JP4439984B2 - X-ray analysis method and apparatus having optical axis adjustment function - Google Patents
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Description
本発明は、半割試料を用いて光軸調整を行なう光軸調整機能を有するX線分析方法および装置に関する。 The present invention relates to an X-ray analysis method and apparatus having an optical axis adjustment function for adjusting an optical axis using a half sample.
従来から、蛍光X線分析のようなX線分析において、撮像手段で撮像された試料表面の画像上の表示に基づいて指定された試料の各部位を、試料をrθステージなどにより2次元的に移動させながら、絞り孔(ダイアフラム)を通して検出手段で測定してX線強度の分布測定(マッピング測定)を行なうことで、各部位の含有率、膜厚等を分布測定することが知られている。 Conventionally, in X-ray analysis such as X-ray fluorescence analysis, each part of a sample designated based on the display on the image of the sample surface imaged by the imaging means is two-dimensionally expressed by an rθ stage or the like. It is known to measure the distribution of content, film thickness, etc. of each part by measuring the X-ray intensity distribution (mapping measurement) through the aperture (diaphragm) while moving it with a detecting means. .
この測定に際して、光軸を調整するために、構成元素の異なる2つの物質を接合したもので、その境界線が直線である半割試料を用いて、ダイアフラムの見込み位置と、θステージの回転中心とを一致させることが知られている(例えば、特許文献1)。この従来技術は、光軸調整用の半割試料を所定の向きにθステージに置いて、r方向に移動させながらX線強度の分布測定を行なうとともに、ダイアフラムを移動させながらX線強度の分布測定を行なうことにより、試料表面上のダイアフラムの見込み位置と、θステージの回転中心とを一致させるものである。
しかし、この従来技術では、半割試料を所定の向きにθステージに置くことを前提としているので、手動で半割試料を所定の向きに置く必要がある。また、試料を置いた向きと、所定の向きとの誤差が、ダイアフラム見込みの調整位置の誤差に伝播する。 However, in this prior art, since it is assumed that the half sample is placed on the θ stage in a predetermined direction, it is necessary to manually place the half sample in the predetermined direction. Further, the error between the direction in which the sample is placed and the predetermined direction propagates to the error of the adjustment position expected for the diaphragm.
本発明は、前記の問題点を解決して、光軸調整用の半割試料を置く向きに関係なく、正しく光軸調整できる光軸調整機能を有するX線分析方法および装置を提供することを目的としている。 The present invention provides an X-ray analysis method and apparatus having an optical axis adjustment function that can adjust the optical axis correctly regardless of the direction in which the halved sample for optical axis adjustment is placed, by solving the above-described problems. It is aimed.
前記目的を達成するために、本発明に係る光軸調整機能を有するX線分析方法および装置は、撮像手段で撮像された試料表面の画像上の表示に基づいて指定された試料の部位を、試料の特定の部位のみを分析するX線分析手段の見込み位置にくるように、試料をその表面方向に移動させる平面移動ステージおよび試料をその表面の法線回りに自転させるθステージからなる試料移動手段を用いて移動させながら、前記X線分析手段で分析してX線強度の分布測定を行なうものであって、画像上の測定原点と、前記X線分析手段の見込み位置と、前記θステージの回転中心とを一致させる光軸調整を行なうものである。
この際に、直線状の基準線を有する半割試料を光軸調整用試料として用い、前記X線分析手段をその試料表面上の複数の任意見込み位置に移動させる。そして、前記X線分析手段の複数の任意見込み位置のそれぞれにおいて、半割試料を平面移動ステージにより複数の移動位置に移動させ、さらにそれぞれの移動位置において、半割試料をθステージで自転させながら前記X線強度の分布測定を行なうことにより、半割試料の基準線が任意見込み位置を回転横断するときのθステージの回転角度である半割角度を検出する。
その後、この複数の任意見込み位置における半割角度の変化に基づいて、半割試料の基準線が複数の任意見込み位置の軌跡と平行となる平面移動ステージの移動位置を検出して、これを平面移動ステージの原点として設定し、そのうえで前記移動位置におけるθステージの回転中心と前記X線分析手段の見込み位置とが一致するように、X線分析手段の見込み位置を設定し、さらに、θステージの回転中心と画像上の測定原点とが一致するように、画像上の測定原点を設定する。
In order to achieve the above object, an X-ray analysis method and apparatus having an optical axis adjustment function according to the present invention provides a sample region designated based on a display on an image of a sample surface imaged by an imaging means, Sample movement consisting of a plane moving stage that moves the sample toward its surface and a θ stage that rotates the sample around its surface normal so that the X-ray analysis means for analyzing only a specific part of the sample is positioned at the expected position The X-ray intensity distribution is measured by the X-ray analysis means while being moved using the means, the measurement origin on the image, the expected position of the X-ray analysis means, and the θ stage. The optical axis is adjusted so as to coincide with the rotation center.
