JP4453008B2 - Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor - Google Patents

Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor Download PDF

Info

Publication number
JP4453008B2
JP4453008B2 JP2004328904A JP2004328904A JP4453008B2 JP 4453008 B2 JP4453008 B2 JP 4453008B2 JP 2004328904 A JP2004328904 A JP 2004328904A JP 2004328904 A JP2004328904 A JP 2004328904A JP 4453008 B2 JP4453008 B2 JP 4453008B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
optical semiconductor
resin composition
thermosetting resin
acrylic polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004328904A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006137855A (en
Inventor
龍介 田中
実 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2004328904A priority Critical patent/JP4453008B2/en
Publication of JP2006137855A publication Critical patent/JP2006137855A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4453008B2 publication Critical patent/JP4453008B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光半導体に関する。さらに詳しくは、光半導体の封止材に適しており、透明性、耐光性及び耐熱性に優れる硬化物を与える光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光半導体に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition for sealing an optical semiconductor, a cured product thereof, and an optical semiconductor. More specifically, the present invention relates to a thermosetting resin composition for sealing an optical semiconductor, which is suitable for an optical semiconductor sealing material and provides a cured product having excellent transparency, light resistance, and heat resistance, the cured product, and the optical semiconductor.

光半導体の一つである発光ダイオード(Light-emitting diode:以下LEDと略す)は、低発熱、長寿命で消費電力の少ない光源として様々な分野で利用されている。
近年、青色光や近紫外光といった短波長の光を発するLEDが開発され、黄色蛍光体と組み合わせることにより白色光が容易に得られるようになった。これによってLEDの用途は著しく広がったが、その反面、発光素子を保護する目的で用いられる封止材にはより高度な耐光性、すなわち高エネルギーの光を長時間照射しても劣化を起こさない特性が必要とされるようになってきた。
また、発光素子の改良によって小型化及び大電流化が進むにつれ、長時間の発熱にも着色しない耐熱性の要求も厳しくなってきている。
従来、赤色及び緑色のLEDの封止材としては、主にエポキシ樹脂が用いられてきた。酸無水物とエポキシ化合物から得られるエポキシ樹脂硬化物は、安価で、透明性、電気絶縁性、耐湿性、接着性などに優れている。しかし、青色の発光素子からなる白色LEDの封止材にエポキシ樹脂を使用した場合、短波長の光が長時間照射されることによって劣化し、着色してしまうという問題が発生する。封止材の樹脂が着色してしまうと、発光素子そのものが充分な光を発していたとしてもLEDから取り出される光は著しく減衰してしまい、結果としてLEDの寿命は短くなってしまう。また、同様の着色はLEDを長時間点灯させた場合に発生する熱によっても引き起こされる。
このような光や熱による封止材の劣化を抑制することは、LEDのさらなる普及において重要な課題となっている。このような課題に対して、エポキシ樹脂組成物(特許文献1)等の種々の提案がされている。
A light-emitting diode (hereinafter abbreviated as an LED), which is one of optical semiconductors, is used in various fields as a light source with low heat generation, long life, and low power consumption.
In recent years, LEDs emitting short-wavelength light such as blue light and near ultraviolet light have been developed, and white light can be easily obtained by combining with yellow phosphor. As a result, the applications of LEDs have expanded significantly, but on the other hand, sealing materials used for the purpose of protecting light-emitting elements have higher light resistance, that is, they do not deteriorate even when irradiated with high-energy light for a long time. Characteristics have been required.
Further, as miniaturization and increase in current have progressed as a result of improvements in light emitting elements, the requirement for heat resistance that does not cause coloration even for long-time heat generation has become stricter.
Conventionally, epoxy resin has been mainly used as a sealing material for red and green LEDs. A cured epoxy resin obtained from an acid anhydride and an epoxy compound is inexpensive and excellent in transparency, electrical insulation, moisture resistance, adhesion, and the like. However, when an epoxy resin is used as a sealing material for a white LED made of a blue light emitting element, there arises a problem that it is deteriorated and colored by being irradiated with light having a short wavelength for a long time. If the resin of the sealing material is colored, the light extracted from the LED is significantly attenuated even if the light emitting element itself emits sufficient light, and as a result, the life of the LED is shortened. Similar coloring is also caused by heat generated when the LED is lit for a long time.
Suppressing the deterioration of the sealing material due to such light and heat is an important issue in the further spread of LEDs. Various proposals, such as an epoxy resin composition (patent document 1), are made with respect to such a subject.

特開2003−160640号公報JP 2003-160640 A

しかしながら、上記特許文献1に記載された発明は、その実施例に示されるようにガラス転移温度が140℃程度と余り高くはなく、耐熱性等において、実用上問題のあるものであった。
本発明は、上記の問題を鑑みてなされたものであり、透明性、耐光性及び耐熱性に優れる硬化物を与える光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光半導体を提供するものである。
However, the invention described in the above-mentioned Patent Document 1 has a practical problem in heat resistance and the like because the glass transition temperature is not so high as about 140 ° C. as shown in the Examples.
The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation that provides a cured product excellent in transparency, light resistance and heat resistance, the cured product, and an optical semiconductor. To do.

