JP4595362B2 - Liquid crystal display element - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示素子に関し、特に詳しくは液晶/硬化物複合体層を備える液晶表示素子に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display element, and more particularly to a liquid crystal display element including a liquid crystal / cured material composite layer.

液晶と透明な高分子とを複合して、高分子と液晶、または液晶内部(微小領域間)の屈折率差を生じせしめた透過−散乱型の光学素子が提案された。液晶/高分子複合体素子、液晶/樹脂複合体素子あるいは分散型液晶素子などと呼ばれている。この素子は原理的に偏光板を必要としないので、光の吸収損失が少なく、かつ高い散乱性能が得られ、素子全体における光の利用効率が高いことが大きな利点となっている。   A transmission-scattering type optical element has been proposed in which a liquid crystal and a transparent polymer are combined to cause a difference in refractive index between the polymer and the liquid crystal, or inside the liquid crystal (between microregions). It is called a liquid crystal / polymer composite element, a liquid crystal / resin composite element, or a dispersed liquid crystal element. Since this element does not require a polarizing plate in principle, it has a great advantage that light absorption loss is small, high scattering performance is obtained, and light use efficiency in the entire element is high.

この特性を生かして、調光ガラス、光シャッター、レーザー装置および表示装置などに用いられている。電圧非印加で散乱状態、電圧印加で透明状態のものが商用化された。   Taking advantage of this characteristic, it is used for light control glass, optical shutters, laser devices, display devices and the like. Those in a scattering state when no voltage was applied and in a transparent state when a voltage was applied were commercialized.

さらに、特許文献1では、液晶と重合性の液晶を用いた素子が開示された。この従来技術では、電圧非印加時において素子内の液晶と重合された液晶とが同じ配向方向を有しているので、素子をどの方向から見ても透明状態を呈する。そして、電圧印加時には、素子内の液晶の配向が電界によって制御され、液晶分子の配列方向が微小領域においてさまざまに変化することにより、素子は散乱状態を呈する。   Further, Patent Document 1 discloses an element using a liquid crystal and a polymerizable liquid crystal. In this prior art, when no voltage is applied, the liquid crystal in the element and the polymerized liquid crystal have the same alignment direction, and thus the transparent state is exhibited when the element is viewed from any direction. When a voltage is applied, the orientation of the liquid crystal in the element is controlled by an electric field, and the arrangement direction of the liquid crystal molecules changes variously in a minute region, whereby the element exhibits a scattering state.

また、カイラル剤を添加して初期配向にヘリカル構造を設けることで、コントラスト比が向上することが開示された。この素子は、「異方性ゲル」または「液晶ゲル」と呼ばれている。この従来技術ではアクリロイル基を末端に持つメソゲンモノマーが使用された。   It has also been disclosed that the contrast ratio is improved by adding a chiral agent to provide a helical structure in the initial orientation. This element is called “anisotropic gel” or “liquid crystal gel”. In this prior art, a mesogenic monomer having an acryloyl group at the terminal is used.

また、特許文献2にも同様の構成を持つ素子が開示された。特許文献1と同様の動作モードであって、カイラルネマチック液晶中に微量の高分子を分散させ、電圧非印加時に透明状態、電圧印加時に散乱状態を得る。この素子はPSCT(ポリマー・スタビライズド・コレステリック・テクスチャー)と呼ばれている。この文献にもアクリロイル基を末端に持つメソゲンモノマーが開示された。   Patent Document 2 also discloses an element having a similar configuration. The operation mode is the same as in Patent Document 1, and a small amount of polymer is dispersed in a chiral nematic liquid crystal to obtain a transparent state when no voltage is applied and a scattering state when a voltage is applied. This element is called PSCT (Polymer Stabilized Cholesteric Texture). This document also disclosed a mesogenic monomer having an acryloyl group at its terminal.

液晶表示素子では、電極を有する1対の基板の間に液晶と光硬化性樹脂との混合体を狭持している。そして、透過状態と散乱状態の透過率の差を大きくしてコントラストを向上させるため、露光して光硬化させている(特許文献3)。この液晶表示素子において、電圧非印加時に液晶は基板と垂直に配向して、透過状態となる。一方、電圧印加時には、液晶がランダムに配向して、散乱状態となる。   In a liquid crystal display element, a mixture of a liquid crystal and a photocurable resin is sandwiched between a pair of substrates having electrodes. And in order to improve the contrast by increasing the difference in transmittance between the transmissive state and the scattering state, exposure and photocuring are performed (Patent Document 3). In this liquid crystal display element, when no voltage is applied, the liquid crystal is aligned perpendicular to the substrate and is in a transmissive state. On the other hand, when a voltage is applied, the liquid crystal is randomly oriented and enters a scattering state.

また、液晶を注入するための開口部を封止するために露光する液晶表示素子の製造方法が開示されている(特許文献4)。この方法では、液晶組成物と光硬化性化合物とを含む液体状混合物を注入する開口部を紫外線で露光して、開口部を封止する。そして、液晶セル全体に紫外線を照射して、光重合反応により、電気光学機能層となる液晶樹脂複合体層を形成している。このように2回の露光ステップにより液晶表示素子を製造している。   In addition, a manufacturing method of a liquid crystal display element that is exposed to seal an opening for injecting liquid crystal is disclosed (Patent Document 4). In this method, an opening for injecting a liquid mixture containing a liquid crystal composition and a photocurable compound is exposed to ultraviolet rays to seal the opening. Then, the entire liquid crystal cell is irradiated with ultraviolet rays to form a liquid crystal resin composite layer serving as an electro-optical functional layer by a photopolymerization reaction. Thus, a liquid crystal display element is manufactured by two exposure steps.

このような液晶表示素子は電圧非印加時において光を透過する透過状態であるため、各種商品を展示するショーウインドウ、ショーケース等、自動車のメーターを表示するインパネやパチンコ台の前面板として利用されるようになっている。このような用途に利用される場合、液晶表示素子の耐衝撃性が問題になる。すなわち、液晶表示素子の1対の基板が衝撃によって、液晶の配向に歪みが生じてしまう。これにより、その部分の表示特性が劣化してしまう。例えば、衝撃が与えられた箇所の周辺が白濁した状態のまま、透明に戻らない。このように、従来は液晶表示素子では耐衝撃性が低く、十分な耐衝撃性を持つ液晶表示素子を製造することが困難であるという問題点があった。   Since such a liquid crystal display element is in a transmissive state that transmits light when no voltage is applied, it is used as a front panel for instrument panels and pachinko machines that display automobile meters, such as show windows and showcases that display various products. It has become so. When used in such applications, the impact resistance of the liquid crystal display element becomes a problem. That is, the pair of substrates of the liquid crystal display element is distorted in the alignment of the liquid crystal due to the impact. Thereby, the display characteristic of the part will deteriorate. For example, the area around the place where the impact is applied remains cloudy and does not return to transparency. Thus, the conventional liquid crystal display device has a problem that the impact resistance is low, and it is difficult to manufacture a liquid crystal display device having a sufficient impact resistance.

米国特許公報第5188760号明細書US Pat. No. 5,188,760 国際公開第92/19695号パンフレットInternational Publication No. 92/19695 Pamphlet 特開2000−119656号公報JP 2000-119656 A 特開平8−129184号公報JP-A-8-129184

このように従来の液晶表示素子では、衝撃を受けた箇所の表示特性が劣化するという問題点があった。   As described above, the conventional liquid crystal display device has a problem in that the display characteristics of the portion subjected to the impact deteriorate.

本発明は上述の問題点に鑑みてなされたものであって、耐衝撃性の強い液晶表示素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a liquid crystal display element having high impact resistance.