At this time, a halved sample having a linear reference line is used as an optical axis adjusting sample, and the X-ray analyzing means is moved to a plurality of arbitrary prospective positions on the sample surface. Then, at each of a plurality of arbitrary prospective positions of the X-ray analysis means, the halved sample is moved to a plurality of moving positions by the plane moving stage, and further, the halved sample is rotated on the θ stage at each moving position. By measuring the distribution of the X-ray intensity, the half angle, which is the rotation angle of the θ stage when the reference line of the half sample crosses an arbitrary prospective position, is detected.
Thereafter, based on the change in the half angle at the plurality of arbitrary prospective positions, the movement position of the plane moving stage in which the reference line of the half sample is parallel to the trajectories of the plurality of arbitrary prospective positions is detected, Set as the origin of the moving stage, and then set the expected position of the X-ray analyzing means so that the rotation center of the θ stage at the moving position and the expected position of the X-ray analyzing means coincide with each other. The measurement origin on the image is set so that the rotation center matches the measurement origin on the image.
この構成によれば、X線分析手段の複数の任意見込み位置で、半割試料を平面移動ステージの移動位置ごとにθステージで自転させながらX線強度の分布測定を行なうことにより、半割試料の基準線が複数の任意見込み位置の軌跡と平行となる平面移動ステージの移動位置およびθステージの回転角度を検出する。これにより、半割試料をθステージに置く向きに関係なく、θステージの回転中心を通る半割試料の基準線が複数の任意見込み位置の軌跡と平行となる、つまりθステージの回転中心が当該軌跡上にくる状態を検出できるから、この平面移動ステージの移動位置におけるθステージの回転中心とX線分析手段の見込み位置とを一致させ、さらにθステージの回転中心と画像上の測定原点とを一致させることにより、正しく光軸調整を行なうことができる。 According to this configuration, the X-ray intensity distribution measurement is performed while rotating the half sample at the θ stage for each movement position of the plane moving stage at a plurality of arbitrary prospective positions of the X-ray analysis means. The movement position of the planar movement stage and the rotation angle of the θ stage are detected so that the reference line is parallel to the trajectories of a plurality of arbitrary expected positions. As a result, regardless of the orientation in which the halved sample is placed on the θ stage, the reference line of the halved sample passing through the rotation center of the θ stage is parallel to the trajectories of a plurality of arbitrary prospective positions. Since the state on the trajectory can be detected, the rotation center of the θ stage at the moving position of the planar moving stage is matched with the expected position of the X-ray analysis means, and the rotation center of the θ stage and the measurement origin on the image are set. By matching, the optical axis can be adjusted correctly.
好ましくは、前記試料移動手段の平面移動ステージが、試料を直線的に移動させるrステージである。この場合には、既設のrθステージを用いて、低コストで光軸調整を正確に行なうことができる。さらに好ましくは、前記試料移動手段が、試料を投入位置から測定位置への搬送手段を兼ねている。 Preferably, the planar moving stage of the sample moving means is an r stage that moves the sample linearly. In this case, the optical axis adjustment can be accurately performed at low cost using the existing rθ stage. More preferably, the sample moving means also serves as a means for transporting the sample from the loading position to the measurement position.
