JP4488703B2 - 制振材料組成物 - Google Patents
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Description
有機ポリマーマトリックス材料が制振付与剤を含有してなる制振材料組成物であって、
該制振付与剤が、
次の一般式(I);
Aは、硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基、芳香族基を有する該鎖状炭化水素基または炭素数5〜8の脂環式炭化水素基であり、
Bは硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基であり、
AおよびBは互いに同一でも異なるものでもよく、
R1、R2およびR3は、それぞれ炭素数3以下の炭化水素基、アルキロール基またはアルデヒド基であり、互いに同一でも異なるものでもよく、p、qおよびrは、それぞれ0〜3の整数であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
Xはハロゲン原子であり、s、tおよびuはそれぞれ0または1であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
x、yおよびzは、それぞれ1〜3の整数であり、互いに同一でも異なるものでもよく、 nは0〜200である。)
で表されるフェノール系化合物であることを特徴とする制振材料組成物
が提供される。
有機ポリマーマトリックス材料が制振付与剤ならびに無機充填剤および/または有機充填剤を含有してなる制振材料組成物であって、
該制振付与剤が、
次の一般式(I);
Aは、硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基、芳香族基を有する該鎖状炭化水素基または炭素数5〜8の脂環式炭化水素基であり、
Bは硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基であり、
AおよびBは互いに同一でも異なるものでもよく、
R1、R2およびR3は、それぞれ炭素数3以下の炭化水素基、アルキロール基またはアルデヒド基であり、互いに同一でも異なるものでもよく、p、qおよびrは、それぞれ0〜3の整数であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
Xはハロゲン原子であり、s、tおよびuはそれぞれ0または1であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
x、yおよびzは、それぞれ1〜3の整数であり、互いに同一でも異なるものでもよく、 nは0〜200である。)
で表されるフェノール系化合物であることを特徴とする制振材料組成物
が提供される。
とポリ乳酸樹脂90〜60%である前記制振材料組成物。
2) 前記有機ポリマーマトリックス材料の形態が、水系エマルジョンで
ある前記制振材料組成物。
3) 前記制振材料組成物が、マスターバッチとして使用され、該制振材
料組成物の有機ポリマーとは異なる有機ポリマーで稀釈されてなる
前記制振材料組成物。
4) 前記制振付与剤が、ヒドロキシル基の片隣接位置にメチル基を有す
るビスフェノール系化合物である前記制振材料組成物。
5) 前記フェノール系化合物の融点が、100℃以上である前記制振材
料組成物。
6) 前記フェノール系化合物の分子量が200以上である前記制振材料
組成物。
7) 前記有機充填剤が、ソルビトールおよび/またはフルオロポリオレ
フィンである前記制振材料組成物。
8) 前記制振付与剤(a)と前記無機充填剤および/または有機充填剤
(b)の配合割合が、(a):(b)=1:0.1〜1:5である
前記制振材料組成物。
9) 前記有機ポリマーマトリックス材料が、アクリルゴムおよび/また
はポリ乳酸樹脂であり、該マトリックス材料が制振付与剤として、
2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール)、2,2’−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパンおよび1,1’
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンからなる群より
選択される少なくとも一種のフェノール系化合物5〜60重量%を
含有してなる前記制振材料組成物。
10)前記有機ポリマーマトリックス材料が、アクリルゴムおよび/また
はポリ乳酸樹脂であり、該マトリックス材料が制振付与剤として、
2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール)、2,2’−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパンおよび1,1’
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンからなる群より
選択される少なくとも一種のフェノール系化合物5〜60重量%な
らびにソルビトールおよび/またはフルオロポリエチレン1〜20
重量%およびマイカ1〜50重量%含有してなる前記制振材料組成
物。
