JP4578999B2 - Method for producing hydroxylamine - Google Patents
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Description
本発明は、ヒドロキシルアミンを製造するに際して、高純度のヒドロキシルアミンを製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing high-purity hydroxylamine when producing hydroxylamine.
ヒドロキシルアミンおよびその塩類は、医農薬中間体の原料、還元剤、金属表面の処理剤、繊維処理、染色など、工業的に幅広い用途で使用されているが、遊離のヒドロキシルアミンは、たとえば金属イオン(特に重金属イオン)の存在下、高温または高濃度などの条件において容易に分解するなど非常に不安定な性質を有することから、一般的には比較的安定なヒドロキシルアミンの塩が製造され、使用されている。 Hydroxylamine and its salts are used in a wide range of industrial applications such as raw materials for medical and agrochemical intermediates, reducing agents, metal surface treatment agents, fiber treatment, and dyeing. In general, relatively stable salts of hydroxylamine are produced and used because they have very unstable properties such as being easily decomposed under conditions such as high temperature or high concentration in the presence of (especially heavy metal ions). Has been.
しかしながら、多くの用途においては、ヒドロキシルアミンの塩よりもヒドロキシルアミンが好適である。そして、電子工業用においては、金属不純物の少ない高純度のヒドロキシルアミンが必要とされる。そのため、高純度のヒドロキシルアミン水溶液を製造する試みがなされてきている。 However, in many applications, hydroxylamine is preferred over hydroxylamine salts. In the electronics industry, high-purity hydroxylamine with less metal impurities is required. Therefore, attempts have been made to produce high-purity hydroxylamine aqueous solutions.
例えば、特表2002−503633号公報(特許文献1)では、水酸基型陰イオン交換体で少なくとも1回処理し、処理したそのヒドロキシルアミン溶液に安定剤を添加し、それからそのヒドロキシルアミン溶液を、酸性の陽イオン交換体で少なくとも1回処理する、実質的に金属イオンを含まない水性のヒドロキシルアミン溶液の製造方法が記載されている。 For example, in Japanese Translation of PCT International Publication No. 2002-503633 (Patent Document 1), a hydroxyl group-type anion exchanger is treated at least once, a stabilizer is added to the treated hydroxylamine solution, and then the hydroxylamine solution is acidified. A method for producing an aqueous hydroxylamine solution substantially free of metal ions, which is treated at least once with a cation exchanger of
特表2001−510133号公報(特許文献2)では、ヒドロキシルアミンの水溶液を強酸イオン交換樹脂床に通し、次に強塩基アニオン交換樹脂床に通すことにより、金属イオンを含まないヒドロキシルアミン溶液の製造方法が記載されている。 In JP-T-2001-510133 (Patent Document 2), an aqueous solution of hydroxylamine is passed through a strong acid ion exchange resin bed, and then passed through a strong base anion exchange resin bed to produce a hydroxylamine solution containing no metal ions. A method is described.
しかし、上記の方法では、不純物の種類によっては、除去が不十分であるという問題点があった。
本発明は、ヒドロキシルアミンを精製して、高純度のヒドロキシルアミンを製造する方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing hydroxylamine having a high purity by purifying hydroxylamine.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ヒドロキシルアミン溶液をモノベッド樹脂床に通して精製することにより、高純度のヒドロキシルアミンを製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a high-purity hydroxylamine can be produced by purifying a hydroxylamine solution through a monobed resin bed, thereby completing the present invention. It came.
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法を用いることにより、高純度のヒドロキシルアミンを得ることができる。このような知見は本発明者らが初めて見出したものである。
本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、以下の[1]〜[19]に関する。
[1]ヒドロキシルアミン溶液をモノベッド樹脂床に通すことにより精製する精製工程1を含むことを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。
[2]前記精製工程1が0℃〜70℃の範囲内で行われる[1]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[3]陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床およびキレート樹脂床からなる群より選ばれる少なくとも1種のイオン交換樹脂床にヒドロキシルアミン溶液を通すことにより精製する精製工程2を含む[1]または[2]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[4]前記精製工程2が0℃〜70℃の範囲内で行われる[3]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[5]前記ヒドロキシルアミン溶液が、ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを反応させる反応工程によって得られるものである[1]〜[4]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[6]前記反応工程が、アルカリ化合物を含む反応液にヒドロキシルアミンの塩が添加される工程である[5]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[7]前記反応工程が、反応液のpHを7以上に保ちながら行われる[5]または[6]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[8]前記反応工程の反応温度が0℃〜80℃の範囲内である[5]〜[7]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[9]前記反応工程が、水および/またはアルコールを含む溶媒の存在下に行われる[5]〜[8]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[10]前記ヒドロキシルアミンの塩が、硫酸ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、硝酸ヒドロキシルアミンおよびリン酸ヒドロキシルアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である[5]〜[9]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[11]前記アルカリ化合物が、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アンモニアおよびアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である[5]〜[9]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[12]ヒドロキシルアミンと不溶性物質を分離する分離工程を含む[1]〜[11]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[13]前記分離工程が0℃〜80℃の範囲内で行われる[12]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[14]ヒドロキシルアミン溶液を蒸留し、該蒸留によりヒドロキシルアミンを得る蒸留工程を含む[1]〜[13]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[15]前記蒸留工程が0℃〜70℃の範囲内で行われる[14]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[16]前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程が、反応工程、分離工程、精製工程2、精製工程1および蒸留工程の順に行われる[14]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[17]前記蒸留工程の後に精製工程1をさらに含む[16]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[18]前記蒸留工程の後に前記精製工程2をさらに含む[16]または[17]に記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
[19]前記各工程が安定剤の存在下に行われる[1]〜[18]のいずれかに記載のヒドロキシルアミンの製造方法。
By using the method for producing hydroxylamine of the present invention, high-purity hydroxylamine can be obtained. Such knowledge was discovered for the first time by the present inventors.
The present invention has been made based on the above findings, and relates to the following [1] to [19].
[1] A method for producing hydroxylamine, comprising a purification step 1 in which a hydroxylamine solution is purified by passing through a monobed resin bed.
[2] The method for producing hydroxylamine according to [1], wherein the purification step 1 is performed within a range of 0 ° C to 70 ° C.
[3] It includes a purification step 2 for purification by passing a hydroxylamine solution through at least one ion exchange resin bed selected from the group consisting of a cation exchange resin bed, an anion exchange resin bed and a chelate resin bed [1] Or the manufacturing method of the hydroxylamine as described in [2].
[4] The method for producing hydroxylamine according to [3], wherein the purification step 2 is performed within a range of 0 ° C to 70 ° C.
[5] The method for producing hydroxylamine according to any one of [1] to [4], wherein the hydroxylamine solution is obtained by a reaction step in which a hydroxylamine salt is reacted with an alkali compound.
[6] The method for producing hydroxylamine according to [5], wherein the reaction step is a step in which a salt of hydroxylamine is added to a reaction solution containing an alkali compound.
[7] The method for producing hydroxylamine according to [5] or [6], wherein the reaction step is performed while maintaining the pH of the reaction solution at 7 or more.
[8] The method for producing hydroxylamine according to any one of [5] to [7], wherein the reaction temperature in the reaction step is in the range of 0 ° C to 80 ° C.
[9] The method for producing hydroxylamine according to any one of [5] to [8], wherein the reaction step is performed in the presence of a solvent containing water and / or alcohol.
[10] The salt of hydroxylamine is any one of [5] to [9], which is at least one compound selected from the group consisting of hydroxylamine sulfate, hydroxylamine hydrochloride, hydroxylamine nitrate, and hydroxylamine phosphate. A method for producing the hydroxylamine as described.
[11] The hydroxylamine according to any one of [5] to [9], wherein the alkali compound is at least one compound selected from the group consisting of alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, ammonia and amines. Production method.
[12] The method for producing hydroxylamine according to any one of [1] to [11], which includes a separation step of separating hydroxylamine and an insoluble substance.
[13] The method for producing hydroxylamine according to [12], wherein the separation step is performed within a range of 0 ° C to 80 ° C.
[14] The method for producing hydroxylamine according to any one of [1] to [13], comprising a distillation step of distilling the hydroxylamine solution and obtaining hydroxylamine by the distillation.
[15] The method for producing hydroxylamine according to [14], wherein the distillation step is performed within a range of 0 ° C to 70 ° C.
[16] The method for producing hydroxylamine according to [14], wherein each step of producing the hydroxylamine is performed in the order of a reaction step, a separation step, a purification step 2, a purification step 1 and a distillation step.
[17] The method for producing hydroxylamine according to [16], further comprising a purification step 1 after the distillation step.
[18] The method for producing hydroxylamine according to [16] or [17], further comprising the purification step 2 after the distillation step.
[19] The method for producing hydroxylamine according to any one of [1] to [18], wherein each of the steps is performed in the presence of a stabilizer.
本発明によれば、高純度のヒドロキシルアミンを製造することができる。 According to the present invention, high-purity hydroxylamine can be produced.
本発明によれば、ヒドロキシルアミン溶液をモノベッド樹脂床に通すことにより精製する精製工程1を含む方法により高純度のヒドロキシルアミンを製造することができる。
以下、本発明に係るヒドロキシルアミンの製造方法についてより詳細に説明する。
精製工程1;
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミン溶液をモノベッド樹脂床に通すことにより精製する精製工程1を含む。
According to the present invention, high-purity hydroxylamine can be produced by a method including purification step 1 in which a hydroxylamine solution is purified by passing through a monobed resin bed.
Hereinafter, the method for producing hydroxylamine according to the present invention will be described in more detail.
Purification step 1;
The method for producing hydroxylamine of the present invention includes purification step 1 in which the hydroxylamine solution is purified by passing through a monobed resin bed.
本発明の製造方法において、モノベッド樹脂床で用いられるモノベッド樹脂は、市販または工業的に入手できるものであれば、特に制限はないが、好ましくは金属不純物が少ないものがよい。これは、金属不純物が存在することにより、ヒドロキシルアミンの分解を促進することがあるからである。しかし、ヒドロキシルアミンの分解を促進せず、精製工程などで除去できるもの、または製造されたヒドロキシルアミンの用途において問題がないものであれば不純物を含んでいてもよい。 In the production method of the present invention, the monobed resin used in the monobed resin bed is not particularly limited as long as it is commercially available or industrially available, but preferably has few metal impurities. This is because the presence of metal impurities may accelerate the decomposition of hydroxylamine. However, it may contain impurities as long as it does not promote the decomposition of hydroxylamine and can be removed by a purification process or the like, or has no problem in the use of the produced hydroxylamine.
本発明で用いられるモノベッド樹脂は、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂を混合した樹脂であるが、好ましくは、強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基性陰イオン交換樹脂を混合した樹脂が挙げられる。例えば、アンバーライト(オルガノ(株)製、ローム アンド ハース社製)、ダイヤイオン(三菱化学(株)製)、アイオナック(シブロン ケミカルズ社製)等が挙げられる。 The monobed resin used in the present invention is a resin obtained by mixing a cation exchange resin and an anion exchange resin, preferably a resin obtained by mixing a strong acid cation exchange resin and a strongly basic anion exchange resin. It is done. For example, Amberlite (manufactured by Organo Corporation, manufactured by Rohm and Haas), Diaion (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Ionac (manufactured by Sibron Chemicals) and the like can be mentioned.
陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂の混合比率は、特に制限はなく、例えば、不純物の陽イオン、陰イオンの量によって、決めることができる。
前記精製工程1において、ヒドロキシルアミンは、ヒドロキシルアミン溶液として使用される。
The mixing ratio of the cation exchange resin and the anion exchange resin is not particularly limited, and can be determined, for example, depending on the amount of the impurity cation or anion.
In the purification step 1, hydroxylamine is used as a hydroxylamine solution.
ヒドロキシルアミン溶液の濃度は、特に制限はないが、好ましくは0.1質量%〜80質量%、さらに好ましくは、1.0質量%〜60質量%である。
また、ヒドロキシルアミン溶液の溶媒は、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられる。これらの中では、水および/またはアルコールを用いることが好ましい。
The concentration of the hydroxylamine solution is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass to 80% by mass, and more preferably 1.0% by mass to 60% by mass.
