JP4471751B2 - Manufacturing method of glass optical element - Google Patents

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本発明は、ガラス光学素子の製造方法の改良に関する。さらに詳しくは、本発明は、精密モールドプレスにより、内部歪が除去され、かつ外観が良好で、光学性能の高いガラス光学素子を効率よく製造する方法に関するものである。   The present invention relates to an improvement in a method for producing a glass optical element. More specifically, the present invention relates to a method for efficiently producing a glass optical element having a high optical performance, with internal distortion removed, a good appearance, and high optical performance by a precision mold press.

得ようとする光学素子形状をもとに形状加工を施した成形型を用い、精密モールドプレスによって、ガラス光学素子を成形する方法が知られている。この方法は、研磨などの後加工を必要としないため、非球面などの形状を有する光学素子が生産性高く得られる利点がある。成形型内で荷重の印加によりプレス成形された成形体は、一般に転移点付近の所定温度に冷却したのちに、離型され、取り出される。この際、急冷するとガラス成形体内部に歪が残留し、光学性能を損なうことがある。しかしながら、型内の成形体を時間をかけて徐冷すると、成形サイクルタイムが長くなり、生産性を著しく阻害する。   There is known a method of molding a glass optical element by a precision mold press using a mold that has been subjected to shape processing based on the optical element shape to be obtained. Since this method does not require post-processing such as polishing, there is an advantage that an optical element having a shape such as an aspherical surface can be obtained with high productivity. In general, a molded body press-molded by applying a load in a mold is cooled to a predetermined temperature near a transition point, and then released from the mold and taken out. At this time, if it is rapidly cooled, strain remains in the glass molded body, which may impair the optical performance. However, if the molded body in the mold is gradually cooled over time, the molding cycle time becomes long, and the productivity is significantly inhibited.

内部歪が除去された光学素子を製造する方法として、例えば光学素子材料を変形可能な温度まで加熱し軟化させ、一対の型により加圧することにより型の面形状を光学素子材料に転写した後、光学素子を熱変形して離型させる方法とともに、離型後に光学素子の内部歪を取り除くためにアニール処理する方法(例えば、特許文献1参照)、成形後に金型間で成形した光学素子を成形金型から取り出し、その光学素子を少なくとも1個以上まとめてアニールして内部歪のない光学素子を製造する方法(例えば、特許文献2参照)が知られている。   As a method of manufacturing an optical element from which internal strain has been removed, for example, after heating and softening the optical element material to a deformable temperature and applying pressure by a pair of molds, the surface shape of the mold is transferred to the optical element material. Along with the method of releasing the mold by thermally deforming the optical element, a method of annealing treatment to remove the internal strain of the optical element after the mold release (see, for example, Patent Document 1), and molding the optical element molded between the molds after molding A method of producing an optical element free from internal strain by taking out from the mold and annealing at least one of the optical elements together is known (for example, see Patent Document 2).

一方、カメラ、ビデオ、携帯端末等、小型撮像機器の高画素化、軽薄短小化に伴い、高屈折率を有する光学素材の必要性が増している。従来、高屈折率硝材としては、高分散のものが主であったが、上記のような小型撮像機器には、高屈折でありかつ分散があまり高くないものが必要である。しかも、非球面レンズが生産性高く製造できるためには、上記硝材であって、精密モールドプレスに適用可能な硝材が求められていた。   On the other hand, the need for an optical material having a high refractive index is increasing with the increase in the number of pixels and the reduction in size and size of small imaging devices such as cameras, videos, and portable terminals. Conventionally, high-refractive index glass materials have been mainly high-dispersion glass. However, small-sized imaging devices such as those described above need to have high refraction and low dispersion. Moreover, in order to be able to manufacture an aspherical lens with high productivity, there has been a demand for a glass material that is applicable to a precision mold press.

精密モールド用の硝材としては、用いる成形型やその離型膜の耐久性を考慮し、ガラス転移点(Tg)が低い方が好ましい。しかしながら、必要な光学恒数を満足させ、かつガラスとしての安定性を得るためには、Tgが高めになる場合も避けられない。   As the glass material for precision molding, it is preferable that the glass transition point (Tg) is lower in consideration of the durability of the mold used and the release film. However, in order to satisfy the required optical constant and to obtain stability as glass, it is inevitable that Tg is increased.

本発明者らは、先に高屈折率であり、かつ中分散領域の精密モールド用硝材を提案した。例えば、屈折率ndが1.70〜1.90、アッベ数νdが35〜65のものなどである。この硝材では、上記光学恒数を満足し、結晶化しやすくなる傾向を防止する組成を選択するため、主としてTgが530℃以上の光学ガラスである(特許文献3〜5参照)。   The present inventors have previously proposed a glass material for precision molding having a high refractive index and an intermediate dispersion region. For example, the refractive index nd is 1.70 to 1.90 and the Abbe number νd is 35 to 65. This glass material is mainly an optical glass having a Tg of 530 ° C. or higher in order to select a composition that satisfies the optical constant and prevents the tendency to be easily crystallized (see Patent Documents 3 to 5).

このような光学ガラスを所定体積、所定形状に予備成形したガラス素材を用い、精密モールドプレスを行ってレンズを成形し、離型後にアニール処理を行ったところ、レンズ表面にクモリ、白濁といった外観不良が発生した。   Using a glass material that has been pre-molded into a predetermined volume and shape of such optical glass, the lens is molded by precision mold pressing, and annealed after mold release. There has occurred.

特開平10−7423号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-7423 特開2003−183039号公報JP 2003-183039 A 特開2003−267748号公報JP 2003-267748 A 特開2002−249337号公報JP 2002-249337 A 特開2003−201143号公報JP 2003-201143 A

離型後のアニール処理は、除歪、及び/又は屈折率の調整を目的とするものであるが、Tg付近又はTg未満の適切な温度範囲にて行う。Tgが比較的高い硝材であれば、アニール温度も高めに設定される。例えば、(Tg−50℃)〜(Tg+20℃)である。温度域としては、例えば500〜600℃の付近となる。このようなアニールによって、ガラス成形体表面にクモリ、又は汚染の生じる原因について、本発明者らは検討した。   The annealing treatment after the release is intended to remove the strain and / or adjust the refractive index, but is performed in an appropriate temperature range near Tg or less than Tg. If the glass material has a relatively high Tg, the annealing temperature is also set higher. For example, (Tg−50 ° C.) to (Tg + 20 ° C.). As a temperature range, it becomes the vicinity of 500-600 degreeC, for example. The present inventors examined the cause of spider or contamination on the surface of the glass molded body by such annealing.

