JP4565546B2 - X-ray analysis method and X-ray analysis apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、X線を用いて物質の構造等を分析するX線分析方法及びX線分析装置に関する。   The present invention relates to an X-ray analysis method and an X-ray analysis apparatus that analyze the structure of a substance using X-rays.

X線を用いて物質の構造を分析する装置、すなわちX線分析装置は、従来から広く知られている。このようなX線分析装置として、例えば、集中法X線回折装置、平行ビーム法X線分析装置、その他各種の装置が知られている。このようなX線分析装置として、従来、測定したデータをCRT(Cathode Ray Tube)等を用いた画像表示装置の画面上に1次元画像、すなわち線状の画像として表示する方法が知られている。また、2次元画像、すなわち面状の画像として表示する方法も知られている(例えば、特許文献1参照)。また、最近では、3次元画像、すなわち立体画像として表示する方法も知られている。   An apparatus for analyzing the structure of a substance using X-rays, that is, an X-ray analysis apparatus has been widely known. As such an X-ray analysis apparatus, for example, a concentrated X-ray diffraction apparatus, a parallel beam X-ray analysis apparatus, and other various apparatuses are known. As such an X-ray analysis apparatus, there is conventionally known a method of displaying measured data as a one-dimensional image, that is, a linear image on the screen of an image display apparatus using a CRT (Cathode Ray Tube) or the like. . A method of displaying a two-dimensional image, that is, a planar image is also known (for example, see Patent Document 1). Recently, a method of displaying a three-dimensional image, that is, a stereoscopic image is also known.

このようなX線分析装置を用いたX線分析方法において、1つの試料又は複数の試料から2種類以上のデータを測定し、それらのデータを比較しながら分析を行う方法がある。従来、この分析方法は、求められた2つ以上のデータをCRT(Cathode Ray Tube)等を用いた画像表示装置に映像として別々に表示しながら、オペレータがそれらの表示を見比べて観察することによって行われていた。   In an X-ray analysis method using such an X-ray analyzer, there is a method in which two or more types of data are measured from one sample or a plurality of samples, and the analysis is performed while comparing the data. Conventionally, in this analysis method, two or more obtained data are separately displayed as images on an image display device using a CRT (Cathode Ray Tube) or the like, and the operator compares and displays the images. It was done.

特開2001−318063号公報(第6頁、図4)JP 2001-318063 A (6th page, FIG. 4)

しかしながら、上記のように2つ以上のデータを別々に見比べながら分析を行う場合には、熟練者でなければ正確な判断ができないという問題があった。また、2つ以上のデータを別々に表示する場合には、平滑化処理、バックグラウンド除去処理等といったデータ処理が個々のデータに関して独自に行われ、それ故、2つ以上のデータ間で均等なデータ処理が行われたかどうかが分からなかった。2つ以上のデータ間で行われるデータ処理が均等でない場合には、データ処理後の2つ以上のデータを見比べて行う分析の信頼性が低下することになる。   However, when the analysis is performed while comparing two or more pieces of data separately as described above, there is a problem that an accurate judgment cannot be made by a skilled person. In addition, when two or more data are displayed separately, data processing such as smoothing processing and background removal processing is independently performed for each data, and therefore, the two or more data are evenly distributed. I didn't know if the data was processed. If the data processing performed between two or more data is not equal, the reliability of the analysis performed by comparing two or more data after the data processing is reduced.

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、2つ以上のデータを比較して行う分析の信頼性を向上させることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to improve the reliability of analysis performed by comparing two or more data.

上記の目的を達成するため、本発明に係るX線分析方法は、異なる測定条件の下で複数種類のX線測定データを求め、それら複数種類のX線測定データに基づいて新たな情報を生成するデータ解析処理を行い、前記複数種類のX線測定データ及び前記新たな情報の個々に対応した、共通の立体画像座標上における3次元画像データを生成し、その3次元画像データに基づいて表示手段の画面上に前記X線測定データに対応した立体画像を表示することを特徴とする。
今、測定条件として、試料に対するX線の入射角度ω、試料に対するX線の検出角度2θ等を考えれば、異なる測定条件とは、例えば、ω及び2θの走査領域が異なることが考えられる。
In order to achieve the above object, the X-ray analysis method according to the present invention obtains a plurality of types of X-ray measurement data under different measurement conditions and generates new information based on the plurality of types of X-ray measurement data. Data analysis processing is performed to generate three-dimensional image data on a common stereoscopic image coordinate corresponding to each of the plurality of types of X-ray measurement data and the new information , and display based on the three-dimensional image data A stereoscopic image corresponding to the X-ray measurement data is displayed on the screen of the means.
Considering the X-ray incident angle ω with respect to the sample, the X-ray detection angle 2θ with respect to the sample, and the like as the measurement conditions, it can be considered that the scanning regions of ω and 2θ are different from the different measurement conditions.

本発明に係るX線分析方法によれば、2つ以上の測定データが1つの共通の立体座標上のデータとして生成されるので、それらの測定データ間で共通のデータ処理、例えば平滑化処理、バックグラウンド除去処理等を行うことができる。それ故、それらの測定データを比較して行う分析の信頼性が向上する。   According to the X-ray analysis method according to the present invention, two or more measurement data are generated as data on one common solid coordinate, and therefore, common data processing between the measurement data, for example, smoothing processing, Background removal processing or the like can be performed. Therefore, the reliability of analysis performed by comparing these measurement data is improved.

また、2つ以上の測定データが1つの共通の立体座標上のデータとして生成されるので、それらの測定データ間で共通のデータ解析、例えばピークサーチを行うことができる。それ故、解析された2つ以上の測定データの比較の信頼性が向上する。   Further, since two or more measurement data are generated as data on one common solid coordinate, common data analysis, for example, peak search, can be performed between these measurement data. Therefore, the reliability of comparison between two or more analyzed measurement data is improved.

さらに、本実施形態では、データ解析処理、例えばピークサーチ処理、座標変換等、されたデータに基づいて3次元画像が生成されて表示されるので、オペレータが測定結果を判断する上で非常に判断し易い表示を行うことができる。例えば、3次元画像においては、複数のプロファイルを視点を種々の位置に変えて3次元的に表示できるので、各プロファイル間でのピークの比較を正確に行うことができる。しかも、表示されるプロファイルについてはピークサーチ等といった解析処理が行われているので、データの信頼性も非常に高い。   Furthermore, in the present embodiment, since a three-dimensional image is generated and displayed based on data analysis processing, for example, peak search processing, coordinate conversion, etc., it is very important for the operator to determine the measurement result. Can be displayed easily. For example, in a three-dimensional image, a plurality of profiles can be displayed in a three-dimensional manner by changing the viewpoint to various positions, so that a peak comparison between the profiles can be accurately performed. In addition, since the displayed profile is subjected to analysis processing such as peak search, the reliability of the data is very high.

ところで、2つ以上の測定データの処理方法として、1つの測定データを他の測定データの測定条件に換算する処理、すなわち2つ以上の測定データを規格化した上で1つの座標系の上に表示する方法がある。例えば、今、
(1)測定角度のステップ間隔が0.1°であってXY座標系上での測定範囲がX=1〜2、Y=0〜1のデータ1と
(2)測定角度のステップ間隔が1°であってXY座標系上での測定範囲がX=3〜5、Y=2〜4のデータ2と、
が得られている場合に、
(3)それらのデータ1及びデータ2に基づいて、測定角度のステップ間隔が0.1°であってXY座標系上での測定範囲がX=0〜5、Y=0〜4のデータ3を演算によって求める場合がある。この場合に、(3)で求めた測定データ3が規格化されたデータである。
By the way, as a method of processing two or more measurement data, a process of converting one measurement data into measurement conditions of other measurement data, that is, standardizing two or more measurement data, and then on one coordinate system There is a way to display. For example, now
(1) Data 1 in which the measurement angle step interval is 0.1 ° and the measurement range on the XY coordinate system is X = 1 to 2, Y = 0 to 1, and (2) the measurement angle step interval is 1. And data 2 in which the measurement range on the XY coordinate system is X = 3 to 5, Y = 2 to 4,
Is obtained,
(3) Based on the data 1 and data 2, the data 3 in which the step interval of the measurement angle is 0.1 ° and the measurement range on the XY coordinate system is X = 0 to 5 and Y = 0 to 4 May be obtained by calculation. In this case, the measurement data 3 obtained in (3) is standardized data.

以上のように2つ以上の測定データを合成する方法として、それらの測定データを1つの条件に規格化する方法を採用した場合には、規格化するための演算工程が必要になるので処理が面倒になるという問題が考えられる。また、規格化された後には2つ以上の測定データを個別に処理することができなくなるので、それらのデータを立体画面上に個別に表示して視点を変えた状態の立体表示を行うことができなくなる等といった問題も考えられる。これに対し、本発明に係るX線分析方法によれば、2つ以上の測定データは、規格化されることなく共通の立体座標上に個別に3次元画像データとして演算されるので、データの処理が非常に簡単である。   As described above, when a method of normalizing those measurement data to one condition is adopted as a method of combining two or more measurement data, the calculation process is required because the calculation process is required for normalization. There is a problem that it becomes troublesome. In addition, after standardization, two or more measurement data cannot be individually processed, so that such data can be individually displayed on a stereoscopic screen to perform a stereoscopic display with the viewpoint changed. Problems such as being unable to do so are also possible. On the other hand, according to the X-ray analysis method according to the present invention, two or more measurement data are individually calculated as three-dimensional image data on common solid coordinates without being standardized. Processing is very simple.

次に、本発明に係るX線分析方法において、前記データ解析処理はピークサーチ処理及び/又は座標変換処理であることが望ましい。こうすれば、信頼性の高い有用な3次元画像、すなわち立体画像が得られる。   Next, in the X-ray analysis method according to the present invention, the data analysis process is preferably a peak search process and / or a coordinate conversion process. In this way, a highly reliable and useful three-dimensional image, that is, a stereoscopic image can be obtained.

上記のピークサーチは、オペレータが目視によって行うこともできるが、分析の客観性を高めるためには演算によって求めることが望ましい。さらには、そのピークサーチの結果を画像表示装置、プリンタ等といった表示手段によって表示することが望ましい。さらには、そのピークサーチによって求められたピーク位置を上記の3次元画像と共に指示することが望ましい。こうすれば、3次元画像におけるピーク波形のピーク位置を簡単且つ確実に認識でき、さらには、2つ以上の測定データにおけるピーク位置の比較を明確に識別できる。さらには、3次元画像における視点の位置を変化させることにより、2つ以上の測定データに関する3次元画像の見る角度を種々に変化させることにより、ピーク位置の比較をより一層正確に行うことができる。   The above peak search can be performed visually by an operator, but it is desirable to obtain it by calculation in order to improve the objectivity of analysis. Furthermore, it is desirable to display the result of the peak search by display means such as an image display device or a printer. Furthermore, it is desirable to indicate the peak position obtained by the peak search together with the three-dimensional image. In this way, the peak position of the peak waveform in the three-dimensional image can be easily and reliably recognized, and furthermore, comparison of peak positions in two or more measurement data can be clearly identified. Furthermore, the peak position can be more accurately compared by changing the viewing angle of the three-dimensional image with respect to two or more measurement data by changing the position of the viewpoint in the three-dimensional image. .

次に、本発明に係るX線分析方法において、前記複数種類のX線測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成るものとすることができる。そしてこの場合、前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、又は
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか
いずれかの条件とすることができる。
この分析方法は、逆格子マップ測定を行うのに適した方法である。
Next, in the X-ray analysis method according to the present invention, the plurality of types of X-ray measurement data include an X-ray incident angle ω to the sample, an X-ray detection angle 2θ emitted from the sample, and an X-ray emitted from the sample. It can be composed of a combination of strengths I. In this case, the different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Are both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ different, or (4) Does the step interval when scanning the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ differ? ,
It can be any of the conditions of.
This analysis method is suitable for performing reciprocal lattice map measurement.

次に、本発明に係るX線分析方法において、前記複数種類のX線測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成るものとすることができる。そしてこの場合、前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、又は
(5)前記あおり軸周りの角度χ又は前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
のいずれかの条件とすることができる。
この分析方法は、逆格子マップ測定を行うのに適した方法である。
Next, in the X-ray analysis method according to the present invention, the plurality of types of X-ray measurement data include two types of X-ray incident angle ω to the sample, X-ray detection angle 2θ emitted from the sample, and two sample directions. The angle χ around the tilt axis of the sample, which is one of the azimuth angles, the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the orientation of the sample, and the X-rays emitted from the sample It can be composed of a combination of strengths I. In this case, the different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Whether both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different,
(4) Step intervals when scanning the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different , or (5) an angle χ around the tilt axis or an angle φ around the in-plane rotation axis. Different or
Any of the conditions can be adopted.
This analysis method is suitable for performing reciprocal lattice map measurement.

次に、本発明に係るX線分析方法において、前記複数種類のX線測定データは、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成るものとすることができる。そしてこの場合、前記異なる測定条件とは、
(1)前記あおり軸周りの角度χの範囲が異なるか、
(2)前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
(3)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φの両方が異なるか、
(4)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、又は
(5)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか
いずれかの条件とすることができる。
この分析方法は、極点測定を行うのに適した方法である。
Next, in the X-ray analysis method according to the present invention, the plurality of types of X-ray measurement data is a detection angle 2θ of X-rays emitted from the sample and one of two azimuth angles that determine the sample orientation. It is composed of a combination of an angle χ around the axis, an angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the sample orientation, and an intensity I of the X-ray emitted from the sample. be able to. In this case, the different measurement conditions are
(1) Whether the range of the angle χ around the tilt axis is different,
(2) Whether the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
(3) Both the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis are different,
(4) The step interval when scanning and moving the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis is different , or (5) the range of the X-ray detection angle 2θ is different ,
It can be any of the conditions of.
This analysis method is suitable for performing extreme point measurement.

