JP4466207B2 - Drawing system - Google Patents
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Description
本発明は、マスク(レチクル)や直接基板へ回路パターンを描画する描画システムに関し、特に、描画処理前における描画パターンのデータ処理に関する。 The present invention relates to a drawing system for drawing a circuit pattern directly on a mask (reticle) or a substrate, and more particularly to data processing of a drawing pattern before drawing processing.
描画システムでは、CAD/CAMの設計用パターンデータがワークステーションなどにおいて作成され、描画装置側へ出力される。描画装置では、送られてきたパターンデータをラスタデータなどの描画用データに変換する。作業者は、パターンの形成されていないブランクスである基板を描画装置内の所定位置に配置し、その後、描画装置を動作させる。描画装置は、ラスタデータに基づいてレーザビームを走査し、その結果、基板に回路パターンが形成される。 In the drawing system, CAD / CAM design pattern data is created in a workstation or the like and output to the drawing apparatus. The drawing apparatus converts the received pattern data into drawing data such as raster data. The operator places a substrate, which is a blank having no pattern formed, at a predetermined position in the drawing apparatus, and then operates the drawing apparatus. The drawing apparatus scans the laser beam based on the raster data, and as a result, a circuit pattern is formed on the substrate.
描画処理前にパターンデータの検証を行う方法として、部分一括露光方式による描画装置において、アパーチャマスクの断面形状を表示する方法が知られている(例えば特許文献1参照)。描画データに存在しないアパーチャマスクの情報を利用することにより、パターンの検証が可能となる。
基板のパターン形成位置は作成されたパターンデータに従い、描画装置内へ搭載する基板の向きもパターンデータに従う。一方、描画パターンを作成するワークステーション本体が配置された場所と描画装置のある作業工程場所は互いに離れており、描画装置側にいる作業者は、描画パターンを直接確認することができない。したがって、直接描画装置内に基板を設置する場合、オペレータは、パターンが形成されていない状態で基板の装着向きを確認しなければならない。特に、直接描画する描画システムにおいては、露光装置と異なりマスクが存在しないため、パターン情報を作業者が得ることができない。 The pattern formation position of the substrate follows the created pattern data, and the orientation of the substrate mounted in the drawing apparatus also follows the pattern data. On the other hand, the place where the workstation main body for creating the drawing pattern is arranged and the work process place where the drawing apparatus is located are separated from each other, and the worker on the drawing apparatus side cannot directly check the drawing pattern. Therefore, when the substrate is directly installed in the drawing apparatus, the operator must confirm the mounting direction of the substrate in a state where no pattern is formed. In particular, in a drawing system that directly draws, since there is no mask unlike an exposure apparatus, the operator cannot obtain pattern information.
本発明の描画システムは、ワークステーションなどにおけるコンピュータシステムおいて設計された描画パターンを、コンピュータシステムから離れた場所にある描画装置の作業者に表示可能なシステムである。 The drawing system of the present invention is a system capable of displaying a drawing pattern designed in a computer system such as a workstation to an operator of a drawing apparatus located away from the computer system.
描画システムは、ベクタデータである描画用パターンデータを保存するパターンデータ作成装置と、前記パターンデータ作成装置から送られてくるパターンデータを描画処理用描画データに変換する描画制御部と、前記描画処理用データに基づいて描画処理を行う描画装置とを備える。描画装置および描画制御部は、作業工程場所に配置されており、パターンデータ作成装置とは離れた場所に配置されている。描画装置では、基板を搭載するステージが設けられており、例えばステージが所定方向へ移動するように構成されている。 A drawing system includes a pattern data creation device that stores drawing pattern data that is vector data, a drawing control unit that converts pattern data sent from the pattern data creation device into drawing data for drawing processing, and the drawing processing And a drawing device that performs drawing processing based on the data. The drawing device and the drawing control unit are arranged at a work process place, and are arranged at a place away from the pattern data creating apparatus. In the drawing apparatus, a stage on which a substrate is mounted is provided. For example, the stage is configured to move in a predetermined direction.
パターンデータ作成装置は、前記パターンデータを画素配列に応じた画像データに変換するデータ変換処理手段と、前記画像データを前記パターンデータとともに描画制御部へ送信するデータ送信手段とを有する。例えば、ビットマップデータとして画像データに変換される。前記描画制御部は、前記画素データに基づいてパターン像を表示する表示手段を有する。 The pattern data creation device includes a data conversion processing unit that converts the pattern data into image data corresponding to a pixel arrangement, and a data transmission unit that transmits the image data together with the pattern data to a drawing control unit. For example, it is converted into image data as bitmap data. The drawing control unit has display means for displaying a pattern image based on the pixel data.
