JP4589942B2 - Gas processing unit - Google Patents

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Description

本発明は、被熱処理物を熱処理する熱処理ユニットに対して付設される気体処理ユニットに関するものである。   The present invention relates to a gas processing unit attached to a heat treatment unit for heat treating an object to be heat treated.

上述した熱処理を実行する装置としては、熱処理部の熱処理室に被熱処理物が収容された状態で、前記熱処理室内の空気を循環させながら加熱することにより前記被熱処理物を熱処理するものが知られている。   As an apparatus for performing the above-described heat treatment, there is known an apparatus for heat-treating the object to be heat-treated by heating while circulating the air in the heat-treatment chamber in a state where the object to be heat-treated is accommodated in a heat treatment chamber of a heat treatment unit. ing.

このような熱処理を実行する装置は、例えばFPD(フラットパネルディスプレイ)の製造工程におけるフォトレジストや有機物薄膜のプリベーク、ポストベーク工程に用いられることがある。これらの工程では、ガラス基板等からなる被熱処理物が熱処理される際に、フォトレジスト等に含まれる揮発性成分が気化して多量の昇華物が発生し、この昇華物が再結晶化して熱処理装置周辺に飛散したり周辺に付着したりする等の問題があった。   An apparatus that performs such heat treatment may be used, for example, in a photoresist or organic thin film pre-bake or post-bake process in an FPD (flat panel display) manufacturing process. In these processes, when a heat-treated object made of a glass substrate or the like is heat-treated, a volatile component contained in the photoresist or the like is vaporized to generate a large amount of sublimated material, and the sublimated material is recrystallized and heat-treated. There were problems such as scattering around the device and adhering to the periphery.

この問題の対策として、例えば特許文献1には、外気を加熱して前記熱処理室内に送り込みつつ前記熱処理室内の空気を導出ダクト内に流出させることにより前記熱処理室内を換気することが記載されている。このように換気することにより、昇華物の再結晶化および周辺への付着を抑制することができる。
特開平10−141868号公報
As a countermeasure for this problem, for example, Patent Document 1 describes that the outside of the heat treatment chamber is ventilated by heating the outside air and sending the air into the heat treatment chamber while allowing the air in the heat treatment chamber to flow into the outlet duct. . By ventilating in this way, recrystallization of the sublimate and adhesion to the surroundings can be suppressed.
JP-A-10-141868

しかしながら、上記特許文献1の熱処理を実行する装置においては、熱処理室の内外へ空気を循環させるための送風機や加熱器を有する気体処理部が、熱処理部の外壁と熱処理室との間の内部であって熱処理部に一体的に設けられているため、前記気体処理部の送風機や加熱器などの電気機器が故障した場合には、その修理が完了するまで熱処理作業を行うことができなくなるという難点があった。   However, in the apparatus for performing the heat treatment of Patent Document 1, a gas processing unit having a blower and a heater for circulating air into and out of the heat treatment chamber is provided between the outer wall of the heat treatment unit and the heat treatment chamber. Because it is provided integrally with the heat treatment section, if an electrical device such as a blower or a heater of the gas treatment section fails, the heat treatment operation cannot be performed until the repair is completed. was there.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、熱処理部と気体処理部とを別ユニットとして、送風機や加熱器などの電気機器を有する気体処理ユニットが、熱処理室を有する熱処理ユニットに対して付設されるように構成し、送風機や加熱器などの電気機器が故障しても迅速に対処することができる気体処理ユニットを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and the heat treatment unit and the gas treatment unit are separate units, and the gas treatment unit having an electric device such as a blower or a heater is a heat treatment unit having a heat treatment chamber. An object of the present invention is to provide a gas processing unit that is configured to be attached to the apparatus and can quickly cope with a failure of an electric device such as a blower or a heater.

請求項1に係る発明は、熱処理室に被熱処理物が出し入れ可能に収容され、かつ熱処理室に共に連通する気体導入部および気体導出部を有する熱処理ユニットに対して付設される気体処理ユニットであって、前記気体導入部に第1接続部を介して着脱可能に連結される導入ダクト、前記気体導出部に第2接続部を介して着脱可能に連結される導出ダクトおよび前記導出ダクトにおける前記第2接続部とは反対側に連結された気体処理ダクトを有し、前記気体導入部へ熱処理用気体を導入しかつ前記気体導出部から熱処理済みの気体を導出するための気体通路を備え前記気体処理ダクトに、前記熱処理済みの気体に含まれる、前記被熱処理物から発生した昇華物を分解するための触媒と、少なくとも該触媒を加熱する加熱器とが設けられ前記気体通路に、前記熱処理用気体および前記熱処理済みの気体を所定方向に導く1または2以上の送風機が設けられていることを特徴とする。
The invention according to claim 1 is a gas processing unit attached to a heat treatment unit having a gas introduction part and a gas lead-out part which are accommodated in the heat treatment room so that the object to be heat treated can be taken in and out, and communicate with the heat treatment room. Te, wherein the first inlet duct which is detachably connected via a connecting part, deriving the duct and the outlet duct are detachably connected via the second connection portion prior SL gas outlet portion to said gas introduction portion and the second connecting portion has a gas processing duct connected to the opposite side, provided with a gas passage for leading the thermally processed gas from the introduced heat treatment gas to the gas introduction portion and the gas outlet portion, wherein the gas processing duct, said included in the heat-treated gas, the catalyst for decomposing sublimate generated from the heat-treated, a heater for heating at least the catalyst is provided, before The gas passage, characterized in that one or more blowers for guiding the heat treatment gas and the heat treated gas in a predetermined direction is provided.

請求項2に係る発明は、請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、前記気体処理ダクトは前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端と前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端と連結ていることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the gas processing unit according to the first aspect, the gas processing duct has an inlet end opposite to the first connecting portion of the introduction duct and the second connection of the outlet duct. the parts characterized in that it connects the output end of the opposite side.

請求項3に係る発明は、請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端が開放され、かつ前記気体処理ダクトが前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端に連結されていて、前記導入ダクトに気体加熱用加熱器が設けられており、前記導出ダクト、前記気体処理ダクトおよび前記導入ダクトのうちの少なくとも一つに前記送風機が設けられていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the gas processing unit according to the first aspect, the inlet end of the introduction duct opposite to the first connection portion is opened, and the gas processing duct is connected to the outlet duct. wherein the second connecting portion is consolidated on the opposite side of the exit end, before SL gas heating heater is provided in the inlet duct, the outlet duct of the gas processing duct and the inlet duct The blower is provided in at least one of the above.