次に、本発明に係るX線分析方法において、前記複数種類のX線測定データは、基板上に薄膜を成膜して成る試料に関して、当該基板に関して得られた測定データと、当該薄膜に関して得られた測定データとの2種類であることが望ましい。この測定は、基板上に薄膜が形成されて成る1つの試料に対して異なる測定条件で2つの測定データを得ることを目的とする測定である。   Next, in the X-ray analysis method according to the present invention, the plurality of types of X-ray measurement data are obtained with respect to a sample obtained by forming a thin film on a substrate, and with respect to the measurement data obtained for the substrate and the thin film. It is desirable that there are two types of measured data. This measurement is intended to obtain two measurement data under different measurement conditions for one sample formed by forming a thin film on a substrate.

この種の測定として広く知られているものに、逆格子マップ測定や極点測定等がある。逆格子マップ測定とは、試料の回転角度であるω角度及び試料から出るX線を検出する角度である2θ角度を互いに関連させて走査移動させ、その走査移動の際に2次元的なX線強度データ分布を測定するものである。この手法によって得られたX線強度データの分布図形を表示することにより、試料方位に対する格子面間隔の変化を解析できる。また、得られたデータを逆格子空間座標へ変化し、ピークサーチを行い、異なる方向への射影成分を算出することにより、それぞれの方向での格子定数の成分を比較することができる。   Widely known as this type of measurement include reciprocal lattice map measurement and pole measurement. In the reciprocal lattice map measurement, the ω angle, which is the rotation angle of the sample, and the 2θ angle, which is the angle for detecting the X-rays emitted from the sample, are scanned and associated with each other, and two-dimensional X-rays are measured during the scanning movement. It measures intensity data distribution. By displaying the distribution pattern of the X-ray intensity data obtained by this method, it is possible to analyze the change in the lattice spacing with respect to the sample orientation. In addition, by converting the obtained data into reciprocal space coordinates, performing a peak search, and calculating projection components in different directions, the components of the lattice constants in the respective directions can be compared.

また、極点測定とは、一般的には、検出器位置である2θを固定し、試料のみを面内回転(φ軸)及びあおり回転(χ軸)させて2次元的なX線強度データの分布を測定するものである。この手法によって得られたX線強度データの分布図形を表示することにより、所定の結晶格子面の分布形態が解析できる。   In addition, in the pole measurement, in general, 2θ which is a detector position is fixed, and only the sample is rotated in-plane (φ axis) and tilted (χ axis) to obtain two-dimensional X-ray intensity data. The distribution is measured. By displaying the distribution pattern of X-ray intensity data obtained by this method, the distribution form of a predetermined crystal lattice plane can be analyzed.

また、極点測定の中には、特殊なゴニオメータを用いて測定を行う場合もある。この場合には、試料回転はω軸及び面内回転のφ軸の2軸操作によって行う。また、検出器位置は2θとχの2軸操作によって行う。制御自体は上記の一般的な手法によって行って信号を出力し、その出力データを2次元的なX線強度の分布図形として表示する。   In some extreme point measurements, a special goniometer is used. In this case, the sample is rotated by a biaxial operation of the ω axis and the in-plane rotation φ axis. Further, the detector position is determined by 2-axis operation of 2θ and χ. The control itself is performed by the above general method to output a signal, and the output data is displayed as a two-dimensional X-ray intensity distribution graphic.

次に、本発明に係るX線分析装置は、(A)試料にX線を照射すると共に該試料から出たX線をX線検出手段によって検出するX線測定装置と、前記X線測定装置によって異なる測定条件の下で得られた複数の測定データを記憶するデータ記憶手段と、画像を表示する表示手段と、異なる測定条件の下で得られた複数の測定データに基づいて新たな情報を生成するデータ解析手段と、前記表示手段に立体画像を表示するための3次元画像データを生成する画像データ生成手段とを有し、前記データ解析手段の解析結果を前記画像データ生成手段によって前記立体画像上に表示し、前記画像データ生成手段は、前記異なる測定条件の下で得られた複数の測定データ及び前記データ解析手段によって生成された新たな情報の個々に対応した、共通の立体画像座標上における3次元画像データを生成し、
(B)前記複数の測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、若しくは、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、のいずれかのデータであるか、
(C)前記複数の測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、若しくは
(5)前記あおり軸周りの角度χ又は前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
のいずれかのデータであるか、又は
(D)前記複数の測定データは、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記あおり軸周りの角度χの範囲が異なるか、
(2)前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
(3)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φの両方が異なるか、
(4)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、若しくは、
(5)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
のいずれかのデータである
ことを特徴とする。

Next, an X-ray analyzer according to the present invention includes: (A) an X-ray measuring apparatus that irradiates a sample with X-rays and detects X-rays emitted from the sample by X-ray detection means; and the X-ray measuring apparatus Data storage means for storing a plurality of measurement data obtained under different measurement conditions, display means for displaying an image, and new information based on the plurality of measurement data obtained under different measurement conditions. Data analysis means for generating, and image data generation means for generating three-dimensional image data for displaying a stereoscopic image on the display means, and an analysis result of the data analysis means is displayed by the image data generation means on the stereoscopic data. Displayed on the image, the image data generation means is a common corresponding to each of the plurality of measurement data obtained under the different measurement conditions and the new information generated by the data analysis means It generates a 3-dimensional image data on the three-dimensional image coordinates,
(B) The plurality of measurement data includes a combination of an incident angle ω of X-rays to the sample, a detection angle 2θ of X-rays emitted from the sample, and an intensity I of X-rays emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different, or
(4) Whether the step interval at the time of scanning and moving the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ is different data,
(C) The plurality of measurement data includes an X-ray incident angle ω to the sample, an X-ray detection angle 2θ from the sample, and one of two azimuth angles that determine the sample orientation. A combination of the angle χ, the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the sample orientation, and the intensity I of the X-ray emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Whether both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different,
(4) Step intervals when scanning and moving the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different, or
(5) Whether the angle χ around the tilt axis or the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
Or any of the data
(D) The plurality of measurement data includes an X-ray detection angle 2θ emitted from the sample, an angle χ around the tilt axis of the sample, which is one of two azimuth angles that determine the sample orientation, and two samples that determine the sample orientation It consists of a combination of the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is another azimuth angle, and the intensity I of the X-ray emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the angle χ around the tilt axis is different,
(2) Whether the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
(3) Both the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis are different,
(4) The step interval when scanning and moving the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis is different, or
(5) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
The data is any one of the following.

本発明に係るX線分析装置によれば、2つ以上の測定データが1つの共通の立体座標上のデータとして生成されるので、それらの測定データ間で共通のデータ処理、例えば平滑化処理、バックグラウンド除去処理等を行うことができる。それ故、それらの測定データを比較して行う分析の信頼性が向上する。   According to the X-ray analysis apparatus according to the present invention, two or more measurement data are generated as data on one common three-dimensional coordinate, and therefore, common data processing between the measurement data, for example, smoothing processing, Background removal processing or the like can be performed. Therefore, the reliability of analysis performed by comparing these measurement data is improved.

また、2つ以上の測定データが1つの共通の立体座標上のデータとして生成されるので、それらの測定データ間で共通のデータ解析、例えばピークサーチを行うことができる。それ故、解析された2つ以上の測定データの比較の信頼性が向上する。   Further, since two or more measurement data are generated as data on one common solid coordinate, common data analysis, for example, peak search, can be performed between these measurement data. Therefore, the reliability of comparison between two or more analyzed measurement data is improved.

さらに、3次元画像においては、複数のプロファイルを視点を種々の位置に変えて3次元的に表示できるので、各プロファイル間でのピークの比較を正確に行うことができる。しかも、表示されるプロファイルについてはピークサーチ等といった解析処理が行われているので、データの信頼性も非常に高い。   Furthermore, in a three-dimensional image, a plurality of profiles can be displayed three-dimensionally by changing the viewpoint to various positions, so that peaks can be accurately compared between the profiles. In addition, since the displayed profile is subjected to analysis processing such as peak search, the reliability of the data is very high.

次に、本発明に係るX線分析装置において、前記データ解析手段は、ピークサーチ処理及び/又は座標変換処理を行うことが望ましい。ピークサーチ処理及び座標変換処理を行った後の測定データを立体画像として表示すれば、信頼性の高いデータを見易い形で表示できる。   Next, in the X-ray analysis apparatus according to the present invention, it is preferable that the data analysis unit performs a peak search process and / or a coordinate conversion process. If the measurement data after the peak search process and the coordinate conversion process are displayed as a stereoscopic image, highly reliable data can be displayed in an easy-to-view form.

なお、ピークサーチ処理の演算結果は画像表示装置、プリンタ等といった表示手段によって表示することが望ましい。また、その場合には、ピークサーチ処理によって求められたピーク位置を測定結果である3次元画像又は2次元画像と共に表示することが望ましい。こうすれば、3次元画像又は2次元画像におけるピーク波形のピーク位置を簡単且つ確実に認識でき、さらには、2つ以上の測定データにおけるピーク位置の比較を明確に識別できる。さらには、3次元画像における視点の位置を変化させることにより、2つ以上の測定データに関する3次元画像の見る角度を種々に変化させることにより、ピーク位置の比較をより一層正確に行うことができる。   It should be noted that the calculation result of the peak search process is desirably displayed by display means such as an image display device or a printer. In that case, it is desirable to display the peak position obtained by the peak search process together with the three-dimensional image or the two-dimensional image as the measurement result. In this way, the peak position of the peak waveform in the three-dimensional image or the two-dimensional image can be easily and reliably recognized, and furthermore, comparison of peak positions in two or more measurement data can be clearly identified. Furthermore, the peak position can be more accurately compared by changing the viewing angle of the three-dimensional image with respect to two or more measurement data by changing the position of the viewpoint in the three-dimensional image. .

本発明に係るX線分析方法及びX線分析装置によれば、2つ以上の測定データが1つの共通の立体座標上のデータとして生成されるので、それらの測定データ間で共通のデータ処理、例えば平滑化処理、バックグラウンド除去処理等を行うことができる。それ故、それらの測定データを比較して行う分析の信頼性が向上する。   According to the X-ray analysis method and the X-ray analysis apparatus according to the present invention, since two or more measurement data are generated as data on one common solid coordinate, common data processing between the measurement data, For example, smoothing processing, background removal processing, and the like can be performed. Therefore, the reliability of analysis performed by comparing these measurement data is improved.

また、2つ以上の測定データが1つの共通の立体座標上のデータとして生成されるので、それらの測定データ間で共通のデータ解析、例えばピークサーチ処理、座標変換処理、を行うことができる。それ故、解析された2つ以上の測定データの比較の信頼性が向上する。   In addition, since two or more measurement data are generated as data on one common three-dimensional coordinate, common data analysis, for example, peak search processing and coordinate conversion processing can be performed between the measurement data. Therefore, the reliability of comparison between two or more analyzed measurement data is improved.

さらに、ピークサーチ処理等といったデータ解析処理が成された後のデータに基づいて3次元画像データが生成されて3次元画像が表示されるので、オペレータが測定結果を判断する上で非常に判断し易い表示を行うことができる。例えば、3次元画像においては、複数のプロファイルを視点を種々の位置に変えて3次元的に表示できるので、各プロファイル間でのピークの比較を正確に行うことができる。しかも、表示されるプロファイルについてはピークサーチ等といった解析処理が行われているので、データの信頼性も非常に高い。   Furthermore, since the 3D image data is generated based on the data after the data analysis process such as the peak search process is performed and the 3D image is displayed, it is very difficult for the operator to judge the measurement result. Easy display can be performed. For example, in a three-dimensional image, a plurality of profiles can be displayed in a three-dimensional manner by changing the viewpoint to various positions, so that a peak comparison between the profiles can be accurately performed. In addition, since the displayed profile is subjected to analysis processing such as peak search, the reliability of the data is very high.

以下、本発明を実施形態に基づいて説明するが、まず、その実施形態の前提となる基本概念について簡単に説明する。
結晶とは、原子から成る固体であって、その原子が3次元空間で周期的に同じ様式を繰り返すような配列をとっている固体である。また、結晶格子とは、結晶を構成する複数の原子の配列によって形成される枠組みである。この結晶格子内の点が格子点である。全ての格子点は、互いに平行で等間隔な平面群の上に載せることができ、このような平面は格子面と呼ばれる。結晶内において複数の格子面は互いに平行に並び、結晶に入射するX線の波長と複数の格子面の間隔との間で、いわゆるブッラグの回折条件が満足されると、各格子面で散乱したX線が強め合って、特定の角度方向に強度の強いX線が出る。この強度の強いX線が回折X線である。以上のように、回折現象を考える上で結晶格子の概念は重要である。
Hereinafter, the present invention will be described based on an embodiment. First, a basic concept as a premise of the embodiment will be briefly described.
A crystal is a solid composed of atoms, in which the atoms are arranged in a three-dimensional space so that they repeat the same manner periodically. The crystal lattice is a framework formed by an arrangement of a plurality of atoms constituting the crystal. The points in the crystal lattice are lattice points. All grid points can be placed on a group of planes that are parallel to each other and equally spaced, and such planes are called grid planes. A plurality of lattice planes are arranged in parallel with each other in the crystal, and when the so-called Bragg diffraction condition is satisfied between the wavelength of the X-ray incident on the crystal and the interval between the plurality of lattice planes, the lattice planes are scattered. X-rays strengthen each other, and strong X-rays are emitted in a specific angular direction. This intense X-ray is diffracted X-ray. As described above, the concept of crystal lattice is important in considering the diffraction phenomenon.

ところで、X線の回折現象を考える上で、上記のような結晶格子に基づく場合とは別に、いわゆる逆格子の概念に基づく場合がある。この逆格子は、結晶格子を決定する3つの基本ベクトルに対して一定の関係を持つ逆格子基本ベクトルによって特定される格子である。この逆格子によって特定される空間は、一般に、逆格子空間と呼ばれている。この逆格子空間の考えに基づいて行われる測定として、逆格子マップ測定及び極点測定がある。   By the way, when considering the X-ray diffraction phenomenon, there are cases where it is based on the concept of a so-called reciprocal lattice, in addition to the above-described crystal lattice. This reciprocal lattice is a lattice specified by a reciprocal lattice basic vector having a fixed relationship with respect to the three basic vectors that determine the crystal lattice. A space specified by this reciprocal lattice is generally called a reciprocal lattice space. Measurements performed based on the idea of the reciprocal lattice space include reciprocal lattice map measurement and pole measurement.