本発明の制振材料の構成成分として有用であり、制振付与剤のマトリックスとして機能する有機ポリマーとしては、所定の分子量、融点を有し、かつ極性側鎖を有するするものであれば、特に限定されるものではなく、具体的には、アクリルゴム、ブチルゴム、クロロプレン、SBR(スチレンブタジエンラバー)、熱可塑性エラストマー(エチレンプロピレンゴム)、ポリ乳酸樹脂をはじめ、ポリウレタン樹脂、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル重合体、エチレン−メタアクリレート共重合体、アクリロニトリル・スチレン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリブチレン等の塩素化ポリオレフィン等の有機ポリマーを挙げることができる。これらは、制振材料の各種用途に応じて任意に選択して使用することができるが、制振付与剤との相互作用が可能な極性基を有するものであり、環境保全にとっても有効なものが好適である。かかる有機ポリマーとしては、例えば、アクリルゴム、エチレン−アクリル酸共重合体、アクリレート−メタクレリレート樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリ乳酸樹脂等を挙げることができるが、本発明に係る制振材料組成物にとって、特に好ましい有機ポリマーは、アクリレート−メタクレリレート樹脂、アクリルゴム、ポリ乳酸樹脂またはアクリルゴムとポリ乳酸樹脂との混合物である。
一般式(I)
一般式(I)において表わされる化合物は、立体障害の少ないレス・ヒンダードタイプのフェノール系化合物を包含する。かかるレス・ヒンダードタイプのフェノール系化合物を選択することにより、有機ポリマーマトリックス材料との相互作用が著しく進行し、ヒンダードタイプフェノール系化合物に比して最大損失正接(tanδ)が高く、かつ使用可能温度巾が広いという制振作用効果を奏することができることを見い出したものである。
一般式(I)において、Bは、硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基であり、具体的には二価炭化水素基、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基またはイソプロピレン基であり、AおよびBは、互いに同一または異なるものでもよい。
また、nは、繰り返し単位
2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−エチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−プロピルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−クロロフェノール);
4,4’−メチレンビス(2,5−ジメチルフェノール);
4,4’−メチレンビス(2−メチル−5−エチルフェノール);
4,4’−メチレンビス(4−メチル−5−プロピルフェノール);
2,6−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−4−メチルフェノール;
2,2’−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン;
1,1’ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン;
α,α’(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン;
ビス(2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メチルフェニル)メタン;
ビス(4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−5−メチルフェニル)メタン;
ビス(3−ホルミル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)メタン;
ビス(4,5−ジヒドロキシ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;
ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン;
ビス[4−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−5−メチルフェニル]メタン;
1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン;
a,a,a’,a’−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)−p−キシレン;
2,2’−ビス[4−ヒドロキシ−3,5−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−フェニル]プロパン
2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−エチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−プロピルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−クロロフェノール);
4,4’−メチレンビス(2,5−ジメチルフェノール);
4,4’−メチレンビス(2−メチル−5−エチルフェノール);
4,4’−メチレンビス(4−メチル−5−プロピルフェノール);
2,6−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−4−メチルフェノール;
2,2’−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン;
1,1’ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン;
α,α’(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン
2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−クロロフェノール);
2,2’−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン;
1,1’ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
である。
ベンゾチアゾール類としては、2−(N,N−ジエチルチオカルバモイルチオ)ベンゾチアゾール、2−(4’−モルホリノジチオ)ベンゾチアゾール等を例示することができる。
また、ベンゾトリアゾール類としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールなどを例示することができる。
さらに、グアニジン類としては、1,3−ジフェニルグアニジン、ジ−o−トリルグアニジン等の塩基性窒素を含有するもので例示することができる。
無機充填剤および有機充填剤は、微粒状体、特にフレーク状または繊維状で用いることが好ましく、平均粒径0.1〜200μm、特に40〜100μmのものが振動吸収および音響吸収に寄与するところが大きい。
また、本発明に係る制振材料組成物には、有機ポリマーとして用いられるベース樹脂に対して、所望の目的に応じて他の有機ポリマーを配合することができる。例えば、ベース樹脂とは異なるものを選択すればよいが、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリオレフィン等を用いることができる。
本発明に係る制振材料組成物は、繊維状、顆粒、粉末等の形態で得られるが、制振が要求される機械器具、建築物等に応じて任意の形態で用いることができる。特に、シート状成形体の形態で用いることが好ましく、シート状成形体の厚さは、各種用途および要求される性能のレベルに応じて任意に決定することができるが、0.05〜7mm、特に、1〜4mmの範囲のものを採用することが好ましい。本発明に係る制振材料組成物は、塗料の形態でも提供することができ、その対象としては、各種構造物、例えば、建築物、機械器具、輸送装置等の制振が必要なあらゆるものを包含する。
また、本発明に係る制振材料組成物の形態は、塗料等の液状体として提供することができ、積層板の層間または表面に塗布し、塗膜を形成させることにより制振作用を行なわせることができる。
(a)有機ポリマーと(b)制振付与剤の各粉粒状または(a)有機ポリマー、(b)制振付与剤および(c)有機充填剤および/または無機充填剤の各粉粒体を常温以上の温度において所定の割合で混練した後、混合物を圧着に必要な条件、例えば、60〜300℃、好ましくは、100〜200℃、100〜300kgf/cm2 、好ましくは、150〜250kgf/cm2 の温度・圧力条件下でプレスまたは延伸し成形する。
(2)塗料
(a)有機ポリマーのエマルジョンに(b)制振付与剤を分散混合するかまたは(a)有機ポリマーのエマルジョンに(b)制振付与剤と(c)有機充填剤および/または無機充填剤を分散混合して得られた混合物を含む塗料を調製する。各原材料の混合割合は、前記制振材料組成物が得られるように調整すればよい。
なお、実施例および比較例において得られた制振材料組成物の損失正接(tanδ)の測定には動的粘弾性測定試験装置(アイティ計測制御株式会社製DVA−200S)を使用した。測定は、−50〜100℃の間で、周波数50HZ 、昇温速度5℃/分、動的歪み0.1%で引張りモードで行なった。試料のサイズは約20mm×5mm×1mmとした。
有機ポリマーマトリックス材料(以下「ポリマーマトリックス」という。)としてのアクリルゴム100重量部に制振付与剤として表1に示すフェノール系化合物を、各々、同表に示す重量割合で混合し、その後混合物をホットプレス機にて200℃で200kgf/cm2にて20分間加圧し、厚さ1mmのシート状に成形加工した制振材料組成物を調製した。
制振付与剤として、表2に示すヒンダードフェノール系化合物の2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)を用いたこと以外すべて実施例1と同一の原材料および同一の製造条件で制振材料組成物を得た。評価結果を表2に示す。
制振付与剤を使用しなかったこと以外すべて比較例1と同一の原材料および同一の製造条件で制振材料組成物を得た。評価結果を表2に示す。
有機ポリマーとしてアクリルゴムの代わりにポリ乳酸樹脂を用いたこと以外すべて比較例2と同一の原材料および同一の製造条件で制振材料組成物を得た。評価結果を表2に示す。
表2に示す有機ポリマーマトリックスとしてアクリルゴム、制振付与剤としてフェノール系化合物、有機充填剤および無機充填剤を同表に示す重量割合で配合し制振材料組成物を調製した。評価結果を表3に示す。
有機ポリマーマトリックスとしてアクリルゴムの代わりにアクリルゴム100とポリカーボネート20との混合物を用いたこと以外すべて参考例11と同一の原材料および同一の条件で制振材料組成物を調製した。評価結果を表4に示す。
有機ポリマーマトリックスとしてポリスチレンゴム/アクリルゴムまたはエチレン−酢酸ビニル系樹脂を用い、これに表4に示すフェノール系制振付与剤および無機/有機充填剤を同表に示す割合でそれぞれ混合し、制振材料組成物を調製した。評価結果を表4に示す。
制振付与剤として2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール)の代わりに、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)を用いたこと以外すべて実施例11と同一の原材料および同一の条件で制振材料組成物を調製した。評価結果を表5に示す。