好ましくは、前記試料移動手段の平面移動ステージが、試料を公転させるφステージである。この場合には、既設のφθステージを用いて、低コストで光軸調整を正確に行なうことができる。さらに好ましくは、前記試料移動手段が、試料を投入位置から測定位置への搬送手段を兼ねている。 Preferably, the plane moving stage of the sample moving means is a φ stage for revolving the sample. In this case, the optical axis adjustment can be accurately performed at low cost using the existing φθ stage. More preferably, the sample moving means also serves as a means for transporting the sample from the loading position to the measurement position.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る光軸調整機能を有する蛍光X線分析装置を示す構成図である。図2(A)は光軸調整用試料として用いられる半割試料、(B)は本装置の動作状態を示す。図1の本装置は、CCD等の撮像手段12で撮像された試料表面の画像上の表示に基づいて指定された試料の部位を、X線分析手段(ダイアフラム)5の見込み位置にくるように、試料を試料移動手段(rθステージ)を用いて2次元的に移動させながら、ダイアフラム5を通して検出手段4で測定して蛍光X線強度の分布測定(マッピング測定)を行なうことで、各部位の含有率、膜厚等を分布測定する。X線分析手段(ダイアフラム)5は、試料の特定の部位のみを分析するもので、試料から発生した蛍光X線B2を受光する面積を制限することで測定面積を制御する。検出手段4は、ダイアフラム5を通過した蛍光X線B2をスリット6を介して分光する分光素子7、その分光された蛍光X線B2の強度を測定する検出器8などからなる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram showing a fluorescent X-ray analyzer having an optical axis adjustment function according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2A shows a halved sample used as an optical axis adjusting sample, and FIG. 2B shows the operating state of the apparatus. The apparatus shown in FIG. 1 is configured so that the portion of the sample designated based on the display on the image of the sample surface imaged by the imaging means 12 such as a CCD is at the expected position of the X-ray analysis means (diaphragm) 5. Then, while moving the sample two-dimensionally using the sample moving means (rθ stage), measurement is performed by the detecting means 4 through the
試料表面を2次元的に移動する試料移動手段としては、図3(A)に示すように、試料Sをその表面方向に移動させる平面移動ステージ16および試料Sをその表面の法線回りに自転させるθステージ17が用いられる。平面移動ステージ16として例えば、試料Sを直線的に移動させるrステージが用いられる。このrステージ16とθステージ17からなるrθステージは、例えばrステージ16の下部にθステージ17が設けられてなり、rステージ16は、試料表面の一定方向であるr方向に直線移動自在に設けられ、θステージ17は試料Sを収納した試料ホルダ43を保持するとともに、試料Sを自転させるために駆動軸45を中心として水平回転(θ回転)自在に設けられたものである。
As the sample moving means for moving the sample surface two-dimensionally, as shown in FIG. 3A, the
図1の本装置は光軸調整機能を有するものであり、画像上の測定原点と、ダイアフラム5の見込み位置と、θステージ17の回転中心とを一致させる光軸調整手段20を備えている。この光軸調整は、一般的には、装置組立調整時にのみ行われる。
The apparatus shown in FIG. 1 has an optical axis adjustment function, and includes optical axis adjustment means 20 that matches the measurement origin on the image, the expected position of the
前記光軸調整手段20は、後述する半割試料Sを光軸調整用試料として用いるものであり、X線分析手段(ダイアフラム)移動手段15、半割角度検出手段21および設定制御手段22を備えている。半割角度検出手段21および設定制御手段22は制御手段24内に設けられており、この制御手段24は、さらに前記ダイアフラム移動手段15の制御、および前記撮像手段12による画像の表示器28への表示制御を行なうほか装置全体の制御を行なう。