請求項4に係る発明は、請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端が開放され、かつ前記気体処理ダクトが前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端に連結されるとともに前記気体処理ダクトの前記触媒と前記加熱器とが設けられた箇所よりも下流位置と前記導入ダクトの途中が連結ダクトを介して連通連結されていて、導入ダクトの連結ダクトとの合流点よりも下流側に気体加熱用加熱器と前記送風機とが設けられていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the gas processing unit according to the first aspect, an inlet end opposite to the first connection portion of the introduction duct is opened, and the gas processing duct is connected to the outlet duct. wherein the second connecting portion is consolidated on the opposite side of the exit end Rutotomoni, midway connection duct of the inlet duct and a downstream position than locations with the catalyst of the gas processing duct and said heater is provided The heater for gas heating and the said air blower are provided in the downstream from the confluence | merging point with the connection duct of the introduction duct, It is characterized by the above-mentioned.

請求項5に係る発明は、請求項4に記載の気体処理ユニットにおいて、前記導入ダクトの連結ダクトとの合流点よりも下流側であって前記気体加熱用加熱器および前記送風機よりも上流側の位置と、前記導出ダクトの途中とが第2連結ダクトを介して連通連結されていることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the gas processing unit according to the fourth aspect of the present invention, the downstream side of the junction with the connecting duct of the introduction duct and the upstream side of the heater for gas heating and the blower. The position and the middle of the lead-out duct are connected in communication via a second connection duct.

請求項1に係る発明によれば、熱処理室を有する熱処理ユニットに対し、加熱器および送風機を有する気体処理ユニットが付設される構成であるので、加熱器および送風機が故障しても、気体処理ユニットを取り外して、予め用意している別の気体処理ユニットに交換することで、直ちに熱処理作業を行うことが可能となり迅速に対処することができる。また、単一構成の複数の気体処理ユニットを1つの熱処理ユニットに取付けることで、熱処理能力が大きい熱処理ユニットに対応することができる。換言すると、熱処理ユニットの熱処理能力に対応して単一構成の気体処理ユニットの取付け数を調整すればよい。よって、熱処理ユニットの熱処理能力に対応した気体処理能力を有する気体処理ユニットを、熱処理ユニットの熱処理能力毎に作製する必要がなく、気体処理ユニットの種類を少なくすることが可能になる。但し、熱処理ユニットに連結する複数の気体処理ユニットのうちの一部が異なる気体処理能力のものを含んでいてもよい。   According to the first aspect of the present invention, since the gas processing unit having the heater and the blower is attached to the heat treatment unit having the heat treatment chamber, the gas processing unit can be used even if the heater and the fan fail. By removing and replacing with another gas processing unit prepared in advance, it is possible to immediately perform a heat treatment operation and to deal with it quickly. Further, by attaching a plurality of gas processing units having a single configuration to one heat treatment unit, it is possible to cope with a heat treatment unit having a large heat treatment capacity. In other words, the number of gas processing units having a single configuration may be adjusted in accordance with the heat treatment capacity of the heat treatment unit. Therefore, it is not necessary to produce a gas processing unit having a gas processing capacity corresponding to the heat processing capacity of the heat processing unit for each heat processing capacity of the heat processing unit, and the types of gas processing units can be reduced. However, some of the plurality of gas processing units connected to the heat treatment unit may include different gas processing capabilities.

請求項2に係る発明によれば、気体処理ユニットを熱処理ユニットに連結すると、熱処理ユニットから導出された気体が、導出ダクト、気体処理ダクトおよび導入ダクトをこの順に経て再び熱処理室に戻る循環経路が構成され、1つの送風機で気体を循環させることができるとともに、加熱器により触媒と気体との両方を加熱することができる。   According to the second aspect of the present invention, when the gas treatment unit is connected to the heat treatment unit, the circulation path for the gas led out from the heat treatment unit to return to the heat treatment chamber again through the lead-out duct, the gas treatment duct and the introduction duct in this order is provided. It is comprised, and while being able to circulate gas with one air blower, both a catalyst and gas can be heated with a heater.

請求項3に係る発明によれば、導入ダクトの開放された入側端から吸入された気体が気体加熱用加熱器にて加熱されて熱処理室に導入され、導出ダクトおよび気体処理ダクトを経て導出されるように構成されているので、導入ダクトの入側端から吸気される気体が昇華物の無いものとなる。このため、熱処理室には常時フレッシュな気体が導入されるので、触媒による昇華物の酸化分解反応を低下させ難くすることが可能になる。また、この発明では、導入ダクト、導ダクトおよび気体処理ダクトのうちの少なくとも一つに送風機を設けることで、熱処理室への気体導入と熱処理室からの気体導出とが可能である。
According to the third aspect of the present invention, the gas sucked from the open inlet end of the introduction duct is heated by the gas heating heater and introduced into the heat treatment chamber, and is led out through the lead-out duct and the gas treatment duct. Therefore, the gas sucked from the inlet side end of the introduction duct has no sublimation. For this reason, since fresh gas is always introduced into the heat treatment chamber, it is possible to make it difficult to reduce the oxidative decomposition reaction of the sublimate by the catalyst. Further, in this invention, the introduction duct, by providing at least one air blower of the guide exit duct and a gas processing duct, it is possible and gas outlet from the heat treatment chamber and the gas introduced into the heat treatment chamber.

請求項4に係る発明によれば、導入ダクトの入側端が開放されているので、フレッシュな気体の導入が可能になる。また、熱処理室から導出された気体が、触媒により浄化され、かつ加熱器により加熱されたものとなって連結ダクトを介して導入ダクトに入り、導入ダクトの開放入側端から吸入された気体と混合されて熱処理室に導入されるので、熱損失を少なくすることができる。また、熱処理室に導入される気体が、導入ダクトに設けた気体加熱用加熱器により加熱されるので、その気体加熱用加熱器は熱処理室の温度管理に、気体処理ダクトに設けた加熱器は触媒の温度管理にそれぞれ専有的に用いることが可能になる。したがって、被熱処理物の加熱温度に左右されずに、触媒を最適な活性温度に設定することができる。   According to the fourth aspect of the invention, since the inlet end of the introduction duct is opened, fresh gas can be introduced. Further, the gas led out from the heat treatment chamber is purified by the catalyst and heated by the heater, enters the introduction duct through the connection duct, and the gas sucked from the open entry side end of the introduction duct. Since they are mixed and introduced into the heat treatment chamber, heat loss can be reduced. In addition, since the gas introduced into the heat treatment chamber is heated by the gas heating heater provided in the introduction duct, the gas heating heater is used for temperature control of the heat treatment chamber, and the heater provided in the gas treatment duct is Each can be used exclusively for temperature control of the catalyst. Therefore, the catalyst can be set to an optimum activation temperature regardless of the heating temperature of the object to be heat treated.