本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討した結果、アクリル酸及び/またはメタクリル酸とアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル(アルキルアクリレート及び/またはアルキルメタクリレート)との混合モノマーに対し、側鎖にエポキシ基を有する飽和のアクリル系重合体を溶解し、ラジカル重合開始剤及び酸化防止剤を添加した樹脂組成物を用いることにより、透明性、耐光性及び耐熱性に優れる熱硬化性樹脂組成物が容易に得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、[1] 以下の(A)〜(D)成分を含む光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に関する。
(A)側鎖にエポキシ基を有する飽和のアクリル系重合体
(B)次の成分(b1)及び(b2)を必須成分とする混合モノマー
(b1)アクリル酸及び/またはメタクリル酸
(b2)アクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル
(C)ラジカル重合開始剤
(D)酸化防止剤
また、本発明は、[2] アクリル系重合体(A)が、エポキシ基及び共重合可能な不飽和結合を有するモノマー5〜50重量%、メチルメタクリレート50〜95重量%及びこれらと共重合可能な他のアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル0〜45重量%からなる共重合体である上記[1]に記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、[3] アクリル系重合体(A)の重量平均分子量が5,000〜200,000である上記[1]または上記[2]に記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、[4] アクリル系重合体(A)と混合モノマー(B)との合計の配合量を100重量部としたとき、アクリル系重合体(A)の配合量が20〜60重量部、混合モノマー(B)の配合量が40〜80重量部、酸化防止剤(D)の配合量が0.1〜1.2重量部、かつ、ラジカル重合開始剤(C)の配合量が混合モノマー(B)に対して0.1〜1重量%であり、さらにアクリル酸及び/またはメタクリル酸(b1)の配合量がアクリル系重合体(A)中に含まれるエポキシ基1モルあたり1.0〜1.2モルである請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、[5] 酸化防止剤(D)がペンタエリスリトールジホスファイト及び/またはアルキルジアリールホスファイトである上記[1]ないし上記[4]のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、[6] 上記[1]ないし上記[5]のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物に関する。
さらに本発明は、[7] 上記[6]記載の硬化物にて封止された光半導体に関する。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a mixed monomer of acrylic acid and / or methacrylic acid and acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester (alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate). By using a resin composition in which a saturated acrylic polymer having an epoxy group in the side chain is dissolved and a radical polymerization initiator and an antioxidant are added, the thermosetting property is excellent in transparency, light resistance and heat resistance. The present inventors have found that a resin composition can be easily obtained and have completed the present invention.
That is, this invention relates to the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing containing [1] the following (A)-(D) component.
(A) Saturated acrylic polymer having an epoxy group in the side chain (B) Mixed monomer having the following components (b1) and (b2) as essential components (b1) Acrylic acid and / or methacrylic acid (b2) Acrylic Acid ester and / or methacrylic acid ester (C) Radical polymerization initiator (D) Antioxidant In addition, the present invention provides [2] an acrylic polymer (A) having an epoxy group and a copolymerizable unsaturated bond. In the above [1], which is a copolymer comprising 5 to 50% by weight of monomer, 50 to 95% by weight of methyl methacrylate, and 0 to 45% by weight of other acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester copolymerizable therewith It is related with the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing of description.
[3] The thermosetting for optical semiconductor encapsulation according to [1] or [2], wherein the weight average molecular weight of the acrylic polymer (A) is 5,000 to 200,000. The present invention relates to a resin composition.
Moreover, this invention is [4] When the total compounding quantity of an acrylic polymer (A) and a mixed monomer (B) is 100 weight part, the compounding quantity of an acrylic polymer (A) is 20-60. Parts by weight, the amount of the mixed monomer (B) is 40 to 80 parts by weight, the amount of the antioxidant (D) is 0.1 to 1.2 parts by weight, and the amount of the radical polymerization initiator (C) Is 0.1 to 1% by weight with respect to the mixed monomer (B), and the blending amount of acrylic acid and / or methacrylic acid (b1) per mole of epoxy group contained in the acrylic polymer (A) It is 1.0-1.2 mol, It is related with the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing in any one of Claim 1 thru | or 3.
The present invention also provides [5] For optical semiconductor encapsulation according to any one of [1] to [4] above, wherein the antioxidant (D) is pentaerythritol diphosphite and / or alkyldiaryl phosphite. The present invention relates to a thermosetting resin composition.
Moreover, this invention relates to the hardened | cured material obtained by hardening the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing in any one of [6] said [1] thru | or said [5].
Furthermore, the present invention relates to [7] an optical semiconductor encapsulated with the cured product described in [6] above.

本発明の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物は、光半導体の封止材に適しており、透明性、耐光性及び耐熱性に優れる硬化物を与えることができる。   The thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing of the present invention is suitable for an optical semiconductor sealing material, and can give a cured product having excellent transparency, light resistance and heat resistance.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、以下の(A)〜(D)成分を含む光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物である。
(A)側鎖にエポキシ基を有する飽和のアクリル系重合体
(B)次の成分(b1)及び(b2)を必須成分とする混合モノマー
(b1)アクリル酸及び/またはメタクリル酸
(b2)アクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル
(C)ラジカル重合開始剤
(D)酸化防止剤
本発明における(A)成分は、側鎖にエポキシ基を有する飽和のアクリル系重合体であり、具体的には、エポキシ基及び共重合可能な不飽和結合を有するモノマーと、アクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステルとの共重合体が好ましく、芳香族環等の不飽和結合を含まない共重合体である必要がある。(A)成分中に不飽和結合が含まれていると、硬化物としたときの耐光性及び耐熱性が低下してしまう。
(A)成分の側鎖にエポキシ基を有する飽和のアクリル系重合体を製造するための方法には特に制限は無く、公知の重合方法を適用することができる。例えば、懸濁重合法、塊状重合法、乳化重合法、溶液重合法等のいずれの方法であってもよい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention is a thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation containing the following components (A) to (D).
(A) Saturated acrylic polymer having an epoxy group in the side chain (B) Mixed monomer having the following components (b1) and (b2) as essential components (b1) Acrylic acid and / or methacrylic acid (b2) Acrylic Acid ester and / or methacrylate ester (C) Radical polymerization initiator (D) Antioxidant The component (A) in the present invention is a saturated acrylic polymer having an epoxy group in the side chain, specifically, , A copolymer of an epoxy group and a monomer having a copolymerizable unsaturated bond, and an acrylate ester and / or methacrylic acid ester is preferable, and the copolymer does not contain an unsaturated bond such as an aromatic ring. There is. When the unsaturated bond is contained in the component (A), the light resistance and heat resistance of the cured product are lowered.
There is no restriction | limiting in particular in the method for manufacturing the saturated acrylic polymer which has an epoxy group in the side chain of (A) component, A well-known polymerization method can be applied. For example, any method such as a suspension polymerization method, a bulk polymerization method, an emulsion polymerization method, and a solution polymerization method may be used.

