JP4517900B2 - 基板、有機el表示装置、電子機器、基板の製造方法、及び有機el表示装置の製造方法 - Google Patents

基板、有機el表示装置、電子機器、基板の製造方法、及び有機el表示装置の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、色要素を有する基板および基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置および電気光学装置の製造方法、電子機器に関する。
電気光学装置の1つとして、有機EL素子を有する基板を用いた自発光型の有機EL表示装置がある。また、基板上の電極(陽極)を有する複数の色要素領域に、正孔注入層と発光層とを形成する材料を含むインク組成物(機能液)を塗布して有機EL素子を製造する方法が知られている(特許文献1)。
このような有機EL素子の製造方法では、複数の色要素領域は、隔壁部(バンク)によって区画されており、前記インク組成物を塗布した際に、隣接する色要素領域に流出しないように、バンクの表面は、撥インク処理(撥液処理)が施されている。また、バンクによって区画された色要素領域は、インク組成物がよく濡れ拡がるように、親インク処理(親液処理)が施されている。
また、このようなバンクとして、より具体的には、無機材料からなる下層バンクと、有機材料からなる上層バンクとによる二層バンク構造とすることが知られている。
特開2002−305077号公報
しかしながら、上記のようなバンクを有する基板において、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して色要素を形成しようとする場合、バンクで区画された色要素領域に対する各機能液の濡れ性は、必ずしも一定ではない。例えば、発光層形成材料を含む複数種の機能液を複数の色要素領域に付与して複数種の発光層を形成しようとする場合、親液処理された色要素領域に正孔注入層が先に形成されているため、付与される機能液の濡れ性が正孔注入層に対して機能液ごとに異なると、乾燥後の発光層の表面に起伏が生じ、断面形状が色要素領域ごとに異なるという課題がある。また、このような課題を改善するために、機能液ごとに乾燥条件を変える方法や正孔注入層の表面を改質する方法が考えられるが、発光層の形成工程が煩雑になってしまう。
また、上記従来の方法で形成された有機EL素子を有する基板を用いて、有機EL表示装置を製造すれば、各色要素領域において発光層の断面形状が異なることによる輝度ムラ、色ムラ等が発生する惧れがある。
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、断面形状がほぼ一定した複数の色要素を有する基板およびこの基板の製造方法、この基板を用いた電気光学装置およびその製造方法、電気光学装置を搭載した電子機器を提供することを目的とする。
本発明の基板は、複数の色要素領域を有する基板であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、複数の色要素領域内に形成された色要素とを有し、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異なることを特徴とする。
色要素の電気光学的な特性は、形成された色要素の断面形状によって左右され、断面形状がほぼ一定、好ましくはより平坦な色要素の形状が求められる。この構成によれば、複数の色要素領域を区画するバンクの壁面に段差を有している。したがって、例えば、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する場合、複数の色要素領域に付与された各機能液の一部は、段差の表面に濡れ拡がり、他の機能液は段差で区画された領域に濡れ拡がる。その後、濡れ拡がった機能液を乾燥させて形成された色要素の断面形状は、段差の表面と段差で区画された領域とでは、それぞれに濡れ拡がった機能液の状態によって異なる。よって、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を、複数の色要素領域に形成される色要素の種類に応じて異ならせることにより、形成後の色要素の断面形状を調整することができる。そして、上記張り出し量を適宜設定することにより、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を提供することができる。
また本発明の他の基板は、複数の色要素領域を有する基板であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するバンクと、複数の色要素領域内に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色要素とを有し、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なることを特徴とする。
この構成によれば、バンクの段差は、色要素領域の内側に張り出すように設けられ、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なっている。したがって、色要素領域に対して各機能液の濡れ性が異なっていても、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を付与される機能液に応じて変えることにより、付与後の機能液の濡れ拡がり状態を複数の色要素領域ごとに調整することができる。例えば、機能液に対して高い撥液性を示すバンクで区画された色要素領域に機能液を付与すれば、付与された機能液は、バンクにより弾かれる。弾かれた機能液は、色要素領域の中央側に寄ってゆくため、乾燥後の色要素の断面形状は、中央側の膜厚が厚い状態になり易い。この場合、バンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を少なくしてやれば、バンクの段差で弾かれて色要素領域の中央側に寄る機能液の量が減少する。よって、乾燥後の色要素の断面形状をより平坦な状態にすることができる。すなわち、各機能液ごとのバンクや色要素領域に対する濡れ性を考慮して、バンクの段差が色要素領域の内側に張り出す量を各機能液ごとに設定すれば、付与後の機能液の濡れ拡がり状態を調整することができ、複数の色要素領域において乾燥後の断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を提供することができる。
これらの本発明の基板において、バンクは、積層構造を有し、色要素領域を区画する上層バンクと、色要素領域の内側に張り出して上層バンクとの間で段差を形成する下層バンクとを備えることが好ましい。
この構成によれば、下層バンクは、上層バンクによって区画される色要素領域の内側に張り出すように設けられて段差を形成している。したがって、下層バンクと上層バンクとの相対的な位置関係を各機能液が付与される色要素領域ごとに異ならせることにより、色要素領域の内側への段差の張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクを配置することができる。また、例えば下層バンクと上層バンクとを構成する材料を異ならせて、機能液に対する濡れ性が、下層バンクと上層バンクとでは異なるようにバンクを設けることもできる。尚、下層バンクと上層バンクは、それ自体が一層からなるものでもよいし、複層からなるものでもよい。例えば、3層積層構造である場合、下二層を下層バンクとし上一層を上層バンクとしたり、その反対に、下一層を下層バンクとし上二層を上層バンクとすることができる。
また、これらの本発明の基板において、上層バンクの表面は、機能液に対して撥液性を有し、下層バンクの少なくとも段差を形成している部分は、上層バンクよりも表面が親液性であることが好ましい。
この構成によれば、複数の色要素領域に付与される各機能液は、撥液性を有する上層バンクの表面によって弾かれ、親液性を有する下層バンクの段差の部分で、よく濡れ拡がる。したがって、色要素領域内に隈なく各機能液を行き渡らせることができる。