請求項5に係る発明によれば、導入ダクトの入側端が開放され、かつ連結ダクトを介して気体が循環する構成となっているので、請求項4と同様な効果が得られることは勿論のこと、連結ダクトによる循環経路よりも熱処理室により近い循環経路が第2連結ダクトにより形成され、かつ循環経路に設けられた気体加熱用加熱器により加熱する構成となっているので、温度低下が少ない気体を再利用することが可能になる。   According to the invention of claim 5, since the inlet end of the introduction duct is opened and the gas circulates through the connecting duct, it is needless to say that the same effect as that of claim 4 can be obtained. That is, the circulation path closer to the heat treatment chamber than the circulation path by the connecting duct is formed by the second connecting duct and is heated by the gas heating heater provided in the circulation path. A small amount of gas can be reused.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結してなる熱処理装置を示す概略構成図である。この熱処理装置1Aは、例えばFPDの製造工程に用いられるものであり、クリーンルーム内に設置されるいわゆるクリーンオーブンと呼ばれるものである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a heat treatment apparatus formed by connecting a gas treatment unit according to the first embodiment of the present invention to a heat treatment unit. This heat treatment apparatus 1A is used in, for example, an FPD manufacturing process, and is called a so-called clean oven installed in a clean room.

熱処理装置1Aは、被熱処理物(ワークとも言う)Wが出し入れ可能に収容される熱処理室11を有する熱処理ユニット10に対し、熱処理ユニット10の熱処理室11へ熱処理用気体、例えば加熱エアを導入するとともに熱処理室11から熱処理済みの気体、例えば熱処理済みエアを導出する気体通路21Aを有する気体処理ユニット20Aが付設されて構成されている。   1 A of heat processing apparatuses introduce | transduce the gas for heat processing into the heat processing chamber 11 of the heat processing unit 10, for example, heating air with respect to the heat processing unit 10 which has the heat processing chamber 11 in which the to-be-processed object (it is also called workpiece | work) W is accommodated. At the same time, a gas processing unit 20A having a gas passage 21A for leading heat-treated gas, for example, heat-treated air, from the heat treatment chamber 11 is provided.

熱処理ユニット10は、気体処理ユニット20Aからの熱処理用気体が導入される気体導入部12と、熱処理室11から熱処理済みエアを導出する気体導出部13とを有し、熱処理室11の外側が断熱壁11aで囲繞されている。   The heat treatment unit 10 includes a gas introduction portion 12 into which the heat treatment gas from the gas treatment unit 20A is introduced, and a gas lead-out portion 13 that leads out the heat-treated air from the heat treatment chamber 11, and the outside of the heat treatment chamber 11 is thermally insulated. It is surrounded by a wall 11a.

熱処理室11の内側には、例えば1または2以上の被熱処理物Wを所定状態で保持できる保持部材(図示せず)が二点鎖線で示す箇所に設けられている。上記気体導入部12は、熱処理室11と連通する管状のものでその入側端に連結用フランジ14を備える。また、上記気体導出部13も熱処理室11と連通する管状のものでその出側端に連結用フランジ15を備える。   Inside the heat treatment chamber 11, for example, a holding member (not shown) capable of holding one or two or more objects to be heat treated W in a predetermined state is provided at a position indicated by a two-dot chain line. The gas introduction part 12 has a tubular shape communicating with the heat treatment chamber 11 and is provided with a connecting flange 14 at the inlet end thereof. The gas lead-out portion 13 is also in a tubular shape communicating with the heat treatment chamber 11 and is provided with a connecting flange 15 at the outlet end thereof.

一方、気体処理ユニット20Aにおける気体通路21Aは、気体導入部12に連結される導入ダクト22と、気体導出部13に連結される導出ダクト23と、導入ダクト22と導出ダクト23の間に設けられた気体処理ダクト24とを有する。導入ダクト22の出側端には、気体導入部12の連結用フランジ14に連結される連結用フランジ25が設けられ、これらフランジ14、25は第1接続部を構成する。一方、導出ダクト23の入側端には、気体導出部13の連結用フランジ15に連結される連結用フランジ26が設けられ、これらフランジ15、26は第2接続部を構成する。そして、第1接続部を構成するフランジ25、14を締結手段、例えばボルトおよびナットにより連結し、加えて、第2接続部を構成するフランジ26、15を締結手段、例えばボルトおよびナットにより連結すると、熱処理ユニット10の熱処理室11と気体処理ユニット20Aの気体通路21Aとが連通連結されて循環通路が形成される。なお、気体通路21Aには、適所に風量調整用のダンパー(図示せず)が設けられる。   On the other hand, the gas passage 21 </ b> A in the gas processing unit 20 </ b> A is provided between the introduction duct 22 connected to the gas introduction part 12, the lead-out duct 23 connected to the gas lead-out part 13, and the lead-in duct 22 and the lead-out duct 23. Gas treatment duct 24. A connection flange 25 connected to the connection flange 14 of the gas introduction part 12 is provided at the outlet end of the introduction duct 22, and these flanges 14, 25 constitute a first connection part. On the other hand, a connecting flange 26 connected to the connecting flange 15 of the gas outlet 13 is provided at the inlet end of the outlet duct 23, and these flanges 15 and 26 constitute a second connecting portion. Then, the flanges 25 and 14 constituting the first connection part are coupled by fastening means, for example, bolts and nuts, and in addition, the flanges 26 and 15 constituting the second connection part are coupled by fastening means, for example, bolts and nuts. The heat treatment chamber 11 of the heat treatment unit 10 and the gas passage 21A of the gas treatment unit 20A are connected in communication to form a circulation passage. The gas passage 21A is provided with a damper (not shown) for adjusting the air volume at an appropriate position.

また、上記気体処理ダクト24には、触媒30と加熱器31と送風機32と前処理剤33とが設けられている。送風機32は、上記循環通路をエアが循環して流れるようにするためのものであり、加熱器31は触媒30およびエアを加熱するものである。この加熱器31により加熱されたエアは、導入ダクト22を経て熱処理室11に入り、ここで被熱処理物Wを加熱して熱処理を行う。この熱処理に際し、被熱処理物Wから昇華物が発生する。熱処理済みエアは、上記昇華物を含んだものであって、上記気体導出部13および上記導出ダクト23を経て触媒30へ与えられる。   The gas treatment duct 24 is provided with a catalyst 30, a heater 31, a blower 32, and a pretreatment agent 33. The blower 32 is for allowing air to circulate and flow through the circulation passage, and the heater 31 is for heating the catalyst 30 and the air. The air heated by the heater 31 enters the heat treatment chamber 11 through the introduction duct 22, and heats the workpiece W to be heat treated. At the time of this heat treatment, a sublimation product is generated from the workpiece W. The heat-treated air contains the sublimate and is given to the catalyst 30 via the gas outlet 13 and the outlet duct 23.