The optical axis adjusting means 20 uses a half sample S described later as an optical axis adjusting sample, and includes an X-ray analyzing means (diaphragm) moving means 15, a half angle detecting means 21, and a setting control means 22. ing. The half angle detection means 21 and the setting control means 22 are provided in the control means 24. The control means 24 further controls the diaphragm moving means 15 and displays the image on the
図2(A)のように、光軸調整用試料として用いられる半割試料Sは、構成元素の異なる2つの物質、例えばCuとAlを接合したもので、その境界線が直線である円板状の形状を有している。図示したように、半割試料Sをθステージ17に保持した状態で、境界線がθステージ17の回転中心45(図3(A))を通っている場合は、この境界線を半割試料Sの向き(図2(A)中の矢印)を示す基準線Lとする。境界線がθステージ17の回転中心45を通らない場合には、境界線と平行でθステージ17の回転中心45を通る線が基準線Lとなる。また、ここでは、半割試料Sは円板でその中心がθステージ17の回転中心45と一致しているが、そうでなくても構わない。
As shown in FIG. 2 (A), a halved sample S used as an optical axis adjusting sample is a disc in which two substances having different constituent elements, for example, Cu and Al, are joined and the boundary line is a straight line. It has a shape. As shown in the figure, when the boundary line passes through the rotation center 45 (FIG. 3A) of the
パルスモータなどの駆動手段からなるダイアフラム移動手段15は、ダイアフラム5の試料表面上の見込み位置を、複数の例えば2つの任意見込み位置に直線的に移動させるもので、ダイアフラム5を通るX線の方向と平面視で直交する、水平な方向にダイアフラム5を移動させる。図2(B)のように、この任意見込み位置31、32の軌跡である両位置31、32を結ぶ試料表面上の線をダイアフラム移動軸36とする。
A diaphragm moving means 15 comprising a driving means such as a pulse motor linearly moves the expected position on the sample surface of the
前記半割角度検出手段21は、まず、ダイアフラム5の2つの任意見込み位置31、32でそれぞれ前記検出手段4によるX線強度の分布測定を行なう。この分布測定は、例えば仮の原点30からそれぞれ−2mm、+2mmずれている2つの任意見込み位置31、32(以下、単にダイアフラム位置と称する場合がある)のそれぞれにおいて、半割試料Sをrステージ16によりその移動位置(以下、単にrステージ位置と称する場合がある)を複数位置に、例えば−1mm、0mm、+1mmのように順次直線移動させ、さらにそれぞれのrステージ位置において、半割試料Sをθステージ17で360°自転させながら行なう。そして、この分布測定に基づき、rステージ位置ごとに半割試料Sの基準線Lが任意見込み位置を回転横断するときのθステージ17の回転角度である半割角度を検出する。
なお、半割試料Sをrステージ16にセットして直線移動させたrステージ位置0mmを仮の測定初期位置とする。また、θステージ17の回転角度は、各ターレット角度におけるθステージ17の初期状態を0°として、例えば右回りに回転した角度とする。
First, the half angle detection means 21 measures the X-ray intensity distribution by the detection means 4 at two arbitrary
The
前記設定制御手段22は、上記した2つの任意見込み位置31、32における半割角度の変化に基づいて2つの半割角度傾向線を検出する。この両半割角度傾向線の交差する点が、半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となる、つまりθステージ17の回転中心45がダイアフラム移動軸36上にくる、rステージ位置として検出されるので、これをrステージ16の原点として設定する。そのうえで、前記rステージ位置におけるθステージ17の回転中心45とダイアフラム5の見込み位置とが一致するようにダイアフラム5の見込み位置を設定し、さらに、θステージ17の回転中心45と画像上の測定原点とが一致するように、画像上の測定原点を設定する。
The setting control means 22 detects two halved angle trend lines based on the change in the halved angle at the two arbitrary
