical article was irradiated with light for 120 seconds, and the light absorption at the maximum absorption wavelength (λmax) of the optical article was half the value of the previously measured color density A after the light irradiation was stopped. The time (t 1/2 ; min) until the time of the measurement was measured, and this time (t 1/2 ) was evaluated as the fading speed. The shorter this time (t 1/2 ), the better the photochromic properties.
Example 1
A 2 mm-thick lens base material (refractive index = 1.50) made of a cured bisethylene glycol diallyl carbonate was prepared, and a primer PFR4 (moisture-curable urethane primer) manufactured by Takebayashi Chemical Industry Co., Ltd. was prepared as a primer.

上記のプライマーと酢酸エチルとを9:1の重量比で混合し、窒素雰囲気下で均一になるまで充分に撹拌してプライマー液を調製した。このプライマー液を、スピンコーター(MIKASA製1H−DX2)を用い、アセトンで十分に脱脂されたレンズ基材の表面に塗布し、室温にて20分で硬化してレンズ基材の表面にプライマー層を形成した。   The above primer and ethyl acetate were mixed at a weight ratio of 9: 1 and sufficiently stirred until uniform in a nitrogen atmosphere to prepare a primer solution. This primer solution is applied to the surface of a lens substrate sufficiently degreased with acetone using a spin coater (MIKASA 1H-DX2) and cured at room temperature for 20 minutes to form a primer layer on the surface of the lens substrate. Formed.

次いで、下記組成:
2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシペンタエトキシフェニル)プロパン; 50重量部
ポリエチレングリコールジアクリレート(平均分子量532); 15重量部
トリメチロールプロパントリメタクリレート; 15重量部
ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート(ダイセルユーシービー社、EB−1830); 10重量部
グリシジルメタクリレート; 10重量部
のラジカル重合性単量体の混合物を調製した。このラジカル重合性単量体の混合物と、前述したフォトクロミック化合物を用い、下記処方により、フォトクロミック重合性組成物(フォトクロミックコート液)を調製した。
Then the following composition:
2,2-bis (4-methacryloyloxypentaethoxyphenyl) propane; 50 parts by weight Polyethylene glycol diacrylate (average molecular weight 532); 15 parts by weight Trimethylolpropane trimethacrylate; 15 parts by weight Polyester oligomer hexaacrylate (Daicel UCB) EB-1830); 10 parts by weight Glycidyl methacrylate; A mixture of 10 parts by weight of radically polymerizable monomer was prepared. A photochromic polymerizable composition (photochromic coating solution) was prepared according to the following prescription using the mixture of radical polymerizable monomers and the photochromic compound described above.

ラジカル重合性単量体混合物; 100重量部
インデノナフトピラン(a); 2.35重量部
クロメン(A); 0.2重量部
クロメン(B); 1.6重量部
重合開始剤; 0.5重量部
ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート (安定剤); 5重量部
γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(シランカップリング剤); 7重量部
尚、上記の重合開始剤としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドとの混合物(重量比3:1)を用いた。
100 parts by weight indenonaphthopyran (a); 2.35 parts by weight chromene (A); 0.2 parts by weight chromene (B); 1.6 parts by weight polymerization initiator; 5 parts by weight Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate (stabilizer); 5 parts by weight γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (silane coupling agent); 7 parts by weight As the polymerization initiator, a mixture (weight ratio 3: 1) of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide was used. .

上記のフォトクロミックコート液の約2gを、前記スピンコーターを用いて、前記レンズ基材の表面(プライマー層表面)にスピンコートした。このフォトクロミックコート液がコートされたレンズ基材に、窒素ガス雰囲気中で出力120mW/cmのメタルハライドランプを用いて、3分間光照射し、フォトクロミックコート液を硬化させ、さらに110℃の恒温器にて1時間加熱処理を行うことにより表面にフォトクロミック層を有する光学基材を得た。なお、得られたフォトクロミック層の膜厚は40μmであった。 About 2 g of the photochromic coating solution was spin-coated on the surface of the lens substrate (primer layer surface) using the spin coater. The lens substrate coated with this photochromic coating solution is irradiated with light for 3 minutes using a metal halide lamp with an output of 120 mW / cm 2 in a nitrogen gas atmosphere to cure the photochromic coating solution. An optical substrate having a photochromic layer on the surface was obtained by performing a heat treatment for 1 hour. The film thickness of the obtained photochromic layer was 40 μm.