触媒30は、熱処理済みエアに含まれる昇華物の酸化分解反応を促進するためのものであり、例えば白金(Pt)やパラジウム(Pd)等の貴金属や、これらの貴金属の合金などの活性金属が採用される。このような触媒30は、約150〜350℃程度の温度雰囲気下において触媒活性を示す。よって、本実施形態においては、触媒30の前側(循環通路をエアが流れる方向の触媒30よりも上流側)に加熱器31を配置している。また、昇華物に、触媒毒といわれる物質、例えばSi、P、S等を含む有機化合物が入っていて、触媒30が被毒することがある場合には、その防止のために前処理剤33を触媒30の前側に配設させることが好ましい。   The catalyst 30 is for accelerating the oxidative decomposition reaction of the sublimate contained in the heat-treated air. For example, a noble metal such as platinum (Pt) or palladium (Pd) or an active metal such as an alloy of these noble metals is used. Adopted. Such a catalyst 30 exhibits catalytic activity in a temperature atmosphere of about 150 to 350 ° C. Therefore, in the present embodiment, the heater 31 is disposed on the front side of the catalyst 30 (upstream side of the catalyst 30 in the direction in which air flows in the circulation passage). Further, if the sublimation contains an organic compound containing a catalyst poison, for example, Si, P, S, etc., and the catalyst 30 may be poisoned, the pretreatment agent 33 is used to prevent the poisoning. Is preferably disposed on the front side of the catalyst 30.

したがって、このように構成された第1実施形態に係る気体処理ユニット20Aによる場合には、熱処理室11を有する熱処理ユニット10に対し、送風機32および加熱器31を有する気体処理ユニット20Aが着脱可能に付設される構成であるので、送風機32および加熱器31のうちの1つが故障しても、第1接続部を構成するフランジ14、25から連結手段(例えばボルト・ナット)を外し、かつ第2接続部を構成するフランジ15、26から連結手段(例えばボルト・ナット)を外して気体処理ユニット20Aを熱処理ユニット10から取外し、予め用意している別の気体処理ユニット20Aに交換して熱処理ユニット10に同様に取付けることで、直ちに熱処理作業を行うことが可能となり、迅速に対処することができる。   Therefore, in the case of the gas processing unit 20A according to the first embodiment configured as described above, the gas processing unit 20A having the blower 32 and the heater 31 can be attached to and detached from the heat processing unit 10 having the heat processing chamber 11. Since it is an attached structure, even if one of the blower 32 and the heater 31 fails, the connecting means (for example, bolts and nuts) is removed from the flanges 14 and 25 constituting the first connection portion, and the second The connecting means (for example, bolts and nuts) are removed from the flanges 15 and 26 constituting the connecting portion, the gas treatment unit 20A is removed from the heat treatment unit 10, and the heat treatment unit 10 is replaced with another gas treatment unit 20A prepared in advance. By attaching in the same manner, it becomes possible to immediately perform a heat treatment operation and to deal with it quickly.

また、図2に示すように、単一構成[同じ気体処理能力(後述する)]の2つの気体処理ユニット20Aを1つの熱処理ユニット10に取付けることで、熱処理能力(例えば熱量或いは熱処理室11の容積など)が大きい熱処理ユニット10に対応することができる。換言すると、熱処理ユニット10の熱処理能力に対応して単一構成の気体処理ユニット20Aの取付け数を調整している。よって、熱処理ユニット10の熱処理能力に対応した気体処理能力(触媒30による昇華物の酸化分解能力)を有する気体処理ユニット20Aを、熱処理ユニット10の熱処理能力毎に作製する必要がなく、気体処理ユニット20Aの種類を少なくすることが可能になる。なお、2つの気体処理ユニット20Aを取付けるべく、熱処理ユニット10には2組の気体導入部12、12aおよび気体導出部13、13aが設けられる。また、図2中の14aは気体導入部12aに設けた連結用フランジで、同15aは気体導出部13aに設けた連結用フランジである。また、このような構成において、1組の気体導入部12および気体導出部13しか用いないときは、図3に示すように、他の1組の気体導入部12aおよび気体導出部13aに、蓋18を取付けて塞いでおけばよい。但し、1つの熱処理ユニット10に対して、気体処理ユニット20Aを3つ以上取付けるようにしてもよく、また複数の気体処理ユニット20Aのうちの一部が異なる気体処理能力のものを含んでいてもよい。   In addition, as shown in FIG. 2, by attaching two gas processing units 20A having a single configuration [the same gas processing capacity (described later)] to one heat processing unit 10, heat processing capacity (for example, heat quantity or heat processing chamber 11) This can correspond to the heat treatment unit 10 having a large volume. In other words, the number of gas processing units 20A having a single configuration is adjusted in accordance with the heat treatment capability of the heat treatment unit 10. Therefore, it is not necessary to produce the gas processing unit 20A having the gas processing capability corresponding to the heat processing capability of the heat processing unit 10 (the ability to oxidatively decompose the sublimate by the catalyst 30) for each heat processing capability of the heat processing unit 10, and thus The number of types of 20A can be reduced. In order to attach two gas processing units 20A, the heat treatment unit 10 is provided with two sets of gas introduction parts 12, 12a and gas outlet parts 13, 13a. Further, 14a in FIG. 2 is a connecting flange provided in the gas introduction part 12a, and 15a is a connecting flange provided in the gas outlet part 13a. In addition, in such a configuration, when only one set of gas introduction part 12 and gas lead-out part 13 is used, as shown in FIG. 3, the other set of gas introduction part 12a and gas lead-out part 13a is covered with a lid. Just install 18 and close it. However, three or more gas processing units 20A may be attached to one heat treatment unit 10, or some of the plurality of gas processing units 20A may have different gas processing capabilities. Good.

更に、第1実施形態においては、熱処理室11から導出された気体が、導出ダクト23、気体処理ダクト24および導入ダクト22をこの順に経て再び熱処理室11に戻る循環経路が構成されているので、1つの送風機32で気体を循環させることができるとともに、加熱器31により触媒30と気体との両方を加熱することができる。   Furthermore, in the first embodiment, a circulation path is configured in which the gas led out from the heat treatment chamber 11 returns to the heat treatment chamber 11 again through the lead-out duct 23, the gas treatment duct 24, and the introduction duct 22 in this order. A single blower 32 can circulate the gas, and the heater 31 can heat both the catalyst 30 and the gas.

(第2実施形態)
図4は、本発明の第2実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結して構成された熱処理装置の概略構成図である。なお、図1と同一部分には、同一符号を付している。
(Second Embodiment)
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus configured by connecting a gas treatment unit according to the second embodiment of the present invention to a heat treatment unit. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part as FIG.