ガラス素材として、プレス成形時の成形型への融着防止を主目的として、表面に炭素含有膜を設けたものを用いる場合があるが、通常、この炭素含有膜はプレス成形後の光学素子には不要であり、むしろ光学素子の性能を損なったり、光学素子に付す機能性膜の成膜性を阻害するため炭素含有膜は除去される。例えば光学素子のアニール処理を、酸化能力のある雰囲気で行うことにより、炭素含有膜は主としてCOとなって消失する。しかしながら、アニール温度が高い場合、炭素含有膜を消失する反応とともに、膜成分とガラス成分との反応が同時進行し、ガラス表面に反応物を付着させることが、クモリ、又は汚染の原因となることが本発明者らによって見出された。 As a glass material, there is a case where a carbon-containing film provided on the surface is used mainly for the purpose of preventing fusion to a mold during press molding. Usually, this carbon-containing film is used for an optical element after press molding. The carbon-containing film is removed because it impairs the performance of the optical element or hinders the film formation of the functional film attached to the optical element. For example, when the annealing treatment of the optical element is performed in an atmosphere having an oxidizing ability, the carbon-containing film disappears mainly as CO 2 . However, when the annealing temperature is high, the reaction between the film component and the glass component proceeds simultaneously with the reaction of disappearing the carbon-containing film, and attaching the reactants to the glass surface may cause spider or contamination. Was found by the present inventors.

例えば、ガラス成分中に含まれるリチウムは、炭素含有膜の成分と高温で反応し、炭酸リチウムを生成してガラス表面に付着する。この付着物を熱分解するために更に高温で熱処理を行えば、ガラスの適切なアニール温度域を超え、ガラスの成形形状が損なわれる。   For example, lithium contained in the glass component reacts with the components of the carbon-containing film at a high temperature to generate lithium carbonate and adhere to the glass surface. If heat treatment is performed at a higher temperature in order to thermally decompose this deposit, the glass will exceed the appropriate annealing temperature range, and the glass shape will be impaired.

本発明は、このような事情のもとでなされたものであり、Tgが530℃以上の光学ガラスを用い、内部歪が除去され、かつ外観が良好で、光学性能の高いガラス光学素子を、精密モールドプレス成形により効率よく製造する方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made under such circumstances, using a glass optical element having a Tg of 530 ° C. or higher, having internal distortion removed, having a good appearance, and high optical performance. It aims at providing the method of manufacturing efficiently by precision mold press molding.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、表面に炭素含有膜を有するTgが530℃以上の光学ガラスからなる予備成形体を、軟化した状態で成形型によりプレス成形したのち、成形体を取り出し、加熱処理して、その表面の炭素含有膜を除去し、次いで、前記の加熱処理温度よりも高い温度でアニール処理することにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention pressed a preform made of optical glass having a carbon-containing film on the surface and having a Tg of 530 ° C. or higher with a mold in a softened state. After molding, the molded body is taken out, heat-treated to remove the carbon-containing film on the surface, and then annealed at a temperature higher than the above heat-treatment temperature, so that the object can be achieved. Based on this finding, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、
(1) (A)表面に炭素含有膜を有する、ガラス転移点(Tg)530℃以上の光学ガラスからなる予備成形体を、加熱により軟化した状態にて成形型でプレス成形する工程、(B)プレス成形後、冷却して前記成形型より成形体を取り出し、加熱処理して表面の炭素含有膜を除去する工程、および(C)炭素含有膜が除去された成形体を、前記(B)工程における加熱処理温度よりも高い温度にてアニール処理する工程、を含むことを特徴とするガラス光学素子の製造方法、
(2) (B)炭素含有膜除去工程における加熱処理温度が200〜500℃である、上記(1)項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(3) (C)アニール処理工程におけるアニール処理温度が、光学ガラスのTg−50℃ないしTg+20℃の範囲である、上記(1)または(2)項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(4) (B)炭素含有膜除去工程に連続して(C)アニール処理工程を同一の加熱炉内で行う、上記(1)ないし(3)項のいずれか1項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(5) 光学ガラスが、ガラス成分としてアルカリ金属を含む、上記(1)ないしまたは(4)項のいずれか1項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(6) 光学ガラスが、ガラス成分としてリチウムを0.5〜25モル%含む、上記(5)項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(7) 光学ガラスが、屈折率(nd)1.6〜1.9およびアッベ数(νd)35〜65である、上記(1)ないし(6)項のいずれか1項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(8) 光学ガラスが、モル%表示でB:20〜60%、SiO:0〜25%、ZnO:2〜35%、LiO:0.5〜15%、CaO:0〜10%、La:5〜20%、Gd:0〜15%、ZrO:0〜10%、Ta:0〜10%、Nb:0〜5%、WO:0〜15%、Y:0〜8%、Yb:0〜8%を含み、かつこれらの成分を合計で92モル%より多く含む、上記(6)または(7)項に記載のガラス光学素子の製造方法、
(9) 光学ガラスが、モル%表示でB:25〜55%、SiO:0〜25%、ZnO:4〜35%、LiO:1〜15%、CaO:0〜10%、La:4〜20%、Gd:0〜15%、ZrO:0〜10%、TiO:0〜15%、Nb:1〜10%、WO:0〜14%を含み、かつこれらの成分を合計で95モル%より多く含む、上記(6)または(7)項に記載のガラス光学素子の製造方法、および
(10) 光学ガラスが、モル%表示でB:30〜60%、SiO:0〜20%、ZnO:0〜20%、LiO:0.5〜25%、CaO:2〜30%、MgO:0〜12%、SrO:0〜12%、BaO:0〜10%、La:2〜18%、Gd:0〜10%、Y:0〜10%、ZrO:0〜8%、Ta:0〜8%、Nb:0〜3%、WO:0〜5%を含む、上記(6)または(7)項に記載のガラス光学素子の製造方法、
を提供する。
That is, the present invention
(1) (A) A step of press-molding a preform formed of optical glass having a carbon-containing film on the surface and having a glass transition point (Tg) of 530 ° C. or higher with a molding die in a softened state by heating, (B ) After press molding, cool and take out the molded body from the mold, heat treatment to remove the carbon-containing film on the surface, and (C) the molded body from which the carbon-containing film has been removed. An annealing process at a temperature higher than the heat treatment temperature in the process, and a method for producing a glass optical element,
(2) (B) The manufacturing method of the glass optical element as described in said (1) description whose heat processing temperature in a carbon containing film removal process is 200-500 degreeC,
(3) (C) The method for producing a glass optical element according to (1) or (2) above, wherein the annealing temperature in the annealing step is in the range of Tg-50 ° C. to Tg + 20 ° C. of the optical glass,
(4) The glass optical element according to any one of (1) to (3) above, wherein the (C) annealing treatment step is performed in the same heating furnace in succession to the (B) carbon-containing film removal step. Manufacturing method,
(5) The method for producing a glass optical element according to any one of (1) to (4) above, wherein the optical glass contains an alkali metal as a glass component,
(6) The method for producing a glass optical element according to (5) above, wherein the optical glass contains 0.5 to 25 mol% of lithium as a glass component,
(7) The glass optics according to any one of (1) to (6) above, wherein the optical glass has a refractive index (nd) of 1.6 to 1.9 and an Abbe number (νd) of 35 to 65. Device manufacturing method,
(8) optical glass, as represented by mol% B 2 O 3: 20~60%, SiO 2: 0~25%, ZnO: 2~35%, Li 2 O: 0.5~15%, CaO: 0 ~10%, La 2 O 3: 5~20%, Gd 2 O 3: 0~15%, ZrO 2: 0~10%, Ta 2 O 5: 0~10%, Nb 2 O 5: 0~5 %, WO 3: 0~15%, Y 2 O 3: 0~8%, Yb 2 O 3: comprises 0-8%, and containing more than 92 mol% of these components in total, (6) Or the manufacturing method of the glass optical element as described in (7) term,
(9) an optical glass, as represented by mol% B 2 O 3: 25~55%, SiO 2: 0~25%, ZnO: 4~35%, Li 2 O: 1~15%, CaO: 0~10 %, La 2 O 3 : 4 to 20%, Gd 2 O 3 : 0 to 15%, ZrO 2 : 0 to 10%, TiO 2 : 0 to 15%, Nb 2 O 5 : 1 to 10%, WO 3 : The method for producing a glass optical element according to the above (6) or (7), which contains 0 to 14% and contains more than 95 mol% of these components, and (10) % indicated by B 2 O 3: 30~60%, SiO 2: 0~20%, ZnO: 0~20%, Li 2 O: 0.5~25%, CaO: 2~30%, MgO: 0~ 12%, SrO: 0~12%, BaO: 0~10%, La 2 O 3: 2~18%, Gd 2 O 3: ~10%, Y 2 O 3: 0~10%, ZrO 2: 0~8%, Ta 2 O 5: 0~8%, Nb 2 O 5: 0~3%, WO 3: the 0-5% A method for producing a glass optical element according to the above (6) or (7),
I will provide a.