Moreover, water and / or an organic solvent can be used for the solvent of a hydroxylamine solution. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, esters, alcohols, and the like. In these, it is preferable to use water and / or alcohol.
精製工程1は、公知の方法、たとえば回分式、半回分式、連続式などで行うことができる。
精製工程1におけるヒドロキシルアミン溶液の空間速度は、特に制限はないが、好ましくは0.01h-1〜100h-1、さらに好ましくは、0.1h-1〜10h-1である。空間速度が100h-1より大きいと、不純物の除去が不十分であったり、破過が速くなるなどの問題が生じることがある。一方、空間速度が0.01h-1より小さいと、生産性が低下するなどの問題が生じることがある。
The refinement | purification process 1 can be performed by a well-known method, for example, a batch type, a semibatch type, a continuous type etc.
The space velocity of the hydroxylamine solution in the purification step 1 is not particularly limited, but is preferably 0.01 h −1 to 100 h −1 , more preferably 0.1 h −1 to 10 h −1 . If the space velocity is greater than 100 h −1 , problems such as insufficient removal of impurities and rapid breakthrough may occur. On the other hand, when the space velocity is less than 0.01 h −1 , problems such as a decrease in productivity may occur.
精製工程1を行う温度としては、0℃〜70℃が好ましく、さらに好ましくは5℃〜50℃の範囲内であることが望ましい。温度が70℃より高いと、ヒドロキシルアミンの分解などの問題が生じることがある。一方、温度が0℃より低いと、冷却に要するエネルギーが大きくなるなどの問題が生じることがある。 As temperature which performs the refinement | purification process 1, 0 to 70 degreeC is preferable, More preferably, it exists in the range of 5 to 50 degreeC. When the temperature is higher than 70 ° C., problems such as decomposition of hydroxylamine may occur. On the other hand, when the temperature is lower than 0 ° C., there may be a problem that energy required for cooling increases.
精製工程1において使用されるモノベッド樹脂床は、陽イオン交換樹脂床と陰イオン交換樹脂床とを組み合わせても除去しにくい不純物を除去するのに有効である。除去しにくい不純物としては、例えば、Znなどの両性化合物が挙げられる。 The monobed resin bed used in the purification step 1 is effective for removing impurities that are difficult to remove even when a cation exchange resin bed and an anion exchange resin bed are combined. Examples of impurities that are difficult to remove include amphoteric compounds such as Zn.
前記モノベッド樹脂床は、前処理をすることが好ましいが、前処理をする前に、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とに分離することが好ましい。陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂との分離方法は、例えば、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂との密度差を利用して行うことができる。 The monobed resin bed is preferably pretreated, but is preferably separated into a cation exchange resin and an anion exchange resin before the pretreatment. The method for separating the cation exchange resin and the anion exchange resin can be performed using, for example, the density difference between the cation exchange resin and the anion exchange resin.
さらに、分離した前記陽イオン交換樹脂は、酸で前処理をしてH型に、分離した前記陰イオン交換樹脂は、アルカリで前処理して、OH型にすることが好ましい。
そして、H型にした陽イオン交換樹脂およびOH型にした陰イオン交換樹脂は、洗浄することが好ましい。洗浄する液としては、ヒドロキシルアミン溶液と同じ溶媒を使用することが好ましい。
Further, it is preferable that the separated cation exchange resin is pretreated with an acid to form an H type, and the separated anion exchange resin is pretreated with an alkali to obtain an OH type.
The H-type cation exchange resin and the OH-type anion exchange resin are preferably washed. As the liquid to be washed, it is preferable to use the same solvent as the hydroxylamine solution.
前処理および洗浄における空間速度は、特に制限はないが、好ましくは0.01h-1〜100h-1、さらに好ましくは、0.1h-1〜10h-1である。空間速度が100h-1より大きいと、洗浄する液の使用量が増加するなどの問題が生じることがある。一方、空間速度が0.01h-1より小さいと、洗浄に時間を要するなどの問題が生じることがある。
The space velocity in the pretreatment and washing is not particularly limited, but is preferably 0.01 h −1 to 100 h −1 , more preferably 0.1 h −1 to 10 h −1 . When the space velocity is greater than 100 h −1 , problems such as an increase in the amount of liquid used for cleaning may occur. On the other hand, when the space velocity is less than 0.01 h −1 , there may be a problem that it takes time for cleaning.
前処理および洗浄は、公知の方法、たとえば回分式、半回分式、連続式などで行うことができる。
そして、前処理および洗浄の温度としては、0℃〜70℃が好ましく、さらに好ましくは5℃〜50℃の範囲内であることが望ましい。温度が70℃より高いと、モノベッド樹脂の分解などの問題が生じることがある。一方、温度が0℃より低いと、冷却に要するエネルギーが大きくなるなどの問題が生じることがある。
The pretreatment and washing can be performed by a known method, for example, a batch system, a semi-batch system, a continuous system, or the like.
And as temperature of pre-processing and washing | cleaning, 0 to 70 degreeC is preferable, More preferably, it exists in the range of 5 to 50 degreeC. When the temperature is higher than 70 ° C., problems such as decomposition of the monobed resin may occur. On the other hand, when the temperature is lower than 0 ° C., there may be a problem that energy required for cooling increases.
洗浄後の前記陽イオン交換樹脂および陰イオン交換樹脂は、均一に混合をしてから、ヒドロキシルアミン溶液と接触させることが好ましい。
上記精製工程1で得たヒドロキシルアミン溶液の一部は、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いてもよい。
The washed cation exchange resin and anion exchange resin are preferably mixed uniformly and then contacted with a hydroxylamine solution.
A part of the hydroxylamine solution obtained in the purification step 1 may be used as a solvent for dissolving or suspending the hydroxylamine salt and / or alkali compound as a reaction raw material.
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法において、精製工程1は、安定剤の存在下で行うことができる。安定剤は、公知のものを使用することができる。たとえば、8−ヒドロキシキノリン、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミン−N,N,N’−三酢酸、グリシン、エチレンジアミン四酢酸、シス−1,2−ジアミノシクロヘキサン−N,N,N’,N’−四酢酸、トランス−1,2−ジアミノシクロヘキサン−N,N,N’,N’−四酢酸、N,N’−ジ(2−ヒドロキシベンジル)エチレンジアミン−N,N’−二酢酸、N−ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、N,N’−ジヒドロキシエチルグリシン、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンビス(オキシエチレンニトリロ)四酢酸、ビスヘキサメチレントリアミン五酢酸、ヘキサメチレンジアミン四酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、トリス(2−アミノエチル)アミン六酢酸、イミノ二酢酸、ポリエチレンイミン、ポリプロピレンイミン、o−アミノキノリン、1,10−フェナントロリン、5−メチル−1,10−フェナントロリン、5−クロル−1,10−フェナントロリン、5−フェニル−1,10−フェナントロリン、ヒドロキシアントラキノン、8−ヒドロキシキノリン−5−スルホン酸、8−ヒドロキシメチルキノリン、チオグリコール酸、チオプロピオン酸、1−アミノ−2−メルカプト−プロピオン酸、2,2−ジピリジル、4,4−ジメチル−2,2−ジピリジル、チオ硫酸アンモニウム、ベンゾトリアゾール、フラボン、モリン、クエルセチン、ゴッシペチン、ロビチネン、ルテオリン、フィセチン、アピゲニン、ガランギン、クリシン、フラボノール、ピロガロール、オキシアントラキノン、1,2−ジオキシアントラキノン、1,4−ジオキシアントラキン、1,2,4−トリオキシアントラキノン、1,5−ジオキシアントラキノン、1,8−ジオキシアントラキノン、2,3−ジオキシアントラキノン、1,2,6−トリオキシアントラキノン、1,2,7−トリオキシアントラキノン、1,2,5,8−テトラオキシアントラキノン、1,2,4,5,8−ペンタオキシアントラキノン、1,6,8−ジオキシ−3−メチル−6−メトキシアントラキノン、キナリザリン、フラバン、ラクトン、2,3−ジヒドロヘキソノ−1,4−ラクトン、8−ヒドロキシキナルジン、6−メチル−8−ヒドロキシキナルジン、5,8
−ジヒドロキシキナルジン、アントシアン、ペラルゴニジン、シアニジン、デルフィニジン、ペオニジン、ペツニジン、マルビジン、カテキン、チオ硫酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸、2−ヒドロキシエチルジスルフィド、1,4−ジメルカプト−2,3−ブタンジオール、チアミンの塩酸塩、カテコール、4−t−ブチルカテコール、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、1,2,4−ベンゼントリオール、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド、3,4−ジヒドロキシベンゾニトリル、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシピリジン−N−オキシド、1,2−ジメチル−3−ヒドロキシピリジン−4−オン、4−メチルピリジン−N−オキシド、6−メチルピリジン−N−オキシド、1−メチル−3−ヒドロキシピリジン−2−オン、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトシクロヘキシルチアゾール、2−メルカプト−6−t−ブチルシクロヘキシルチアゾール、2−メルカプト−4,5−ジメチルチアゾリン、2−メルカプトチアゾリン、2−メルカプト−5−t−ブチルチアゾリン、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラ−n−ブチルチウラムジスルフィド、N,N’−ジエチルチウラムジスルフィド、テトラフェニルチウラムジスルフィド、チウラムジスルフィド、チオ尿素、N,N’−ジフェニルチオ尿素、ジ−o−トリルチオ尿素、エチレンチオ尿素、チオセトアミド、2−チオウラシル、チオシアヌル酸、チオホルムアミド、チオアセトアミド、チオプロピオンアミド、チオベンズアミド、チオニコチンアミド、チオアセトアニリド、チオベンズアニリド、1,3−ジメチルチオ尿素、1,3−ジエチル−2−チオ尿素、1−フェニル−2−チオ尿素、1,3−ジフェニル−2−チオ尿素、チオカルバジド、チオセミカルバジド、4,4−ジメチル−3−チオセミカルバジド、2−メルカプトイミダゾリン、2−チオヒダントイン、3−チオウラゾール、2−チオウラミル、4−チオウラミル、チオペンタノール、2−チオバルビツール酸、チオシアヌル酸、2−メルカプトキノリン、チオクマゾン、チオクモチアゾン、チオサッカリン、2−メルカプトベンズイミダゾール、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。
In the method for producing hydroxylamine of the present invention, the purification step 1 can be performed in the presence of a stabilizer. A well-known thing can be used for a stabilizer. For example, 8-hydroxyquinoline, N-hydroxyethylethylenediamine-N, N, N′-triacetic acid, glycine, ethylenediaminetetraacetic acid, cis-1,2-diaminocyclohexane-N, N, N ′, N′-tetraacetic acid , Trans-1,2-diaminocyclohexane-N, N, N ′, N′-tetraacetic acid, N, N′-di (2-hydroxybenzyl) ethylenediamine-N, N′-diacetic acid, N-hydroxyethylimino Diacetic acid, N, N′-dihydroxyethylglycine, diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenebis (oxyethylenenitrilo) tetraacetic acid, bishexamethylenetriaminepentaacetic acid, hexamethylenediaminetetraacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, tris (2-amino) Ethyl) amine hexaacetic acid, iminodiacetic acid, polyethyleneimine, polypropyleneimine, -Aminoquinoline, 1,10-phenanthroline, 5-methyl-1,10-phenanthroline, 5-chloro-1,10-phenanthroline, 5-phenyl-1,10-phenanthroline, hydroxyanthraquinone, 8-hydroxyquinoline-5 Sulfonic acid, 8-hydroxymethylquinoline, thioglycolic acid, thiopropionic acid, 1-amino-2-mercapto-propionic acid, 2,2-dipyridyl, 4,4-dimethyl-2,2-dipyridyl, ammonium thiosulfate, benzo Triazole, flavone, morin, quercetin, gossypetin, robitinen, luteolin, fisetin, apigenin, galangin, chrysin, flavonol, pyrogallol, oxyanthraquinone, 1,2-dioxyanthraquinone, 1,4-dioxyanthraki 1,2,4-trioxyanthraquinone, 1,5-dioxyanthraquinone, 1,8-dioxyanthraquinone, 2,3-dioxyanthraquinone, 1,2,6-trioxyanthraquinone, 1,2, 7-trioxyanthraquinone, 1,2,5,8-tetraoxyanthraquinone, 1,2,4,5,8-pentaoxyanthraquinone, 1,6,8-dioxy-3-methyl-6-methoxyanthraquinone, quinalizarin , Flavan, lactone, 2,3-dihydrohexono-1,4-lactone, 8-hydroxyquinaldine, 6-methyl-8-hydroxyquinaldine, 5,8
-Of dihydroxyquinaldine, anthocyan, pelargonidin, cyanidin, delphinidin, peonidin, petunidin, malvidin, catechin, sodium thiosulfate, nitrilotriacetic acid, 2-hydroxyethyl disulfide, 1,4-dimercapto-2,3-butanediol, thiamine Hydrochloride, catechol, 4-t-butylcatechol, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 1,2,4-benzenetriol, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 3,4-dihydroxybenzaldehyde 3,4-dihydroxybenzonitrile, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, 2-hydroxypyridine-N-oxide, 1,2-dimethyl-3-hydroxypyridin-4-one, 4-methylpyridine-N -Oxide, 6-me Rupyridine-N-oxide, 1-methyl-3-hydroxypyridin-2-one, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptocyclohexylthiazole, 2-mercapto-6-t-butylcyclohexylthiazole, 2-mercapto-4,5 -Dimethylthiazoline, 2-mercaptothiazoline, 2-mercapto-5-t-butylthiazoline, tetramethylthiuram disulfide, tetra-n-butylthiuram disulfide, N, N'-diethylthiuram disulfide, tetraphenylthiuram disulfide, thiuram disulfide, Thiourea, N, N′-diphenylthiourea, di-o-tolylthiourea, ethylenethiourea, thiocetamide, 2-thiouracil, thiocyanuric acid, thioformamide, thioacetamide, thiopropiona Imide, thiobenzamide, thionicotinamide, thioacetanilide, thiobenzanilide, 1,3-dimethylthiourea, 1,3-diethyl-2-thiourea, 1-phenyl-2-thiourea, 1,3-diphenyl-2 -Thiourea, thiocarbazide, thiosemicarbazide, 4,4-dimethyl-3-thiosemicarbazide, 2-mercaptoimidazoline, 2-thiohydantoin, 3-thiourazole, 2-thiouramil, 4-thiouramil, thiopentanol, 2-thiobarbi Tool acid, thiocyanuric acid, 2-mercaptoquinoline, thiocoumazone, thiocumothiazone, thiosaccharin, 2-mercaptobenzimidazole, trimethyl phosphite, triethyl phosphite, triphenyl phosphite, trimethyl phosphite, triethyl phosphite , Like triphenylphosphine.