(A)成分に用いるエポキシ基及び共重合可能な不飽和結合を有するモノマーとしては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不飽和グリシジルエステル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和グリシジルエーテルなどが挙げられる。これらは、単独または二種類以上併用して用いることができる。
これらの配合量は、(A)成分に用いるモノマー全体に対して5〜50重量%とするのが好ましく、15〜40重量%とするのがより好ましい。配合量が5重量%未満であると、熱硬化性樹脂組成物としたときに架橋反応点が不足し、硬化物が十分に硬化しないかまたは十分な強度が得られなくなるおそれがある。また、配合量が50重量%を超えると、熱硬化性樹脂組成物としたときに得られる硬化物が脆くなってしまうおそれがある。
Examples of the monomer having an epoxy group and a copolymerizable unsaturated bond used as the component (A) include unsaturated glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, and unsaturated glycidyl ethers such as allyl glycidyl ether. These can be used alone or in combination of two or more.
These blending amounts are preferably 5 to 50% by weight, and more preferably 15 to 40% by weight, based on the total amount of monomers used for the component (A). When the blending amount is less than 5% by weight, the crosslinking reaction point is insufficient when the thermosetting resin composition is prepared, and the cured product may not be sufficiently cured or sufficient strength may not be obtained. Moreover, when a compounding quantity exceeds 50 weight%, there exists a possibility that the hardened | cured material obtained when it is set as a thermosetting resin composition may become weak.

(A)成分に用いるアクリル酸エステルとしては、n−ブチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等のアクリル酸鎖状アルキルエステル、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート等のアクリル酸環状アルキルエステル、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステルなどが挙げられる。
また、(A)成分に用いるメタクリル酸エステルとしては、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート等のメタクリル酸鎖状アルキルエステル、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート等のメタクリル酸環状アルキルエステル、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等の多官能メタクリル酸エステルなどが挙げられる。
これらのアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルは、単独または二種類以上併用して用いることができる。
(A) As acrylic ester used for component, acrylic acid chain alkyl ester such as n-butyl acrylate, lauryl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentanyloxyethyl acrylate, etc. And polyfunctional acrylic acid esters such as acrylic acid cyclic alkyl ester, ethylene glycol diacrylate, and trimethylolpropane triacrylate.
Further, as the methacrylic acid ester used for the component (A), methacrylic acid chain alkyl ester such as methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, dicyclopentanyl methacrylate, dicyclopentanyloxyethyl Examples include methacrylic acid cyclic alkyl esters such as methacrylate, and polyfunctional methacrylic acid esters such as ethylene glycol dimethacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate.
These acrylic acid esters and methacrylic acid esters can be used alone or in combination of two or more.

これらのアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの配合量は、上記のエポキシ基及び共重合可能な不飽和結合を有するモノマーの配合量を差し引いた分、すなわち(A)成分に用いるモノマー全体に対して50〜95重量%となるが、光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物としたときに得られる硬化物に関して実用に十分な透明性及び強度を確保するために、少なくとも50重量%以上はメチルメタクリレートを含んでいることが好ましい。
(A)成分としては、エポキシ基及び共重合可能な不飽和結合を有するモノマー5〜50重量%、メチルメタクリレート50〜95重量%及びこれらと共重合可能な他のアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル0〜45重量%からなる共重合体が特に好ましい。
The blending amount of these acrylic acid ester and methacrylic acid ester is the amount obtained by subtracting the blending amount of the monomer having an epoxy group and a copolymerizable unsaturated bond, that is, 50% of the whole monomer used for the component (A). In order to ensure sufficient transparency and strength for practical use with respect to the cured product obtained when the thermosetting resin composition for sealing an optical semiconductor is used, at least 50% by weight or more is methyl methacrylate. It is preferable that it contains.
As the component (A), 5 to 50% by weight of a monomer having an epoxy group and a copolymerizable unsaturated bond, 50 to 95% by weight of methyl methacrylate and other acrylic acid ester and / or methacrylic acid copolymerizable therewith A copolymer consisting of 0 to 45% by weight of ester is particularly preferred.

(A)成分のアクリル系重合体の重量平均分子量は5,000〜200,000であることが好ましく、10,000〜100,000であることがより好ましい。重量平均分子量が5,000未満であると、熱硬化性樹脂組成物としたときに得られる硬化物の硬化時の収縮が大きくなり、ヒケが生じたりクラックが入りやすくなったりするおそれがある。また、重量平均分子量が200,000を超えると、熱硬化性樹脂組成物とする際に他の成分と均一に混ざりにくくなり、取り扱いが困難になったり透明性が失われたりするおそれがある。
(A)成分のアクリル系重合体の重量平均分子量を調節するための方法には特に制限は無く、公知の方法を適用することができる。
本発明で、重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)で測定し標準ポリスチレン換算した値を用いている。
The weight average molecular weight of the (A) component acrylic polymer is preferably 5,000 to 200,000, and more preferably 10,000 to 100,000. When the weight average molecular weight is less than 5,000, shrinkage at the time of curing of a cured product obtained when a thermosetting resin composition is obtained may cause sink or cracking. Moreover, when a weight average molecular weight exceeds 200,000, when setting it as a thermosetting resin composition, it becomes difficult to mix with other components uniformly, and there exists a possibility that handling may become difficult or transparency may be lost.
The method for adjusting the weight average molecular weight of the acrylic polymer of the component (A) is not particularly limited, and a known method can be applied.
In the present invention, the weight average molecular weight is a value measured by GPC (gel permeation chromatography) and converted to standard polystyrene.