本発明によれば、精密モールドプレスにより、内部歪が除去され、かつ外観が良好で、光学性能の高いガラス光学素子を効率よく製造する方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the method of manufacturing efficiently the glass optical element from which an internal distortion is removed by a precision mold press, an external appearance is favorable, and high optical performance can be provided.

本発明のガラス光学素子の製造方法は、表面に炭素含有膜を有する光学ガラスからなる予備形成体を、精密モールドプレスにより成形し、ガラス光学素子を製造する方法である。   The method for producing a glass optical element of the present invention is a method for producing a glass optical element by molding a preform formed of optical glass having a carbon-containing film on the surface thereof by a precision mold press.

本発明において用いられる光学ガラスは、ガラス転移点(Tg)が530℃以上、好ましくは550℃以上、特に好ましくは580℃以上のものである。このようなTgをもつ光学ガラスに対し、本発明の効果が顕著に発揮される。   The optical glass used in the present invention has a glass transition point (Tg) of 530 ° C. or higher, preferably 550 ° C. or higher, particularly preferably 580 ° C. or higher. The effect of the present invention is remarkably exhibited with respect to the optical glass having such Tg.

当該光学ガラスは、ガラス成分としてアルカリ金属を含むものが好ましく、特にリチウムを含む場合に、本発明の効果が顕著に認められる。上記リチウムの含有量は、0.5〜25モル%程度が好ましく、より好ましくは0.5〜15モル%である。   The optical glass preferably contains an alkali metal as a glass component, and the effect of the present invention is remarkably recognized particularly when lithium is contained. The lithium content is preferably about 0.5 to 25 mol%, more preferably 0.5 to 15 mol%.

当該光学ガラスは、屈折率(nd)が、好ましくは1.6〜1.9、より好ましくは1.67〜1.87であり、アッベ数(νd)が、好ましくは35〜65、より好ましくは38〜52の光学ガラスが望ましい。   The optical glass preferably has a refractive index (nd) of 1.6 to 1.9, more preferably 1.67 to 1.87, and an Abbe number (νd) of preferably 35 to 65, more preferably. Is preferably 38-52 optical glass.

具体的には、以下に示すガラス組成の光学ガラスA〜Cを挙げることができる。
光学ガラスA:
モル%表示でB:20〜60%、SiO:0〜25%、ZnO:2〜35%、LiO:0.5〜15%、CaO:0〜10%、La:5〜20%、Gd:0〜15%、ZrO:0〜10%、Ta:0〜10%、Nb:0〜5%、WO:0〜15%、Y:0〜8%、Yb:0〜8%を含み、かつこれらの成分を合計で92モル%より多く含むものであって、屈折率(nd)が1.75〜1.87で、アッベ数(νd)が38〜52の範囲にある光学恒数を有する光学ガラスである。
Specific examples include optical glasses A to C having the glass composition shown below.
Optical glass A:
B 2 O 3 by mol%: 20~60%, SiO 2: 0~25 %, ZnO: 2~35%, Li 2 O: 0.5~15%, CaO: 0~10%, La 2 O 3 : 5-20%, Gd 2 O 3 : 0-15%, ZrO 2 : 0-10%, Ta 2 O 5 : 0-10%, Nb 2 O 5 : 0-5%, WO 3 : 0 15%, Y 2 O 3 : 0 to 8%, Yb 2 O 3 : 0 to 8%, and a total of more than 92 mol% of these components, the refractive index (nd) being 1 An optical glass having an optical constant of .75 to 1.87 and an Abbe number (νd) in the range of 38 to 52.

光学ガラスB:
モル%表示でB:25〜55%、SiO:0〜25%、ZnO:4〜35%、LiO:1〜15%、CaO:0〜10%、La:4〜20%、Gd:0〜15%、ZrO:0〜10%、TiO:0〜15%、Nb:1〜10%、WO:0〜14%を含み、かつこれらの成分を合計で95モル%より多く含むものであって、屈折率(nd)が1.75〜1.87で、アッベ数(νd)が28〜45の範囲にある光学恒数を有する光学ガラスである。
Optical glass B:
Mol% in B 2 O 3: 25~55%, SiO 2: 0~25%, ZnO: 4~35%, Li 2 O: 1~15%, CaO: 0~10%, La 2 O 3: 4~20%, Gd 2 O 3: 0~15%, ZrO 2: 0~10%, TiO 2: 0~15%, Nb 2 O 5: 1~10%, WO 3: comprises 0-14% And an optical constant having a total refractive index of more than 95 mol%, a refractive index (nd) of 1.75 to 1.87, and an Abbe number (νd) of 28 to 45. Is an optical glass.

光学ガラスC:
モル%表示でB:30〜60%、SiO:0〜20%、ZnO:0〜20%、LiO:0.5〜25%、CaO:2〜30%、MgO:0〜12%、SrO:0〜12%、BaO:0〜10%、La:2〜18%、Gd:0〜10%、Y:0〜10%、ZrO:0〜8%、Ta:0〜8%、Nb:0〜3%、WO:0〜5%を含み、かつ屈折率(nd)が1.67〜1.80で、アッベ数(νd)が45〜60の範囲にある光学恒数を有する光学ガラスである。
Optical glass C:
Mol% in B 2 O 3: 30~60%, SiO 2: 0~20%, ZnO: 0~20%, Li 2 O: 0.5~25%, CaO: 2~30%, MgO: 0 ~12%, SrO: 0~12%, BaO: 0~10%, La 2 O 3: 2~18%, Gd 2 O 3: 0~10%, Y 2 O 3: 0~10%, ZrO 2 : 0~8%, Ta 2 O 5 : 0~8%, Nb 2 O 5: 0~3%, WO 3: comprises 0-5%, and a refractive index (nd) of 1.67 to 1.80 And an optical glass having an optical constant having an Abbe number (νd) in the range of 45-60.