本発明の第1の態様にかかる液晶表示素子は、少なくとも一方が透明な一対の基板間に狭持されたネマチック液晶と式(1)の光硬化性化合物との混合体を露光することにより形成された液晶光硬化物複合体を備える液晶表示素子であって、前記液晶光硬化物複合体が、電圧非印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる動作領域(例えば、本発明の実施の形態における散乱表示部6)と、前記動作領域とほぼ同じ成分比を有し、前記光硬化性化合物のポリマーに固定化された前記ネマチック液晶を含み、電圧によって透過率が変化しない液晶固定化領域(例えば、本発明の実施の形態における耐衝撃性構造部5)とを備えるものである。これにより、液晶表示素子の表示特性を劣化させずに耐衝撃性の向上することができる。
1−(OR1n−O−Z−O−(R2O)m−A2・・・式(1)
(但し、(A1 、A2 )は、それぞれ独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基、アリル基であり、R1、R2はそれぞれ独立に炭素数2〜6のアルキレン基であり、Zは2価のメソゲン構造物である。n、mはそれぞれ独立に1〜10の整数
The liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention is formed by exposing a mixture of a nematic liquid crystal sandwiched between a pair of substrates, at least one of which is transparent, and a photocurable compound of the formula (1). A liquid crystal display element comprising the liquid crystal photocured composite, wherein the liquid crystal photocured composite is in a transparent state when no voltage is applied and is in a scattering state when a voltage is applied (for example, implementation of the present invention). The liquid crystal immobilization has the same component ratio as that of the operating region and includes the nematic liquid crystal immobilized on the polymer of the photocurable compound, and the transmittance does not change depending on the voltage. A region (for example, the impact resistant structure 5 in the embodiment of the present invention). Thereby, impact resistance can be improved without degrading the display characteristics of the liquid crystal display element.
A 1 - (OR 1) n -O-Z-O- (R 2 O) m -A 2 ··· Equation (1)
(However, (A 1 , A 2 ) is each independently an acryloyl group, a methacryloyl group, a glycidyl group, and an allyl group, R 1 and R 2 are each independently an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and Z is A divalent mesogen structure, wherein n and m are each independently an integer of 1 to 10 )

本発明の第2の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子であって、表示領域において、前記動作領域の面積が前記液晶固定化領域と前記動作領域との合計面積の60%以上85%以下であるものである。これにより、表示特性が優れ、かつ耐衝撃性の優れた液晶表示素子を提供できる。   A liquid crystal display element according to a second aspect of the present invention is the above-described liquid crystal display element, wherein an area of the operation region is 60% or more of a total area of the liquid crystal fixed region and the operation region in the display region. 85% or less. As a result, a liquid crystal display element having excellent display characteristics and excellent impact resistance can be provided.

本発明の第3の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記液晶は負の誘電異方性を有し、前記液晶を基板面と垂直に配向させる配向膜が少なくとも一方の基板の表面に設けられているものである。これにより、液晶表示素子の表示特性を向上することができる。   A liquid crystal display element according to a third aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the liquid crystal has negative dielectric anisotropy, and at least one alignment film for aligning the liquid crystal perpendicular to the substrate surface is provided. It is provided on the surface of the substrate. Thereby, the display characteristic of a liquid crystal display element can be improved.

本発明の第4の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記液晶固定化領域が前記混合物とほぼ同一の組成からパターン露光により形成されているものである。これにより、簡易な構成で液晶表示素子の表示特性を劣化させずに耐衝撃性の向上することができる。   A liquid crystal display element according to a fourth aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the liquid crystal immobilization region is formed by pattern exposure from substantially the same composition as the mixture. Thereby, it is possible to improve the impact resistance without deteriorating the display characteristics of the liquid crystal display element with a simple configuration.

本発明の第5の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記液晶固定化領域において前記液晶の質量が前記液晶と前記光硬化性化合物との合計質量に対して50%以上であるものである。   The liquid crystal display element according to the fifth aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the mass of the liquid crystal in the liquid crystal immobilization region is 50% or more based on the total mass of the liquid crystal and the photocurable compound. It is what is.

本発明の第6の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記液晶固定化領域の透過率が50%以上であるものである。液晶表示素子の表示特性を向上することができる。   A liquid crystal display element according to a sixth aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the liquid crystal immobilization region has a transmittance of 50% or more. The display characteristics of the liquid crystal display element can be improved.

本発明の第7の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記液晶固定化領域が光学的に等方的であるものである。液晶表示素子の表示特性を向上することができる。   A liquid crystal display element according to a seventh aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the liquid crystal immobilization region is optically isotropic. The display characteristics of the liquid crystal display element can be improved.

本発明の第8の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記液晶固定化領域が多角形の連続接合形状であるものである。これにより、耐衝撃性を向上することができる。   The liquid crystal display element according to an eighth aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the liquid crystal immobilization region has a polygonal continuous junction shape. Thereby, impact resistance can be improved.

本発明の第9の態様にかかる液晶表示素子は、上記の液晶表示素子において、前記多角形が正六角形であるものである。これにより、耐衝撃性を向上することができる。
本発明の第10の態様にかかる液晶表示素子の製造方法は、少なくとも一方が透明な一対の基板間に狭持されたネマチック液晶と式(1)の光硬化性化合物との混合体を露光することにより形成された液晶光硬化物複合体を備える液晶表示素子の製造方法であって、前記ネマチック液晶がアイソトロピック状態を示す温度で、前記一対の基板間の前記混合体を露光することによって、固定化された前記ネマチック液晶を含み、電圧によって透過率が変化しない液晶固定化領域を形成する第1の露光ステップと、前記液晶固定化領域が形成された後、前記第1の露光ステップよりも低照度かつ液晶状態を示す温度で前記混合体を露光することによって、前記液晶固定化領域とほぼ同じ成分比を有し、電圧非印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる動作領域を形成する第2の露光ステップと、を備えるものである。これにより、耐衝撃性を向上することができる。
1−(OR1n−O−Z−O−(R2O)m−A2・・・式(1)
(但し、(A1 、A2 )は、それぞれ独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基、アリル基であり、R1、R2はそれぞれ独立に炭素数2〜6のアルキレン基であり、Zは2価のメソゲン構造物である。n、mはそれぞれ独立に1〜10の整数


A liquid crystal display element according to a ninth aspect of the present invention is the above liquid crystal display element, wherein the polygon is a regular hexagon. Thereby, impact resistance can be improved.
In the method for producing a liquid crystal display element according to the tenth aspect of the present invention, a mixture of a nematic liquid crystal sandwiched between a pair of substrates at least one of which is transparent and a photocurable compound of the formula (1) is exposed. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a liquid crystal photocured composite formed by exposing the mixture between the pair of substrates at a temperature at which the nematic liquid crystal exhibits an isotropic state, A first exposure step for forming a liquid crystal fixed region that includes the fixed nematic liquid crystal and whose transmittance does not change depending on a voltage; and after the liquid crystal fixed region is formed, than the first exposure step. By exposing the mixture at a low illuminance and a temperature showing a liquid crystal state, the mixture has almost the same component ratio as the liquid crystal immobilization region, becomes transparent when no voltage is applied, and when a voltage is applied A second exposure step of forming an operating region to be a scattering state, but with a. Thereby, impact resistance can be improved.
A 1 - (OR 1) n -O-Z-O- (R 2 O) m -A 2 ··· Equation (1)
(However, (A 1 , A 2 ) is each independently an acryloyl group, a methacryloyl group, a glycidyl group, and an allyl group, R 1 and R 2 are each independently an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and Z is A divalent mesogen structure, wherein n and m are each independently an integer of 1 to 10 )


本発明によれば、耐衝撃性の強い液晶表示素子を提供することができる。   According to the present invention, a liquid crystal display element having high impact resistance can be provided.

以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能であろう。尚、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略される。   Hereinafter, embodiments to which the present invention can be applied will be described. The following description is to describe the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment. For clarity of explanation, the following description is omitted and simplified as appropriate. Further, those skilled in the art will be able to easily change, add, and convert each element of the following embodiments within the scope of the present invention. In addition, what attached | subjected the same code | symbol in each figure has shown the same element, and abbreviate | omits description suitably.