上記安定剤は1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。安定剤を添加することにより、金属不純物などによるヒドロキシルアミンの分解を抑制することができる。 The said stabilizer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. By adding a stabilizer, the decomposition of hydroxylamine by metal impurities or the like can be suppressed.
精製工程1で用いられる安定剤は、市販または工業的に入手できるものであれば、特に制限はないが、好ましくは金属不純物が少ないものがよい。
安定剤とヒドロキシルアミンとの質量比(安定剤/ヒドロキシルアミン)は、1.0×10-9〜1.0、好ましくは1.0×10-8〜0.1が適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
The stabilizer used in the refining step 1 is not particularly limited as long as it is commercially available or industrially available, but preferably has few metal impurities.
The mass ratio of stabilizer to hydroxylamine (stabilizer / hydroxylamine) is suitably 1.0 × 10 −9 to 1.0, preferably 1.0 × 10 −8 to 0.1. When the mass ratio is less than 1.0 × 10 −9, the effect of suppressing the decomposition reaction of hydroxylamine by metal impurities may not be obtained. When the mass ratio is greater than 1.0, excessive stability Removal or recovery of the agent may be necessary.
安定剤は、固体のまま使用してもよく、溶媒に溶解させて使用してもよい。このような溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられる。これらの中では、水および/またはアルコールを用いることが好ましい。溶媒の量は使用する安定剤の種類および量、精製温度などの条件に応じて適宜選択することができる。
精製工程2;
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床およびキレート樹脂床からなる群より選ばれる少なくとも1種のイオン交換樹脂床にヒドロキシルアミン溶液を通すことにより精製する精製工程2を含むことが好ましい。
The stabilizer may be used as a solid or may be used after being dissolved in a solvent. As such a solvent, water and / or an organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, esters, alcohols, and the like. In these, it is preferable to use water and / or alcohol. The amount of the solvent can be appropriately selected according to conditions such as the type and amount of the stabilizer used and the purification temperature.
Purification step 2;
The method for producing hydroxylamine according to the present invention is a purification in which a hydroxylamine solution is passed through at least one ion exchange resin bed selected from the group consisting of a cation exchange resin bed, an anion exchange resin bed and a chelate resin bed. Step 2 is preferably included.
精製工程2において、陽イオン交換樹脂床による精製は、強酸性陽イオン交換樹脂、弱
酸性陽イオン交換樹脂などの公知の方法により行うことができる。陽イオン交換樹脂は、予め酸処理を行い、H型にして使用することが好ましい。
In the refinement | purification process 2, purification by a cation exchange resin bed can be performed by well-known methods, such as a strong acidic cation exchange resin and a weak acidic cation exchange resin. It is preferable to use the cation exchange resin in an H-type by performing an acid treatment in advance.
陰イオン交換樹脂床による精製は、強塩基性陰イオン交換樹脂、弱塩基性陰イオン交換樹脂などを使用する公知の方法により行うことができる。陰イオン交換樹脂は、予めアルカリ処理を行い、OH型にして使用することが好ましい。 Purification by the anion exchange resin bed can be performed by a known method using a strongly basic anion exchange resin, a weakly basic anion exchange resin, or the like. It is preferable that the anion exchange resin is used after being alkali-treated in advance to form an OH type.
また、キレート交換樹脂床による精製は、キレート交換樹脂などを使用する公知の方法により行うことができる。キレート交換樹脂は、予め酸処理を行い、H型として使用することが好ましい。 Further, purification using a chelate exchange resin bed can be performed by a known method using a chelate exchange resin or the like. The chelate exchange resin is preferably subjected to acid treatment in advance and used as an H type.
陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床およびキレート交換樹脂床を組み合わせて精製してもよい。たとえば、陽イオン交換樹脂床の後に陰イオン交換樹脂床を組み合わせてもよく、陰イオン交換樹脂床の後に陽イオン交換樹脂床を組み合わせてもよい。 You may refine | purify combining a cation exchange resin bed, an anion exchange resin bed, and a chelate exchange resin bed. For example, an anion exchange resin bed may be combined after the cation exchange resin bed, and a cation exchange resin bed may be combined after the anion exchange resin bed.
精製工程2において、ヒドロキシルアミンは、ヒドロキシルアミン溶液として使用される。
ヒドロキシルアミン溶液の濃度は、特に制限はないが、好ましくは0.1質量%〜80質量%、さらに好ましくは、1.0質量%〜60質量%である。
In purification step 2, hydroxylamine is used as a hydroxylamine solution.
The concentration of the hydroxylamine solution is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass to 80% by mass, and more preferably 1.0% by mass to 60% by mass.
また、ヒドロキシルアミン溶液の溶媒は、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられる。これらの中では、水および/またはアルコールを用いることが好ましい。 Moreover, water and / or an organic solvent can be used for the solvent of a hydroxylamine solution. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, esters, alcohols, and the like. In these, it is preferable to use water and / or alcohol.
精製工程2は、公知の方法、たとえば回分式、半回分式、連続式などで行うことができる。
精製工程2におけるヒドロキシルアミン溶液の空間速度は、特に制限はないが、好ましくは0.01h-1〜100h-1、さらに好ましくは、0.1h-1〜10h-1である。空間速度が100h-1より大きいと、不純物の除去が不十分であったり、破過が速くなるなどの問題が生じることがある。一方、空間速度が0.01h-1より小さいと、生産性が低下するなどの問題が生じることがある。
The refinement | purification process 2 can be performed by a well-known method, for example, a batch type, a semibatch type, a continuous type etc.
The space velocity of the hydroxylamine solution in the purification step 2 is not particularly limited, but is preferably 0.01 h −1 to 100 h −1 , more preferably 0.1 h −1 to 10 h −1 . If the space velocity is greater than 100 h −1 , problems such as insufficient removal of impurities and rapid breakthrough may occur. On the other hand, when the space velocity is less than 0.01 h −1 , problems such as a decrease in productivity may occur.
精製工程2を行う温度としては、0℃〜70℃が好ましく、さらに好ましくは5℃〜50℃の範囲内であることが望ましい。温度が70℃より高いと、ヒドロキシルアミンの分解などの問題が生じることがある。一方、温度が0℃より低いと、冷却に要するエネルギーが大きくなるなどの問題が生じることがある。 As temperature which performs the refinement | purification process 2, 0 to 70 degreeC is preferable, More preferably, it is desirable to exist in the range of 5 to 50 degreeC. When the temperature is higher than 70 ° C., problems such as decomposition of hydroxylamine may occur. On the other hand, when the temperature is lower than 0 ° C., there may be a problem that energy required for cooling increases.
上記精製工程2で得たヒドロキシルアミン溶液の一部は、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いてもよい。 A part of the hydroxylamine solution obtained in the purification step 2 may be used as a solvent for dissolving or suspending the hydroxylamine salt and / or alkali compound as a reaction raw material.
上記精製工程2は、精製工程1と同様にヒドロキシルアミンの安定剤の存在下で行うことが好ましい。精製工程2で安定剤を添加してもよく、前工程からの安定剤をそのまま使用してもよい。 The purification step 2 is preferably carried out in the presence of a hydroxylamine stabilizer as in the purification step 1. A stabilizer may be added in the purification step 2, or the stabilizer from the previous step may be used as it is.
安定剤としては、精製工程1で使用した安定剤と同じ種類のもの、または異なる種類のものを、その状況や用途などに応じて選択することができる。安定剤を添加することにより、金属不純物などによるヒドロキシルアミンの分解等の副反応が抑制され、ヒドロキシルアミンの生産効率が向上する。 As the stabilizer, the same type as the stabilizer used in the purification step 1 or a different type can be selected according to the situation and use. By adding a stabilizer, side reactions such as decomposition of hydroxylamine due to metal impurities and the like are suppressed, and the production efficiency of hydroxylamine is improved.
安定剤の量は、安定剤とヒドロキシルアミンとの質量比(安定剤/ヒドロキシルアミン)が1.0×10-9〜1.0、好ましくは1.0×10-8〜0.1の範囲内となるように
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
The amount of stabilizer is such that the mass ratio of stabilizer to hydroxylamine (stabilizer / hydroxylamine) is in the range of 1.0 × 10 −9 to 1.0, preferably 1.0 × 10 −8 to 0.1. It is suitable to use so that it becomes inside. When the mass ratio is less than 1.0 × 10 −9, the effect of suppressing the decomposition reaction of hydroxylamine by metal impurities may not be obtained. When the mass ratio is greater than 1.0, excessive stability Removal or recovery of the agent may be necessary.
精製工程2は、前記精製工程1との組合せで、いかなる順序で行ってもよく、また、前記精製工程1と前記精製工程2は、2回以上行ってもよい。
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法において、精製工程1または2において用いることができるヒドロキシルアミン溶液は、たとえば、以下の反応工程により得ることができる。
反応工程;
ヒドロキシルアミン溶液を得る反応工程は、ヒドロキシルアミンの塩と、アルカリ化合物とを反応させる反応工程であることが好ましい。
The purification step 2 may be performed in any order in combination with the purification step 1, and the purification step 1 and the purification step 2 may be performed twice or more.
In the method for producing hydroxylamine of the present invention, the hydroxylamine solution that can be used in the purification step 1 or 2 can be obtained, for example, by the following reaction step.
Reaction step;
The reaction step for obtaining a hydroxylamine solution is preferably a reaction step for reacting a hydroxylamine salt with an alkali compound.
