JP4541940B2 - Image forming apparatus, light beam position correcting method and program - Google Patents

Image forming apparatus, light beam position correcting method and program Download PDF

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本発明は、デジタル複写機、プリンタなどの画像形成装置、画像形成装置で用いられるビーム位置補正方法及びプログラムに関するものである。   The present invention relates to an image forming apparatus such as a digital copying machine or a printer, a beam position correcting method and a program used in the image forming apparatus.

感光体上にレーザ光を照射して静電潜像を形成し、これをトナーにより現像して画像を形成する、いわゆるネガ/ポジプロセス方式を用いる電子写真方式の画像形成装置において、書込密度の高密度化や、書込速度の高速化を目的として、2つ以上の複数の光ビームで感光体上を走査するマルチビーム走査方式が一般に用いられている(例えば、特許文献1参照)。   In an electrophotographic image forming apparatus using a so-called negative / positive process method in which an electrostatic latent image is formed by irradiating a laser beam on a photosensitive member, and this is developed with toner to form an image. In general, a multi-beam scanning method in which a photosensitive member is scanned with two or more light beams is used for the purpose of increasing the density and the writing speed (see, for example, Patent Document 1).

また、書き込み開始側と終了側にレーザ光検出手段を設け、2点間の通過時間を所定のクロックのカウント数により計測し、初期的に記憶された基準カウント数と一致するように書き込みクロック周波数を補正し、等倍性を保つように構成した画像形成装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2では、2つのビーム検出センサを備え、各々のセンサの通過時間間隔を画素クロックによりカウントすることによって計測し、それらのカウント値と予め設定された基準カウント値とが一致するように書き込み画周波数の変更を行い、倍率(絶対倍率)の補正を行っている。
特開2002−137450号公報 特許第3548210号公報
Also, laser light detection means are provided on the write start side and end side, the passing time between the two points is measured by the count number of a predetermined clock, and the write clock frequency is matched with the initially stored reference count number Has been proposed (see, for example, Patent Document 2). In Patent Document 2, two beam detection sensors are provided, and the passing time interval of each sensor is measured by counting with a pixel clock, and writing is performed so that the count value and a preset reference count value coincide with each other. The image frequency is changed and the magnification (absolute magnification) is corrected.
JP 2002-137450 A Japanese Patent No. 3548210

2つ以上の複数の光ビームを、独立したレーザ光源から射出する場合、各レーザ光源の発振波長が異なると、光源から感光体へと到る光路中に存在する透過型光素子(レンズ等)の屈折率の波長依存性により、ビーム射出光源毎に主走査倍率が異なってしまうという問題があった。前記特許文献2のように、2つのビーム検出センサを備え、各々のセンサの通過時間間隔を画素クロックによりカウントすることによって計測し、それらのカウント値と予め設定された基準カウント値とが一致するように書き込み画周波数の変更を行い、倍率(絶対倍率)の補正を行う方法を、各レーザ光源毎に適用すれば、光源毎に発振波長が異なっている場合でも、各ビームでの主走査倍率を一致させることができる。しかし、この方法は、複数のレーザ光源毎にビーム検出手段や補正手段を設ける必要があり、構成が複雑化するという問題があった。
従って、本発明は、2つ以上の光ビームの各レーザ光源の発振波長が異なり、ビーム射出光源毎に感光体上での主走査倍率が異なってしまう場合に、光源毎にレーザ光検出手段を設けることなく、各ビームでの主走査倍率を補正できるようにすることを目的とする。
When two or more light beams are emitted from independent laser light sources, if the oscillation wavelength of each laser light source is different, a transmissive optical element (such as a lens) that exists in the optical path from the light source to the photoconductor Due to the wavelength dependency of the refractive index, there is a problem that the main scanning magnification differs for each beam emission light source. As in Patent Document 2, two beam detection sensors are provided, and the passage time interval of each sensor is measured by counting with a pixel clock, and the count value and a preset reference count value coincide with each other. Thus, if the method of changing the writing image frequency and correcting the magnification (absolute magnification) is applied to each laser light source, even if the oscillation wavelength differs for each light source, the main scanning magnification for each beam Can be matched. However, this method has a problem in that the configuration is complicated because it is necessary to provide beam detecting means and correcting means for each of the plurality of laser light sources.
Therefore, in the present invention, when the oscillation wavelength of each laser light source of two or more light beams is different and the main scanning magnification on the photosensitive member is different for each beam emission light source, the laser light detection means is provided for each light source. An object of the present invention is to enable correction of the main scanning magnification for each beam without providing it.