本発明に好適な光硬化性化合物について説明する。本発明においては、未硬化の硬化性化合物中のメソゲン構造部と硬化部位との間に分子運動性の高いオキシアルキレン構造を導入することで、硬化過程における硬化部位の分子運動性を向上させ、短時間の硬化反応においても、電界印加/非印加時の状態が安定で信頼性が高く、かつコントラストも高い液晶光学素子が得られる。この硬化性化合物の化学式を式(1)に示す。   The photocurable compound suitable for the present invention will be described. In the present invention, by introducing an oxyalkylene structure having high molecular mobility between the mesogen structure portion and the cured site in the uncured curable compound, the molecular mobility of the cured site in the curing process is improved, Even in a short-time curing reaction, a liquid crystal optical element can be obtained in which the state during application / non-application of the electric field is stable and reliable, and the contrast is high. The chemical formula of this curable compound is shown in Formula (1).

Figure 0004595362
Figure 0004595362

化学式(1)の硬化部位(A1 、A2 )としては、一般に硬化触媒とともに光硬化、熱硬化可能な上記の官能基であればいずれでもよいが、なかでも、硬化時の温度を制御できることから光硬化に適するアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。また、硬化部位(A1 、A2 )はグリシジル基、アリル基であってもよい。 The curing site (A 1 , A 2 ) of the chemical formula (1) may be any of the above functional groups that can be photocured and thermally cured together with a curing catalyst, and in particular, the temperature during curing can be controlled. To acryloyl group and methacryloyl group suitable for photocuring. Further, the cured site (A 1 , A 2 ) may be a glycidyl group or an allyl group.

式(1)のオキシアルキレン部のR1およびR2の炭素数については、その運動性からそれぞれ独立で2〜6が好ましく、さらに炭素数2のエチレン基の連鎖および炭素数3のプロピレン基が好ましい。 The number of carbon atoms of R 1 and R 2 in the oxyalkylene moiety of formula (1) is preferably 2 to 6 independently from the mobility, and further, a chain of ethylene groups having 2 carbon atoms and a propylene group having 3 carbon atoms are preferred. preferable.

式(1)のメソゲン構造部(Z)としては、1、4−フェニレン基が2個以上連結した2価のポリフェニレンが好ましい。また、このポリフェニレン基中の一部の1,4−フェニレン基が1,4−シクロヘキシレン基で置換された2価の有機基であってもよい。   As the mesogen structure part (Z) of the formula (1), divalent polyphenylene in which two or more 1,4-phenylene groups are linked is preferable. Further, a divalent organic group in which a part of the 1,4-phenylene group in the polyphenylene group is substituted with a 1,4-cyclohexylene group may be used.

これらポリフェニレン基や2価の有機基の水素原子の一部または全部は炭素数1〜2のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基などの置換基に置換されていてもよい。好ましいZは、1,4−フェニレン基が2個連結したビフェニレン基(以下、4,4'−ビフェニレン基という。)、3個連結したターフェニレン基、およびこれらの水素原子の1〜4個が炭素数1〜2のアルキル基、フッ素原子、塩素原子もしくはカルボキシル基に置換された2価の有機基である。最も、好ましいZは置換基を有しない4,4'−ビフェニレン基である。   Some or all of the hydrogen atoms of these polyphenylene groups and divalent organic groups may be substituted with substituents such as alkyl groups having 1 to 2 carbon atoms, halogen atoms, carboxyl groups, and alkoxycarbonyl groups. Preferred Z is a biphenylene group in which two 1,4-phenylene groups are linked (hereinafter referred to as 4,4′-biphenylene group), a terphenylene group in which three 1,4-phenylene groups are linked, and 1 to 4 of these hydrogen atoms. It is a divalent organic group substituted by an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, a fluorine atom, a chlorine atom or a carboxyl group. Most preferred Z is a 4,4′-biphenylene group having no substituent.

式(1)のn、mはあまり大きいと液晶との相溶性が低下するため、それぞれ独立に1〜10であり、硬化後の素子特性を考慮すると1〜4がさらに好ましい。   If n and m in the formula (1) are too large, the compatibility with the liquid crystal is lowered. Therefore, each is independently 1 to 10, and 1 to 4 is more preferable in consideration of element characteristics after curing.

液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物が硬化触媒を含有していてもよく、光硬化の場合、ベンゾインエーテル系、アセトフェノン系、フォスフィンオキサイド系などの一般に光硬化樹脂に用いられる光重合開始剤を使用できる。   A mixture of liquid crystal and an uncured curable compound may contain a curing catalyst. In the case of photocuring, a photopolymerization initiator generally used for photocuring resins such as benzoin ether, acetophenone, and phosphine oxide. Can be used.

硬化触媒の含有量は、含有する未硬化の硬化性化合物の20wt%以下が好ましく、硬化後の硬化物の高い分子量や高い比抵抗が要求される場合、1〜10wt%とすることがさらに好ましい。また、電界印加/非印加時の素子のコントラストを向上させるために、液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物にカイラル剤を添加することもできる。   The content of the curing catalyst is preferably 20 wt% or less of the uncured curable compound to be contained, and more preferably 1 to 10 wt% when a high molecular weight or high specific resistance of the cured product after curing is required. . Further, a chiral agent can be added to a mixture of liquid crystal and an uncured curable compound in order to improve the contrast of the device when an electric field is applied / not applied.

液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物中の未硬化の硬化性化合物は、液晶との相溶性を向上させるために、式(1)でn、mの異なる複数の未硬化の硬化性化合物を含んでいてもよく、それによりさらにコントラストを改善することができる。   In order to improve the compatibility with the liquid crystal, the uncured curable compound in the mixture of the liquid crystal and the uncured curable compound includes a plurality of uncured curable compounds having different n and m in the formula (1). May be included, thereby further improving the contrast.

一方、液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物は、混合後均質な溶液であることが好ましい。また、液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物は、電極付き基板に狭持されるとき、液晶相を示していてもよい。液晶としては例えば、誘電率異方性が負であるネマチック液晶を用いることができる。液晶と硬化性化合物の混合比は好適な一例として、液晶が80〜85wt%で硬化性混合物が15〜20wt%である。液晶の質量は液晶と硬化性化合物の合計質量の50%以上であることが好ましい。   On the other hand, the mixture of the liquid crystal and the uncured curable compound is preferably a homogeneous solution after mixing. Moreover, the mixture of a liquid crystal and an uncured curable compound may exhibit a liquid crystal phase when sandwiched between substrates with electrodes. As the liquid crystal, for example, a nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy can be used. As a suitable example, the mixing ratio of the liquid crystal and the curable compound is 80 to 85 wt% for the liquid crystal and 15 to 20 wt% for the curable mixture. The mass of the liquid crystal is preferably 50% or more of the total mass of the liquid crystal and the curable compound.

液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物は、硬化されるとき、液晶相を示していてもよい。液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物を狭持する電極付き基板の電極表面を直接研磨したり、樹脂の薄膜を設けたり、それをラビングするなどして、電極表面に液晶を配向させる機能を付与することもでき、   The mixture of liquid crystal and uncured curable compound may exhibit a liquid crystal phase when cured. The function of aligning the liquid crystal on the electrode surface by directly polishing the electrode surface of the substrate with the electrode holding the mixture of liquid crystal and uncured curable compound, or by providing a resin thin film or rubbing it. Can also be granted,

また、一対の配向処理済み基板の配向方向の組み合わせとしては、平行、直交、いずれでもよく、混合物狭持時のむらが最小となるよう角度を設定すればよい。   Further, the combination of the alignment directions of the pair of alignment-treated substrates may be either parallel or orthogonal, and the angle may be set so that the unevenness when the mixture is held is minimized.

電極間の距離は、スペーサー等で保持することができ、間隔は2〜50μmが好ましく、さらには4〜30μmが好ましい。電極間隔は小さすぎるとコントラストが低下し、大きすぎると駆動電圧が上昇する。   The distance between the electrodes can be held by a spacer or the like, and the interval is preferably 2 to 50 μm, more preferably 4 to 30 μm. When the electrode interval is too small, the contrast is lowered, and when it is too large, the drive voltage is increased.

本発明にかかる液晶表示素子の構成について図1を用いて説明する。図1は本発明にかかる液晶光学素子の構成を示す模式的断面図である。1Aと1Bは基板、2Aと2Bは電極、3Aと3Bは配向膜、4は液晶と硬化性化合物の複合体層、5は耐衝撃性構造部、6は散乱表示部である。   The structure of the liquid crystal display element according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal optical element according to the present invention. 1A and 1B are substrates, 2A and 2B are electrodes, 3A and 3B are alignment films, 4 is a composite layer of liquid crystal and a curable compound, 5 is an impact-resistant structure portion, and 6 is a scattering display portion.

電極を支持する基板1A、1Bは、例えば、透明なガラス基板でも樹脂基板でもよく、またガラス基板と樹脂基板の組み合わせでもよい。また、片方がアルミニウムや誘電体多層膜の反射電極であってもよい。   The substrates 1A and 1B that support the electrodes may be, for example, a transparent glass substrate or a resin substrate, or a combination of a glass substrate and a resin substrate. Alternatively, one may be a reflective electrode made of aluminum or a dielectric multilayer film.

フィルム基板の場合、連続で供給される電極付き基板を2本のゴムロール等で挟み、その間に、スペーサーを含有分散させた液晶と未硬化の硬化性化合物との混合物を供給し、挟み込み、その後連続で硬化させることができるので生産性が高い。   In the case of a film substrate, a substrate with electrodes to be continuously supplied is sandwiched between two rubber rolls, and a mixture of a liquid crystal containing a spacer and dispersed therein and an uncured curable compound is sandwiched between the substrates, and then sandwiched continuously. Productivity is high because it can be cured with

ガラス基板の場合、電極面内に微量のスペーサーを散布し、対向させた基板の4辺をエポキシ樹脂等のシール剤で封止セルとし、2カ所以上の設けたシールの切り欠きの一方を液晶と未硬化の硬化性化合物の混合物に浸し、他方より吸引することでセル内に混合物を満たし、硬化させ液晶光学素子を得ることができる。また、真空注入法を用いることもできる。   In the case of a glass substrate, a small amount of spacers are scattered on the electrode surface, and the four sides of the opposed substrate are sealed with a sealing agent such as epoxy resin, and one of the cutouts of the seals provided at two or more locations is liquid crystal A liquid crystal optical element can be obtained by immersing in a mixture of curable compound and uncured curable compound and sucking from the other to fill the cell with the mixture and cure. A vacuum injection method can also be used.

基板1A、1Bの上には電極2A、2Bのパターンが形成されている。この電極2A、2Bは例えば、ITO等の透明導電膜により形成されている。また、電極2A、2Bは表示画面に対応してパターニングされていてよい。電極2A、2Bの上には液晶を配向させるための配向膜3A、3Bがそれぞれ設けられている。配向膜3A、3Bは液晶と接するように基板1A、1Bの表面にそれぞれ形成される。配向膜3A、3Bのうち、少なくとも一方は液晶を基板面に垂直に配向させることが望ましい。これにより、表示特性を向上できる。   Patterns of electrodes 2A and 2B are formed on the substrates 1A and 1B. The electrodes 2A and 2B are formed of a transparent conductive film such as ITO. The electrodes 2A and 2B may be patterned corresponding to the display screen. Alignment films 3A and 3B for aligning liquid crystals are provided on the electrodes 2A and 2B, respectively. The alignment films 3A and 3B are respectively formed on the surfaces of the substrates 1A and 1B so as to be in contact with the liquid crystal. It is desirable that at least one of the alignment films 3A and 3B aligns the liquid crystal perpendicular to the substrate surface. Thereby, display characteristics can be improved.

この2枚の基板の間には液晶と硬化性化合物の混合物を露光することにより形成される複合体層4が狭持されている。複合体4は耐衝撃性構造部5と散乱表示部6とに区分される。耐衝撃性構造部5は電圧の印加時と非印加時とで透過率に略変化がなく、透明状態のままである。従って、耐衝撃性構造部5は液晶が固定化された液晶固定化領域となる。一方、散乱表示部6は電圧非印加時には透明状態であるが、電圧印加時には透過率が変化して散乱状態となる。従って、散乱表示部6は電圧によって液晶が動作する動作領域となる。この耐衝撃性構造部5と散乱表示部6は次に示す露光工程の露光条件の違いにより形成されるため、略同じ成分比をしている。   A composite layer 4 formed by exposing a mixture of liquid crystal and a curable compound is sandwiched between the two substrates. The composite 4 is divided into an impact resistant structure 5 and a scattering display 6. The impact-resistant structural part 5 remains substantially transparent with almost no change in transmittance between when voltage is applied and when voltage is not applied. Therefore, the impact resistant structure 5 becomes a liquid crystal fixing region where the liquid crystal is fixed. On the other hand, the scattering display unit 6 is in a transparent state when no voltage is applied, but the transmittance is changed to be in a scattering state when a voltage is applied. Therefore, the scattering display unit 6 becomes an operation region in which the liquid crystal operates by voltage. Since the impact-resistant structure portion 5 and the scattering display portion 6 are formed by the difference in exposure conditions in the following exposure process, they have substantially the same component ratio.

この電極2A、2Bに電圧を印加すると電極間の電界により液晶がランダムに配向して、散乱表示部6が散乱状態となる。一方、電極2A、2Bに電圧を印加していないときは、液晶が配向しているので散乱表示部6が透明状態となる。透明状態の散乱表示部6は耐衝撃性構造部5と略同じ透過率となり、液晶表示素子の背面を観察することができる。このように電圧の印加、非印加によって、散乱状態と透明状態が変化するため、形成されている電極2A、2Bのパターンに応じて所望の画像を表示することができる。   When a voltage is applied to the electrodes 2A and 2B, the liquid crystal is randomly oriented by the electric field between the electrodes, and the scattering display unit 6 enters a scattering state. On the other hand, when no voltage is applied to the electrodes 2A and 2B, since the liquid crystal is aligned, the scattering display section 6 is in a transparent state. The transparent scattering display section 6 has substantially the same transmittance as the impact-resistant structure section 5, and the back surface of the liquid crystal display element can be observed. As described above, since the scattering state and the transparent state change depending on whether the voltage is applied or not, a desired image can be displayed according to the pattern of the formed electrodes 2A and 2B.

上述の液晶表示素子の製造方法について図2を用いて説明する。図2は製造工程における液晶表示素子の構成を模式的に示す断面図である。7はマスク、8は反射防止板、9は拡散板、10は液晶表示素子である。   A method for manufacturing the above-described liquid crystal display element will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the liquid crystal display element in the manufacturing process. 7 is a mask, 8 is an antireflection plate, 9 is a diffusion plate, and 10 is a liquid crystal display element.

液晶表示素子10には図1で示したように1対の基板に液晶と硬化性化合物の複合体層4が狭持されている。この液晶表示素子10の内部構成については図1で示したものと同様であるので図示を省略する。この液晶表示素子10の表面側には露光用のマスク7を設ける。露光用の光源としては、主波長が365nmの紫外線光源が用いられている。第1の露光工程では、耐衝撃性構造部5のパターンを形成するため、図2(a)に示すようにマスク7を介して液晶表示素子10に平行な光束が照射される。   In the liquid crystal display element 10, as shown in FIG. 1, a composite layer 4 of liquid crystal and a curable compound is sandwiched between a pair of substrates. The internal configuration of the liquid crystal display element 10 is the same as that shown in FIG. An exposure mask 7 is provided on the surface side of the liquid crystal display element 10. As a light source for exposure, an ultraviolet light source having a dominant wavelength of 365 nm is used. In the first exposure process, in order to form the pattern of the impact-resistant structure 5, a light beam parallel to the liquid crystal display element 10 is irradiated through the mask 7 as shown in FIG.

マスク7には通常の露光用マスクが用いられる。例えば、透明なガラス基板に散乱表示部のパターンに応じた遮光パターンが設けられたものをマスク7として用いることができる。さらに基板の裏面側には液晶表示素子10を透過した光が反射するのを防止するための黒色の反射防止板8が設けられている。反射防止板8は露光波長である波長が365nmを吸収する材質により形成された板である。この反射防止板8を設けることにより、液晶表示素子10を透過した光が吸収されるため、光が液晶表示素子10の方向に反射されてマスク7のパターン以外に照射されるのを防ぐことができる。従って、所望のパターンを精度良く露光することができる。   As the mask 7, a normal exposure mask is used. For example, a transparent glass substrate provided with a light shielding pattern corresponding to the pattern of the scattering display portion can be used as the mask 7. Further, a black antireflection plate 8 is provided on the back side of the substrate for preventing the light transmitted through the liquid crystal display element 10 from being reflected. The antireflection plate 8 is a plate formed of a material that absorbs 365 nm as an exposure wavelength. By providing the antireflection plate 8, light transmitted through the liquid crystal display element 10 is absorbed, and therefore, it is possible to prevent the light from being reflected in the direction of the liquid crystal display element 10 and being irradiated outside the pattern of the mask 7. it can. Therefore, a desired pattern can be exposed with high accuracy.

上述のマスク7のパターンによって、光が照射された箇所の混合物はモノマーである硬化性化合物が架橋重合してポリマーが形成される。光が照射された部分が耐衝撃性構造部5となる。耐衝撃性構造部5は透明であっても、散乱状態であってもよいが、透明状態であることが好ましい。さらに耐衝撃性構造部5は光学的に等方性を有することが好ましい。すなわち、いずれの方向においても光学特性が同じであることが好ましい。この耐衝撃性構造部5を形成するための露光では液晶表示素子10の温度を例えば、80℃にした状態で露光を行う。従って、アイソトロピック状態で重合反応が進行するため耐衝撃性構造部5が形成される。この耐衝撃性構造部5は液晶表示素子10の耐衝撃性を向上するための耐衝撃構造部となる。すなわち、マスク重合で形成した耐衝撃性構造部5は基板間を支える壁又は支柱となり、液晶表示素子の耐衝撃性を向上させる。   According to the pattern of the mask 7 described above, the mixture of the portion irradiated with light crosslinks and polymerizes a curable compound as a monomer to form a polymer. The portion irradiated with light becomes the impact resistant structure 5. The impact resistant structure 5 may be transparent or in a scattering state, but is preferably in a transparent state. Furthermore, it is preferable that the impact resistant structure 5 is optically isotropic. That is, the optical characteristics are preferably the same in any direction. In the exposure for forming the impact-resistant structure 5, the exposure is performed in a state where the temperature of the liquid crystal display element 10 is set to 80 ° C., for example. Therefore, since the polymerization reaction proceeds in an isotropic state, the impact resistant structure 5 is formed. The impact resistant structure 5 serves as an impact resistant structure for improving the impact resistance of the liquid crystal display element 10. That is, the impact resistant structure 5 formed by mask polymerization serves as a wall or a column that supports the substrates, and improves the impact resistance of the liquid crystal display element.

次に2回目の露光を行うため、マスク7に替えて拡散板9を液晶表示素子10の前面に配置する。さらに反射防止板8を取り除く。そして、拡散板9を介して同じ光源からの光を液晶表示素子10に照射する。2回目の露光工程ではマスクがないため、液晶表示素子10の全面に光が照射される。光が照射されると、既に重合していると耐衝撃性構造部5を除いて硬化性化合物が架橋重合する。これにより未重合部分が重合して、液晶表示素子10の全体の硬化性化合物がポリマーとなる。   Next, in order to perform the second exposure, the diffusion plate 9 is disposed in front of the liquid crystal display element 10 instead of the mask 7. Further, the antireflection plate 8 is removed. Then, the liquid crystal display element 10 is irradiated with light from the same light source via the diffusion plate 9. Since there is no mask in the second exposure process, the entire surface of the liquid crystal display element 10 is irradiated with light. When irradiated with light, if already polymerized, the curable compound is cross-linked and polymerized except for the impact-resistant structure 5. As a result, the unpolymerized portion is polymerized, and the entire curable compound of the liquid crystal display element 10 becomes a polymer.

2回目の露光では液晶表示素子10の温度を1回目の露光温度より低温にした状態で露光する。これにより、液晶状態で重合反応が進行するため、散乱表示部6が形成される。従って、異なる特性を有する複合体層4が形成される。2回目の露光の条件は液晶表示素子10の表示特性を重視した条件とすることができる。この場合、1回目の露光工程における照度よりも低照度で2回目の露光を行うことが望ましい。さらに、光源からの平行な光束は拡散板9により光が均一に液晶表示素子10に照射されるため、照度を均一にすることができる。これにより、液晶表示素子10の表示特性を均一にすることができる。   In the second exposure, the exposure is performed in a state where the temperature of the liquid crystal display element 10 is lower than the first exposure temperature. Thereby, since the polymerization reaction proceeds in a liquid crystal state, the scattering display portion 6 is formed. Therefore, the composite layer 4 having different characteristics is formed. The condition for the second exposure can be a condition that places importance on the display characteristics of the liquid crystal display element 10. In this case, it is desirable to perform the second exposure with a lower illuminance than the illuminance in the first exposure step. Further, since the parallel light flux from the light source is uniformly applied to the liquid crystal display element 10 by the diffusion plate 9, the illuminance can be made uniform. Thereby, the display characteristics of the liquid crystal display element 10 can be made uniform.

耐衝撃性構造部5は2枚の基板を支え、液晶表示素子10の耐衝撃性を向上させるために形成されている。耐衝撃性構造部5は液晶表示素子10の表示領域内にも形成されている。耐衝撃性構造部5は電圧の印加、非印加によらず透明状態を保持しているため、液晶表示素子10の表示性能の観点からはその面積が小さいことが望ましい。しかしながら、耐衝撃性構造部5の面積が小さいと十分な耐衝撃性を得ることができない。従って、液晶表示素子10の表示領域における散乱表示部6の割合を開口率、すなわち(散乱表示部)/(耐衝撃性構造部+散乱表示部)=開口率とした場合、開口率は0.01〜0.99であればよく、0.1〜0.9であることが好ましい。開口率が小さい場合、全体が透明で一部分が点灯するという使用方法がある。この場合、耐衝撃性の高い液晶表示素子10を得ることができる。   The impact resistant structure 5 is formed to support two substrates and improve the impact resistance of the liquid crystal display element 10. The impact resistant structure 5 is also formed in the display area of the liquid crystal display element 10. Since the impact resistant structure 5 maintains a transparent state regardless of whether a voltage is applied or not, the area is preferably small from the viewpoint of the display performance of the liquid crystal display element 10. However, if the area of the impact resistant structure 5 is small, sufficient impact resistance cannot be obtained. Therefore, when the ratio of the scattering display portion 6 in the display area of the liquid crystal display element 10 is an aperture ratio, that is, (scattering display portion) / (impact structure portion + scattering display portion) = aperture ratio, the aperture ratio is 0. It may be 01 to 0.99, and is preferably 0.1 to 0.9. When the aperture ratio is small, there is a usage method in which the whole is transparent and a part is lit. In this case, the liquid crystal display element 10 having high impact resistance can be obtained.

さらに、表示特性と耐衝撃性との双方を考慮した場合、開口率を60〜85%程度にすることが好ましい。開口率が60%を下回ると、耐衝撃性構造部が視認されるようになり表示特性が劣化してしまうおそれがある。一方、開口率が85%を上回ると十分な耐衝撃性を得ることができないおそれがある。   Furthermore, when considering both display characteristics and impact resistance, it is preferable to set the aperture ratio to about 60 to 85%. If the aperture ratio is less than 60%, the impact-resistant structure portion is visually recognized, and the display characteristics may be deteriorated. On the other hand, if the aperture ratio exceeds 85%, sufficient impact resistance may not be obtained.

なお、耐衝撃性構造部5で散乱表示部6を囲む囲いを作るようにパターニングすると耐衝撃性を向上することができる。また、上述の耐衝撃性構造部5の形状を図3に示すようにハニカム状とすることにより、耐衝撃性を向上することができる。耐衝撃性構造部5を図3に示すようなハニカム状とした場合、耐衝撃性構造部5により六角形の散乱表示部6を囲む囲いが形成される。耐衝撃性構造部5をハニカム形状とすることで、例えば、耐衝撃性構造部5が散乱表示部6を囲む格子状の囲いである場合よりも、耐衝撃性を向上することができる。すなわち、同じ開口率のハニカム状と格子状の液晶表示素子10では、格子状の液晶表示素子10よりもハニカム形状の液晶表示素子10の方が耐衝撃性が高い。さらにハニカム状にすることにより、同じ開口率であっても耐衝撃性構造部5の視認性が低下するため、表示特性を向上することができる。すなわち、耐衝撃性構造部5をハニカム形状とした方が、観察者に視認されにくくなるため、例えば、格子状の耐衝撃性構造部5を有する液晶表示素子10よりも格段に見栄えがよくなる。   The impact resistance can be improved by patterning so as to create an enclosure surrounding the scattering display portion 6 with the impact resistant structure portion 5. Moreover, impact resistance can be improved by making the shape of the above-mentioned impact resistant structure part 5 into a honeycomb shape as shown in FIG. When the impact resistant structure 5 is formed in a honeycomb shape as shown in FIG. 3, an enclosure surrounding the hexagonal scattering display part 6 is formed by the impact resistant structure 5. By making the impact resistant structure portion 5 into a honeycomb shape, for example, the impact resistance can be improved as compared with the case where the impact resistant structure portion 5 is a lattice-shaped enclosure surrounding the scattering display portion 6. That is, in the honeycomb-shaped and lattice-shaped liquid crystal display elements 10 having the same aperture ratio, the honeycomb-shaped liquid crystal display element 10 has higher impact resistance than the lattice-shaped liquid crystal display element 10. Furthermore, by making the honeycomb shape, the visibility of the impact-resistant structure portion 5 is lowered even with the same aperture ratio, so that display characteristics can be improved. That is, when the impact resistant structure portion 5 is formed in a honeycomb shape, it becomes less visible to an observer, and thus, for example, the appearance is significantly better than the liquid crystal display element 10 having the lattice-like impact resistant structure portion 5.

このようなハニカム状の耐衝撃性構造部5はマスク7のパターンに基づいて形成することができる。ここでは、六角形の遮光部の1つを270μmとして、その周りを囲むマスクの開口部の幅を30μmとして、露光を行った。これにより、複合体層のパターンは、単位パターンである300μmの六角形が連続したハニカム形状となる。なお、同じ開口率である場合、単位パターンが小さいほど耐衝撃性を向上することができる。すなわち、開口率が同じ場合であっても、耐衝撃性構造部5の幅が狭いほど耐衝撃性を向上することができる。従って、耐衝撃性の観点からハニカム形状の1つの六角形を小さくして、耐衝撃性構造部5の幅を狭くすることが望ましい。   Such a honeycomb-like impact resistant structure 5 can be formed based on the pattern of the mask 7. Here, one of the hexagonal light shielding portions was set to 270 μm, and the width of the opening of the mask surrounding the mask was set to 30 μm. As a result, the pattern of the composite layer becomes a honeycomb shape in which 300 μm hexagons as unit patterns are continuous. When the aperture ratio is the same, the impact resistance can be improved as the unit pattern is smaller. That is, even if the aperture ratio is the same, the impact resistance can be improved as the width of the impact resistant structure 5 is narrower. Therefore, from the viewpoint of impact resistance, it is desirable to reduce the width of the impact resistant structure 5 by reducing one honeycomb-shaped hexagon.

耐衝撃性構造部5の断面はハニカム形状にかぎるものではない。耐衝撃性構造部5の断面は例えば、多角形の連続接合形状であることが望ましい。正六角形の場合は図に示すようにハニカム形状となる。さらには、耐衝撃性構造部5の断面は複数の円をそれぞれ接合した形状でもよい。   The cross section of the impact resistant structure 5 is not limited to the honeycomb shape. The cross section of the impact resistant structure 5 is preferably, for example, a polygonal continuous joint shape. In the case of a regular hexagon, it has a honeycomb shape as shown in the figure. Further, the cross section of the impact resistant structure 5 may be a shape in which a plurality of circles are joined.

1回目の露光工程において、高温、高照度の方が耐衝撃性の強い構造が得られる。しかしながら、液晶表示素子の表示特性を加味すると、露光温度は相転移温度より3℃高い80℃で、照度は10mW/cm程度であることが望ましい。上述の条件で10分露光することにより、耐衝撃性、表示特性とも優れた液晶表示素子10を製造することが可能である。 In the first exposure process, a structure having a higher impact resistance at a high temperature and high illuminance can be obtained. However, considering the display characteristics of the liquid crystal display element, it is desirable that the exposure temperature is 80 ° C., which is 3 ° C. higher than the phase transition temperature, and the illuminance is about 10 mW / cm 2 . By performing exposure for 10 minutes under the above-described conditions, it is possible to manufacture the liquid crystal display element 10 having excellent impact resistance and display characteristics.

1回目の露光工程から2回目の露光工程までの待機時間が長いと、重合がすすみ、表示面積の現象やスジムラなどの不具合が発生する。従って、1回目のパターン露光と2回目の全面露光の間ができるだけ2時間以内で温度を変更して露光することが望ましい。さらには1時間以内が望ましい。また、液晶表示素子を、例えば、ホットプレート上に載置することによって、温度の制御を容易に行うことができる。   If the waiting time from the first exposure process to the second exposure process is long, polymerization proceeds and problems such as a phenomenon of display area and unevenness occur. Therefore, it is desirable to perform exposure by changing the temperature within 2 hours as much as possible between the first pattern exposure and the second entire surface exposure. Furthermore, it is desirable that the time be within 1 hour. Moreover, temperature control can be easily performed by mounting a liquid crystal display element on a hot plate, for example.

上述のようにパターン露光と全面露光を異なる条件で行うことによって、同じ組成の複合体層であっても、異なる機能を持つ部分に分離することができる。このような異なる機能を持つ部分を形成する場合、露光時の基板温度を変えることが望ましい。さらには、照度や露光時間等の露光条件を変えることにより、異なる機能を持つ部分を形成することができる。   As described above, by performing pattern exposure and overall exposure under different conditions, even a composite layer having the same composition can be separated into portions having different functions. When forming portions having such different functions, it is desirable to change the substrate temperature during exposure. Furthermore, portions having different functions can be formed by changing exposure conditions such as illuminance and exposure time.

実施例
上述の液晶表示素子の製造方法で1回目の露光工程の露光条件を変化させて液晶表示素子を製造し、それぞれの液晶表示素子の耐衝撃性について試験を行った。ここで2回目の露光工程では、露光時の液晶表示素子の温度を40℃、露光照度を1mW/cm、露光時間10分として試験を行った。また、1回目の露光では耐衝撃性構造部がハニカム形状となるよう、マスク7を用いて露光した。パターン露光の露光条件を変化させて耐衝撃性試験を行った。耐衝撃性試験の結果は表1に示すようになった。
Example A liquid crystal display element was manufactured by changing the exposure conditions in the first exposure step by the above-described method for manufacturing a liquid crystal display element, and the impact resistance of each liquid crystal display element was tested. Here, in the second exposure process, the test was performed with the temperature of the liquid crystal display element at the time of exposure being 40 ° C., the exposure illuminance being 1 mW / cm 2 , and the exposure time being 10 minutes. Further, in the first exposure, exposure was performed using the mask 7 so that the impact-resistant structure portion had a honeycomb shape. An impact resistance test was performed by changing the exposure conditions of pattern exposure. The results of the impact resistance test are as shown in Table 1.

Figure 0004595362
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ここで耐衝撃性は液晶表示素子の上から鉄球(パチンコ玉)を自由落下で衝突させた衝撃を与え、衝撃により発生する衝撃印加点周辺の白濁部分のヘイズ値が試験前の2倍となる加速度を算出し、これを指標とした。鉄球の落下高さを変化することで与える衝撃力の強弱を変化させた。さらに鉄球の自由落下により発生する衝撃力は加速度センサーで加速度として定量化した。厚さ1mmのシリコンゴムシートを介して鉄球を衝突させることで、人間がこぶしでセルを叩いたときに近い衝撃波形とした。衝撃持続時間は約500μsecとした。落下試験では、実使用上の設置状態に近くするため、液晶表示素子10の外周部を枠上の金属製試験台に設置して、衝撃印加点を中に浮いた状態とした。   Here, the impact resistance is the impact of an iron ball (pachinko ball) colliding with the free fall from above the liquid crystal display element, and the haze value of the cloudy part around the impact application point generated by the impact is twice that before the test. Acceleration was calculated and used as an index. The strength of the impact force applied by changing the falling height of the iron ball was changed. Furthermore, the impact force generated by the free fall of the iron ball was quantified as acceleration by an acceleration sensor. By colliding an iron ball through a silicon rubber sheet having a thickness of 1 mm, an impact waveform close to that when a human hit the cell with a fist was obtained. The impact duration was about 500 μsec. In the drop test, in order to approximate the installation state in actual use, the outer peripheral portion of the liquid crystal display element 10 was installed on a metal test stand on the frame, and the impact application point was floated inside.

1回目の試験で使用した液晶表示素子のパターン露光の露光条件は温度80℃、照度10mW/cm、露光時間10分とした。1回目の試験の液晶表示素子は開口率が70%であり、耐衝撃性は1880Gであった。パターン露光を行わない従来の液晶表示素子の製造方法で製造した液晶表示素子では、同じ耐衝撃性の試験で500G程度の耐衝撃性であるため、耐衝撃性を向上することができた。また、正面及び斜めから観察した場合であっても、耐衝撃性構造部と散乱表示部との境界を視認することはできなかったため、表示特性は劣化しなかった。 The pattern exposure exposure conditions of the liquid crystal display element used in the first test were a temperature of 80 ° C., an illuminance of 10 mW / cm 2 , and an exposure time of 10 minutes. The liquid crystal display element of the first test had an aperture ratio of 70% and an impact resistance of 1880G. Since the liquid crystal display element manufactured by the conventional method for manufacturing a liquid crystal display element without pattern exposure has an impact resistance of about 500 G in the same impact resistance test, the impact resistance could be improved. Further, even when observed from the front and oblique directions, the boundary between the impact-resistant structure portion and the scattering display portion could not be visually recognized, and thus the display characteristics did not deteriorate.

2回目の試験では1回目の試験に比べて露光照度を低くして形成した液晶表示素子を用いた。パターン露光の露光条件は具体的には温度80℃、照度5mW/cm、露光時間10分とした。2回目の試験の液晶表示素子は開口率が68%であり、耐衝撃性は1430Gであった。10mW/cmで露光した場合の耐衝撃性は従来の液晶表示素子よりも改善したが、1回目の10mW/cmで露光した場合と比較すると、同程度の開口率であっても、耐衝撃性が若干低くなってしまった。このように耐衝撃性の観点からは、高い照度で露光することが望ましい。 In the second test, a liquid crystal display element formed with a lower exposure illuminance than the first test was used. Specifically, the pattern exposure conditions were a temperature of 80 ° C., an illuminance of 5 mW / cm 2 , and an exposure time of 10 minutes. The liquid crystal display element in the second test had an aperture ratio of 68% and an impact resistance of 1430G. The impact resistance when exposed at 10 mW / cm 2 is improved compared to the conventional liquid crystal display element, but even when the aperture ratio is similar to that when exposed at the first 10 mW / cm 2 , The impact has become slightly lower. Thus, it is desirable to expose with high illuminance from the viewpoint of impact resistance.

3回目の試験では1回目の試験に比べて液晶表示素子10の温度を低くした状態で露光した。すなわち、パターン露光の露光条件は温度60℃、照度10mW/cm、露光時間10分とした。3回目の試験の液晶表示素子は開口率が70%であり、耐衝撃性は800Gであった。温度を60度にした場合の耐衝撃性は従来の液晶表示素子よりも改善したが、1回目の80℃で露光した場合と比較すると、同程度の開口率であっても、耐衝撃性が低くなってしまった。 In the third test, exposure was performed in a state where the temperature of the liquid crystal display element 10 was lower than that in the first test. That is, the exposure conditions for pattern exposure were a temperature of 60 ° C., an illuminance of 10 mW / cm 2 , and an exposure time of 10 minutes. The liquid crystal display element in the third test had an aperture ratio of 70% and an impact resistance of 800G. Although the impact resistance when the temperature is 60 degrees is improved over the conventional liquid crystal display element, the impact resistance is improved even when the aperture ratio is comparable as compared with the first exposure at 80 ° C. It has become low.

4回目の試験では1回目の試験に比べて露光時間を長くした。すなわち、パターン露光の露光条件は温度80℃、照度10mW/cm、露光時間20分とした。4回目の試験の液晶表示素子は開口率が63%であり、耐衝撃性は2000G以上であった。露光時間を20分にした場合の耐衝撃性は非常に良好であった。しかし、1回目の10分間露光した場合と比較すると、開口率が低くなった。 In the fourth test, the exposure time was made longer than in the first test. That is, the exposure conditions for pattern exposure were set to a temperature of 80 ° C., an illuminance of 10 mW / cm 2 , and an exposure time of 20 minutes. The liquid crystal display element in the fourth test had an aperture ratio of 63% and an impact resistance of 2000 G or more. The impact resistance when the exposure time was 20 minutes was very good. However, the aperture ratio was lower than that in the first exposure for 10 minutes.

上述のように、パターン露光工程では高温、高照度で長時間光を照射することが耐衝撃性の観点から望ましい。ただし、開口率が低くならず、耐衝撃性構造部が視認されないような条件とすることが液晶表示素子の表示特性の観点から望ましい。上述の硬化性化合物では耐衝撃性及び開口率の両方の点から、例えば、露光温度80℃、照度10mW、時間10分が望ましい。もちろん、上記の条件以外の条件でパターン露光してもよい。   As described above, in the pattern exposure process, it is desirable to irradiate light at a high temperature and high illuminance for a long time from the viewpoint of impact resistance. However, it is desirable from the viewpoint of the display characteristics of the liquid crystal display element that the aperture ratio is not lowered and the impact resistant structure is not visually recognized. In the above-described curable compound, for example, an exposure temperature of 80 ° C., an illuminance of 10 mW, and a time of 10 minutes are desirable from the viewpoint of both impact resistance and aperture ratio. Of course, pattern exposure may be performed under conditions other than those described above.

さらに、液晶と硬化性化合物の材料や混合比等によって、好適な露光条件が変わるのは言うまでもない。本発明では、必要な耐衝撃性及び開口率に応じて、露光条件並びに混合体の材料や混合比等を選択することができる。また、上述の製造方法では1回目の露光工程でパターン露光をしたが、2回目の露光工程でパターン露光をしてもよい。この場合、例えば、1回目の露光工程は全面露光ではなく、パターン露光と逆のパターンのマスクを用いて露光することになる。さらに、片側からの露光だけではなく、両側からマスクを介して露光を行っても良い。   Furthermore, it goes without saying that suitable exposure conditions vary depending on the material and mixing ratio of the liquid crystal and the curable compound. In the present invention, the exposure conditions, the material of the mixture, the mixing ratio, and the like can be selected according to the required impact resistance and aperture ratio. In the manufacturing method described above, the pattern exposure is performed in the first exposure process, but the pattern exposure may be performed in the second exposure process. In this case, for example, the first exposure process is not the entire surface exposure, but the exposure is performed using a mask having a pattern opposite to the pattern exposure. Furthermore, the exposure may be performed not only from one side but also from both sides through a mask.

上述の液晶表示装置の製造方法では2回露光を行ったが、3回以上の露光工程で露光してもよい。3回以上露光することにより3以上の異なる特性を有する複合体層4を形成することも可能である。   In the manufacturing method of the liquid crystal display device described above, the exposure is performed twice, but the exposure may be performed in three or more exposure steps. It is also possible to form the composite layer 4 having three or more different characteristics by exposing three or more times.

本発明にかかる液晶表示素子の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display element concerning this invention. 本発明にかかる液晶表示素子の製造工程における液晶表示素子の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of the liquid crystal display element in the manufacturing process of the liquid crystal display element concerning this invention. 本発明にかかる液晶表示素子の複合体層の構成を示す上面図である。It is a top view which shows the structure of the composite layer of the liquid crystal display element concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1A 基板
1B 基板
2A 電極
2B 電極
3A 配向膜
3B 配向膜、
4 複合体層
5 耐衝撃性構造部
6 散乱表示部
7 マスク
8 反射防止板
9 拡散板、
10 液晶表示素子
1A substrate 1B substrate 2A electrode 2B electrode 3A orientation film 3B orientation film,
4 Composite layer 5 Impact resistant structure 6 Scattering display 7 Mask 8 Anti-reflection plate 9 Diffusion plate
10 Liquid crystal display elements

Claims (10)

少なくとも一方が透明な一対の基板間に狭持されたネマチック液晶と式(1)の光硬化性化合物との混合体を露光することにより形成された液晶光硬化物複合体を備える液晶表示素子であって、
前記液晶光硬化物複合体が、
電圧非印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる動作領域と、
前記動作領域とほぼ同じ成分比を有し、前記光硬化性化合物のポリマーに固定化された前記ネマチック液晶を含み、電圧によって透過率が変化しない液晶固定化領域とを備える液晶表示素子。
1−(OR1n−O−Z−O−(R2O)m−A2・・・式(1)
(但し、A1 、A2 は、それぞれ独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基、アリル基であり、R1、R2はそれぞれ独立に炭素数2〜6のアルキレン基であり、Zは2価のメソゲン構造物である。n、mはそれぞれ独立に1〜10の整数
A liquid crystal display element comprising a liquid crystal photocured composite formed by exposing a mixture of a nematic liquid crystal sandwiched between a pair of transparent substrates at least one and a photocurable compound of formula (1) There,
The liquid crystal photocured composite is
An operating region that becomes transparent when no voltage is applied, and is in a scattering state when voltage is applied,
A liquid crystal display element comprising: a liquid crystal fixed region having the same component ratio as that of the operation region and including the nematic liquid crystal fixed to the polymer of the photocurable compound and having a transmittance that does not change depending on voltage.
A 1 - (OR 1) n -O-Z-O- (R 2 O) m -A 2 ··· Equation (1)
(However, A 1 and A 2 are each independently an acryloyl group, a methacryloyl group, a glycidyl group, and an allyl group, R 1 and R 2 are each independently an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and Z is a divalent group. And n and m are each independently an integer of 1 to 10. )
表示領域において、前記動作領域の面積が前記液晶固定化領域と前記動作領域との合計面積の60%以上85%以下である請求項1記載の液晶表示素子。   2. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein an area of the operation region is 60% or more and 85% or less of a total area of the liquid crystal fixing region and the operation region in the display region. 前記液晶は負の誘電異方性を有し、
前記液晶を基板面と垂直に配向させる配向膜が少なくとも一方の基板の表面に設けられている請求項1又は2記載の液晶表示素子。
The liquid crystal has negative dielectric anisotropy;
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein an alignment film for aligning the liquid crystal perpendicularly to the substrate surface is provided on a surface of at least one substrate.
前記液晶固定化領域が前記混合物とほぼ同一の組成からパターン露光により形成されている請求項1、2又は3記載の液晶表示素子。   4. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal immobilization region is formed by pattern exposure from substantially the same composition as the mixture. 前記液晶固定化領域において前記液晶の質量が前記液晶と前記光硬化性化合物との合計質量に対して50%以上である請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の液晶表示素子。   5. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein a mass of the liquid crystal in the liquid crystal immobilization region is 50% or more with respect to a total mass of the liquid crystal and the photocurable compound. 前記液晶固定化領域の透過率が50%以上である請求項1から請求項5のいずれか一つに記載の液晶表示素子。   The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the transmittance of the liquid crystal immobilization region is 50% or more. 前記液晶固定化領域が光学的に等方的である請求項1から請求項6のいずれか一つに記載の液晶表示素子。   The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal immobilization region is optically isotropic. 前記液晶固定化領域が多角形の連続接合形状である請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の液晶表示素子。   The liquid crystal display element according to any one of claims 1 to 4, wherein the liquid crystal fixing region has a polygonal continuous bonding shape. 前記多角形が正六角形である請求項8記載の液晶表示素子。   The liquid crystal display element according to claim 8, wherein the polygon is a regular hexagon. 少なくとも一方が透明な一対の基板間に狭持されたネマチック液晶と式(1)の光硬化性化合物との混合体を露光することにより形成された液晶光硬化物複合体を備える液晶表示素子の製造方法であって、
前記ネマチック液晶がアイソトロピック状態を示す温度で、前記一対の基板間の前記混合体をパターン露光することによって、固定化された前記ネマチック液晶を含み、電圧によって透過率が変化しない液晶固定化領域を形成する第1の露光ステップと、
前記液晶固定化領域が形成された後、前記第1の露光ステップよりも低照度かつ液晶状態を示す温度で前記混合体を露光することによって、前記液晶固定化領域とほぼ同じ成分比を有し、電圧非印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる動作領域を形成する第2の露光ステップと、を備える液晶表示素子の製造方法。
1−(OR1n−O−Z−O−(R2O)m−A2・・・式(1)
(但し、(A1 、A2 )は、それぞれ独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基、アリル基であり、R1、R2はそれぞれ独立に炭素数2〜6のアルキレン基であり、Zは2価のメソゲン構造物である。n、mはそれぞれ独立に1〜10の整数
A liquid crystal display element comprising a liquid crystal photocured composite formed by exposing a mixture of a nematic liquid crystal sandwiched between a pair of substrates at least one of which is transparent and a photocurable compound of formula (1) A manufacturing method comprising:
A liquid crystal immobilization region including the nematic liquid crystal immobilized by pattern exposure of the mixture between the pair of substrates at a temperature at which the nematic liquid crystal exhibits an isotropic state and having a transmittance that does not change depending on voltage. A first exposure step to form;
After the liquid crystal immobilization region is formed, the mixture is exposed at a temperature lower than that of the first exposure step and showing a liquid crystal state, thereby having substantially the same component ratio as the liquid crystal immobilization region. And a second exposure step of forming an operation region that is transparent when no voltage is applied and is in a scattering state when a voltage is applied.
A 1 - (OR 1) n -O-Z-O- (R 2 O) m -A 2 ··· Equation (1)
(However, (A 1 , A 2 ) is each independently an acryloyl group, a methacryloyl group, a glycidyl group, and an allyl group, R 1 and R 2 are each independently an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and Z is A divalent mesogen structure, wherein n and m are each independently an integer of 1 to 10 )
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