また本発明の基板において、色要素は、複数の色要素領域に対応して基板上に設けられた電極と、電極の上に張り出したバンクの段差で区画された領域に配置された正孔注入輸送層と、色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成されると共に、正孔注入輸送層の上に積層される複数種の発光層を備え、バンクの段差の張り出し量は、発光層の種類に応じた機能液の正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする。
この構成によれば、バンクの段差の張り出し量は、発光層の種類に応じた機能液の正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定されている。したがって、付与された機能液は、段差で区画された正孔注入輸送層上において、表面張力により盛り上がり易くなるが、段差の張り出し量が濡れ性の低い機能液ほど長くなれば、段差で区画された領域が狭くなり、段差の部分に濡れ広がる機能液の量が増えて、表面張力による盛り上がりの程度を軽減することができる。ゆえに、機能液を乾燥して得られる発光層の断面形状をより平坦とすることができる。すなわち、複数の色要素領域ごとに、平坦でほぼ一定した断面形状の発光層を有する基板を提供することができる。
また本発明の基板において、色要素は、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色層を備え、バンクの段差の張り出し量は、色層の種類に応じた機能液の色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されていることを特徴とする。
この構成によれば、バンクの段差の張り出し量は、色層の種類に応じた機能液の色要素領域に対する濡れ性の低いものほど長く設定されている。したがって、付与された機能液は、色要素領域において、表面張力により盛り上がり易くなるが、段差の張り出し量が濡れ性の低い機能液ほど長くなれば、段差で区画された領域が狭くなり、段差の部分に濡れ広がる機能液の量が増えて、表面張力による盛り上がりの程度を軽減することができる。ゆえに、機能液を乾燥して得られる色層の断面形状をより平坦とすることができる。すなわち、複数の色要素領域ごとに、平坦でほぼ一定した断面形状の色層を有する基板を提供することができる。
本発明の電気光学装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を用いているため、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置を提供することができる。
本発明の電気光学装置としての有機EL表示装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層を有する基板を用いているため、各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機EL表示装置を提供することができる。
本発明の電気光学装置としての液晶表示装置は、上記発明の基板を用いていることを特徴とする。この構成によれば、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層を有する基板を用いているため、各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、上記発明の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。この構成によれば、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置、または各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機EL表示装置、あるいは各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置が搭載されている。したがって、表示ムラの少ない高い表示品質を有する電気光学装置で情報を確認することができる電子機器を提供することができる。
本発明の基板の製造方法は、基板上に複数の色要素領域を有する基板の製造方法であって、複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するようにバンクを形成するバンク形成工程と、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成する色要素形成工程とを備え、バンク形成工程では、バンクの段差を、色要素領域の内側に張り出すように形成し、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクを形成することを特徴とする。
この方法によれば、バンク形成工程では、バンクの段差は、バンクによって区画される色要素領域の内側に張り出すように形成され、色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクが形成される。したがって、色要素形成工程で、複数の色要素領域に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色要素を形成すれば、付与された各機能液は、バンクの段差の張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状を張り出し量によって調整された色要素を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素を有する基板を製造することができる。
また、上記バンク形成工程は、色要素領域の内側に張り出すように下層バンクを形成する下層バンク形成工程と、下層バンクの上に上層バンクを形成する上層バンク形成工程とを含み、上層バンク形成工程では、下層バンクの色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるように上層バンクを形成することを特徴とする。
この方法によれば、下層バンク形成工程では、色要素領域の内側に張り出すように下層バンクが形成され、上層バンク形成工程では、下層バンクの上に、下層バンクの色要素領域の内側への張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるように上層バンクが形成される。したがって、バンク形成工程において、下層バンクと上層バンクとの相対的な位置関係を各機能液が付与される色要素領域ごとに異ならせるように下層バンクと上層バンクとを形成すれば、色要素領域の内側への段差の張り出し量が、色要素領域に付与される機能液に応じて異なるようにバンクが配置された基板を製造することができる。さらに、例えば下層バンクと上層バンクとを構成する材料を異ならせて、機能液に対する濡れ性が、下層バンクと上層バンクとでは異なるようにバンクを形成することもできる。
また本発明の基板の製造方法は、基板上の複数の色要素領域にそれぞれ電極を形成する電極形成工程と、電極に積層するように正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程とをさらに備え、色要素形成工程では、電極と正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に、発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して、複数種の発光層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、色要素形成工程では、電極と正孔注入輸送層とが形成された複数の色要素領域に、発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の発光層が形成される。したがって、機能液に応じて色要素領域の内側への張り出し量が異なるバンクの段差、あるいは下層バンクよって区画された複数の色要素領域に、付与された機能液は、バンクの段差、あるいは下層バンクの張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状が調整された複数種の発光層を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層を有する基板を製造することができる。
