JP4582131B2 - Liquid crystal device and electronic device - Google Patents

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Description

本発明は、垂直配向方式の液晶装置に関し、表示部分の液晶の配向乱れを低減する技術に関する。   The present invention relates to a vertical alignment type liquid crystal device, and relates to a technique for reducing liquid crystal alignment disorder in a display portion.

液晶分子の配向を制御することにより視野角依存性を改善し、広視野角化を図った垂直配向方式の液晶装置が知られている。垂直配向方式の液晶装置では、負の誘電率異方性を有する液晶を使用し、素子基板と対向基板との間に電圧が印加されていない状態では、液晶分子は基板に対して略垂直の方向に配向する。スイッチング素子としてTFTやTFDが設けられた素子基板には、略円形又は多角形の複数のサブ画素電極を含んでなる画素電極が形成される。また、対向基板には、各サブ画素電極の略中央に対向する位置にスリット又は凸部(突起)などが形成される。素子基板と対向基板との間に電圧を印加すると、基板間の液晶層には電圧に応じた電界が形成されるが、サブ画素電極が略円形又は多角形などに形成されており、かつ、それと対向する対向基板側の電極にはスリットや凸部などが形成されているため、液晶分子はサブ画素電極の略中央を中心として放射状に配向状態が制御される。これにより、視野角依存性が抑制され、広視野角化が可能となる。なお、垂直配向方式の液晶装置の例が特許文献1に記載されている。   2. Description of the Related Art A vertical alignment type liquid crystal device is known in which viewing angle dependency is improved by controlling the alignment of liquid crystal molecules and a wide viewing angle is achieved. In a vertical alignment type liquid crystal device, a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is used, and in a state where no voltage is applied between the element substrate and the counter substrate, the liquid crystal molecules are substantially perpendicular to the substrate. Oriented in the direction. A pixel electrode including a plurality of substantially circular or polygonal sub-pixel electrodes is formed on an element substrate provided with TFTs and TFDs as switching elements. In addition, a slit or a convex portion (protrusion) is formed on the counter substrate at a position facing substantially the center of each subpixel electrode. When a voltage is applied between the element substrate and the counter substrate, an electric field corresponding to the voltage is formed in the liquid crystal layer between the substrates, but the subpixel electrode is formed in a substantially circular or polygonal shape, and Since a slit, a convex part, or the like is formed on the electrode on the counter substrate facing the liquid crystal molecule, the alignment state of the liquid crystal molecules is controlled radially about the center of the sub-pixel electrode. Thereby, the viewing angle dependency is suppressed, and a wide viewing angle can be achieved. An example of a vertical alignment type liquid crystal device is described in Patent Document 1.

特開2003−43525号公報JP 2003-43525 A

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、表示部分の液晶の配向乱れ等を低減し、高品位な表示を行うことが可能な垂直配向方式の液晶装置、及びそれを用いた電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and uses a vertical alignment type liquid crystal device capable of reducing alignment disorder of the liquid crystal in the display portion and performing high-quality display, and the same. It is an object to provide an electronic device.

本発明の1つの観点では、一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなる液晶装置は、前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記データ線と前記スイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜の上に形成された画素電極と、前記スイッチング素子と前記画素電極から延出する配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを備え、前記画素電極は、サブ画素領域内に複数のサブ画素電極を有しており、前記サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、前記データ線の延在する方向に配列されてなり、前記コンタクトホールは、前記サブ画素領域の角部に形成されており、前記データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、前記他のデータ線は、前記サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなる。
In one aspect of the present invention, in a liquid crystal device in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates, one of the pair of substrates includes a data line and the data A switching element electrically connected to a line, an insulating film formed on the data line and the switching element, a pixel electrode formed on the insulating film, and the switching element and the pixel electrode A contact hole that electrically connects the extended wiring, and the pixel electrode has a plurality of subpixel electrodes in a subpixel region, and each of the subpixel electrodes is electrically connected And arranged in the direction in which the data line extends, and the contact hole is formed at a corner of the sub-pixel region, and the other data line adjacent to the data line and the data line Contact Ho Is formed so as bets do not overlap, the other data lines, are formed so as to bypass the other sub-pixel region side next to the sub pixel region.

上記の液晶装置は、いわゆる垂直配向方式の液晶装置として好適に構成され、一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなり、前記液晶層内の液晶分子の長軸方向が電圧無印加時において前記基板に対して略垂直に配向してなる。一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、データ線に電気的に接続されたTFDやTFTなどのスイッチング素子と、データ線とスイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、絶縁膜の上に形成された画素電極と、スイッチング素子と画素電極から延出する配線とを接続するコンタクトホールとを備え、いわゆるオーバーレイヤー構造をなしている。
そして、画素電極は、サブ画素領域内に、例えば平面形状が多角形又は略円形をなす複数のサブ画素電極を有する。サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、データ線の延在する方向に配列されている。つまり、サブ画素電極の各々は、データ線の延在する方向に配列された状態で電気的に接続される。1つのサブ画素領域内に複数個のサブ画素電極を形成する理由は、個々のサブ画素電極がある程度小さいほうが、液晶分子の配向状態を制御し易いからである。即ち、1つの画素を1つの大きなサブ画素電極により構成した場合と比較して、液晶分子の配向を正確に制御し易いからである。
また、コンタクトホールは、画素領域内、例えば、R(赤)、G(緑)、B(青)のいずれかに対応して設けられたサブ画素電極の領域内(以下、「サブ画素領域内」とも呼ぶ)において、画素電極と重ならない位置、具体的にはサブ画素領域の角部に形成されている。
これにより、コンタクトホールと、有効表示領域となるサブ画素電極との距離をできる限り離すことができる。このため、サブ画素電極の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホールの部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。よって、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホールを画素電極と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。
好適な例では、画素電極と配線は同一層に形成されている。配線は、画素電極と同一材料(例えば、ITOなど)にて形成され、その配線は、サブ画素領域内において、最も下側に位置するサブ画素電極の外周辺からコンタクトホールの位置まで延び出てなり、その配線とスイッチング素子とはそのコンタクトホールの位置にて接続されている。
特に、この液晶装置では、コンタクトホールは、サブ画素領域の角部において、データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、他のデータ線は、サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなる。これにより、他のデータ線とコンタクトホールとの接触を防止することができる。
The above-described liquid crystal device is preferably configured as a so-called vertical alignment type liquid crystal device, in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates, and the length of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is The axial direction is oriented substantially perpendicular to the substrate when no voltage is applied. One of the pair of substrates includes a data line, a switching element electrically connected to the data line, such as a TFD or a TFT, an insulating film formed on the data line and the switching element, and an insulating film It has a so-called overlayer structure that includes a pixel electrode formed thereon, and a contact hole that connects the switching element and a wiring extending from the pixel electrode.
The pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes whose planar shape is a polygon or a substantially circular shape, for example, in the sub-pixel region. Each of the sub-pixel electrodes is electrically connected and arranged in the direction in which the data line extends. That is, each of the sub-pixel electrodes is electrically connected in a state of being arranged in the direction in which the data lines extend. The reason for forming a plurality of subpixel electrodes in one subpixel region is that the orientation of the liquid crystal molecules can be controlled more easily if the individual subpixel electrodes are small to some extent. That is, the alignment of the liquid crystal molecules can be accurately controlled compared to the case where one pixel is constituted by one large sub-pixel electrode.
In addition, the contact hole is in a pixel region, for example, in a region of a subpixel electrode provided corresponding to any of R (red), G (green), and B (blue) (hereinafter referred to as “subpixel region”). Are also formed at positions that do not overlap with the pixel electrodes, specifically at the corners of the sub-pixel region.
As a result, the distance between the contact hole and the sub-pixel electrode serving as the effective display area can be separated as much as possible. For this reason, the liquid crystal in the effective display area corresponding to the position of the sub-pixel electrode is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal generated in the contact hole, and the alignment disorder of the liquid crystal in the effective display area. Can be prevented. Therefore, it is possible to prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed with respect to drive control, and a high-quality display image can be obtained. In addition, since the contact hole is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode, a decrease in the aperture ratio can be prevented.
In a preferred example, the pixel electrode and the wiring are formed in the same layer. The wiring is formed of the same material as the pixel electrode (for example, ITO), and the wiring extends from the outer periphery of the lowermost sub pixel electrode to the position of the contact hole in the sub pixel region. Thus, the wiring and the switching element are connected at the position of the contact hole.
In particular, in this liquid crystal device, the contact hole is formed in the corner portion of the sub-pixel region so that the other data line adjacent to the data line does not overlap the contact hole, and the other data line is formed in the sub-pixel region. It is formed so as to be detoured to the other sub pixel region side next to. As a result, contact between other data lines and contact holes can be prevented.

上記の液晶装置の一態様では、前記一対の基板のうちいずれかには、前記コンタクトホールに重なる位置に遮光膜を有する。これにより、コンタクトホールの位置において、そのコンタクトホールで生じる液晶の配向乱れの領域を隠すことができる。よって、表示のコントラストを高めることができる。   In one embodiment of the above liquid crystal device, one of the pair of substrates has a light-shielding film at a position overlapping the contact hole. Thereby, at the position of the contact hole, it is possible to hide the liquid crystal alignment disorder region generated in the contact hole. Therefore, the display contrast can be increased.

本発明の他の観点では、一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなる液晶装置は、前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記データ線と前記スイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、前記スイッチング素子と該絶縁膜の上に形成された画素電極とを電気的に接続するコンタクトホールとを備え、前記一対の基板のうちいずれかには遮光膜を備え、前記コンタクトホールは、前記遮光膜と重なる位置に形成されてなり、前記画素電極は、複数のサブ画素電極を有しており、前記サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、前記データ線の延在する方向に配列されてなり、前記コンタクトホールは、前記データ線の延在する方向において、1つのサブ画素電極と、当該1つのサブ画素電極のとなりの他のサブ画素電極との間に形成されており、前記データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、前記他のデータ線は、前記サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなる。

In another aspect of the present invention, in a liquid crystal device in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates, one of the pair of substrates includes a data line and the data A switching element electrically connected to a line, an insulating film formed on the data line and the switching element, and an electrical connection between the switching element and a pixel electrode formed on the insulating film One of the pair of substrates is provided with a light shielding film, the contact hole is formed at a position overlapping the light shielding film, and the pixel electrode includes a plurality of subpixel electrodes. Each of the subpixel electrodes is electrically connected and arranged in a direction in which the data line extends, and the contact hole extends in the direction in which the data line extends. In It is formed between one subpixel electrode and another subpixel electrode adjacent to the one subpixel electrode, so that the other data line adjacent to the data line and the contact hole do not overlap. The other data line is formed so as to be detoured to the other subpixel region side next to the subpixel region.