上記反応工程で用いられるヒドロキシルアミンの塩としては、ヒドロキシルアミンの硫酸塩、塩酸塩、硝酸塩、リン酸塩、臭化水素酸塩、亜硫酸塩、亜リン酸塩、過塩素酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩などの無機酸の塩、およびギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩などの有機酸の塩が挙げられる。これらの中では、ヒドロキシルアミンの硫酸塩(NH2OH・1/2H2SO4)、塩酸塩(NH2OH・HCl)、硝酸塩(NH2OH・HNO3)およびリン
酸塩(NH2OH・1/3H3PO4)からなる群より選ばれる少なくとも1種の塩が好ましい。
The hydroxylamine salt used in the above reaction step includes hydroxylamine sulfate, hydrochloride, nitrate, phosphate, hydrobromide, sulfite, phosphite, perchlorate, carbonate, Examples include salts of inorganic acids such as hydrogen carbonate, and salts of organic acids such as formate, acetate, and propionate. Among these, hydroxylamine sulfate (NH 2 OH · 1 / 2H 2 SO 4 ), hydrochloride (NH 2 OH · HCl), nitrate (NH 2 OH · HNO 3 ) and phosphate (NH 2 OH) • At least one salt selected from the group consisting of 1 / 3H 3 PO 4 ) is preferred.
ヒドロキシルアミンの塩は、市販または工業的に入手できるものであれば、特に制限はないが、好ましくは金属不純物が少ないものがよい。これは、金属不純物が存在することにより、ヒドロキシルアミンの塩または生成したヒドロキシルアミンの分解を促進することがあるからである。しかし、ヒドロキシルアミンの塩またはヒドロキシルアミンの分解に影響がなく、精製工程などで除去できるもの、またはヒドロキシルアミンの使用に際して問題がないものであれば不純物を含んでいてもよい。 The hydroxylamine salt is not particularly limited as long as it is commercially available or industrially available, but preferably has a small amount of metal impurities. This is because the presence of metal impurities may promote the decomposition of the hydroxylamine salt or hydroxylamine formed. However, impurities may be contained as long as they do not affect the decomposition of the hydroxylamine salt or hydroxylamine and can be removed by a purification process or the like, or have no problem in using hydroxylamine.
ヒドロキシルアミンの塩は、固体のまま使用しても、溶媒に溶解または懸濁させて使用してもよい。このような溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、アルコールなどが挙げられるが、反応に影響がなければこれらに限定されるものではない。これらの中では、水および/またはアルコールを含む溶媒が好ましい。また、反応で生じた不溶性の塩などを分離した濾液の少なくとも一部を溶媒として使用してもよい。 The hydroxylamine salt may be used as a solid, or may be used by dissolving or suspending in a solvent. As such a solvent, water and / or an organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, alcohols and the like, but are not limited to these as long as the reaction is not affected. In these, the solvent containing water and / or alcohol is preferable. Moreover, you may use at least one part of the filtrate which isolate | separated the insoluble salt etc. which arose in reaction as a solvent.
上記溶媒の量は、使用するヒドロキシルアミンの塩の量、反応温度などの条件に応じて適宜選択すればよく、通常、溶媒とヒドロキシルアミンの塩との質量比(溶媒/ヒドロキシルアミンの塩)は0.1〜1000、好ましくは1〜100の範囲内である。 The amount of the solvent may be appropriately selected according to the conditions such as the amount of hydroxylamine salt used and the reaction temperature. Usually, the mass ratio of the solvent to the hydroxylamine salt (solvent / hydroxylamine salt) is It is in the range of 0.1 to 1000, preferably 1 to 100.
上記反応工程で用いられるアルカリ化合物としては、アルカリ金属を含む化合物、アルカリ土類金属を含む化合物、アンモニアおよびアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が好ましい。 The alkali compound used in the reaction step is preferably at least one compound selected from the group consisting of compounds containing alkali metals, compounds containing alkaline earth metals, ammonia and amines.
アルカリ金属を含む化合物としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムまたはセシウムの酸化物、水酸化物、炭酸塩などが挙げられ、好ましくは、ナトリウムまたはカリウムの水酸化物もしくは炭酸塩である。 Examples of the compound containing an alkali metal include oxides, hydroxides and carbonates of lithium, sodium, potassium, rubidium or cesium, preferably sodium or potassium hydroxides or carbonates.
アルカリ土類金属を含む化合物としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウムまたはバリウムの酸化物、水酸化物、炭酸塩などが挙げられ、好ましくは、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムまたはバリウムの酸化物もしくは水酸化物である。
Examples of the compound containing an alkaline earth metal include oxides, hydroxides and carbonates of beryllium, magnesium, calcium, strontium or barium, and preferably oxides or hydroxides of magnesium, calcium, strontium or barium. It is a thing.
アンモニアは、ガスとして使用してもよく、アンモニアを溶解させた溶液、たとえばアンモニア水溶液として使用してもよい。
アミンとしては、第1級アミン、第2級アミンおよび第3級アミンを用いることができる。また、アミンはモノアミンでも、分子内に2以上のアミノ基を有するジアミン、トリアミンなどのポリアミンでもよく、さらに、環式アミンでもよい。
Ammonia may be used as a gas or a solution in which ammonia is dissolved, for example, an aqueous ammonia solution.
As amines, primary amines, secondary amines and tertiary amines can be used. The amine may be a monoamine, a polyamine such as a diamine or triamine having two or more amino groups in the molecule, and a cyclic amine.
モノアミンとしては、たとえば、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、n−プロピルアミン、ジ−n−プロピルアミン、トリ−n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、ジ−i−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、i−ブチルアミン、ジ−i−ブチルアミン、トリ−i−ブチルアミン、sec−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、トリ−sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、ジ−tert−ブチルアミン、トリ−tert−ブチルアミン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン、n−オクチルアミン、ジ−n−オクチルアミン、トリ−n−オクチルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、トリベンジルアミン、ジアミノプロピルアミン、2−エチルヘキシルアミン、3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン、ビス(2−エチルヘキシル)アミン、3−(ジブチルアミノ)プロピルアミン、α―フェニルエチルアミン、β−フェニルエチルアミン、アニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、o―トルイジン、m−トルイジン、p−トルイジン、o−アニシジン、m−アニシジン、p−アニシジン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−ブロモアニリン、m−ブロモアニリン、p−ブロモアニリン、o−ニトロアニリン、m−ニトロアニリン、p−ニトロアニリン、2,4−ジニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、p−アミノ安息香酸、スルファニル酸、スルファニルアミド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。 Examples of the monoamine include methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, n-propylamine, di-n-propylamine, tri-n-propylamine, i-propylamine, and di-i-propylamine. , Tri-i-propylamine, n-butylamine, di-n-butylamine, tri-n-butylamine, i-butylamine, di-i-butylamine, tri-i-butylamine, sec-butylamine, di-sec-butylamine, Tri-sec-butylamine, tert-butylamine, di-tert-butylamine, tri-tert-butylamine, allylamine, diallylamine, triallylamine, cyclohexylamine, dicyclohexylamine, tricyclohexylamine , N-octylamine, di-n-octylamine, tri-n-octylamine, benzylamine, dibenzylamine, tribenzylamine, diaminopropylamine, 2-ethylhexylamine, 3- (2-ethylhexyloxy) propyl Amine, 3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, 3- (diethylamino) propylamine, bis (2-ethylhexyl) amine, 3- (dibutylamino) propylamine, α-phenylethylamine, β-phenylethylamine, aniline N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, triphenylamine, o-toluidine, m-toluidine, p-toluidine, o-anisidine, m-anisidine, p-anisidine, o-chloroaniline, m- Chloroa Phosphorus, p-chloroaniline, o-bromoaniline, m-bromoaniline, p-bromoaniline, o-nitroaniline, m-nitroaniline, p-nitroaniline, 2,4-dinitroaniline, 2,4,6- Examples thereof include trinitroaniline, p-aminobenzoic acid, sulfanilic acid, sulfanilamide, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine.
ジアミンとしては、たとえば、1,2−ジアミノエタン、N,N,N',N'−テトラメチル−1,2−ジアミノエタン、N,N,N',N'−テトラエチル−1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、N,N,N',N'−テトラメチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N,N',N'−テトラエチル−1,2−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、N−メチル−1,4−ジアミノブタン、1,2−ジアミノブタン、N,N,N',N'−テトラメチル−1,2−ジアミノブタン、3−アミノプロピルジメチルアミン、1,6−ジアミノヘキサン、3,3−ジアミノ−N−メチルジプロピルアミン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、1,4−フェニレンジアミン、ベンジジンなどが挙げられる。 Examples of the diamine include 1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetraethyl-1,2-diamino. Ethane, 1,3-diaminopropane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,2-diaminopropane, N, N, N ′, N′-tetraethyl-1,2-diaminopropane, 1, 4-diaminobutane, N-methyl-1,4-diaminobutane, 1,2-diaminobutane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,2-diaminobutane, 3-aminopropyldimethylamine, Examples include 1,6-diaminohexane, 3,3-diamino-N-methyldipropylamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 1,4-phenylenediamine, and benzidine.
トリアミンとしては、たとえば、2,4,6−トリアミノフェノール、1,2,3−トリアミノプロパン、1,2,3−トリアミノベンゼン、1,2,4−トリアミノベンゼン、1,3,5−トリアミノベンゼンなどが挙げられる。 Examples of the triamine include 2,4,6-triaminophenol, 1,2,3-triaminopropane, 1,2,3-triaminobenzene, 1,2,4-triaminobenzene, 1,3, 5-triaminobenzene and the like can be mentioned.
テトラアミンとしては、たとえば、β,β',β"−トリアミノトリエチルアミンなどが挙げられる。
環式アミンとしては、たとえば、ピロール、ピリジン、ピリミジン、ピロリジン、ピペリジン、プリン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、3−ピロリン
、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ピペラジン、ピリダジン、1,2,3−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,3,5−トリアジン、1,2,3−トリアゾール、1,2,5−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、1,3,4−トリアゾール、モルホリンなどが挙げられる。
Examples of tetraamine include β, β ′, β ″ -triaminotriethylamine and the like.
Examples of the cyclic amine include pyrrole, pyridine, pyrimidine, pyrrolidine, piperidine, purine, imidazole, oxazole, thiazole, pyrazole, 3-pyrroline, quinoline, isoquinoline, carbazole, piperazine, pyridazine, 1,2,3-triazine, 1,2,4-triazine, 1,3,5-triazine, 1,2,3-triazole, 1,2,5-triazole, 1,2,4-triazole, 1,3,4-triazole, morpholine, etc. Is mentioned.
上記反応工程でアルカリ化合物として用いることができるアミンは、上記の化合物に限定されるものではなく、たとえばエチルメチルアミンのように、置換基の種類が異なる非対称の化合物であってもよい。また、アミンは1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The amine that can be used as the alkali compound in the reaction step is not limited to the above compound, and may be an asymmetric compound having different types of substituents such as ethylmethylamine. Moreover, an amine may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
上記反応工程で用いられるアルカリ化合物は、市販または工業的に入手できるものであれば、特に制限はないが、ヒドロキシルアミンの塩と同様に、好ましくは金属不純物が少ないものがよい。 The alkali compound used in the above reaction step is not particularly limited as long as it is commercially available or industrially available, but preferably has a small amount of metal impurities, like the hydroxylamine salt.
アルカリ化合物とヒドロキシルアミンの塩との当量比(アルカリ化合物/ヒドロキシルアミンの塩)は0.1〜100、好ましくは0.5〜10、さらに好ましくは1〜2の範囲が適している。なお当量は、ヒドロキシルアミンの塩を1とするとアルカリ金属の場合には1、アルカリ土類金属の場合は2、アンモニアは1、アミンの場合には、たとえばモノアミンは1、ジアミンは2として計算する。 The equivalent ratio of the alkali compound to the hydroxylamine salt (alkali compound / hydroxylamine salt) is in the range of 0.1 to 100, preferably 0.5 to 10, and more preferably 1 to 2. The equivalent weight is calculated as 1 for an alkali metal, 1 for an alkaline metal, 2 for an alkaline earth metal, 1 for ammonia, 1 for an amine, and 2 for a diamine, for example. .