請求項1記載の発明は、第1の光源と第2の光源とを備え、前記第1の光源からの第1の光ビームと前記第2の光源からの第2の光ビームとで同時に感光体上を走査することにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置であって前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとで構成される第1のパターンと、前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとで構成される第2のパターンと、を形成するパターン形成手段と、前記第1のパターンにおける前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第1の間隔と、前記第2のパターンにおける前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第2の間隔と、主走査方向の所定位置において測定する測定手段と、前記測定された前記第1の間隔と第1の所定の値との差分と、前記測定された第2の間隔と前記第1の所定の値との差分と、に基づき、主走査倍率を調整する調整手段と、を有することを特徴とする。 At the same time sensitive in a first aspect of the present invention, includes a first light source and the second light source, the first light beam from said first light source and the second light beam from said second light source by scanning the body, it said on the photoreceptor to an image forming device for forming a latent image, first made by the oblique line pattern by the horizontal line pattern by the first beam and the second beam Pattern forming means for forming a first pattern in the first pattern, and a second pattern composed of a horizontal line pattern by the second beam and an oblique line pattern by the first beam, and the first pattern in the first pattern A first interval that is an interval in a sub-scanning direction between a horizontal line pattern by the second beam and an oblique line pattern by the second beam, a horizontal line pattern by the second beam in the second pattern, and the first Beam by a second distance, which is the sub-scanning direction of the spacing between the oblique line pattern, a measuring means for measuring a predetermined position in the main scanning direction, wherein said measured first interval and the first predetermined the difference between the value, based on a difference between the measured second of said first predetermined value and interval, and having a an adjustment means for adjusting the main scanning magnification.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の装置において、前記調整手段は、前記測定された前記第1の間隔と前記測定された前記第2の間隔との差分に基づき、主走査倍率を調整することを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the apparatus according to the first aspect, the adjusting means determines a main scanning magnification based on a difference between the measured first interval and the measured second interval. It is characterized by adjusting.

請求項3記載の発明は、請求項1又は2記載の装置において、前記調整手段による主走査倍率の調整は、走査ラインを構成する画素のうち、倍率調整に必要な数の画素を、1画素の幅を増加または減少することで行うことを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the apparatus according to the first or second aspect, the adjustment of the main scanning magnification by the adjusting means is performed by changing the number of pixels necessary for the magnification adjustment among the pixels constituting the scanning line to one pixel. It is characterized by being performed by increasing or decreasing the width.

請求項4記載の発明は、請求項1から3のいずれか1項に記載の装置において、前記調整手段による主走査倍率の調整は、光源付近の温度変化が第2の所定の値以上となったときに実行することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the apparatus according to any one of the first to third aspects, the main scanning magnification is adjusted by the adjusting means so that the temperature change near the light source becomes equal to or greater than a second predetermined value. It is characterized by being executed when

請求項5記載の発明は、請求項1から4のいずれか1項に記載の装置において、前記測定手段は、光を発光する発光手段と、該発光手段からの光が前記感光体上の所定位置で反射した光を受光する受光手段と、を備え、該受光手段が、前記画像形成装置の作像プロセス条件を設定するための反射光強度検出手段を兼ねることを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the apparatus according to any one of the first to fourth aspects, the measuring unit includes a light emitting unit that emits light, and light from the light emitting unit is predetermined on the photoconductor. A light receiving means for receiving the light reflected at the position, and the light receiving means also serves as a reflected light intensity detecting means for setting an image forming process condition of the image forming apparatus.

請求項6記載の発明は、第1の光源と第2の光源とを備え、前記第1の光源からの第1の光ビームと前記第2の光源からの第2の光ビームとで同時に感光体上を走査することにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置で用い光ビーム位置補正方法であって前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとで構成される第1のパターンと、前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとで構成される第2のパターンと、を形成し、前記第1のパターンにおける前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第1の間隔と、前記第2のパターンにおける前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第2の間隔と、主走査方向の所定位置において測定し、前記測定された前記第1の間隔と第1の所定の値との差分と、前記測定された第2の間隔と前記第1の所定の値との差分と、に基づき、主走査倍率を調整することを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, a first light source and a second light source are provided, and the first light beam from the first light source and the second light beam from the second light source are simultaneously exposed. by scanning the body, said a light beam position correction method Ru used in the image forming device for forming a latent image on a photosensitive member, an oblique line according to the first and the second beam and the horizontal line pattern by the beam a first pattern composed of a pattern to form a second pattern constituted by the oblique line pattern by the horizontal line pattern first beam by the second beam, the first pattern A first interval which is an interval in a sub-scanning direction between a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam, and a horizontal line pattern by the second beam in the second pattern A second distance, which is the sub-scanning direction of the spacing between the slanting line pattern by the first beam, was measured at a predetermined position in the main scanning direction, wherein said measured first interval and the first predetermined The main scanning magnification is adjusted based on a difference between the values and a difference between the measured second interval and the first predetermined value .