本発明で用いる予備形成体は、上記光学ガラスに冷間で切断・研磨等の加工を施すことによって、又は溶融状態で受け型に滴下、又は流下して熱間で成形することによって得られたものである。好ましくは、熱間成形により、球形、両凸曲面形状などにすると、欠陥のない表面が、効率よく得られる。   The preform used in the present invention was obtained by subjecting the optical glass to a process such as cutting and polishing in a cold state, or by dripping or flowing down to a receiving mold in a molten state and forming it hot. Is. Preferably, when a spherical shape, a biconvex curved surface shape, or the like is formed by hot forming, a defect-free surface can be obtained efficiently.

本発明においては、この予備成形体の表面に炭素含有膜を形成したものを用いる。この炭素含有膜は、プレス成形時における予備成形体表面と成形型との融着を防止し、かつ予備成形体表面の滑り性を向上させることによって、成形面上での予備成形体の位置決めを容易にするものである。   In the present invention, a carbon-containing film formed on the surface of this preform is used. This carbon-containing film prevents the fusion between the preform surface and the mold during press molding, and improves the slipperiness of the preform surface, thereby positioning the preform on the molding surface. To make it easier.

前記炭素含有膜としては、炭素を主成分とするものが好ましく、炭化水素膜など他成分を含有するものでもよい。成膜方法としては、炭素原料を用いた真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング法、プラズマ処理、イオンガン処理など、公知の成膜方法を用いて行うことができる。また、炭化水素等、炭素含有物の熱分解によって成膜してもよく、更には、有機物を原料の溶液又は気体に予備成形体を接触させることで自己組織化膜を形成する方法によってもよい。   The carbon-containing film is preferably a film containing carbon as a main component, and may contain other components such as a hydrocarbon film. As a film forming method, a known film forming method such as vacuum vapor deposition using a carbon raw material, sputtering, ion plating method, plasma treatment, ion gun treatment or the like can be used. Alternatively, the film may be formed by thermal decomposition of a carbon-containing material such as a hydrocarbon, and further, a method of forming a self-assembled film by bringing a preform into contact with a raw material solution or gas. .

この炭素含有膜の厚さは、通常1〜20nm程度、好ましくは1〜10nm、さらに好ましくは2〜5nmである。   The thickness of the carbon-containing film is usually about 1 to 20 nm, preferably 1 to 10 nm, and more preferably 2 to 5 nm.

本発明においては、このようにして得られた表面に炭素含有膜を有する光学ガラスからなる予備成形体を、加熱により軟化した状態にて成形型でプレス成形する[(A)工程]。このプレス成形の方法に特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。   In the present invention, the preformed body made of optical glass having a carbon-containing film on the surface thus obtained is press-molded with a molding die in a state of being softened by heating [step (A)]. There is no restriction | limiting in particular in this press molding method, A conventionally well-known method is employable.

例えば、成形型としては、超硬合金や、セラミクス(Si、SiCなど)といった、耐熱性と強度のあるものを、得ようとする光学素子の形状をもとに精密に加工したものを用意する。成形面には、融着を防止し、離型を促す目的で、離型膜(貴金属を主成分とするもの、炭素を主成分とするものなど、いずれでもよい)を設けることが好ましい。 For example, as a mold, a heat-resistant and strong material such as cemented carbide or ceramics (Si 3 N 4 , SiC, etc.) is precisely processed based on the shape of the optical element to be obtained. Prepare. For the purpose of preventing fusion and facilitating mold release, it is preferable to provide a release film (any of those containing a noble metal as a main component or carbon as a main component) on the molding surface.

上記のように用意した一対の成形型に、前記予備成形体を供給して加熱により軟化し、あるいは、加熱により軟化した予備成形体を成形型に供給し、所定の荷重をかけることにより、成形面形状を転写させる。この際、予備成形体の表面に設けられた炭素含有膜が消失しないように、雰囲気は非酸化性とすることが好ましい。例えば、不活性ガス(窒素、アルゴンなど)又は、これらに還元性のガス(水素など)を混入させてもよい。   The preform is supplied to the pair of molds prepared as described above and softened by heating, or the preform that has been softened by heating is supplied to the mold and subjected to a predetermined load, thereby forming the mold. The surface shape is transferred. At this time, the atmosphere is preferably non-oxidizing so that the carbon-containing film provided on the surface of the preform does not disappear. For example, an inert gas (such as nitrogen or argon) or a reducing gas (such as hydrogen) may be mixed therein.

本発明においては、このようにして予備成形体を形成したのち、ガラス成形体を型内に保持したまま、Tg付近の温度まで冷却して、前記成形型より取り出し、加熱処理して表面の炭素含有膜を除去する[(B)工程]。離型温度は、好ましくはガラス粘度で1013〜1014dPa・sの範囲である。
冷却は、成形サイクルタイムを不要に長くしない観点から、50〜300℃/分(成形温度から離型温度までの平均値で)とすることができる。
In the present invention, after forming the preform in this manner, the glass molded body is cooled to a temperature near Tg while being held in the mold, taken out from the mold, and subjected to heat treatment to obtain carbon on the surface. The contained film is removed [step (B)]. The mold release temperature is preferably in the range of 10 13 to 10 14 dPa · s in terms of glass viscosity.
From the viewpoint of not unnecessarily lengthening the molding cycle time, the cooling can be performed at 50 to 300 ° C./min (with an average value from the molding temperature to the mold release temperature).

ガラス成形体の加熱処理における雰囲気は少なくとも炭素含有膜除去の過程では、酸素を含有することが好ましく、酸素濃度は0.01〜100vol%とするのがよい。0.01vol%未満では炭素含有膜の除去効果が不十分である。酸素濃度が高いほどカーボンの除去に要する時間は短くなるが、炉体を構成する金属等の酸化やそれに起因するレンズ汚染など、他の反応の誘発を避けるため、好ましくは0.01〜10vol%である。   The atmosphere in the heat treatment of the glass molded body preferably contains oxygen at least in the process of removing the carbon-containing film, and the oxygen concentration is preferably 0.01 to 100 vol%. If it is less than 0.01 vol%, the effect of removing the carbon-containing film is insufficient. The higher the oxygen concentration, the shorter the time required for carbon removal. However, in order to avoid other reactions such as oxidation of the metal constituting the furnace body and lens contamination resulting from it, preferably 0.01 to 10 vol% It is.