本発明における熱硬化性樹脂組成物を製造するにあたり、(A)成分の配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100重量部に対して20〜60重量部とするのが好ましく、30〜50重量部とするのがより好ましい。配合量が20重量部未満であると、得られる硬化物の硬化時の収縮が大きくなり、ヒケが生じたりクラックが入りやすくなったりするおそれがある。また、配合量が60重量部を超えると、他の成分と均一に混ざりにくくなり、取り扱いが困難になったり透明性が失われたりするおそれがある。   In producing the thermosetting resin composition in the present invention, the blending amount of the component (A) is 20 to 60 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the component (A) and the component (B). Preferably, the amount is 30 to 50 parts by weight. When the blending amount is less than 20 parts by weight, shrinkage at the time of curing of the resulting cured product is increased, and there is a risk that sink marks or cracks are likely to occur. Moreover, when a compounding quantity exceeds 60 weight part, it will become difficult to mix with another component uniformly, and there exists a possibility that handling may become difficult or transparency may be lost.

本発明で用いる(B)成分は、アクリル酸及び/またはメタクリル酸(b1)とアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル(b2)とを必須成分とする混合モノマーである。
(b1)成分のアクリル酸及び/またはメタクリル酸は、本発明における光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物を加熱して硬化させる際に上記(A)成分中に含まれるエポキシ基と反応して架橋構造を形成させるために用いる。(b1)成分としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸のいずれか一方、または両者の任意の割合の混合物を用いることができる。
(b1)成分の配合量は、本発明における光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に用いるアクリル系重合体(A)中に含まれるエポキシ基1モルあたり1.0〜1.2モルとするのが好ましく、1.0〜1.05モルとするのがより好ましい。配合量が1.0モル未満であると、(A)成分中のエポキシ基が理論的に完全には消費されなくなってしまう。また、配合量が1.2モルを超えると、光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物としたときに得られる硬化物の中に残存するカルボキシル基が多くなってしまい、その結果、吸水率が高くなって封止する光半導体素子等の性能を損ねてしまうおそれがある。
(b2)成分のアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステルとは、上記(A)成分の製造に用いるアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステルと同じ範囲の中から目的に応じて任意に選ばれる単独または二種類以上の混合物である。中でもアクリル酸又はメタクリル酸の鎖状アルキルエステル、環状アルキルエステルが好ましく、鎖状アルキルエステルがより好ましく、メチルメタクリレートが特に好ましい。
また、(b2)成分のアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル以外のモノマを用いても良いが、アクリル酸及び/またはメタクリル酸(b1)とアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル(b2)とからなる混合モノマーであることが好ましい。
本発明における熱硬化性樹脂組成物を製造するにあたり、(B)成分の配合量は、上記(A)成分の配合量によって決まるものであり、(A)成分と(B)成分との合計100重量部に対して40〜80重量部とするのが好ましく、50〜70重量部とするのがより好ましい。
The component (B) used in the present invention is a mixed monomer containing acrylic acid and / or methacrylic acid (b1) and an acrylic ester and / or methacrylic ester (b2) as essential components.
The (b1) component acrylic acid and / or methacrylic acid reacts with the epoxy group contained in the component (A) when the thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation in the present invention is heated and cured. Used to form a crosslinked structure. As the component (b1), either acrylic acid or methacrylic acid, or a mixture of both in any ratio can be used.
(B1) The compounding quantity of component is 1.0-1.2 mol per mol of epoxy groups contained in the acrylic polymer (A) used in the thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation in the present invention. It is preferable to use 1.0 to 1.05 mol. When the blending amount is less than 1.0 mol, the epoxy group in the component (A) is theoretically not completely consumed. On the other hand, if the blending amount exceeds 1.2 mol, the amount of carboxyl groups remaining in the cured product obtained when the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing is increased, resulting in water absorption. May increase the performance of the optical semiconductor element or the like to be sealed.
The (b2) component acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester is a single compound arbitrarily selected from the same range as the acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester used in the production of the component (A). Or it is a mixture of two or more. Of these, chain alkyl esters and cyclic alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid are preferable, chain alkyl esters are more preferable, and methyl methacrylate is particularly preferable.
Monomers other than the acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester of component (b2) may be used, but acrylic acid and / or methacrylic acid (b1) and acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester (b2) A mixed monomer consisting of
In producing the thermosetting resin composition in the present invention, the blending amount of the component (B) is determined by the blending amount of the component (A), and the sum of the component (A) and the component (B) is 100. It is preferable to set it as 40-80 weight part with respect to a weight part, and it is more preferable to set it as 50-70 weight part.

