JP4606117B2 - イオントフォレーシス用作用極構造体及びイオントフォレーシス用装置 - Google Patents
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本発明の作用極構造体1における電極4には、通常の電気化学プロセスにおいて使用される電極がなんら制限されることなく使用できる。例えば、金、白金、銀、銅、ニッケル、亜鉛、炭素などの電子導電体、半導体電極、および銀/塩化銀などの自己犠牲電極などが例示され、これらを単独でまたは組み合わせて使用することができる。好適には、金、白金、銀、炭素などが挙げられる。これらの電極は、板、シート、メッシュ、繊維を不定形に積層させたペーパー状物に成形加工されたものをそのまま使用することもでき、また、イオン交換膜上にメッキや蒸着させて使用することもできる。
イオン交換膜を1mol/LのHCl水溶液に10時間以上浸漬する。
含水率=100×(W−D)/D[%]
(2)膜抵抗
白金黒電極を備えた2室セル中にイオン交換膜を挟み、イオン交換膜の両側に3mol/Lの硫酸水溶液を満たし、交流ブリッジ(周波数1000サイクル/秒)により25℃における電極間の抵抗を測定し、該電極間の抵抗とイオン交換膜を設置しない場合の該電極間の抵抗の差により求めた。上記測定に使用する膜は、あらかじめ3mol/Lの硫酸水溶液中で平衡にしたものを用いた。
測定対象とするイオン交換膜、薬剤と同符号のイオンを選択的に透過するイオン交換膜、薬剤の電極への到達を防ぐ保護イオン交換膜を図2に示すセルに設置し、薬液室に所定濃度の薬剤の水溶液を満たし、仮想電極室、仮想皮膚室および2つの電極室に0.1mol/Lの塩化ナトリウム水溶液を満たした。なお、薬剤と同符号のイオンを選択的に透過するイオン交換膜には、測定対象のイオン交換膜が陰イオン交換膜の場合には、製造例5で得られた陽イオン交換膜を用い、測定対象が陽イオン交換膜の場合には製造例1で得られた陰イオン交換膜を用いた。保護イオン交換膜には、測定対象のイオン交換膜が陰イオン交換膜の場合には、製造例1で得られた陰イオン交換膜を用い、測定対象が陽イオン交換膜の場合には製造例5で得られた陽イオン交換膜を用いた。次いで、薬液室と仮想電極室を攪拌しながら、25℃で所定の定電流密度で1時間通電し、通電電終了後、直ちに仮想電極室の液を抜き取って液体クロマトグラフィーにて薬剤量を測定した。また、図2に示す電位差計で、セルにかかる電圧を測定した。
クロロメチルスチレン380g、ジビニルベンゼン20g、t−ブチルパーオキシエチルヘキサノエート20gからなる架橋重合性組成物を調整し、この架橋重合性組成物420gを500mlのガラス容器に入れ、これに各20cm×20cmの多孔質フィルム(重量平均分子量25万のポリエチレン製、膜厚25μm、平均孔経0.03μm、空隙率37%)を大気圧下、25℃で10分浸漬し、この多孔質フィルムに架橋重合性組成物を含浸させた。続いて、上記多孔質フィルムを架橋重合性組成物中から取り出し、100μmのポリエステルフィルムでこの多孔質フィルムの両側を被覆した後、3kg/cm2の窒素加圧下、80℃で5時間加熱重合した。次いで、得られた膜状物を30重量%トリメチルアミン10重量部、水5重量部、アセトン5重量部よりなるアミノ化浴中、室温で5時間反応せしめ4級アンモニウム型陰イオン交換膜を得た。
架橋重合性組成物、及び多孔質フィルムを表1に示した組成に代えた以外は製造例1と同様にして陰イオン交換膜を製造した。得られた膜の物性を表1に示した。
表1に示す架橋重合性組成物を、製造例1と同様にして多孔質フィルムに充填した。続いて、上記多孔質フィルムを架橋重合性組成物中から取り出し、100μmのポリエステルフィルムで多孔質フィルムの両側を被覆した後、3kg/cm2の窒素加圧下、80℃で5時間加熱重合した。次いで、得られた膜状物を98%濃硫酸と純度90%以上のクロロスルホン酸の1:1混合物中に40℃で45分間浸漬し、スルホン酸型陽イオン交換膜を得た。
陽イオン性の薬剤である、リドカイン塩酸塩の10mmol/L溶液を用い、電流密度0.5mA/cm2で薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表2に示す。
従来のイオントフォレーシスに使用される織布を基材とするイオン交換膜として、陰イオン交換膜であるネオセプタAMX(トクヤマ製;膜物性は表1に記載)を用いた以外は、実施例1と同様にして薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表2に示す。