今、図10(a)及び図10(b)に示すように、試料内部に仮想の逆格子空間Reを考えるとする。ここで、符号「Y」は試料表面法線を示している。上記の逆格子マップ測定は、図10(a)に示す断面SeにおけるX線強度情報を測定するものであると考えられる。ここで、断面Seは、逆格子空間ReのY軸線周りの角度、すなわち試料に関する面内回転角度が一定であって、X線入射角度ω及びX線検出角度2θをスキャン、すなわち走査移動させたときに得られる断面である。一方、上記の極点測定は、図10(b)に示す曲面Su上におけるX線強度情報を測定するものであると考えられる。ここで、曲面Suは、逆格子空間ReのX線入射角度ω及びX線検出角度2θが一定であって、試料をY軸線周りに面内回転させたときに得られる曲面である。   Assume that a virtual reciprocal lattice space Re is considered inside the sample as shown in FIGS. Here, the symbol “Y” indicates the sample surface normal. The above reciprocal lattice map measurement is considered to measure the X-ray intensity information in the cross section Se shown in FIG. Here, in the cross section Se, the angle around the Y axis of the reciprocal lattice space Re, that is, the in-plane rotation angle related to the sample is constant, and the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are scanned, that is, scanned. It is a cross-section sometimes obtained. On the other hand, the above pole measurement is considered to measure X-ray intensity information on the curved surface Su shown in FIG. Here, the curved surface Su is a curved surface obtained when the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ of the reciprocal lattice space Re are constant and the sample is rotated in-plane around the Y axis.

(第1実施形態)
以下、本発明に係るX線分析方法及びX線分析装置を、逆格子マップ測定に適用する場合を例に挙げて説明する。より具体的には、Si(シリコン)基板上にエピ成長したGaAs(ガリウムヒ素)薄膜のエピタキシーを逆格子マップ測定を用いて評価する場合を例示する。さらに具体的には、X線を試料に低角度で入射させたときに十分な強度が得られる反射を探し、224反射の逆格子マップ測定を行う場合を例示する。ここで、X線を低角度で試料へ入射させるころにより、薄膜から信号を有効に取り出すことができる。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
(First embodiment)
Hereinafter, the case where the X-ray analysis method and the X-ray analysis apparatus according to the present invention are applied to reciprocal lattice map measurement will be described as an example. More specifically, a case where the epitaxy of a GaAs (gallium arsenide) thin film epitaxially grown on a Si (silicon) substrate is evaluated using a reciprocal lattice map measurement is illustrated. More specifically, a case where a reflection having a sufficient intensity when X-rays are incident on a sample at a low angle is searched for and a reciprocal lattice map measurement of 224 reflection is performed is illustrated. Here, the signal can be effectively extracted from the thin film by the roller that makes X-rays enter the sample at a low angle. Of course, the present invention is not limited to the embodiment.

図1は、逆格子マップ測定を行うための本発明に係るX線分析装置の主要部分を構成するX線測定装置1を示している。本実施形態では、このX線測定装置1は平行ビーム光学系を用いて構成されている。また、図2は、本発明に係るX線分析装置の全体的な構成をブロック図によって示している。   FIG. 1 shows an X-ray measuring apparatus 1 constituting a main part of an X-ray analyzer according to the present invention for performing a reciprocal lattice map measurement. In the present embodiment, the X-ray measurement apparatus 1 is configured using a parallel beam optical system. FIG. 2 is a block diagram showing the overall configuration of the X-ray analyzer according to the present invention.

図1において、X線測定装置1は、試料SのX線入射側に、X線発生装置4と、多層膜ミラー6と、平行ビーム形成装置7とを有する。また、試料SのX線出射側に、ビーム調整装置8と、X線カウンタ9とを有する。X線発生装置4は、陰極すなわちフィラメント2及びそれに対向する回転対陰極すなわち回転ターゲット3を有する。回転ターゲット3は中心軸線X0を中心とする円筒形状に形成され、その軸線X0を中心として矢印Aのように回転すると共にその内部に冷却水が流される。この回転及び通水によりターゲット3の外周面すなわち電子衝突面すなわちX線出射面が冷却される。   In FIG. 1, the X-ray measurement apparatus 1 includes an X-ray generation apparatus 4, a multilayer mirror 6, and a parallel beam forming apparatus 7 on the X-ray incident side of the sample S. Further, a beam adjusting device 8 and an X-ray counter 9 are provided on the X-ray emission side of the sample S. The X-ray generator 4 has a cathode or filament 2 and a rotating counter-cathode or rotating target 3 facing it. The rotation target 3 is formed in a cylindrical shape centered on the central axis X0, rotates around the axis X0 as indicated by an arrow A, and the cooling water flows into the inside thereof. This rotation and water flow cools the outer peripheral surface of the target 3, that is, the electron collision surface, that is, the X-ray emission surface.

回転ターゲット3に対向するフィラメント2は通電により発熱して熱電子を放出する。フィラメント2とターゲット3との間には高電圧、いわゆる管電圧が印加され、フィラメント2から放出された熱電子はこの管電圧によって加速されてターゲット3の周面に衝突する。こうして電子が衝突する領域がX線焦点である。このX線焦点に衝突した電子が持つエネルギの一部がX線に変換され、そのX線がX線焦点から外部へ出射する。つまり、このX線焦点がX線源として機能する。こうして発生したX線はターゲット3の材質、例えばCu(銅)に対応した波長を有する。   The filament 2 facing the rotating target 3 generates heat when energized and emits thermoelectrons. A high voltage, so-called tube voltage, is applied between the filament 2 and the target 3, and the thermoelectrons emitted from the filament 2 are accelerated by the tube voltage and collide with the peripheral surface of the target 3. The region where the electrons collide is the X-ray focal point. Part of the energy of the electrons colliding with the X-ray focal point is converted into X-rays, and the X-rays are emitted from the X-ray focal point to the outside. That is, this X-ray focal point functions as an X-ray source. The X-rays generated in this way have a wavelength corresponding to the material of the target 3, for example, Cu (copper).

X線焦点が形成される部分のターゲット表面は電子の衝突によって高温に加熱されるが、このターゲットは矢印A方向への回転及びその内部への通水によって冷却されるので、ターゲットとしての性質が維持される。ターゲット3を冷却しながらX線を発生させることにより、高い電圧の管電圧を印加することが可能になり、それ故、X線発生装置4から強度の高いX線を発生することができる。   The surface of the target where the X-ray focal point is formed is heated to a high temperature by the collision of electrons, but this target is cooled by rotating in the direction of arrow A and passing water therethrough. Maintained. By generating X-rays while cooling the target 3, it is possible to apply a high tube voltage, and therefore X-rays with high intensity can be generated from the X-ray generator 4.

X線発生装置4で発生して発散するX線は多層膜ミラー6に当たる。この多層膜ミラー6は、基板上に複数の薄膜を積層することによって形成され、最上層の薄膜の表面及び各薄膜間の界面で反射したX線が狭い領域に集束する。これにより、強度の高いX線を形成できる。   X-rays generated and emitted from the X-ray generator 4 hit the multilayer mirror 6. The multilayer mirror 6 is formed by laminating a plurality of thin films on a substrate, and the X-rays reflected at the surface of the uppermost thin film and the interface between the thin films are focused on a narrow region. As a result, high-intensity X-rays can be formed.

多層膜ミラー6の下流側に配置された平行ビーム形成装置7は、互いに間隔をおいて並べられた2枚のスリット11a及び11bによって形成されている。これらのスリット11a及び11bにより、断面径の小さい平行なX線ビームが形成され、この平行ビームが試料Sに角度ωの入射角度で入射する。この入射角度ωは、通常、10°以下の低角度である。試料Sは、Si基板S0上にGaAs薄膜S1が形成されたものである。本実施形態のX線分析方法を用いれば、例えば、基板S0上に形成した薄膜S1が当初の材質からどのように変化しているかを観察したり、薄膜S1の方位が揃っているか揃っていないかを観察したりすることができる。   The parallel beam forming device 7 arranged on the downstream side of the multilayer mirror 6 is formed by two slits 11a and 11b arranged at intervals. These slits 11a and 11b form a parallel X-ray beam having a small cross-sectional diameter, and this parallel beam enters the sample S at an incident angle of ω. This incident angle ω is usually a low angle of 10 ° or less. The sample S is obtained by forming a GaAs thin film S1 on a Si substrate S0. If the X-ray analysis method of this embodiment is used, for example, it will be observed how the thin film S1 formed on the substrate S0 has changed from the original material, or the orientation of the thin film S1 is aligned. Can be observed.

試料Sに入射したX線は、薄膜試料S1の格子面及び基板S0の格子面により回折現象を起こす。結晶質の物質であれば、X線の入射角度、試料面内方位、検出器位置の全てによって決定される幾何学条件が回折条件を満たす場合にのみ、検出器から回折信号が出力される。試料Sの下流側に配設されたビーム調整装置8は、2つの受光スリット12a及び12bを有する。これらのスリット12a,12bの働きにより、試料Sから出たX線がX線カウンタ9に正確に取り込まれる。また、下流側のスリット12bは散乱線がX線カウンタ9に入ることを防止する。X線カウンタ9は、X線を点状に検出することができる検出器、いわゆる0次元X線検出器によって構成される。このようなX線検出器としては、例えば、シンチレーションカウンタを用いることができる。X線カウンタ9は、X線を受け入れたときに、受け入れたX線の量に対応する信号Sを出力し、その出力信号Sは図2において制御装置14に送られる。 X-rays incident on the sample S cause a diffraction phenomenon by the lattice plane of the thin film sample S1 and the lattice plane of the substrate S0. In the case of a crystalline substance, a diffraction signal is output from the detector only when the geometric conditions determined by all of the X-ray incident angle, sample in-plane orientation, and detector position satisfy the diffraction condition. The beam adjusting device 8 disposed on the downstream side of the sample S has two light receiving slits 12a and 12b. The X-rays emitted from the sample S are accurately taken into the X-ray counter 9 by the action of these slits 12a and 12b. In addition, the downstream slit 12 b prevents scattered rays from entering the X-ray counter 9. The X-ray counter 9 is configured by a detector that can detect X-rays in the form of dots, a so-called zero-dimensional X-ray detector. As such an X-ray detector, for example, a scintillation counter can be used. X-ray counter 9, when receiving the X-ray, and outputs a signal S I that corresponds to the amount of accepted X-ray, the output signal S I is fed to the controller 14 in FIG. 2.

図1において、試料Sは図示しない試料台によって支持される。この試料台にはω回転装置13が接続される。ω回転装置13が作動すると試料台が回転し、それに支持された試料Sがω軸線を中心として矢印Bのように回転する。ω軸線は、試料Sの表面に沿って図1の紙面垂直方向に延びる軸線である。この試料Sの回転により、試料Sに対するX線の入射角度ωが変化する。ω回転装置13は、例えば、回転角度を制御できる構造のモータを駆動源として含んで構成される。モータとしてパルスモータを用いれば、そのパルスモータに供給するパルス信号に基づいてX線入射角度ωを検知できる。また、モータとしてサーボモータを用い、このモータの出力軸にエンコーダを付設し、このエンコーダの出力パルス信号に基づいてX線入射角度ωを検知することもできる。ω回転装置13は検知した入射角度ωに対応する信号Sωを出力する。この入射角度信号Sωは、図2において、制御装置14に送られる。   In FIG. 1, a sample S is supported by a sample table (not shown). A ω rotation device 13 is connected to the sample stage. When the ω rotating device 13 is operated, the sample stage rotates, and the sample S supported thereby rotates as indicated by an arrow B around the ω axis. The ω-axis is an axis that extends in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. By the rotation of the sample S, the incident angle ω of the X-ray with respect to the sample S changes. The ω rotation device 13 includes, for example, a motor having a structure capable of controlling the rotation angle as a drive source. If a pulse motor is used as the motor, the X-ray incident angle ω can be detected based on a pulse signal supplied to the pulse motor. Further, a servo motor can be used as the motor, and an encoder can be attached to the output shaft of the motor, and the X-ray incident angle ω can be detected based on the output pulse signal of the encoder. The ω rotation device 13 outputs a signal Sω corresponding to the detected incident angle ω. The incident angle signal Sω is sent to the control device 14 in FIG.

図1において、X線カウンタ9は図示しない支持台によって支持される。この支持台には2θ回転装置16が接続される。2θ回転装置16が作動すると支持台がω軸線を中心として矢印Cのように回転する。この回転により、X線光軸に対するX線カウンタ9の角度2θが変化する。2θ回転装置16は、例えば、回転角度を制御できる構造のモータを駆動源として含んで構成される。モータとしてパルスモータを用いれば、そのパルスモータに供給するパルス信号に基づいて検出角度2θを検知できる。また、モータとしてサーボモータを用い、このモータの出力軸にエンコーダを付設し、このエンコーダの出力パルス信号に基づいて検出角度2θを検知することもできる。2θ回転装置16は検知した検出角度2θに対応する信号S2θを出力する。この検出角度信号S2θは、図2において、制御装置14に送られる。 In FIG. 1, the X-ray counter 9 is supported by a support base (not shown). A 2θ rotation device 16 is connected to the support base. When the 2θ rotation device 16 operates, the support base rotates as indicated by an arrow C around the ω axis. This rotation changes the angle 2θ of the X-ray counter 9 with respect to the X-ray optical axis. The 2θ rotation device 16 includes, for example, a motor having a structure capable of controlling the rotation angle as a drive source. If a pulse motor is used as the motor, the detection angle 2θ can be detected based on a pulse signal supplied to the pulse motor. It is also possible to use a servo motor as the motor, attach an encoder to the output shaft of the motor, and detect the detection angle 2θ based on the output pulse signal of the encoder. The 2θ rotation device 16 outputs a signal S corresponding to the detected detection angle 2θ. This detection angle signal S is sent to the control device 14 in FIG.