複数の基板とそれに合わせた複数のパターンデータが存在する場合、データ送信手段は、前記パターンデータとともに、少なくともアライメントデータ、基板サイズデータを付随させて送信するとともに、前記画素データを前記パターンデータに関連させて送信するのがよい。描画制御部では、用意された基板に応じたパターン像が表示される。 When there are a plurality of substrates and a plurality of pattern data corresponding to the plurality of substrates, the data transmission means transmits the pattern data together with at least alignment data and substrate size data, and associates the pixel data with the pattern data. It is good to send it. In the drawing control unit, a pattern image corresponding to the prepared substrate is displayed.
本発明の描画データ処理方法は、パターンデータ作成装置において作成されたベクタデータである描画用パターンデータを、画素配列に応じた画像データに変換し、前記パターンデータとともに前記画像データを、前記パターンデータ作成装置と離れた場所にある描画制御部へ送信することを特徴とする。 The drawing data processing method of the present invention converts drawing pattern data, which is vector data created by a pattern data creation device, into image data corresponding to a pixel arrangement, and the image data together with the pattern data is converted into the pattern data. It transmits to the drawing control part in the place away from the production apparatus.
本発明によれば、パターンデータ作成装置から離れた場所にある描画装置の作業者も、煩雑な作業を伴うことなく描画パターンを容易に確認することができ、基板を正しい置き方で搭載することができる。 According to the present invention, an operator of a drawing apparatus located away from the pattern data creating apparatus can easily check the drawing pattern without complicated work, and the board is mounted in a correct manner. Can do.
以下では、図面を参照して本発明の実施形態である描画装置について説明する。 Below, the drawing apparatus which is embodiment of this invention is demonstrated with reference to drawings.
図1は、本実施形態である描画システムを模式的に示した図である。図2は、基板を示した図である。図3は、表示されるパターンを示した図である。 FIG. 1 is a diagram schematically showing a drawing system according to the present embodiment. FIG. 2 shows the substrate. FIG. 3 shows a displayed pattern.
描画システムは、ワークステーションの本体であるホストコンピュータ10と、描画制御部20と、描画装置30とを備える。描画制御部20および描画装置30は、ホストコンピュータ10とは異なり、作業工程場所に配置されており、ネットワークでホストコンピュータ10と接続されている。モニタ40は描画制御部20に接続されており、描画装置30に隣接して設置されている。
The drawing system includes a
ホストコンピュータ10には、CADデータとして設計されたパターンデータが保存されている。パターンデータはベクタデータであり、パターンの位置座標(始点、終点、輪郭などの座標)によってデータが表されている。ホストコンピュータ10は、ベクタデータに基づいて、設計した回路パターンの画像をモニタ10Aに表示する。
The
パターンデータは、基板に形成される位置決め用穴などのアライメントに関するアライメントデータや基板サイズのデータなどとともに、描画用データとして描画制御部20へ送信される。さらに後述するように、パターンデータは表示用の2次元画像データに変換され、パターンデータとともに関連付けられて送信される。
The pattern data is transmitted to the
描画制御部20では、送られてきたパターンデータが描画処理用のラスタデータに変換される。また、アライメントデータや基板サイズのデータに基づいて、描画処理用の設定項目が定められる。そして、作業者が所定の操作を行うことにより、基板SWに形成すべきパターン像BDが、描画制御部20のモニタ20Aおよび描画装置30に隣接して設置されたモニタ40に表示される。
In the
図2に示すように、基板SWの四隅にはアライメント穴P1〜P4が形成され、また、アライメントマークAM1〜AM3がプリントされている。パターン像BDからわかるように、パターンP1、P2、P3がそれぞれアライメントマークAM1〜AM3に従って位置決めされている。このパターン像BDにより、基板SWの搭載向きが確認される。すなわち、基板SWの長手方向Lが進入方向に平行であって、アライメントマークAM1、AM2が進入方向に沿って左側に位置する端片Mと反対側の端片Nが進入方向を向くように、基板SWの配置方向が定められている。描画装置30の配置された作業工程場所では、モニタ20A(40)に表示されたパターン像PDを確認した上で、作業者が基板SWを所定の向きで搭載する。
As shown in FIG. 2, alignment holes P1 to P4 are formed at the four corners of the substrate SW, and alignment marks AM1 to AM3 are printed. As can be seen from the pattern image BD, the patterns P1, P2, and P3 are positioned according to the alignment marks AM1 to AM3, respectively. The mounting direction of the substrate SW is confirmed by this pattern image BD. That is, the longitudinal direction L of the substrate SW is parallel to the approach direction, and the alignment marks AM1, AM2 are arranged so that the end piece N opposite to the end piece M positioned on the left side along the approach direction faces the approach direction. The arrangement direction of the substrate SW is determined. At the work process place where the