製造例1の膜を用い、リドカイン塩酸塩の10mmol/L溶液に代えて、表3に示す陽イオン性の薬剤の10mmol/L溶液を用い、電流密度0.5mA/cm2で薬物透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表3に示す。
従来のイオントフォレーシスに使用される織布を基材とするイオン交換膜として、陰イオン交換膜であるネオセプタAMX(トクヤマ製;膜物性は表1に記載)を用いた以外は、実施例5〜9と同様にして薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表3に示す。
陰イオン性の薬剤である、アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩の10mmol/L溶液を用い、電流密度0.5mA/cm2で薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。用いたイオン交換膜と薬剤透過量および電圧の測定結果を表4に示す
従来のイオントフォレーシスに使用される織布を基材とするイオン交換膜として、陽イオン交換膜であるネオセプタCMX(トクヤマ製;膜物性は表1に記載)を用いた以外は、実施例13と同様にして薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表4に示す。
アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩の10mmol/L溶液に代えて、表5に示すアニオン性薬剤の10mmol/L溶液を用い、電流密度0.5mA/cm2で薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表5に示す。
従来のイオントフォレーシスに使用される織布を基材とするイオン交換膜として、陰イオン交換膜であるネオセプタAMX(トクヤマ製;膜物性は表1に記載)を用いた以外は、実施例15と同様にして薬剤透過量およびセルにかかる電圧を測定した。結果を表5に示す。
2:対極構造体
3:電源部
4,4’:電極
5:イオン性薬剤含有部
6:多孔質フィルムを基材とするイオン交換膜
7:生体表面(界面)
8:イオン交換膜
9:電解質含有部
10:イオン交換膜
Claims (3)
- 電極及び薬剤含有部を有するイオントフォレーシス用の作用極構造体において、該電極と薬剤含有部との間に、3mol/L−硫酸水溶液中での膜抵抗が0.3Ω・cm2以下、かつ電流密度0.5mA/cm2で測定される前記薬剤の透過率が0.001μmol/hr・cm2以下であるイオン交換膜を配設したことを特徴とするイオントフォレーシス用作用極構造体。
- 電極と薬剤含有部の間に配設されたイオン交換膜が、多孔質フィルムを基材とし、該多孔質フィルムの有する空隙内に架橋型イオン交換樹脂が充填されたイオン交換膜である請求項1記載のイオントフォレーシス用作用極構造体。
- 請求項1又は2記載のイオントフォレーシス用作用極構造体を有するイオントフォレーシス装置。
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JP2004306911A JP4606117B2 (ja) | 2004-10-21 | 2004-10-21 | イオントフォレーシス用作用極構造体及びイオントフォレーシス用装置 |
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WO2001028624A1 (fr) * | 1999-10-18 | 2001-04-26 | Hisamitsu Pharmaceutical Co., Inc. | Dispositif et electrode d'electroporation |
JP2004188188A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-07-08 | Tokuyama Corp | イオントフォレーシス用装置 |
JP2004217921A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-08-05 | Tokuyama Corp | イオン交換膜及びその製造方法 |
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WO2001028624A1 (fr) * | 1999-10-18 | 2001-04-26 | Hisamitsu Pharmaceutical Co., Inc. | Dispositif et electrode d'electroporation |
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