上記の液晶装置は、いわゆる垂直配向方式の液晶装置として好適に構成され、一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなり、前記液晶層内の液晶分子の長軸方向が電圧無印加時において前記基板に対して略垂直に配向してなる。一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、データ線に電気的に接続されたTFDやTFTなどのスイッチング素子と、データ線とスイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、絶縁膜の上に形成された画素電極と、スイッチング素子と画素電極から延出する配線とを接続するコンタクトホールとを備え、さらに一対の基板のうちいずれかに遮光膜を備え、いわゆるオーバーレイヤー構造をなしている。
The above-described liquid crystal device is preferably configured as a so-called vertical alignment type liquid crystal device, in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates, and the length of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is The axial direction is oriented substantially perpendicular to the substrate when no voltage is applied. One of the pair of substrates includes a data line, a switching element electrically connected to the data line, such as a TFD or a TFT, an insulating film formed on the data line and the switching element, and an insulating film It has a pixel electrode formed thereon, a contact hole that connects the switching element and a wiring extending from the pixel electrode, and further includes a light shielding film on one of a pair of substrates to form a so-called overlayer structure. Yes.

好適な例では、遮光膜は、サブ画素領域間の位置に対応し、一対の基板のうちいずれかに形成されている。そして、コンタクトホールは、一方の基板側であって、その遮光膜と重なる位置に形成されている。よって、画素電極の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホールの部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。よって、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホールは、遮光膜と重なる位置に形成されているので、画素電極はコンタクトホールと重ならない位置に形成されている。よって、開口率の低下を防止することができる。
そして、画素電極は、サブ画素領域内に、例えば平面形状が多角形又は略円形をなす複数のサブ画素電極を有する。サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、データ線の延在する方向に配列されている。つまり、サブ画素電極の各々は、データ線の延在する方向に配列された状態で電気的に接続される。1つのサブ画素領域内に複数個のサブ画素電極を形成する理由は、個々のサブ画素電極がある程度小さいほうが、液晶分子の配向状態を制御し易いからである。即ち、1つの画素を1つの大きなサブ画素電極により構成した場合と比較して、液晶分子の配向を正確に制御し易いからである。
また、コンタクトホールは、サブ画素領域内において、画素電極から最も離れた位置、具体的にはデータ線の延在する方向において、1つのサブ画素電極と、当該1つのサブ画素電極のとなりの他のサブ画素電極との間に形成されている。これにより、コンタクトホールと、有効表示領域となるサブ画素電極との距離をできる限り離すことができる。このため、サブ画素電極の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホールの部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。よって、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホールを画素電極と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。
特に、この液晶装置では、データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、他のデータ線は、サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなる。これにより、他のデータ線とコンタクトホールとの接触を防止することができる。
In a preferred example, the light shielding film corresponds to the position between the sub-pixel regions and is formed on one of the pair of substrates. The contact hole is formed on one substrate side at a position overlapping the light shielding film. Therefore, the liquid crystal in the effective display area corresponding to the position of the pixel electrode is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal generated in the contact hole, and the occurrence of the alignment disorder in the liquid crystal in the effective display area occurs. Can be prevented. Therefore, it is possible to prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed with respect to drive control, and a high-quality display image can be obtained. In addition, since the contact hole is formed at a position overlapping with the light shielding film, the pixel electrode is formed at a position not overlapping with the contact hole. Therefore, it is possible to prevent a decrease in the aperture ratio.
The pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes whose planar shape is a polygon or a substantially circular shape, for example, in the sub-pixel region. Each of the sub-pixel electrodes is electrically connected and arranged in the direction in which the data line extends. That is, each of the sub-pixel electrodes is electrically connected in a state of being arranged in the direction in which the data lines extend. The reason for forming a plurality of subpixel electrodes in one subpixel region is that the orientation of the liquid crystal molecules can be controlled more easily if the individual subpixel electrodes are small to some extent. That is, the alignment of the liquid crystal molecules can be accurately controlled compared to the case where one pixel is constituted by one large sub-pixel electrode.
In addition, the contact hole is located in the sub pixel region at the position farthest from the pixel electrode, specifically, in the direction in which the data line extends, and the other sub-pixel electrode and the one sub-pixel electrode. Are formed between the sub-pixel electrodes. As a result, the distance between the contact hole and the sub-pixel electrode serving as the effective display area can be separated as much as possible. Therefore, the liquid crystal in the effective display area corresponding to the position of the sub-pixel electrode is not easily affected by the liquid crystal alignment disorder generated in the contact hole, and the liquid crystal alignment disorder in the effective display area is not affected. Can be prevented. Therefore, it is possible to prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed with respect to drive control, and a high-quality display image can be obtained. In addition, since the contact hole is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode, it is possible to prevent the aperture ratio from being lowered.
In particular, in this liquid crystal device, the other data line next to the data line is formed so as not to overlap the contact hole, and the other data line bypasses the other sub-pixel area side next to the sub-pixel area. It is formed as follows. As a result, contact between other data lines and contact holes can be prevented.

本発明のさらに他の観点では、一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなる液晶装置であって、前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記データ線と前記スイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜の上に形成された画素電極と、前記スイッチング素子と前記画素電極から延出する配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを備え、前記画素電極は、複数のサブ画素電極を有しており、前記サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、前記データ線の延在する方向に配列されてなり、前記コンタクトホールは、前記データ線の延在する方向において、1つのサブ画素電極と、当該1つのサブ画素電極のとなりの他のサブ画素電極との間に形成されており、前記データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、前記他のデータ線は、前記サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなる。  In still another aspect of the present invention, a liquid crystal device in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates, wherein one of the pair of substrates is a data line and A switching element electrically connected to the data line; an insulating film formed on the data line and the switching element; a pixel electrode formed on the insulating film; the switching element; A contact hole that electrically connects a wiring extending from the pixel electrode, and the pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes, and each of the sub-pixel electrodes is electrically connected. The contact holes are arranged in the direction in which the data lines extend, and the contact holes are one subpixel electrode and the other subpixel electrode in the direction in which the data lines extend. Sub The other data line adjacent to the data line is formed so as not to overlap the contact hole, and the other data line is adjacent to the sub-pixel region. It is formed so as to detour to the sub pixel region side.

上記の液晶装置は、いわゆる垂直配向方式の液晶装置として好適に構成され、一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなり、前記液晶層内の液晶分子の長軸方向が電圧無印加時において前記基板に対して略垂直に配向してなる。一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、データ線に電気的に接続されたTFDやTFTなどのスイッチング素子と、データ線とスイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、絶縁膜の上に形成された画素電極と、スイッチング素子と画素電極から延出する配線とを接続するコンタクトホールとを備え、いわゆるオーバーレイヤー構造をなしている。  The above-described liquid crystal device is preferably configured as a so-called vertical alignment type liquid crystal device, in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates, and the length of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is The axial direction is oriented substantially perpendicular to the substrate when no voltage is applied. One of the pair of substrates includes a data line, a switching element electrically connected to the data line, such as a TFD or a TFT, an insulating film formed on the data line and the switching element, and an insulating film It has a so-called overlayer structure that includes a pixel electrode formed thereon, and a contact hole that connects the switching element and a wiring extending from the pixel electrode.
そして、画素電極は、サブ画素領域内に、例えば平面形状が多角形又は略円形をなす複数のサブ画素電極を有する。サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、データ線の延在する方向に配列されている。つまり、サブ画素電極の各々は、データ線の延在する方向に配列された状態で電気的に接続される。1つのサブ画素領域内に複数個のサブ画素電極を形成する理由は、個々のサブ画素電極がある程度小さいほうが、液晶分子の配向状態を制御し易いからである。即ち、1つの画素を1つの大きなサブ画素電極により構成した場合と比較して、液晶分子の配向を正確に制御し易いからである。The pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes whose planar shape is a polygon or a substantially circular shape, for example, in the sub-pixel region. Each of the sub-pixel electrodes is electrically connected and arranged in the direction in which the data line extends. That is, each of the sub-pixel electrodes is electrically connected in a state of being arranged in the direction in which the data lines extend. The reason for forming a plurality of subpixel electrodes in one subpixel region is that the orientation of the liquid crystal molecules can be controlled more easily if the individual subpixel electrodes are small to some extent. That is, the alignment of the liquid crystal molecules can be accurately controlled compared to the case where one pixel is constituted by one large sub-pixel electrode.
また、コンタクトホールは、サブ画素領域内において、画素電極から最も離れた位置、具体的にはデータ線の延在する方向において、1つのサブ画素電極と、当該1つのサブ画素電極のとなりの他のサブ画素電極との間に形成されている。これにより、コンタクトホールと、有効表示領域となるサブ画素電極との距離をできる限り離すことができる。このため、サブ画素電極の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホールの部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。よって、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホールを画素電極と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。  In addition, the contact hole is located at a position farthest from the pixel electrode in the sub-pixel region, specifically, in the direction in which the data line extends, in addition to one sub-pixel electrode and the other sub-pixel electrode. Are formed between the sub-pixel electrodes. As a result, the distance between the contact hole and the sub-pixel electrode serving as the effective display area can be separated as much as possible. For this reason, the liquid crystal in the effective display area corresponding to the position of the sub-pixel electrode is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal generated in the contact hole, and the alignment disorder of the liquid crystal in the effective display area. Can be prevented. Therefore, it is possible to prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed with respect to drive control, and a high-quality display image can be obtained. In addition, since the contact hole is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode, a decrease in the aperture ratio can be prevented.
特に、この液晶装置では、データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、他のデータ線は、サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなる。これにより、他のデータ線とコンタクトホールとの接触を防止することができる。  In particular, in this liquid crystal device, the other data lines adjacent to the data lines are formed so as not to overlap with the contact holes, and the other data lines bypass the other sub pixel area side adjacent to the sub pixel area. It is formed as follows. As a result, contact between other data lines and contact holes can be prevented.

上記の液晶装置の他の一態様では、前記一対の基板のうち他方の基板には、前記コンタクトホールの対応する位置に黒色遮光膜を有する。これにより、コンタクトホールの位置において、そのコンタクトホールで生じる液晶の配向乱れの領域を、遮光膜により視認不能とすることができる。よって、表示のコントラストを高めることができる。   In another mode of the above liquid crystal device, the other substrate of the pair of substrates has a black light-shielding film at a position corresponding to the contact hole. As a result, at the position of the contact hole, the liquid crystal alignment disorder region generated in the contact hole can be made invisible by the light shielding film. Therefore, the display contrast can be increased.

上記の液晶装置の他の一態様では、前記他方の基板には、前記サブ画素電極の略中央に対応する位置に開口又は突起が形成されている。この態様では、サブ画素電極の略中央に対向する位置に形成された開口又は凸部と、多角形又は略円形のサブ画素電極とが対向配置された領域で、液晶分子の配向が放射状に制御される。こうして、垂直配向方式による広視野角化が可能となる。   In another mode of the above liquid crystal device, an opening or a protrusion is formed on the other substrate at a position corresponding to the approximate center of the subpixel electrode. In this aspect, the orientation of the liquid crystal molecules is controlled radially in a region in which the opening or convex portion formed at a position facing substantially the center of the subpixel electrode and the polygonal or substantially circular subpixel electrode are arranged to face each other. Is done. In this way, a wide viewing angle can be achieved by the vertical alignment method.