本発明で用いるける(C)成分のラジカル重合開始剤は、加熱によってラジカルを発生して上記のモノマーを重合させることのできるものであれば特に制限は無く、例えばラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス(t−ブチルパーオキシ)トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等の有機過酸化物、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル等のアゾ化合物などを用いることができる。これらは、単独または二種類以上併用して用いることができる。
本発明における熱硬化性樹脂組成物を製造するにあたり、(C)成分の配合量は、(B)成分に対して0.1〜1重量%とするのが好ましく、0.2〜0.6重量%とするのがより好ましい。配合量が0.1重量%未満であると、光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物が十分に硬化しないおそれがある。また、配合量が1重量%を超えると、加熱して硬化させる際にクラックが入りやすくなったり、得られる硬化物の強度が十分でなくなったりするおそれがある。
The radical polymerization initiator of the component (C) used in the present invention is not particularly limited as long as it can generate radicals by heating and polymerize the above monomers. For example, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, Organic peroxides such as bis (t-butylperoxy) trimethylcyclohexane and t-butylperoxyisopropyl carbonate, azo such as 2,2′-azobisisobutyronitrile and 1,1′-azobiscyclohexanecarbonitrile A compound or the like can be used. These can be used alone or in combination of two or more.
In producing the thermosetting resin composition in the present invention, the amount of the component (C) is preferably 0.1 to 1% by weight with respect to the component (B), preferably 0.2 to 0.6. It is more preferable to set the weight%. There exists a possibility that the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing may not fully harden | cure that a compounding quantity is less than 0.1 weight%. On the other hand, if the blending amount exceeds 1% by weight, cracks are likely to occur when heated and cured, and the strength of the resulting cured product may be insufficient.

本発明で用いる(D)成分の酸化防止剤としては、ペンタエリスリトールジホスファイトまたはアルキルジアリールホスファイトのいずれか一方、または両者の任意の割合の混合物を用いることが好ましい。
(D)成分に用いるペンタエリスリトールジホスファイトとしては、ジエチルペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイト等のジアルキルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等のジアリールペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
As the antioxidant of the component (D) used in the present invention, it is preferable to use either pentaerythritol diphosphite or alkyldiaryl phosphite, or a mixture of both in any ratio.
As the pentaerythritol diphosphite used for the component (D), dialkylpentaerythritol diphosphites such as diethyl pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, dicyclohexyl pentaerythritol diphosphite, bis (nonylphenyl) penta Diarylpenta such as erythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite Examples include erythritol diphosphite.

また、(D)成分に用いるアルキルジアリールホスファイトとしては、ジフェニルイソオクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイトなどが挙げられる。
これらのペンタエリスリトールジホスファイト及びアルキルジアリールホスファイトは、単独または二種類以上併用して用いることができる。
本発明における熱硬化性樹脂組成物を製造するにあたり、(D)成分の配合量は、(A)成分と(B)成分との合計100重量部に対して0.1〜1.2重量部とするのが好ましく、0.3〜0.7重量部とするのがより好ましい。配合量が0.1重量部未満であると、硬化物としたときに十分な耐光性及び耐熱性が得られなくなるおそれがある。また、配合量が1.2重量部を超えると、効果の向上が見られなくなる。
Examples of the alkyl diaryl phosphite used for the component (D) include diphenyl isooctyl phosphite and diphenyl decyl phosphite.
These pentaerythritol diphosphites and alkyldiaryl phosphites can be used alone or in combination of two or more.
In producing the thermosetting resin composition in the present invention, the blending amount of the component (D) is 0.1 to 1.2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). It is preferable to be 0.3 to 0.7 parts by weight. If the blending amount is less than 0.1 parts by weight, sufficient light resistance and heat resistance may not be obtained when a cured product is obtained. Moreover, when a compounding quantity exceeds 1.2 weight part, the improvement of an effect will not be seen.