加熱処理に際しては、成形体を導入した炉内を昇温するが、昇温速度は、不要にサイクルタイムを長くしない範囲で選択すればよく、例えば60〜300℃/hr、より好ましくは100〜300℃/hrで昇温して所定温度(膜除去温度)とする。所定温度とは、成形体表面の炭素含有膜が雰囲気中の酸化、消失するような温度範囲内である。例えば、200〜500℃とすれば、炭素含有膜はCOの発生を伴って消失する。より好ましくは、300〜500℃である。このような温度で、1時間以上保持することが好ましい。保持温度が長すぎると効果は上がらず、生産効率が下がり、より好ましくは、2〜4時間である。 In the heat treatment, the temperature inside the furnace into which the compact has been introduced is increased, and the rate of temperature increase may be selected in a range that does not unnecessarily increase the cycle time, for example, 60 to 300 ° C./hr, more preferably 100 to The temperature is raised at 300 ° C./hr to a predetermined temperature (film removal temperature). The predetermined temperature is within a temperature range in which the carbon-containing film on the surface of the molded body is oxidized and disappears in the atmosphere. For example, when the temperature is 200 to 500 ° C., the carbon-containing film disappears with generation of CO 2 . More preferably, it is 300-500 degreeC. It is preferable to hold at such a temperature for 1 hour or longer. If the holding temperature is too long, the effect is not improved, and the production efficiency is lowered, more preferably 2 to 4 hours.

本発明においては、このようにして炭素含有膜が除去された成形体をアニール処理する[(C)工程]。
前記(B)工程を施さずに、表面に炭素含有膜を有する成形体をアニール処理する場合、前記の温度域では低すぎてアニール処理効果が発揮されにくいが、該温度域を超えて高温とすると、炭素含有膜は酸化によって消失とともに、炭素含有膜の成分とガラス成分との反応が同時進行し、生成物がガラス表面に付着することからクモリや表面汚染が生成する。例えば、炭素含有膜の酸化時に生成したCOがガラス中のリチウム等アルカリ成分と反応して、炭酸塩を析出させるなどの反応により、光学素子の光透過性が阻害される。
In the present invention, the molded body from which the carbon-containing film has been removed is annealed [step (C)].
In the case of annealing a molded body having a carbon-containing film on the surface without performing the step (B), the annealing treatment effect is difficult to be exhibited because it is too low in the above temperature range, Then, the carbon-containing film disappears due to oxidation, and the reaction between the components of the carbon-containing film and the glass component proceeds simultaneously, and the product adheres to the glass surface, thus generating spiders and surface contamination. For example, CO 2 produced during oxidation of the carbon-containing film reacts with an alkali component such as lithium in the glass to precipitate a carbonate, thereby inhibiting the light transmittance of the optical element.

したがって、本発明においては、前記(B)工程において炭素含有膜を除去したあと、工程(C)において成形体を更に昇温してアニール処理を行う。アニ−ル処理は、前記(B)工程に連続して同一の加熱炉の中で行ってもよいし、あるいはまた、前記(B)工程を経た成形体を加熱炉から取り出して一旦常温まで下げた後に、加熱炉に再投入して所定のアニ−ル温度まで直接昇温して、アニ−ル処理を行ってもよい。前者のように(B)工程と(C)工程を連続して行うと、エネルギーロスが少なく、また段取り替えが不要となり、生産効率が向上する。後者のように(B)工程と(C)工程を不連続で行う場合は、硝種の相違に伴ってアニ−ル温度の異なる成形体に対して個々に適切なアニ−ル温度を設定できるため、より精度の高いアニ−ル処理が可能となる。   Therefore, in the present invention, after the carbon-containing film is removed in the step (B), the molded body is further heated and annealed in the step (C). The annealing treatment may be carried out in the same heating furnace continuously from the step (B), or alternatively, the molded body after the step (B) is taken out from the heating furnace and once lowered to room temperature. Then, the annealing treatment may be performed by re-introducing the furnace and raising the temperature directly to a predetermined annealing temperature. If the steps (B) and (C) are performed continuously as in the former case, energy loss is small, and no setup change is required, thereby improving production efficiency. When the steps (B) and (C) are performed discontinuously as in the latter case, an appropriate annealing temperature can be set individually for molded articles having different annealing temperatures in accordance with the glass type. This makes it possible to carry out annealing with higher accuracy.

本発明においてアニール処理とは、熱処理とそれに次ぐ冷却によりガラス内部の残留歪を低減させ、又は、それと共に屈折率を調整する工程であって、温度範囲(アニール温度)としては、(Tg−50℃)〜(Tg+20℃)が好ましい。より好ましくは、(Tg−50℃)〜(Tg−10℃)、更に好ましくは、(Tg−50℃)〜(Tg−20℃)、である。これにより成形体の形状精度が良好に維持される。炭素含有膜除去温度からアニール温度までの昇温は、1時間以上が好ましく、この際の昇温速度は60〜300℃/hr程度である。また、アニール温度での保持は、2〜4時間が好ましい。   In the present invention, the annealing treatment is a step of reducing the residual strain inside the glass by heat treatment and subsequent cooling, or adjusting the refractive index with it, and the temperature range (annealing temperature) is (Tg-50). ° C.) to (Tg + 20 ° C.). More preferably, they are (Tg-50 degreeC)-(Tg-10 degreeC), More preferably, they are (Tg-50 degreeC)-(Tg-20 degreeC). Thereby, the shape accuracy of a molded object is maintained favorable. The temperature increase from the carbon-containing film removal temperature to the annealing temperature is preferably 1 hour or more, and the temperature increase rate at this time is about 60 to 300 ° C./hr. The holding at the annealing temperature is preferably 2 to 4 hours.

アニール処理工程での雰囲気は、特に制限はないが、好ましくは酸素濃度0〜5vol%とすることにより、炉の構成物質の酸化や、それに起因するレンズの汚染が避けられる。   The atmosphere in the annealing treatment step is not particularly limited, but preferably by setting the oxygen concentration to 0 to 5 vol%, oxidation of the constituent materials of the furnace and contamination of the lens resulting therefrom can be avoided.

アニール温度からの降温速度は、得られる光学素子の残留歪が、複屈折で10nm以下となるように選択することが好ましい。より好ましくは1nm以下となるように行う。例えば、60℃/hr以下、より好ましくは20〜60℃/hrである。   The temperature lowering rate from the annealing temperature is preferably selected so that the residual strain of the obtained optical element is 10 nm or less due to birefringence. More preferably, it is performed to be 1 nm or less. For example, it is 60 degrees C / hr or less, More preferably, it is 20-60 degrees C / hr.

なお、ガラス温度が十分冷却され、例えばTg−180℃程度に達したら、ガラスが割れない範囲で急冷してもかまわない。例えば、100℃/hr、又はそれ以上の冷却を行うことが可能である。このようにして、室温又は100℃以下程度の温度に達したら炉から取り出すことができる。   When the glass temperature is sufficiently cooled, for example, reaches about Tg-180 ° C., the glass may be rapidly cooled within a range where the glass is not broken. For example, cooling of 100 ° C./hr or more can be performed. In this way, when the temperature reaches room temperature or about 100 ° C. or less, it can be removed from the furnace.