前記構成の装置の動作を、図4のフローチャートに基づいて、説明する。まず、半割試料Sをrステージ16にセットし(ステップS1)、rステージ16の直線移動により仮の測定初期位置にロードする(ステップS2)。ステップS3では、ダイアフラム5を仮の原点30から−2mmずれた任意見込み位置31、次いで+2mmずれた任意見込み位置32に移動する。ステップS4では、ダイアフラム位置が最終か否か確認される。つまり、両任意見込み位置31、32での測定が完了したかどうか確認される。
The operation of the apparatus having the above configuration will be described based on the flowchart of FIG. First, the half sample S is set on the r stage 16 (step S1), and is loaded to a temporary initial measurement position by linear movement of the r stage 16 (step S2). In step S3, the
つぎに、ステップS5では、各任意見込み位置31、32においてrステージ位置をr方向に−1mm、0mm、+1mmに順次移動させる。そして、ステップS6では各任意見込み位置31、32でrステージ位置−1mm、0mm、+1mmのそれぞれにおいて、θステージ17のθ回転により半割試料Sを360°回転させながらX線強度を測定する。この半割試料Sの直線移動およびθ回転の移動により、各任意見込み位置31、32において、−1mm、0mm、+1mmのrステージ位置ごとに半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36上を横切る状態が検出されこととなる。ステップS7では、rステージ位置が最終か否か確認される。つまり、各任意見込み位置31、32での測定が完了したかどうか確認される。
Next, in step S5, the r stage position is sequentially moved to −1 mm, 0 mm, and +1 mm in the r direction at the arbitrary
図5はステップS6におけるX線強度の測定結果を示す。図5(A)はダイアフラム位置−2mmの任意見込み位置31での測定結果、(B)はダイアフラム位置+2mmの任意見込み位置32での測定結果である。図中の傾斜線51、52は、各任意見込み位置31、32において半割試料Sの境界線が回転横断したことの検知を示す。
FIG. 5 shows the measurement result of the X-ray intensity in step S6. FIG. 5A shows the measurement result at the arbitrary
ステップS4で両任意見込み位置31、32での測定が完了すると、ステップS8で、図5の測定結果に基づいて、半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となる(平面視で重なる)ときのrステージ位置とθステージ17の回転角度が検出される(ステップS8)。このrステージ位置において、θステージ17の回転中心45がダイアフラム移動軸36上にくる。以下、ステップS8における各手段の動作を詳細に説明する。
When the measurement at both arbitrary
半割角度検出手段21により、まず、図6(A)に示すように、例えば図5(A)のrステージ位置+1mmの測定分布に基づいて、0°〜180°の測定分布と180°〜360°の測定分布とを重ね合わせる。そして、図6(B)に示すように、これらの交点53により、半割試料Sの基準線Lが任意見込み位置31を回転横断するときのθステージ17の回転角度θである半割角度の例えば117.5°が検出される。交点53は、半割試料Sの境界線が基準線Lとなる場合には傾斜線51、52の中点となり、そうでない場合には中点から上下にずれる。傾斜線51、52の交点を求める代わりに、両中点のさらに中点を求めてもよい。同様に、図5(A)(B)の測定分布に基づいて、各ダイアフラム位置および各rステージ位置における半割角度が検出される。
First, as shown in FIG. 6 (A), the halved angle detection means 21
つぎに、設定制御手段22により、図7に示すように、前記半割角度が、この例では、ダイアフラム位置−2mmにおいて、rステージ位置−1mm、0mm、+1mmの順で、37°、90°、117.5°となって順次増加する傾向を示し、ダイアフラム位置+2mmにおいて、rステージ位置−1mm、0mm、+1mmの順で、117.5°、90°、37°となって順次減少する傾向を示すので、2つの半割角度傾向線が検出される。 Next, as shown in FIG. 7, the half angle is set to 37 °, 90 ° by the setting control means 22 in this order in the order of r stage position-1 mm, 0 mm, +1 mm at the diaphragm position-2 mm. , 117.5 °, showing a tendency to increase gradually, and at the diaphragm position +2 mm, the r-stage position is −1 mm, 0 mm, +1 mm in order, 117.5 °, 90 °, 37 ° , Two halved angle trend lines are detected.