本発明の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物は、上記(A)〜(D)成分を混合し、均一に溶解することにより得られるが、その製造方法には特に制限は無く、公知の方法を適用することができる。
本発明における熱硬化性樹脂組成物を製造する際に、上記(A)〜(D)成分の他にも、得られる硬化物の特性を損ねない範囲で各種添加剤を目的に応じて加えることができる。添加剤としては、例えば、硬化物の耐光性及び耐熱性をさらに向上させるための酸化防止剤、硬化におけるラジカル重合反応を制御するための連鎖移動剤、一般にエポキシ樹脂の硬化反応において用いられている硬化促進剤、硬化物の機械的物性、接着性、取扱い性を改良するための充填剤、可塑剤、低応力化剤、離型剤、カップリング剤、消泡剤、チキソトロピー性付与剤、染料、光散乱剤、紫外線吸収剤などが挙げられる。
本発明における熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化させることにより、光半導体の封止材に適した硬化物を得ることができるが、その製造方法には特に制限は無く、公知の方法を適用することができる。
本発明の硬化物は、耐熱性、透明性、耐光性のいずれにも優れる。本発明の光半導体は、発光ダイオード素子、フォトダイオード素子等を前記硬化物で封止されたものであり、特に、封止材の特性要求が過酷である白色発光ダイオードとして、耐熱性、透明性、耐光性のいずれにも優れるものである。
The thermosetting resin composition for sealing an optical semiconductor of the present invention can be obtained by mixing and uniformly dissolving the above components (A) to (D), but the production method is not particularly limited, and is publicly known. The method can be applied.
When producing the thermosetting resin composition in the present invention, in addition to the above components (A) to (D), various additives are added depending on the purpose within a range that does not impair the properties of the resulting cured product. Can do. As an additive, for example, an antioxidant for further improving the light resistance and heat resistance of a cured product, a chain transfer agent for controlling a radical polymerization reaction in curing, and generally used in a curing reaction of an epoxy resin. Curing accelerators, fillers for improving the mechanical properties, adhesiveness, and handling properties of cured products, plasticizers, stress reducing agents, mold release agents, coupling agents, antifoaming agents, thixotropic agents, dyes , Light scattering agents, ultraviolet absorbers and the like.
By curing the thermosetting resin composition in the present invention by heating, a cured product suitable for an optical semiconductor sealing material can be obtained, but the production method is not particularly limited, and a known method is applied. be able to.
The cured product of the present invention is excellent in all of heat resistance, transparency, and light resistance. The optical semiconductor of the present invention is a light-emitting diode element, a photodiode element or the like sealed with the cured product, and in particular, as a white light-emitting diode in which the property requirements of the sealing material are severe, heat resistance and transparency It is excellent in both light resistance.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
[アクリル系重合体(A)の調製]
(1)メチルメタクリレート442.8g及びグリシジルメタクリレート157.2gの混合物に、ラウロイルパーオキサイド(パーロイルL:日本油脂株式会社製)3.6g及びn−オクチルメルカプタン(チオカルコール08:花王株式会社製)9.0gを加えて均一に溶解させ、65℃で6時間加熱した後に120℃で2時間加熱してアクリル系重合体(I)を得た。重量平均分子量は約22,800であった。
(2)メチルメタクリレート412.8g、ジシクロペンタニルアクリレート(FA−513A:日立化成工業株式会社製)30.0g及びグリシジルメタクリレート157.2gの混合物に、ラウロイルパーオキサイド(パーロイルL:日本油脂株式会社製)3.6g及びn−オクチルメルカプタン(チオカルコール08:花王株式会社製)4.8gを加えて均一に溶解させ、65℃で6時間加熱した後に120℃で2時間加熱してアクリル系重合体(II)を得た。重量平均分子量は約48,200であった。
なお、本実施例において、重量平均分子量の測定条件(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法)は次の通りである。
測定装置 株式会社日立製作所製、カラム ゲルパックGL-A100M(日立化成工業株式会社製)を2本直列に接続)、溶離液 テトラヒドロフラン(流量1.0ml分)、検出器RI(Shodex SE-61)、標準ポリスチレン PS706
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
[Preparation of acrylic polymer (A)]
(1) To a mixture of 442.8 g of methyl methacrylate and 157.2 g of glycidyl methacrylate, 3.6 g of lauroyl peroxide (Perroyl L: manufactured by NOF Corporation) and n-octyl mercaptan (thiocarcoal 08: manufactured by Kao Corporation) 9. 0 g was added and dissolved uniformly, heated at 65 ° C. for 6 hours, and then heated at 120 ° C. for 2 hours to obtain an acrylic polymer (I). The weight average molecular weight was about 22,800.
(2) To a mixture of 412.8 g of methyl methacrylate, 30.0 g of dicyclopentanyl acrylate (FA-513A: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) and 157.2 g of glycidyl methacrylate, lauroyl peroxide (Parroyl L: NOF Corporation) 3.6 g) and n-octyl mercaptan (thiocalcol 08: manufactured by Kao Corporation) 4.8 g were added and dissolved uniformly, heated at 65 ° C. for 6 hours, and then heated at 120 ° C. for 2 hours to obtain an acrylic polymer. (II) was obtained. The weight average molecular weight was about 48,200.
In addition, in a present Example, the measurement conditions (gel permeation chromatography method) of a weight average molecular weight are as follows.
Measuring device Hitachi, Ltd., Column Gel Pack GL-A100M (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd., two in series), eluent tetrahydrofuran (flow rate 1.0ml), detector RI (Shodex SE-61), standard Polystyrene PS706

(実施例1)
アクリル系重合体(I)40g、ラウロイルパーオキサイド(パーロイルL:日本油脂株式会社製)0.24g、(D)成分のアルキルジアリールホスファイトとしてジフェニルデシルホスファイト(アデカスタブ135A:旭電化工業株式会社製)0.5g、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(アデカスタブAO−60:旭電化工業株式会社製)0.1g、アクリル酸5.32g、メチルメタクリレート54.67gを混合し、室温(25℃)で24時間攪拌して均一に溶解させた。得られた光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物に窒素ガスを3分間バブリングした後に直ちに金型中に流し込んで密閉し、60℃で9時間、120℃で3時間、180℃で5時間の順で加熱して硬化させ、厚さ約1mmの硬化物を得た。
Example 1
40 g of acrylic polymer (I), 0.24 g of lauroyl peroxide (Perroyl L: manufactured by NOF Corporation), diphenyldecyl phosphite (Adeka Stub 135A: manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) as the alkyl diaryl phosphite of component (D) ) 0.5 g, 0.1 g of hindered phenol antioxidant (ADK STAB AO-60: manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), 5.32 g of acrylic acid, 54.67 g of methyl methacrylate are mixed, and at room temperature (25 ° C.). Stir for 24 hours to dissolve uniformly. Nitrogen gas was bubbled into the resulting thermosetting resin composition for sealing an optical semiconductor for 3 minutes, and then immediately poured into a mold and sealed, and sealed at 60 ° C. for 9 hours, 120 ° C. for 3 hours, and 180 ° C. for 5 hours. In this order, they were heated and cured to obtain a cured product having a thickness of about 1 mm.

(実施例2)
アクリル系重合体(I)40g、ラウロイルパーオキサイド(パーロイルL:日本油脂株式会社製)0.24g、(D)成分のペンタエリスリトールジホスファイトとしてビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(アデカスタブPEP−36:旭電化工業株式会社製)0.7g、アクリル酸5.32g、メチルメタクリレート54.67gを混合し、室温で24時間攪拌して均一に溶解させた。以下、実施例1と同様にして硬化物を得た。
(Example 2)
40 g of acrylic polymer (I), 0.24 g of lauroyl peroxide (Perroyl L: manufactured by NOF Corporation), bis (2,6-di-t-butyl-4) as pentaerythritol diphosphite of component (D) -Methylphenyl) pentaerythritol diphosphite (ADK STAB PEP-36: manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 0.7 g, acrylic acid 5.32 g, methyl methacrylate 54.67 g were mixed and stirred at room temperature for 24 hours to be uniform. Dissolved. Thereafter, a cured product was obtained in the same manner as in Example 1.