本発明の方法は、前記のようにTgが比較的高い(すなわち、アニール温度が比較的高い)光学ガラスを用いたモールドプレスレンズに特に有効である。本発明においては、表面に炭素含有膜を成膜した予備成形体を用いてプレス成形を行う際、発生したCOが、部分的に露出したガラス表面でガラス成分と反応し、生成物がガラス表面に付着することを防止する。すなわち、本発明では、炭素含有膜の酸化、消失と、ガラス成分との反応が平行して進行することを防止し、炭素含有膜の消失、気化を先に進行させ、その後に光学ガラス成形体のアニール処理を行う。 The method of the present invention is particularly effective for a mold press lens using optical glass having a relatively high Tg (that is, a relatively high annealing temperature) as described above. In the present invention, when press molding is performed using a preform with a carbon-containing film formed on the surface, the generated CO 2 reacts with the glass component on the partially exposed glass surface, and the product is glass. Prevent sticking to the surface. That is, in the present invention, the oxidation and disappearance of the carbon-containing film and the reaction with the glass component are prevented from proceeding in parallel, and the disappearance and vaporization of the carbon-containing film are advanced first, and then the optical glass molded body Annealing treatment is performed.

次に、本発明を実験例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この実験例により、なんら限定されるものではない。
実験例
表1〜表3に示す組成、表4〜表6に示す光学恒数およびガラス転移点(Tg)を有する光学ガラスを用いて、プレス成形用予備成形体を作製した。すなわち、各光学ガラスをそれぞれ溶融状態から受け型に滴下し、ガスを噴射する受け型中で浮上状態で両凸曲面形状に予備成形してなる予備成形体を作製した。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to experimental examples, but the present invention is not limited to these experimental examples.
Experimental Example A press-molding preform was produced using optical glasses having the compositions shown in Tables 1 to 3 and the optical constants and glass transition points (Tg) shown in Tables 4 to 6. That is, each optical glass was dropped from a molten state onto a receiving mold, and a preform was formed by preforming into a biconvex curved surface shape in a floating state in a receiving mold for injecting gas.

次に、この予備成形体表面に炭素含有膜を形成した。成膜はアセチレンの熱分解による、炭素を主成分とする膜を、以下のようにして行った。   Next, a carbon-containing film was formed on the surface of the preform. Film formation was carried out as follows using a carbon-based film formed by thermal decomposition of acetylene.

具体的には、被処理予備成形体を収容した反応容器(ベルジャ−)内を67Pa以下に排気した後、加熱し480℃に保った。ガス管から窒素ガスを流しながら真空ポンプで排気を行うことにより21kPaに保ち、30分間パ−ジを行った。この後、ガスの導入を止め、67Paまで排気を行った。この後圧力が16kPaになるまで流量65標準状態cm/minにて100分間アセチレンを導入し続けた。所定の圧力に達した後、加熱を止めアセチレンの導入を止め、真空引きを行った。温度が下がった後予備成形体を取り出した。 Specifically, the inside of the reaction vessel (Bergger) containing the pre-formed object to be processed was evacuated to 67 Pa or less, and then heated and maintained at 480 ° C. By evacuating with a vacuum pump while flowing nitrogen gas from the gas pipe, it was kept at 21 kPa and purged for 30 minutes. Thereafter, the introduction of gas was stopped, and the exhaust was performed to 67 Pa. Thereafter, acetylene was continuously introduced for 100 minutes at a flow rate of 65 cm 3 / min until the pressure reached 16 kPa. After reaching a predetermined pressure, the heating was stopped, the introduction of acetylene was stopped, and vacuuming was performed. After the temperature dropped, the preform was taken out.

このようにして得られた炭素含有膜を有する予備成形体を用いて、径15mmの凸メニスカスレンズ形状にプレス成形した。すなわち、予備成形体を、型外で650〜750℃に予熱し、軟化した状態で浮上治具を用いて、下型成形面の上に搬送し、浮上皿を分割することによって予備成形体を、下型成形面上に落下供給した。直ちに、2.9kNの荷重によって、上下成形面間で予備成形体をプレスし、押しきった時点で、100℃/分の冷却速度で冷却を行った。ガラスTg以下の温度となった時点で、離型し、成形された成形体を取り出した。予備成形体の予熱、及びプレス成形は、窒素雰囲気で行った。   The preformed body having the carbon-containing film thus obtained was press-molded into a convex meniscus lens shape having a diameter of 15 mm. That is, the preform is preheated to 650 to 750 ° C. outside the mold, and is transported onto the lower mold surface using a floating jig in a softened state, and the preform is divided by dividing the floating dish. Then, it was dropped and supplied onto the lower mold surface. Immediately, the preform was pressed between the upper and lower molding surfaces with a load of 2.9 kN, and cooled at a cooling rate of 100 ° C./min when fully pressed. When the temperature became equal to or lower than the glass Tg, the mold was released and the molded body was taken out. Preheating of the preform and press molding were performed in a nitrogen atmosphere.

取り出した複数の成形体を一括して、室温で加熱炉に導入したのち、加熱炉を昇温し、加熱処理した。加熱炉内の雰囲気は、酸素濃度1vol%の窒素雰囲気とした。   The plurality of molded bodies taken out were collectively introduced into a heating furnace at room temperature, and then the heating furnace was heated and heat-treated. The atmosphere in the heating furnace was a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 1 vol%.