そして、両半割角度傾向線の交点として、半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となる(平面視で重なる)ときのrステージ位置(ここでは0mm)とθステージ17の回転角度(ここでは90°)が検出される。このrステージ位置において、θステージ17の回転中心45がダイアフラム移動軸36上にくるので、これをrステージ16の原点として設定する。
Then, as an intersection of both halved angle trend lines, the r stage position (0 mm in this case) and the
つぎに、検出したrステージ位置まで半割試料Sを移動させる(ステップS9)。θステージ17がこのrステージ位置にある状態を、今後の試料の測定で用いる新たな測定初期位置とし、そのときのθステージ17の回転中心45を、画像上の測定原点とダイアフラム5の見込み位置とを一致させる位置とする。画像上の測定原点、例えば撮像した画面の中心をθステージ17の回転中心45に一致させるのは、従来技術により行われる。一方、ダイアフラム5の見込み位置とθステージ17の回転中心45を一致させるのは、rステージ16のr方向についてはステップS9で設定できたことになるので、以降のステップで、ダイアフラム移動軸36方向について設定する。
Next, the half sample S is moved to the detected r stage position (step S9). The state in which the
まず、θステージ17をステップS8で検出した回転角度から90°回転させ、半割試料Sの境界線をダイアフラム移動軸36に直交させる(ステップS10)。この状態でダイアフラム5の移動によるX線強度の分布測定(ダイアフラムスキャン)が行われる(ステップS11)。これにより、ダイアフラム5の見込み位置が半割試料Sの境界線を横断したことを示す傾斜線の中点が検出される。その後、その中点におけるダイアフラム5の位置にダイアフラム5の位置を設定する(ステップS12)。
First, the
なお、境界線が基準線Lでない場合には、ステップ11において、半割試料Sを180°回転して再度ダイアフラムスキャンを行なう。そして、ステップS8で述べたのと同様に、2つの傾斜線の交点、または各傾斜線の中点のさらに中点として、ダイアフラム5の見込む位置が基準線Lを横断するときのダイアフラム5の位置を求め、ステップS12で、その位置に設定する。
If the boundary line is not the reference line L, in step 11, the halved sample S is rotated 180 ° and the diaphragm scan is performed again. Then, as described in step S8, the position of the
以上のように、第1実施形態では、ダイアフラム5の2つの任意見込み位置31、32で、半割試料Sをrステージ16の移動位置ごとにθステージ17で自転させながらX線強度の分布測定を行なうことにより、半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となるrステージ16の移動位置およびθステージ17の回転角度を検出する。これにより、半割試料Sをθステージ17に置く向きに関係なく、θステージ17の回転中心を通る半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となる(θステージ17の回転中心45がダイアフラム移動軸36上にくる)状態を検出できるから、このrステージ16の移動位置におけるθステージ17の回転中心とダイアフラム5の見込み位置とを一致させ、さらにθステージ17の回転中心と画像上の測定原点とを一致させることにより、正しく光軸調整を行なうことができる。
As described above, in the first embodiment, the X-ray intensity distribution measurement is performed while the half sample S is rotated on the
つぎに、第2実施形態に係る蛍光光軸調整機能を有するX線分析装置について説明する。この第2実施形態では、試料移動手段として、rθステージに代えてφθステージを用いている。図3(B)に示すように、φθステージは、試料Sを試料表面方向に移動させるφステージ18および試料Sをその表面の法線回りに自転させるθステージ19からなり、試料を投入位置から測定位置への搬送手段を兼ねている。φステージ18は、例えば駆動軸47を中心として水平回転(φ回転)自在に設けられて、試料Sを投入位置から測定初期位置まで回転(公転)させて搬送する。投入位置には試料出入のために上下移動するリフト42が設けられている。θステージ19は、試料Sを収納した図示しない試料ホルダを保持するとともに、試料Sを自転させるために駆動軸46を中心として水平回転(θ回転)自在に設けられたものである。
Next, an X-ray analyzer having a fluorescence optical axis adjustment function according to the second embodiment will be described. In the second embodiment, a φθ stage is used as the sample moving means instead of the rθ stage. As shown in FIG. 3B, the φθ stage includes a φ stage 18 that moves the sample S in the direction of the sample surface and a
第2実施形態では、第1実施形態のrステージ16の移動位置は、φステージ18の移動位置に相当する。すなわち、図2(C)に示すように、図2(B)において、第1実施形態のrステージ16の直線的移動による複数の移動位置である−1mm、0mm、+1mmは、第2実施形態ではそれぞれφステージ18の回転による複数の移動位置である、例えば−1°、0°、+1°となる。その他の構成は第1実施形態と同様である。