請求項7記載の発明は、第1の光源と第2の光源とを備え、前記第1の光源からの第1の光ビームと前記第2の光源からの第2の光ビームとで同時に感光体上を走査することにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置のコンピュータに実行させるプログラムであって前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとで構成される第1のパターンと、前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとで構成される第2のパターンと、を形成するパターン形成処理と、前記第1のパターンにおける前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第1の間隔と、前記第2のパターンにおける前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第2の間隔と、主走査方向の所定位置において測定する測定処理と、前記測定された前記第1の間隔と第1の所定の値との差分と、前記測定された第2の間隔と前記第1の所定の値との差分と、に基づき、主走査倍率を調整する調整処理と、前記画像形成装置のコンピュータに実行させるプログラムである。 According to a seventh aspect of the present invention, a first light source and a second light source are provided, and the first light beam from the first light source and the second light beam from the second light source are simultaneously sensitized. by scanning the body, a program to be executed by a computer of an image forming device for forming a latent image on the photosensitive member, and the oblique line pattern by the horizontal line pattern by the first beam and the second beam a first pattern formed in a second pattern formation process for forming a second pattern constituted by the oblique line pattern by the horizontal line pattern first beam by the beam, the first A first interval which is an interval in a sub-scanning direction between a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam in the pattern of the second pattern, and the second in the second pattern. A second distance, which is the sub-scanning direction of the spacing between the oblique line pattern by the horizontal line pattern and the first beam by the beam, a measurement process of measuring a predetermined position in the main scanning direction, the measured first intervals and the difference between the first predetermined value, said, the adjustment process and the difference, based on, to adjust the main scanning magnification of the measured second of said first predetermined value and interval A program to be executed by a computer of an image forming apparatus .

請求項1,2,6,7の発明によれば、2つ以上の複数の光ビームの各光源の発振波長が異なり、ビーム射出光源毎に感光体上での主走査倍率が異なってしまう場合でも、書込み終了側に通過時間間隔測定用の光検出手段を設けることなく、各ビームでの主走査倍率を補正することができる。また、請求項1,2,6,7の発明によれば、簡単なパターンを描画することにより、光ビームの位置ずれを精度よく検出することができる。 According to the first, second, sixth, and seventh inventions, the oscillation wavelength of each light source of two or more light beams is different, and the main scanning magnification on the photosensitive member is different for each beam emission light source. However, it is possible to correct the main scanning magnification for each beam without providing light detection means for measuring the passage time interval on the writing end side. In addition, according to the first, second, sixth, and seventh aspects of the present invention, it is possible to accurately detect the positional deviation of the light beam by drawing a simple pattern.

請求項の発明によれば、書込みクロック周波数を変更して主走査倍率を調整する場合に比べて細かいステップでの調整が可能である。
請求項の発明によれば、光源の温度変化により発振波長が変化し、記録媒体上での主走査倍率が変化した場合でも、各ビームでの主走査倍率を補正することができる。
According to the third aspect of the present invention, the adjustment can be made in finer steps compared to the case where the main scanning magnification is adjusted by changing the write clock frequency.
According to the invention of claim 4 , even when the oscillation wavelength changes due to the temperature change of the light source and the main scanning magnification on the recording medium changes, the main scanning magnification for each beam can be corrected.

請求項の発明によれば、作像プロセス条件を設定するための専用の検出手段を設けることなく、主走査倍率を補正することができる。 According to the invention of claim 5 , the main scanning magnification can be corrected without providing a dedicated detection means for setting the image forming process condition.

以下、本発明の実施形態を図面と共に説明する。
図1(a)は本発明の第1の実施形態による画像形成装置の構成を示すブロック図
ある。図1(b)は感光体ドラム12周辺の構成図である。
図1(a)において、2つのレーザダイオードLD0、LD1より出射した2本のレーザビーム(ビーム0、ビーム1)は、定速回転するポリゴンミラー10により主走査方向に走査され、レンズ11を介して感光体ドラム12の面上に結像され、感光体ドラム12に静電潜像が形成される。以降は、トナーによる現像、トナー転写部24(図1(b))等による公知の画像形成プロセスを経て画像が転写された転写材が出力される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1A is a block diagram showing a configuration of an image forming apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1B is a configuration diagram around the photosensitive drum 12.
In FIG. 1A, two laser beams (beam 0, beam 1) emitted from two laser diodes LD0 and LD1 are scanned in a main scanning direction by a polygon mirror 10 that rotates at a constant speed, and passes through a lens 11. Thus, an image is formed on the surface of the photosensitive drum 12, and an electrostatic latent image is formed on the photosensitive drum 12. Thereafter, a transfer material on which an image has been transferred through a known image forming process by toner development, toner transfer unit 24 (FIG. 1B), and the like is output.

同期検知器13は、光電変換素子および信号波形整形回路からなり、LD0、LD1からのビーム0,1を検出して検出信号を同期検知信号分離回路14へ送る。同期検知信号分離回路14は、その検出信号をLD0とLD1の同期検知信号に分離してメモリ制御回路15へ送る。メモリ制御回路15は、画像データが入力されるラインメモリ16を同期検知信号に同期して読み出し、PWM回路17,18(CH0,CH1)へ画像データを出力する。   The synchronization detector 13 includes a photoelectric conversion element and a signal waveform shaping circuit, detects the beams 0 and 1 from the LD0 and LD1, and sends a detection signal to the synchronization detection signal separation circuit 14. The synchronization detection signal separation circuit 14 separates the detection signal into the synchronization detection signals of LD0 and LD1, and sends them to the memory control circuit 15. The memory control circuit 15 reads the line memory 16 to which image data is input in synchronization with the synchronization detection signal, and outputs the image data to the PWM circuits 17 and 18 (CH0, CH1).

主走査書き出し位置は、同期検知信号を基準とするので、LD0とLD1の発振波長が異なり、レンズ12での屈折角が異なってもほとんど影響を受けない。PWM回路17,18は、受け取った画像データに基づき、LDドライバ19,20(CH0,CH1)へPWM信号を送る。PWM信号は、ビデオクロック信号に同期して出力される。ビデオクロック信号は、LD0とLD1で独立して設定可能な構成としている。LDドライバ19,20は、PWM信号の「オン」信号を受けると駆動電流を、「オフ」信号を受けるとオフセット電流をLD0、LD1へ供給する。LD0、LD1はオン・オフに応じたビーム0,1を出力する。   Since the main scanning writing position is based on the synchronization detection signal, even if the oscillation wavelengths of LD0 and LD1 are different and the refraction angles at the lens 12 are different, they are hardly affected. The PWM circuits 17 and 18 send PWM signals to the LD drivers 19 and 20 (CH0 and CH1) based on the received image data. The PWM signal is output in synchronization with the video clock signal. The video clock signal can be set independently by LD0 and LD1. The LD drivers 19 and 20 supply the drive current to the LD0 and LD1 when receiving the “ON” signal of the PWM signal and the offset current when receiving the “OFF” signal. LD0 and LD1 output beams 0 and 1 according to on / off.

本実施形態は、このLD0、LD1から出力されるビーム0,1の感光体ドラム12上での主走査位置ずれを検出して位置ずれ補正を行うものであるが、この補正制御で用いられるパターン(1)とパターン(2)を図3に示す。各パターンは、感光体ドラム上の主走査書き終わり位置に出力する。図3において、パターン(1)は、LD0からのビームで描く水平線パターン30と、LD1からのビームで描く傾き45°の斜め線パターン31からなる。パターン(2)は、LD0からのビームで描く傾き45°の斜め線パターン31と、LD1からのビームで描く水平線パターン30からなる。パターン(1)、パターン(2)とも、LD0とLD1からのビームの主走査位置にずれがないときは、相対位置が同じになるように配置している。   In the present embodiment, the misalignment correction is performed by detecting the main scanning misalignment of the beams 0 and 1 output from the LD0 and LD1 on the photosensitive drum 12, and the pattern used in this correction control is used. FIG. 3 shows (1) and pattern (2). Each pattern is output at the main scanning writing end position on the photosensitive drum. In FIG. 3, the pattern (1) includes a horizontal line pattern 30 drawn by the beam from LD0 and an oblique line pattern 31 drawn by the beam from LD1 and having an inclination of 45 °. The pattern (2) includes an oblique line pattern 31 with an inclination of 45 ° drawn by the beam from LD0 and a horizontal line pattern 30 drawn by the beam from LD1. Both pattern (1) and pattern (2) are arranged so that the relative positions are the same when there is no deviation in the main scanning positions of the beams from LD0 and LD1.

図1に戻り、ビーム0,1により感光体ドラム面上に形成した静電潜像にトナーを付着させて顕像化した後、パターン検出センサ21によりパターンの主走査中央部での反射光強度を読み取る。反射光強度は、トナーの有無、すなわちパターンの有無により異なっている。パターン検出センサ21は、発光部、感光体ドラム面上で所望の測定アパーチャ径を得る光学系、受光部(フォトダイオード)、受光部からの電流出力を増幅する増幅部とを備える。受光部は、発光部の光が感光体ドラム上で反射した光を受光する。パターン検出センサ21からの受光部の受光に応じた出力信号電圧は比較器22に入力され、基準電圧と比較することにより2値のデジタル電圧値に変換される。   Returning to FIG. 1, after the toner is attached to the electrostatic latent image formed on the surface of the photosensitive drum by the beams 0 and 1 to be visualized, the reflected light intensity at the central scanning center of the pattern is detected by the pattern detection sensor 21. Read. The reflected light intensity varies depending on the presence or absence of toner, that is, the presence or absence of a pattern. The pattern detection sensor 21 includes a light emitting unit, an optical system that obtains a desired measurement aperture diameter on the surface of the photosensitive drum, a light receiving unit (photodiode), and an amplifying unit that amplifies the current output from the light receiving unit. The light receiving unit receives light reflected by the light emitting unit on the photosensitive drum. The output signal voltage corresponding to the light reception of the light receiving unit from the pattern detection sensor 21 is input to the comparator 22 and converted into a binary digital voltage value by comparing with the reference voltage.