前記加熱処理は、下記のスケジュール1(比較例)およびスケジュール2(実施例)に従って行った。
〈スケジュール1〉
(1)スケジュール1−1(Tg−35)
図1は、スケジュール1−1の加熱処理条件の説明図である。図1に示すように、まず、加熱炉を室温からTg−35℃(アニール温度)まで3時間で昇温した。この温度で3時間保持し、次いで降温速度を、−50℃/hrとして、(上記保持温度−150℃)の温度(すなわちTg−185℃)まで冷却した。この後は、−100℃/hrで室温まで急冷した。
(2)スケジュール1−2(Tg−45)
図2は、スケジュール1−2の加熱処理条件の説明図である。図2に示すように、まず、加熱炉を室温からTg−45℃(アニール温度)まで3時間で昇温した。この温度で3時間保持し、次いで降温速度を、−50℃/hrとして、(上記保持温度−150℃)の温度(すなわちTg−195℃)まで冷却した。この後は、−100℃/hrで室温まで急冷した。
〈スケジュール2〉
(1)スケジュール2−1(450/Tg−35)
図3は、スケジュール2−1の加熱処理条件の説明図である。図3に示すように、まず、加熱炉を室温から450℃(膜除去温度)まで2時間で昇温し、この温度で3時間保持した。これが本発明の炭素含有膜除去工程に相当する。さらに昇温を開始し、昇温速度約150℃/hrにて、2時間でTg−35℃(アニール温度)まで加熱した。このアニール温度にて3時間保持したあと、降温速度−50℃/hrで(上記保持温度−150℃)の温度(すなわち、Tg−185℃)まで冷却した。この後は、−100℃/hrで室温まで急冷した。
(2)スケジュール2−2(325/Tg−45)
図4は、スケジュール2−2の加熱処理条件の説明図である。図4に示すように、まず、加熱炉を室温から325℃(膜除去温度)まで2時間で昇温し、この温度で3時間保持した。これが本発明の炭素含有膜除去工程に相当する。さらに昇温を開始し、昇温速度約150℃/hrにて、2時間でTg−45℃(アニール温度)まで加熱した。このアニール温度にて3時間保持したあと、降温速度−50℃/hrで(上記保持温度−150℃)の温度(すなわち、Tg−195℃)まで冷却した。この後は、−100℃/hrで室温まで急冷した。
The heat treatment was performed according to the following schedule 1 (comparative example) and schedule 2 (example).
<Schedule 1>
(1) Schedule 1-1 (Tg-35)
FIG. 1 is an explanatory diagram of the heat treatment conditions of schedule 1-1. As shown in FIG. 1, first, the heating furnace was heated from room temperature to Tg-35 ° C. (annealing temperature) in 3 hours. The temperature was maintained at this temperature for 3 hours, and then the temperature was lowered to a temperature (ie, Tg-185 ° C.) of (the above holding temperature −150 ° C.) at −50 ° C./hr. After this, it was rapidly cooled to room temperature at −100 ° C./hr.
(2) Schedule 1-2 (Tg-45)
FIG. 2 is an explanatory diagram of the heat treatment conditions of schedule 1-2. As shown in FIG. 2, first, the heating furnace was heated from room temperature to Tg-45 ° C. (annealing temperature) in 3 hours. The temperature was maintained at this temperature for 3 hours, and then the temperature was decreased to a temperature (that is, Tg-195 ° C.) of (the above holding temperature −150 ° C.) at −50 ° C./hr. After this, it was rapidly cooled to room temperature at −100 ° C./hr.
<Schedule 2>
(1) Schedule 2-1 (450 / Tg-35)
FIG. 3 is an explanatory diagram of the heat treatment conditions of the schedule 2-1. As shown in FIG. 3, first, the heating furnace was heated from room temperature to 450 ° C. (film removal temperature) in 2 hours and held at this temperature for 3 hours. This corresponds to the carbon-containing film removal step of the present invention. Further, the temperature was raised and heated to Tg-35 ° C. (annealing temperature) in 2 hours at a temperature raising rate of about 150 ° C./hr. After being held at this annealing temperature for 3 hours, it was cooled to a temperature (ie, Tg-185 ° C.) at a temperature decrease rate of −50 ° C./hr (the holding temperature−150 ° C.). After this, it was rapidly cooled to room temperature at −100 ° C./hr.
(2) Schedule 2-2 (325 / Tg-45)
FIG. 4 is an explanatory diagram of the heat treatment conditions of schedule 2-2. As shown in FIG. 4, first, the heating furnace was heated from room temperature to 325 ° C. (film removal temperature) in 2 hours and held at this temperature for 3 hours. This corresponds to the carbon-containing film removal step of the present invention. Further, the temperature was raised and heated to Tg-45 ° C. (annealing temperature) in 2 hours at a temperature raising rate of about 150 ° C./hr. After being held at this annealing temperature for 3 hours, it was cooled to a temperature (ie, Tg-195 ° C.) at a temperature decrease rate of −50 ° C./hr (the holding temperature−150 ° C.). After this, it was rapidly cooled to room temperature at −100 ° C./hr.

加熱処理後、光学素子を炉から取り出し、外観を確認した。結果を表4〜表6に示す。
なお、表中で外観の基準は、キズ状の汚れまたはクモリのいずれかが目視で認められた場合に×、いずれも認められない場合を○とした。
After the heat treatment, the optical element was taken out of the furnace and the appearance was confirmed. The results are shown in Tables 4-6.
In the table, the standard of appearance was x when either scratch-like dirt or spider was visually observed, and ◯ when none was recognized.

ここで、キズ状の汚れは、レンズ径Dに対して幅30μm以上、D/10を超える長さのキズ状汚れがあること、あるいはレンズ径Dに対して幅30μm以上、D/20〜D/10長さのキズ状汚れが2本以上あることを示す。   Here, the flawed dirt is a flawed dirt having a width of 30 μm or more with respect to the lens diameter D and a length exceeding D / 10, or a width of 30 μm or more with respect to the lens diameter D, and D / 20 to D. / 10 Indicates that there are two or more scratch-like stains of length.

また、クモリは、60Wの電球の前に目から10cm離した状態でレンズを手でもち、目視でクモリが確認されることを示す。   In addition, the spider indicates that the spider is visually confirmed by holding the lens in the state of being 10 cm away from the eye in front of the 60 W light bulb.

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なお、光学ガラスA−12、およびその中に含有するLiOをZnOに置換した以外は、光学ガラスA−12と同じガラスを用意し、それぞれを容器に入れ、CO雰囲気下で450℃に加熱し、3時間保持した。この結果、ガラスにはいずれも変化がなかった。一方、加熱温度を580℃として、3時間保持したところ、LiOを含有するガラスには表面に顕著なクモリが生じたが、LiOを含有しない方のガラスには、変化が見られなかった。
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The optical glass A-12, and except for substituting Li 2 O containing therein ZnO, prepared the same glass as the optical glass A-12, placed respectively on the vessel, 450 ° C. under a CO 2 atmosphere And held for 3 hours. As a result, there was no change in any glass. On the other hand, when the heating temperature was set to 580 ° C. and held for 3 hours, the glass containing Li 2 O had noticeable spider on the surface, but the glass not containing Li 2 O showed a change. There wasn't.

これは、Liが雰囲気のCOと反応して炭酸塩を生成したとみられる。Liのようなアルカリ金属は、炭酸塩の分解温度が高く、光学ガラスのアニール温度程度では分解しないため、ガラス表面にクモリとなって析出する。 This seems to have caused Li to react with CO 2 in the atmosphere to produce carbonate. An alkali metal such as Li has a high decomposition temperature of carbonate and does not decompose at the annealing temperature of the optical glass, and thus deposits on the surface of the glass as a spider.

表4〜表6から明らかなとおり、スケジュール2を適用した場合には、加熱処理後の光学素子(レンズ)に外観不良は認められず、良好なものであった。一方、スケジュール1では、いずれの場合も、外観不良が一定以上の基準で認められた。   As apparent from Tables 4 to 6, when Schedule 2 was applied, the optical element (lens) after the heat treatment did not show any appearance defects and was good. On the other hand, in Schedule 1, in all cases, appearance defects were recognized based on a certain standard.