有機ポリマーマトリックスのみの性能を評価し、表5に併記した。
ポリマーマトリックスとしてのアクリルゴム100重量部に制振付与剤として表1−2に示すフェノール系化合物を同表に示す重量割合で混合し、混合物をホットプレス機にて200℃で200kgf/cm2にて20分間加圧し、厚さ1mmのシート状に成形加工した制振材料組成物を調製した。
表3−2に示すポリマーマトリックスとしてアクリルゴム、制振付与剤としてフェノール系化合物、有機充填剤および無機充填剤を同表に示す重量割合で配合し制振材料組成物を調製した。
Claims (10)
- 有機ポリマーマトリックス材料が、制振付与剤を含有してなる制振材料組成物であって、該有機ポリマーマトリックス材料が、
スチレン−ブタジエン系ゴムとエチレン−酢酸ビニル系樹脂との混合物、ポリ乳酸樹脂、またはポリ乳酸樹脂とアクリルゴムとの混合物のいずれかからなるポリマーであり、
該制振付与剤が、
次の一般式(I);
(一般式(I)において、
Aは、硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基、芳香族基が置換された該鎖状炭化水素基または炭素数5〜8の脂環式炭化水素基であり、
R1およびR3は、それぞれ炭素数1の炭化水素基であり、pおよびrは、それぞれ0〜3の整数であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
Xはハロゲン原子であり、sおよびuはそれぞれ0または1であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
xおよびzは、それぞれ1の整数である。)
で表されるレスヒンダードフェノール系化合物であり、
前記制振付与剤の配合量が、前記制振材料組成物全重量基準で5〜70重量%であることを特徴とする制振材料組成物。 - 有機ポリマーマトリックス材料が制振付与剤ならびに無機充填剤および有機充填剤を含有してなる制振材料組成物であって、
該有機ポリマーマトリックス材料が、
スチレン−ブタジエン系ゴムとエチレン−酢酸ビニル系樹脂、ポリ乳酸樹脂、またはポリ乳酸樹脂とアクリルゴムとの混合物のいずれかからなるポリマーであり、
該制振付与剤が、
次の一般式(I);
(一般式(I)において、
Aは、硫黄原子および/または酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜3の鎖状炭化水素基、芳香族基が置換された該鎖状炭化水素基または炭素数5〜8の脂環式炭化水素基であり、
R1およびR3は、それぞれ炭素数1の炭化水素基であり、pおよびrは、それぞれ0〜3の整数であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
Xはハロゲン原子であり、sおよびuはそれぞれ0または1であり、互いに同一でも異なるものでもよく、
xおよびzは、それぞれ1の整数である。)
で表されるレスヒンダードフェノール系化合物であり、
前記制振材料組成物全量基準で
前記制振付与剤の配合量が、5〜70重量%であり、
前記無機充填剤の配合量が、2〜70重量%であり、
前記有機充填剤の配合量が、1〜30重量%であることを特徴とする制振材料組成物。 - 前記制振付与剤が、立体障害の少ないフェノール系化合物であって、ヒドロキシル基の両隣接位置のいずれにも炭素数4以上の分岐状炭化水素基を有しない化学構造を有する化合物である請求項1または2に記載の制振材料組成物。
- 前記制振付与剤を表わす一般式(I)中のAが、ヒドロキシル基に対して2位または4位に結合した鎖状炭化水素基である請求項1または2に記載の制振材料組成物。
- 前記一般式(I)中のR1およびR3の結合位置が、ヒドロキシル基に対してそれぞれ2位、4位または5位の少なくとも一つであり、互いに同一または異なる位置である(ただし、前記Aが当該位置に結合している場合を除く。)請求項1または2に記載の制振材料組成物。
- 前記制振付与剤が、一般式(I)において、R1およびR3がヒドロキシル基の両隣接位置を同時に占めないフェノール系化合物である請求項1または2に記載の制振材料組成物。
- 前記レスヒンダードフェノール系化合物が、
2,2’−メチレンビス(4−メチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−エチルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−プロピルフェノール);
2,2’−メチレンビス(4−クロロフェノール);
4,4’−メチレンビス(2,5−ジメチルフェノール);
4,4’−メチレンビス(2−メチル−5−エチルフェノール);
4,4’−メチレンビス(2−メチル−5−プロピルフェノール);
2,2’−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン;
1,1’ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン;
からなる群より選択される少なくとも一種のフェノール系化合物である請求項1または2に記載の制振材料組成物。 - 前記無機充填剤が、塩基性無機充填剤および酸性無機充填剤からなる群より選択された少なくとも一種の無機化合物である請求項2に記載の制振材料組成物。
- 請求項1または2に記載の制振材料組成物が、厚さ0.05〜7mmのシート状成形体に成形されてなることを特徴とする制振シート状成形体。
- 請求項1または2に記載の制振材料組成物を用いて形成されてなる塗膜であることを特徴とする制振塗膜。
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