次いで、上記のフォトクロミック層上に、(株)トクヤマ製ハードコート液TS−56H(有機シリコン系ゾル;固形分換算でのシリカ含量50質量%)をディッピングにより塗布し、120℃で2時間硬化し、1.6μmの厚みの無機粒子分散層を形成した。   Next, on the photochromic layer, Tokuyama Co., Ltd. hard coat liquid TS-56H (organic silicon sol; silica content 50% by mass in terms of solid content) was applied by dipping and cured at 120 ° C. for 2 hours. An inorganic particle dispersion layer having a thickness of 1.6 μm was formed.

次いで、上記の無機粒子分散層の表面に、蒸着により、0.02μmの厚みの酸化珪素薄膜を成膜し、フォトクロミック性光学物品を得た。この光学物品のフォトクロミック性を前述した方法にしたがって評価し、その結果を表1に示した。
実施例2
酸化珪素薄膜の代わりに、酸化チタン薄膜(厚み;0.02μm)を蒸着により形成した以外は実施例1と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
実施例3
フォトクロミック化合物として、クロメン(A),(B)を使用せず、インデノナフトピラン(a)を1.5重量部用いた以外は実施例1と同様にして表面にフォトクロミック層を有する光学基材を作製した。このフォトクロミック光学基材を使用し、酸化珪素薄膜の厚みを0.1μmに変更した以外は、実施例1と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例1
無機粒子分散層を形成せず、フォトクロミック層上に直接酸化珪素薄膜を形成した以外は実施例3と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例2
フォトクロミック化合物として、インデノナフトピラン(a)に変えてインデノナフトピラン(b)を1.5重量部用いた以外は実施例3と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例3
無機粒子分散層を形成せず、フォトクロミック層上に直接酸化珪素薄膜を形成した以外は比較例2と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例
酸化珪素薄膜を設けなかった以外は実施例1と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例
フォトクロミック化合物として、インデノナフトピラン(a)及びクロメン(B)を使用せず、クロメン(A)を1.5重量部用いた以外は実施例1と同様にして表面にフォトクロミック層を有する光学基材を作製した。このフォトクロミック光学基材を使用し、酸化珪素薄膜の厚みを0.1μmに変更した以外は、実施例1と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例
フォトクロミック層の厚みを19μmに変更した以外は、比較例2と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例
フォトクロミック層の厚みを19μmに変更した以外は、実施例1と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
比較例
実施例1で作製された表面にフォトクロミック層を有する光学基材について、フォトクロミック層上に無機微粒子分散層及び金属酸化物薄層を形成せず、そのままの状態でフォトクロミック特性を測定し、その結果を表1に示した。
比較例
比較例2で作製された表面にフォトクロミック層を有する光学基材について、フォトクロミック層上に無機微粒子分散層及び金属酸化物薄層を形成せず、そのままの状態でフォトクロミック特性を測定し、その結果を表1に示した。
比較例10
フォトクロミック化合物としてクロメンCを1.5重量部用いた以外は、実施例3と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表1に示した。
Next, a 0.02 μm-thick silicon oxide thin film was formed on the surface of the inorganic particle dispersion layer by vapor deposition to obtain a photochromic optical article. The photochromic properties of this optical article were evaluated according to the method described above, and the results are shown in Table 1.
Example 2
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 1 except that a titanium oxide thin film (thickness: 0.02 μm) was formed by vapor deposition instead of the silicon oxide thin film, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Example 3
Optical base material having a photochromic layer on the surface in the same manner as in Example 1 except that chromene (A) and (B) are not used as the photochromic compound and 1.5 parts by weight of indenonaftpyran (a) is used. Was made. A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 1 except that this photochromic optical substrate was used and the thickness of the silicon oxide thin film was changed to 0.1 μm, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 1
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 3 except that a silicon oxide thin film was formed directly on the photochromic layer without forming the inorganic particle dispersion layer, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 2
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 3 except that 1.5 parts by weight of indenonaphthopyran (b) was used instead of indenonaphthopyran (a) as a photochromic compound, and the photochromic properties were obtained. It was measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 3
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that a silicon oxide thin film was formed directly on the photochromic layer without forming the inorganic particle dispersion layer, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 4
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 1 except that the silicon oxide thin film was not provided, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 5
An optical group having a photochromic layer on the surface in the same manner as in Example 1 except that indenonaphthopyran (a) and chromene (B) are not used as the photochromic compound, and 1.5 parts by weight of chromene (A) is used. A material was prepared. A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 1 except that this photochromic optical substrate was used and the thickness of the silicon oxide thin film was changed to 0.1 μm, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 6
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the photochromic layer was changed to 19 μm, and its photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 7
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the photochromic layer was changed to 19 μm, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 8
For the optical substrate having a photochromic layer on the surface produced in Example 1, the photochromic properties were measured as they were without forming the inorganic fine particle dispersion layer and the metal oxide thin layer on the photochromic layer, and the results were obtained. It is shown in Table 1.
Comparative Example 9
For the optical substrate having a photochromic layer on the surface produced in Comparative Example 2 , the photochromic characteristics were measured as they were without forming the inorganic fine particle dispersion layer and the metal oxide thin layer on the photochromic layer, and the results were obtained. It is shown in Table 1.
Comparative Example 10
A photochromic optical article was produced in the same manner as in Example 3 except that 1.5 parts by weight of chromene C was used as the photochromic compound, and the photochromic characteristics were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 0004606215
Figure 0004606215