図4は、ホストコンピュータ10におけるデータ処理を示したフローチャートである。図5は、描画制御部におけるパターン表示処理を示した図である。
FIG. 4 is a flowchart showing data processing in the
ステップS101では、ベクタデータが画像データに変換される。ここでは、ビットマップデータなどパターンを画素の2次元配列に対応する画像データが生成される。そしてステップS102では、パターンデータ、アライメントデータとともに画像データが描画制御部20へ送信される。このとき、画像データはJPEGなど圧縮データにして送信される。また、画像データは対応するパターンデータと関連付けるようにファイル編集処理されて送信される。具体的には、画像データに対応するパターンに応じた名前が設定されている。
In step S101, the vector data is converted into image data. Here, image data corresponding to a two-dimensional array of pixels such as bitmap data is generated. In step S102, the image data is transmitted to the
ステップS201では、オペレータによって表示すべきパターン像の選択操作が行われたか否かが判断される。作業者は、キーボード操作等により、基板に形成すべきパターンの選択操作を行うことができ、パターンが選択されると、ステップS202において、それに応じた画像データが設定される。そして、ステップS203では、画像データに基づいてパターン像がモニタ20A、40に表示される。
In step S201, it is determined whether or not an operation for selecting a pattern image to be displayed has been performed by the operator. The operator can perform a selection operation of a pattern to be formed on the substrate by a keyboard operation or the like. When a pattern is selected, image data corresponding to the pattern is set in step S202. In step S203, a pattern image is displayed on the
このように本実施形態では、ホストコンピュータ10、描画制御部20、描画装置30を備えた描画システムにおいて、ホストコンピュータ10がCADデータなどのベクタデータである描画パターンデータを画像データに変換し、離れた場所に配置された描画制御部20へパターンデータとともに画像データを送信する。描画制御部20は、送られてきた画像データに基づき、モニタ20A、40にパターン像を表示する。
As described above, in the present embodiment, in the drawing system including the
10 ホストコンピュータ(パターンデータ作成装置)
20 描画制御部
20A モニタ
30 描画装置
40 モニタ
10 Host computer (pattern data creation device)
20
Claims (4)
前記パターンデータ作成装置から送られてくるパターンデータを描画処理用描画データに変換する描画制御部と、
基板を支持するステージを有し、前記描画処理用データに基づいて描画処理を行う描画装置とを備え、
前記描画制御部、描画装置の配置された作業工程場所とは離れた場所に配置される前記パターンデータ作成装置が、
前記パターンデータを画素配列に応じた画像データに変換するデータ変換処理手段と、
前記画像データを、対応するパターンデータに関連づけて前記描画制御部へ送信するデータ送信手段とを有し、
前記描画制御部が、
前記描画制御部において行われるオペレータの選択操作によって選択されたパターンの画像データに基づいて、前記描画制御部に接続されるモニタにパターン像を表示する表示手段を有することを特徴とする描画システム。 A pattern data creation device for creating and saving pattern data for drawing which is vector data;
A drawing control unit that converts pattern data sent from the pattern data creation device into drawing data for drawing processing;
A drawing apparatus having a stage for supporting a substrate and performing drawing processing based on the drawing processing data;
The pattern control unit, the pattern data creation device arranged at a place away from the work process place where the drawing device is arranged ,
Data conversion processing means for converting the pattern data into image data corresponding to a pixel arrangement;
Data transmission means for transmitting the image data to the drawing control unit in association with corresponding pattern data;
The drawing control unit
A drawing system comprising display means for displaying a pattern image on a monitor connected to the drawing control unit based on image data of a pattern selected by an operator's selection operation performed in the drawing control unit .
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