パターン検出センサ21の感光体ドラム面上でのアパーチャ径は例えば100μmである。感光体ドラム12は等速回転しているので、パターン検出センサ21のアパーチャはパターンを縦方向に過ぎる。このとき各パターンの有無に応じて比較器22の出力は、図3のパターン(1)(2)の各右側に示すような出力波形となる。この出力波形は、その立下り間隔T01,T10が、ビームの感光体ドラム12上でのLD0とLD1の発振波長の違いに起因する主走査位置ずれに応じて変化している。これを制御部23により補正する。補正は、主走査倍率を変更することにより行われる。   The aperture diameter of the pattern detection sensor 21 on the photosensitive drum surface is, for example, 100 μm. Since the photosensitive drum 12 rotates at a constant speed, the aperture of the pattern detection sensor 21 passes the pattern in the vertical direction. At this time, the output of the comparator 22 has an output waveform as shown on the right side of the patterns (1) and (2) in FIG. In this output waveform, the falling intervals T01 and T10 change according to the main scanning position shift caused by the difference in the oscillation wavelength of LD0 and LD1 on the photosensitive drum 12 of the beam. This is corrected by the control unit 23. Correction is performed by changing the main scanning magnification.

図2は制御部23における補正制御処理を示すフローチャートである。
図2において、まず、パターン(1)を描く(S1)。次に、比較器22の出力波形の立下り間隔T01を、ビデオクロックの8倍周波数のクロックでカウントすることにより測定する(S2)。
LD0とLD1の発振波長が異なり、パターンの主走査位置がシフトした場合、
比較器出力波形の立下り間隔は各パターンにおいて、
パターン(1)では、
LD0水平線パターンがシフトしたとき、比較器出力波形の立下り間隔T01は不変。
LD1斜め線パターンが右へシフトしたとき、比較器出力波形の立下り間隔T01は増加。
LD1斜め線パターンが左へシフトしたとき、比較器出力波形の立下り間隔T01は減少。
パターン(2)では、
LD1水平線パターンがシフトしたとき、比較器出力波形の立下り間隔T10は不変。
LD0斜め線パターンが右へシフトしたとき、比較器出力波形の立下り間隔T10は増加。
LD0斜め線パターンが左へシフトしたとき、比較器出力波形の立下り間隔T10は減少。
となる。
FIG. 2 is a flowchart showing the correction control process in the control unit 23.
In FIG. 2, a pattern (1) is first drawn (S1). Next, the falling interval T01 of the output waveform of the comparator 22 is measured by counting with a clock having a frequency eight times the video clock (S2).
When the oscillation wavelengths of LD0 and LD1 are different and the main scanning position of the pattern is shifted,
The falling interval of the comparator output waveform is
In pattern (1),
When the LD0 horizontal line pattern is shifted, the falling interval T01 of the comparator output waveform remains unchanged.
When the LD1 diagonal line pattern is shifted to the right, the falling interval T01 of the comparator output waveform increases.
When the LD1 diagonal line pattern is shifted to the left, the falling interval T01 of the comparator output waveform decreases.
In pattern (2),
When the LD1 horizontal line pattern is shifted, the falling interval T10 of the comparator output waveform remains unchanged.
When the LD0 diagonal line pattern is shifted to the right, the falling interval T10 of the comparator output waveform increases.
When the LD0 diagonal line pattern is shifted to the left, the falling interval T10 of the comparator output waveform decreases.
It becomes.

そこで、立下り間隔T01、T10を適正値と比較し(S3)(S4)、その差分から各LDに対応するビデオクロック信号の周波数を変更することにより、主走査倍率を変更する(S5)(S6)。ビデオクロック信号の周波数変更は、基準クロックの分周数と逓倍数との比を変えることにより変更する。   Therefore, the falling intervals T01 and T10 are compared with appropriate values (S3) (S4), and the main scanning magnification is changed by changing the frequency of the video clock signal corresponding to each LD from the difference (S5) ( S6). The frequency of the video clock signal is changed by changing the ratio between the frequency division number and the multiplication number of the reference clock.

図2において、T01が適正値より大きければ(S3、YES)、CH1(LD1)の主走査倍率を下げてから(S5)、パターン(2)を描く(S7)。また、T01が適正値より小さければ(S4、YES)、CH1の主走査倍率を上げてから(S6)、パターン(2)を描く(S7)。パターン(2)を描画した後(S7)、比較器出力波形の立下り間隔T10を測定する(S8)。そして、T10が適正値より大きければ(S9、YES)、CH0(LD0)の主走査倍率を下げて(S10)、終了する。また、T10が適正値より小さければ(S11、YES)、CH1の主走査倍率を下げて、(S6)、終了する。
このようにして、LD0とLD1の発振波長の違いに起因する主走査位置ずれを補正することができる。
In FIG. 2, if T01 is larger than the appropriate value (S3, YES), the main scanning magnification of CH1 (LD1) is lowered (S5), and then the pattern (2) is drawn (S7). If T01 is smaller than the appropriate value (S4, YES), the main scanning magnification of CH1 is increased (S6), and then the pattern (2) is drawn (S7). After drawing the pattern (2) (S7), the falling interval T10 of the comparator output waveform is measured (S8). If T10 is larger than the appropriate value (S9, YES), the main scanning magnification of CH0 (LD0) is lowered (S10), and the process ends. If T10 is smaller than the appropriate value (S11, YES), the main scanning magnification of CH1 is lowered (S6), and the process ends.
In this way, it is possible to correct a main scanning position shift caused by a difference in oscillation wavelength between LD0 and LD1.

