JP4467020B2 - 磁気遮蔽装置 - Google Patents

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博 仲川
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気遮蔽装置に関し、さらに詳細には、外部における磁場の擾乱の影響などを受けること無く作動することのできるようにした磁気遮蔽装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、微弱電流を磁場を介して増幅するための装置として、超伝導量子干渉計(Superconducting Quantum Interference Device(本明細書においては、適宜に「SQUID」と称することとする。)を用いた増幅器(本明細書においては、適宜に「SQUIDアンプ」と称することとする。)が知られている。
【0003】
一般に、SQUIDアンプは単一の素子として1つのチップ上に構成されており、このようなSQUIDアンプを構成するチップを、本明細書においては適宜に「SQUIDアンプチップ」と称することとする。
【0004】
ところで、こうしたSQUIDアンプとして機能するSQUIDアンプチップを使用するに際しての条件としては、
(1)作動温度範囲が限定されているので液体ヘリウムなどで冷却する必要がある
(2)外界からの磁気の侵入を遮蔽する必要がある
(3)作動中において外界における磁場の擾乱の影響を排除する必要がある
ということが指摘されており、こうした種々の条件を満足させなければ正確な作動が期待できないという問題点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記したような従来の技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、SQUIDアンプチップを使用する際における種々の条件を満足することのできる磁気遮蔽装置を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のうち請求項1に記載の発明は、超伝導量子干渉計を用いた増幅器を単一の素子として1つのチップ上に構成したSQUIDアンプチップを使用するに際して、外界からの磁気の進入を遮蔽する磁気遮蔽装置において、液体ヘリウム温度に冷却される低温ステージと、上記低温ステージ上に配置され、熱伝導によって液体ヘリウム温度に冷却されるソケットと、上記ソケット上に位置決め固定されるとともにSQUIDアンプチップを内部に配置し、液体ヘリウム温度で超伝導になる材料を用いて構成されて熱伝導によって液体ヘリウム温度に冷却される容器状の第1のシールドと、上記第1のシールドを外側から被覆するとともに、極低温でも透磁率が劣化しない材料を用いて構成される容器状の第2のシールドとを有するようにしたものである。
【0007】
従って、本発明のうち請求項1に記載の発明によれば、第2のシールドによって常温での磁気遮蔽が行われ、さらに第1のシールドによって超伝導による磁気遮蔽が行われるので、高効率で外界の磁気を遮蔽することができるようになる。
また、本発明のうち請求項1に記載の発明によれば、SQUIDアンプチップを液体ヘリウムなどの液体寒剤に浸すことなく、SQUIDアンプチップをその作動温度に冷却することができるようになる。
【0008】
また、本発明のうち請求項2に記載の発明は、本発明のうち請求項1に記載の発明において、上記第2のシールドは、互いの間に所定の間隙を開けた複数層のシールドから構成されるようにしたものである。
【0009】
このように構成すると、常温での磁気遮蔽の効率を上げることができるようになるものである。
【0010】
また、本発明のうち請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の発明において、上記第1のシールドを構成する液体ヘリウム温度で超伝導になる材料は、ニオブであようにしたものである。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明による磁気遮蔽装置の実施の形態の一例を詳細に説明する。
【0014】
図1には、本発明による磁気遮蔽装置の縦断構成説明図が示されている。
【0015】
図1において、符号10は低温ステージであり、熱伝導性が良好な材料、例えば、無酸素銅により形成されている。
【0016】
この低温ステージ10は、液体ヘリウムタンク(図示せず)に充填された液体ヘリウムによって、液体ヘリウム温度(例えば、4.2K)に冷却されている。
【0017】
また、低温ステージ10上には、上面中央部位に凹部14を形成された略円柱状のソケット12が配置されている。
【0018】
このソケット12は、熱伝導性が良好な材料、例えば、無酸素銅により形成されている。
【0019】
そして、ソケット12に形成された凹部14の底面14a上には、中空な略円柱状の容器状の超伝導磁気シールド16が配置されている。
【0020】
この超伝導磁気シールド16は、略円筒状の側壁部材16aと、側壁部材16aの上方側を閉塞する上方部材16bと、側壁部材16aの下方側を閉塞する下方部材16cとより構成されている。
【0021】
また、こうした側壁部材16aと上方部材16bと下方部材16cとにより構成される超伝導磁気シールド16は、液体ヘリウム温度などの所定の温度で超伝導になる材料、例えば、9.2K以下の温度で超伝導になるニオブにより形成されている。
【0022】
なお、ソケット12に形成された凹部14の底面14a上に配置された超伝導磁気シールド16は、熱伝導性が良好な材料、例えば、無酸素銅により形成された超伝導磁気シールド位置決め蓋18によって、凹部14の底面14a上の所定位置に位置決め固定されるものである。