図2において、制御装置14はコンピュータを用いて構成されている。具体的には、CPU(Central Processing Unit)17と、RAM(Random Access Memory)18と、ROM(Read Only Memory)19と、外部記憶装置としてのハードディスク21と、それらの機器を結ぶバス22とを有する。バス22には、データ処理部23、データ解析部24、及び画像データ生成部26が接続される。また、画像データ生成部26には、ビデオメモリ27、D/Aコンバータ28、そして表示手段としての画像表示装置29が順次に接続される。この画像表示装置は、例えば、CRTディスプレイ、液晶ディスプレイ等といったフラットパネルディスプレイによって構成される。また、バス22には、表示手段としてのプリンタ31及び入力装置としてのキーボード32が接続される。   In FIG. 2, the control device 14 is configured using a computer. Specifically, a CPU (Central Processing Unit) 17, a RAM (Random Access Memory) 18, a ROM (Read Only Memory) 19, a hard disk 21 as an external storage device, and a bus 22 connecting these devices are provided. Have. A data processing unit 23, a data analysis unit 24, and an image data generation unit 26 are connected to the bus 22. In addition, a video memory 27, a D / A converter 28, and an image display device 29 as a display unit are sequentially connected to the image data generation unit 26. This image display device is configured by a flat panel display such as a CRT display, a liquid crystal display, or the like. In addition, a printer 31 as a display unit and a keyboard 32 as an input device are connected to the bus 22.

ハードディスク21の内部には、X線分析を行うためのプログラムソフトが格納され、さらに、図1のX線測定装置1によって求められた複数種類の測定データを記憶するための複数のデータファイルが設けられる。図2では、2種類のデータを記憶するための2つのファイル、すなわち第1ファイル33aと第2ファイル33bとが示されている。   The hard disk 21 stores program software for performing X-ray analysis, and further includes a plurality of data files for storing a plurality of types of measurement data obtained by the X-ray measurement apparatus 1 of FIG. It is done. In FIG. 2, two files for storing two types of data, that is, a first file 33a and a second file 33b are shown.

データ処理部23は、X線測定装置1によって求められたデータ、すなわち試料Sへ入射するX線の入射角ω、試料Sから出射するX線の出射角度2θ、及び個々の出射角度2θにおいて試料Sから出射するX線の強度Iの各データに対して、解析をし易くするための処理、例えば、平滑化処理、バックグラウンド除去処理等を行う。このデータ処理部23は、単独の回路として構成することもできるし、あるいは、ハードディスク21内のプログラムの中にソフト的に組み込むこともできる。   The data processing unit 23 uses the data obtained by the X-ray measuring apparatus 1, that is, the X-ray incidence angle ω incident on the sample S, the X-ray emission angle 2θ emitted from the sample S, and the individual emission angles 2θ. For each data of the intensity I of the X-rays emitted from S, processing for facilitating analysis, for example, smoothing processing, background removal processing, and the like are performed. The data processing unit 23 can be configured as a single circuit, or can be incorporated into a program in the hard disk 21 as software.

データ解析部24は、X線測定装置1によって求められた上記のデータを直接に又はデータ処理部23を介して取り込んで、希望の解析を行う。ここで言う解析とは、測定されたデータに基づいて新たな情報を作成する処理のことを言う。このような解析処理としては、例えば、求められた測定データをグラフとして表示したときに得られるピーク波形のピーク値を求める処理、いわゆるピークサーチが考えられる。また、測定されたデータに対して座標変換を行う処理が考えられる。このデータ解析部24は、単独の回路として構成することもできるし、あるいは、ハードディスク21内のプログラムの中にソフト的に組み込むこともできる。   The data analysis unit 24 takes in the data obtained by the X-ray measurement apparatus 1 directly or via the data processing unit 23 and performs a desired analysis. The analysis mentioned here refers to a process for creating new information based on measured data. As such an analysis process, for example, a process for obtaining a peak value of a peak waveform obtained when the obtained measurement data is displayed as a graph, a so-called peak search can be considered. Further, a process for performing coordinate transformation on the measured data can be considered. The data analysis unit 24 can be configured as a single circuit, or can be incorporated into a program in the hard disk 21 as software.

画像データ生成部26は、周知のように、3次元処理部及び2次元処理部を有し、X線測定装置1によって求められたX線入射角度ω、X線出射角度2θ、及びX線強度Iの各データを表示装置29の画面上に3次元的、2次元的、及び1次元的に表示するためのデータ処理を行う。この画像データ生成部26も、単独の回路として構成することもできるし、あるいは、ハードディスク21内のプログラムの中にソフト的に組み込むこともできる。   As is well known, the image data generation unit 26 includes a three-dimensional processing unit and a two-dimensional processing unit, and the X-ray incident angle ω, the X-ray emission angle 2θ, and the X-ray intensity obtained by the X-ray measurement apparatus 1. Data processing for displaying each I data in a three-dimensional, two-dimensional and one-dimensional manner on the screen of the display device 29 is performed. The image data generation unit 26 can also be configured as a single circuit, or can be incorporated into a program in the hard disk 21 by software.

ビデオメモリ27は、例えば、R,G,Bのそれぞれに関する1フレーム分の複数の画素の色データを格納するためのメモリである。また、D/Aコンバータ28は、ビデオメモリ27に格納された各画素に対応するデジタル色信号を表示装置29の駆動に適したアナログ信号に変換する。   The video memory 27 is a memory for storing color data of a plurality of pixels for one frame for each of R, G, and B, for example. The D / A converter 28 converts the digital color signal corresponding to each pixel stored in the video memory 27 into an analog signal suitable for driving the display device 29.

画像データ生成部26は、入力されたω、2θ、Iの各データに基づいて、例えば、次のような処理を行う。
(a)3次元座標空間内における3次元モデル(すなわち3次元物体、すなわち3次元オブジェクト)の形状をポリゴンを単位とするポリゴンメッシュによって演算によって定義する。具体的には、3次元モデルの頂点の座標、境界線、及び面を表現する方程式のパラメータ等を定義する。
The image data generation unit 26 performs, for example, the following processing based on the input ω, 2θ, and I data.
(A) The shape of a three-dimensional model (that is, a three-dimensional object, that is, a three-dimensional object) in a three-dimensional coordinate space is defined by calculation using a polygon mesh having a polygon as a unit. Specifically, the coordinates of the vertices of the three-dimensional model, the boundary line, the parameters of the equation expressing the surface, and the like are defined.

(b)以上で求められた3次元モデルデータは仮想的に設定された原点を基準とする絶対座標であるが、これを、与えられたある視点位置を基準としたスクリーン空間上の座標値に置き換える。スクリーン空間というのは2次元空間のことであり、このステップにおいて、3次元画像データが2次元画像データに変換される。   (B) The three-dimensional model data obtained above is an absolute coordinate based on a virtually set origin, and this is converted into a coordinate value on the screen space based on a given viewpoint position. replace. The screen space is a two-dimensional space, and in this step, three-dimensional image data is converted into two-dimensional image data.

(c)以上で求められた2次元化されたポリゴンにより、R,G,Bのビデオ信号を生成する。このとき、見えない部分を表示しない処理(すなわち、陰面処理)等が行われる。   (C) R, G, B video signals are generated from the two-dimensional polygons obtained above. At this time, processing that does not display an invisible portion (that is, hidden surface processing) or the like is performed.

以下、上記構成より成るX線分析装置の動作について説明する。
図1のX線測定装置1は、基板S0に着目した測定と、薄膜S1に着目した測定との2種類の測定を、レゾリューションすなわち分解能を変えて測定する。具体的には、基板S0に関する測定では分解能の高い細かいステップ、例えば角度1/100度で検出角度2θを変化させ、それに対応してX線入射角度ωを変化させながら測定を行う。一方、薄膜S1に関する測定では分解能の低い粗いステップ、例えば角度1度で検出角度2θを変化させ、それに対応してX線入射角度ωを変化させながら測定を行う。
The operation of the X-ray analyzer having the above configuration will be described below.
The X-ray measurement apparatus 1 in FIG. 1 measures two types of measurement, ie, measurement focusing on the substrate S0 and measurement focusing on the thin film S1, with different resolution, that is, resolution. Specifically, in the measurement relating to the substrate S0, the measurement is performed while changing the detection angle 2θ at fine steps with high resolution, for example, an angle of 1/100 degrees, and changing the X-ray incident angle ω accordingly. On the other hand, in the measurement relating to the thin film S1, the measurement is performed while changing the detection angle 2θ at a rough step with a low resolution, for example, an angle of 1 degree, and changing the X-ray incident angle ω accordingly.

また、X線入射角度ω及びX線検出角度2θの全領域に関してスキャンを行うのでなく、基板S0に対してはピーク波形が出ると思われる第1の領域(ω,2θ〜ω,2θ)の範囲で測定を行う。そして、薄膜S1に対してはピーク波形が出ると思われる第2の領域(ω,2θ〜ω,2θ)の範囲で測定を行う。以上のように、基板S0に対する測定と薄膜S1に対する測定は、それぞれ、異なる測定条件の下に行われ、そして、図2において、それぞれ、異なるファイル33a,33bに別々に記憶される。ω及び2θのスキャンを全領域にわたってするのではなく、上記のように、必要と思われる領域を選択して行うようにすれば、非常に短時間で測定を完了できる。 Also, the entire region of the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ is not scanned, but the first region (ω 1 , 2θ 1 to ω 2 , Measurement is performed in the range of 2θ 2 ). The second region seems to come out peak waveform (ω 3, 2θ 3 ~ω 4 , 2θ 4) Measurement range of do is the thin film S1. As described above, the measurement for the substrate S0 and the measurement for the thin film S1 are performed under different measurement conditions, and are stored separately in different files 33a and 33b in FIG. If the scanning of ω and 2θ is not performed over the entire region but is performed by selecting the region considered necessary as described above, the measurement can be completed in a very short time.

なお、分解能の設定にあたって、ステップ角度によって分解能を調節することに代えて、光学系の組み替えによって分解能を測定対象の変化に対応させることもできる。具体的には、薄膜S1に対しては分解能の低い光学系、例えばスリットを含んだ光学系を用い、基板S0に対しては分解能の高い光学系、例えば結晶モノクロメータ等といった光学素子を含んだ光学系を用いる。   In setting the resolution, instead of adjusting the resolution according to the step angle, the resolution can be made to correspond to the change of the measurement object by changing the optical system. Specifically, the thin film S1 includes an optical system having a low resolution, such as an optical system including a slit, and the substrate S0 includes an optical system having a high resolution, such as a crystal monochromator. An optical system is used.

基板S0に関する分解能の高い測定が行われると、X線入射角度データω、X線出射角度データ2θ、及びX線カウンタ9によって検出されたX線強度データIが求められる。そして、これらのデータは第1の測定結果として図2のハードディスク21内の第1ファイル内に記憶される。また、薄膜S1に関する分解能の低い測定が行われると、得られたω、2θ、Iの各データがハードディスク21内の第2ファイル内に記憶される。こうして、異なる測定条件の下に得られた複数種類の測定データが異なるファイルに格納される。   When high resolution measurement is performed on the substrate S0, the X-ray incident angle data ω, the X-ray exit angle data 2θ, and the X-ray intensity data I detected by the X-ray counter 9 are obtained. These data are stored in the first file in the hard disk 21 of FIG. 2 as the first measurement result. Further, when measurement with a low resolution related to the thin film S <b> 1 is performed, the obtained data of ω, 2θ, and I are stored in the second file in the hard disk 21. Thus, a plurality of types of measurement data obtained under different measurement conditions are stored in different files.

CPU17は、異なる測定条件の下に得られた2種類のデータである第1ファイル内のω、2θ、Iの各データ及び第2ファイル内のω、2θ、Iの各データをプログラムに従って画像データ生成部26へ送る。画像データ生成部26は、ω、2θ、Iの各データを基にして3次元画像処理、2次元画像処理、及び1次元画像処理を行い、得られた画像情報をビデオメモリ27、D/Aコンバータ28を通して表示装置29の画面に表示する。   The CPU 17 uses the two types of data obtained under different measurement conditions, the ω, 2θ, and I data in the first file and the ω, 2θ, and I data in the second file as image data according to the program. The data is sent to the generation unit 26. The image data generation unit 26 performs three-dimensional image processing, two-dimensional image processing, and one-dimensional image processing based on each data of ω, 2θ, and I, and obtains the obtained image information in the video memory 27, D / A The image is displayed on the screen of the display device 29 through the converter 28.

図3は、そのようにして1つの画面34上に表示される表示内容の一例を示している。この画面表示において、符号Dは3次元画像であり、符号Eは2次元画像であり、符号Fは1次元画像である。3次元画像Dでは、ω軸、2θ軸、I軸の3軸が2次元平面内で立体的に表示され、その3軸座標上に、図2の第1ファイル33a内のω、2θ、Iデータがプロットされて第1プロファイルP1が立体的に表示され、さらに、第2ファイル33b内のω、2θ、Iデータがプロットされて第2プロファイルP2が立体的に表示される。   FIG. 3 shows an example of display contents displayed on one screen 34 in this way. In this screen display, symbol D is a three-dimensional image, symbol E is a two-dimensional image, and symbol F is a one-dimensional image. In the three-dimensional image D, the three axes of the ω axis, the 2θ axis, and the I axis are three-dimensionally displayed in the two-dimensional plane, and the ω, 2θ, I in the first file 33a in FIG. The data is plotted to display the first profile P1 in three dimensions, and the ω, 2θ, and I data in the second file 33b are plotted to display the second profile P2 in three dimensions.