なお、本実施形態は、同時に走査する光ビームが2つの場合について説明したが、ビーム数が3以上であっても、検出用パターンの組合せを増やすことにより適用が可能である。   Although the present embodiment has been described for the case where two light beams are scanned simultaneously, even when the number of beams is three or more, the present embodiment can be applied by increasing the number of combinations of detection patterns.

図4は補正制御の他の処理方法を示すフローチャートである。
まず、パターン(1)を描き(S21)、立下り間隔T01を測定する(S22)。次に、パターン(2)を描き(S23)、立下り間隔T10を測定する(S22)。そして、T01とT10を比較する(S25)(S26)。T01がT10より小さければ(S25、YES)、CH1主走査倍率を下げて(S27)、終了する。また、T01がT10より大きければ(S26、YES)、CH1の主走査倍率を上げて、(S28)、終了する。
以上によれば、LD0の主走査位置を基準としてLD1側を補正するので、LD0側の主走査絶対倍率はずれるが、LD0とLD1の主走査位置ずれを補正することができる。
FIG. 4 is a flowchart showing another processing method of correction control.
First, the pattern (1) is drawn (S21), and the falling interval T01 is measured (S22). Next, a pattern (2) is drawn (S23), and the falling interval T10 is measured (S22). Then, T01 and T10 are compared (S25) (S26). If T01 is smaller than T10 (S25, YES), the CH1 main scanning magnification is lowered (S27), and the process ends. If T01 is larger than T10 (S26, YES), the main scanning magnification of CH1 is increased (S28), and the process ends.
According to the above, since the LD1 side is corrected on the basis of the main scanning position of LD0, the main scanning absolute magnification of the LD0 side deviates, but the main scanning position deviation between LD0 and LD1 can be corrected.

次に、本発明の第2の実施形態を説明する。
本実施形態は、上記第1の実施形態の画像形成装置において、さらにPWM回路17,18が、書込制御回路からのパルス期間増減信号により、書き込みパルス期間を15/16または17/16とする機能を備えたものである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
In the present embodiment, in the image forming apparatus of the first embodiment, the PWM circuits 17 and 18 further set the write pulse period to 15/16 or 17/16 based on the pulse period increase / decrease signal from the write control circuit. It has a function.

この場合の補正制御は、まず、立下り間隔T01、T10を適正値と比較し、その差分から、各LDに対して送出するPWM信号のパルス期間を増減する。期間を増減したパルスは、1ラインの長さに対して、主走査倍率を変更するのに必要な数だけ挿入する。つまり図2の補正制御フローにおいて、主走査倍率の変更を、1ライン中の画素のうち、必要な個数だけを、パルス期間を増減した画素とすることにより行う。さらに言い換えれば、主走査倍率の調整は、走査ラインを構成する画素のうち、倍率調整に必要な数の画素を、1画素の幅を増加または減少することで行うので、ビデオクロック信号の周波数を変更する場合に比べて細かいステップでの調整が可能となる。   In the correction control in this case, first, the falling intervals T01 and T10 are compared with appropriate values, and the pulse period of the PWM signal transmitted to each LD is increased or decreased from the difference. The number of pulses whose period has been increased or decreased is inserted as many as necessary to change the main scanning magnification with respect to the length of one line. That is, in the correction control flow of FIG. 2, the main scanning magnification is changed by setting only the necessary number of pixels in one line as pixels with increased or decreased pulse periods. In other words, the main scanning magnification adjustment is performed by increasing or decreasing the width of one pixel among the pixels constituting the scanning line by increasing or decreasing the width of one pixel. Compared with the case of changing, it is possible to adjust in fine steps.

図3は本発明の第3の実施形態を示すもので、図1と対応する部分には同一番号を付して重複する説明は省略する。
本実施形態は、第1の実施形態による図1において、さらに光源LD(LD0、LD1)の付近に温度センサ25を設けたものである。LDの発振波長は、LDの温度上昇により変化するので、光源付近の温度変化が所定の値以上となったときに、主走査位置ずれ補正を実施する。
FIG. 3 shows a third embodiment of the present invention. The parts corresponding to those in FIG.
In the present embodiment, a temperature sensor 25 is further provided in the vicinity of the light source LD (LD0, LD1) in FIG. 1 according to the first embodiment. Since the oscillation wavelength of the LD changes with the temperature rise of the LD, the main scanning position deviation correction is performed when the temperature change near the light source becomes a predetermined value or more.