上記当量比が100より大きいと、過剰のアルカリ化合物によるヒドロキシルアミンの分解や、多くの未反応アルカリ化合物の回収が必要になるなどの問題が生じることがある。また、当量比が0.1より小さいと、大量の未反応ヒドロキシルアミンの塩の回収が必要になるなどの問題が生じることがある。 If the equivalent ratio is greater than 100, problems such as decomposition of hydroxylamine by excess alkali compounds and recovery of many unreacted alkali compounds may occur. On the other hand, if the equivalent ratio is less than 0.1, there may be a problem that a large amount of unreacted hydroxylamine salt needs to be recovered.
アルカリ化合物は、溶媒に溶解または懸濁させて使用することができる。このような溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、アルコールなどが挙げられるが、反応に影響がなければこれらに限定されるものではない。これらの中では、水および/またはアルコールを用いることが好ましい。また、反応で生じた不溶性の塩などを分離した濾液の少なくとも一部を溶媒として使用してもよい。 The alkaline compound can be used by dissolving or suspending it in a solvent. As such a solvent, water and / or an organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, alcohols and the like, but are not limited to these as long as the reaction is not affected. In these, it is preferable to use water and / or alcohol. Moreover, you may use at least one part of the filtrate which isolate | separated the insoluble salt etc. which arose in reaction as a solvent.
上記溶媒の量は、使用するアルカリ化合物の量、反応温度などの条件に応じて適宜選択すればよく、通常、溶媒とアルカリ化合物との質量比(溶媒/アルカリ化合物)は0.5〜1000、好ましくは0.8〜100である。 The amount of the solvent may be appropriately selected according to conditions such as the amount of the alkali compound to be used and the reaction temperature, and the mass ratio of the solvent to the alkali compound (solvent / alkali compound) is usually 0.5 to 1000, Preferably it is 0.8-100.
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法において、ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミン溶液を得る反応工程は、安定剤の存在下で行うことが好ましい。安定剤は、公知のものを使用することができる。たとえば、前記精製工程1で使用した安定剤と同じ種類のもの、または異なる種類のものを、反応工程の状況や製造されるヒドロキシルアミンの用途などに応じて選択することができる。安定剤を選択することにより、金属不純物などによるヒドロキシルアミンの分解等の副反応が抑制され、ヒドロキシルアミンの生産効率が向上する。 In the method for producing hydroxylamine of the present invention, the reaction step of obtaining a hydroxylamine solution by reacting a hydroxylamine salt with an alkali compound is preferably performed in the presence of a stabilizer. A well-known thing can be used for a stabilizer. For example, the same type or different type of stabilizer used in the purification step 1 can be selected depending on the situation of the reaction step, the use of the hydroxylamine to be produced, and the like. By selecting a stabilizer, side reactions such as decomposition of hydroxylamine due to metal impurities and the like are suppressed, and the production efficiency of hydroxylamine is improved.
安定剤は、安定剤とヒドロキシルアミンの塩との質量比(安定剤/ヒドロキシルアミンの塩)は、1.0×10-9〜1.0、好ましくは1.0×10-8〜0.1の範囲内となるような量で用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの塩またはヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。 The stabilizer has a mass ratio of stabilizer to hydroxylamine salt (stabilizer / hydroxylamine salt) of 1.0 × 10 −9 to 1.0, preferably 1.0 × 10 −8 to 0.00. It is suitable to use in an amount that is within the range of 1. When the mass ratio is smaller than 1.0 × 10 −9, the effect of suppressing the decomposition reaction of the hydroxylamine salt or hydroxylamine by metal impurities may not be obtained, and the mass ratio is larger than 1.0. In some cases, it may be necessary to remove or recover excess stabilizer.
安定剤は、固体のまま使用してもよく、溶媒に溶解させて使用してもよい。このような溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられるが、反応に影響がなければこれらに限定されるものではない。これらの中では、水および/またはアルコールを用いることが好ましい。溶媒の量は使用する安定剤の種類および量、反応温度などの条件に応じて適宜選択することができる。 The stabilizer may be used as it is, or may be used after being dissolved in a solvent. As such a solvent, water and / or an organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, esters, alcohols and the like, but are not limited to these as long as the reaction is not affected. In these, it is preferable to use water and / or alcohol. The amount of the solvent can be appropriately selected according to the conditions such as the type and amount of the stabilizer used and the reaction temperature.
反応工程において安定剤を添加する方法は特に制限されず、公知の方法で行うことができる。たとえば、予め反応器に導入して反応を開始してもよく、必要に応じて反応の途中で添加してもよい。また、安定剤を、アルカリ化合物および/またはヒドロキシルアミンの塩とともに溶媒に溶解または懸濁させて添加してもよい。 The method for adding the stabilizer in the reaction step is not particularly limited and can be performed by a known method. For example, it may be introduced into the reactor in advance to start the reaction, or may be added during the reaction as necessary. Further, the stabilizer may be added by dissolving or suspending it in a solvent together with an alkali compound and / or a hydroxylamine salt.
ヒドロキシルアミン溶液は、前述のようにアルカリ化合物を溶媒に溶解もしくは懸濁させた反応液に、ヒドロキシルアミンの塩を添加して反応させる反応工程によって得られるものであることが好ましい。このように、アルカリ化合物を含む反応液に、ヒドロキシルアミンの塩を添加していく方法を用いることにより、生成したヒドロキシルアミンが、副生した塩と錯体を形成しにくくなり、また副生した不溶性の塩に吸着または取り込まれにくくなる。 The hydroxylamine solution is preferably obtained by a reaction step in which a hydroxylamine salt is added and reacted in a reaction solution in which an alkali compound is dissolved or suspended in a solvent as described above. Thus, by using a method of adding a hydroxylamine salt to a reaction solution containing an alkali compound, it is difficult for the produced hydroxylamine to form a complex with a by-product salt, and a by-product is insoluble. It becomes difficult to be adsorbed or taken in by the salt.
さらに、アルカリ化合物を含む反応液にヒドロキシルアミンの塩を添加する際に、反応液のpHを好ましくは7以上、より好ましくは7.5以上、さらに好ましくは8以上に保ちながら、ヒドロキシルアミンの塩を添加していくことが望ましい。反応液のpHを上記範囲に保つことにより、生成したヒドロキシルアミンが、副生した塩と錯体を形成しにくくなり、また副生した不溶性の塩に吸着または取り込まれにくくなる。 Furthermore, when adding a hydroxylamine salt to a reaction solution containing an alkali compound, the pH of the reaction solution is preferably 7 or more, more preferably 7.5 or more, and even more preferably 8 or more, while the hydroxylamine salt is maintained. It is desirable to add. By maintaining the pH of the reaction solution in the above range, the produced hydroxylamine is less likely to form a complex with the by-produced salt, and is difficult to be adsorbed or incorporated into the by-produced insoluble salt.
しかし、上記の反応工程は、ヒドロキシルアミンの塩を溶解もしくは懸濁させた反応液にアルカリ化合物を添加して反応させてもよい。
さらに、上記の反応工程は、ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを、同時に供給して反応させる反応工程であってもよい。その際、反応液のpHを好ましくは7以上、より好ましくは7.5以上、さらに好ましくは8以上に保ちながら、ヒドロキシルアミンの塩およびアルカリ化合物の添加量を調整することが望ましい。ヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物は、固体のまま添加してもよく、溶媒に溶解または懸濁させて添加してもよい。また、アルカリ化合物がアンモニアなどの場合には、ガスで導入してもよい。
However, in the above reaction step, an alkali compound may be added to the reaction solution in which the hydroxylamine salt is dissolved or suspended to cause the reaction.
Furthermore, the reaction step may be a reaction step in which a hydroxylamine salt and an alkali compound are supplied and reacted simultaneously. At that time, it is desirable to adjust the addition amount of the hydroxylamine salt and the alkali compound while keeping the pH of the reaction solution at preferably 7 or more, more preferably 7.5 or more, and even more preferably 8 or more. The hydroxylamine salt and / or alkali compound may be added as a solid, or may be added after dissolved or suspended in a solvent. Further, when the alkali compound is ammonia or the like, it may be introduced by gas.
上記反応工程は、反応温度が0℃〜80℃が好ましく、さらに好ましくは5℃〜50℃の範囲内であることが望ましい。反応温度が80℃より高いと、ヒドロキシルアミンの分解などの問題が生じることがある。一方、反応温度が0℃より低いと、反応速度が遅くなり生産性の低下などの問題が生じることがある。 In the reaction step, the reaction temperature is preferably from 0 ° C to 80 ° C, more preferably from 5 ° C to 50 ° C. When the reaction temperature is higher than 80 ° C., problems such as decomposition of hydroxylamine may occur. On the other hand, when the reaction temperature is lower than 0 ° C., the reaction rate becomes slow and problems such as a decrease in productivity may occur.
ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物との反応に伴い発生する反応熱は、水、温水または熱媒により系外に排出させることにより、反応温度を一定範囲に保つことができる。また、水、温水または熱媒により系外に排出された熱は、他の設備の熱源として利用することが好ましい。 The reaction heat generated with the reaction between the salt of hydroxylamine and the alkali compound can be kept out of the system with water, hot water or a heat medium, so that the reaction temperature can be kept within a certain range. Moreover, it is preferable to use the heat | fever discharged | emitted out of the system with water, warm water, or a heat medium as a heat source of another installation.
上記の反応工程は、公知の方法、たとえば回分式、半回分式、連続式などで行うことができる。
分離工程;
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミンと不溶性物質を分離す
る工程を含むことが好ましい。
Said reaction process can be performed by a well-known method, for example, a batch type, a semibatch type, a continuous type etc.
Separation step;
The method for producing hydroxylamine of the present invention preferably includes a step of separating hydroxylamine and insoluble material.
この不溶性物質は、たとえば上記反応工程で反応液中に析出した不溶性物質である。
不溶性物質としては、たとえば上記反応工程でヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物との反応により生成した塩、ヒドロキシルアミンの塩、アルカリ化合物等が挙げられる。
This insoluble substance is, for example, an insoluble substance deposited in the reaction solution in the above reaction step.
Examples of the insoluble substance include a salt produced by the reaction of a hydroxylamine salt with an alkali compound in the above reaction step, a hydroxylamine salt, an alkali compound, and the like.
つまり、上記反応工程でヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物との反応により生成した塩、ヒドロキシルアミンの塩、アルカリ化合物等が、溶解度よりも濃度が高くなることにより不溶性物質として析出した場合には、不溶性物質を分離する分離工程を含んでもよい。 That is, in the case where the salt formed by the reaction of hydroxylamine salt and alkali compound in the above reaction step, hydroxylamine salt, alkali compound, etc. is precipitated as an insoluble substance due to its concentration higher than the solubility, it is insoluble. A separation step of separating the substance may be included.
また、反応工程以外の工程で析出した不溶性物質も同様に分離することができる。
分離の方法としては、濾過、圧搾、遠心分離、沈降分離、浮上分離などの公知の方法を用いることができる。たとえば、濾過による分離では、自然濾過、加圧濾過、減圧濾過のいずれの方法で行ってもよく、沈降分離による分離では、清澄分離、沈殿濃縮のいずれの方法で行ってもよく、浮上分離による分離では、加圧浮上、電離浮上のいずれの方法で行ってもよい。
Further, insoluble substances precipitated in steps other than the reaction step can be similarly separated.
As a separation method, known methods such as filtration, squeezing, centrifugation, sedimentation separation, and flotation separation can be used. For example, the separation by filtration may be performed by any of natural filtration, pressure filtration, or vacuum filtration, and the separation by sedimentation separation may be performed by any of clarification separation or precipitation concentration, by floating separation. Separation may be performed by any method of pressure levitation and ionization levitation.
また、上記の分離工程で分離した不溶性物質を溶媒で洗浄することにより、不溶性物質に付着または取り込まれたヒドロキシルアミンを回収することができる。
不溶性物質を洗浄する溶媒としては、反応工程で用いた溶媒と同じ溶媒を使用してもよく、別の溶媒を使用してもよい。このような洗浄溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられるが、ヒドロキシルアミンの回収に影響がなければこれらに限定されるものではない。これらの中では、水および/またはアルコールを洗浄溶媒として用いることが好ましい。また、洗浄溶媒の量は、不溶性物質の種類および量、分離などの条件に応じて適宜選択することができる。
In addition, by washing the insoluble material separated in the separation step with a solvent, hydroxylamine attached or taken into the insoluble material can be recovered.
As the solvent for washing the insoluble substance, the same solvent as that used in the reaction step may be used, or another solvent may be used. As such a washing solvent, water and / or an organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include hydrocarbons, ethers, esters, alcohols and the like, but are not limited to these as long as the recovery of hydroxylamine is not affected. In these, it is preferable to use water and / or alcohol as a washing | cleaning solvent. The amount of the washing solvent can be appropriately selected according to the type and amount of the insoluble substance, conditions such as separation.
上記分離工程で不溶性物質を分離する際の温度は、0℃〜80℃が好ましく、さらに好ましくは5℃〜50℃の範囲内であることが望ましい。分離する際の温度が80℃より高いと、ヒドロキシルアミンの分解などの問題が生じることがある。一方、温度が0℃より低いと、冷却に要するエネルギーが大きくなるなどの問題が生じることがある。上記分離工程で不溶性物質を分離した濾液および/または不溶性物質を洗浄した濾液の一部もしくは全部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いてもよい。 The temperature at which the insoluble material is separated in the separation step is preferably 0 ° C to 80 ° C, more preferably 5 ° C to 50 ° C. When the temperature at the time of separation is higher than 80 ° C., problems such as decomposition of hydroxylamine may occur. On the other hand, when the temperature is lower than 0 ° C., there may be a problem that energy required for cooling increases. A part or all of the filtrate from which the insoluble substances have been separated in the separation step and / or the filtrate from which the insoluble substances have been washed may be used as a solvent for dissolving or suspending the hydroxylamine salt and / or alkali compound as the reaction raw material. Good.
上記分離工程は、反応工程と同様にヒドロキシルアミンの安定剤の存在下で行うことが好ましい。分離工程で新たに安定剤を添加してもよく、前工程からの安定剤をそのまま使用してもよい。 The separation step is preferably performed in the presence of a hydroxylamine stabilizer as in the reaction step. A new stabilizer may be added in the separation step, or the stabilizer from the previous step may be used as it is.
安定剤としては、反応工程で使用した安定剤と同じ種類のもの、または異なる種類のものを、その状況や用途などに応じて選択することができる。安定剤を添加することにより、金属不純物などによるヒドロキシルアミンの分解等の副反応が抑制され、ヒドロキシルアミンの生産効率が向上する。 As the stabilizer, the same type as the stabilizer used in the reaction step or a different type can be selected according to the situation and use. By adding a stabilizer, side reactions such as decomposition of hydroxylamine due to metal impurities and the like are suppressed, and the production efficiency of hydroxylamine is improved.
安定剤の量は、安定剤とヒドロキシルアミンとの質量比(安定剤/ヒドロキシルアミン)が1.0×10-9〜1.0、好ましくは1.0×10-8〜0.1の範囲内となるように
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1
.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
The amount of stabilizer is such that the mass ratio of stabilizer to hydroxylamine (stabilizer / hydroxylamine) is in the range of 1.0 × 10 −9 to 1.0, preferably 1.0 × 10 −8 to 0.1. It is suitable to use so that it becomes inside. When the mass ratio is smaller than 1.0 × 10 −9, the effect of suppressing the decomposition reaction of hydroxylamine by metal impurities may not be obtained, and the mass ratio is 1
. If it is greater than 0, it may be necessary to remove or recover excess stabilizer.
上記の分離工程は、公知の方法、たとえば回分式、半回分式、連続式などで行うことができる。
前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程は、反応工程、分離工程、精製工程2および精製工程1の順に行われることが好ましい。
蒸留工程;
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミン溶液を蒸留し、該蒸留によりヒドロキシルアミンを得る蒸留工程を含むことが好ましい。
Said separation process can be performed by a well-known method, for example, a batch type, a semibatch type, a continuous type.
Each process for producing the hydroxylamine is preferably performed in the order of a reaction process, a separation process, a purification process 2 and a purification process 1.
Distillation step;
The method for producing hydroxylamine of the present invention preferably includes a distillation step of distilling a hydroxylamine solution and obtaining hydroxylamine by the distillation.
蒸留工程における蒸留の方法としては、単蒸留、多段蒸留、水蒸気蒸留、フラッシュ蒸留などの公知の方法で行うことができる。
また、ヒドロキシルアミンは、目的に応じて、蒸留塔の塔頂部、側塔部あるいは塔底部で得ることができる。
As a distillation method in the distillation step, a known method such as simple distillation, multistage distillation, steam distillation, or flash distillation can be used.
Further, hydroxylamine can be obtained at the top, side or bottom of the distillation column depending on the purpose.
たとえば、単蒸留、水蒸気蒸留などにより塔頂部からヒドロキシルアミン溶液を得ることができる。また、たとえば多段蒸留により水を塔頂から留出させることにより塔底部から濃度の高いヒドロキシルアミン溶液を得ることができる。 For example, a hydroxylamine solution can be obtained from the top of the column by simple distillation, steam distillation or the like. Further, for example, by distilling water from the top of the column by multistage distillation, a hydroxylamine solution having a high concentration can be obtained from the bottom of the column.
蒸留塔としては、棚段式蒸留塔、充填蒸留塔などの公知の蒸留塔を使用することができる。棚段式蒸留塔の棚段の構造としては、たとえば泡鐘トレイ、多孔板トレイ、バルブトレイ、スーパーフラックトレイ、マックスフラクトレイなどが挙げられる。また、充填蒸留塔の充填物としては、規則充填物や不規則充填物が挙げられる。規則充填物としては、たとえば、金属板型、金網型、グリッド型などが挙げられる。不規則充填物としては、たとえば、ラシヒリング、レッシングリング、ベルルサドル、インタロックスサドル、テラレット、ポールリング、フレキシリング、カスケードリングなどが挙げられる。 As the distillation column, a known distillation column such as a plate type distillation column or a packed distillation column can be used. Examples of the structure of the shelf of the shelf type distillation column include a bubble bell tray, a perforated plate tray, a valve tray, a super flack tray, and a max fract tray. Moreover, as a packing of a packed distillation column, a regular packing and an irregular packing are mentioned. Examples of the regular packing include a metal plate mold, a wire mesh mold, and a grid mold. Examples of the irregular packing include Raschig rings, Lessing rings, Berle saddles, Interlocks saddles, terralet, pole rings, flexi rings, cascade rings, and the like.
蒸留工程の温度は、塔底部の温度で0〜70℃が好ましく、さらに好ましくは5〜60℃の範囲内であることが望ましい。塔底部の温度が70℃より高いと、ヒドロキシルアミンの分解などの問題が生じることがある。一方、塔底部の温度が0℃より低いと、多量の冷却エネルギーが必要になるなどの問題が生じることがある。 The temperature in the distillation step is preferably from 0 to 70 ° C., more preferably from 5 to 60 ° C., at the bottom of the column. When the temperature at the bottom of the column is higher than 70 ° C., problems such as decomposition of hydroxylamine may occur. On the other hand, when the temperature at the bottom of the column is lower than 0 ° C., there may be a problem that a large amount of cooling energy is required.
蒸留工程の圧力は、温度との関係で決まるが、塔底部の圧力で0.5〜60kPaが好ましく、さらに好ましくは0.8〜40kPaの範囲内であることが望ましい。
上記蒸留工程において塔底部で得たヒドロキシルアミン溶液の一部は、ヒドロキシルアミンの反応原料として好ましく用いられるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いてもよい。
Although the pressure of a distillation process is decided by relationship with temperature, 0.5-60 kPa is preferable at the pressure of a tower bottom part, More preferably, it exists in the range of 0.8-40 kPa.
A part of the hydroxylamine solution obtained at the bottom of the column in the distillation step may be used as a solvent for dissolving or suspending a hydroxylamine salt and / or an alkali compound preferably used as a reaction raw material for hydroxylamine.
また、蒸留塔の塔頂部または側塔部から得られるヒドロキシルアミン溶液の一部もしくは全部は、ヒドロキシルアミンの反応原料として好ましく用いられるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いてもよい。 In addition, a part or all of the hydroxylamine solution obtained from the top or side of the distillation column is used as a solvent for dissolving or suspending a hydroxylamine salt and / or alkali compound that is preferably used as a reaction raw material for hydroxylamine. It may be used.
上記蒸留工程は、回分式、半回分式、連続式などの公知の方法で行うことができる。
上記蒸留工程は、前記各工程と同様にヒドロキシルアミンの安定剤の存在下で行うことが好ましい。蒸留工程で新たに安定剤を添加してもよく、前工程からの安定剤をそのまま使用してもよい。
The said distillation process can be performed by well-known methods, such as a batch type, a semibatch type, and a continuous type.
It is preferable to perform the said distillation process in presence of the stabilizer of a hydroxylamine similarly to each said process. A new stabilizer may be added in the distillation step, or the stabilizer from the previous step may be used as it is.
安定剤としては、前記各工程で使用した安定剤と同じ種類のもの、または異なる種類のものを、その状況や用途などに応じて選択することができる。安定剤を添加することにより、金属不純物などによるヒドロキシルアミンの分解等の副反応が抑制され、ヒドロキシ
ルアミンの生産効率が向上する。
As the stabilizer, the same type as the stabilizer used in each step or a different type can be selected depending on the situation and use. By adding a stabilizer, side reactions such as decomposition of hydroxylamine due to metal impurities and the like are suppressed, and the production efficiency of hydroxylamine is improved.
安定剤の量は、安定剤とヒドロキシルアミンとの質量比(安定剤/ヒドロキシルアミン)が1.0×10-9〜1.0、好ましくは1.0×10-8〜0.1の範囲内となるように
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
The amount of stabilizer is such that the mass ratio of stabilizer to hydroxylamine (stabilizer / hydroxylamine) is in the range of 1.0 × 10 −9 to 1.0, preferably 1.0 × 10 −8 to 0.1. It is suitable to use so that it becomes inside. When the mass ratio is less than 1.0 × 10 −9, the effect of suppressing the decomposition reaction of hydroxylamine by metal impurities may not be obtained. When the mass ratio is greater than 1.0, excessive stability Removal or recovery of the agent may be necessary.
前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程は、反応工程、分離工程、精製工程2、精製工程1および蒸留工程の順に行われることが好ましい。
さらに本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、上記蒸留工程によって得られたヒドロキシルアミンを、ヒドロキシルアミン溶液をモノベッド樹脂床に通すことにより精製する精製工程1をさらに行うことが好ましい。
Each process for producing the hydroxylamine is preferably performed in the order of a reaction process, a separation process, a purification process 2, a purification process 1, and a distillation process.
Furthermore, in the method for producing hydroxylamine of the present invention, it is preferable to further perform a purification step 1 in which the hydroxylamine obtained by the distillation step is purified by passing the hydroxylamine solution through a monobed resin bed.
また、本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、上記蒸留工程によって得られたヒドロキシルアミンを、陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床およびキレート樹脂床からなる群より選ばれる少なくとも1種のイオン交換樹脂床にヒドロキシルアミン溶液を通すことにより精製する精製工程2をさらに行うことが好ましい。 In the method for producing hydroxylamine of the present invention, the hydroxylamine obtained by the distillation step is at least one ion exchange selected from the group consisting of a cation exchange resin bed, an anion exchange resin bed, and a chelate resin bed. It is preferable to further perform a purification step 2 of purification by passing a hydroxylamine solution through the resin bed.
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、例えば、
(1)ヒドロキシルアミンの塩と、アルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミン溶液を得る反応工程。
(2)ヒドロキシルアミン溶液にモノベッド樹脂床を通すことにより精製する精製工程1。
を含むことが好ましい。
The method for producing hydroxylamine of the present invention includes, for example,
(1) A reaction step in which a hydroxylamine salt is reacted with an alkali compound to obtain a hydroxylamine solution.
(2) Purification step 1 for purification by passing a monobed resin bed through a hydroxylamine solution.
It is preferable to contain.
そして、本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、
(3)陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床およびキレート樹脂床からなる群より選ばれる少なくとも1種のイオン交換樹脂床にヒドロキシルアミン溶液を通すことにより精製する精製工程2。
を含むことが好ましい。
And the manufacturing method of the hydroxylamine of this invention,
(3) Purification step 2 for purification by passing a hydroxylamine solution through at least one ion exchange resin bed selected from the group consisting of a cation exchange resin bed, an anion exchange resin bed and a chelate resin bed.
It is preferable to contain.
また、本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、(4)蒸留によりヒドロキシルアミンを得る蒸留工程を含むことが好ましい。
さらに、本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、(5)ヒドロキシルアミンと不溶性物質とを分離する分離工程を含んでいてもよく、この工程は、上記反応工程の後に行うことが好ましい。
Moreover, it is preferable that the manufacturing method of the hydroxylamine of this invention includes the distillation process which obtains a hydroxylamine by (4) distillation.
Furthermore, the method for producing hydroxylamine of the present invention may include (5) a separation step for separating hydroxylamine and an insoluble substance, and this step is preferably performed after the reaction step.
上記の各工程は、(1)の工程を行った後にいかなる順序で行ってもよく、また同じ工程を2回以上行ってもよい。
本発明の方法を用いることにより、10質量%以上の濃度のヒドロキシルアミンを得ることができる。また、20質量%以上の濃度のヒドロキシルアミンを得ることもでき、さらには、40質量%以上の濃度のヒドロキシルアミンも得ることもできる。
Each of the above steps may be performed in any order after performing the step (1), and the same step may be performed twice or more.
By using the method of the present invention, a hydroxylamine having a concentration of 10% by mass or more can be obtained. Moreover, the hydroxylamine of the density | concentration of 20 mass% or more can also be obtained, and also the hydroxylamine of the density | concentration of 40 mass% or more can also be obtained.
本発明の方法を用いることにより、不純物として含まれる各金属の含有量が1質量ppm以下のヒドロキシルアミンを得ることができる。また、各金属の含有量が0.1質量ppm以下であるヒドロキシルアミンも得ることもでき、さらには各金属の含有量が0.01質量ppm以下のヒドロキシルアミンを得ることもできる。不純物として含まれることのある金属としては、反応工程で用いたアルカリ化合物に由来するアルカリ金属、アルカリ土類金属やヒドロキシルアミンの分解を顕著に促進するFe等が挙げられる。 By using the method of the present invention, a hydroxylamine having a content of each metal contained as an impurity of 1 mass ppm or less can be obtained. Moreover, the hydroxylamine whose content of each metal is 0.1 mass ppm or less can also be obtained, and also the hydroxylamine whose content of each metal is 0.01 mass ppm or less can be obtained. Examples of metals that may be included as impurities include alkali metals derived from the alkali compounds used in the reaction process, alkaline earth metals, and Fe that significantly accelerates the decomposition of hydroxylamine.
本発明の方法を用いることにより、不純物として含まれる各アニオンの含有量が100質量ppm以下のヒドロキシルアミンを得ることができる。また、各アニオンの含有量が10質量ppm以下であるヒドロキシルアミンを得ることもでき、さらには各アニオンの含有量が1質量ppm以下のヒドロキシルアミンを得ることもできる。不純物として含まれることのあるアニオンとしては、原料であるヒドロキシルアミンの塩に由来する硫酸イオン、塩化物イオン、硝酸イオン等が挙げられる。 By using the method of the present invention, a hydroxylamine having a content of each anion contained as an impurity of 100 mass ppm or less can be obtained. Moreover, the hydroxylamine whose content of each anion is 10 mass ppm or less can be obtained, and further, the hydroxylamine whose content of each anion is 1 mass ppm or less can be obtained. Examples of the anion that may be contained as an impurity include sulfate ion, chloride ion, nitrate ion and the like derived from a salt of hydroxylamine as a raw material.
本発明により最終的に得られるヒドロキシルアミンには、新たに安定剤を添加してもよく、前工程からの安定剤をそのまま使用してもよい。安定剤としては、反応工程で使用した安定剤と同じ種類のもの、または異なる種類のものを、その状況や用途などに応じて選択することができる。安定剤を添加することにより、金属不純物などによるヒドロキシルアミンの分解等の副反応が抑制され、ヒドロキシルアミンの安定性が向上する。 To the hydroxylamine finally obtained by the present invention, a stabilizer may be newly added, or the stabilizer from the previous step may be used as it is. As the stabilizer, the same type as the stabilizer used in the reaction step or a different type can be selected according to the situation and use. By adding a stabilizer, side reactions such as decomposition of hydroxylamine due to metal impurities and the like are suppressed, and the stability of hydroxylamine is improved.
<実施例>
以下、実施例を用いてさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<Example>
Hereinafter, although it demonstrates more concretely using an Example, this invention is not limited to these Examples.
[実施例1−1]
CaO 61.7g(1.1モル)、8−ヒドロキシキノリン 1.45g(0.01モル)およびH2O 332g(18.4モル)を1Lのガラス製反応器に仕込み、20℃で攪拌した。このときの反応液のpHは12.8であった。この反応液を撹拌しながら、硫酸ヒドロキシルアミン 164g(2.0モル)をH2O 246g(13.7モル)に溶
解させた液を、反応液のpHを7以上に保ちながら添加していった。添加に要した時間は約40分であった。添加後、さらに20℃で3時間反応させた。反応液の最終的なpHは12.2であった。
[Example 1-1]
61.7 g (1.1 mol) of CaO, 1.45 g (0.01 mol) of 8-hydroxyquinoline and 332 g (18.4 mol) of H 2 O were charged into a 1 L glass reactor and stirred at 20 ° C. . The pH of the reaction solution at this time was 12.8. While stirring this reaction solution, a solution prepared by dissolving 164 g (2.0 mol) of hydroxylamine sulfate in 246 g (13.7 mol) of H 2 O was added while maintaining the pH of the reaction solution at 7 or more. It was. The time required for the addition was about 40 minutes. After the addition, the mixture was further reacted at 20 ° C. for 3 hours. The final pH of the reaction solution was 12.2.
得られた反応液を塩酸滴定により分析した結果、反応液中のヒドロキシルアミンは、65.4g(1.98モル)であり、硫酸ヒドロキシルアミンを基準としたヒドロキシルアミンの収率は99%であった。 As a result of analyzing the obtained reaction liquid by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine in the reaction liquid was 65.4 g (1.98 mol), and the yield of hydroxylamine based on hydroxylamine sulfate was 99%. It was.
[実施例1−2]
実施例1−1と同様に反応を行い、得られた反応終了後の20℃の反応液を減圧濾過し、反応液から不溶性の固体を分離した。さらにこの固体を、20℃のH2O 66.1g(3.67モル)で5回洗浄した。
[Example 1-2]
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1-1, and the resulting reaction solution at 20 ° C. after completion of the reaction was filtered under reduced pressure to separate an insoluble solid from the reaction solution. The solid was further washed 5 times with 66.1 g (3.67 mol) of H 2 O at 20 ° C.
不溶性の固体を分離した反応液と、分離後の固体を洗浄した液とを混合した液について、塩酸滴定により分析した結果、混合液のヒドロキシルアミン濃度は7.4質量%であった。したがって、得られたヒドロキシルアミンは64.7g(1.96モル)であり、硫酸ヒドロキシルアミンを基準としたヒドロキシルアミンの収率は98%であった。 As a result of analyzing the liquid obtained by mixing the reaction liquid from which the insoluble solid had been separated and the liquid from which the solid after separation was washed by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration of the liquid mixture was 7.4% by mass. Therefore, the obtained hydroxylamine was 64.7 g (1.96 mol), and the yield of hydroxylamine based on hydroxylamine sulfate was 98%.
[実施例1−3]
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド樹脂に実施
例1−2と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 1-3]
A monobed resin (Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corporation) was packed in a polytetrafluoroethylene column and thoroughly washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 1-2 was passed through this monobed resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は10質量ppb以下であった。そして、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC
SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.
0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurities Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. Anion chromatography (SHODEX IC manufactured by Showa Denko KK)
As a result of analysis by SI-90 4E), the respective concentrations of impurity sulfate ions and chloride ions are 1.
It was 0 mass ppm or less.
[実施例1−4]
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例1−2と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 1-4]
Na-type strongly acidic cation exchange resin (Amberlite IR120B manufactured by Organo Corporation)
Was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-HCl aqueous solution was passed through it to convert it into an H type, and further, it was sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 1-2 was passed through this strongly acidic cation exchange resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
次に、Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA
900J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性
陰イオン交換樹脂に上記の強酸性陽イオン交換樹脂に流通して得られたヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Next, Cl type strongly basic anion exchange resin (Amberlite IRA manufactured by Organo Corporation)
900J) was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-NaOH aqueous solution was passed through the column to convert it into an OH type, followed by sufficient washing with H 2 O. The aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing through the strong acid cation exchange resin was passed through the strongly basic anion exchange resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
さらに、モノベッド樹脂(オルガノ(株)製超純水級アンバーライト ESG−1)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノ
ベッド樹脂に強塩基性陰イオン交換樹脂に流通して得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Furthermore, a monobed resin (Ultrapure Water Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corp.) was packed in a polytetrafluoroethylene column and sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing through this monobed resin through a strongly basic anion exchange resin was passed at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は、10質量ppb以下であった。そして、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX I
C SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurities Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. Anion chromatography (SHODEX I manufactured by Showa Denko KK)
As a result of analysis by CSI-90 4E), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chlorine ion were 1.0 mass ppm or less.
[実施例1−5]
1N−HCl水溶液の代わりに1N−H2SO4水溶液を使用した以外は実施例1−4と同様に行ったところ、同様の結果が得られた。
[Example 1-5]
The same results were obtained as in Example 1-4, except that a 1N—H 2 SO 4 aqueous solution was used instead of the 1N—HCl aqueous solution.
[実施例1−6]
実施例1−4と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液をさらに減圧蒸留により濃縮させた。塔底部温度が40℃以下となるように減圧度を調整し、塔頂より水を抜き出し、塔底部よりヒドロキシルアミン濃度が高い水溶液を回収した。
[Example 1-6]
An aqueous solution of hydroxylamine obtained by the same method as in Example 1-4 was further concentrated by distillation under reduced pressure. The degree of vacuum was adjusted so that the tower bottom temperature was 40 ° C. or less, water was extracted from the tower top, and an aqueous solution having a higher hydroxylamine concentration was recovered from the tower bottom.
得られた塔底部液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa濃度は30質量ppb、Ca濃度は20質量ppb、Fe濃度は15質量ppb、Zn濃度は15質量ppbであった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析し
た結果、不純物の硫酸イオン濃度は1.5質量ppm、塩素イオン濃度は1.5質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained tower bottom liquid by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. As a result of analysis by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), impurity Na concentration is 30 mass ppb, Ca concentration is 20 mass ppb, Fe concentration is 15 mass ppb, and Zn concentration is 15 mass. ppb. Furthermore, as a result of analysis by anion chromatography (SHODEX IC SI-904E manufactured by Showa Denko KK), the impurity sulfate ion concentration was 1.5 mass ppm and the chlorine ion concentration was 1.5 mass ppm or less. .
[実施例1−7]
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド樹脂に実
施例1−6と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 1-7]
A monobed resin (Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corporation) was packed in a polytetrafluoroethylene column and thoroughly washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 1-6 was passed through this monobed resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は、10質量ppb以下であった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX I
C SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. And as a result of analyzing by ICP-MS (SPQ-900 type | mold by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurity Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. Furthermore, anion chromatography (SHODEX I manufactured by Showa Denko KK)
As a result of analysis by CSI-90 4E), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chlorine ion were 1.0 mass ppm or less.
[実勢例1−8]
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)の代わりに別のモノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−2)を使用した以外は実施例1−7と同様に行った。
[Practical example 1-8]
It carried out similarly to Example 1-7 except having used another monobed resin (Amberlite ESG-2 by Organo Corporation) instead of the monobed resin (Amberlite ESG-1 by Organo Corporation). .
得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は、10質量ppb以下であった。そして、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX I
C SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurities Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. Anion chromatography (SHODEX I manufactured by Showa Denko KK)
As a result of analysis by CSI-90 4E), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chlorine ion were 1.0 mass ppm or less.
[実施例1−9]
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例1−6と同様な方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 1-9]
Na-type strongly acidic cation exchange resin (Amberlite IR120B manufactured by Organo Corporation)
Was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-HCl aqueous solution was passed through it to convert it into an H type, and further, it was sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 1-6 was passed through this strongly acidic cation exchange resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
次に、Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA
900J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性
陰イオン交換樹脂に上記の強酸性陽イオン交換樹脂に流通させて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Next, Cl type strongly basic anion exchange resin (Amberlite IRA manufactured by Organo Corporation)
900J) was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-NaOH aqueous solution was passed through the column to convert it into an OH type, followed by sufficient washing with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing the strong basic anion exchange resin through the strongly acidic cation exchange resin was passed at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
さらに、モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)をポリテト
ラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド
樹脂に上記強塩基性陰イオン交換樹脂に流通させて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Furthermore, a monobed resin (Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corporation) was packed in a polytetrafluoroethylene column and sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing the monobasic resin through the strongly basic anion exchange resin was passed at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は10質量ppb以下であった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は1.0
質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. And as a result of analyzing by ICP-MS (SPQ-900 type | mold by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurity Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. Furthermore, as a result of analyzing by anion chromatography (SHODEX IC SI-90 4E manufactured by Showa Denko KK), each concentration of impurity sulfate ion and chloride ion was 1.0.
It was below mass ppm.
[実施例2−1]
20質量%NaOH水溶液220g(NaOH 1.1モル)、8−ヒドロキシキノリン0.73g(0.005モル)を1Lのガラス製反応器に仕込み、20℃で攪拌した。この反応液を撹拌しながら、硫酸ヒドロキシルアミン 82.1g(1.0モル)をH2O465g(25.8モル)に溶解させた液を、約40分かけて添加していった。添加後、さらに20℃で3時間反応させた。
[Example 2-1]
220 g of 20 mass% NaOH aqueous solution (NaOH 1.1 mol) and 8-hydroxyquinoline 0.73 g (0.005 mol) were charged into a 1 L glass reactor and stirred at 20 ° C. While stirring this reaction solution, a solution prepared by dissolving 82.1 g (1.0 mol) of hydroxylamine sulfate in 465 g (25.8 mol) of H 2 O was added over about 40 minutes. After the addition, the mixture was further reacted at 20 ° C. for 3 hours.
反応液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は4.2質量%であった。したがって、得られたヒドロキシルアミンは32.4g(0.98モル)であり、硫酸ヒドロキシルアミンを基準としたヒドロキシルアミンの収率は98%であった。 As a result of analyzing the reaction solution by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 4.2% by mass. Therefore, the obtained hydroxylamine was 32.4 g (0.98 mol), and the yield of hydroxylamine based on hydroxylamine sulfate was 98%.
[実施例2−2]
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド樹脂に実施
例2−1と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 2-2]
A monobed resin (Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corporation) was packed in a polytetrafluoroethylene column and thoroughly washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 2-1 was passed through this monobed resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は10質量ppb以下であった。そして、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.
0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurities Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. As a result of analysis by anion chromatography (SHODEX IC SI-90 4E manufactured by Showa Denko KK), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chloride ion were 1.
It was 0 mass ppm or less.
[実施例2−3]
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例2−1と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 2-3]
Na-type strongly acidic cation exchange resin (Amberlite IR120B manufactured by Organo Corporation)
Was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-HCl aqueous solution was passed through it to convert it into an H type, and further, it was sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 2-1 was passed through this strongly acidic cation exchange resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
次に、Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA
900J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性
陰イオン交換樹脂に上記の強酸性イオン交換樹脂に流通して得られたヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Next, Cl type strongly basic anion exchange resin (Amberlite IRA manufactured by Organo Corporation)
900J) was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-NaOH aqueous solution was passed through the column to convert it into an OH type, followed by sufficient washing with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing through the strong acid anion exchange resin was passed through the strongly basic anion exchange resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
さらに、モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド樹
脂に上記の強塩基性陰イオン交換樹脂に流通させて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Furthermore, a monobed resin (Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corporation) was packed in a polytetrafluoroethylene column and sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing the monobed resin through the strongly basic anion exchange resin was passed at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は、10質量ppb以下であった。そして、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX I
C SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurities Na, Ca, Fe, and Zn was 10 mass ppb or less. Anion chromatography (SHODEX I manufactured by Showa Denko KK)
As a result of analysis by CSI-90 4E), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chlorine ion were 1.0 mass ppm or less.
[実施例2−4]
1N−HCl水溶液の代わりに1N−H2SO4水溶液を使用した以外は実施例2−3と同様に行ったところ、同様の結果が得られた。
[Example 2-4]
A similar result was obtained when the same procedure as in Example 2-3 was performed except that a 1N—H 2 SO 4 aqueous solution was used instead of the 1N—HCl aqueous solution.
[実施例2−5]
実施例2−3と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液をさらに減圧蒸留により濃縮させた。塔底部温度が40℃以下となるように減圧度を調整し、塔頂より水を抜き出し、塔底部よりヒドロキシルアミン濃度が高い水溶液を回収した。
[Example 2-5]
An aqueous solution of hydroxylamine obtained by the same method as in Example 2-3 was further concentrated by distillation under reduced pressure. The degree of vacuum was adjusted so that the tower bottom temperature was 40 ° C. or less, water was extracted from the tower top, and an aqueous solution having a higher hydroxylamine concentration was recovered from the tower bottom.
得られた塔底部液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量
%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa濃度は30質量ppb、Ca濃度は20質量ppb、Fe濃度は15質量ppb、Zn濃度は15質量ppbであった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析し
た結果、不純物の硫酸イオン濃度は1.5質量ppm、塩素イオン濃度は1.5質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained tower bottom liquid by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. As a result of analysis by ICP-MS (SPQ-900 type manufactured by Seiko Instruments Inc.), impurity Na concentration was 30 mass ppb, Ca concentration was 20 mass ppb, Fe concentration was 15 mass ppb, and Zn concentration was 15 mass. ppb. Further, as a result of analysis by anion chromatography (SHODEX IC SI-904E manufactured by Showa Denko KK), the impurity sulfate ion concentration was 1.5 mass ppm and the chlorine ion concentration was 1.5 mass ppm or less. .
[実施例2−6]
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド樹脂に実施
例2−5と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 2-6]
A monobed resin (Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corporation) was packed in a polytetrafluoroethylene column and thoroughly washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 2-5 was passed through this monobed resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は、1質量ppb以下であった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.
0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. And as a result of analyzing by ICP-MS (SPQ-900 type | mold by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurity Na, Ca, Fe, and Zn was 1 mass ppb or less. Furthermore, as a result of analysis by anion chromatography (SHODEX IC SI-904E manufactured by Showa Denko KK), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chloride ion were 1.
It was 0 mass ppm or less.
[実勢例2−7]
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−1)の代わりに別のモノベッド樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト ESG−2)を使用した以外は実施例2−6と同様に行った。
[Practical example 2-7]
It carried out similarly to Example 2-6 except having used another monobed resin (Amberlite ESG-2 by Organo Co., Ltd.) instead of the monobed resin (Amberlite ESG-1 by Organo Co., Ltd.). .
得られた水溶液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は、1質量ppb以下であった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は、1.
0質量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. And as a result of analyzing by ICP-MS (SPQ-900 type | mold by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurity Na, Ca, Fe, and Zn was 1 mass ppb or less. Furthermore, as a result of analysis by anion chromatography (SHODEX IC SI-904E manufactured by Showa Denko KK), the respective concentrations of impurity sulfate ion and chloride ion were 1.
It was 0 mass ppm or less.
[実施例2−8]
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例2−5と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
[Example 2-8]
Na-type strongly acidic cation exchange resin (Amberlite IR120B manufactured by Organo Corporation)
Was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-HCl aqueous solution was passed through it to convert it into an H type, and further, it was sufficiently washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by using the same method as in Example 2-5 was passed through this strongly acidic cation exchange resin at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
次に、Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA
900J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性
陰イオン交換樹脂に上記強酸性陽イオン交換樹脂に流通させて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
Next, Cl type strongly basic anion exchange resin (Amberlite IRA manufactured by Organo Corporation)
900J) was packed into a polytetrafluoroethylene column, and a 1N-NaOH aqueous solution was passed through the column to convert it into an OH type, followed by sufficient washing with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing the strong basic anion exchange resin through the strong acid cation exchange resin was passed at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
さらに、モノベッド樹脂(オルガノ(株)製超純水級アンバーライト ESG−1)を
ポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモ
ノベッド樹脂に上記強塩基性陰イオン交換樹脂に流通させて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1[h-1]で流通させた。
In addition, a monobed resin (Ultrapure Water Amberlite ESG-1 manufactured by Organo Corp.) was packed in a polytetrafluoroethylene column and thoroughly washed with H 2 O. An aqueous solution of hydroxylamine obtained by passing the monobasic resin through the strongly basic anion exchange resin was passed at a space velocity (SV) = 1 [h −1 ].
得られた水溶液を塩酸滴定により分析した結果、ヒドロキシルアミン濃度は51質量%であった。そして、ICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Fe、Znの各濃度は1質量ppb以下であった。さらに、陰イオンクロマトグラフィー(昭和電工(株)製SHODEX IC SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度は1.0質
量ppm以下であった。
As a result of analyzing the obtained aqueous solution by hydrochloric acid titration, the hydroxylamine concentration was 51 mass%. And as a result of analyzing by ICP-MS (SPQ-900 type | mold by Seiko Instruments Inc.), each concentration of impurity Na, Ca, Fe, and Zn was 1 mass ppb or less. Furthermore, as a result of analyzing by anion chromatography (SHODEX IC SI-904E manufactured by Showa Denko KK), each concentration of impurity sulfate ion and chlorine ion was 1.0 mass ppm or less.
本発明の製造方法によれば、高純度のヒドロキシルアミンを製造することができ、得られたヒドロキシルアミンは、医農薬中間体の原料、還元剤、金属表面の処理剤、繊維処理、染色、電子工業などに、幅広く用いることができる。 According to the production method of the present invention, high-purity hydroxylamine can be produced, and the obtained hydroxylamine is obtained from raw materials for medical and agrochemical intermediates, reducing agents, metal surface treatment agents, fiber treatment, dyeing, electronic It can be used widely in industry.
Claims (14)
ヒドロキシルアミンと不溶性物質を分離する分離工程、
陽イオン交換樹脂床、陰イオン交換樹脂床およびキレート樹脂床からなる群より選ばれる少なくとも1種のイオン交換樹脂床にヒドロキシルアミン溶液を通すことにより精製する精製工程2、
ヒドロキシルアミン溶液をモノベッド樹脂床に通すことにより精製する精製工程1、および
ヒドロキシルアミン溶液を蒸留し、該蒸留により蒸留塔の塔底部からヒドロキシルアミンを得る蒸留工程
を含み、前記各工程が、反応工程、分離工程、精製工程2、精製工程1および蒸留工程の順に行われる
ことを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。 A reaction step of reacting a hydroxylamine salt with an alkali compound to obtain a hydroxylamine solution;
A separation step for separating hydroxylamine and insoluble substances;
Purification step 2 for purification by passing a hydroxylamine solution through at least one ion exchange resin bed selected from the group consisting of a cation exchange resin bed, an anion exchange resin bed and a chelate resin bed;
Purification step 1 for purifying the hydroxylamine solution by passing it through a monobed resin bed , and
Distilling the hydroxylamine solution, it viewed including the distillation step <br/> obtaining a hydroxylamine from the bottom of the distillation column by the distillation, the each step, the reaction step, the separation step, purification step 2, the purification step 1 and distillation A method for producing hydroxylamine, which is performed in the order of steps .
The method for producing hydroxylamine according to any one of claims 1 to 13 , wherein each step is performed in the presence of a stabilizer.
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