本発明のガラス光学素子の製造方法は、Tgが530℃以上の光学ガラスを用い、精密モールドプレスにより、内部歪が除去され、かつ外観が良好で、光学性能の高いガラス光学素子を製造することができる。   The glass optical element manufacturing method of the present invention uses a glass having a Tg of 530 ° C. or higher, and produces a glass optical element having high optical performance with good internal appearance, internal distortion removed by a precision mold press. Can do.

実験例におけるスケジュール1−1の加熱処理条件の説明図である。It is explanatory drawing of the heat processing conditions of the schedule 1-1 in an experiment example. 実験例におけるスケジュール1−2の加熱処理条件の説明図である。It is explanatory drawing of the heat processing conditions of the schedule 1-2 in an experiment example. 実験例におけるスケジュール2−1の加熱処理条件の説明図である。It is explanatory drawing of the heat processing conditions of the schedule 2-1 in an experiment example. 実験例におけるスケジュール2−2の加熱処理条件の説明図である。It is explanatory drawing of the heat processing conditions of the schedule 2-2 in an experiment example.

Claims (10)

(A)表面に炭素含有膜を有する、ガラス転移点(Tg)530℃以上の光学ガラスからなる予備成形体を、加熱により軟化した状態にて成形型でプレス成形する工程、(B)プレス成形後、冷却して前記成形型より成形体を取り出し、加熱処理して表面の炭素含有膜を除去する工程、および(C)炭素含有膜が除去された成形体を、前記(B)工程における加熱処理温度よりも高い温度にてアニール処理する工程、を含むことを特徴とするガラス光学素子の製造方法。   (A) A step of press-molding a preformed body made of optical glass having a carbon-containing film on the surface and having a glass transition point (Tg) of 530 ° C. or higher with a molding die in a softened state by heating, (B) press-molding After cooling, the molded body is taken out from the mold, subjected to heat treatment to remove the carbon-containing film on the surface, and (C) the molded body from which the carbon-containing film has been removed is heated in the step (B). And a step of annealing at a temperature higher than the processing temperature. (B)炭素含有膜除去工程における加熱処理温度が200〜500℃である、請求項1に記載のガラス光学素子の製造方法。   (B) The manufacturing method of the glass optical element of Claim 1 whose heat processing temperature in a carbon containing film removal process is 200-500 degreeC. (C)アニール処理工程におけるアニール処理温度が、光学ガラスのTg−50℃ないしTg+20℃の範囲である、請求項1または2に記載のガラス光学素子の製造方法。   (C) The manufacturing method of the glass optical element of Claim 1 or 2 whose annealing process temperature in an annealing process is the range of Tg-50 degreeC thru | or Tg + 20 degreeC of optical glass. (B)炭素含有膜除去工程に連続して(C)アニール処理工程を同一の加熱炉内で行う、請求項1ないし3のいずれか1項に記載のガラス光学素子の製造方法。   The manufacturing method of the glass optical element of any one of Claim 1 thru | or 3 which performs (C) annealing treatment process in the same heating furnace continuously from the (B) carbon containing film removal process. 光学ガラスが、ガラス成分としてアルカリ金属を含む、請求項1ないし4のいずれか1項に記載のガラス光学素子の製造方法。   The manufacturing method of the glass optical element of any one of Claim 1 thru | or 4 with which optical glass contains an alkali metal as a glass component. 光学ガラスが、ガラス成分としてリチウムを0.5〜25モル%含む、請求項5に記載のガラス光学素子の製造方法。   The manufacturing method of the glass optical element of Claim 5 in which optical glass contains 0.5-25 mol% of lithium as a glass component. 光学ガラスが、屈折率(nd)1.6〜1.9およびアッベ数(νd)35〜65である、請求項1ないし6のいずれか1項に記載のガラス光学素子の製造方法。   The method for producing a glass optical element according to any one of claims 1 to 6, wherein the optical glass has a refractive index (nd) of 1.6 to 1.9 and an Abbe number (νd) of 35 to 65. 光学ガラスが、モル%表示でB:20〜60%、SiO:0〜25%、ZnO:2〜35%、LiO:0.5〜15%、CaO:0〜10%、La:5〜20%、Gd:0〜15%、ZrO:0〜10%、Ta:0〜10%、Nb:0〜5%、WO:0〜15%、Y:0〜8%、Yb:0〜8%を含み、かつこれらの成分を合計で92モル%より多く含む、請求項6または7に記載のガラス光学素子の製造方法。 Optical glass, B 2 O 3 by mol%: 20~60%, SiO 2: 0~25 %, ZnO: 2~35%, Li 2 O: 0.5~15%, CaO: 0~10% , La 2 O 3 : 5 to 20%, Gd 2 O 3 : 0 to 15%, ZrO 2 : 0 to 10%, Ta 2 O 5 : 0 to 10%, Nb 2 O 5 : 0 to 5%, WO 3: 0~15%, Y 2 O 3: 0~8%, Yb 2 O 3: comprises 0-8%, and containing more than 92 mol% of these components in total, according to claim 6 or 7 Manufacturing method of the glass optical element. 光学ガラスが、モル%表示でB:25〜55%、SiO:0〜25%、ZnO:4〜35%、LiO:1〜15%、CaO:0〜10%、La:4〜20%、Gd:0〜15%、ZrO:0〜10%、TiO:0〜15%、Nb:1〜10%、WO:0〜14%を含み、かつこれらの成分を合計で95モル%より多く含む、請求項6または7に記載のガラス光学素子の製造方法。 Optical glass, as represented by mol% B 2 O 3: 25~55%, SiO 2: 0~25%, ZnO: 4~35%, Li 2 O: 1~15%, CaO: 0~10%, La 2 O 3 : 4 to 20%, Gd 2 O 3 : 0 to 15%, ZrO 2 : 0 to 10%, TiO 2 : 0 to 15%, Nb 2 O 5 : 1 to 10%, WO 3 : 0 to 0 The manufacturing method of the glass optical element of Claim 6 or 7 which contains 14% and contains more than 95 mol% of these components in total. 光学ガラスが、モル%表示でB:30〜60%、SiO:0〜20%、ZnO:0〜20%、LiO:0.5〜25%、CaO:2〜30%、MgO:0〜12%、SrO:0〜12%、BaO:0〜10%、La:2〜18%、Gd:0〜10%、Y:0〜10%、ZrO:0〜8%、Ta:0〜8%、Nb:0〜3%、WO:0〜5%を含む、請求項6または7に記載のガラス光学素子の製造方法。 Optical glass, B 2 O 3 by mol%: 30~60%, SiO 2: 0~20 %, ZnO: 0~20%, Li 2 O: 0.5~25%, CaO: 2~30% , MgO: 0~12%, SrO: 0~12%, BaO: 0~10%, La 2 O 3: 2~18%, Gd 2 O 3: 0~10%, Y 2 O 3: 0~10 %, ZrO 2 : 0 to 8%, Ta 2 O 5 : 0 to 8%, Nb 2 O 5 : 0 to 3%, WO 3 : 0 to 5%, glass optics according to claim 6 or 7 Device manufacturing method.
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