各プロファイルは、その表面がX線強度Iの強さに対応した色で表示されるようになっており、本実施形態では、強度が強い方から弱い方へ変化するのに従って、表示色が「赤色」→「黄色」→「緑色」→「青色」のように連続して変化する。各色の中間部分は各色を混ぜ合わせた色で表示される。なお、第1プロファイルP1及び第2プロファイルP2は、図2の画像データ生成部26によってそれぞれが独自に3次元画像処理されたものであり、視点位置を変化させれば、それぞれが独自にその視点位置から見た状態の3次元像として表示される。従って、例えば、矢印H方向から第1プロファイルP1及び第2プロファイルP2を見た状態を3次元像として表示すれば、図4に示すように、第1プロファイルP1の裏側に第2プロファイルP2が隠れた状態が表示される。この場合、第1プロファイルP1と第2プロファイルP2とが重なる部分は、手前側に存在する第1プロファイルP1が優先して表示され、奥側に存在する第2プロファイルP2は消去される。   The surface of each profile is displayed in a color corresponding to the intensity of the X-ray intensity I. In this embodiment, the display color changes from “stronger” to “weaker”. It changes continuously as “red” → “yellow” → “green” → “blue”. The middle part of each color is displayed in a color that is a mixture of each color. Note that each of the first profile P1 and the second profile P2 is independently three-dimensionally image processed by the image data generation unit 26 of FIG. 2, and each viewpoint can be changed by changing the viewpoint position. It is displayed as a three-dimensional image as seen from the position. Therefore, for example, when the first profile P1 and the second profile P2 viewed from the direction of the arrow H are displayed as a three-dimensional image, the second profile P2 is hidden behind the first profile P1, as shown in FIG. The status is displayed. In this case, the portion where the first profile P1 and the second profile P2 overlap is preferentially displayed with the first profile P1 existing on the near side, and the second profile P2 existing on the far side is deleted.

このように、2つの異なる測定条件下で求められた2つの測定データを共通の3次元座標内で3次元表示、すなわち立体表示させれば、2つの測定データを個別に表示させて観察する場合に比べて、簡単且つ正確に測定データの比較を行うことができる。具体的には、色表示の違いからX線強度Iの違いを視覚的に判別できる。また、2θの違いから格子定数の違いを判別できる。また、ωの違いから結晶方位の違いを判別できる。   As described above, when two measurement data obtained under two different measurement conditions are displayed in three dimensions within a common three-dimensional coordinate, that is, a three-dimensional display, the two measurement data are individually displayed and observed. Compared to the measurement data, the measurement data can be compared easily and accurately. Specifically, the difference in X-ray intensity I can be visually discriminated from the difference in color display. Also, the difference in lattice constant can be determined from the difference in 2θ. Further, the difference in crystal orientation can be determined from the difference in ω.

次に、図3の画面34内の2次元画像Eでは、3次元画像Dにおける3次元座標から選択されたω−2θの2次元座標上に第1プロファイルP1及び第2プロファイルP2が表示される。この場合、各プロファイルは平面的なX線強度情報も含んでおり、X線強度の強さが強い方から弱い方へ変化するのに従って、表示色が「赤色」→「黄色」→「緑色」→「青色」のように連続して変化する。   Next, in the two-dimensional image E in the screen 34 of FIG. 3, the first profile P1 and the second profile P2 are displayed on the two-dimensional coordinates of ω-2θ selected from the three-dimensional coordinates in the three-dimensional image D. . In this case, each profile also includes planar X-ray intensity information, and the display color changes from “red” to “yellow” to “green” as the X-ray intensity changes from strong to weak. → It changes continuously like “blue”.

この時、各プロファイルの測定領域に重なりがある場合には、上位になるデータを半透明で表示させることが望ましい。こうすれば、上位になるデータを視覚的に観察できることはもとより、下位にあるデータも視覚的に同時に観察できることになる。   At this time, if there is an overlap in the measurement area of each profile, it is desirable to display the upper data in a translucent manner. In this way, not only can the upper data be visually observed, but the lower data can also be visually observed simultaneously.

次に、1次元画像Fでは、3次元画像DにおけるI−2θの2次元座標上に線Gによって第1プロファイルP1が表示されている。もちろん、第2プロファイルP2を表示させることもできるし、P1及びP2の両方を同時に表示させることもできる。   Next, in the one-dimensional image F, the first profile P1 is displayed by the line G on the two-dimensional coordinate of I-2θ in the three-dimensional image D. Of course, the second profile P2 can be displayed, and both P1 and P2 can be displayed simultaneously.

以上のように、本実施形態によれば、図2の第1ファイル33a内のデータと第2ファイル33b内のデータとをそれぞれ別々に画像データ生成部26によって3次元表示処理して、図3の画面34内の1つの共通の3次元座標上に立体表示するようにしたので、それぞれの測定データを簡単且つ正確に観察できる。また、2次元画像E内に表示される2次元表示及び1次元画像F内に表示される1次元表示を併せて観察することにより、より一層正確な観察を行うことができる。   As described above, according to the present embodiment, the data in the first file 33a and the data in the second file 33b in FIG. Since three-dimensional display is performed on one common three-dimensional coordinate in the screen 34, each measurement data can be observed easily and accurately. Further, by observing both the two-dimensional display displayed in the two-dimensional image E and the one-dimensional display displayed in the one-dimensional image F, a more accurate observation can be performed.

なお、上記説明では2次元画像E内に、ω−2θの2次元座標をとったが、これに代えて又はこれに加えてI−2θの2次元座標をとることもできる。また、上記説明では1次元画像F内に、I−2θの2次元座標をとったが、これに変えて又はこれに加えて、ω−2θの2次元座標や、ω−Iの2次元座標をとることもできる。   In the above description, the two-dimensional coordinate of ω-2θ is taken in the two-dimensional image E, but the two-dimensional coordinate of I-2θ can be taken instead of or in addition to this. In the above description, the two-dimensional coordinates of I-2θ are taken in the one-dimensional image F, but instead of or in addition to this, the two-dimensional coordinates of ω-2θ and the two-dimensional coordinates of ω-I. You can also take

以上の説明は、図2の第1ファイル33a及び第2ファイル33b内に記憶された2種類の測定データを加工することなく直接に表示して観察する場合の説明である。これ以外に、本実施形態では、図2のデータ処理部23及びデータ解析部24を用いて、さらに有用な表示を行うことができる。以下、これについて説明する。   The above description is for the case where the two types of measurement data stored in the first file 33a and the second file 33b in FIG. 2 are directly displayed and processed without being processed. In addition to this, in the present embodiment, a more useful display can be performed using the data processing unit 23 and the data analysis unit 24 of FIG. This will be described below.

図5(a)及び図5(b)は、データ処理を行う前の測定データに関する表示である。また、図5(a)及び図5(b)は、図3における2次元画像Eと同じ2次元表示であって、(a)はI−2θ座標上の表示を示し、(b)はω−2θ座標上の表示を示している。図示の通り、データ処理を行う前の測定データをそのまま表示すると、2次元表示、すなわち平面表示の表示面が非常に粗い状態で表示される。このままでは、表示も見難いし、ピークサーチも行い難い。   FIG. 5A and FIG. 5B are displays relating to measurement data before data processing. 5A and 5B are the same two-dimensional displays as the two-dimensional image E in FIG. 3, and FIG. 5A shows the display on the I-2θ coordinate, and FIG. The display on the −2θ coordinate is shown. As shown in the figure, when the measurement data before data processing is displayed as it is, the display surface of two-dimensional display, that is, flat display is displayed in a very rough state. In this situation, it is difficult to see the display and peak search is difficult.

図2のデータ処理部23は、第1ファイル33a及び第2ファイル33b内に記憶された測定データに対してデータ処理を行う。データ処理とは、求められた測定データから何等かの新しい情報を作り出すのではなく、単にその測定データに対して何等かの加工を加えるだけの処理である。このようなデータ処理として、例えば、平滑化処理を行うことができる。この平滑化処理とは、図5に示した粗い測定データの表面状態を滑らかにして見易くするための処理である。この処理を施した後に画像データ生成部26で3次元データ処理及び2次元データ処理を行えば、図6(a)及び図6(b)に示すように、表面が滑らかになったプロファイル表示が得られる。   The data processing unit 23 in FIG. 2 performs data processing on the measurement data stored in the first file 33a and the second file 33b. Data processing is processing that does not create any new information from the obtained measurement data, but simply adds some processing to the measurement data. As such data processing, for example, smoothing processing can be performed. This smoothing process is a process for smoothing the surface state of the rough measurement data shown in FIG. If three-dimensional data processing and two-dimensional data processing are performed by the image data generation unit 26 after performing this processing, a profile display with a smooth surface is obtained as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). can get.

なお、平滑化処理は、例えば、ガウス関数と測定強度データを畳み込み積分によって合成することによって行うことができる。すなわち、
測定強度データをI(ω、2θ)とし、ガウス関数を
G(ω,2θ)=exp(−(ω/W−(2θ/W)/πW
とすると、平滑化処理後のデータI’(ω,2θ)は、
I’(ω,2θ)=Σω’Σ2θ’G(ω―ω’,2θ―2θ’)I(ω’,2θ’)
によって得られる。ここで、W,Wは平滑化の程度を表わす量で、これらの値が大きいほど、より滑らかになる。オペレータは、これらの量を変更して望みの平滑化データを得る。
The smoothing process can be performed, for example, by combining a Gaussian function and measured intensity data by convolution integration. That is,
The measured intensity data is I (ω, 2θ), and the Gaussian function is G (ω, 2θ) = exp (− (ω / W 0 ) 2 − (2θ / W 1 ) 2 ) / πW 0 W 1
Then, the smoothed data I ′ (ω, 2θ) is
I ′ (ω, 2θ) = Σ ω ′ Σ 2θ ′ G (ω−ω ′, 2θ−2θ ′) I (ω ′, 2θ ′)
Obtained by. Here, W 0 and W 1 are quantities representing the degree of smoothing, and the larger these values, the smoother. The operator changes these quantities to obtain the desired smoothed data.

また、データ処理部23は、第1ファイル33a及び第2ファイル33b内に記憶された測定データ又は平滑化処理を受けた後のデータに対して、データ処理としてのバックグラウンド除去処理を行うことができる。このバックグラウンド除去処理とは、図5に示した粗い測定データ又は図6に示した平滑化処理後のデータに関して、一定のレベル以下の情報を除去することにより、必要なデータだけを見易く表示するための処理である。この処理を行えば、図7(a)及び図7(b)に示すように、X線強度Iが所定値以下の部分が消去され、第1プロファイルP1及び第2プロファイルP2が見易くなる。   In addition, the data processing unit 23 may perform background removal processing as data processing on the measurement data stored in the first file 33a and the second file 33b or the data after being subjected to the smoothing processing. it can. This background removal processing is to display only necessary data in an easy-to-read manner by removing information below a certain level with respect to the coarse measurement data shown in FIG. 5 or the data after smoothing processing shown in FIG. Process. If this processing is performed, as shown in FIGS. 7A and 7B, the portion where the X-ray intensity I is equal to or smaller than a predetermined value is erased, and the first profile P1 and the second profile P2 become easy to see.

なお、バックグラウンド処理は、例えば、ピーク以外の領域の強度を見積もってそれをデータから除去する処理である。具体的には、まず、バックグラウンド関数B(ω,2θ)を多項式関数として設定し、データとのフィッティングによってその多項式関数を決定する。そして、測定されたデータからこの関数値を差し引く。なお、フィッティングの際には、ピークに属するデータを認識し、それを使用しないことが望ましい。一般に、ピークはバックグラウンドから突出したデータであるので、バックグラウンド関数よりも著しく大きいものはピークであると認識できる。   The background process is a process of estimating the intensity of a region other than the peak and removing it from the data, for example. Specifically, first, the background function B (ω, 2θ) is set as a polynomial function, and the polynomial function is determined by fitting with data. Then, the function value is subtracted from the measured data. In the fitting, it is desirable to recognize the data belonging to the peak and not use it. In general, since the peak is data protruding from the background, it can be recognized that the peak is significantly larger than the background function.

次に、図2のデータ解析部24は、第1ファイル33a及び第2ファイル33b内に記憶された測定データに対して、又は、データ処理部23によって平滑化処理、バックグラウンド除去処理等といったデータ処理を受けた後のデータに対して解析処理としてのピークサーチ処理を行う。このピークサーチ処理とは、X線測定図形に現れるピーク波形の先端、すなわちピークの位置を演算によって求める処理である。この演算処理は、図5に示した測定データそのものに対して行うこともできるが、図7に示したようなデータ処理の終了後のデータに対して行う方が信頼性が向上する。   Next, the data analysis unit 24 of FIG. 2 performs data such as smoothing processing, background removal processing, etc. on the measurement data stored in the first file 33a and the second file 33b, or by the data processing unit 23. Peak search processing as analysis processing is performed on the data after processing. This peak search process is a process for calculating the tip of the peak waveform appearing in the X-ray measurement figure, that is, the peak position by calculation. This calculation process can be performed on the measurement data itself shown in FIG. 5, but the reliability is improved when the calculation process is performed on the data after completion of the data processing as shown in FIG.

なお、ピークサーチ処理にあたっては、例えば、次のような処理を行う。すなわち、ピークは周りの点よりも大きい点なので、そのような点をまず検出し、それが有意に大きい場合にはそれをピークとする。大きさが有意であるとは、ピークの積分強度Iがその誤差σ(I)よりも十分に大きいことである。 In the peak search process, for example, the following process is performed. That is, since the peak is larger than the surrounding points, such a point is detected first, and if it is significantly larger, it is set as the peak. The fact that the magnitude is significant means that the integrated intensity I P of the peak is sufficiently larger than the error σ (I P ).