In the second embodiment, the movement position of the
第2実施形態において、ダイアフラム5の2つの任意見込み位置31、32のそれぞれにおいて、半割試料Sをφステージ18により複数の移動位置に移動させ、さらにそれぞれの移動位置において、半割試料Sをθステージ19で自転させながら前記X線強度の分布測定を行なうことにより、半割試料Sの基準線Lが任意見込み位置31、32を回転横断するときのθステージ19の回転角度である半割角度を検出する。そして、この2つの任意見込み位置31、32における半割角度の変化に基づいて、半割試料Sの基準線Lが2つの任意見込み位置31、32の軌跡(ダイアフラム移動軸36)と平行となるφステージ18の移動位置を検出して、これをφステージ18の原点として設定し、そのうえで前記移動位置におけるθステージ19の回転中心46とダイアフラム5の見込み位置とが一致するように、ダイアフラム5の見込み位置を設定し、さらに、θステージ19の回転中心46と画像上の測定原点とが一致するように、画像上の測定原点を設定する。
In the second embodiment, the halved sample S is moved to a plurality of movement positions by the φ stage 18 at each of the two arbitrary
これにより、第2実施形態の装置は、ダイアフラム5の2つの任意見込み位置31、32で、半割試料Sをφステージ18の回転角度ごとにθステージ19で自転させながらX線強度の分布測定を行なうことにより、半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となるφステージ18の回転角度およびθステージ19の回転角度を検出するので、第1実施形態と同様に、半割試料Sをθステージ19に置く向きに関係なく、θステージ19の回転中心46を通る半割試料Sの基準線Lがダイアフラム移動軸36と平行となる(θステージ19の回転中心46がダイアフラム移動軸36上にくる)状態を検出できるから、このφステージ18の移動位置におけるθステージ19の回転中心46とダイアフラム5の見込み位置とを一致させ、さらに、θステージ19の回転中心46と画像上の測定原点とを一致させることにより、正しく光軸調整を行なうことができる。
As a result, the apparatus of the second embodiment measures the X-ray intensity distribution while rotating the halved sample S on the
なお、この実施形態では、光軸調整機能を有するX線分析装置を蛍光X線分析装置としているが、これに限定されるものではなく、その他のX線分析装置であってもよい。 In this embodiment, the X-ray analyzer having the optical axis adjustment function is a fluorescent X-ray analyzer, but the present invention is not limited to this, and other X-ray analyzers may be used.
なお、この実施形態では、X線分析手段(ダイアフラム5)をその試料表面上の2つの見込み位置に移動させているが、3つ以上の見込み位置に移動させてもよい。 In this embodiment, the X-ray analysis means (diaphragm 5) is moved to two expected positions on the sample surface, but may be moved to three or more expected positions.
5:ダイアフラム(X線分析手段)
12:撮像手段
15:ダイアフラム移動手段
16:rステージ(平面移動ステージ)
17:θステージ
18:φステージ
19:θステージ
20:光軸調整手段
21:半割角度検出手段
22:設定制御手段
L:半割試料の基準線
S:半割試料
5: Diaphragm (X-ray analysis means)
12: Imaging means 15: Diaphragm moving means 16: r stage (plane moving stage)
17: θ stage 18: φ stage
19: θ stage 20: optical axis adjusting means 21: half angle detecting means 22: setting control means L: reference line of half sample S: half sample
Claims (5)
前記試料移動手段の平面移動ステージが、試料を直線的に移動させるrステージである、光軸調整機能を有するX線分析装置。 In claim 1,
An X-ray analyzer having an optical axis adjustment function, wherein the plane moving stage of the sample moving means is an r stage that linearly moves the sample.
前記試料移動手段の平面移動ステージが、試料を公転させるφステージである、光軸調整機能を有するX線分析装置。 In claim 1,
An X-ray analyzer having an optical axis adjustment function, wherein the plane moving stage of the sample moving means is a φ stage for revolving a sample.
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