(実施例3)
アクリル系重合体(II)40g、ラウロイルパーオキサイド(パーロイルL:日本油脂株式会社製)0.24g、ジフェニルデシルホスファイト(アデカスタブ135A:旭電化工業株式会社製)0.5g、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(アデカスタブAO−60:旭電化工業株式会社製)0.1g、アクリル酸5.32g、メチルメタクリレート54.67gを混合し、室温で24時間攪拌して均一に溶解させた。以下、実施例1と同様にして硬化物を得た。
(Example 3)
Acrylic polymer (II) 40 g, lauroyl peroxide (Perroyl L: manufactured by NOF Corporation) 0.24 g, diphenyldecyl phosphite (ADK STAB 135A: manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 0.5 g, hindered phenol-based oxidation 0.1 g of an inhibitor (ADK STAB AO-60: manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), 5.32 g of acrylic acid, and 54.67 g of methyl methacrylate were mixed, and stirred at room temperature for 24 hours to be uniformly dissolved. Thereafter, a cured product was obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例1)
アクリル系重合体(I)40g、ラウロイルパーオキサイド(パーロイルL:日本油脂株式会社製)0.24g、アクリル酸5.32g、メチルメタクリレート54.67gを混合し、室温で24時間攪拌して均一に溶解させた。以下、実施例1と同様にして硬化物を得た。
(Comparative Example 1)
Acrylic polymer (I) 40 g, lauroyl peroxide (Perroyl L: manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 0.24 g, acrylic acid 5.32 g, methyl methacrylate 54.67 g were mixed and stirred at room temperature for 24 hours to be uniform. Dissolved. Thereafter, a cured product was obtained in the same manner as in Example 1.

実施例1〜3及び比較例1で得た硬化物のクラック、透過率、耐熱性、耐光性を以下のようにして価評し、その結果を表1に示した。表1における特性評価の方法は以下の通りである。
・クラック:硬化物のクラックの有無を目視にて確認し、無し、多いとして評価した。
・380nm透過率 :分光光度計(日本分光株式会社製V−570)を用いて、硬化物の380nmにおける透過率を測定した。
・耐熱性:硬化物を250℃で3時間加熱した後、色差測定器(日本電色工業株式会社製 COH−300A)を用いてイエローネス インデックス(YI)を測定し、着色の程度を調べた。
黄色味を示す黄変度(YI)は測定した透過スペクトルを用い、標準光Cの場合の三刺激値XYZを求め、式(1)から求めた。
Cracks, transmittance, heat resistance and light resistance of the cured products obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were evaluated as follows, and the results are shown in Table 1. The characteristic evaluation method in Table 1 is as follows.
-Cracks: The presence or absence of cracks in the cured product was confirmed visually, and evaluated as none or many.
-380 nm transmittance | permeability: The transmittance | permeability in 380 nm of hardened | cured material was measured using the spectrophotometer (JASCO Corporation V-570).
Heat resistance: After heating the cured product at 250 ° C. for 3 hours, the yellowness index (YI) was measured using a color difference measuring device (COH-300A manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) to examine the degree of coloring. .
The yellowing degree (YI) indicating yellowishness was determined from the equation (1) by determining the tristimulus value XYZ in the case of the standard light C using the measured transmission spectrum.

Figure 0004453008
Figure 0004453008

・耐光性:硬化物に対して紫外線カーボンアークランプを用いて紫外線(350〜410nm)を300時間照射した後、色差測定器(日本電色工業株式会社製COH−300A)を用いてイエローネス インデックス(YI)を測定し、着色の程度を調べた。また、分光光度計(日本分光株式会社製V−570)を用いて380nmにおける透過率を測定した。 -Light resistance: The cured product is irradiated with ultraviolet rays (350 to 410 nm) using an ultraviolet carbon arc lamp for 300 hours, and then a yellowness index using a color difference measuring device (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. COH-300A). (YI) was measured and the degree of coloring was examined. Moreover, the transmittance | permeability in 380 nm was measured using the spectrophotometer (JASCO Corporation V-570).

Figure 0004453008
Figure 0004453008

表1に示したように、本発明の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物は、透明性、耐光性及び耐熱性に優れる硬化物を与える。これに対し、比較例1の(D)成分の酸化防止剤を用いないと、透明性、耐光性及び耐熱性にいずれも劣る。
As shown in Table 1, the thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention gives a cured product excellent in transparency, light resistance and heat resistance. On the other hand, if the antioxidant of the component (D) of Comparative Example 1 is not used, the transparency, light resistance and heat resistance are all poor.

Claims (7)