この熱処理装置1Dは、熱処理ユニット10に対し、第2実施形態の気体処理ユニット20Dが付設されたもので、この第2実施形態の気体処理ユニット20Dは第1実施形態の気体処理ユニット20Aとは異なる構成となっている。即ち、導入ダクト22の入側に開放端22aが、気体処理ダクト24の出側に開放端24aが設けられた気体通路21Dを有し、気体処理ユニット20Dは気体処理ダクト24に触媒30と加熱器31とが設けられ、導入ダクト22に送風機34と加熱器35とが設けられている。また、導入ダクト22と、導出ダクト23および気体処理ダクト24とは、共通の支持部材29により支持されていて、フランジ25、26の位置関係が一定に保持されるようになっている。なお、図4では前処理剤を省略しているが、設けるようにしてもよい。
In this heat treatment apparatus 1D, the gas treatment unit 20D of the second embodiment is attached to the heat treatment unit 10, and the gas treatment unit 20D of the second embodiment is different from the gas treatment unit 20A of the first embodiment. It has a different configuration. That is, the open end 22a to the inlet side of the introduction duct 22 has a gas passage 21D which open end 24a is provided on the outlet side of the gas processing duct 24, the gas processing unit 20D and the catalyst 30 to the gas processing duct 24 heated A blower 34 and a heater 35 are provided in the introduction duct 22. The introduction duct 22, the lead-out duct 23, and the gas processing duct 24 are supported by a common support member 29 so that the positional relationship between the flanges 25 and 26 is kept constant. Although the pretreatment agent is omitted in FIG. 4, it may be provided.

このように構成された熱処理装置1Dのエア流れは以下のようになっている。即ち、開放端22aから入ったエアは、加熱器35により加熱されて導入ダクト22を経て熱処理室11に入り、ここで熱処理に寄与する。その熱処理済みエアは、昇華物を含むもので、導出ダクト23に入った後、気体処理ダクト24に導かれて触媒30による昇華物の酸化分解反応を受けた後に、開放端24aから排出される。なお、図4中の16は、エアが熱処理室11の内部で還流することなく、気体導入部12から気体導出部13へ流れるようにするための邪魔板であり、熱処理室11の気体導入部12とは反対側に通路16aが形成されるように設けられる。   The air flow of the heat treatment apparatus 1D configured as described above is as follows. That is, the air that has entered from the open end 22a is heated by the heater 35 and enters the heat treatment chamber 11 through the introduction duct 22 and contributes to the heat treatment. The heat-treated air contains a sublimation product, enters the outlet duct 23, is guided to the gas processing duct 24, undergoes an oxidative decomposition reaction of the sublimate by the catalyst 30, and is then discharged from the open end 24a. . 4 is a baffle plate for allowing air to flow from the gas introduction part 12 to the gas outlet part 13 without recirculating in the heat treatment room 11, and the gas introduction part of the heat treatment room 11. 12 is provided so that a passage 16 a is formed on the side opposite to the side 12.

したがって、この気体処理ユニット20Dにあっても、熱処理室11を有する熱処理ユニット10に対し、送風機34および加熱器31、35を有する気体処理ユニット20Dが着脱可能に付設される構成であるので、送風機34および加熱器31、35のうちの1つが故障しても、前同様に、予め用意している別の気体処理ユニット20Dに交換することで、迅速に対処することができる。また、前同様に、単一構成の2以上の気体処理ユニット20D(一部の気体処理ユニット20Dの気体処理能力が異なっていてもよい)を1つの熱処理ユニット10に取付ける構成とすることで、気体処理ユニット20Dの種類を少なくすることが可能になる。また、このような構成において、用いない気体導入部および気体導出部には、蓋(図示せず)を取付けて塞いでおけばよい。更に、熱処理室11に導入されるエアが、導入ダクト22に設けた気体加熱用加熱器35により加熱されるので、その気体加熱用加熱器35は熱処理室11の温度管理に、気体処理ダクト24に設けた加熱器31は触媒30の温度管理にそれぞれ専有的に用いることが可能になる。したがって、被熱処理物Wの加熱温度に左右されずに、触媒30を最適な活性温度に設定することができる。   Therefore, even in the gas processing unit 20D, the gas processing unit 20D having the blower 34 and the heaters 31 and 35 is detachably attached to the heat treatment unit 10 having the heat treatment chamber 11, so that the blower Even if one of the heater 34 and one of the heaters 31 and 35 breaks down, it can be quickly dealt with by replacing with another gas processing unit 20D prepared in advance. Also, as before, by having a configuration in which two or more gas processing units 20D having a single configuration (the gas processing capabilities of some gas processing units 20D may be different) are attached to one heat treatment unit 10, It is possible to reduce the types of gas processing units 20D. Further, in such a configuration, a lid (not shown) may be attached and closed to a gas introduction part and a gas lead-out part that are not used. Furthermore, since the air introduced into the heat treatment chamber 11 is heated by the gas heating heater 35 provided in the introduction duct 22, the gas heating heater 35 is used for the temperature management of the heat treatment chamber 11 for the gas treatment duct 24. Each of the heaters 31 provided in the can be used exclusively for temperature control of the catalyst 30. Therefore, the catalyst 30 can be set to an optimum activation temperature without being influenced by the heating temperature of the workpiece W.

更に、第2実施形態においては、導入ダクト22の入側開放端22aから吸入されたエアが加熱器35にて加熱されて熱処理室11に導入され、導出ダクト23および気体処理ダクト24を経て導出されるように構成されているので、導入ダクト22の開放端22aから吸気されるエアが昇華物の無いものとなる。このため、熱処理室11には常時フレッシュなエアが導入されるので、触媒30による昇華物の酸化分解反応を低下させ難くすることが可能になる。また、この気体処理ユニット20Dでは、導入ダクト22に送風機34を設けることで、熱処理室11への気体導入と熱処理室11からの気体導出とが可能である。   Further, in the second embodiment, the air sucked from the inlet side open end 22 a of the introduction duct 22 is heated by the heater 35 and introduced into the heat treatment chamber 11, and is led out through the lead-out duct 23 and the gas treatment duct 24. Thus, the air sucked from the open end 22a of the introduction duct 22 is free from sublimation. For this reason, since fresh air is always introduced into the heat treatment chamber 11, it is possible to make it difficult to lower the oxidative decomposition reaction of the sublimate by the catalyst 30. Further, in this gas processing unit 20 </ b> D, by providing a blower 34 in the introduction duct 22, gas introduction into the heat treatment chamber 11 and gas discharge from the heat treatment chamber 11 are possible.

なお、この第2実施形態では、送風機34を導入ダクト22に設けているが、これに限らない。例えば、導出ダクト23や気体処理ダクト24に設けても、或いは導入ダクト22、気体処理ダクト24および導出ダクト23のうちの少なくとも1つに送風機を設けてもよい。   In addition, in this 2nd Embodiment, although the air blower 34 is provided in the introduction duct 22, it is not restricted to this. For example, it may be provided in the outlet duct 23 or the gas processing duct 24, or a blower may be provided in at least one of the introduction duct 22, the gas processing duct 24, and the outlet duct 23.

(第3実施形態)
図5は、本発明の第3実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結して構成された熱処理装置の概略構成図である。なお、図4と同一部分には、同一符号を付している。
(Third embodiment)
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus configured by connecting a gas treatment unit according to the third embodiment of the present invention to a heat treatment unit. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part as FIG.

この熱処理装置1Cは、図4と同一の熱処理ユニット10に対し、第3実施形態の気体処理ユニット20Cが付設されたもので、この第3実施形態の気体処理ユニット20Cは第2実施形態の気体処理ユニット20Dとは異なっている。即ち、気体処理ダクト24の触媒30、加熱器31および送風機32が設けられた箇所と出側の開放端24aとの間と、導入ダクト22の途中とが、連結ダクト28を介して連通連結された気体通路21Cを有し、気体処理ユニット20Cは、導入ダクト22の連結ダクト28の合流点よりも下流位置に加熱器35と送風機34が設けられた構成となっている。なお、図5では前処理剤を省略しているが、設けるようにしてもよい。また、上記送風機32は省略することができる。 In this heat treatment apparatus 1C, the gas treatment unit 20C of the third embodiment is added to the same heat treatment unit 10 as in FIG. 4, and the gas treatment unit 20C of the third embodiment is the gas of the second embodiment. It is different from the processing unit 20D. That is, the portion of the gas treatment duct 24 where the catalyst 30, the heater 31, and the blower 32 are provided and the open end 24a on the outlet side and the middle of the introduction duct 22 are connected to each other via the connection duct 28. The gas processing unit 20 </ b> C has a configuration in which a heater 35 and a blower 34 are provided at a position downstream of the joining point of the connection duct 28 of the introduction duct 22. Although the pretreatment agent is omitted in FIG. 5, it may be provided. Further, the blower 32 can be omitted.

このように構成された熱処理装置1Cのエア流れは以下のようになっている。即ち、開放端22aから入ったエアは、加熱器35により加熱されて導入ダクト22を経て熱処理室11に入り、ここで熱処理に寄与する。その熱処理済みエアは、昇華物を含むもので、導出ダクト23に入った後、気体処理ダクト24に導かれて触媒30による昇華物の酸化分解反応を受けた後に、開放端24aから排出されるか、または連結ダクト28および導入ダクト22を介して熱処理室11に戻される。なお、図5中の16は、第2実施形態と同様の邪魔板である。   The air flow of the heat treatment apparatus 1 </ b> C configured as described above is as follows. That is, the air that has entered from the open end 22a is heated by the heater 35 and enters the heat treatment chamber 11 through the introduction duct 22 and contributes to the heat treatment. The heat-treated air contains a sublimation product. After entering the outlet duct 23, the heat-treated air is led to the gas processing duct 24 and subjected to the oxidation decomposition reaction of the sublimate by the catalyst 30, and then discharged from the open end 24a. Alternatively, it is returned to the heat treatment chamber 11 through the connection duct 28 and the introduction duct 22. In addition, 16 in FIG. 5 is a baffle plate similar to 2nd Embodiment.

したがって、この第3実施形態に係る気体処理ユニット20Cにあっても、熱処理室11を有する熱処理ユニット10に対し、送風機32、34および加熱器31、35を有する気体処理ユニット20Cが着脱可能に付設される構成であるので、送風機32、34および加熱器31、35のうちの1つが故障しても、前同様に、予め用意している別の気体処理ユニット20Cに交換することで、迅速に対処することができる。また、前同様に、単一構成の2以上の気体処理ユニット20C(一部の気体処理ユニット20Cの気体処理能力が異なっていてもよい)を1つの熱処理ユニット10に取付ける構成とすることで、気体処理ユニット20Cの種類を少なくすることが可能になる。また、このような構成において、用いない気体導入部および気体導出部には、蓋(図示せず)を取付けて塞いでおけばよい。更に、熱処理室11に導入されるエアが、導入ダクト22に設けた気体加熱用加熱器35により加熱されるので、その気体加熱用加熱器35は熱処理室11の温度管理に、気体処理ダクト24に設けた加熱器31は触媒30の温度管理にそれぞれ専有的に用いることが可能になる。したがって、被熱処理物Wの加熱温度に左右されずに、触媒30を最適な活性温度に設定することができる。   Therefore, even in the gas processing unit 20C according to the third embodiment, the gas processing unit 20C having the fans 32 and 34 and the heaters 31 and 35 is detachably attached to the heat processing unit 10 having the heat processing chamber 11. Therefore, even if one of the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 breaks down, it can be quickly replaced with another gas processing unit 20C prepared in advance as before. Can be dealt with. Also, as before, by having a configuration in which two or more gas processing units 20C having a single configuration (the gas processing capabilities of some gas processing units 20C may be different) are attached to one heat treatment unit 10, It is possible to reduce the types of gas processing units 20C. Further, in such a configuration, a lid (not shown) may be attached and closed to a gas introduction part and a gas lead-out part that are not used. Furthermore, since the air introduced into the heat treatment chamber 11 is heated by the gas heating heater 35 provided in the introduction duct 22, the gas heating heater 35 is used for the temperature management of the heat treatment chamber 11 for the gas treatment duct 24. Each of the heaters 31 provided in the can be used exclusively for temperature control of the catalyst 30. Therefore, the catalyst 30 can be set to an optimum activation temperature without being influenced by the heating temperature of the workpiece W.

更に、気体処理ユニット20Cにおいては、導入ダクト22の入側端22aが開放されているので、フレッシュなエアの導入が可能になる。また、熱処理室11から導出されたエアが、触媒30により浄化され、かつ加熱器31により加熱されたものとなって連結ダクト28を介して導入ダクト22に入り、導入ダクト22の開放入側端22aから吸入されたエアと混合されて熱処理室11に導入されるので、熱損失を少なくすることができる。   Furthermore, in the gas processing unit 20C, since the inlet side end 22a of the introduction duct 22 is opened, fresh air can be introduced. Further, the air led out from the heat treatment chamber 11 is purified by the catalyst 30 and heated by the heater 31 and enters the introduction duct 22 through the connection duct 28, and the open entry side end of the introduction duct 22. Since it is mixed with the air sucked from 22a and introduced into the heat treatment chamber 11, heat loss can be reduced.

(第4実施形態)
図6は、本発明の第4実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結して構成された熱処理装置の概略構成図である。なお、図5と同一部分には、同一符号を付している。
(Fourth embodiment)
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus configured by connecting a gas treatment unit according to the fourth embodiment of the present invention to a heat treatment unit. The same parts as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals.

この熱処理装置1Bは、図4と同一の熱処理ユニット10に対し、第4実施形態の気体処理ユニット20Bが付設されたものである。この第4実施形態の気体処理ユニット20Bは、導入ダクト22の連結ダクト28との合流点よりも下流側であって気体加熱用加熱器35と送風機34とが設けられている位置よりも上流側の位置と、導出ダクト23の途中とが、第2連結ダクト27を介して連通連結された気体通路21Bを有する。   In this heat treatment apparatus 1B, a gas treatment unit 20B of the fourth embodiment is attached to the heat treatment unit 10 identical to that in FIG. The gas processing unit 20B according to the fourth embodiment is downstream of the junction point of the introduction duct 22 and the connecting duct 28 and upstream of the position where the gas heating heater 35 and the blower 34 are provided. And the middle of the lead-out duct 23 have a gas passage 21 </ b> B connected in communication via a second connection duct 27.

この気体通路21Bにおける気体処理ダクト24には、触媒30と加熱器31と送風機32とが設けられ、導入ダクト22の途中であって第2連結ダクト27の合流点よりも下流位置には、上述したように送風機34と加熱器35とが設けられている。加熱器35は、熱処理室11に導入されるエアを加熱する目的で設けられている。また、熱処理室11の内部には、前記邪魔板16が設けられている。なお、図6では前処理剤を省略しているが、設けるようにしてもよい。   The gas processing duct 24 in the gas passage 21 </ b> B is provided with a catalyst 30, a heater 31, and a blower 32. The gas processing duct 24 is located in the middle of the introduction duct 22 and downstream of the junction of the second connection duct 27. As described above, the blower 34 and the heater 35 are provided. The heater 35 is provided for the purpose of heating the air introduced into the heat treatment chamber 11. Further, the baffle plate 16 is provided inside the heat treatment chamber 11. Although the pretreatment agent is omitted in FIG. 6, it may be provided.

このように構成された気体処理ユニット20Bを有する熱処理装置1Bのエア流れは以下のようになっている。即ち、開放端22aから入ったエアは、加熱器35により加熱されて導入ダクト22を経て熱処理室11に入り、ここで熱処理に寄与する。その熱処理済みエアは、昇華物を含むもので、導出ダクト23に入った後、第2連結ダクト27と気体処理ダクト24とに向けて分岐し、第2連結ダクト27に導かれたエアは再度加熱器35により加熱されて導入ダクト22を経て熱処理室11に戻る。つまり、熱処理室11と第2連結ダクト27との間を循環する。一方、気体処理ダクト24に向けて導かれた昇華物を含む熱処理済みエアは、触媒30による昇華物の酸化分解反応を受けた後に、開放端24aから排出されるか、または連結ダクト28および導入ダクト22を介して熱処理室11に戻される。   The air flow of the heat treatment apparatus 1B having the gas processing unit 20B configured as described above is as follows. That is, the air that has entered from the open end 22a is heated by the heater 35 and enters the heat treatment chamber 11 through the introduction duct 22 and contributes to the heat treatment. The heat-treated air contains a sublimate, and after entering the outlet duct 23, branches toward the second connecting duct 27 and the gas processing duct 24, and the air guided to the second connecting duct 27 is again It is heated by the heater 35 and returns to the heat treatment chamber 11 through the introduction duct 22. That is, it circulates between the heat treatment chamber 11 and the second connection duct 27. On the other hand, the heat-treated air containing the sublimate guided toward the gas processing duct 24 is exhausted from the open end 24a after being subjected to the oxidation decomposition reaction of the sublimate by the catalyst 30, or the connection duct 28 and the introduction. It returns to the heat treatment chamber 11 through the duct 22.

したがって、この第4実施形態の気体処理ユニット20Bにあっても、熱処理室11を有する熱処理ユニット10に対し、送風機32、34および加熱器31、35を有する気体処理ユニット20Bが着脱可能に付設される構成であるので、送風機32、34および加熱器31、35のうちの1つが故障しても、前同様に、予め用意している別の気体処理ユニット20Bに交換することで、迅速に対処することができる。また、前同様に、単一構成の2以上の気体処理ユニット20B(一部の気体処理ユニット20Bの気体処理能力が異なっていてもよい)を1つの熱処理ユニット10に取付ける構成とすることで、気体処理ユニット20Bの種類を少なくすることが可能になる。また、このような構成において、用いない気体導入部および気体導出部には、蓋(図示せず)を取付けて塞いでおけばよい。更に、熱処理室11に導入されるエアが、導入ダクト22に設けた気体加熱用加熱器35により加熱されるので、その気体加熱用加熱器35は熱処理室11の温度管理に、気体処理ダクト24に設けた加熱器31は触媒30の温度管理にそれぞれ専有的に用いることが可能になる。したがって、被熱処理物Wの加熱温度に左右されずに、触媒30を最適な活性温度に設定することができる。   Accordingly, even in the gas processing unit 20B of the fourth embodiment, the gas processing unit 20B having the fans 32 and 34 and the heaters 31 and 35 is detachably attached to the heat processing unit 10 having the heat processing chamber 11. Therefore, even if one of the fans 32 and 34 and the heaters 31 and 35 breaks down, it can be quickly dealt with by replacing with another gas processing unit 20B prepared in advance as before. can do. Also, as before, by having a configuration in which two or more gas processing units 20B having a single configuration (the gas processing capabilities of some gas processing units 20B may be different) are attached to one heat treatment unit 10, It is possible to reduce the types of gas processing units 20B. Further, in such a configuration, a lid (not shown) may be attached and closed to a gas introduction part and a gas lead-out part that are not used. Furthermore, since the air introduced into the heat treatment chamber 11 is heated by the gas heating heater 35 provided in the introduction duct 22, the gas heating heater 35 is used for the temperature management of the heat treatment chamber 11 for the gas treatment duct 24. Each of the heaters 31 provided in the can be used exclusively for temperature control of the catalyst 30. Therefore, the catalyst 30 can be set to an optimum activation temperature without being influenced by the heating temperature of the workpiece W.

更に、この気体処理ユニット20Bにおいては、導入ダクト22の入側端22aが開放され、かつ連結ダクト28を介してエアが循環する構成となっているので、第3実施形態と同様な効果が得られることは勿論のこと、連結ダクト28による循環経路よりも熱処理室11により近い循環経路が第2連結ダクト27により形成され、かつ第2連結ダクト27を含む循環経路に設けられた気体加熱用加熱器35により加熱する構成となっているので、温度低下が少ないエアを再利用することが可能になる。   Furthermore, in this gas processing unit 20B, since the entrance end 22a of the introduction duct 22 is opened and air is circulated through the connection duct 28, the same effect as in the third embodiment is obtained. Of course, a circulation path closer to the heat treatment chamber 11 than the circulation path by the connecting duct 28 is formed by the second connecting duct 27, and heating for gas heating provided in the circulating path including the second connecting duct 27 is performed. Since it becomes the structure heated with the container 35, it becomes possible to recycle the air with few temperature drops.

なお、上述した第1〜第4実施形態では熱処理ユニット10の気体導入部12および気体導出部13と、気体通路(21A〜21D)とを連結する手段として、連結用フランジ14、25からなる第1接続部を締結手段(ボルト・ナット)で着脱可能に連結し、連結用フランジ15、26からなる第2接続部を締結手段(ボルト・ナット)で着脱可能に連結する構成としているが、本発明はこれに限らない。例えば、第1、第2接続部を、ねじや溶接等の他の手段により連結してもよく、また連結を解いてもよい。   In the first to fourth embodiments described above, the connecting flanges 14 and 25 are used as means for connecting the gas introduction part 12 and the gas outlet part 13 of the heat treatment unit 10 and the gas passages (21A to 21D). One connecting portion is detachably connected by fastening means (bolts and nuts), and the second connecting portion including the connecting flanges 15 and 26 is detachably connected by fastening means (bolts and nuts). The invention is not limited to this. For example, the first and second connection portions may be connected by other means such as screws or welding, or the connection may be released.

本発明の第1実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the heat processing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the heat processing apparatus which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の更に他の実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the heat processing apparatus which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the heat processing apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the heat processing apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the heat processing apparatus which concerns on 4th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1A〜1D 熱処理装置
10 熱処理ユニット
11 熱処理室
12、12a 気体導入部
13、13a 気体導出部
14、25 連結用フランジ(第1接続部)
15、26 連結用フランジ(第2接続部)
20A〜20D 気体処理ユニット
21A〜21D 気体通路
22 導入ダクト
23 導出ダクト
27 第2連結ダクト
28 連結ダクト
30 触媒
31、35 加熱器
32、34 送風機
1A to 1D Heat treatment apparatus 10 Heat treatment unit 11 Heat treatment chamber 12, 12a Gas introduction part 13, 13a Gas outlet part 14, 25 Connecting flange (first connection part)
15, 26 Connecting flange (second connecting part)
20A to 20D Gas processing unit 21A to 21D Gas passage 22 Introduction duct 23 Outlet duct 27 Second connection duct 28 Connection duct 30 Catalyst 31, 35 Heater 32, 34 Blower

Claims (5)

熱処理室に被熱処理物が出し入れ可能に収容され、かつ熱処理室に共に連通する気体導入部および気体導出部を有する熱処理ユニットに対して付設される気体処理ユニットであって、
前記気体導入部に第1接続部を介して着脱可能に連結される導入ダクト、前記気体導出部に第2接続部を介して着脱可能に連結される導出ダクトおよび前記導出ダクトにおける前記第2接続部とは反対側に連結された気体処理ダクトを有し、前記気体導入部へ熱処理用気体を導入しかつ前記気体導出部から熱処理済みの気体を導出するための気体通路を備え
前記気体処理ダクトに、前記熱処理済みの気体に含まれる、前記被熱処理物から発生した昇華物を分解するための触媒と、少なくとも該触媒を加熱する加熱器とが設けられ前記気体通路に、前記熱処理用気体および前記熱処理済みの気体を所定方向に導く1または2以上の送風機が設けられていることを特徴とする気体処理ユニット。
A gas processing unit which is attached to a heat treatment unit having a gas introduction part and a gas lead-out part communicating with the heat treatment room together so that an object to be heat treated can be taken in and out of the heat treatment room,
It said gas introduction portion first introduction duct connecting portion via a detachably connected to the front Symbol the second in derivation duct and the outlet duct to the gas outlet portion through a second connecting portion is detachably connected the connecting part has a gas processing duct connected to the opposite side, provided with a gas passage for leading the thermally processed gas from the introduced heat treatment gas to the gas introduction portion and the gas outlet portion,
The gas treatment duct is provided with a catalyst for decomposing sublimates generated from the heat-treated material, contained in the heat-treated gas, and a heater for heating at least the catalyst, and the gas passage includes gas processing unit, characterized in that one or more blowers for guiding the heat treatment gas and the heat treated gas in a predetermined direction is provided.
請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記気体処理ダクトは前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端と前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端と連結ていることを特徴とする気体処理ユニット。
The gas processing unit according to claim 1,
The gas processing duct and characterized in that it connects the other side of the exit-side end and the second connecting portion of the outlet duct on the opposite side of the entry end and the first connecting portion of the inlet duct Gas processing unit.
請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端が開放され、かつ前記気体処理ダクトが前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端に連結されていて、前記導入ダクトに気体加熱用加熱器が設けられており、前記導出ダクト、前記気体処理ダクトおよび前記導入ダクトのうちの少なくとも一つに前記送風機が設けられていることを特徴とする気体処理ユニット。
The gas processing unit according to claim 1,
From the first connecting portion of the inlet duct entry end of the opposite side it is opened, and the second connecting portion of the gas processing duct the outlet duct have been consolidated on the opposite side of the exit end , before SL and gas heating heater provided in the inlet duct, the outlet duct, a gas processing, characterized in that said blower is provided to at least one of said gas processing duct and the inlet duct unit.
請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端が開放され、かつ前記気体処理ダクトが前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端に連結されるとともに前記気体処理ダクトの前記触媒と前記加熱器とが設けられた箇所よりも下流位置と前記導入ダクトの途中が連結ダクトを介して連通連結されていて、導入ダクトの連結ダクトとの合流点よりも下流側に気体加熱用加熱器と前記送風機とが設けられていることを特徴とする気体処理ユニット。
The gas processing unit according to claim 1,
The introduction and the first connecting portion of the duct entry end of the opposite side is opened, and the gas processing duct is consolidated on the opposite side of the exit-side end and the second connecting portion of the outlet duct Rutotomoni , said middle of said catalyst and said a heater and a downstream position than locations provided with the induction duct of the gas processing duct is communicatively connected via a connection duct, the joining point between the connecting duct inlet duct A gas processing unit, wherein a gas heating heater and the blower are provided on the downstream side.
請求項4に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記導入ダクトの連結ダクトとの合流点よりも下流側であって前記気体加熱用加熱器および前記送風機よりも上流側の位置と、前記導出ダクトの途中とが第2連結ダクトを介して連通連結されていることを特徴とする気体処理ユニット。
The gas processing unit according to claim 4,
A position downstream of the junction with the connection duct of the introduction duct and upstream of the gas heating heater and the blower and the middle of the outlet duct are connected to each other via a second connection duct. The gas processing unit characterized by being made.
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