【0023】
即ち、超伝導磁気シールド位置決め蓋18は、略円筒状の側壁部18aと側壁部18aの上方側を閉塞する上方部18bとよりなる上面が閉塞された略円筒状形状を備えている。
【0024】
この超伝導磁気シールド位置決め蓋18の側壁部18aの外周面と凹部14の側壁面14bとが嵌合するとともに、超伝導磁気シールド位置決め蓋18の上方部18bと凹部14の底面14aとの間で超伝導磁気シールド16を当接支持することにより、超伝導磁気シールド16が凹部14の底面14a上の所定位置に位置決め固定されることになる。
【0025】
なお、超伝導磁気シールド位置決め蓋18には、後述する配線用の電線路40を通過させるための開口部18cが形成されている。
【0026】
また、図2に示すように、超伝導磁気シールド16の下方部材16cには、溝部20が形成されていて、この溝部20内には、SQUIDアンプチップ22を固定的に支持する基板24が挿入されて固定的に支持されている。
【0027】
この基板24は、熱伝導性が良好な材料、例えば、無酸素銅により形成されている。
【0028】
また、基板24の表面には、SQUIDアンプチップ22を配線するための配線パターンが形成されている。
【0029】
即ち、SQUIDアンプチップ22を支持する基板24を内部に固定した超伝導磁気シールド16は、超伝導磁気シールド位置決め蓋18によってソケット12の凹部14内に固定されることになるが、こうして超伝導磁気シールド位置決め蓋18によってソケット12の凹部14内に固定され超伝導磁気シールド16は、さらに容器状の外部シールド26によって外側を被覆されるようにして外部から遮蔽されている。
【0030】
この外部シールド26は、内側に位置する内側シールド28と、スペーサー30を介して所定の間隙を開けるようにして内側シールド28と接触することなく外側に位置する外側シールド32との二層構造とされている。
【0031】
これら内側シールド28と外側シールド32とは、温度に依らず透磁率の高い材料、例えば、パーマロイ(μメタル)により形成されている。
【0032】
なお、パーマロイは多くの種類があるが、その中で極低温でも透磁率が劣化しないものを使用する。
【0033】
また、スペーサー30は、熱伝導性が良好な材料、例えば、無酸素銅により形成されている。
【0034】
ここで、内側シールド28は、ソケット12の外周壁面12a上に突出形成された下側部材28aと、下側部材28aに嵌合する略円筒状の側壁部28b−1と当該側壁部28b−1の上方側を閉塞する上方部28b−2とよりなる上面が閉塞された略円筒状形状の蓋部材28bとより構成されている。
【0035】
また、外側シールド32は、略円筒状の側壁部32aと側壁部32aの上方側を閉塞する上方部32bとよりなる上面が閉塞された略円筒状形状を備えている。
【0036】
なお、符号40は、SQUIDアンプチップ22の配線のための電線路であり、SQUIDアンプチップ22から延長された電線路40は、超伝導磁気シールド16を貫通し、超伝導磁気シールド位置決め蓋18の開口部18cを通過し、内側シールド28の下側部材28aを貫通して外部シールド26の外側へ延長され、所定の装置に接続されることになる。
【0037】
以上の構成において、SQUIDアンプチップ22は、それぞれ接触する低温ステージ10、ソケット12、超伝導磁気シールド16ならびに基板24を介して、これら低温ステージ10、ソケット12、超伝導磁気シールド16ならびに基板24の熱伝導によって、その作動温度である液体ヘリウム温度に冷却されることになる。
【0038】
従って、SQUIDアンプチップ22を液体ヘリウムなどの液体寒剤に浸すことなく、SQUIDアンプチップ22をその作動温度に冷却することができる。
【0039】
また、外部シールド26の存在によって、SQUIDアンプチップ22が存在する外部シールド26の内側においては、外部シールド26の外側である外部の磁気の大部分が侵入することなく遮蔽されることになる。
【0040】
ここで、超伝導磁気シールド16は上記したように熱伝導によって液体ヘリウム温度に冷却されることになり、従って、超伝導磁気シールド16がニオブにより形成されているとするならば、超伝導磁気シールド16は超伝導となり、SQUIDアンプチップ22が存在する超伝導磁気シールド16の内側においては、超伝導磁気シールド16の外側における磁場の擾乱の影響を遮断することができる。
【0041】
つまり、外部シールド26によって常温での磁気遮蔽が行われ、さらに超伝導磁気シールド16によって液体ヘリウム温度での磁気遮蔽が行われるので、高効率で外界の磁気を遮蔽することができるようになる。
【0042】
このように、上記した本発明による磁気遮蔽装置においては、SQUIDアンプチップ22の作動温度範囲をカバーする温度範囲で、高効率で外界の磁気を遮蔽することができることになる。
【0043】
従って、発明者の実験によれば、図1に示す磁気遮蔽装置においては、図3(a)(b)のオシロスコープの波形に示すように、外界における磁気の擾乱の影響を排除することができるようになるものである。
【0044】
即ち、図3(a)には外界に磁場が存在しない場合における4.2Kに冷却した際のV−Φカーブ(V−Φ curve obtained at 4.2Kwithout an external field)を示すオシロスコープの波形(横軸:入力電流(Input current),縦軸:SQUIDアンプ出力電圧(SQUID output voltage)が示されており、図3(b)には外界に0.01Tの磁場が存在する場合における4.2Kに冷却した際のV−Φカーブ(V−Φ curve obtained at 4.2K with an external field of 0.01T))を示すオシロスコープの波形(横軸:入力電流(Input current),縦軸:SQUIDアンプ出力電圧(SQUID output voltage)が示されているが、両者の波形は完全に一致しており、SQUIDアンプチップの作動が外界における磁気の擾乱により影響されていないことが判明した。