以下の(A)〜(D)成分を含む光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物。
(A)側鎖にエポキシ基を有する飽和のアクリル系重合体
(B)次の成分(b1)及び(b2)を必須成分とする混合モノマー
(b1)アクリル酸及び/またはメタクリル酸
(b2)アクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル
(C)ラジカル重合開始剤
(D)酸化防止剤
The thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing containing the following (A)-(D) component.
(A) Saturated acrylic polymer having an epoxy group in the side chain (B) Mixed monomer having the following components (b1) and (b2) as essential components (b1) Acrylic acid and / or methacrylic acid (b2) Acrylic Acid ester and / or methacrylic acid ester (C) radical polymerization initiator (D) antioxidant
アクリル系重合体(A)が、エポキシ基及び共重合可能な不飽和結合を有するモノマー5〜50重量%、メチルメタクリレート50〜95重量%及びこれらと共重合可能な他のアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステル0〜45重量%からなる共重合体である請求項1に記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物。 Acrylic polymer (A) is a monomer having an epoxy group and a copolymerizable unsaturated bond, 5 to 50% by weight, methyl methacrylate 50 to 95% by weight and other acrylates copolymerizable therewith and / or The thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation according to claim 1, which is a copolymer comprising 0 to 45% by weight of methacrylic acid ester. アクリル系重合体(A)の重量平均分子量が5,000〜200,000である請求項1または請求項2に記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation according to claim 1 or 2, wherein the acrylic polymer (A) has a weight average molecular weight of 5,000 to 200,000. アクリル系重合体(A)と混合モノマー(B)との合計の配合量を100重量部としたとき、アクリル系重合体(A)の配合量が20〜60重量部、混合モノマー(B)の配合量が40〜80重量部、酸化防止剤(D)の配合量が0.1〜1.2重量部、かつ、ラジカル重合開始剤(C)の配合量が混合モノマー(B)に対して0.1〜1重量%であり、さらにアクリル酸及び/またはメタクリル酸(b1)の配合量がアクリル系重合体(A)中に含まれるエポキシ基1モルあたり1.0〜1.2モルである請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物。 When the total blending amount of the acrylic polymer (A) and the mixed monomer (B) is 100 parts by weight, the blending amount of the acrylic polymer (A) is 20 to 60 parts by weight of the mixed monomer (B). The blending amount is 40 to 80 parts by weight, the blending amount of the antioxidant (D) is 0.1 to 1.2 parts by weight, and the blending amount of the radical polymerization initiator (C) is based on the mixed monomer (B). 0.1 to 1% by weight, and the blending amount of acrylic acid and / or methacrylic acid (b1) is 1.0 to 1.2 moles per mole of epoxy groups contained in the acrylic polymer (A). The thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing in any one of Claim 1 thru | or 3. 酸化防止剤(D)が、ペンタエリスリトールジホスファイト及び/またはアルキルジアリールホスファイトである請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation according to any one of claims 1 to 4, wherein the antioxidant (D) is pentaerythritol diphosphite and / or alkyldiaryl phosphite. 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物。 Hardened | cured material obtained by hardening the thermosetting resin composition for optical semiconductor sealing in any one of Claim 1 thru | or 5. 請求項6記載の硬化物にて封止された光半導体。

An optical semiconductor sealed with the cured product according to claim 6.

JP2004328904A 2004-11-12 2004-11-12 Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor Expired - Fee Related JP4453008B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004328904A JP4453008B2 (en) 2004-11-12 2004-11-12 Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004328904A JP4453008B2 (en) 2004-11-12 2004-11-12 Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006137855A JP2006137855A (en) 2006-06-01
JP4453008B2 true JP4453008B2 (en) 2010-04-21

Family

ID=36618870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004328904A Expired - Fee Related JP4453008B2 (en) 2004-11-12 2004-11-12 Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4453008B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160114049A (en) * 2014-01-29 2016-10-04 히타치가세이가부시끼가이샤 Adhesive composition, resin cured product obtained from adhesive composition, method for manufacturing semiconductor device using adhesive composition, and solid-state imaging element
WO2015115537A1 (en) 2014-01-29 2015-08-06 日立化成株式会社 Resin composition, method for manufacturing semiconductor device using resin composition, and solid-state imaging element
WO2015115553A1 (en) 2014-01-29 2015-08-06 日立化成株式会社 Adhesive composition, method for manufacturing semiconductor device using adhesive composition, and solid-state imaging element
KR102321552B1 (en) * 2014-05-30 2021-11-03 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Light/moisture-curable resin composition, adhesive for electronic components, and adhesive for display elements

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006137855A (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7868109B2 (en) Curable resin composition
KR101365834B1 (en) Optical semiconductor encapsulating material
EP2042528B1 (en) Curable resin composition
JP4853630B2 (en) Curable resin composition
US20100020496A1 (en) Electronic device containing a thermally conductive sheet
JP2007214543A (en) Uv-curing silicone composition for light-emitting diode element
JP2008210845A (en) Sealing material composition for light-emitting element, cured object thereof and light-emitting element sealing body
KR101269341B1 (en) Resin composition and optical member using cured product of such resin composition
JP4453008B2 (en) Thermosetting resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof and optical semiconductor
EP3000831B1 (en) Photocurable acrylic-based thermal conductive composition, acrylic-based thermal conductive sheet, and method of producing the same
JP4872358B2 (en) Resin composition, optical member using the same, and method for producing the same
JP4947905B2 (en) Resin composition for optical semiconductor encapsulation
JP2007327031A (en) Resin composition and optical member using cured product
JP6020895B2 (en) Curable resin composition, cured product and optical member
JP2010189471A (en) Hardening resin composition, sealant comprising hardened material obtained thereby, and filler
JP2008153602A (en) Sealing material composition for light emitting element, its cured material and light emitting element seal
JP2008131009A (en) Resin composition for white led sealing member, curing object thereof, and white led
JP2008205097A (en) Sealant composition for light-emitting element, hardened substance thereof, and light-emitting element seal
JP2008075081A (en) Resin composition and optical member using cured product thereof
KR101634817B1 (en) Adhesive composition for a backlight unit, a backlight unit and a liquid crystal display device
WO2013027640A1 (en) Acrylate-based composition
JP2008177416A (en) Sealer composition for light-emitting device, curing material thereof and light-emitting device sealer
JP2007314765A (en) Curing resin composition and optical member using the same
JP2004346233A (en) Phosphor-carrying, fluorine-containing copolymer composition, its manufacturing process, and manufacturing process of molded article of phosphor-carrying, fluorine-containing copolymer
JP5447458B2 (en) Resin composition, optical member using the same, and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071019

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100107

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100120

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4453008

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140212

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140212

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees