JP4605621B2 - コージェライトセラミックハニカム体を作成する方法 - Google Patents
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Description
発明の背景
本発明は、高耐熱衝撃性をコージェライトセラミックハニカム体に付与する小さい(25〜800℃において<7×10−7℃−1)CTE(熱膨張係数)をもつコージェライトセラミックハニカム体の製造方法に関する。本方法は、バッチ混合物の原材料としての微細分散性で表面積が大きいアルミナ生成源の使用を中心に据える。本発明は微細タルク源を使用できる一方で焼成体に高レベルの耐熱衝撃性を維持できるから、薄い壁体をもつハニカム基体に特に有用である。
【0002】
コージェライトセラミック製品配合物でのアルミナ及びタルクの使用には多くの様々な手法が知られている。例えば英国特許明細書第1,518,475号及び米国特許第4,280,845号は、マグネシウム含有原材料(特にタルク)の平均粒径が5〜150μm、好ましくは21〜100μm、さらに好ましくは26〜80μmの範囲にある場合に、満足できる熱膨張係数を有するコージェライトセラミックが得られることを説明した。マグネシウム含有原材料の平均粒径が上記範囲の外にある場合には、25〜1000℃の範囲にかけての熱膨張係数が16×10−7℃−1より大きく、耐熱衝撃性が劣る結果となることが示されている。
【0003】
米国特許第4,434,117号は、 タルクの平均粒径が2.8μmと小さい場合に熱膨張係数が小さいコージェライトハニカム体の製造方法を説明している。しかしこの方法はタルク粒子の“予備焼成”すなわちか焼を必要とする。この予備焼成工程なしでは、タルクの平均粒径が約20μmより小さくとも熱膨張係数は受け入れることのできない大きさになることがわかった。
【0004】
米国特許第4,772,580号及び欧州特許第0,232,621号はともに、非常に微細な(<7μm)タルク粒子を用いて低膨張コージェライトハニカム体を得る方法を説明している。この方法は非常に微細なクレイを微細タルクとともに使用することに依存している。クレイ粒子の平均粒径が2μmをこえてはならないこと及びタルクの粒径に対するクレイの粒径の比が1/3をこえてはならないことが条件として挙げられている。得られるセラミック製品の多孔度レベルは低い(<30%)。低レベルの多孔度は強度をより高めるが、表面積の大きな薄め塗膜及び触媒の被覆性に優れるためには多孔度レベルが高いほうがより望ましいことが知られている。
【0005】
米国特許第4,772,580号、同第4,869,944号、同第5,030,398号、同第5,409,870号及び欧州特許第0,232,621号においては、平均粒径が2μmをこえないアルミナ粒子及び水酸化アルミニウム粒子からなる群から選ばれる少なくとも1つの材料が低熱膨張係数のためにバッチに加えられる。これらの特許で挙げられた水酸化アルミニウムはアルミナ三水和物であり、焼成時に34%の強熱減重量を示す。アルミナ三水和物は、一般に表面積が非常に大きい(>50m2/g)ベーマイト(アルファアルミナ一水和物)と比較して、一般に表面積が比較的小さい(<10m2/g)。
【0006】
伝えられるところによれば、日本国で公告された特公昭61−256965号公報において、バッチ成分としてα−アルミナを用いることにより高耐熱衝撃性をもつコージェライトハニカムが得られており、この場合α−アルミナの粒径分布は、直径が3μmより小さい粒子が重量にして分布の17%をこえず、また粒径分布の中央値が4から17μmの間にあるように調節されているという。微細なα−アルミナ及びχ−,κ−,γ−,δ−,θ−アルミナ等のような中間相はマグネシウム含有原材料に対して比較的低温(<1300℃)での反応性が高いと考えられ、コージェライトに低熱膨張性をもたらすためのタルク及びカオリンとの主反応を妨げると考えられる。
【0007】