また、上記色要素形成工程では、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、色要素形成工程では、複数の色要素領域に色層形成材料を含む複数種の機能液を付与して複数種の色層が形成される。したがって、機能液に応じて色要素領域の内側への張り出し量が異なるバンクの段差、あるいは下層バンクよって区画された複数の色要素領域に、付与された機能液は、バンクの段差、あるいは下層バンクの張り出し量に応じて色要素領域に濡れ広がり、その乾燥後の断面形状が調整された複数種の色層を有する基板を製造することができる。ゆえに、張り出し量を機能液に応じて適宜設定すれば、複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層を有する基板を製造することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の色要素を有する基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色要素が形成されるため、各色要素ごとの電気光学特性がほぼ均一な電気光学装置を製造することができる。
本発明の有機EL表示装置の製造方法は、複数の発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機EL表示装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な発光層が形成されるため、各発光層ごとの発光特性がほぼ均一な電気光学装置としての有機EL表示装置を製造することができる。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置の製造方法であって、基板が、上記発明の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。この方法によれば、上記発明の基板の製造方法では、基板上の複数の色要素領域において、断面形状がほぼ一定な色層が形成されるため、各色層ごとの色特性がほぼ均一な電気光学装置としての液晶表示装置を製造することができる。
(第1の実施形態)
本実施形態は、基板上の複数の色要素領域に有機EL発光材料により形成された発光層を有する基板を備えた電気光学装置としての有機EL表示装置および有機EL表示装置の製造方法を例に説明する。
図1は、有機EL表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図1に示すように、本実施形態の電気光学装置としての有機EL表示装置20は、発光素子部17を有する基板1と、基板1と空間21を隔てて封着された封止基板19とを備えている。また基板1は、素子基板2上に回路素子部3を備えており、発光素子部17は、回路素子部3上に重畳して形成され、回路素子部3により駆動されるものである。発光素子部17には、3色の発光層17R,17G,17Bがそれぞれの色要素領域Aに形成され、ストライプ状となっている。基板1は、3色の発光層17R,17G,17Bに対応する3つの色要素領域Aを1組の絵素とし、この絵素が素子基板2の回路素子部3上にマトリクス状に配置されたものである。本実施形態の有機EL表示装置20は、発光素子部17からの発光が素子基板2側に出射するものである。
封止基板19は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して基板1に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤19aが貼り付けられている。ゲッター剤19aは、基板1と封止基板19との間の空間21に侵入した水又は酸素を吸収して、発光素子部17が侵入した水又は酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤19aは省略しても良い。
本実施形態の基板1は、素子基板2の回路素子部3上に複数の色要素領域Aを有するものであって、複数の色要素領域Aを区画すると共に、壁面に段差を有するバンクとしての二層バンク13と、複数の色要素領域Aに形成された電極12と、電極12に積層された正孔注入輸送層16とを備えている。また複数の色要素領域A内に発光層形成材料を含む3種の機能液を付与して形成された発光層17R,17G,17Bを有する色要素としての発光素子部17を備えている。二層バンク13は、下層バンク14と色要素領域Aを実質的に区画する上層バンク15とからなり、下層バンク14は、色要素領域Aの内側に張り出すように設けられて、二層バンク13の壁面に段差を形成している。また下層バンク14の色要素領域Aの内側への張り出し量が、色要素領域Aに付与される機能液に応じて異なっている。
なぜならば、発光層形成材料を含む3種(3色)の機能液をそれぞれ色要素領域Aに付与した後に、一括乾燥させて各発光層17R,17G,17Bを形成する場合、色要素領域Aに対する各機能液の濡れ性が異なるために、乾燥後の断面形状が不均一となることを改善するものである。下層バンク14の色要素領域Aの内側への張り出し量を機能液に応じて変えることにより、色要素領域Aに付与された各機能液のレベリング状態は、ほぼ一定となる。ゆえに乾燥後の各発光層17R,17G,17Bの断面形状をほぼ一定とすることが可能となる。本実施形態では、下層バンク14の張り出し量は、各発光層17R,17G,17Bに対応して、発光層17Bが形成された色要素領域においてもっとも長く張り出し、次に発光層17G、発光層17Rの順となるように設定されている。
素子基板2は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板2上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜2aが形成され、この下地保護膜2a上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜4が形成されている。尚、半導体膜4には、ソース領域4a及びドレイン領域4bが高濃度Pイオン打ち込みにより形成されている。なお、Pが導入されなかった部分がチャネル領域4cとなっている。さらに下地保護膜2a及び半導体膜4を覆う透明なゲート絶縁膜5が形成され、ゲート絶縁膜5上にはAl、Mo、Ta、Ti、W等からなるゲート電極6が形成され、ゲート電極6及びゲート絶縁膜5上には透明な第1層間絶縁膜7と第2層間絶縁膜8が形成されている。ゲート電極6は半導体膜4のチャネル領域4cに対応する位置に設けられている。また、第1層間絶縁膜7および第2層間絶縁膜8を貫通して、半導体膜4のソース領域4a、ドレイン領域4bにそれぞれ接続されるコンタクトホール9,10が形成されている。そして、第2層間絶縁膜8上に、ITO(Indium Tin Oxide)等からなる透明な電極12が所定の形状にパターニングされて配置され(電極形成工程)、一方のコンタクトホール9がこの電極12に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール10が電源線11に接続されている。このようにして、回路素子部3には、各電極12に接続された駆動用の薄膜トランジスタ3aが形成されている。尚、回路素子部3には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図1ではこれらの図示を省略している。
発光素子部17は、陽極としての電極12と、電極12上に順次積層された正孔注入輸送層16、各発光層17R,17G,17Bと、上層バンク15と各発光層17R,17G,17Bとを覆うように積層された陰極18とを備えている。尚、陰極18と封止基板19およびゲッター剤19aを透明な材料で構成すれば、封止基板19側から発光する光を出射させることができる。
有機EL表示装置20は、ゲート電極6に接続された走査線(図示省略)とソース領域4aに接続された信号線(図示省略)とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ(図示省略)がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ3aのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ3aのチャネル領域4cを介して、電源線11から電極12に電流が流れ、更に正孔注入輸送層16と各発光層17R,17G,17Bとを介して陰極18に電流が流れる。各発光層17R,17G,17Bは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機EL表示装置20は、このような発光素子部17の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また各発光層17R,17G,17Bの断面形状がほぼ一定な基板1を備えているため、断面形状が不均一による発光ムラ、輝度ムラ等の表示不具合の少ない高い表示品質を有している。
次に本実施形態の基板の製造方法について図2〜図5に基づいて説明する。図2は、基板の製造方法を示すフローチャート、図3(a)〜(d)および図4(e)〜(g)は、基板の製造方法を示す概略断面図、図5は、液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図である。尚、図3(a)〜(d)および図4(e)〜(g)においては、素子基板2上に形成された回路素子部3は、図示を省略している。
図2に示すように、基板1の製造方法は、回路素子部3と電極12とが形成された素子基板2の複数の色要素領域Aの内側に張り出すように、下層バンク14を形成する下層バンク形成工程と、下層バンク14の上に形成され、複数の色要素領域Aを実質的に区画するように、上層バンク15を形成する上層バンク形成工程とを備えている。また上層バンク15で区画された色要素領域Aの表面処理を行う工程と、表面処理された色要素領域Aに正孔注入輸送層16を形成する工程と、正孔注入輸送層16が形成された色要素領域Aに、色要素形成材料としての発光層形成材料を含む3種の機能液を付与して、各発光層17R,17G,17Bを形成する色要素形成工程としての発光層形成工程とを備えている。さらに、上層バンク15と各発光層17R,17G,17Bを覆うように陰極18を形成する工程を備えている。
図2のステップS1は、下層バンク形成工程である。ステップS1では、図3(a)に示すように素子基板2の複数の電極12の一部を覆うように下層バンク14を形成する。下層バンク14の材料としては、無機材料である絶縁性のSiO2(酸化珪素)を用いている。下層バンク14の形成方法としては、例えば、後に形成される各発光層17R,17G,17Bに対応して、各電極12の表面領域12a,12b,12cをそれぞれレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板2を真空装置に投入し、SiO2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク14を形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。表面領域12a,12b,12cの大きさは、12a>12b>12cとなっているので、電極12上に乗り上げた下層バンク14の張り出し部14a,14b,14cの大きさは、14a<14b<14cとなっている。尚、下層バンク14は、SiO2により形成されているため、その膜厚が200nm以下であれば十分な透明性を有していおり、後に正孔注入輸送層および発光層が積層されても発光を阻害することはない。そしてステップS2へ進む。
図2のステップS2は、上層バンク形成工程である。ステップS2では、図3(b)に示すように、各色要素領域Aを区画すると共に、下層バンク14の色要素領域Aの内側への張り出し量が、色要素領域Aに付与される機能液に応じて異なるように、下層バンク14の上に上層バンク15を形成する。上層バンク15の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。上層バンク15の形成方法としては、例えば、下層バンク14が形成された素子基板2の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ2μmの感光性樹脂層を形成する。そして、色要素領域Aに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板2と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク15を形成する方法が挙げられる。これにより上層バンク15の形成領域の幅を一定とすれば、下層バンク14の色要素領域Aの内側への張り出し量が、各張り出し部14a,14b,14cに対応して、L1<L2<L3となった二層バンク13が形成される。そして、ステップS3へ進む。
図2のステップS3は、色要素領域Aを表面処理する工程である。ステップS3では、二層バンク13が形成された素子基板2の表面を、まずO2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極12の表面、下層バンク14の張り出し部14a,14b,14cおよび上層バンク15の表面(壁面を含む)を活性化させて親液処理する。つぎにCF4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク15の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、ステップS4へ進む。
図2のステップS4は、正孔注入輸送層形成工程である。ステップS4では、図3(c)に示すように、正孔注入輸送層形成材料を含む機能液30を色要素領域Aに付与する。機能液30を付与する方法としては、機能液30を液滴として吐出可能な液滴吐出ヘッド50と、この液滴吐出ヘッド50を素子基板2に対向させて、液滴吐出ヘッド50と素子基板2とを相対移動可能な走査機構を備えた液滴吐出装置(図示省略)を用いる。
ここで液滴吐出ヘッド50について説明しておく。図5に示すように液滴吐出ヘッド50は、液滴が吐出される複数のノズル52を有するノズルプレート51と、複数のノズル52がそれぞれ連通するキャビティ55を区画する隔壁54を有するキャビティプレート53と、複数のキャビティ55に対応する振動子59を有する振動板58とが、順に積層され接合された構造となっている。
キャビティプレート53は、ノズル52に連通するキャビティ55を区画する隔壁54を有すると共に、このキャビティ55に機能液30を充填するための流路56,57を有している。流路57は、ノズルプレート51と振動板58とによって挟まれ、出来上がった空間が、機能液30が貯留されるリザーバの役目を果たす。
機能液30は、図示しない供給機構から配管を通じて供給され、振動板58に設けられた供給孔58aを通じてリザーバに貯留された後に、流路56を通じて各キャビティ55に充填される。
振動子59は例えば圧電素子(ピエゾ素子)であり、外部から駆動電圧パルスが印加されることにより接合された振動板58を変形させる。これにより隔壁54で仕切られたキャビティ55の体積が増加してキャビティ55に機能液30をリザーバから吸引し、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板58は基に戻り充填された機能液30を加圧する。これにより、ノズル52から機能液30を液滴として吐出できる構造となっている。
図3(c)に示すように液滴吐出ヘッド50から吐出された機能液30は、液滴として素子基板2の電極12に着弾して濡れ拡がる。機能液30は色要素領域Aの面積に応じて必要量が液滴として吐出され表面張力で盛り上がった状態となる。そして図3(d)に示すように、素子基板2を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液30の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極12の二層バンク13の段差により区画された領域に正孔注入輸送層16が形成される。本実施形態では、正孔注入輸送層形成材料としてPEDOT(Polyethylene Dioxy Thiophene;ポリエチレンジオキシチオフェン)を用いた。尚、この場合、各色要素領域Aに同一材料からなる正孔注入輸送層16を形成したが、後の発光層の形成材料に対応して正孔注入輸送層の材料を色要素領域Aごとに変えてもよい。そしてステップS5へ進む。
図2のステップS5は、発光層形成工程である。ステップS5では、図4(e)に示すように、複数の色要素領域Aに発光層形成材料を含む3種の機能液40,41,42を付与する。機能液40,41,42を付与する方法としては、先のステップS4と同様にして、液滴吐出ヘッド50に各機能液40,41,42を充填して、それぞれ液滴として対応する色要素領域Aに着弾させる。機能液40は発光層17R(赤色)を形成する材料を含み、機能液41は発光層17G(緑色)を形成する材料を含み、機能液42は発光層17B(青色)を形成する材料を含んでいる。着弾した各機能液40,41,42は、色要素領域Aに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。
この場合、正孔注入輸送層16に対する各機能液40,41,42の濡れ性を比較すると、機能液40>機能液41>機能液42の順に濡れ性が低下することが判明した。すなわち各機能液40,41,42ごとに濡れ性が異なる。よって段差のないバンクによって区画された色要素領域に濡れ性の異なる機能液を付与して一括乾燥すれば、乾燥中の機能液の色要素領域に対する濡れ具合が色要素領域ごとに異なって、乾燥後の発光層の断面形状において平坦な状態を得る事が困難となる。これに対して、本実施形態においては、ステップS3で表面処理された下層バンク14の各張り出し部14a,14b,14cは、正孔注入輸送層16の表面よりも各機能液40,41,42に対してさらに濡れ性がよくなっている。そして、下層バンク14の各張り出し量L1〜L3を、各機能液40,41,42が付与される色要素領域Aに対応して変えている。この場合、正孔注入輸送層16に対する濡れ性が低い機能液ほど張り出し量が長くなるようにしている。これにより、図4(f)に示すように、付与された各機能液40,41,42を一括乾燥すると、各機能液40,41,42は、より濡れ性がよい張り出し部14a,14b,14cまで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥され、各発光層17R,17G,17Bが形成される。
また、ステップS4において、機能液30を色要素領域Aに付与して正孔注入輸送層16を形成する際に、下層バンク14の各張り出し部14a,14b,14cにも正孔注入輸送層16の一部が残留する場合もある。このような場合でも、各張り出し部14a,14b,14cの張り出し量L1〜L3に応じて、各機能液40,41,42が段差となった各張り出し部14a,14b,14c上にそれぞれ乗り上がり、必要以上に色要素領域Aの中央部に寄らないので、一括乾燥後に中央部の膜厚が周縁部に比べて厚くなることを防ぐことができる。これらのメカニズムにより、各発光層17R,17G,17Bの断面形状は、各色要素領域A内でほぼ平坦であり、膜厚もほぼ一定となる。そしてステップS6へ進む。尚、付与された各機能液40,41,42の乾燥方法は、各機能液40,41,42をすべて付与した後に一括乾燥する方法に限らず、各機能液40,41,42ごとに、乾燥を施してもよい。乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。
図2のステップS6は、陰極形成工程である。ステップS6では、図4(g)に示すように、素子基板2の各発光層17R,17G,17Bと上層バンク15の表面とを覆うように陰極18を形成する。陰極18の材料としては、Ca、Ba、Al等の金属やLiF等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層に近い側に仕事関数が小さいCa、Ba、LiFの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいAl等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極18の上にSiO2、SiN等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極18の酸化を防止することができる。陰極18の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、CVD法等が挙げられる。特に発光層の熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
このようにして出来上がった基板1は、断面形状がほぼ平坦であり、膜厚もほぼ一定な各発光層17R,17G,17Bを有する。またこの基板1を用いて有機EL表示装置を製造すれば、各発光層17R,17G,17Bの断面形状がほぼ平坦で膜厚もほぼ一定であるため、各発光層ごとの抵抗がほぼ一定となる。すなわち回路素子部3により発光素子部17に駆動電圧を印加して発光させると、各発光層ごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が少ない、見映えのよい表示品質が得られる。
上記第1の実施形態の効果は、以下の通りである。
(1)本実施形態の基板1およびその製造方法において、各色要素領域Aに形成された正孔注入輸送層16に対する濡れ性が機能液ごとに異なるので、3種の機能液40,41,42に応じて、張り出し量が、L1<L2<L3の順に長くなるように設定されている。したがって、各色要素領域Aに付与された各機能液40,41,42は、下層バンク14の張り出し部14a,14b,14cまで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥されるため、一括乾燥しても各発光層17R,17G,17Bの断面形状に起伏が生じることを低減することができる。ゆえに乾燥後の断面形状がほぼ平坦(一定)で、且つ膜厚がほぼ同一な各発光層17R,17G,17Bを有する発光素子部17を備えた基板1を提供すること、あるいは製造することができる。
(2)本実施形態の基板1およびその製造方法において、色要素領域Aを区画するバンクは、下層バンク14と下層バンク14の上に形成された上層バンク15となからなる二層バンク13である。下層バンク14は、無機材料のSiO2であり、上層バンク15は、有機材料の感光性樹脂材料であるため、後の表面処理工程により、下層バンク14の表面を親液性とし、上層バンク15の表面を撥液性とすることができる。したがって、付与された機能液を色要素領域Aの周縁部に行き渡らせることができる。
(3)電気光学装置としての有機EL表示装置20およびその製造方法は、基板1を用いているため、断面形状がほぼ平坦(一定)で、且つ膜厚がほぼ同一な各発光層17R,17G,17Bを有する発光素子部17を備え、各発光層17R,17G,17Bの断面形状や膜厚が不均一なことに起因する発光素子部17の発光ムラや輝度ムラの少ない、高い表示品質を有する有機EL表示装置20を提供すること、あるいは製造することができる。
(第2の実施形態)
本実施形態は、基板上の複数の色要素領域に色層形成材料により形成された色層を有する基板を備えた電気光学装置としての液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法を例に説明する。
図6は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図6に示すように、液晶表示装置80は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の色層64を有する基板としてのカラーフィルタ基板60と、複数の電極68を有するガラス基板67と、カラーフィルタ基板60とガラス基板67とに間に狭持された液晶70とを備えている。このような液晶表示装置80は、受光型の表示装置であるため、例えばガラス基板67の背面側に照明装置等を備えて用いられる。尚、本実施形態の液晶表示装置80は、これに限定されず、例えばガラス基板67にTFT(Thin Film Transister)やTFD(Thin Film Diode)などの半導体素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。
ガラス基板67は、例えばソーダガラス、低アルカリガラスを用いており、その液晶70側の表面にITOからなる複数の電極68を有している。電極68は、対向するカラーフィルタ基板60に設けられた電極66と直交してY方向に延在している。すなわち、液晶表示装置80は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極66と電極68とを有している。そして電極66と電極68とが直交して重なった部分が表示用の色要素領域となっている。
本実施形態の基板としてのカラーフィルタ基板60は、透明なガラス基板61の表面に色要素領域に対応して開口している下層バンクとしての遮光膜62と、遮光膜62の上に設けられた上層バンク63とを備えている。また上層バンク63によって区画された色要素領域にR(赤色)、G(緑色)、B(青色)に対応する色層64と、色層64と上層バンク63とを覆う平坦化層としてのOC(オーバーコート)層65とを備えている。電極66はITOからなりOC層65上に形成されている。
色層64は、上層バンク63によって実質的に区画された色要素領域に色層形成材料を含む3種(3色)の機能液を付与して形成され、ストライプ状に配置されている。
下層バンクとしての遮光膜62は、上層バンク63によって区画された色要素領域の内側に張り出すように設けられ、その張り出し量は、色層64を形成するための機能液に応じて異なっている。これにより、色層形成材料を含む3種の機能液は、遮光膜62の張り出し部を含む色要素領域内に濡れ拡がった状態を維持して乾燥されるため、各色層64R,64G,64Bの断面形状に起伏が生じにくい。よって、断面形状がほぼ平坦(一定)で、膜厚もほぼ同一な各色層64R,64G,64Bが形成されている。尚、遮光膜62の開口部62aは、各色要素領域ごとにほぼ同一寸法となるように形成されている。したがって、カラーフィルタ基板60の各色層64R,64G,64Bごとの開口率はほぼ同一である。
液晶表示装置80は、このようなカラーフィルタ基板60とガラス基板67とをギャップ材69を介して所定の間隔で対向配置させ、図示しないシール材を用いて接合させたものである。またシール材により液晶70を2つの基板60,67の間に封止したものである。尚、2つの基板60,67の液晶70に面する側には、液晶70を所定の方向に配向させる配向膜が設けられているが、図6では省略している。また、液晶表示装置80の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらも省略している。
このような液晶表示装置80は、断面形状がほぼ平坦(一定)で、膜厚もほぼ同一な各色層64R,64G,64Bを有する基板としてのカラーフィルタ基板60を備えているので、各色層64R,64G,64Bの断面形状が不均一なことに起因する色ムラ等が少ない、高い表示品質を有する。
次に本実施形態のカラーフィルタ基板60の製造方法について図7、図8に基づいて説明する。図7は、カラーフィルタ基板に製造方法を示すフローチャートである。図8(a)〜(e)は、カラーフィルタ基板に製造方法を示す概略断面図である。
図7に示すように、本実施形態のカラーフィルタ基板60の製造方法は、ガラス基板61の表面に下層バンクとしての遮光膜62を形成する工程と、遮光膜62の上に上層バンク63を形成する工程と、上層バンク63によって区画された色要素領域を表面処理する工程とを備えている。また表面処理された色要素領域に色要素形成材料としての色層形成材料を含む3種(3色)の機能液を付与して、色層64を形成する色要素形成工程としての色層形成工程と、上層バンク63と色層64とを覆うようにOC層65を形成する工程とを備えている。
図7のステップS11は、下層バンク形成工程である。ステップS11では、図8(a)に示すように、下層バンクとしての遮光膜62をガラス基板61上に形成する。遮光膜62の材料は、例えば、Cr、Ni、Al等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。遮光膜62の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜をガラス基板61上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Crならば、100〜200nmが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部62aに対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部62aを有する遮光膜62が形成される。この場合、遮光部分のピッチをP1とし、開口部62aの幅をP2として、いずれも一定の値としておく。そしてステップS12へ進む。
図7のステップS12は、上層バンク形成工程である。ステップS12では、図8(b)に示すように、上層バンク63を遮光膜62の上に形成する。上層バンク63の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク63の形成方法としては、例えば、遮光膜62が形成されたガラス基板61の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ2μmの感光性樹脂層を形成する。そして、色要素領域D1〜D3に対応した大きさで開口部が設けられたマスクをガラス基板61と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク63を形成する方法が挙げられる。これにより遮光膜62の幅を一定としたときには、上層バンク63によって区画される色要素領域D1〜D3の幅を変えることによって、遮光膜62の色要素領域D1〜D3の内側への張り出し量C1〜C3が、色要素領域D1〜D3ごとに異なる二層バンク構造が形成される。この場合、張り出し量の大きさは、C1<C2<C3とした。すなわち、色要素領域D1〜D3の幅は、D1<D2<D3の順に広くなっている。そしてステップS13へ進む。
図7のステップS13は、表面処理工程である。ステップS13では、第1の実施形態の基板の製造方法におけるステップS3と同様にして、O2を処理ガスとするプラズマ処理とフッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、色要素領域D1〜D3が親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク63の表面(壁面を含む)が撥液処理される。そしてステップS14へ進む。
図7のステップS14は、色層形成工程である。ステップS14では、図8(c)に示すように、表面処理された各色要素領域D1〜D3のそれぞれに、対応する機能液71,72,73を付与して色層64を形成する。機能液71はR(赤色)の色層形成材料を含むものであり、機能液72はG(緑色)の色層形成材料を含むものであり、機能液73はB(青色)の色層形成材料を含むものである。各機能液71,72,73を付与する方法は、第1の実施形態の基板の製造方法におけるステップS4と同様にして、液滴吐出ヘッド50に各機能液71,72,73を充填し、液滴として色要素領域D1〜D3に着弾させる。各機能液71,72,73は、色要素領域D1〜D3の面積に応じて必要量が付与され、色要素領域D1〜D3内に濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。
この場合、表面処理された色要素領域D1〜D3に対する各機能液71,72,73の濡れ性を比較すると、機能液71>機能液72>機能液73の順に濡れ性が低下することが判明した。すなわち、各機能液71,72,73ごとに濡れ性が異なっている。よって段差のないバンクによって区画された色要素領域に濡れ性の異なる機能液を付与して一括乾燥すれば、乾燥中の機能液の色要素領域に対する濡れ具合が色要素領域ごとに異なって、乾燥後の色層の断面形状において平坦な状態を得る事が困難となる。これに対して、本実施形態においては、ステップS13で表面処理された遮光膜62の各張り出し部は、ガラス基板61の表面よりも各機能液71,72,73に対してさらに濡れ性がよくなっている。そして、遮光膜62の各張り出し量C1〜C3を、各機能液71,72,73が付与される色要素領域D1〜D3に対応して変えている。すなわち、各機能液71,72,73の色要素領域D1〜D3に対する濡れ性が低いほど張り出し量を長くしている。これにより、図8(d)に示すように、付与された各機能液71,72,73を一括乾燥させて各色層64R,64G,64Bを形成しても、各機能液71,72,73は、より濡れ性がよい張り出し部まで濡れ拡がった状態を維持しながら乾燥される。よって、各色層64R,64G,64Bの断面形状は、ほぼ平坦(一定)となり、色要素領域D1〜D3内でほぼ同一の膜厚を有することとなる。そしてステップS15へ進む。尚、付与された各機能液71,72,73の乾燥方法は、各機能液71,72,73をすべて付与した後に一括乾燥する方法に限らず、各機能液71,72,73ごとに、乾燥を施してもよい。
図7のステップS15は、OC層形成工程である。ステップS15では、図8(e)に示すように、色層64と上層バンク63とを覆うようにOC層65を形成する。OC層65の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。OC層65は、色層64が形成されたガラス基板61の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる電極66を平担化するために設けられている。また、電極66との密着性を確保するために、OC層65の上にさらにSiO2などの薄膜を形成してもよい。
このようにして出来上がったカラーフィルタ基板60は、断面形状と膜厚がほぼ一定な色層64を有する。またこのカラーフィルタ基板60を用いて液晶表示装置80を製造すれば、各色層64R,64G,64Bの断面形状と膜厚がほぼ一定であるため、各色層64R,64G,64Bごとの膜厚ムラによる色ムラが少ない、見映えのよい表示品質が得られる。
第2の実施形態の効果は、以下の通りである。
(1)本実施形態のカラーフィルタ基板60およびその製造方法において、遮光膜62の張り出し量C1〜C3は、各色要素領域D1〜D3に対する各機能液71,72,73の濡れ性に応じて異なっている。すなわち濡れ性が低いほどC1<C2<C3となるように設定されている。したがって、各色要素領域D1〜D3に付与された各機能液71,72,73は、遮光膜62の張り出し部まで濡れ拡がった状態を維持して乾燥されるため、一括乾燥しても各色層64R,64G,64Bの断面形状に起伏が生じることを低減することができる。ゆえに乾燥後の断面形状がほぼ平坦(一定)で、且つ膜厚がほぼ同一な各色層64R,64G,64Bを有するカラーフィルタ基板60を提供すること、あるいは製造することができる。
(2)本実施形態のカラーフィルタ基板60およびその製造方法において、色要素領域D1〜D3を区画するバンクは、下層バンクとしての遮光膜62と遮光膜62の上に形成された上層バンク63となからなる二層バンクである。遮光膜62は、無機材料の例えばCrであり、上層バンク63は、有機材料の感光性樹脂材料であるため、後の表面処理工程により、遮光膜62の表面を親液性とし、上層バンク63の表面を撥液性とすることができる。したがって、付与された機能液を各色要素領域D1〜D3の周縁部に行き渡らせることができる。
(3)電気光学装置としての液晶表示装置80およびその製造方法は、カラーフィルタ基板60を用いているため、断面形状がほぼ平坦(一定)で、且つ膜厚がほぼ同一な色層64を備え、各色層64R,64G,64Bの断面形状や膜厚が不均一なことに起因する色ムラの少ない、高い表示品質を有する液晶表示装置80を提供すること、あるいは製造することができる。
(第3の実施形態)
次に第1の実施形態の有機EL表示装置あるいは第2の実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。図9(a)は電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図、図9(b)は電子機器としての携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
図9(a)に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯電話機100は、表示部101に有機EL表示装置20あるいは液晶表示装置80が搭載されている。
図9(b)に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型情報処理装置200は、入力用のキーボード201を有する情報処理装置本体203と、表示部202とを備えている。表示部202には、有機EL表示装置20あるいは液晶表示装置80が搭載されている。
第3の実施形態の効果は、以下の通りである。
(1)本実施形態の電子機器としての携帯電話機100および携帯型情報処理装置200は、第1の実施形態の有機EL表示装置20あるいは第2の実施形態の液晶表示装置80を搭載しているため、色ムラ等の表示不具合の少ない、高い表示品質で文字や画像等の情報を確認することが可能な電子機器を提供することができる。
上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
(変形例1)第1の実施形態および第2の実施形態において、色要素領域を区画するバンクは、下層バンクと上層バンクとからなる二層バンクに限定されない。例えば、基板上の複数の色要素領域を覆うように必要な厚みで樹脂層を形成する。その後、色要素領域に対応した位置で所定の開口を有するようにマスギングして、ドライエッチング法で不要部分を除去してバンクを形成する。さらに開口を広げてマスキングして、所定の厚みの樹脂層が残るようにドライエッチングすれば、樹脂層の壁面に段差を有するバンクを形成することができる。このようなバンクの段差の色要素領域の内側への張り出し量を付与される機能液に応じて変えれば、上記第1および第2の実施形態と同様な効果を奏する。
(変形例2)第1の実施形態の基板1および第2の実施形態のカラーフィルタ基板60において、色要素の配列は、ストライプ状に限定されない。図10は、色要素の配列を示す概略図である。上記実施形態のおける色要素の配列は、図10(a)に示すようなストライプ状であるが、図10(b)に示すモザイク状あるいは、図10(c)に示すデルタ状であっても、上記実施形態と同様な二層バンク構造が可能であり、その効果を奏する。
(変形例3)第1の実施形態の基板1、第2の実施形態のカラーフィルタ基板60およびこれらの製造方法において、下層バンク14の張り出し量L1〜L3および遮光膜62の張り出し量C1〜C3は、色要素領域に付与される機能液ごとに異なることに限定されない。例えば、3種類のうち1種の機能液についてのみ他と異なる設定としてもよい。
(変形例4)色要素を形成するための機能液のすべての種類に対して、バンクの段差あるいは下層バンクの張り出し部が形成されている必要はない。例えば、付与される色要素領域に対して濡れ性が一番よい機能液に対しては、張り出し量を「0」としてもよい。
(変形例5)第2の実施形態のカラーフィルタ基板60およびこれらの製造方法において、下層バンクとしての遮光膜62および上層バンク63の形成状態は、これに限定されない。例えば、色要素領域D1〜D3を一定の寸法として、遮光膜62の開口部62aの寸法を変えれば、色要素としての色層64を形成する各機能液71,72,73に対応して張り出し量が異なる二層バンクが形成された基板としてのカラーフィルタ基板60を提供することができる。すなわち、色層64ごとに開口率が異なるカラーフィルタ基板60を提供することができる。
(変形例6)段差は、バンクの壁面に複数存在してもよい。この場合、複数の段差により階段状に張り出した部分によって張り出し量は規定されることになる。例えば第2の実施形態において、開口部62aの寸法を一定にすると共に、色要素領域D1〜D3の寸法も一定とする場合は、遮光膜62上に張り出すようにもう一層の下層バンクを設け、該下層バンクの色要素領域D1〜D3の内側への張り出し量を各機能液71,72,73に応じて設定すればよい。
(変形例7)第1の実施形態の有機EL表示装置20は、素子基板2に発光素子部17を駆動するための薄膜トランジスタ3aを有する回路素子部3を設けたが、これに限定されない。例えば、電極12と陰極18とが互いに直交するように格子状に配置して単純マトリクス駆動とすることも可能である。あるいは、封止基板19の替わりに第2の実施形態のカラーフィルタ基板60を配置して、発光素子部17を単一の白色発光とすれば、色ムラの少ないカラー表示が可能である。
(変形例8)第1の実施形態の有機EL表示装置20あるいは第2の実施形態の液晶表示装置80を搭載した電子機器としては、第3の実施形態である携帯電話機100、携帯型情報処理装置200に限定されない。例えば、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器や携帯端末機器、携帯型パーソナルコンピュータ、ワープロ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機等、電気光学装置である有機EL表示装置や液晶表示装置を用いる機器が挙げられる。
有機EL表示装置の要部構造を示す概略断面図。 基板の製造方法を示すフローチャート。 (a)〜(d)基板の製造方法を示す概略断面図。 (e)〜(g)基板の製造方法を示す概略断面図。 液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図。 液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。 カラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャート。 (a)〜(e)カラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図。 (a)携帯電話機を示す概略斜視図、(b)携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。 色要素の配列を示す概略図。
符号の説明
1…基板、2…基板としての素子基板、12…電極、13…バンクとしての二層バンク、14…下層バンク、15…上層バンク、16…正孔注入輸送層、17…発光素子としての発光素子部、20…電気光学装置としての有機EL表示装置、40,41,42…発光層形成材料を含む機能液、60…基板としてのカラーフィルタ基板、61,67…基板としてのガラス基板、62…下層バンクとしての遮光膜、64…色層、71,72,73…色層形成材料を含む機能液、80…液晶表示装置、100…電子機器としての携帯電話機、200…電子機器としての携帯型情報処理装置、A…色要素領域、D1,D2,D3…色要素領域、C1,C2,C3…下層バンクとしての遮光膜の張り出し量、L1,L2,L3…下層バンクの張り出し量。

Claims (8)

  1. 複数の色要素領域を有する基板であって、
    前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に前記色要素領域の内側に張り出した段差を有するバンクと、
    前記複数の色要素域内に色要素形成材料を含む複数種の機能液を付与して形成された複数種の色要素とを有し、
    当該色要素は、
    前記バンクの段差で区画された領域に形成された正孔注入輸送層と、
    前記色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与することで、前記正孔注入輸送層および前記バンクの段差の上に形成した複数種の発光層とを備え、
    前記バンクの段差の張り出し量は、前記発光層の種類に応じた前記機能液の前記正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定され、
    前記バンクの段差の上は前記正孔注入輸送層の表面よりも前記複数種の機能液に対する濡れ性が高く設定されていることを特徴とする基板。
  2. 前記バンクは、積層構造を有し、前記色要素領域を区画する上層バンクと、前記色要素領域の内側に張り出して前記上層バンクとの間で段差を形成する下層バンクとを備えることを特徴とする請求項1に記載の基板。
  3. 前記上層バンクの表面は、前記機能液に対して撥液性を有し、
    前記下層バンクの少なくとも前記段差を形成している部分は、前記上層バンクよりも表面が親液性であることを特徴とする請求項2に記載の基板。
  4. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の基板を用いていることを特徴とする有機EL表示装置。
  5. 請求項4に記載の有機EL表示装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
  6. 基板上に複数の色要素領域を有する基板の製造方法であって、
    前記複数の色要素領域を区画すると共に、壁面に段差を有するようにバンクを形成するバンク形成工程と、
    前記バンクの段差で区画された領域に正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程と、
    前記色要素領域内に発光層形成材料を含む複数種の機能液を付与し、前記正孔注入輸送層及び前記バンクの段差の上に、複数種の発光層を形成する発光層形成工程とを備え、
    前記バンク形成工程では、前記バンクの段差を、前記色要素領域の内側に張り出すように形成し、前記バンクの段差の張り出し量は、前記発光層の種類に応じた前記機能液の前記正孔注入輸送層の表面に対する濡れ性の低いものほど長く設定され、前記バンクの段差の上は前記正孔注入輸送層の表面よりも前記複数種の機能液に対する濡れ性が高く設定されていることを特徴とする基板の製造方法。
  7. 前記バンク形成工程は、前記色要素領域の内側に張り出すように下層バンクを形成する下層バンク形成工程と、前記下層バンクの上に上層バンクを形成する上層バンク形成工程とを含み、前記上層バンク形成工程では、前記下層バンクの前記色要素領域の内側への張り出し量が、前記色要素領域に付与される前記機能液に応じて異なるように前記上層バンクを形成することを特徴とする請求項6に記載の基板の製造方法。
  8. 複数の発光層を有する基板を備えた有機EL表示装置の製造方法であって、
    前記基板が、請求項7に記載の基板の製造方法を用いて製造されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001066408A (ja) * 1999-08-24 2001-03-16 Seiko Epson Corp カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器
JP2002334782A (ja) * 1998-03-17 2002-11-22 Seiko Epson Corp 有機el装置の製造方法
JP2003249377A (ja) * 2001-12-18 2003-09-05 Seiko Epson Corp 表示装置及び電子機器並びに表示装置の製造方法
JP2004004945A (ja) * 2003-07-18 2004-01-08 Seiko Epson Corp カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002334782A (ja) * 1998-03-17 2002-11-22 Seiko Epson Corp 有機el装置の製造方法
JP2001066408A (ja) * 1999-08-24 2001-03-16 Seiko Epson Corp カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器
JP2003249377A (ja) * 2001-12-18 2003-09-05 Seiko Epson Corp 表示装置及び電子機器並びに表示装置の製造方法
JP2004004945A (ja) * 2003-07-18 2004-01-08 Seiko Epson Corp カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器

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