以下、本発明の実施の形態によるワーク処理装置Sについて図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明に係るワーク処理装置Sの全体構成を示す斜視図である。このワーク処理装置Sは、プラズマを発生し、処理対象となるワークWに前記プラズマを照射するプラズマ発生ユニットPU(プラズマ発生手段)と、ワークWを前記プラズマの照射領域を経由する所定のルートで搬送する搬送手段Cとを備えている。本実施の形態では、ワークWとして、プラズマディスプレイや液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに採用されるガラス基板が採用されている。図2は、図1とは視線方向を異ならせたプラズマ発生ユニットPUの斜視図、図3は一部透視側面図である。なお、図1〜図3において、X−X方向を前後方向、Y−Y方向を左右方向、Z−Z方向を上下方向というものとし、−X方向を前方向、+X方向を後方向、−Yを左方向、+Y方向を右方向、−Z方向を下方向、+Z方向を上方向として説明する。
プラズマ発生ユニットPUは、マイクロ波を利用し常温常圧でのプラズマ発生が可能なユニットであって、大略的に、マイクロ波を伝搬させる導波管10、この導波管10の一端側(左側)に配置され所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置20、導波管10に設けられたプラズマ発生部30、導波管10の他端側(右側)に配置されマイクロ波を反射させるスライディングショート40、導波管10に放出されたマイクロ波のうち反射マイクロ波がマイクロ波発生装置20に戻らないよう分離するサーキュレータ50、サーキュレータ50で分離された反射マイクロ波を吸収するダミーロード60、及びインピーダンス整合を行うスタブチューナ70を備えて構成されている。
搬送手段Cは、図略の駆動モータにより回転駆動される搬送ローラ80を含む。導波管10は、例えば非磁性金属(アルミニウム等)からなり、断面矩形の長尺管状を呈し、マイクロ波発生装置20により発生されたマイクロ波をプラズマ発生部30へ向けて、その長手方向に伝搬させるものである。導波管10は、分割された複数の導波管ピースが互いのフランジ部同士で連結された連結体で構成されており、一端側から順に、マイクロ波発生装置20が搭載される第1導波管ピース11、スタブチューナ70が組み付けられる第2導波管ピース12及びプラズマ発生部30が設けられている第3導波管ピース13が連結されてなる。なお、第1導波管ピース11と第2導波管ピース12との間にはサーキュレータ50が介在され、第3導波管ピース13の他端側にはスライディングショート40が連結されている。
また、第1導波管ピース11、第2導波管ピース12及び第3導波管ピース13は、それぞれ金属平板からなる上面板、下面板及び2枚の側面板を用いて角筒状に組み立てられ、その両端にフランジ板が取り付けられて構成されている。なお、このような平板の組み立てによらず、押し出し成形や板状部材の折り曲げ加工等により形成された矩形導波管ピース若しくは非分割型の導波管を用いるようにしても良い。また、断面矩形の導波管に限らず、例えば断面楕円の導波管を用いることも可能である。さらに、非磁性金属に限らず、導波作用を有する各種の部材で導波管を構成することができる。
マイクロ波発生装置20は、例えば2.45GHzのマイクロ波を発生するマグネトロン等のマイクロ波発生源と、このマイクロ波発生源にて発生されたマイクロ波の強度を所定の出力強度に調整するアンプとを具備する装置本体部21と、装置本体部21で発生されたマイクロ波を導波管10の内部へ放出するマイクロ波送信アンテナ22とを備えて構成されている。本実施形態に係るプラズマ発生ユニットPUでは、例えば1W〜3kWのマイクロ波エネルギーを出力できる連続可変型のマイクロ波発生装置20が好適に用いられる。
図3に示すようにマイクロ波発生装置20は、装置本体部21からマイクロ波送信アンテナ22が突設された形態のものであり、第1導波管ピース11に載置される態様で固定されている。詳しくは、装置本体部21が第1導波管ピース11の上面板11Uに載置され、マイクロ波送信アンテナ22が上面板11Uに穿設された貫通孔111を通して第1導波管ピース11内部の導波空間110に突出する態様で固定されている。このように構成されることで、マイクロ波送信アンテナ22から放出された例えば2.45GHzのマイクロ波は、導波管10により、その一端側(左側)から他端側(右側)に向けて伝搬される。
プラズマ発生部30は、第3導波管ピース13の下面板13Bに、左右方向へ一列に整列して突設された8個のプラズマ発生ノズル31を具備して構成されている。このプラズマ発生部30の幅員、つまり8個のプラズマ発生ノズル31の左右方向の配列幅は、平板状のワークWの搬送方向と直交する幅方向のサイズtと略合致する幅員とされている。これにより、ワークWを搬送ローラ80で搬送しながら、ワークWの全表面(下面板13Bと対向する面)に対してプラズマ処理が行えるようになっている。
なお、8個のプラズマ発生ノズル31の配列間隔は、導波管10内を伝搬させるマイクロ波の波長λGに応じて定めることが望ましい。例えば、波長λGの1/2ピッチ、1/4ピッチでプラズマ発生ノズル31を配列することが望ましく、2.45GHzのマイクロ波を用いる場合、矩形の導波管10の断面サイズが2.84インチ×1.38インチのとき、λG=230mmであるので、115mm(λG/2)ピッチ、或いは57.5mm(λG/4)ピッチでプラズマ発生ノズル31を配列すれば良い。
8個のプラズマ発生ノズル31の各々の近傍には、各プラズマ発生ノズル31から放出されるプラズマのプルームPの光を受光するための8個の受光センサ101a〜101hが配設されている。受光センサ101a〜101hは、各々、第3導波管ピース13の下面板13Bから下方に延設された平板状の8個の支持板102の下方において、受光面がプラズマ発生ノズル31側に向かうように取り付けられている。
図4は、2つのプラズマ発生ノズル31を拡大して示す側面図(一方のプラズマ発生ノズル31は分解図として描いている)、図5は、図4のA−A線側断面図である。プラズマ発生ノズル31は、中心導電体32、ノズル本体33、ノズルホルダ34、シール部材35及び保護管36を含んで構成されている。
中心導電体32は、良導電性の金属から構成された棒状部材からなり、その上端部321の側が第3導波管ピース13の下面板13Bを貫通して導波空間130に所定長さだけ突出(この突出部分を受信アンテナ部320という)する一方で、下端部322がノズル本体33の下端縁331と略面一になるように、上下方向に配置されている。この中心導電体32には、受信アンテナ部320が導波管10内を伝搬するマイクロ波を受信することで、マイクロ波エネルギー(マイクロ波電力)が与えられるようになっている。当該中心導電体32は、長さ方向略中間部において、シール部材35により保持されている。
ノズル本体33は、良導電性の金属から構成され、中心導電体32を収納する筒状空間332を有する筒状体である。また、ノズルホルダ34も良導電性の金属から構成され、ノズル本体33を保持する比較的大径の下部保持空間341と、シール部材35を保持する比較的小径の上部保持空間342とを有する筒状体である。一方、シール部材35は、テフロン(登録商標)等の耐熱性樹脂材料やセラミック等からなる絶縁性部材からなり、前記中心導電体32を固定的に保持する保持孔351をその中心軸上に備える筒状体からなる。
ノズル本体33は、上方から順に、ノズルホルダ34の下部保持空間341に嵌合される上側胴部33Uと、後述するガスシールリング37を保持するための環状凹部33Sと、環状に突設されたフランジ部33Fと、ノズルホルダ34から突出する下側胴部33Bとを具備している。また、上側胴部33Uには、所定の処理ガスを前記筒状空間332へ供給させるための連通孔333が穿孔されている。
このノズル本体33は、中心導電体32の周囲に配置された外部導電体として機能するもので、中心導電体32は所定の環状空間H(絶縁間隔)が周囲に確保された状態で筒状空間332の中心軸上に挿通されている。ノズル本体33は、上側胴部33Uの外周部がノズルホルダ34の下部保持空間341の内周壁と接触し、またフランジ部33Fの上端面がノズルホルダ34の下端縁343と接触するようにノズルホルダ34に嵌合されている。なお、ノズル本体33は、例えばプランジャやセットビス等を用いて、ノズルホルダ34に対して着脱自在な固定構造で装着されることが望ましい。
ノズルホルダ34は、第3導波管ピース13の下面板13Bに穿孔された貫通孔131に密嵌合される上側胴部34U(上部保持空間342の位置に略対応する)と、下面板13Bから下方向に延出する下側胴部34B(下部保持空間341の位置に略対応する)とを備えている。下側胴部34Bの外周には、処理ガスを前記環状空間Hに供給するためのガス供給孔344が穿孔されている。図示は省略しているが、このガス供給孔344には、所定の処理ガスを供給するガス供給管の終端部が接続するための管継手等が取り付けられる。かかるガス供給孔344と、ノズル本体33の連通孔333とは、ノズル本体33がノズルホルダ34への定位置嵌合された場合に互いに連通状態となるように、各々位置設定されている。なお、ガス供給孔344と連通孔333との突き合わせ部からのガス漏洩を抑止するために、ノズル本体33とノズルホルダ34との間にはガスシールリング37が介在されている。
シール部材35は、その下端縁352がノズル本体33の上端縁334と当接し、その上端縁353がノズルホルダ34の上端係止部345と当接する態様で、ノズルホルダ34の上部保持空間342に保持されている。すなわち、上部保持空間342に中心導電体32を支持した状態のシール部材35が嵌合され、ノズル本体33の上端縁334でその下端縁352が押圧されるようにして組み付けられているものである。
保護管36(図5では図示省略している)は、所定長さの石英ガラスパイプ等からなり、ノズル本体33の筒状空間332の内径に略等しい外径を有する。この保護管36は、ノズル本体33の下端縁331での異常放電(アーキング)を防止して後述するプルームPを正常に放射させる機能を有しており、その一部がノズル本体33の下端縁331から突出するように、前記筒状空間332に内挿されている。なお、保護管36は、その先端部が下端縁331と一致するように、或いは下端縁331よりも内側へ入り込むように、その全体が筒状空間332に収納されていても良い。
プラズマ発生ノズル31は上記のように構成されている結果、ノズル本体33、ノズルホルダ34及び第3導波管ピース13(導波管10)は導通状態(同電位)とされている一方で、中心導電体32は絶縁性のシール部材35で支持されていることから、これらの部材とは電気的に絶縁されている。従って、図6に示すように、導波管10がアース電位とされた状態で、中心導電体32の受信アンテナ部320でマイクロ波が受信され中心導電体32にマイクロ波電力が給電されると、その下端部322及びノズル本体33の下端縁331の近傍に電界集中部が形成されるようになる。
かかる状態で、ガス供給孔344から例えば酸素ガスや空気のような酸素系の処理ガスが環状空間Hへ供給されると、前記マイクロ波電力により処理ガスが励起されて中心導電体32の下端部322付近においてプラズマ(電離気体)が発生する。このプラズマは、電子温度が数万度であるものの、ガス温度は外界温度に近い反応性プラズマ(中性分子が示すガス温度に比較して、電子が示す電子温度が極めて高い状態のプラズマ)であって、常圧下で発生するプラズマである。
このようにしてプラズマ化された処理ガスは、ガス供給孔344から与えられるガス流によりプルームPとしてノズル本体33の下端縁331から放射される。このプルームPにはラジカルが含まれ、例えば処理ガスとして酸素系ガスを使用すると酸素ラジカルが生成されることとなり、有機物の分解・除去作用、レジスト除去作用等を有するプルームPとすることができる。本実施形態に係るプラズマ発生ユニットPUでは、プラズマ発生ノズル31が複数個配列されていることから、左右方向に延びるライン状のプルームPを発生させることが可能となる。
スライディングショート40は、各々のプラズマ発生ノズル31に備えられている中心導電体32と、導波管10の内部を伝搬されるマイクロ波との結合状態を最適化するために備えられているもので、マイクロ波の反射位置を変化させて定在波パターンを調整可能とするべく第3導波管ピース13の右側端部に連結されている。従って、定在波を利用しない場合は、当該スライディングショート40に代えて、電波吸収作用を有するダミーロードが取り付けられる。
図7は、スライディングショート40の内部構造を示す透視斜視図である。図7に示すように、スライディングショート40は、導波管10と同様な断面矩形の筐体構造を備えており、導波管10と同じ材料で構成された中空空間410を有する筐体部41と、前記中空空間410内に収納された円柱状の反射ブロック42と、反射ブロック42の基端部に一体的に取り付けられ前記中空空間410内を左右方向に摺動する矩形ブロック43と、この矩形ブロック43に組み付けられた移動機構44と、反射ブロック42にシャフト45を介して直結されている調整ノブ46とが備えられている。
反射ブロック42は、マイクロ波の反射面となる先端面421が第3導波管ピース13の導波空間130に対向するよう左右方向に延在する円柱体である。この反射ブロック42は、矩形ブロック43と同様な角柱状を呈していても良い。前記移動機構44は、調整ノブ46の回転操作により矩形ブロック43及びこれと一体化された反射ブロック42を左右方向に推進若しくは後退させる機構であって、調整ノブ46を回転させることで反射ブロック42が中空空間410内において矩形ブロック43にてガイドされつつ左右方向に移動可能とされている。かかる反射ブロック42の移動による先端面421の位置調整によって、定在波パターンが最適化される。なお、調整ノブ46の回転操作を、ステッピングモータ等を用いて自動化することが望ましい。
サーキュレータ50は、例えばフェライト柱を内蔵する導波管型の3ポートサーキュレータからなり、一旦はプラズマ発生部30へ向けて伝搬されたマイクロ波のうち、プラズマ発生部30で電力消費されずに戻って来る反射マイクロ波を、マイクロ波発生装置20に戻さずダミーロード60へ向かわせるものである。このようなサーキュレータ50を配置することで、マイクロ波発生装置20が反射マイクロ波によって過熱状態となることが防止される。
図8は、サーキュレータ50の作用を説明するためのプラズマ発生ユニットPUの上面図である。図示するように、サーキュレータ50の第1ポート51には第1導波管ピース11が、第2ポート52には第2導波管ピース12が、さらに第3ポート53にはダミーロード60がそれぞれ接続されている。そして、マイクロ波発生装置20のマイクロ波送信アンテナ22から発生されたマイクロ波は、矢印aで示すように第1ポート51から第2ポート52を経由して第2導波管ピース12へ向かう。一方、第2導波管ピース12側から入射する反射マイクロ波は、矢印bで示すように、第2ポート52から第3ポート53へ向かうよう偏向され、ダミーロード60へ入射される。
ダミーロード60は、上述の反射マイクロ波を吸収して熱に変換する水冷型(空冷型でも良い)の電波吸収体である。このダミーロード60には、冷却水を内部に流通させるための冷却水流通口61が設けられており、反射マイクロ波を熱変換することにより発生した熱が前記冷却水に熱交換されるようになっている。
スタブチューナ70は、導波管10とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンス整合を図るためのもので、第2導波管ピース12の上面板12Uに所定間隔を置いて直列配置された3つのスタブチューナユニット70A〜70Cを備えている。図9は、スタブチューナ70の設置状況を示す透視側面図である。図示するように、3つのスタブチューナユニット70A〜70Cは同一構造を備えており、第2導波管ピース12の導波空間120に突出するスタブ71と、該スタブ71に一端721が直結された筒状体72と、前記筒状体72の他端722に固着されるナット73と、前記ナット73に螺合し、前記ナット73ならびにそれに連なる筒状体72およびスタブ71を前記導波空間120に出没させるボールねじ75と、前記ボールねじ75を回転駆動するステッピングモータ76と、前記ステッピングモータ76の出力軸761と前記ボールねじ75の一端部751とを直結する継手77と、後述する外套74の内周面に固定され、筒状に形成されて前記筒状体72およびスタブ71を収納するとともに、軸方向に形成された長孔791を有し、その長孔791内を前記筒状体72に立設されたピン723が摺動することで前記ボールねじ75によって回転駆動される筒状体72を軸方向に変位させ、スタブ71を導波空間120に出没させる案内筒79と、これら機構を保持する前記外套74とから構成されている。前記ステッピングモータ76の出力軸761と前記ボールねじ75の一端部751とは、ビス78によって継手77にそれぞれ固定され、連動して回転するようになる。また、出力軸761には、出力軸の回転数を検出するための回転検出器762が出力軸761と同心円状に取り付けられている。
搬送手段Cは、所定の搬送路に沿って配置された複数の搬送ローラ80を備え、図略の駆動手段により搬送ローラ80が駆動されることで、処理対象となるワークWを、前記プラズマ発生部30を経由して搬送させるものである。
次に、本実施の形態によるワーク処理装置Sの電気的構成について説明する。図10は、ワーク処理装置Sの電気的構成を示すブロック図である。この制御系は、全体制御部90と、出力インタフェイスや駆動回路等から成るマイクロ波出力制御部91と、ガス流量制御部92と、搬送制御部93と、スタブチューナ駆動部98と、表示手段や操作パネル等から成り、前記全体制御部90に対して所定の操作信号を与える操作部95と、入力インタフェイスやアナログ/デジタル変換器等から成るセンサ入力部94,97と、センサ971と、駆動モータ931と、流量制御弁923とを備えている。
マイクロ波出力制御部91は、マイクロ波発生装置20から出力されるマイクロ波のON−OFF制御、出力強度制御を行うもので、前記2.45GHzのパルス信号を生成してマイクロ波発生装置20の装置本体部21によるマイクロ波発生の動作制御を行う。
ガス流量制御部92は、プラズマ発生部30の各プラズマ発生ノズル31へ供給する処理ガスの流量制御を行うものである。具体的には、ガスボンベ等の処理ガス供給源921と各プラズマ発生ノズル31との間を接続するガス供給管922に設けられた前記流量制御弁923の開度調整をそれぞれ行う。本実施の形態では、ガス流量制御部92は、各流量制御弁923の開度が同じ大きさになるように、各流量制御弁923の開度調整を行う。
搬送制御部93は、搬送ローラ80を回転駆動させる駆動モータ931の動作制御を行うもので、ワークWの搬送開始/停止、および搬送速度の制御等を行うものである。
センサ入力部94は、例えばアナログデジタル変換器及びマルチプレクサから構成され、アナログデジタル変換器は、受光素子101a〜101hが受光する光量を示すアナログの受光データを一定のサンプリング間隔で取り込み、デジタルの受光データに変換し、マルチプレクサは、アナログデジタル変換器により変換されたデジタルの受光データを受光素子101a〜101hの順番でサイクリックに全体制御部90に出力する。
ここで、センサ入力部94は、受光素子101a〜101hから出力された受光データを、受光素子101a〜101hの順番でサイクリックに全体制御部90に出力するため、スタブ制御部902は、8個のプラズマ発生ノズル31のうち、どのプラズマ発生ノズル31がプルームPを点灯したかを判定することが可能となる。
操作部95は、プラズマ発生ノズル31からプラズマを発生させるための操作指令等のユーザからの種々の操作指令が入力される。センサ入力部97は、例えば、アナログデジタル変換器から構成され、速度センサ971によるワークWの搬送速度の測定結果を全体制御部90に出力する。速度センサ971は、ワークWの搬送速度を測定する。
全体制御部90は、CPU、ROM、RAM等から構成され、当該ワーク処理装置Sの全体的な動作制御を司るもので、操作部95から与えられる操作信号に応じて、センサ入力部97から入力される速度センサ971によるワークWの搬送速度の測定結果等をモニタし、ワークWの搬送速度を一定にする。
具体的には、全体制御部90は、ROMに予め格納されている制御プログラムに基づいて、ワークWの搬送を開始させてワークWをプラズマ発生部30へ導き、所定流量の処理ガスを各プラズマ発生ノズル31へ供給させつつマイクロ波電力を与えてプラズマ(プルームP)を発生させ、ワークWを搬送しながらその表面にプルームPを放射させるものである。これにより、複数のワークWを連続的に処理する。
また、全体制御部90は、点灯開始制御部901、スタブ制御部902、及び出没長記憶部903を備えている。点灯開始制御部901は、操作部95にユーザからのプラズマを出力するための操作指令が入力されたとき、ガス流量制御部92に流量制御弁923を開かせて、プラズマ発生ノズル31に処理ガスを供給させると共に、マイクロ波出力制御部91にマイクロ波発生装置20からマイクロ波を出力させ、プラズマ発生ノズル31の起動を開始させる。
スタブ制御部902は、点灯開始制御部901によりプラズマ発生ノズル31の起動が開始されてから、受光素子101a〜101hの全てがプラズマ発生ノズル31から放出されるプルームPを検出するまで、スタブチューナ駆動部98にスタブチューナユニット70Aのステッピングモータ76を駆動させ、スタブチューナユニット70Aのスタブ71の出没長を連続的に変化させる。以下、説明の便宜上、スタブチューナユニット70Aのスタブ71に701の符号を付し、スタブチューナユニット70Bのスタブ71に702の符号を付し、スタブチューナユニット70Cのスタブ71に703の符号を付す。
すなわち、スタブ制御部902は、スタブ701の先端を初期出没位置P1から最大出没位置P2まで連続的に変化させ、スタブ701の先端が最大出没位置P2に到達すると、ステッピングモータ76を逆回転させ、スタブ701の出没長を減少させ、スタブ701の先端が初期出没位置P1に到達するとステッピングモータ76を正回転させ、スタブ701の出没長を増大させるというようにして、スタブ701の先端を初期出没位置P1〜最大出没位置P2の範囲内で連続的に変化させる。そして、スタブ制御部902は、全ての受光素子101a〜101hがプルームPを検出したとき、スタブチューナ駆動部98に、スタブチューナユニット70A〜70Cの各ステッピングモータ76を駆動させ、スタブ701〜703の出没長が、出没長記憶部903により予め記憶されるスタブ701〜703の各々の規定出没長となるように、スタブ701〜703の出没長を設定する。なお、初期出没位置P1は導波管10の上面と面一である。
出没長記憶部903は、全てのプラズマ発生ノズル31がプルームPを点灯したときにおける導波管10とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンスをマッチさせることができる予め定められたスタブ701〜703の各々の出没長である規定出没長を記憶する。
次に、本ワーク処理装置Sの動作について説明する。図11は、本ワーク処理装置Sがプラズマ発生ノズル31を起動する際の動作を示すフローチャートである。なお、本フローチャートが開始される初期状態において、スタブ701〜703の各々の先端は、初期出没位置P1に位置しているとする。まず、操作部95にプラズマ発生ノズル31を起動させるための操作指令が入力されると、点灯開始制御部901は、ガス流量制御部92に流量制御弁を開かせてプラズマ発生ノズル31に処理ガスを供給すると共に、マイクロ波出力制御部91にマイクロ波発生装置20を駆動させ、プラズマ発生ノズル31の起動を開始する(ステップS1)。
次に、点灯開始制御部901は、スタブ701の先端を初期出没位置P1から最大出没位置P2の範囲内で連続的に変化させ、スタブ701の出没長を連続的に変化させる。このように、スタブ701の出没長を連続的に変化させることにより、いずれかの箇所で、導波管10とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンスがマッチすることとなり、全てのプラズマ発生ノズル31がプルームPを点灯するまでの時間を短縮化させ、プラズマの高速点灯を実現することができる。
ここで、回転検出器762は、スタブ701の出没長が増大するように出力軸761が回転する正方向に、出力軸761が回転するときは、出力軸761が1回転する度に1カウントアップし、スタブ701の出没長が減少するように出力軸761が回転する逆方向に、出力軸761が回転するときは、出力軸761が回転する度に1カウントダウンすることで回転軸761の回転数を検出する。そのため、点灯開始制御部901は、回転検出器762において、出力軸761の回転数が0回とカウントされたとき、スタブ701の先端が初期出没位置P1に存在すると判定し、回転検出器762において、出力軸761の回転数が、最大出没位置P2を示す予め定められた回転数分カウントされたとき、スタブ701の先端が最大出没位置P2に存在すると判定する。
次に、スタブ制御部902は、全ての受光素子101a〜101hによりプルームPが検出された場合(ステップS3でYES)、処理をステップS4に進め、全ての受光素子101a〜101hによりプルームPが検出されない場合(ステップS3でNO)、処理をステップS2に戻す。
ここで、スタブ制御部902は、受光素子101a〜101hから出力される受光データが予め定められた規定値以上である場合、当該受光データを出力した受光素子101a〜101hによってプルームPが検出されたプラズマ発生ノズル31からプルームPが放出されたと判定する。なお、上記規定値としては、プラズマ発生ノズル31がプルームPを放出しているときのプルームPの光量が採用されている。
次に、スタブ制御部902は、出没長記憶部903からスタブ701〜703の規定出没長を読み出し、スタブ701〜703の出没長が規定出没長となるように、スタブチューナ駆動部98にステッピングモータ76を回転させ、スタブ701を規定出没長まで出没させる。
これにより、導波管10とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンス整合が図られ、プラズマ発生ノズル31に効率良くプラズマを発生させることができる。
以上説明したように、本ワーク処理装置によれば、プラズマ発生ノズル31の起動を開始してから全てのプラズマ発生ノズル31からプルームPが放出されるまでは、スタブ701を連続的に変化させ、全てのプラズマ発生ノズル31からプルームPが放出された後は、スタブ701〜703を規定出没長まで出没させる。
すなわち、スタブの出没長を固定すると、導波管10内における磁場がプルームPを放出するプラズマ発生ノズル31の個数に応じて変化し、その変化に伴って、導波管10とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンスがマッチしなくなり、全てのプラズマ発生ノズル31からプルームPが放出されるまで長時間かかってしまう。しかしながら、本願のようにスタブの出没長を連続的に変化させると、出没長を変化させていくうちにプラズマ発生ノズル31と導波管10とのインピーダンスがマッチする箇所が表れることから、スタブ701の出没長を連続的に変化させるという簡便な制御でありながら、装置の環境状況や装置の劣化の経時的変化にも対処することができ、全てのプラズマ発生ノズル31からプラズマが出力されるまでの起動時間を短くすることができる。
なお、上記実施の形態では、スタブ制御部902は、全てのプラズマ発生ノズル31がプルームPを点灯するまで、スタブ701のみを連続的に変化させていたが、これに限定されず、スタブ701に加えて、スタブ702,703を連続的に変化させてもよい。これにより、多少制御は煩雑化するが、導波管10とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンスがマッチする箇所が多く発生する可能性が高まり、全てのプラズマ発生ノズル31からプラズマが出力されるまでの起動時間を更に短くすることが可能となる。
更に、スタブ701,703の初期位置を初期出没位置P1とし、スタブ702の初期位置を最大出没位置P2としてスタブ701〜703の出没長を連続的に変化させてもよい。
また、スタブ702のみ、又はスタブ703のみを連続的に変化させてもよいし、3つのスタブ701〜703のうち、いずれか2つのスタブ71を連続的に変化させてもよい。また、上記実施の形態では、スタブ71の個数を3個としたが、これに限定されず、スタブの個数を1個、2個、又は4個以上にしても良い。