図1は、本発明のフォトクロミック性光学物品の断面構造の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a cross-sectional structure of the photochromic optical article of the present invention.

Claims (4)

少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が樹脂中に分散されたフォトクロミック層が形成されている光学基板と、該フォトクロミック層上に厚さ0.1〜20μmの緩衝層を介して形成された金属酸化物の蒸着薄膜とからなるフォトクロミック性光学物品であって
前記フォトクロミック化合物として下記一般式(1):
Figure 0004606215

〔前記式(1)において、
26 、R 27 、R 28 およびR 30 は、それぞれ、水酸基、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシメチル基、ヒドロキシメチル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記インデノナフト環に結合している置換もしくは非置換の複素環基、又は前記複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり;
環Qは脂肪族炭化水素環基であり;
y、y’、y”およびy”’は、各々、0〜2の整数であり;
29 は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基であり、R 30 は前記(1)式のR で定義したものと同義である〕
で表されるインデノナフトピラン化合物が使用され、且つ前記フォトクロミック層は、30〜50μmの厚みを有しているとともに、
前記金属酸化物の蒸着薄膜は、0.01〜μmの厚みを有しており、且つ単層構造を有していることを特徴とするフォトクロミック性光学物品。
An optical substrate in which a photochromic layer in which a photochromic compound is dispersed in a resin is formed on at least one surface, and a metal oxide formed on the photochromic layer through a buffer layer having a thickness of 0.1 to 20 μm . a photochromic optical article comprising a deposition film,
As the photochromic compound, the following general formula (1):
Figure 0004606215

[In the above formula (1),
R 26 , R 27 , R 28 and R 30 are each a hydroxyl group, alkyl group, trifluoromethyl group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, alkoxymethyl group, hydroxymethyl group, aralkoxy group, amino group, substituted An amino group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and a nitrogen atom as a heteroatom, and the nitrogen atom is bonded to the indenonaft ring Substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a condensed heterocyclic group obtained by condensing an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring to the heterocyclic group;
Ring Q is an aliphatic hydrocarbon ring group;
y, y ′, y ″ and y ″ ′ are each an integer from 0 to 2;
R 29 is a dialkylamino group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom and the nitrogen atom bonded to the phenyl group, and R 30 is R in the formula (1) It is synonymous with the one defined in 1 )
And the photochromic layer has a thickness of 30 to 50 μm, and an indenonaphthopyran compound represented by :
The metal oxide vapor-deposited thin film has a thickness of 0.01 to 1 μm and has a single-layer structure .
前記金属酸化物が、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、またはこれらの酸化物成分を含む複合酸化物である請求項1に記載のフォトクロミック性光学物品。 The photochromic optical article according to claim 1, wherein the metal oxide is silicon oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, or a composite oxide containing these oxide components. . 前記金属酸化物が酸化珪素である請求項1または請求項2に記載のフォトクロミック性光学物品。 The photochromic optical article according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide is silicon oxide. 少なくとも一方の表面に、上記一般式(1)で表されるインデノナフトピラン化合物が樹脂中に分散され且つ30〜50μmの厚みを有するフォトクロミック層が厚さ0.1〜20μmの緩衝層を介して形成された光学基板を用意し、On at least one surface, a photochromic layer in which the indenonaphthopyran compound represented by the general formula (1) is dispersed in the resin and has a thickness of 30 to 50 μm is interposed through a buffer layer having a thickness of 0.1 to 20 μm. Prepare an optical substrate formed by
前記フォトクロミック層上に、0.01〜1μmの厚みを有しており、且つ単層構造の金属酸化物薄膜を蒸着法により形成することを特徴とするフォトクロミック性光学物品の製造方法。A method for producing a photochromic optical article, wherein a metal oxide thin film having a thickness of 0.01 to 1 μm and having a single layer structure is formed on the photochromic layer by vapor deposition.
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