米国特許第5,030,592号には、ゾル−ゲルプロセスによる高密度コージェライト製造プロセスが記述されている。この特許では、後に乾燥され焼成されてコージェライト体にされるゲルを形成するために、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素のゾルとともにアルミナのゾルが用いられている。アルミナ源の1つとしてベーマイトが用いられているが、ゾルベースの系において他のアルミナをベーマイトで置換した効果については触れられていない。
【0008】
米国特許第5,258,150号では、ベーマイトの使用が熱膨張が低く多孔度が高いコージェライト体の製造方法における酸化アルミニウム生成成分(水酸化アルミニウム)の区分に含められている。しかし、アルミナ一水和物あるいはその他の非常に表面積が大きい微細分散性のアルミニウム生成源の有用な効果を認めたとは述べられていない。
【0009】
米国特許第5,332,703号には、熱膨張係数が小さい、多孔度が低く強度の大きなコージェライト体を製造する方法が記述されている。この特許では、鉱物質成分(タルク、クレイ、アルミナ)からなる組成物が化学成分(マグネシウム、シリコン及びアルミニウムの粉末化された酸化物、水酸化物及び含水酸化物)と混合される。しかし、化学成分の増加と熱膨張の低下を結びつける傾向は全く見られなかった。
【0010】
発明の概要
本発明に従えば、バッチ成分として反応性アルミナを使用することにより、大表面積Al2O3形成源も微細粒に分散するという条件で、 比表面積が小さいα−アルミナが用いられる組成物よりも小さい熱膨張係数が得られる。すなわち本発明は、微細分散性で表面積の大きなアルミナ生成源をバッチ混合物に用いると、原材料は同じであってもアルミナ生成成分の表面積が小さいかまたは非常に微細な粒子に分散されていない場合の混合物に比較して熱膨張が低められるという発見からなる。
【0011】
大表面積とは、 B.E.T.(ブルナウアー(Brunauer)−エメット(Emmett)−テラー(Teller))比表面積が少なくとも20m2/gであり、 好ましくは50m2/gより大きいことを意味する。アルミナ生成源とは、酸化アルミニウムまたは十分高温まで加熱されると実質的に100%の酸化アルミニウムとなるアルミニウムを含有する化合物を意味する。アルファ酸化水酸化アルミニウム(一般にベーマイトないし擬ベーマイトと称され、アルミナ一水和物とも称される、AlOOH−xH2O)及び、様々な量の化学的に結合した水すなわちヒドロキシル基を含む、いわゆる遷移アルミナ(カイ、イータ、ロー、イオタ、カッパ、ガンマ、デルタ、及びシータアルミナ)が特に好ましい。微細分散性とは、混合及び生素地成形プロセス工程中に、 アルミナ生成源の凝集塊が約0.3μmより小さい平均直径をもつ粒子に実質的に粉砕され得ることを意味する。水またはその他の液状媒体中に予備分散されたコロイド懸濁液として、微細分散性で表面積が大きいアルミナ生成源を原材料混合物に加えることを選ぶこともできる。
【0012】
本発明の使用により、コージェライトセラミックハニカム体において平均熱膨張係数(CTE)をかなり低下させることができる。すなわち本発明は、CTEが非常に小さい(<7.0×10−7℃−1,好ましくは<4.0×10−7℃−1)コージェライトセラミックハニカム体を製造する方法を提供する。(25〜800℃で測定して)0.4×10−7℃−1という小さなCTE値が実現された。このような超低熱膨張値は、非常に高レベルの耐熱衝撃性をコージェライトセラミックハニカム体に与える。
【0013】
詳細な説明
本発明は図面を参照することによりさらに深く理解することができる。
【0014】
比表面積の値が約0.2〜10.0m2/gのアルファアルミナ(Al2O3)及びアルミナ三水和物(Al(OH)3)が、コージェライトセラミックハニカム体の製造におけるバッチ成分として一般に用いられてきている。これらのアルファアルミナを用いて小さな(<5.0×10−7℃−1)熱膨張係数を得ることは可能であるが、ある種の他の原材料との組合せでは、低熱膨張は実現されないでいる。例えば、熱膨張係数の小さなコージェライト体を得るためには、タルクバッチ成分の粒径が最適な大きさになっていなければならないことが当業者に知られている。
【0015】
最適径よりかなり微細な粒径分布をもつタルクを使用すると、高い熱膨張値をもち、よって耐熱衝撃性が劣るコージェライト体が得られる。発明者等の研究において、表面積が大きな微細分散性アルミナ生成源で表面積が小さいかあるいは微細な粒径に分散しないアルミナ生成源のいくらかまたは全てを置換すれば、微細タルクを使用して熱膨張係数の小さなコージェライト体を得られることが発見された。
【0016】
さらに本発明は、予備焼成工程なしに、またおそらくクレイの粒径を厳密に制御することなく、微細タルクの使用を可能にする。さらに、小さな熱膨張係数を保ちながらある範囲の多孔度値を得ることができる。微細タルクをベースにしたコージェライト製造方法は、粗粒タルクを使用した場合には金型スロットに詰まりが生じていた、薄い壁体をもつコージェライトセラミックハニカム体の製造に特に適する。さらに、微細タルクは高速焼成が望ましいコージェライト体に有用である。反応性が高まることにより、焼成時間が短縮される。
【0017】
以下の表には、原材料混合物中のI−アルミナを微細分散性で表面積の大きいAl2O3形成源で部分的に、あるいは完全に置換することによりコージェライトセラミックハニカム体のCTEを下げられることの例証が呈示されている。本発明に従うコージェライトセラミックハニカム体の製造のために様々な量で有用な原材料の例が、従来技術で使用されるその他の原材料とともに下の表Iに報告されている。選ばれる材料を定めた表Iには、 セジグラフ(Sedigraph)分析により決定された平均粒径(P.S.)及び窒素のB.E.T.分析により決定された表面積(S.A.)が含まれている。表Iに報告された市販材料に関して、タルクA及びBはカナダ国オンタリオ州オークビル(Oakville)のルゼナック社(Luzenac, Inc,)から、またタルクCは米国モンタナ州ディロン(Dillon)のバレッツ・ミネラルズ社(Barretts Minerals, Inc.)から入手できる。カオリンクレイは米国ジョージア州ドライ・ブランチ(Dry Branch)のドライ・ブランチ・カオリン社(Dry Branch Kaolin, Inc.)により製造されている。 ベーマイト材料K,L,M及びOは米国テキサス州ヒューストン(Houston)のコンディア・ビスタ社(CONDEA Vista Company)から、またベーマイトNは米国ルイジアナ州バトンルージュ(Baton Rouge)のラロシュ・インダストリーズ社(LaRoche Industries Inc.)から市販されている。
【0018】
【表1】
表Iに報告されているような原材料の組合せからコージェライトセラミックハニカム体を作成するために、原材料を結合剤としての3%から6%のメチルセルロース及び25%から45%の水と混合し、(ハニカム断面のセル/cm2で表わした)セル密度が約30から65セル/cm2で直径が2.5cmのハニカム体として押出成形する。次いでこの押出成形体をオーブンに入れて95℃で48時間乾燥し、さらに2つの異なる焼成スケジュールのうちの1つ(9.5時間または37時間)に基づいて電気窯内で焼成する。これらの焼成スケジュールは下の表IIに報告されている。
【0019】
【表2】
上述のようにして作成されたコージェライトセラミックハニカム体の実例が下の表IIIに報告されている。これらの実例には、本発明の範囲内の例が本発明の範囲内ではない対照例とともに含まれている。対照例の組成のそれぞれはCを添えた組成番号で示されている。
【0020】
報告された組成例のそれぞれについて、表Iから選ばれて用いられた原材料の識別記号及び、それぞれの組成物に取り入れられた材料の、乾燥粉体ハニカムバッチの重量部で表わした比率が表IIIに含まれている。バッチ重量の残余部分はそれぞれの混合粉末を押出成形が可能なバッチにするために用いられる結合剤、潤滑剤及び水からなり、これらはハニカムの焼成中に組成物から取り除かれる。
【0021】
これらのバッチのか焼カオリン分率については、か焼中に生成されたムライトの比率を求めるためにいくつかのカオリン、すなわちH(1)及びH(2)クレイを分析した。 H(1)及びH(2)クレイはそれぞれ重量にして10.6%及び18.5%のムライトを含有していた。H(3)カオリンの分析は行わなかった。
【0022】
【表3】
本発明に従って提供されたコージェライトセラミックハニカム体の特性が下の表IVに報告されている。表IVには、表IIで報告された組成(組成番号)のいくつかをベースにし、表IIIのスケジュールの1つに従って焼成された製品が含まれている。表IVには、それぞれの試料で測定した、25〜800℃の温度範囲で測定されたハニカムの熱膨張係数の平均値が、焼成された材料についての%で表わした多孔度値及びμmで表わした平均細孔径とともに報告されている。
【0023】
【表4】
表IVのデータから明らかなように、分散性の微細粒(0.12μm)で大表面積(180m2/g)のベーマイトによるアルファアルミナの累進的な置換のそれぞれにより、焼成ハニカムの熱膨張をかなり低くすることができる。このことは置換されたアルファアルミナの粒径が比較的小さい(0.4μm)場合であってさえ当てはまり、実験1〜9がそのことを例証している。このようなアルミナ置換は、その他のコージェライトバッチ成分の選択に幾分は依存して、バッチの固体(無機物粉末)成分の約5%という低いレベルにおいても有効であり得るし、またベーマイトによるバッチアルミナの全置換まで及ぶことができる。
【0024】
本発明により提供される有益なCTE低下は、平均タルク粒径が約6μm(実験1〜3)から下は3.5μm(実験4〜6)まで、さらには1.6μm(実験7〜9)にまで及ぶ、比較的広い範囲のタルク粒径にわたって得られる。これらの実験で見られたCTE変化のグラフが図面の図1に与えられる。より微細な(平均粒径が約4μmより小さい)タルクは、そのようなタルクが壁体の薄いコージェライトセラミックハニカムの製造に好ましい材料であるから特に有益であるが、何らかの制御戦略を用いないと、CTE値は市場に受け入れられるレベルより容易に大きくなり得る。
【0025】
本発明はまた、微細タルク+アルミナのバッチを基にして比較的高い多孔度及び比較的大きな平均細孔径を示す低膨張ハニカムを製造することも可能にする。このような特性は、微細タルクセラミック体で達成することは困難であるが、自動車エンジン排出物抑制触媒支持体のためのハニカム基体には非常に望ましい。自動車排気放出物抑制用の市販の触媒は通例、液状触媒の薄め塗膜として塗布され、そのような薄め塗膜は基体表面の多孔度が高いほど効率的に塗布される。
【0026】
比較的多孔度の高い(全多孔度が約20%より高く、より好ましくは約25%より高い)ハニカムの間では、分散性微細アルミナでバッチを置換することによるCTE値の低下傾向が粒状カオリンクレイまたは選ばれたクレイの組合せの性質、あるいは用いられた焼成スケジュールの長さには影響されないようである。すなわち、例えば通常の37時間焼成スケジュールを用いた、30%のか焼カオリンを含む混合クレイ組成物(実験10〜13)、35%ものか焼カオリンクレイを含む混合クレイ組成物(実験18〜20)、ムライト含有量が比較的少ないか焼カオリンを30%含む混合クレイ組成物(実験24〜27)、及び堆積カオリンと組み合わされた低ムライトか焼カオリンを30%含む混合クレイ組成物(実験32及び33)のいずれにおいても、同様のCTE値低下傾向を見ることができる。微細分散性アルミナ含有量の増加にともなうCTEの低下傾向が図面の図2に示される。
【0027】
同様の結果がより短時間の焼成処理で同じく得られる。実験14〜17は、表IIの9.5時間焼成スケジュールで低膨張ハニカム製品を得るために実験10〜13のバッチ混合物を用い、一方実験21〜23は実験18〜20のバッチを用いている。いずれの場合にも、ベーマイト含有量の増加にともなうCTEの低下傾向は明らかである。
【0028】
同様の結果が、実験24〜27及び32〜33にそれぞれ対応するが、より短時間の焼成スケジュールを用いた実験28〜31及び34〜35にも見られる。最も高いアルミナ置換レベルにおける壁体の多孔度実測値は、より長時間の焼成スケジュールの場合に見られる程の大きさではないが、微細アルミナの増加にともなうCTE値低下傾向は変わっていない。図面の図3は、上記のより短時間の焼成実験のそれぞれの間に見られた、用いられるベーマイト起源アルミナの比率の増大にともなうCTEの低下をプロットしている。