【0045】
なお、上記した実施の形態においては、低温ステージ10、ソケット12、超伝導磁気シールド位置決め蓋18ならびにスペーサー30の材料として無酸素銅を示したが、無酸素銅に限られることなしに、熱伝導性が良好な材料であるならば任意の材料を選択することができる。
【0046】
また、上記した実施の形態においては、超伝導磁気シールド16の材料としてニオブを示したが、ニオブに限られることなしに、液体ヘリウム温度などの所定の温度で超伝導になる材料であるならば任意の材料を選択することができる。
【0047】
また、上記した実施の形態においては、外部シールド26の材料としてパーマロイ(μメタル)を示したが、パーマロイ(μメタル)に限られることなしに、温度に依らず透磁率の高い材料、即ち、極低温でも透磁率がほとんど劣化しない材料であるならば任意の材料を選択することができる。
【0048】
また、上記した実施の形態においては、外部シールド26を内側シールド28と外側シールド32との二層構造の複層構造としたが、これに限られるものではないことは勿論であり、外界の磁気を遮蔽できるのであるならば単層構造としてもよいし、一方、磁気遮蔽の効率を上げるために三層以上の複層構造としてもよい。
【0049】
また、上記した実施の形態においては、基板24として無酸素銅を用いた場合を示したが、例えば、無酸素銅に代えてガラスエポキシなどの樹脂を用いてもよい。このように、無酸素銅に代えてガラスエポキシを用いた場合には、SQUIDアンプチップ22の冷却効率は劣るが、電線路40の配線作業は容易となる。
【0050】
また、上記した実施の形態においては、基板24として無酸素銅を用いた場合を示したが、例えば、図4乃至図5に示すように、無酸素銅により形成される基板24にSQUIDアンプチップ22を固定支持し、さらにこの基板24にガラスエポキシにより形成される配線板50を固定支持するようにして、電線路40の配線は配線板50の表面に行うようにしてもよい。このように構成すると、構造が複雑化するが、SQUIDアンプチップ22の冷却効率も劣ることがなく、また、電線路40の配線作業も容易になる。
【0051】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されているので、SQUIDアンプチップを使用する際における種々の条件を満足することができるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による磁気遮蔽装置の断面構成説明図である。
【図2】超伝導磁気シールドの下方部材の斜視図である。
【図3】オシロスコープの波形を示し、(a)は外界に磁場が存在しない場合における4.2Kに冷却した際のV−Φカーブ(V−Φ curve obtainedat 4.2K without an external field)を示すオシロスコープの波形(横軸:入力電流(Input current),縦軸:SQUIDアンプ出力電圧(SQUID output voltage)であり、(b)は外界に0.01Tの磁場が存在する場合における4.2Kに冷却した際のV−Φカーブ(V−Φ curve obtained at 4.2K with an external field of 0.01T))を示すオシロスコープの波形(横軸:入力電流(Input current),縦軸:SQUIDアンプ出力電圧(SQUID output voltage)である。
【図4】基板とSQUIDアンプチップとの取付構造の変形例を示す一部縦断構成説明図である。
【図5】基板とSQUIDアンプチップとの取付構造の変形例を示す斜視図である。
【符号の説明】
10 低温ステージ
12 ソケット
14 凹部
16 超伝導磁気シールド
18 超伝導磁気シールド位置決め蓋
20 溝部
22 SQUIDアンプチップ
24 基板
26 外部シールド
28 内側シールド
30 スペーサー
32 外側シールド
40 電線路
50 配線板

Claims (3)

  1. 超伝導量子干渉計を用いた増幅器を単一の素子として1つのチップ上に構成したSQUIDアンプチップを使用するに際して、外界からの磁気の進入を遮蔽する磁気遮蔽装置において、
    液体ヘリウム温度に冷却される低温ステージと、
    前記低温ステージ上に配置され、熱伝導によって液体ヘリウム温度に冷却されるソケットと、
    前記ソケット上に位置決め固定されるとともにSQUIDアンプチップを内部に配置し、液体ヘリウム温度で超伝導になる材料を用いて構成されて熱伝導によって液体ヘリウム温度に冷却される容器状の第1のシールドと、
    前記第1のシールドを外側から被覆するとともに、極低温で透磁率が劣化しない材料を用いて構成される容器状の第2のシールドと
    を有することを特徴とする磁気遮蔽装置。
  2. 請求項1に記載の磁気遮蔽装置において、
    前記第2のシールドは、互いの間に所定の間隙を空けた複数層のシールドから構成される
    ことを特徴とする磁気遮蔽装置。
  3. 請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の磁気遮蔽装置において、
    前記第1のシールドを構成する液体ヘリウム温度で超伝導になる材料は、ニオブであ
    ことを特徴とする磁気遮蔽装置。
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