上記の液晶装置の他の一態様では、前記データ線は、前記コンタクトホールと重ならない状態で、前記一方の基板上に形成されている。好適な例では、データ線を、コンタクトホールの付近で迂回するように、一方の基板上に形成することができる。よって、データ線とコンタクトホールの接触を防止することができる。   In another mode of the above liquid crystal device, the data line is formed on the one substrate so as not to overlap the contact hole. In a preferred example, the data line can be formed on one substrate so as to bypass the contact hole. Therefore, contact between the data line and the contact hole can be prevented.

また、上記の液晶装置を備える電子機器を構成することができる。   In addition, an electronic device including the above liquid crystal device can be formed.

[第1実施形態]
(液晶表示装置の構成)
はじめに、本発明の実施形態に係る垂直配向方式の液晶表示装置の電気的構成について説明する。図1は、この表示装置の電気的な構成を示すブロック図である。この図に示されるように、液晶表示装置100には、複数m本の走査線(コモン配線)214が行(X)方向に延在に形成される一方、複数3n本のデータ線(セグメント配線)314が列(Y)方向に延在して形成されるとともに、走査線214とデータ線314との各交差に対応して画素110が形成されている。この画素110は、R(赤)、G(緑)、B(青)のいずれかの一色に対応するものであり、X方向に相隣接するRGBの3つの画素110によって1つのドット120が構成されている。
[First Embodiment]
(Configuration of liquid crystal display device)
First, an electrical configuration of a vertical alignment type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram showing an electrical configuration of the display device. As shown in this figure, in the liquid crystal display device 100, a plurality of m scanning lines (common wirings) 214 are formed extending in the row (X) direction, while a plurality of 3n data lines (segment wirings) are formed. ) 314 extends in the column (Y) direction, and a pixel 110 is formed corresponding to each intersection of the scanning line 214 and the data line 314. This pixel 110 corresponds to one of R (red), G (green), and B (blue), and one dot 120 is constituted by three RGB pixels 110 adjacent to each other in the X direction. Has been.

ここで、画素110は、液晶容量162と、二端子型スイッチング素子の一例であるTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)320との直列接続からなる。このうち、液晶容量162は、後述するように、対向電極として機能する走査線214と画素電極との間に、電気光学物質の一例たる液晶を挟持した構成となっている。また、TFD320は、一端がデータ線314に接続される一方、他端が画素電極に接続されて、走査線214とデータ線314との電位差にしたがってオンオフが制御される。なお、この表示装置にあっては、説明の便宜上、走査線214の総数をm本とし、データ線314の総数を3n本として、ドット120がm行n列(画素110でいえば、m行3n列)に配列するマトリクス型表示装置として説明するが、本発明の適用をこれに限定する趣旨ではない。   Here, the pixel 110 includes a series connection of a liquid crystal capacitor 162 and a TFD (Thin Film Diode) 320 which is an example of a two-terminal switching element. Among these, as will be described later, the liquid crystal capacitor 162 has a configuration in which liquid crystal, which is an example of an electro-optical material, is sandwiched between a scanning line 214 that functions as a counter electrode and a pixel electrode. One end of the TFD 320 is connected to the data line 314 and the other end is connected to the pixel electrode, and on / off is controlled according to the potential difference between the scanning line 214 and the data line 314. In this display device, for convenience of explanation, the total number of scanning lines 214 is m, the total number of data lines 314 is 3n, and dots 120 are arranged in m rows and n columns (pixel 110 is m rows). 3n columns) will be described as a matrix type display device, but the application of the present invention is not limited to this.

次に、Yドライバ251、253は、一般には走査線駆動回路と呼ばれるものである。
このうち、Yドライバ251は、図1において上から数えて奇数(1、3、5、…、m−1)本目の走査線214の駆動を担当し、Yドライバ253は、上から数えて偶数(2、4、6、…、m)本目の走査線214の駆動を担当している。すなわち、Yドライバ251、253によって、1行目、2行目、3行目、…、m行目の走査線214が1垂直走査期間において順次排他的に1本ずつ選択されるとともに、選択された走査線214には、選択電圧の走査信号が供給される一方、他の非選択の走査線214には、非選択電圧の走査信号が供給される構成となっている。なお、説明の便宜上、走査信号は、一般的にj(iは、1≦j≦mを満たす整数)行目の走査線214に供給されるものを、Yjと表記している。
Next, the Y drivers 251 and 253 are generally called scanning line driving circuits.
Among them, the Y driver 251 is responsible for driving the odd (1, 3, 5,..., M−1) th scanning line 214 counted from the top in FIG. 1, and the Y driver 253 is an even number counted from the top. (2, 4, 6,..., M) is responsible for driving the scanning line 214 of the first. That is, the Y drivers 251 and 253 select the scanning lines 214 in the first row, the second row, the third row,... The scanning line 214 is supplied with the scanning signal of the selection voltage, while the other non-selection scanning lines 214 are supplied with the scanning signal of the non-selection voltage. For convenience of explanation, a scanning signal generally supplied to the scanning line 214 in the j-th row (i is an integer satisfying 1 ≦ j ≦ m) is denoted as Yj.

また、Xドライバ350は、一般にはデータ線駆動回路と呼ばれるものであり、Yドライバ251、253のいずれかにより選択された走査線214に位置する3n個の画素110に対し、表示内容に応じたデータ信号X1B、X1G、X1R、X2B、X2G、X2R、…、XnB、XnG、XnRを、それぞれ対応するデータ線314を介して供給するものである。なお、データ信号は、一般的にi(iは、1≦i≦nを満たす整数)列目のドット120において、B、G、Rの画素110で兼用されるデータ線314に供給されるものを、それぞれXiB、XiG、XiRと表記している。   In addition, the X driver 350 is generally called a data line driving circuit, and the 3n pixels 110 located on the scanning line 214 selected by any of the Y drivers 251 and 253 correspond to the display contents. Data signals X1B, X1G, X1R, X2B, X2G, X2R,..., XnB, XnG, XnR are supplied via corresponding data lines 314, respectively. The data signal is generally supplied to the data line 314 shared by the B, G, and R pixels 110 in the dot 120 in the i-th column (i is an integer satisfying 1 ≦ i ≦ n). Are denoted as XiB, XiG, and XiR, respectively.

次に、液晶表示装置100の機械的な構成について説明する。図2は、この液晶表示装置100の外観構成を示す斜視図である。なお、この図では、液晶表示装置100における配線レイアウトを判りやすくするために、観察者に視認される観察側を図において裏側として示す一方、観察者が通常視認することのない背面側を図において表側として示している。また、図3は、この液晶表示装置100を図2におけるX方向に沿って破断した場合の構成について、観察側を上側として示す部分断面図である。このため、図2と図3とは、互いに上下関係が逆となる点に留意されたい。   Next, a mechanical configuration of the liquid crystal display device 100 will be described. FIG. 2 is a perspective view showing an external configuration of the liquid crystal display device 100. In this figure, in order to make the wiring layout in the liquid crystal display device 100 easy to understand, the observation side visually recognized by the observer is shown as the back side in the figure, while the back side that the observer does not normally visually recognize is shown in the figure. It is shown as the front side. FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the configuration when the liquid crystal display device 100 is broken along the X direction in FIG. Therefore, it should be noted that FIG. 2 and FIG. 3 are upside down.

これらの図に示されるように、液晶表示装置100は、観察側に位置する基板300と、その背面側に位置して、観察側の基板300よりも一回り小さい基板200とが、スペーサを兼ねる導電性粒子114が適切な割合で分散されたシール材110によって、一定の間隙を保って貼り合わせられるとともに、この間隙に例えば、負の誘電率異方性を有する液晶160が封入された構成となっている。ここで、シール材110は、基板200の内周縁に沿って形成されるが、液晶160を封入するために、その一部が開口している。このため、液晶160の封入後に、その開口部分が封止材112によって封止されている。   As shown in these drawings, in the liquid crystal display device 100, a substrate 300 located on the observation side and a substrate 200 located on the back side and slightly smaller than the observation-side substrate 300 also serve as spacers. The sealing material 110 in which the conductive particles 114 are dispersed at an appropriate ratio is bonded together with a constant gap, and the liquid crystal 160 having negative dielectric anisotropy is sealed in the gap, for example. It has become. Here, the sealing material 110 is formed along the inner periphery of the substrate 200, and a part of the sealing material 110 is opened to enclose the liquid crystal 160. Therefore, after the liquid crystal 160 is sealed, the opening is sealed with the sealing material 112.

さて、背面側の基板200にあって、観察側の基板300との対向面には、m本の走査線214がX方向に延在して形成される一方、観察側の基板300にあって背面側の基板200との対向面には、3n本のデータ線314がY(列)方向に延在して形成されている。基板200に形成された走査線214のうち、奇数行目の走査線214は、シール材110の形成領域のうち、図2において左側まで延設される一方、偶数行目の走査線214は、シール材110の形成領域のうち、図において右側まで延設されている。また、基板300には、走査線214と一対一に対応して配線372が設けられるとともに、シール材110の形成領域において、対応する走査線214の一端と対向するように形成されている。   Now, in the substrate 200 on the back side, m scanning lines 214 are formed to extend in the X direction on the surface facing the substrate 300 on the observation side, while on the substrate 300 on the observation side. On the surface facing the substrate 200 on the back side, 3n data lines 314 are formed extending in the Y (column) direction. Of the scanning lines 214 formed on the substrate 200, the odd-numbered scanning lines 214 are extended to the left side in FIG. 2 in the formation region of the sealing material 110, while the even-numbered scanning lines 214 are In the region where the sealing material 110 is formed, it extends to the right side in the figure. In addition, the substrate 300 is provided with wirings 372 in one-to-one correspondence with the scanning lines 214 and is formed so as to face one end of the corresponding scanning lines 214 in the formation region of the sealant 110.

ここで、導電性粒子114は、走査線214の一端と配線372の一端とが対向する部分に、少なくとも1個以上介在するような割合にてシール材110中に分散される。このため、基板200に形成された走査線214は、導電性粒子114を介して、基板300に形成された配線372に接続される構成となる。なお、この配線372は、後述するTFD320の第2金属膜と同一層、および、画素電極348と同一層をパターニングした積層構造となって、その配線抵抗が低く抑えられている。このような配線372のうち、奇数行目の走査線214に接続される配線372は、シール材100の形成領域外において90度屈曲した後、Y方向に沿って張出領域302まで延設される。そして、当該配線372は、張出領域302において、Yドライバ251の出力側バンプに接合される。同様に、偶数行目の走査線214に接続される配線372は、シール材100の形成領域外において90度屈曲した後、Y方向に沿って張出領域302まで延設されて、Yドライバ253の出力側バンプに接合される。   Here, the conductive particles 114 are dispersed in the sealing material 110 at a ratio such that at least one or more conductive particles 114 are interposed in a portion where one end of the scanning line 214 and one end of the wiring 372 face each other. Therefore, the scanning line 214 formed on the substrate 200 is connected to the wiring 372 formed on the substrate 300 through the conductive particles 114. The wiring 372 has a laminated structure in which the same layer as a second metal film of a TFD 320 described later and the same layer as the pixel electrode 348 are patterned, and the wiring resistance is kept low. Among such wirings 372, the wiring 372 connected to the odd-numbered scanning lines 214 is bent 90 degrees outside the sealing material 100 formation region and then extended to the overhanging region 302 along the Y direction. The The wiring 372 is bonded to the output-side bump of the Y driver 251 in the overhang region 302. Similarly, the wiring 372 connected to the scanning lines 214 in the even-numbered rows is bent 90 degrees outside the formation region of the sealing material 100 and then extended to the overhanging region 302 along the Y direction. It is joined to the output side bump.

一方、データ線314は、シール材100の形成領域外においてピッチが狭められて、張出領域302まで延設される。そして、当該データ線314は、張出領域302において、Xドライバ350の出力側バンプに接合される。また、張出領域302には、FPC(Flexible Circuit Board)基板150が接合されて、外部回路(図示省略)から、Yドライバ251、253およびXドライバ350の入力側バンプにクロック信号や制御信号等を供給する構成となっている。そして、基板300の張出領域302においては配線384が形成されて、その一端は、Yドライバ251、253またはXドライバ350の入力側バンプに接続される一方、その他端は、FPC基板150の配線と接続される。   On the other hand, the data lines 314 are extended to the overhanging region 302 with the pitch being narrowed outside the sealing material 100 forming region. The data line 314 is bonded to the output-side bump of the X driver 350 in the overhang region 302. In addition, an FPC (Flexible Circuit Board) substrate 150 is bonded to the overhang region 302, and a clock signal, a control signal, and the like are applied from an external circuit (not shown) to the input side bumps of the Y drivers 251, 253 and the X driver 350 Is configured to supply. A wiring 384 is formed in the overhanging region 302 of the substrate 300, and one end thereof is connected to the input side bump of the Y driver 251, 253 or the X driver 350, while the other end is connected to the wiring of the FPC board 150. Connected.

なお、図2においては、説明の理解を優先させたため便宜的に走査線214の本数mを「8」とし、データ線314の本数3nを「18」とした場合を示している。また、張出領域302には、検査用の端子217、219、319が設けられているが、これらの端子については後述することにする。   2, for the sake of convenience, the number m of scanning lines 214 is set to “8”, and the number 3n of data lines 314 is set to “18”. The overhanging region 302 is provided with inspection terminals 217, 219, and 319, which will be described later.

(内部構成)
次に、液晶表示装置100における表示領域の内部構成について説明する。図3に示されるように、まず、観察側の基板300の外面には、位相差板133および偏光板131が貼り付けられる。なお、これらの位相差板133および偏光板131については、簡略化のため図2では省略されている。また、基板300の内面には、クロム等からなるデータ線314がY方向(図3では紙面垂直方向)に延在して形成されている。また、データ線314の表面上及び基板300の内面上には、液晶160より誘電率の低い樹脂材料からなる絶縁膜、即ちオーバーレイヤー309が形成されている。さらに、オーバーレイヤー309の内面上には、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材料からなる画素電極348及び黒色遮光膜347が形成されている。黒色遮光膜347は、各画素電極348の周囲に形成されており、各画素電極348は、黒色遮光膜347にて区画されている。
なお、本液晶表示装置100では、黒色遮光膜347を基板300側に形成するようにしているが、これに限らず、黒色遮光膜347は、基板200側であって、各画素電極348の周囲に対応する位置に形成するようにしても構わない。なお、データ線314や画素電極348等の詳細構成については、さらに後述することにする。ここで、画素電極348の表面には、垂直配向膜308が形成されている。なお、垂直配向膜308は、表示領域外では不要であるから、シール材110の形成領域近傍およびその外側では設けられていない。
(Internal structure)
Next, the internal configuration of the display area in the liquid crystal display device 100 will be described. As shown in FIG. 3, first, a retardation plate 133 and a polarizing plate 131 are attached to the outer surface of the observation-side substrate 300. Note that the retardation plate 133 and the polarizing plate 131 are omitted in FIG. 2 for simplification. Further, data lines 314 made of chromium or the like are formed on the inner surface of the substrate 300 so as to extend in the Y direction (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 3). In addition, an insulating film made of a resin material having a dielectric constant lower than that of the liquid crystal 160, that is, an overlayer 309 is formed on the surface of the data line 314 and the inner surface of the substrate 300. Further, a pixel electrode 348 and a black light shielding film 347 made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) are formed on the inner surface of the overlayer 309. The black light shielding film 347 is formed around each pixel electrode 348, and each pixel electrode 348 is partitioned by the black light shielding film 347.
In the present liquid crystal display device 100, the black light shielding film 347 is formed on the substrate 300 side. However, the present invention is not limited to this, and the black light shielding film 347 is on the substrate 200 side and around each pixel electrode 348. You may make it form in the position corresponding to. The detailed configuration of the data line 314, the pixel electrode 348, and the like will be described later. Here, a vertical alignment film 308 is formed on the surface of the pixel electrode 348. Note that the vertical alignment film 308 is not provided outside the display region, and thus is not provided near or outside the region where the sealant 110 is formed.

続いて、背面側の基板200について説明する。基板200の外面には、位相差板123および偏光板121が貼り付けられる。なお、これらの位相差板123および偏光板121についても、図2では省略されている。一方、基板200の内面には、起伏が形成された散乱樹脂層203が形成されている。この散乱樹脂層203は、例えば基板200の表面上において点状にパターニングしたフォトレジストを熱処理し、当該フォトレジストの端部を軟化させる等によって、形成したものである。   Subsequently, the substrate 200 on the back side will be described. A phase difference plate 123 and a polarizing plate 121 are attached to the outer surface of the substrate 200. Note that the retardation plate 123 and the polarizing plate 121 are also omitted in FIG. On the other hand, a scattering resin layer 203 having undulations is formed on the inner surface of the substrate 200. The scattering resin layer 203 is formed by, for example, heat-treating a photoresist patterned in a spot shape on the surface of the substrate 200 to soften an end portion of the photoresist.

次に、散乱樹脂層203の起伏面には、アルミニウムや銀等の反射性金属からなる反射膜204が形成されている。したがって、散乱樹脂層203の起伏を反映して、反射膜204の表面も起伏となるので、観察側から入射した光は、反射膜204によって反射する際に、適度に散乱することとなる。なお、液晶表示装置100を反射型のみならず透過型としても機能させるために、反射膜204には、光を透過させるための開口部209が設けられている。なお、このような開口部209を設けずに、例えばアルミニウム等の光反射性を有する金属の膜厚を比較的薄く(20nm〜50nm)して形成することにより、背面側からの入射光の一部を透過させる構成としても良い。   Next, a reflective film 204 made of a reflective metal such as aluminum or silver is formed on the undulating surface of the scattering resin layer 203. Therefore, the surface of the reflective film 204 is also undulated reflecting the undulation of the scattering resin layer 203, so that the light incident from the observation side is appropriately scattered when reflected by the reflective film 204. In order to make the liquid crystal display device 100 function not only as a reflection type but also as a transmission type, the reflection film 204 is provided with an opening 209 for transmitting light. In addition, without forming such an opening 209, for example, by forming a light-reflective metal such as aluminum with a relatively thin film thickness (20 nm to 50 nm), it is possible to reduce incident light from the back side. It is good also as a structure which permeate | transmits a part.

さらに、反射膜204の表面には、画素電極348と走査線214との対向領域に対応して、赤色のカラーフィルタ205R、緑色のカラーフィルタ205G、および、青色のカラーフィルタ205Bが、それぞれ所定の配列で設けられている。なお、カラーフィルタ205R、205G、205Bの配列は、本実施形態では、データ系の表示に好適なストライプ配列となっている。   Further, on the surface of the reflective film 204, a red color filter 205R, a green color filter 205G, and a blue color filter 205B are respectively provided in correspondence with the opposing regions of the pixel electrode 348 and the scanning line 214. It is provided in an array. Note that the arrangement of the color filters 205R, 205G, and 205B is a stripe arrangement suitable for data display in the present embodiment.

次に、各色のカラーフィルタ205R、205G、205Bの表面には、絶縁材からなる平坦化膜207が設けられて、当該カラーフィルタの段差や反射膜204等の起伏を平坦化している。そして、平坦化膜207により平坦化された面に、ITO等の透明導電材料からなる走査線214がX方向(図3では紙面左右方向)に、観察側の基板300に形成された画素電極348と対向するように形成されている。そして、走査線214の表面には、ポリイミド等からなる垂直配向膜208が形成されている。なお、この垂直配向膜208には、観察側の基板300と貼り合わせる前に、所定の方向にラビング処理が施される。また、各色のカラーフィルタ205R、205G、205B、平坦化膜207および垂直配向膜208は、表示領域外では不要であるから、シール材110の領域近傍およびその外側では設けられていない。   Next, a flattening film 207 made of an insulating material is provided on the surface of each color filter 205R, 205G, 205B to flatten the unevenness of the step of the color filter and the reflective film 204. Then, on the surface flattened by the flattening film 207, the scanning line 214 made of a transparent conductive material such as ITO is formed in the X direction (the horizontal direction in the drawing in FIG. 3), and the pixel electrode 348 formed on the observation-side substrate 300. Are formed to face each other. A vertical alignment film 208 made of polyimide or the like is formed on the surface of the scanning line 214. The vertical alignment film 208 is rubbed in a predetermined direction before being bonded to the observation-side substrate 300. Further, the color filters 205R, 205G, and 205B, the planarizing film 207, and the vertical alignment film 208 for each color are not provided outside the display area, and thus are not provided near the area of the sealant 110 and outside the area.

(画素構成)
続いて、図4及び図5を参照して、液晶表示装置100における画素の構成について説明する。図4は、複数の画素電極348のレイアウトを示す部分平面図である。図5は、図4におけるA−A'線に沿った断面図、即ち、コンタクトホール346付近の断面図である。なお、図4は、背面側から観察側を見た場合の構成を示しているので、図4では手前側が、図5では上側が、それぞれ背面側となる。また、図4では、便宜上、TFD320及びデータ線314を夫々実線で表すこととしている。また、図4及び図5では、便宜上、サブ画素領域349間に形成される黒色遮光膜347を省略することとしている。
(Pixel configuration)
Next, the pixel configuration in the liquid crystal display device 100 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a partial plan view showing the layout of the plurality of pixel electrodes 348. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 4, that is, a cross-sectional view in the vicinity of the contact hole 346. 4 shows a configuration when the observation side is viewed from the back side, so that the near side in FIG. 4 is the back side and the upper side in FIG. 5 is the back side. In FIG. 4, for convenience, the TFD 320 and the data line 314 are each represented by a solid line. 4 and 5, the black light shielding film 347 formed between the sub-pixel regions 349 is omitted for convenience.

本発明の液晶表示装置100は、オーバーレイヤー構造を有する垂直配向方式の液晶表示装置である。このため、本発明の液晶表示装置100では、特に、画素電極348と、データ線314及びTFD320とが絶縁膜たるオーバーレイヤー309を介して絶縁されていると共に、それらは後述するようにコンタクトホール346の位置で電気的に接続されている。また、本発明の液晶表示装置100は、ノーマリーブラックモードを有する液晶表示装置でもある。   The liquid crystal display device 100 of the present invention is a vertical alignment type liquid crystal display device having an overlayer structure. Therefore, in the liquid crystal display device 100 of the present invention, in particular, the pixel electrode 348, the data line 314, and the TFD 320 are insulated via the overlayer 309 that is an insulating film, and they are contact holes 346 as will be described later. It is electrically connected at the position. The liquid crystal display device 100 of the present invention is also a liquid crystal display device having a normally black mode.

図示のように、画素電極348は、複数(本例では3個)の多角形の透明電極部分(以下、「サブ画素電極348u」と呼ぶ。)を接続した形状を有する。なお、1つの画素電極348は、対応するサブ画素領域349内(ハッチングした領域内)に形成される。垂直配向方式では、液晶分子をサブ画素電極348u上で略放射状に配向させるため、各サブ画素電極348uは多角形又は円形など、電極の外縁又は外周が中心点から略等距離にある形状が好適である。図4の実施例では、3個のサブ画素電極348uを直列に配置している。なお、1つのサブ画素領域349内に複数個のサブ画素電極348uを形成する理由は、個々のサブ画素電極348uがある程度小さいほうが、液晶分子の配向状態を制御し易いからである。即ち、1つの画素を1つの大きなサブ画素電極により構成した場合と比較して、液晶分子の配向を正確に制御し易いからである。   As illustrated, the pixel electrode 348 has a shape in which a plurality (three in this example) of polygonal transparent electrode portions (hereinafter referred to as “sub-pixel electrodes 348 u”) are connected. One pixel electrode 348 is formed in the corresponding sub-pixel region 349 (in the hatched region). In the vertical alignment method, liquid crystal molecules are aligned in a substantially radial manner on the sub-pixel electrode 348u, so that each sub-pixel electrode 348u has a shape such as a polygon or a circle whose outer edge or outer periphery is substantially equidistant from the center point. It is. In the embodiment of FIG. 4, three subpixel electrodes 348u are arranged in series. The reason why a plurality of sub-pixel electrodes 348u are formed in one sub-pixel region 349 is that the alignment state of liquid crystal molecules is easier to control when the individual sub-pixel electrodes 348u are small to some extent. That is, the alignment of the liquid crystal molecules can be accurately controlled compared to the case where one pixel is constituted by one large sub-pixel electrode.

画素電極348は、基板300側に形成されたオーバーレイヤー309の内面上にマトリクス状に配列されている。各画素電極348は、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色に対応する、略矩形形状をなすカラーフィルタ205と対向している。また、画素電極348は、TFD320と接続される配線、即ち、接続部分348cを有している。接続部分348cは、画素電極348と同一の材料(ITOなど)にて形成されている。この接続部分348cは、サブ画素領域349内における最も下側に位置するサブ画素電極348uの外周辺からコンタクトホール346の位置まで延び出てなる。同一列に属する画素電極348は、対応するコンタクトホール346の位置において、TFD320を介し1本のデータ線314に共通接続されている。また、同一行の画素電極348は、上述したように、それぞれ1本の走査線214(波線部分)と対向している。   The pixel electrodes 348 are arranged in a matrix on the inner surface of the overlayer 309 formed on the substrate 300 side. Each pixel electrode 348 faces the color filter 205 having a substantially rectangular shape corresponding to each color of R (red), G (green), and B (blue). In addition, the pixel electrode 348 includes a wiring connected to the TFD 320, that is, a connection portion 348c. The connection portion 348c is formed of the same material (such as ITO) as the pixel electrode 348. The connection portion 348 c extends from the outer periphery of the lowermost sub pixel electrode 348 u in the sub pixel region 349 to the position of the contact hole 346. The pixel electrodes 348 belonging to the same column are commonly connected to one data line 314 through the TFD 320 at the position of the corresponding contact hole 346. Further, as described above, the pixel electrodes 348 in the same row face each one scanning line 214 (wave line portion).

TFD320は、第1のTFD320a及び第2のTFD320bから構成される。第1のTFD320a及び第2のTFD320bは、タンタルタングステンなどからなる島状の第1金属膜322と、この第1金属膜322の表面を陽極酸化することによって形成された絶縁膜323と、この表面に形成されて相互に離間した第2金属膜316、336とを有する。このうち、第2金属膜316、336は、クロム等の同一導電膜をパターニングしたものであり、前者の第2金属膜316は、データ線314からT字状に分岐したものが用いられる一方、後者の第2金属膜336は、ITO等の画素電極348の接続部分348cに接続するために用いられる。   The TFD 320 includes a first TFD 320a and a second TFD 320b. The first TFD 320a and the second TFD 320b include an island-shaped first metal film 322 made of tantalum tungsten, an insulating film 323 formed by anodizing the surface of the first metal film 322, and the surface. And second metal films 316 and 336 spaced apart from each other. Of these, the second metal films 316 and 336 are formed by patterning the same conductive film such as chromium, and the former second metal film 316 is branched from the data line 314 in a T shape, The latter second metal film 336 is used for connection to the connection portion 348c of the pixel electrode 348 such as ITO.

ここで、TFD320のうち、第1のTFD320aは、データ線314の側からみると順番に、第2金属膜316/絶縁膜323/第1金属膜322となって、金属/絶縁体/金属の構造を採るため、その電流−電圧特性は正負双方向にわたって非線形となる。一方、第2のTFD320bは、データ線314の側からみると順番に、第1金属膜322/絶縁膜323/第2金属膜336となって、第1のTFD320aとは逆向きの構造を採る。このため、第2のTFD320bの電流−電圧特性は、第1のTFD320aの電流−電圧特性を、原点を中心に点対称化したものとなる。その結果、TFD320は、2つのTFDを互いに逆向きに直列接続した形となるため、1つの素子を用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されることになる。   Here, among the TFDs 320, the first TFD 320a becomes the second metal film 316 / the insulating film 323 / the first metal film 322 in order from the data line 314 side, and the metal / insulator / metal. Due to the structure, the current-voltage characteristic is nonlinear in both positive and negative directions. On the other hand, the second TFD 320b becomes a first metal film 322 / insulating film 323 / second metal film 336 in order when viewed from the data line 314 side, and has a structure opposite to the first TFD 320a. . For this reason, the current-voltage characteristics of the second TFD 320b are obtained by making the current-voltage characteristics of the first TFD 320a point-symmetric with respect to the origin. As a result, the TFD 320 has a shape in which two TFDs are connected in series in opposite directions. Therefore, the current-voltage nonlinear characteristic is symmetric in both positive and negative directions compared to the case of using one element. .

オーバーレイヤー309は、平面視すると略円形をなす開口、即ちコンタクトホール346を有している。画素電極348の接続部分348cと、TFD320及びデータ線314とは、このコンタクトホール346を通じて電気的に接続される。ここで、その部分の詳細な構成について、図5の断面図を参照して説明する。同図に示すように、基板300上には、TFD320及びデータ線314が形成されている。データ線314の下層には、基板300側から第1金属膜312、絶縁膜313が積層されている。そして、基板300の内面上、並びに、TFD320及びデータ線314の各表面上には、オーバーレイヤー309が積層されている。また、第2金属膜336の紙面左端部近傍の位置には、コンタクトホール346が形成されている。そして、画素電極348の接続部分348cは、コンタクトホール346内においてTFD320の第2金属膜336と接続されている。   The overlayer 309 has a substantially circular opening, that is, a contact hole 346 when seen in a plan view. The connection portion 348c of the pixel electrode 348, the TFD 320, and the data line 314 are electrically connected through the contact hole 346. Here, a detailed configuration of the portion will be described with reference to a cross-sectional view of FIG. As shown in the figure, a TFD 320 and a data line 314 are formed on the substrate 300. A first metal film 312 and an insulating film 313 are stacked below the data line 314 from the substrate 300 side. An overlayer 309 is laminated on the inner surface of the substrate 300 and on each surface of the TFD 320 and the data line 314. Further, a contact hole 346 is formed at a position near the left end of the second metal film 336 in the drawing. The connection portion 348 c of the pixel electrode 348 is connected to the second metal film 336 of the TFD 320 in the contact hole 346.

オーバーレイヤー構造を有する垂直配向方式の液晶装置では、図5に示すように、電圧無印加時の液晶の初期配向状態において、液晶分子160aは垂直方向に配向する。しかし、コンタクトホール349の上方に位置する液晶分子160aは、同図に示すように、コンタクトホール346の傾斜面の影響を受けるため、その部分では液晶の配向乱れが生じる。そのため、もし、コンタクトホール346を、画素電極348の有効表示領域、即ちサブ画素電極348uに対応する位置又はその付近に形成した場合には、そのコンタクトホール346の部分で生じる液晶の配向乱れによって、その有効表示領域の液晶に影響を及ぼし、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じうる。したがって、かかる不具合の発生を防止するためには、コンタクトホール346を、サブ画素領域349内において画素電極348と重ならない位置に形成するのが望ましい。より好ましくは、コンタクトホール346を、画素領域内、即ち、サブ画素領域349内において画素電極348から最も離れた位置に形成するのがよい。   In the vertical alignment type liquid crystal device having an overlayer structure, as shown in FIG. 5, in the initial alignment state of the liquid crystal when no voltage is applied, the liquid crystal molecules 160a are aligned in the vertical direction. However, since the liquid crystal molecules 160a located above the contact hole 349 are affected by the inclined surface of the contact hole 346 as shown in FIG. Therefore, if the contact hole 346 is formed in an effective display region of the pixel electrode 348, that is, a position corresponding to the sub-pixel electrode 348u or in the vicinity thereof, liquid crystal alignment disorder generated in the contact hole 346 portion causes The liquid crystal in the effective display area is affected, and display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed to drive control may occur. Therefore, in order to prevent the occurrence of such a problem, it is desirable to form the contact hole 346 at a position that does not overlap with the pixel electrode 348 in the sub-pixel region 349. More preferably, the contact hole 346 is formed at a position farthest from the pixel electrode 348 in the pixel region, that is, in the sub-pixel region 349.

図4の平面図に示すように、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置100では、上記したように接続部分348cが、サブ画素領域349内において、最も下側に位置するサブ画素電極348uの外周辺からコンタクトホール346の位置まで延び出てなり、その接続部分348cとTFD320とは、そのコンタクトホール346の位置にて接続されている。よって、コンタクトホール346は、必然的に画素電極348と重ならない位置に設けられている。好適な例では、本発明の第1実施形態の液晶表示装置100において、コンタクトホール346は、サブ画素領域349内において画素電極348から最も離れた位置、即ちサブ画素領域349の角の位置に形成されている。また、コンタクトホール346は、サブ画素領域349間に設けられた黒色遮光膜347の位置に形成されている。これにより、コンタクトホール346と、有効表示領域となるサブ画素電極348uとの距離をできる限り離すことができる。このため、サブ画素電極348uの位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホール346の部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。よって、本発明の液晶表示装置100は、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホール346を画素電極348と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。   As shown in the plan view of FIG. 4, in the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment of the present invention, as described above, the connection portion 348 c is the sub pixel electrode located at the lowest side in the sub pixel region 349. It extends from the outer periphery of 348u to the position of the contact hole 346, and the connection portion 348c and the TFD 320 are connected at the position of the contact hole 346. Therefore, the contact hole 346 is provided at a position that does not necessarily overlap with the pixel electrode 348. In a preferred example, in the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment of the present invention, the contact hole 346 is formed in a position farthest from the pixel electrode 348 in the sub-pixel region 349, that is, a corner position of the sub-pixel region 349. Has been. The contact hole 346 is formed at the position of the black light shielding film 347 provided between the sub-pixel regions 349. As a result, the distance between the contact hole 346 and the sub-pixel electrode 348u serving as an effective display region can be separated as much as possible. For this reason, the liquid crystal in the effective display area corresponding to the position of the sub-pixel electrode 348u is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal generated in the contact hole 346, and the liquid crystal in the effective display area It is possible to prevent the occurrence of alignment disorder. Therefore, the liquid crystal display device 100 of the present invention can prevent display unevenness, afterimage / burn-in, a decrease in response speed to drive control, and the like, and a high-quality display image can be obtained. In addition, since the contact hole 346 is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode 348, a decrease in the aperture ratio can be prevented.

また、上記したように、本発明の液晶表示装置100は、ノーマリーブラックモードを有する液晶表示装置である。このため、コンタクトホール346の部分を黒色遮光膜347で覆わなくとも、液晶の初期配向状態においてその部分は黒表示になる。しかし、コンタクトホール346での液晶の配向乱れにより、コントラストが低下する可能性が有る。
そこで、本実施形態では、上記したように、基板200側であって、そのコンタクトホール346の対応する位置に黒色遮光膜347を形成するようにしている(図4では便宜上その位置のみを示す)。これにより、コンタクトホール346の位置において、そのコンタクトホール346で生じる液晶の配向乱れの領域を隠すことができる。よって、表示のコントラストを高めることができる。
Further, as described above, the liquid crystal display device 100 of the present invention is a liquid crystal display device having a normally black mode. For this reason, even if the portion of the contact hole 346 is not covered with the black light-shielding film 347, the portion is displayed in black in the initial alignment state of the liquid crystal. However, there is a possibility that the contrast is lowered due to the disorder of the alignment of the liquid crystal in the contact hole 346.
Therefore, in this embodiment, as described above, the black light-shielding film 347 is formed at the position corresponding to the contact hole 346 on the substrate 200 side (in FIG. 4, only the position is shown for convenience). . As a result, the liquid crystal alignment disorder region generated in the contact hole 346 can be hidden at the position of the contact hole 346. Therefore, the display contrast can be increased.

また、本発明の画素の構成において、図4を参照して理解されるように、データ線314をY方向にそのまま延在させた場合、データ線314とコンタクトホール346とが重なり、それらが接続されてしまう問題が生じ得る。そこで、本発明では、データ線314をコンタクトホール346の近傍位置で迂回させる、即ち、図示のようにデータ線314をコンタクトホール346と重ならない状態で基板300の内面上に形成する。これにより、データ線314とコンタクトホール346の接触を防止することができる。   Further, in the pixel configuration of the present invention, as can be understood with reference to FIG. 4, when the data line 314 is extended as it is in the Y direction, the data line 314 and the contact hole 346 are overlapped and connected. Can cause problems. Therefore, in the present invention, the data line 314 is bypassed in the vicinity of the contact hole 346, that is, the data line 314 is formed on the inner surface of the substrate 300 so as not to overlap the contact hole 346 as illustrated. Thereby, the contact between the data line 314 and the contact hole 346 can be prevented.

次に、図6を参照して、1つのサブ画素電極348u付近の断面構成について説明する。なお、図6では、対向する基板200側の構成も示されている。なお、図6においては、上側が背面側、下側が観察側である(即ち、基板の上下関係は図4と同一であり、図3とは逆である)。   Next, a cross-sectional configuration in the vicinity of one subpixel electrode 348u will be described with reference to FIG. Note that FIG. 6 also shows the configuration on the opposite substrate 200 side. In FIG. 6, the upper side is the back side and the lower side is the observation side (that is, the vertical relationship of the substrate is the same as that in FIG. 4 and is opposite to that in FIG. 3).

図6(a)は、図4におけるB−B’に沿った模式断面図である。図示のように、TFD320が形成される側の基板300の内面上には、第1金属膜312及び絶縁膜313の上にデータ線314が形成される。また、基板300の内面上及びデータ線314の表面上にはオーバーレイヤー309が形成され、さらに、そのオーバーレイヤー309の内面上にはサブ画素電極348uが形成される。なお、オーバーレイヤー309の内面上及びサブ画素電極348uの表面上には垂直配向膜308が形成される(図3を参照、図6(a)では図示略)。   FIG. 6A is a schematic cross-sectional view along B-B ′ in FIG. 4. As illustrated, a data line 314 is formed on the first metal film 312 and the insulating film 313 on the inner surface of the substrate 300 on the side where the TFD 320 is formed. An overlayer 309 is formed on the inner surface of the substrate 300 and the surface of the data line 314, and further, a sub-pixel electrode 348 u is formed on the inner surface of the overlayer 309. A vertical alignment film 308 is formed on the inner surface of the overlayer 309 and on the surface of the sub-pixel electrode 348u (see FIG. 3, not shown in FIG. 6A).

一方、対向側の基板200の内面上には樹脂散乱膜203が形成され、その樹脂散乱膜203上には反射膜204が形成される(図3を参照、図6(a)では図示略)。また、反射膜204の内面上には、カラーフィルタ205が形成される。また、カラーフィルタ205の内面上には平坦化膜207が形成され、その平坦化膜207上には走査線214が形成される。   On the other hand, a resin scattering film 203 is formed on the inner surface of the opposite substrate 200, and a reflection film 204 is formed on the resin scattering film 203 (see FIG. 3, not shown in FIG. 6A). . A color filter 205 is formed on the inner surface of the reflective film 204. A planarizing film 207 is formed on the inner surface of the color filter 205, and a scanning line 214 is formed on the planarizing film 207.

ここで、走査線214には、各サブ画素電極348uの略中心に対応する位置に開口214aが形成されている(図4を参照)。基板間に電圧が印加されると、開口214aとサブ画素電極348uの相互作用により、その部分に斜め電界Eが生じ(図中の矢印を参照)、液晶分子160aの傾倒方向が規定される。このため、基板間に印加する電圧の大きさに応じて液晶分子160aの配向状態を放射状に制御することができる。よって、液晶分子160aが放射状に配向した領域が形成される。   Here, in the scanning line 214, an opening 214a is formed at a position corresponding to the approximate center of each sub-pixel electrode 348u (see FIG. 4). When a voltage is applied between the substrates, an oblique electric field E is generated in the portion due to the interaction between the opening 214a and the sub-pixel electrode 348u (see the arrow in the figure), and the tilt direction of the liquid crystal molecules 160a is defined. For this reason, the alignment state of the liquid crystal molecules 160a can be controlled radially according to the magnitude of the voltage applied between the substrates. Therefore, a region where the liquid crystal molecules 160a are radially aligned is formed.

また、図6(b)では、走査線214上には、各サブ画素電極348uの略中心に対応する位置に樹脂などからなる突起、即ち凸部400が形成されている。これにより、液晶の初期配向状態において、液晶分子160aは、その凸部400の傾斜面に沿って配向される。これにより、液晶分子160aの傾倒方向が規定される。このため、基板間に印加する電圧の大きさに応じて液晶分子160aの配向状態を放射状に制御することができる。即ち、液晶分子160aの配向状態が放射状に制御される。なお、図6(a)又は(b)に示す例では、走査線214の各サブ画素電極348uの略中心に対応する位置に開口214a又は凸部400を形成するようにしたが、これに限定されない。即ち、本発明では、必要に応じて、その両方を走査線214に形成するようにしても構わない。   In FIG. 6B, a projection made of resin or the like, that is, a convex portion 400 is formed on the scanning line 214 at a position corresponding to the approximate center of each sub-pixel electrode 348u. Thereby, in the initial alignment state of the liquid crystal, the liquid crystal molecules 160a are aligned along the inclined surface of the convex portion 400. Thereby, the tilt direction of the liquid crystal molecules 160a is defined. For this reason, the alignment state of the liquid crystal molecules 160a can be controlled radially according to the magnitude of the voltage applied between the substrates. That is, the alignment state of the liquid crystal molecules 160a is controlled radially. In the example shown in FIG. 6A or 6B, the opening 214a or the protrusion 400 is formed at a position corresponding to the approximate center of each sub-pixel electrode 348u of the scanning line 214. However, the present invention is not limited to this. Not. That is, in the present invention, both of them may be formed on the scanning line 214 as necessary.

[第2実施形態]
次に、図7を参照して、第2実施形態について説明する。図7は、第2実施形態に係る画素の構成を示すものであり、複数の画素電極348のレイアウトを示す平面図である。
第2実施形態に係る液晶表示装置は、第1実施形態に係る液晶表示装置100の構成と略同様であり、以下では、第1実施形態に係る液晶表示装置100と同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a plan view showing a configuration of a pixel according to the second embodiment and showing a layout of a plurality of pixel electrodes 348.
The liquid crystal display device according to the second embodiment is substantially the same as the configuration of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment. Hereinafter, the same components as those of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment are the same. The description is omitted.

まず、第2実施形態が第1実施形態と特に相違する点について述べる。第2実施形態に係る液晶表示装置では、画素の構成が第1実施形態と若干異なっている。即ち、上記の第1実施形態では、サブ画素領域内349に、3つのサブ画素電極348uよりなる画素電極348を形成するようにした。これに対し、第2実施形態では、サブ画素領域349内に、2つのサブ画素電極348vよりなる画素電極348を形成するようにしている。また、第2実施形態の1つのサブ画素電極348vは、第1実施形態の1つのサブ画素電極348uと比べて若干形状が大きく形成されている。   First, the difference between the second embodiment and the first embodiment will be described. In the liquid crystal display device according to the second embodiment, the configuration of the pixels is slightly different from that of the first embodiment. That is, in the first embodiment, the pixel electrode 348 including the three sub pixel electrodes 348u is formed in the sub pixel region 349. On the other hand, in the second embodiment, a pixel electrode 348 including two sub pixel electrodes 348v is formed in the sub pixel region 349. In addition, one subpixel electrode 348v of the second embodiment is formed slightly larger in shape than the one subpixel electrode 348u of the first embodiment.

また、第1実施形態において、基板200側の走査線214には、各サブ画素電極348uの略中央の位置に平面視略円形の開口214aを形成するようにした。これに対し、第2実施形態において、基板200側の走査線214には、各サブ画素電極348vの略中央の位置に平面視略十字状の開口214cが形成されている。   In the first embodiment, the scanning line 214 on the substrate 200 side is formed with an opening 214a having a substantially circular shape in plan view at a substantially central position of each sub-pixel electrode 348u. On the other hand, in the second embodiment, the scanning line 214 on the substrate 200 side is formed with an opening 214c having a substantially cross shape in plan view at a substantially central position of each sub-pixel electrode 348v.

また、Y方向において、1つのサブ画素電極348vと、それに隣接する他のサブ画素電極348vとの間の近傍位置には、図示のように、スペーサ373が設けられている。このため、各サブ画素領域349内におけるセルギャップが一定に保たれている。また、基板200側には、そのスペーサ373に対応する位置に黒色遮光膜347が形成されている。これにより、スペーサ373に起因した光漏れを防止するようにしている。なお、上記の第1実施形態の液晶表示装置100では、サブ画素領域349内にスペーサ373を設けていないが、その領域内にスペーサ373を設けることとしてもよい。但し、この場合、スペーサ373による光漏れを防止するために、基板200側であって、そのスペーサ373に対応する位置に黒色遮光膜347を設ける必要がある。   In the Y direction, a spacer 373 is provided in the vicinity of one subpixel electrode 348v and another subpixel electrode 348v adjacent thereto as shown in the figure. For this reason, the cell gap in each sub-pixel region 349 is kept constant. On the substrate 200 side, a black light shielding film 347 is formed at a position corresponding to the spacer 373. Thus, light leakage due to the spacer 373 is prevented. In the liquid crystal display device 100 of the first embodiment, the spacer 373 is not provided in the sub-pixel region 349, but the spacer 373 may be provided in that region. However, in this case, in order to prevent light leakage due to the spacer 373, it is necessary to provide the black light-shielding film 347 on the substrate 200 side at a position corresponding to the spacer 373.

次に、第2実施形態が第1実施形態と共通する点について述べる。本発明の特徴をなすコンタクトホール346の設定位置は、上記の第1実施形態と共通している。即ち、第2実施形態では、図7に示すように、コンタクトホール346を、サブ画素領域349の角の位置に形成している。このため、第2実施形態に係る液晶表示装置は、上記した第1実施形態に係る液晶表示装置100と同様の効果を得ることができる。このように、サブ画素領域349内において、画素電極348と重ならない位置にコンタクトホール346を設けるようにすれば、画素の構成は種々の変形をすることが可能である。   Next, points that the second embodiment has in common with the first embodiment will be described. The setting position of the contact hole 346 that characterizes the present invention is the same as that in the first embodiment. That is, in the second embodiment, as shown in FIG. 7, the contact hole 346 is formed at the corner position of the sub-pixel region 349. For this reason, the liquid crystal display device according to the second embodiment can obtain the same effects as the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment described above. As described above, when the contact hole 346 is provided in the sub-pixel region 349 so as not to overlap with the pixel electrode 348, the pixel structure can be variously modified.

よって、第2実施形態では、サブ画素電極348vの位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホール346の部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。これにより、本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置は、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホール346を画素電極348と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。   Therefore, in the second embodiment, the liquid crystal in the effective display region serving as the display portion corresponding to the position of the sub-pixel electrode 348v is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal generated in the contact hole 346, and the effective It is possible to prevent the occurrence of disorder in the alignment of the liquid crystal in the display area. Thereby, the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention can prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed to drive control, and can obtain a high-quality display image. . In addition, since the contact hole 346 is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode 348, a decrease in the aperture ratio can be prevented.

[第3実施形態]
次に、図8を参照して、第3実施形態について説明する。図8は、第3実施形態に係る画素の構成を示すものであり、複数の画素電極348uのレイアウトを示す平面図である。第3実施形態に係る液晶表示装置は、第1実施形態に係る液晶表示装置100の構成と略同様であるため、以下では、第1実施形態に係る液晶表示装置100と同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Third embodiment]
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a plan view showing a configuration of a pixel according to the third embodiment and showing a layout of a plurality of pixel electrodes 348u. Since the liquid crystal display device according to the third embodiment is substantially the same as the configuration of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment, the same components as those of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment will be described below. The same reference numerals are given and the description thereof is omitted.

第3実施形態に係る液晶表示装置では、画素の構成、特に、本発明の特徴をなすコンタクトホール346の設定位置が第1実施形態と異なっている。即ち、第1実施形態では、コンタクトホール346を、サブ画素領域349内において画素電極348から最も離れた位置、具体的には、サブ画素領域349の角の位置に形成するようにした。これに対し、第3実施形態では、コンタクトホール346を、サブ画素領域349内において画素電極348から最も離れた位置、具体的には、データ線314の延在する方向において、1つのサブ画素電極348uと、それに隣接する他のサブ画素電極348uとの間に形成する。   In the liquid crystal display device according to the third embodiment, the configuration of the pixel, particularly, the set position of the contact hole 346 that characterizes the present invention is different from that of the first embodiment. That is, in the first embodiment, the contact hole 346 is formed at a position farthest from the pixel electrode 348 in the sub-pixel region 349, specifically, at a corner position of the sub-pixel region 349. On the other hand, in the third embodiment, the contact hole 346 has one subpixel electrode at a position farthest from the pixel electrode 348 in the subpixel region 349, specifically, in the direction in which the data line 314 extends. It is formed between 348u and another subpixel electrode 348u adjacent thereto.

これにより、その1つのサブ画素電極348u及びそれに隣接する他のサブ画素電極348uと、コンタクトホール346との距離をできる限り離すことができる。よって、第3実施形態に係る液晶表示装置は、第1実施形態に係る液晶表示装置100と同様の効果を得ることができる。このように、サブ画素領域349内において、画素電極348と重ならない位置にコンタクトホール346を設けるようにすれば、画素の構成は種々の変形をすることが可能である。   Accordingly, the distance between the contact hole 346 and the one subpixel electrode 348u and the other subpixel electrode 348u adjacent to the subpixel electrode 348u can be separated as much as possible. Therefore, the liquid crystal display device according to the third embodiment can obtain the same effects as the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment. As described above, when the contact hole 346 is provided in the sub-pixel region 349 so as not to overlap with the pixel electrode 348, the pixel structure can be variously modified.

よって、第3実施形態では、サブ画素電極348uの位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホール346の部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。これにより、本発明の第3実施形態に係る液晶表示装置は、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホール346を画素電極348と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。   Therefore, in the third embodiment, the liquid crystal in the effective display area corresponding to the position of the sub-pixel electrode 348u is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal generated in the contact hole 346, and its effective It is possible to prevent the occurrence of disorder in the alignment of the liquid crystal in the display area. Accordingly, the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention can prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed to drive control, and can obtain a high-quality display image. . In addition, since the contact hole 346 is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode 348, a decrease in the aperture ratio can be prevented.

[第4実施形態]
次に、図9を参照して、第4実施形態について説明する。図9は、第4実施形態に係る画素の構成を示すものであり、複数の画素電極348のレイアウトを示す平面図である。
第4実施形態に係る液晶表示装置は、第1実施形態に係る液晶表示装置100の構成と略同様であるため、以下では、第1実施形態に係る液晶表示装置100と同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Fourth embodiment]
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a plan view showing a configuration of a pixel according to the fourth embodiment and showing a layout of a plurality of pixel electrodes 348.
Since the liquid crystal display device according to the fourth embodiment is substantially the same as the configuration of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment, the same components as those of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment will be described below. The same reference numerals are given and the description thereof is omitted.

まず、第4実施形態が第1実施形態と特に相違する点について述べる。第4実施形態に係る液晶表示装置では、画素電極348の形状が第1実施形態のそれと比べて異なっている。即ち、上記した第1実施形態では、サブ画素領域内349に、3つのサブ画素電極348uよりなる画素電極348を形成するようにした。これに対し、第4実施形態では、サブ画素領域349内に、1つの略楕円形状の画素電極348を形成するようにしている。   First, the difference between the fourth embodiment and the first embodiment will be described. In the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, the shape of the pixel electrode 348 is different from that of the first embodiment. That is, in the first embodiment described above, the pixel electrode 348 including the three sub-pixel electrodes 348u is formed in the sub-pixel region 349. In contrast, in the fourth embodiment, one substantially elliptical pixel electrode 348 is formed in the sub-pixel region 349.

次に、第4実施形態が第1実施形態と共通する点について述べる。特に、本発明の特徴であるコンタクトホール346の設定位置は、上記の第1実施形態と同様である。このため、第2実施形態に係る液晶表示装置は、第1実施形態に係る液晶表示装置100と同様の効果を得ることができる。このように、サブ画素領域349内において、画素電極348と重ならない位置にコンタクトホール346を設けるようにすれば、画素電極の形状は種々の変形をすることが可能である。   Next, points that the fourth embodiment has in common with the first embodiment will be described. In particular, the setting position of the contact hole 346, which is a feature of the present invention, is the same as that in the first embodiment. For this reason, the liquid crystal display device according to the second embodiment can obtain the same effects as those of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment. As described above, when the contact hole 346 is provided in the sub-pixel region 349 so as not to overlap with the pixel electrode 348, the shape of the pixel electrode can be variously changed.

よって、第4実施形態では、画素電極348の位置に対応し、表示部分となる有効表示領域の液晶は、コンタクトホール346の部分にて生じる液晶の配向乱れの影響を受け難くなり、その有効表示領域の液晶の配向乱れの発生を防止することができる。これにより、本発明の第4実施形態に係る液晶表示装置は、表示むら、残像・焼き付き、及び駆動制御に対する応答速度の低下などが生じるのを防止でき、高品位な表示画像を得ることができる。また、コンタクトホール346を画素電極348と重ならない位置に形成しているので、開口率の低下を防止することができる。   Therefore, in the fourth embodiment, the liquid crystal in the effective display region that corresponds to the position of the pixel electrode 348 and becomes a display portion is not easily affected by the alignment disorder of the liquid crystal that occurs in the contact hole 346 portion. It is possible to prevent the occurrence of disorder in the alignment of the liquid crystal in the region. Accordingly, the liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention can prevent display unevenness, afterimage / burn-in, and a decrease in response speed to drive control, and can obtain a high-quality display image. . In addition, since the contact hole 346 is formed at a position that does not overlap with the pixel electrode 348, a decrease in the aperture ratio can be prevented.

[変形例]
上記の各実施形態では、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TFD)素子を用いた例について説明したが、本発明の適用はこれには限定されない。スイッチング素子の他の例としてアモルファスTFTの断面図を図10に示す。図10において、TFT450は、図示しないゲート線から分岐したゲート電極402の上に、それを覆うようにゲート絶縁膜403が設けられている。ゲート絶縁膜403の上には、ゲート電極402に重なるようにa−Si層405が設けられている。a−Si層405の上には、2つに分断されたn−a−Si層406a、406bが設けられている。さらに、n−a−Si層406aの上には図示しないソース線から分岐したソース電極408が設けられ、n−a−Si層406bの上にはドレイン電極409が設けられている。それらの層を覆うように保護膜411が設けられ、保護膜411の上には、ドレイン電極409に平面的に部分的に重なるように、画素電極410が設けられている。ドレイン電極409と画素電極410とはコンタクトホール416を通じて電気的に接続されている。
[Modification]
In each of the above embodiments, the example using the thin film transistor (TFD) element as the switching element has been described, but the application of the present invention is not limited to this. FIG. 10 shows a cross-sectional view of an amorphous TFT as another example of the switching element. In FIG. 10, a TFT 450 is provided with a gate insulating film 403 on a gate electrode 402 branched from a gate line (not shown) so as to cover it. An a-Si layer 405 is provided on the gate insulating film 403 so as to overlap the gate electrode 402. On the a-Si layer 405, n + -a-Si layers 406a and 406b divided into two are provided. Further, a source electrode 408 branched from the source lines (not shown) on the n + -a-Si layer 406a is provided, the drain electrode 409 is provided on the n + -a-Si layer 406b. A protective film 411 is provided so as to cover these layers, and a pixel electrode 410 is provided on the protective film 411 so as to partially overlap the drain electrode 409 in a planar manner. The drain electrode 409 and the pixel electrode 410 are electrically connected through a contact hole 416.

本発明は、スイッチング素子として、上記のようなアモルファスTFTのドレイン電極409と画素電極410との接続部分にも適用することができる。即ち、ドレイン電極409を上記の各実施形態における第2金属膜336に対応する配線部分として、本発明を適用することができる。   The present invention can also be applied to a connection portion between the drain electrode 409 of the amorphous TFT as described above and the pixel electrode 410 as a switching element. That is, the present invention can be applied using the drain electrode 409 as a wiring portion corresponding to the second metal film 336 in each of the above embodiments.

また、上記の実施形態では負の誘電率異方性を有する液晶を使用しているが、代わりにTN(Twisted Nematic)型などの液晶を適用することも可能である。   In the above embodiment, a liquid crystal having negative dielectric anisotropy is used, but a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal may be applied instead.

[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
[Electronics]
Next, an embodiment in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is used as a display device of an electronic apparatus will be described.

図11は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置100と、これを制御する制御手段610を有する。ここでは、液晶表示装置100を、パネル構造体603と、半導体ICなどで構成される駆動回路602とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段610は、表示情報出力源611と、表示情報処理回路612と、電源回路613と、タイミングジェネレータ614と、を有する。   FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the present embodiment. The electronic apparatus shown here includes the liquid crystal display device 100 and a control unit 610 that controls the liquid crystal display device 100. Here, the liquid crystal display device 100 is conceptually divided into a panel structure 603 and a drive circuit 602 composed of a semiconductor IC or the like. The control unit 610 includes a display information output source 611, a display information processing circuit 612, a power supply circuit 613, and a timing generator 614.

表示情報出力源611は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ614によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路612に供給するように構成されている。   The display information output source 611 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal. The display information is supplied to the display information processing circuit 612 based on various clock signals generated by the timing generator 614 in the form of an image signal of a predetermined format.

表示情報処理回路612は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路602へ供給する。駆動回路602は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路613は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。   The display information processing circuit 612 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to obtain image information. Are supplied to the drive circuit 602 together with the clock signal CLK. The driving circuit 602 includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 613 supplies a predetermined voltage to each of the above-described components.

次に、本発明に係る液晶表示装置100を適用可能な電子機器の具体例について図12を参照して説明する。   Next, specific examples of electronic devices to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

まず、本発明に係る液晶表示装置100を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図12(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。   First, an example in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 12A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 710 includes a main body 712 having a keyboard 711 and a display 713 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

続いて、本発明に係る液晶表示装置100を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図12(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示装置100を適用した表示部724を備える。   Next, an example in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 12B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the cellular phone 720 includes a plurality of operation buttons 721, a reception port 722, a transmission port 723, and a display unit 724 to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied.

なお、本発明に係る液晶表示装置100を適用可能な電子機器としては、図12(a)に示したパーソナルコンピュータや図12(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。   Note that, as an electronic apparatus to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention can be applied, in addition to the personal computer shown in FIG. 12A and the mobile phone shown in FIG. Type / monitor direct-view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, workstation, videophone, POS terminal, digital still camera, etc.

本発明を適用した液晶表示装置の電気的構成を示すブロック図。1 is a block diagram showing an electrical configuration of a liquid crystal display device to which the present invention is applied. 液晶表示装置の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of a liquid crystal display device. 液晶表示装置のX方向における部分断面図。The fragmentary sectional view in the X direction of a liquid crystal display device. 第1実施形態に係る画素電極の構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view illustrating a configuration of a pixel electrode according to the first embodiment. 第1実施形態に係るコンタクトホール付近の断面図。Sectional drawing of the contact hole vicinity which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係るサブ画素電極等の断面図。Sectional drawing, such as a subpixel electrode, concerning 1st Embodiment. 第2実施形態に係る画素電極の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the pixel electrode which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る画素電極の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the pixel electrode which concerns on 3rd Embodiment. 第4実施形態に係る画素電極の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the pixel electrode which concerns on 4th Embodiment. スイッチング素子の他の例を示す断面図。Sectional drawing which shows the other example of a switching element. 液晶表示装置を適用した電子機器の回路構成例を示すブロック図。FIG. 15 is a block diagram illustrating a circuit configuration example of an electronic device to which a liquid crystal display device is applied. 電子機器の例を示す。Examples of electronic devices are shown.

符号の説明Explanation of symbols

100 液晶表示装置、 110 画素、 160 液晶、 200、300 基板、 214 走査線、 314 データ線、 320 TFD、 346 コンタクトホール、 347 黒色遮光膜、 348 画素電極、 348c 接続部分、 349 サブ画素領域   100 liquid crystal display device, 110 pixel, 160 liquid crystal, 200, 300 substrate, 214 scanning line, 314 data line, 320 TFD, 346 contact hole, 347 black shading film, 348 pixel electrode, 348c connection part, 349 subpixel region

Claims (9)

一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなる液晶装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記データ線と前記スイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜の上に形成された画素電極と、前記スイッチング素子と前記画素電極から延出する配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを備え
前記画素電極は、サブ画素領域内に複数のサブ画素電極を有しており、
前記サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、前記データ線の延在する方向に配列されてなり、
前記コンタクトホールは、前記サブ画素領域の角部に形成されており、前記データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、
前記他のデータ線は、前記サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates,
One of the pair of substrates includes a data line, a switching element electrically connected to the data line, an insulating film formed on the data line and the switching element, and the insulating film A pixel electrode formed thereon, and a contact hole for electrically connecting the switching element and a wiring extending from the pixel electrode ,
The pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes in a sub-pixel region,
Each of the sub-pixel electrodes is electrically connected and arranged in the direction in which the data line extends,
The contact hole is formed at a corner of the sub-pixel region, and is formed so as not to overlap the contact hole with another data line adjacent to the data line,
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the other data line is formed so as to be detoured to the other sub-pixel region side next to the sub-pixel region .
前記一対の基板のうちいずれかには、前記コンタクトホールに重なる位置に遮光膜を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein one of the pair of substrates has a light shielding film at a position overlapping the contact hole. 一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなる液晶装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記データ線と前記スイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、前記スイッチング素子と該絶縁膜の上に形成された画素電極とを電気的に接続するコンタクトホールとを備え、
前記一対の基板のうちいずれかには遮光膜を備え、
前記コンタクトホールは、前記遮光膜と重なる位置に形成されてなり、
前記画素電極は、複数のサブ画素電極を有しており、
前記サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、前記データ線の延在する方向に配列されてなり、
前記コンタクトホールは、前記データ線の延在する方向において、1つのサブ画素電極と、当該1つのサブ画素電極のとなりの他のサブ画素電極との間に形成されており、前記データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、
前記他のデータ線は、前記サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates,
One of the pair of substrates includes a data line, a switching element electrically connected to the data line, an insulating film formed on the data line and the switching element, and the switching element. A contact hole for electrically connecting the pixel electrode formed on the insulating film,
One of the pair of substrates includes a light shielding film,
The contact hole is formed at a position overlapping the light shielding film ,
The pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes,
Each of the sub-pixel electrodes is electrically connected and arranged in the direction in which the data line extends,
The contact hole is formed between one subpixel electrode and another subpixel electrode adjacent to the one subpixel electrode in a direction in which the data line extends, and is adjacent to the data line. The other data line and the contact hole are formed so as not to overlap,
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the other data line is formed so as to be detoured to the other sub-pixel region side next to the sub-pixel region .
前記コンタクトホールは、画素領域内において画素電極から最も離れた位置に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the contact hole is formed at a position farthest from the pixel electrode in the pixel region. 前記コンタクトホールは、画素領域の角の位置に形成されていることを特徴とする請求項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 4 , wherein the contact hole is formed at a corner position of the pixel region. 一対の基板間に負の誘電率異方性を有する液晶層を挟持してなる液晶装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板は、データ線と、前記データ線に電気的に接続されたスイッチング素子と、前記データ線と前記スイッチング素子の上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜の上に形成された画素電極と、前記スイッチング素子と前記画素電極から延出する配線とを電気的に接続するコンタクトホールとを備え、
前記画素電極は、複数のサブ画素電極を有しており、
前記サブ画素電極の各々は、電気的に接続されており、かつ、前記データ線の延在する方向に配列されてなり、
前記コンタクトホールは、前記データ線の延在する方向において、1つのサブ画素電極と、当該1つのサブ画素電極のとなりの他のサブ画素電極との間に形成されており、前記データ線のとなりの他のデータ線と該コンタクトホールとが重ならないように形成され、
前記他のデータ線は、前記サブ画素領域のとなりの他のサブ画素領域側に迂回するように形成されてなることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device in which a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates,
One of the pair of substrates includes a data line, a switching element electrically connected to the data line, an insulating film formed on the data line and the switching element, and the insulating film A pixel electrode formed thereon, and a contact hole for electrically connecting the switching element and a wiring extending from the pixel electrode,
The pixel electrode has a plurality of sub-pixel electrodes,
Each of the sub-pixel electrodes is electrically connected and arranged in the direction in which the data line extends,
The contact hole is, in the direction of extension of the data lines, and one sub-pixel electrode is formed between the other sub-pixel electrodes next to the one sub-pixel electrodes, next to the data line Other data lines and the contact holes are not overlapped,
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the other data line is formed so as to be detoured to the other sub-pixel region side next to the sub-pixel region .
前記他方の基板には、前記サブ画素電極の略中央に対応する位置に開口又は突起が形成されていることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 6, wherein an opening or a protrusion is formed on the other substrate at a position corresponding to a substantial center of the subpixel electrode. 前記データ線は、前記コンタクトホールと重ならない状態で、前記一方の基板上に形成されていることを特徴とする請求項乃至7のいずれか一項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 3 , wherein the data line is formed on the one substrate so as not to overlap the contact hole. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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