図6は本実施形態による補正制御処理を示すフローチャートである。
図6において、まず、温度センサ25の検出した初期温度T0を取得する(S31)。その後が所定時間毎に検出温度Tを取得する(S32)。そして、T−T0の絶対値が5℃より大きいかを判定し(S33)、大きい場合は主走査位置ずれ補正を行う(S34)。そして、T0を最新のTとしてS32に戻り、以降、同じ処理を繰り返す。
FIG. 6 is a flowchart showing the correction control process according to the present embodiment.
In FIG. 6, first, the initial temperature T0 detected by the temperature sensor 25 is acquired (S31). Thereafter, the detected temperature T is acquired every predetermined time (S32). Then, it is determined whether or not the absolute value of T-T0 is greater than 5 ° C. (S33), and if it is greater, main scanning position deviation correction is performed (S34). Then, the process returns to S32 with T0 as the latest T, and thereafter the same processing is repeated.

次に、本発明の第4の実施形態を説明する。
本実施形態は、図1の画像形成装置において、主走査位置ずれ検出用のパターン検出センサ21の受光部を、作像プロセス条件(バイアス電圧、光量)を設定するために用いる反射光強度センサと兼用するようにしたものである。
これにより作像プロセス条件設定用の専用の反射強度検出用のセンサを設ける必要がなくなる。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
In this embodiment, in the image forming apparatus of FIG. 1, the light receiving unit of the pattern detection sensor 21 for detecting the main scanning position deviation is used as a reflected light intensity sensor used for setting image forming process conditions (bias voltage, light amount). It is intended to be used for both purposes.
This eliminates the need to provide a dedicated reflection intensity detection sensor for setting image forming process conditions.

尚、各図のフローチャートに示す処理を、制御部23のCPUが実行するためのプログラムは本発明によるプログラムを構成する。このプログラムを記録する記録媒体としては、半導体記憶装置や光学的及び/又は磁気的な記憶装置等を用いることができる。このようなプログラム及び記録媒体を、前述した各実施形態とは異なる構成のシステム等で用い、そこのCPUで上記プログラムを実行させることにより、本発明と実質的に同じ効果を得ることができる。   Note that the program for the CPU of the control unit 23 to execute the processes shown in the flowcharts of the drawings constitutes a program according to the present invention. As a recording medium for recording the program, a semiconductor storage device, an optical and / or magnetic storage device, or the like can be used. By using such a program and recording medium in a system having a configuration different from that of each of the above-described embodiments and causing the CPU to execute the program, substantially the same effects as those of the present invention can be obtained.

本発明の第1の実施形態による画像形成装置を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating an image forming apparatus according to a first embodiment of the present invention. 位置ずれ補正制御処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a position shift correction control process. 水平線パターンと斜め線パターン及びこれらのパターンを用いて光ビームの位置ずれ補正を行うことを説明する構成図である。It is a block diagram explaining performing the positional deviation correction of a light beam using a horizontal line pattern and a diagonal line pattern, and these patterns. 位置ずれ補正制御の他の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the other process of position shift correction control. 本発明の第3の実施形態による画像形成装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the image forming apparatus by the 3rd Embodiment of this invention. 第3の実施形態による温度により位置ずれ補正を行う場合の補正制御処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the correction control process in the case of performing position shift correction by the temperature by 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

12 感光体ドラム
16 ラインメモリ
17,18 PWM回路
19,20 LDドライバ
LD0,LD1 レーザ光源
21 パターン検出センサ
22 比較器
23 制御部
25 温度センサ
30 水平線パターン
31 斜め線パターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Photosensitive drum 16 Line memory 17, 18 PWM circuit 19, 20 LD driver LD0, LD1 Laser light source 21 Pattern detection sensor 22 Comparator 23 Control part 25 Temperature sensor 30 Horizontal line pattern 31 Diagonal line pattern

Claims (7)

第1の光源と第2の光源とを備え、前記第1の光源からの第1の光ビームと前記第2の光源からの第2の光ビームとで同時に感光体上を走査することにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置であって
前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとで構成される第1のパターンと、前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとで構成される第2のパターンと、を形成するパターン形成手段と、
前記第1のパターンにおける前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第1の間隔と、前記第2のパターンにおける前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第2の間隔と、主走査方向の所定位置において測定する測定手段と、
前記測定された前記第1の間隔と第1の所定の値との差分と、前記測定された第2の間隔と前記第1の所定の値との差分と、に基づき、主走査倍率を調整する調整手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
By a first and second light sources to scan the first light beam and second light beam simultaneously with the photoreceptor above in from the second light source from the first light source, an image forming device for forming a latent image on said photosensitive member,
A first pattern constituted by a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam; a horizontal line pattern by the second beam; and an oblique line pattern by the first beam. A second pattern to be formed, pattern forming means for forming,
A first interval which is an interval in a sub-scanning direction between a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam in the first pattern; and the second beam in the second pattern. Measuring means for measuring , at a predetermined position in the main scanning direction , a second interval that is an interval in the sub-scanning direction between the horizontal line pattern by and the oblique line pattern by the first beam ;
The main scanning magnification is adjusted based on the difference between the measured first interval and the first predetermined value and the difference between the measured second interval and the first predetermined value. an image forming apparatus comprising: the adjusting means for the.
前記調整手段は、The adjusting means includes
前記測定された前記第1の間隔と前記測定された前記第2の間隔との差分に基づき、主走査倍率を調整することを特徴とする請求項1記載の画像形成装置。The image forming apparatus according to claim 1, wherein a main scanning magnification is adjusted based on a difference between the measured first interval and the measured second interval.
前記調整手段による主走査倍率の調整は、
走査ラインを構成する画素のうち、倍率調整に必要な数の画素を、1画素の幅を増加または減少することで行うことを特徴とする請求項1又は2記載の画像形成装置。
Adjustment of the main scanning magnification by the adjusting means is
3. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the number of pixels required for magnification adjustment among the pixels constituting the scanning line is increased or decreased by increasing or decreasing the width of one pixel.
前記調整手段による主走査倍率の調整は、
光源付近の温度変化が第2の所定の値以上となったときに実行することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の画像形成装置。
Adjustment of the main scanning magnification by the adjusting means is
4. The image forming apparatus according to claim 1 , wherein the image forming apparatus is executed when a temperature change in the vicinity of the light source becomes equal to or greater than a second predetermined value. 5.
前記測定手段は、
光を発光する発光手段と、該発光手段からの光が前記感光体上の所定位置で反射した光を受光する受光手段と、を備え、該受光手段が、前記画像形成装置の作像プロセス条件を設定するための反射光強度検出手段を兼ねることを特徴とする請求項1からのいずれか1項に記載の画像形成装置。
The measuring means includes
Comprising a light emitting means for emitting light, light receiving means for receiving light light is reflected at a predetermined position on the photosensitive member from the light emitting means, a light receiving means, the image forming process conditions of the image forming apparatus the image forming apparatus according to claim 1, any one of 4, characterized in that also serves as the reflected light intensity detecting means for setting.
第1の光源と第2の光源とを備え、前記第1の光源からの第1の光ビームと前記第2の光源からの第2の光ビームとで同時に感光体上を走査することにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置で用い光ビーム位置補正方法であって
前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとで構成される第1のパターンと、前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとで構成される第2のパターンと、を形成し、
前記第1のパターンにおける前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第1の間隔と、前記第2のパターンにおける前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第2の間隔と、主走査方向の所定位置において測定し、
前記測定された前記第1の間隔と第1の所定の値との差分と、前記測定された第2の間隔と前記第1の所定の値との差分と、に基づき、主走査倍率を調整することを特徴とする光ビーム位置補正方法。
By a first and second light sources to scan the first light beam and second light beam simultaneously with the photoreceptor above in from the second light source from the first light source, wherein on the photosensitive member to a light beam position correction method Ru used in the image forming device for forming a latent image,
A first pattern constituted by a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam; a horizontal line pattern by the second beam; and an oblique line pattern by the first beam. A second pattern to be formed,
A first interval which is an interval in a sub-scanning direction between a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam in the first pattern; and the second beam in the second pattern. Measuring a second interval, which is an interval in the sub-scanning direction, between the horizontal line pattern by and the oblique line pattern by the first beam at a predetermined position in the main scanning direction ,
The main scanning magnification is adjusted based on the difference between the measured first interval and the first predetermined value and the difference between the measured second interval and the first predetermined value. And a light beam position correcting method.
第1の光源と第2の光源とを備え、前記第1の光源からの第1の光ビームと前記第2の光源からの第2の光ビームとで同時に感光体上を走査することにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置のコンピュータに実行させるプログラムであって
前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとで構成される第1のパターンと、前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとで構成される第2のパターンと、を形成するパターン形成処理と、
前記第1のパターンにおける前記第1のビームによる水平線パターンと前記第2のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第1の間隔と、前記第2のパターンにおける前記第2のビームによる水平線パターンと前記第1のビームによる斜め線パターンとの副走査方向の間隔である第2の間隔と、主走査方向の所定位置において測定する測定処理と、
前記測定された前記第1の間隔と第1の所定の値との差分と、前記測定された第2の間隔と前記第1の所定の値との差分と、に基づき、主走査倍率を調整する調整処理と、前記画像形成装置のコンピュータに実行させるプログラム。
By a first and second light sources to scan the first light beam and second light beam simultaneously with the photoreceptor above in from the second light source from the first light source, a program for causing a computer to execute an image forming device for forming a latent image on said photosensitive member,
A first pattern constituted by a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam; a horizontal line pattern by the second beam; and an oblique line pattern by the first beam. A second pattern to be formed , and a pattern forming process for forming
A first interval which is an interval in a sub-scanning direction between a horizontal line pattern by the first beam and an oblique line pattern by the second beam in the first pattern; and the second beam in the second pattern. A measurement process for measuring at a predetermined position in the main scanning direction , a second interval that is an interval in the sub-scanning direction between the horizontal line pattern by and the oblique line pattern by the first beam ;
The main scanning magnification is adjusted based on the difference between the measured first interval and the first predetermined value and the difference between the measured second interval and the first predetermined value. and adjustment process of the program to be executed by a computer of the image forming apparatus.
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