このようなピークサーチ処理を行った後のデータに対して図2の画像データ生成部26によって1次元、2次元、及び3次元の各画像データを生成し、これらの画像データに基づいて画像表示装置29の画面上に図3に示すような1次元画像F、2次元画像E、及び3次元画像Hを表示する。このときに表示される各画像はピークサーチ処理を施された後の画像データに基づいているので、各画像F,E,Hにおけるピーク位置の精度は非常に高く、また明確に表示できる。なお、ピーク位置を明確に示すために、ピーク位置をドット表示するようにプログラムを構成することもできる。ここで、ドット表示とは、点状に表示することであり、具体的には「×」印、「+」印、「○」印、「レ」印、その他、点の位置を指示できる任意の表示とすることができる。   The 1-dimensional, 2-dimensional, and 3-dimensional image data is generated by the image data generation unit 26 in FIG. 2 for the data after such peak search processing, and an image display is performed based on these image data. A one-dimensional image F, a two-dimensional image E, and a three-dimensional image H as shown in FIG. 3 are displayed on the screen of the device 29. Since each image displayed at this time is based on the image data after being subjected to the peak search process, the accuracy of the peak position in each image F, E, H is very high and can be clearly displayed. In order to clearly show the peak position, the program can be configured to display the peak position in dots. Here, the dot display is to display in a dot shape. Specifically, “x” mark, “+” mark, “o” mark, “re” mark, etc. Can be displayed.

図8は、図2のデータ処理部23による平滑化処理又はバックグラウンド除去処理の終了後のデータに対して、データ解析部24によってピークサーチ処理を実行し、さらに演算によって求められたピーク位置を1次元画像であるX線測定図形の上に「+」印で表示した状態を示している。また、図9は、演算によって求めたピーク位置の座標を表形式で表示装置29の画面上に表示した状態を示している。図8のようにX線測定図形とピーク位置マークとの両方を同時に表示すれば、判断が非常に容易になる。また、図9の表を同時に参照すれば、非常に正確な判断を行うことができる。なお、図8のような「+」印のピーク位置表示は、図3の2次元画像E及び3次元画像Hに表示することもできる。   FIG. 8 shows a peak search process performed by the data analysis unit 24 on the data after the smoothing process or background removal process by the data processing unit 23 in FIG. A state in which a “+” mark is displayed on the X-ray measurement figure which is a one-dimensional image is shown. FIG. 9 shows a state in which the coordinates of the peak position obtained by the calculation are displayed on the screen of the display device 29 in a table format. If both the X-ray measurement figure and the peak position mark are simultaneously displayed as shown in FIG. 8, the determination becomes very easy. Further, by referring to the table of FIG. 9 at the same time, a very accurate judgment can be made. Note that the peak position display indicated by “+” as shown in FIG. 8 can also be displayed on the two-dimensional image E and the three-dimensional image H shown in FIG.

複数の測定データが互いに重なる領域を持つ場合であって、それらの測定データについてピークサーチ処理を行ったときには、図9に示す表はそれぞれのデータに対応して複数、表示される。画面上の「+」印に対してこの表を参照すれば、重なっている領域について、どちらのデータのピーク位置であるか判断できるようになる。   In the case where a plurality of measurement data have regions that overlap each other, and when the peak search process is performed on these measurement data, a plurality of tables shown in FIG. 9 are displayed corresponding to each data. By referring to this table for the “+” mark on the screen, it is possible to determine which data peak position is in the overlapping area.

次に、図2のデータ解析部24は、必要に応じて、座標変換処理を行う。以下、その座標変換処理について説明する。記述の通り、逆格子マップ測定は、図10(a)に示すように、逆格子空間ReのY軸線周りの角度、すなわち試料に関する面内回転角度が一定である断面SeにおけるX線強度情報を測定するものである。この測定面Seに関して図11において符号A0で示す領域に対して測定を行うものとすれば、その領域は図1において、X線入射角度ω及びX線検出角度2θを所定の範囲に設定することによって決められる。   Next, the data analysis unit 24 in FIG. 2 performs coordinate conversion processing as necessary. Hereinafter, the coordinate conversion process will be described. As described above, as shown in FIG. 10A, the reciprocal lattice map measurement is based on the X-ray intensity information in the section Se where the angle around the Y axis of the reciprocal space Re, that is, the in-plane rotation angle related to the sample is constant. Measure. If the measurement surface Se is to be measured in the region indicated by reference numeral A0 in FIG. 11, the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ in FIG. It is decided by.

そして、そのような測定によって、例えば図3における2次元画像Eが得られて解析に供される。今日の逆格子マップにおける解析に関しては、そのような解析処理に留まらず、図11において(ω,2θ)によって特定された測定領域A0を、横軸Q及び縦軸Qによって規定される座標系、すなわち逆格子座標系へ座標変換して、さらに解析を行うことが行われている。 Then, by such measurement, for example, a two-dimensional image E in FIG. 3 is obtained and used for analysis. For the analysis in the reciprocal lattice map of today, not only in such an analysis process, in FIG. 11 (omega, 2 [Theta]) measurement areas A0 specified by the coordinates defined by the transverse axis Q H and vertical Q N Further analysis is performed by converting the coordinate system to a reciprocal lattice coordinate system.

図2のデータ解析部24はそのような座標変換処理を行うことができる。そして、その座標変換が行われると、図3の2次元画像Eは、図12に示すような表示へと変換される。この表示においては、例えば、ピーク波形P1とピーク波形P2のピーク位置が縦線L0に乗るか、あるいは、縦線から外れるかが測定結果として大きな意味を持っている。   The data analysis unit 24 in FIG. 2 can perform such coordinate conversion processing. When the coordinate conversion is performed, the two-dimensional image E in FIG. 3 is converted into a display as shown in FIG. In this display, for example, whether the peak positions of the peak waveform P1 and the peak waveform P2 are on the vertical line L0 or deviated from the vertical line has a significant meaning as a measurement result.

以上のように,本実施形態によれば、図3のプロファイルP1とプロファイルP2とを求めるための異なる測定条件下での測定をそれぞれ別々に行い。それらのデータを最終的に1つの画面上でつなぎ合わせて、1次元座標、2次元座標、又は3次元座標等といった1つの座標系上に表示した。この結果、2つ以上のデータを1つの座標系上で比較できるので、分析の信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, measurements under different measurement conditions for obtaining the profile P1 and the profile P2 in FIG. 3 are performed separately. These data were finally connected on one screen and displayed on one coordinate system such as one-dimensional coordinate, two-dimensional coordinate, or three-dimensional coordinate. As a result, since two or more pieces of data can be compared on one coordinate system, the reliability of analysis can be improved.

また、測定条件の全てにわたって測定を行うのではなく、必要な領域だけの測定を行って、得られた結果を画像処理によってつないで1つの画面上に表示するようにしたので、測定時間を非常に短くすることができる。   In addition, measurement is not performed over all measurement conditions, but only the necessary area is measured, and the results obtained are connected by image processing and displayed on one screen. Can be shortened.

また、3次元画像すなわち立体画像によって表示される測定結果は解析処理、例えば、ピークサーチ、座標変換等が行われた後のものであるので、測定結果はオペレータにとって非常に見易いものとなっている。   In addition, since the measurement result displayed by the three-dimensional image, that is, the stereoscopic image, is obtained after analysis processing, for example, peak search, coordinate conversion, etc., the measurement result is very easy for the operator to see. .

(変形例)
以上の実施形態では、Si基板S上にGaAs薄膜Sをエピ成長させて成る物質を試料Sとした。しかしながら、試料はこの種類のものに限定されるものではなく、他の種類の物質を試料Sとすることができる。例えば、Si基板単体、薄膜S1単体、その他、構造を知りたいと思う任意の物質の単体又は積層体等とすることができる。
(Modification)
In the above embodiment, the sample S is a material obtained by epitaxially growing the GaAs thin film S 1 on the Si substrate S 0 . However, the sample is not limited to this type, and other types of substances can be used as the sample S. For example, it can be a simple substance of Si substrate, a simple substance of thin film S1, or a simple substance or a laminate of any substance whose structure is desired to be known.

また、試料Sは、同一種類の物質であってもその製造方条件が異なる複数の物質とすることもできる。例えば、Si基板S上にGaAs薄膜Sをエピ成長させて成る物質を試料Sとする場合、製造時の温度、製造時の圧力等が変化すると、物性の異なった物質が製造されることが考えられる。この場合には、そのような同一種類であっても物性の異なる複数の物質をそれぞれ試料Sとすることができる。 Further, the sample S may be a plurality of substances having different manufacturing conditions even though they are the same type of substance. For example, when the material made by epitaxial growth of a GaAs thin film S 1 on the Si substrate S 0 and the sample S, the temperature at the time of production, the pressure and the like during production changes, that different material physical properties are produced Can be considered. In this case, a plurality of substances having different physical properties can be used as the sample S, even if they are of the same type.

また、以上の実施形態では、分析中に試料が置かれる環境、すなわち雰囲気については一定の条件にあるものと考えた。しかしながら、分析中に試料の周りの環境が変化する場合には、それぞれの環境下において異なった測定データが得られる。この場合、環境の変化としては、例えば温度変化、ガス雰囲気の変化等が考えられる。   In the above embodiments, the environment in which the sample is placed during the analysis, that is, the atmosphere, is considered to be in a certain condition. However, when the environment around the sample changes during analysis, different measurement data can be obtained in each environment. In this case, the environmental change may be, for example, a temperature change, a gas atmosphere change, or the like.

(第2実施形態)
図13は、本発明に係るX線分析方法の他の実施形態を実施するためのX線測定装置を示している。ここに示すX線測定装置41の多くの部分は図1に示したX線測定装置1と同じであるので、同じ構成要素は同じ符号を付すことにしてその説明は省略する。また、X線測定装置41によって試料Sに対して逆格子マップ測定を行うことも図1の実施形態の場合と同じである。また、X線測定装置41の動作を制御するための制御装置としては、図2に示した制御装置14を用いることができる。
(Second Embodiment)
FIG. 13 shows an X-ray measurement apparatus for carrying out another embodiment of the X-ray analysis method according to the present invention. Since many parts of the X-ray measuring apparatus 41 shown here are the same as those of the X-ray measuring apparatus 1 shown in FIG. 1, the same components are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted. Further, the reciprocal lattice map measurement for the sample S by the X-ray measurement apparatus 41 is the same as in the embodiment of FIG. Further, as the control device for controlling the operation of the X-ray measurement device 41, the control device 14 shown in FIG. 2 can be used.

以下、X線測定装置41において図1のX線測定装置1と異なる点について説明する。まず、試料Sに関してω軸線、χ(カイ)軸線、及びφ軸線を考える。ω軸線は、X線光軸に交わるように図13の紙面垂直方向へ延びる軸線である。χ軸線は、試料Sの表面を通ってω軸線に交わる軸線である。また、φ軸線は、ω軸線及びχ軸線の両方に交わる軸線である。試料Sは、該試料Sをφ軸線周りに回転させるφ軸回転系(図示せず)によって支持される。このφ軸回転系は、試料Sをχ軸線周りに回転させるχ軸回転系(図示せず)によって支持される。そして、χ軸回転系は、試料Sをω軸線周りに回転させるω軸回転系(図示せず)によって支持される。   Hereinafter, the difference between the X-ray measurement apparatus 41 and the X-ray measurement apparatus 1 of FIG. 1 will be described. First, consider the ω axis, χ (chi) axis, and φ axis for the sample S. The ω-axis is an axis extending in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 13 so as to intersect the X-ray optical axis. The χ axis is an axis that intersects the ω axis through the surface of the sample S. The φ axis is an axis that intersects both the ω axis and the χ axis. The sample S is supported by a φ axis rotation system (not shown) that rotates the sample S around the φ axis. This φ axis rotation system is supported by a χ axis rotation system (not shown) that rotates the sample S around the χ axis. The χ axis rotation system is supported by a ω axis rotation system (not shown) that rotates the sample S around the ω axis.

X線測定装置41は、ω回転装置42、χ回転装置43、及びφ回転装置44を有する。ω回転装置42は、上記ω回転系を駆動することにより、試料Sをω軸線を中心として回転させる。これにより、試料Sに対するX線の入射角度ωを変化させる。また、χ回転装置43は、上記のχ回転系を駆動することにより、試料Sをχ軸線を中心として回転させる。このχ軸線周りの回転は、試料の方位を決める2つの方位角度のうちの1つである、試料のあおり軸周りの角度χを変化させるために行われるものである。さらに、φ回転装置44は、上記φ回転系を駆動することにより、試料Sをφ軸線を中心として回転させる。このφ軸線周りの回転は、試料の方位を決める2つの方位角度のうちの他の1つである、試料の面内回転軸周りの角度φを変化させるために行われるものである。   The X-ray measurement device 41 includes a ω rotation device 42, a χ rotation device 43, and a φ rotation device 44. The ω rotating device 42 rotates the sample S around the ω axis by driving the ω rotating system. Thereby, the incident angle ω of the X-ray with respect to the sample S is changed. Further, the χ rotation device 43 rotates the sample S around the χ axis by driving the above χ rotation system. The rotation around the χ axis is performed to change the angle χ around the tilt axis of the sample, which is one of two azimuth angles that determine the orientation of the sample. Further, the φ rotating device 44 rotates the sample S around the φ axis by driving the φ rotating system. The rotation around the φ axis is performed to change the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the sample's orientation.

上記構成より成るX線測定装置41を用いてX線分析を行う場合には、試料Sに関するχ軸線周りのあおり角度χを変えるか、あるいは、試料Sに関するφ軸線周りの面内回転角度φを変えるかした上で、図1に関連して説明した(ω,2θ)の走査による逆格子マップ測定を行うことができる。これにより、試料Sを分析するに際して、さらに有効なデータを得ることができる。なお、図2において、X線測定装置41はX線入射角度信号Sω、X線検出角度信号S2θ及びX線強度信号Sに加えて、あおり角度χを示す信号及び面内回転角度φを示す信号を制御装置14へ送る。 When X-ray analysis is performed using the X-ray measuring apparatus 41 having the above-described configuration, the tilt angle χ around the χ axis with respect to the sample S is changed, or the in-plane rotation angle φ around the Φ axis with respect to the sample S is changed. In addition, the reciprocal lattice map measurement by the scanning of (ω, 2θ) described in relation to FIG. 1 can be performed. Accordingly, more effective data can be obtained when analyzing the sample S. In FIG. 2, the X-ray measuring apparatus 41 X-ray incident angle signal S omega, in addition to the X-ray detection angle signal S 2 [Theta] and X-ray intensity signal S I, signal and in-plane rotation angle indicates a tilt angle chi phi Is sent to the control device 14.