【0029】
非常に微細な分散粒子径をもつ分散性で表面積の大きいアルミナの使用が本発明の不可欠な態様であり、アルミナを微細粒子径まで分散できない場合、大表面積アルミナだけでは効果がない。例えば表面積が42m2/gで平均粒径が3.4μmのアルファアルミナで組成番号1の表面積が9m2/gのアルミナを置換すると、ベーマイト置換で得られたCTE低下ではなく、5.1×10−7℃−1へのCTE増大が生じる。
【0030】
実験データはさらに、 分散粒子径が約0.3μmをこえる分散性アルミナを使用するとCTE、したがって耐熱衝撃特性に悪影響を与え得ることを示唆している。すなわち、例えば表Iの比較的粒子の大きいベーマイトアルミナ成分、L,M,NまたはOの内の1つをより微細なベーマイトアルミナKの代わりに使用すると、より微細なアルミナを用いた場合に見られる2〜4×10−7℃−1の範囲ではなく、7〜12×10−7℃−1の範囲のCTE値をもつ、押出成形され焼成されたコージェライトセラミックハニカム製品ができる。この結果は、高膨張焼成製品内ではより多くのスピネル及び/またはムライトが発生することに帰因し、おそらくはアルミナとその他のバッチ成分との反応が不完全であることに原因がある。
【0031】
本発明に従うコージェライトセラミックハニカム体の製造のためのバッチを配合する際には、用いられるクレイと好ましくない反応をおこすと思われる、ある種の従来のバッチ成分の使用を避けることが重要である。問題成分の1つは酸化マグネシウム(MgO)及びその原材料、例えばMgO,Mg(OH)2,及びMgCO3である。上記成分がタルクの一部を単独であるいは結晶シリカとともに置換して押出バッチに含められると、微細タルクのみをマグネシウム源として含有するバッチからの押出成形コージェライトセラミックハニカムよりCTEが実質的に大きなハニカムができる。
【0032】
カオリン及びか焼カオリンが実質的にバッチから除外される場合を除き、粉末MgOまたはその前駆体を含有するコージェライト形成バッチ組成を基にした押出成形製品は一般に、25〜800℃の範囲で10〜18×10−7℃−1の範囲のCTE値を有する。このCTE値は、本発明に従って得られる製品で一般的な、約7×10−7℃−1の最大平均膨張値及び約0.4〜5×10−7℃−1の好ましい平均膨張値範囲よりかなり大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 バッチに微細で高分散性のアルミナ原材料を加えることが平均熱膨張係数に与える有用な効果を示すグラフである
【図2】 バッチに微細で高分散性のアルミナ原材料を加えることが平均熱膨張係数に与える有用な効果を示す別のグラフである
【図3】 バッチに微細で高分散性のアルミナ原材料を加えることが平均熱膨張係数に与える有用な効果を示すまた別のグラフである
Claims (3)
- 7×10−7/℃より小さい(25〜800℃の範囲での)平均線熱膨張係数を有する押出成形され焼成されたコージェライトセラミックハニカム体を作成する方法において、該方法が:
(a)コージェライト形成クレイ−タルク粉末バッチを配合して可塑化する工程であって、前記タルクが4μm未満の平均粒径を有し、さらに前記バッチが、B.E.T.比表面積が少なくとも20m 2 /gでありかつ平均直径が0.3μmより小さい分散粒子径を有するアルミナ生成源を含む工程;
(b)ハニカム押出金型を通して押し出すことにより前記可塑化粉末バッチを生ハニカム素地に成形する工程;及び
(c)前記粉末バッチを結晶コージェライトに転化するのに有効な温度及び時間をもって前記生ハニカム素地を焼成する工程;
を含むことを特徴とする方法。 - 前記アルミナ生成源が50m 2 /gより大きな表面積を有することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 押出成形され焼成されたコージェライトセラミックハニカム体が、20%をこえる壁体多孔度を有することを特徴とする請求項1または2記載の方法。
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