(第3実施形態)
次に、本発明に係るX線分析方法及びX線分析装置を、極点測定に適用する場合を例に挙げて説明する。極点測定は、図10(b)に関して既に説明した通り、逆格子空間ReのX線入射角度ω及びX線検出角度2θが一定であって、試料をY軸線周りに面内回転させたときに得られる曲面Su上におけるX線強度情報を測定するものであると考えられる。
(Third embodiment)
Next, the case where the X-ray analysis method and the X-ray analysis apparatus according to the present invention are applied to pole measurement will be described as an example. As already described with reference to FIG. 10B, the pole measurement is performed when the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ of the reciprocal lattice space Re are constant and the sample is rotated in-plane around the Y axis. It is considered that X-ray intensity information on the obtained curved surface Su is measured.

図14は、極点測定を行うための本発明に係るX線分析装置のX線測定装置51を示している。このX線測定装置51の動作を制御するための制御装置としては、図2に示した制御装置14を用いることができる。このX線測定装置51の機構自体は図13に示したX線測定装置41と同じであるので、同じ構成要素は同じ符号で示すことにしてそれらの機構自体の説明は省略する。なお、図2において、X線測定装置51は、X線入射角度信号Sω、X線検出角度信号S2θ及びX線強度信号Sに加えて、あおり角度χを示す信号及び面内回転角度φを示す信号を制御装置14へ送る。また、本実施形態で測定に供される試料Sは、図13に示したような基板に薄膜を積層して成る積層構造の試料ではなく、単体の物質である。本実施形態では、X線測定装置51によって試料S内の結晶の分布を測定するものとする。 FIG. 14 shows an X-ray measuring apparatus 51 of the X-ray analyzer according to the present invention for performing pole measurement. As a control device for controlling the operation of the X-ray measurement device 51, the control device 14 shown in FIG. 2 can be used. Since the mechanism itself of the X-ray measuring apparatus 51 is the same as that of the X-ray measuring apparatus 41 shown in FIG. 13, the same components are denoted by the same reference numerals, and the description of these mechanisms itself is omitted. Incidentally, in FIG. 2, X-ray measuring device 51, the X-ray incident angle signal S omega, in addition to the X-ray detection angle signal S 2 [Theta] and X-ray intensity signal S I, signal and in-plane rotation angle indicates a tilt angle χ A signal indicating φ is sent to the control device 14. In addition, the sample S used for the measurement in the present embodiment is not a sample having a laminated structure in which a thin film is laminated on a substrate as shown in FIG. 13, but a single substance. In the present embodiment, the distribution of crystals in the sample S is measured by the X-ray measurement device 51.

本実施形態では、X線入射角度ω及びX線検出角度2θを一定に維持した上で、あおり角度χ及び面内回転角度φを変化させながら、X線カウンタ9によってX線強度を測定する。具体的には、(1)(χ=0°付近、φ=0°〜360°)、(2)(χ=30°付近、φ=0°〜360°)、そして(3)(χ=90°付近、φ=0°〜360°)の3つの異なった測定条件の下で3種類の測定を行う。   In this embodiment, the X-ray intensity is measured by the X-ray counter 9 while changing the tilt angle χ and the in-plane rotation angle φ while maintaining the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ constant. Specifically, (1) (near χ = 0 °, φ = 0 ° to 360 °), (2) (near χ = 30 °, φ = 0 ° to 360 °), and (3) (χ = Three types of measurements are performed under three different measurement conditions (near 90 °, φ = 0 ° to 360 °).

以上の測定の結果、例えば、図15に示すような表示がディスプレイの画面34上に得られる。図中、符号Fが1次元画像であり、符号Eが2次元画像であり、符号Dが3次元画像である。3次元画像Dにおいて、円周方向に設けられた座標がφ軸座標であり、半径方向に設けられた座標がχ軸座標であり、斜視図の高さ方向に設けられたのがI軸座標である。φ軸座標は図14における面内回転角度φをプロットする座標である。χ軸座標は図14におけるあおり角度χをプロットする座標である。そして、I軸座標は図14においてX線カウンタ9によって検出されるX線強度Iをプロットする座標である。   As a result of the above measurement, for example, a display as shown in FIG. 15 is obtained on the screen 34 of the display. In the figure, symbol F is a one-dimensional image, symbol E is a two-dimensional image, and symbol D is a three-dimensional image. In the three-dimensional image D, the coordinates provided in the circumferential direction are φ-axis coordinates, the coordinates provided in the radial direction are χ-axis coordinates, and the coordinates provided in the height direction of the perspective view are I-axis coordinates. It is. The φ-axis coordinates are coordinates for plotting the in-plane rotation angle φ in FIG. The χ-axis coordinates are coordinates for plotting the tilt angle χ in FIG. The I-axis coordinates are coordinates for plotting the X-ray intensity I detected by the X-ray counter 9 in FIG.

本実施形態では、(1)(χ=0°付近、φ=0°〜360°)、(2)(χ=30°付近、φ=0°〜360°)、そして(3)(χ=90°付近、φ=0°〜360°)の3つの異なった測定条件の下で3種類の測定が行われる。図15の3次元画像Dにおいて、最も外側のプロファイルP1は上記の測定条件(1)の下に得られた測定結果を示している。また、中間のプロファイルP2は上記の測定条件(2)の下に得られた測定結果を示している。また、中心部のプロファイルP3は上記の測定条件(3)の下に得られた測定結果を示している。   In this embodiment, (1) (near χ = 0 °, φ = 0 ° to 360 °), (2) (near χ = 30 °, φ = 0 ° to 360 °), and (3) (χ = Three types of measurements are performed under three different measurement conditions (near 90 °, φ = 0 ° to 360 °). In the three-dimensional image D of FIG. 15, the outermost profile P1 shows the measurement result obtained under the measurement condition (1). The intermediate profile P2 shows the measurement result obtained under the above measurement condition (2). Further, the profile P3 at the center shows the measurement result obtained under the measurement condition (3).

3次元画像Dにおいて、X線強度情報Iは色分け表示されている。具体的には、強度Iの低い位置から高い位置へ向けて「青」→「緑」→「黄」→「赤」の順に色分けされ、中間部は各色の混合色で示される。また、2次元画像Eは、3次元画像Dを上方から見た場合の平面画像に相当する。2次元画像Eにおいても、X線強度Iの違いは色分けによって表示される。例えば、強度Iの低い位置から高い位置へ向けて「青」→「緑」→「黄」→「赤」の順に色分けされ、中間部は各色の混合色で示される。また、1次元画像Fは、3次元画像Dを垂直断面で切った所のプロファイルに相当する。1次元画像Fにおいて、横軸はχ軸(あおり角度)であり、縦軸はI(X線強度)である。   In the three-dimensional image D, the X-ray intensity information I is displayed in different colors. Specifically, the colors are classified in the order of “blue” → “green” → “yellow” → “red” from a position having a low intensity I to a position having a high intensity I, and the intermediate portion is indicated by a mixed color of each color. The two-dimensional image E corresponds to a planar image when the three-dimensional image D is viewed from above. Also in the two-dimensional image E, the difference in the X-ray intensity I is displayed by color coding. For example, the colors are classified in the order of “blue” → “green” → “yellow” → “red” from a position having a low intensity I to a position having a high intensity I, and the middle portion is indicated by a mixed color of each color. The one-dimensional image F corresponds to a profile obtained by cutting the three-dimensional image D along a vertical section. In the one-dimensional image F, the horizontal axis is the χ axis (tilt angle), and the vertical axis is I (X-ray intensity).

本実施形態では、図14のω軸、χ軸、φ軸に関して全ての角度にわたって測定が行われるのでなく、測定は上記の(1)、(2)、(3)の3種類の範囲だけであり、それらの測定データを図2の画像データ生成部26によって1次元画像データ、2次元画像データ及び3次元画像データから成る1つの画像データとして組合せ、その1つの画像データを図15のように1つの画面34内に表示するようにした。このため、必要とする領域内のデータが不足無く求められ、しかも、ω、χ、φの全ての領域にわたって測定を行う場合に比べて、測定時間を著しく短縮できる。   In the present embodiment, measurement is not performed over all angles with respect to the ω axis, χ axis, and φ axis in FIG. 14, but measurement is performed only in the above three ranges (1), (2), and (3). The measurement data is combined as one image data composed of one-dimensional image data, two-dimensional image data, and three-dimensional image data by the image data generation unit 26 of FIG. 2, and the one image data is combined as shown in FIG. The information is displayed in one screen 34. For this reason, the data in the required area can be obtained without shortage, and the measurement time can be remarkably shortened compared with the case where measurement is performed over all the areas of ω, χ, and φ.

以上のように、本実施形態によれば、図15のプロファイルP1、プロファイルP2、及びプロファイルP3を求めるための異なる測定条件下での測定をそれぞれ別々に行い、それらのデータを最終的に1つの画面上でつなぎ合わせて、1次元座標F、2次元座標E、又は3次元座標D等といったそれぞれ1つの座標系上に表示した。この結果、2つ以上のデータを1つの座標系上で比較できるので、分析の信頼性が向上する。   As described above, according to the present embodiment, measurements under different measurement conditions for obtaining the profile P1, the profile P2, and the profile P3 in FIG. They are connected on the screen and displayed on one coordinate system such as one-dimensional coordinates F, two-dimensional coordinates E, or three-dimensional coordinates D. As a result, since two or more data can be compared on one coordinate system, the reliability of the analysis is improved.

また、測定条件の全てにわたって測定を行うのではなく、必要な領域だけの測定を行って、得られた結果を画像処理によってつないで1つの画面上に表示するようにしたので、測定時間を非常に短くすることができる。   In addition, measurement is not performed over all measurement conditions, but only the necessary area is measured, and the results obtained are connected by image processing and displayed on one screen. Can be shortened.

また、3次元画像Dすなわち立体画像によって表示される測定結果は解析処理、例えば、ピークサーチ、座標変換等が行われた後のものであるので、測定結果はオペレータにとって非常に見易いものとなっている。   In addition, since the measurement result displayed by the three-dimensional image D, that is, the stereoscopic image is after analysis processing, for example, peak search, coordinate conversion, etc., the measurement result is very easy for the operator to see. Yes.

(変形例)
以上の実施形態では、1種類の試料Sに対して極点測定を行った。しかしながら、2種類以上の試料に対して極点測定を行って測定データを求め、それら複数種類の測定データを1つの画面内にまとめて表示することもできる。
(Modification)
In the above embodiment, extreme point measurement was performed on one type of sample S. However, it is also possible to perform pole measurement on two or more types of samples to obtain measurement data, and display these plural types of measurement data together in one screen.

また、試料Sは、同一種類の物質であってもその製造方条件が異なる複数の物質とすることもできる。例えば、1種類の物質を試料Sとする場合、その物質の製造時の温度、製造時の圧力等が変化すると、物性の異なった物質が製造されることが考えられる。この場合には、そのような同一種類であっても物性の異なる複数の物質をそれぞれ試料Sとすることができる。   Further, the sample S may be a plurality of substances having different manufacturing conditions even though they are the same type of substance. For example, in the case where one kind of substance is used as the sample S, it is conceivable that substances having different physical properties are produced when the temperature at the time of production of the substance, the pressure at the time of production, and the like change. In this case, a plurality of substances having different physical properties can be used as the sample S, even if they are of the same type.

また、以上の実施形態では、分析中に試料が置かれる環境、すなわち雰囲気については一定の条件にあるものと考えた。しかしながら、分析中に試料の周りの環境が変化する場合には、それぞれの環境下において異なった測定データが得られる。この場合、環境の変化としては、例えば温度変化、ガス雰囲気の変化等が考えられる。   In the above embodiments, the environment in which the sample is placed during the analysis, that is, the atmosphere, is considered to be in a certain condition. However, when the environment around the sample changes during analysis, different measurement data can be obtained in each environment. In this case, the environmental change may be, for example, a temperature change, a gas atmosphere change, or the like.

(その他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
(Other embodiments)
The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.

例えば、以上の各実施形態では平行ビーム法を用いた測定に対して本発明を適用したが、本発明は、集中法を用いたX線測定に対しても適用できる。   For example, in the above embodiments, the present invention is applied to the measurement using the parallel beam method, but the present invention can also be applied to the X-ray measurement using the concentrated method.

また、図3の実施形態では、1つの試料に対して測定条件を変えて2種類のデータを求めた。また、図15の実施形態では、1つの試料に対して測定条件を変えて3種類のデータを求めた。そしてさらに、それらのデータに対してデータ処理及びデータ解析を行った。しかしながら、測定するデータは4種類以上であっても良い。また、1つの試料ではなく2つ以上の試料から2種類以上のデータを求める場合に本発明を適用することもできる。   In the embodiment of FIG. 3, two types of data are obtained by changing the measurement conditions for one sample. In the embodiment of FIG. 15, three types of data are obtained by changing measurement conditions for one sample. Further, data processing and data analysis were performed on these data. However, four or more types of data to be measured may be used. In addition, the present invention can be applied when two or more types of data are obtained from two or more samples instead of one sample.

本発明に係るX線分析方法及びX線分析装置は、物質を非破壊で分析する場合に好適に用いられる。また、1つ又は複数の物質から求めた複数種類のデータを比較する必要がある場合に好適に用いられる。   The X-ray analysis method and the X-ray analysis apparatus according to the present invention are preferably used when a substance is analyzed nondestructively. Moreover, it is suitably used when it is necessary to compare a plurality of types of data obtained from one or a plurality of substances.

本発明に係るX線分析装置で用いられるX線測定装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the X-ray measuring apparatus used with the X-ray analyzer which concerns on this invention. 本発明に係るX線分析装置の一実施形態を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an embodiment of an X-ray analysis apparatus according to the present invention. 図2の装置で用いられる表示装置の画面上に表示される画像の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the image displayed on the screen of the display apparatus used with the apparatus of FIG. 図3で示した表示の一部分の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a part of display shown in FIG. 図3で示した表示の一部分を示す図であって、測定されたデータをそのまま表示した例を示す図である。It is a figure which shows a part of display shown in FIG. 3, Comprising: It is a figure which shows the example which displayed the measured data as it is. 図3で示した表示の一部分を示す図であって、測定されたデータに平滑化処理を施して表示した例を示す図である。It is a figure which shows a part of display shown in FIG. 3, Comprising: It is a figure which shows the example which performed the smoothing process to the measured data, and was displayed. 図3で示した表示の一部分を示す図であって、測定されたデータにバックグラウンド除去処理を施して表示した例を示す図である。It is a figure which shows a part of display shown in FIG. 3, Comprising: It is a figure which shows the example which performed the background removal process and displayed on the measured data. 図3で示した表示の一部分を示す図であって、ピークサーチ後の結果を指示した状態の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a part of the display shown in FIG. 3, and is a diagram showing an example of a state in which a result after peak search is instructed. 表示装置の画面上に表示される画像の一例であって、ピークサーチの結果を表形式で表示した状態を示す図である。It is an example of the image displayed on the screen of a display apparatus, Comprising: It is a figure which shows the state which displayed the result of the peak search in tabular form. X線分析手法の例を模式的に示す図であって、(a)は逆格子マップ測定を示し、(b)は極点測定を示す。It is a figure which shows the example of an X-ray-analysis method typically, Comprising: (a) shows reciprocal lattice map measurement, (b) shows pole measurement. 逆格子マップ測定の測定手法を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the measuring method of a reciprocal lattice map measurement. 座標変換処理の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of a coordinate transformation process. 本発明に係る分析装置で用いられるX線測定装置の他の実施形態を示す図である。It is a figure which shows other embodiment of the X-ray measuring apparatus used with the analyzer which concerns on this invention. 本発明に係る分析装置で用いられるX線測定装置のさらに他の実施形態を示す図である。It is a figure which shows other embodiment of the X-ray measuring apparatus used with the analyzer which concerns on this invention. 図14のX線測定装置を用いて行った測定の結果を画面上に表示した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which displayed on the screen the result of the measurement performed using the X-ray measuring apparatus of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1.X線測定装置、 2.フィラメント、 3.回転ターゲット、
4.X線発生装置、 6.多層膜ミラー、 7.平行ビーム形成装置、
8.ビーム調整装置、 9.X線カウンタ、 11a,11b.スリット、
12a,12b.受光スリット、 14.制御装置、 21.ハードディスク、
22.バス、 26.画像データ生成部、 29.画像表示装置、
31.プリンタ、 32.キーボード、 33a,33b.ファイル、 34.画面、
D.3次元画像、 E.2次元画像、 F.1次元画像、 G.線、
P1,P2.プロファイル、 S.試料、 S0.基板、 S1.薄膜

1. 1. X-ray measuring device, 2. filament, Rotating target,
4). X-ray generator, 6. 6. Multilayer film mirror Parallel beam forming device,
8). 8. Beam adjusting device X-ray counters 11a, 11b. slit,
12a, 12b. Light receiving slit, 14. Control device, 21. hard disk,
22. Bus, 26. Image data generation unit, 29. Image display device,
31. Printer, 32. Keyboard 33a, 33b. File, 34. screen,
D. 3D image, E.E. Two-dimensional image; A one-dimensional image; line,
P1, P2. Profile, S. Sample, S0. Substrate, S1. Thin film

Claims (9)

異なる測定条件の下で複数種類のX線測定データを求め、
それら複数種類のX線測定データに基づいて新たな情報を生成するデータ解析処理を行い、
前記複数種類のX線測定データ及び前記新たな情報の個々に対応した、共通の立体画像座標上における3次元画像データを生成し、
その3次元画像データに基づいて表示手段の画面上に前記X線測定データ及び前記新たな情報に対応した立体画像を表示し、
前記複数種類のX線測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、又は、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、
のいずれかのデータであることを特徴とするX線分析方法。
Obtain multiple types of X-ray measurement data under different measurement conditions,
Perform data analysis processing to generate new information based on these multiple types of X-ray measurement data,
Generating three-dimensional image data on common stereoscopic image coordinates corresponding to each of the plurality of types of X-ray measurement data and the new information;
Based on the three-dimensional image data, a stereoscopic image corresponding to the X-ray measurement data and the new information is displayed on the screen of the display means ,
The plurality of types of X-ray measurement data includes a combination of an X-ray incident angle ω to the sample, an X-ray detection angle 2θ emitted from the sample, and an X-ray intensity I emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different, or
(4) Whether the step interval when scanning and moving the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ is different,
An X-ray analysis method characterized by being any one of the data .
異なる測定条件の下で複数種類のX線測定データを求め、
それら複数種類のX線測定データに基づいて新たな情報を生成するデータ解析処理を行い、
前記複数種類のX線測定データ及び前記新たな情報の個々に対応した、共通の立体画像座標上における3次元画像データを生成し、
その3次元画像データに基づいて表示手段の画面上に前記X線測定データ及び前記新たな情報に対応した立体画像を表示し、
前記複数種類のX線測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、又は
(5)前記あおり軸周りの角度χ又は前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
のいずれかのデータであることを特徴とするX線分析方法。
Obtain multiple types of X-ray measurement data under different measurement conditions,
Perform data analysis processing to generate new information based on these multiple types of X-ray measurement data,
Generating three-dimensional image data on common stereoscopic image coordinates corresponding to each of the plurality of types of X-ray measurement data and the new information;
Based on the three-dimensional image data, a stereoscopic image corresponding to the X-ray measurement data and the new information is displayed on the screen of the display means,
The plurality of types of X-ray measurement data includes an X-ray incident angle ω to the sample, an X-ray detection angle 2θ from the sample, and one of two azimuth angles that determine the sample orientation. A combination of the angle χ, the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the sample orientation, and the intensity I of the X-ray emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Whether both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different,
(4) Step intervals when scanning and moving the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different, or
(5) Whether the angle χ around the tilt axis or the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
An X-ray analysis method characterized by being any one of the data .
異なる測定条件の下で複数種類のX線測定データを求め、
それら複数種類のX線測定データに基づいて新たな情報を生成するデータ解析処理を行い、
前記複数種類のX線測定データ及び前記新たな情報の個々に対応した、共通の立体画像座標上における3次元画像データを生成し、
その3次元画像データに基づいて表示手段の画面上に前記X線測定データ及び前記新たな情報に対応した立体画像を表示し、
前記複数種類のX線測定データは、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記あおり軸周りの角度χの範囲が異なるか、
(2)前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
(3)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φの両方が異なるか、
(4)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、又は、
(5)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
のいずれかのデータであることを特徴とするX線分析方法。
Obtain multiple types of X-ray measurement data under different measurement conditions,
Perform data analysis processing to generate new information based on these multiple types of X-ray measurement data,
Generating three-dimensional image data on common stereoscopic image coordinates corresponding to each of the plurality of types of X-ray measurement data and the new information;
Based on the three-dimensional image data, a stereoscopic image corresponding to the X-ray measurement data and the new information is displayed on the screen of the display means,
The plurality of types of X-ray measurement data include an X-ray detection angle 2θ emitted from the sample, an angle χ around the tilt axis of the sample, which is one of two azimuth angles that determine the sample orientation, and two samples that determine the sample orientation. It consists of a combination of the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is another azimuth angle, and the intensity I of the X-ray emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the angle χ around the tilt axis is different,
(2) Whether the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
(3) Both the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis are different,
(4) The step interval when scanning and moving the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis is different, or
(5) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
An X-ray analysis method characterized by being any one of the data .
請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のX線分析方法において、前記データ解析処理はピークサーチ処理及び/又は座標変換処理であることを特徴とするX線分析方法。 The X-ray analysis method according to any one of claims 1 to 3 , wherein the data analysis process is a peak search process and / or a coordinate conversion process. 請求項1から請求項4のいずれか1つに記載のX線分析方法において、前記3次元画像データに加えて2次元画像データを生成し、前記表示手段の画面上に前記3次元画像データに対応する立体画像を表示すると共に、前記2次元画像データに対応する2次元画像を表示することを特徴とするX線分析方法。 The X-ray analysis method according to any one of claims 1 to 4 , wherein two-dimensional image data is generated in addition to the three-dimensional image data, and the three-dimensional image data is displayed on a screen of the display means. An X-ray analysis method characterized by displaying a corresponding stereoscopic image and displaying a two-dimensional image corresponding to the two-dimensional image data. 請求項記載のX線分析方法において、前記ピークサーチ処理によって求められたピーク値を指示する表示を前記立体画像上又は前記2次元画像上で行うことを特徴とするX線分析方法。 6. The X-ray analysis method according to claim 5 , wherein display indicating the peak value obtained by the peak search process is performed on the stereoscopic image or the two-dimensional image. 請求項1から請求項のいずれか1つに記載のX線分析方法において、前記複数種類のX線測定データは、基板上に薄膜を成膜して成る試料に関して、当該基板に関して得られた測定データと、当該薄膜に関して得られた測定データとの2種類であることを特徴とするX線分析方法。 The X-ray analysis method according to any one of claims 1 to 6 , wherein the plurality of types of X-ray measurement data are obtained with respect to a sample obtained by forming a thin film on a substrate. An X-ray analysis method characterized in that there are two types of measurement data and measurement data obtained for the thin film. (A)試料にX線を照射すると共に該試料から出たX線をX線検出手段によって検出するX線測定装置と、
前記X線測定装置によって異なる測定条件の下で得られた複数の測定データを記憶するデータ記憶手段と、
画像を表示する表示手段と、
異なる測定条件の下で得られた複数の測定データに基づいて新たな情報を生成するデータ解析手段と、
前記表示手段に立体画像を表示するための3次元画像データを生成する画像データ生成手段とを有し、
前記データ解析手段の解析結果を前記画像データ生成手段によって前記立体画像上に表示し、
前記画像データ生成手段は、前記異なる測定条件の下で得られた複数の測定データ及び前記データ解析手段によって生成された新たな情報の個々に対応した、共通の立体画像座標上における3次元画像データを生成し、
(B)前記複数の測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、若しくは、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、
のいずれかのデータであるか、
(C)前記複数の測定データは、試料へのX線の入射角度ω、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記入射角度ωの範囲が異なるか、
(2)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
(3)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θの両方が異なるか、
(4)前記X線入射角度ω及び前記X線検出角度2θを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、若しくは
(5)前記あおり軸周りの角度χ又は前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
のいずれかのデータであるか、又は
(D)前記複数の測定データは、試料から出るX線の検出角度2θ、試料の方位を決める2つの方位角度の1つである試料のあおり軸周りの角度χ、試料の方位を決める2つの方位角度の他の1つである試料の面内回転軸周りの角度φ、及び試料から出たX線の強度Iの組合せから成り、
前記異なる測定条件とは、
(1)前記あおり軸周りの角度χの範囲が異なるか、
(2)前記面内回転軸周りの角度φが異なるか、
(3)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φの両方が異なるか、
(4)前記あおり軸周りの角度χ及び前記面内回転軸周りの角度φを走査移動させる際のステップ間隔が異なるか、若しくは、
(5)前記X線検出角度2θの範囲が異なるか、
のいずれかのデータである
(E)ことを特徴とするX線分析装置。
(A) an X-ray measurement apparatus that irradiates a sample with X-rays and detects X-rays emitted from the sample by an X-ray detection unit;
Data storage means for storing a plurality of measurement data obtained under different measurement conditions depending on the X-ray measurement apparatus;
Display means for displaying an image;
Data analysis means for generating new information based on a plurality of measurement data obtained under different measurement conditions;
Image data generating means for generating three-dimensional image data for displaying a stereoscopic image on the display means;
The analysis result of the data analysis means is displayed on the stereoscopic image by the image data generation means,
The image data generation means includes a plurality of measurement data obtained under the different measurement conditions and three-dimensional image data on a common stereoscopic image coordinate corresponding to each of new information generated by the data analysis means. It generates a,
(B) The plurality of measurement data includes a combination of an incident angle ω of X-rays to the sample, a detection angle 2θ of X-rays emitted from the sample, and an intensity I of X-rays emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different, or
(4) Whether the step interval when scanning and moving the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ is different,
Or any of the data
(C) The plurality of measurement data includes an X-ray incident angle ω to the sample, an X-ray detection angle 2θ from the sample, and one of two azimuth angles that determine the sample orientation. A combination of the angle χ, the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the sample orientation, and the intensity I of the X-ray emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the incident angle ω is different,
(2) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
(3) Whether both the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different,
(4) Step intervals when scanning and moving the X-ray incident angle ω and the X-ray detection angle 2θ are different, or
(5) Whether the angle χ around the tilt axis or the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
Or any of the data
(D) The plurality of measurement data includes the detection angle 2θ of X-rays emitted from the sample, the angle χ around the tilt axis of the sample, which is one of the two azimuth angles that determine the sample orientation, and the two that determine the sample orientation It consists of a combination of the angle φ around the in-plane rotation axis of the sample, which is another azimuth angle, and the intensity I of the X-ray emitted from the sample,
The different measurement conditions are
(1) Whether the range of the angle χ around the tilt axis is different,
(2) Whether the angle φ around the in-plane rotation axis is different,
(3) Both the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis are different,
(4) The step interval when scanning and moving the angle χ around the tilt axis and the angle φ around the in-plane rotation axis is different, or
(5) Whether the range of the X-ray detection angle 2θ is different,
Is one of the data
(E) An X-ray analyzer characterized by that.
請求項記載のX線分析装置において、前記データ解析手段は、ピークサーチ処理及び/又は座標変換処理を行うことを特徴とするX線分析装置 9. The X-ray analysis apparatus according to claim 8 , wherein the data analysis means performs a peak search process and / or a coordinate conversion process.
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