JP4438338B2 - 同軸プローブ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば生体組織内に侵入させてマイクロ波により加熱治療を行う際に用いることができる同軸プローブに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、悪性腫瘍等の病気に対する治療法として電磁波を利用した方法が幾つか開発されている。その1つに同軸プローブを用いた凝固療法と呼ばれる治療法がある。
この凝固療法は、同軸プローブを直接患部に挿し込み、同軸プローブから放射される電磁波で患部を直接加温することによって、患部の組織を凝固壊死させる方法である。
【0003】
同軸プローブを患部に挿し込む方法として例えば肝臓に対しては、開腹した状態で穿刺する方法、経皮的に穿刺する方法、胸腔鏡または腹腔鏡のガイド針の中に挿入する方法等がある。この同軸プローブを用いた凝固療法は、切開部分が小さく、治療に要する時間も比較的短くてすむため、手術の際患者への負担が小さい等の利点がある。
【0004】
ここで、従来の同軸プローブ(例えば特許文献1参照)の構造を図10に示す。図10において(A)は肝臓などを模式化した臓器OR内に同軸プローブ100を挿入した状態での同軸プローブ100の長手方向の断面図、(B)は同軸プローブ100の長手方向に対して垂直な面での断面図である。この図10に示すように、内導体1と外導体3との間に誘電体2を介在させて、先端部分で外導体3と内導体1とを電気的に接続するとともに、外導体3の一部にスリットSを設けている。
【0005】
【特許文献1】
特開平7−275247号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
図10において図中の寸法は従来用いられている同軸プローブの具体的な寸法(単位mm)である。このような寸法構造の同軸プローブをシミュレーションしたところ、反射係数が0.65であり、入力信号の約6.5割も入力側に反射してしまうため、電磁波の放射効率が低いという問題があった。
【0007】
また、この同軸プローブの放射パターンを求めたところ、図11に示すような結果が得られた。ここで横軸は同軸プローブ先端位置を0とするプローブの位置(単位mm)、縦軸は半径方向の距離(単位mm)であり、SAR(Specific Absorption Rate)を濃度で表している。SARは電磁波の生体に対するエネルギー吸収量の評価として使用されるものであり、単位質量に吸収される単位時間あたりのエネルギーをW/kgで表したものである。図11で濃度変化の1段階は2.5dBに相当している。このようにスリットS付近でSARが高く、このスリットSの近傍で患部が加熱されることになる。
【0008】
従来の同軸プローブでは、同軸プローブ100の先端から離れた位置(図10に示した例では10mm)位置にスリットSが設けられていたため、使用し難いという問題があった。すなわち、加熱すべき患部を通り抜けて同軸プローブのスリット部分が患部の中央にくるように挿入することになり、その分患者に対する侵入度(正常な組織を冒す度合い) が増大したり治療可能範囲が狭くなるといった問題があった。
【0009】
しかし、スリットの位置を単に同軸プローブの先端付近に配置しただけでは、上記反射係数の低下に起因して放射効率を高めることができない。
そこでこの発明の目的は、電磁波の放射効率を高めるとともに、より先端付近でSARを高めた同軸プローブを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この発明は、内導体と外導体との間に誘電体が介在し、先端で外導体と内導体とを電気的に接続するとともに、外導体の一部にスリットを設けた同軸プローブにおいて、先端に対するスリットの位置を、先端位置からλ/4となる位置に定めたことを特徴としている。
【0011】
このように同軸プローブの先端に対するスリットの位置を変化させると、同軸プローブに接続されるマイクロ波発振源からこの同軸プローブを見た反射係数が変化するが、その反射係数が略減衰極となる位置にスリットを設けることによって電磁波の放射効率を高める。
【0012】
また、この発明は、前記誘電体の誘電率を前記生体組織内の1/5以上35/43以下に定めたことを特徴としている。
このように同軸プローブの誘電体部分の誘電率を定めることによって反射係数を低減するとともにスリットの形成位置をより先端に近づける。
【0013】
また、この発明は、前記誘電体をアルミナセラミックスとしたことを特徴としている。
このように生体組織の比誘電率に近いアルミナセラミックスを用いることにより生体組織との界面での反射損失を低減する。さらに、誘電体損失も小さくして高い電磁波放射効率を得る。また、高い機械的強度を得るとともに、生体に対して生化学的に無害とする。
【0014】
また、この発明は、前記スリットを第1のスリットとし、前記同軸プローブの先端から第1のスリットまでの距離より遠い位置に第2のスリットを設け、第1のスリットの中心から第2のスリットの中心までの距離が前記同軸ケーブルの管内波長の1/4以下で且つ第1・第2のスリット周囲の誘電率で換算した電磁波伝搬波長の1/4以上とする。
これにより同軸プローブの根元部分での電磁波の放射を抑え、先端部付近でのみ効率良く電磁波を放射できるようにする。また、電磁波放射対象である生体組織内部で同軸プローブの外導体表面に発生する定在波を抑えて、患部以外の生体組織への加熱を抑える。
【0015】
【発明の実施の形態】
第1の実施形態に係る同軸プローブの構造を図1に示す。ここで(A)は肝臓などを模式化した臓器OR内に同軸プローブ100を挿入した状態での同軸プローブ100の長手方向の断面図、(B)は同軸プローブ100の長手方向に対して垂直な面での断面図である。この図に示すように、内導体1と外導体3との間に誘電体2を介在させて、先端部分で外導体3と内導体1とを電気的に接続するとともに、外導体3の一部にスリットSを設けている。
【0016】
一般に、同軸プローブによって生体組織にマイクロ波を照射した場合、単位時間当たりに吸収される割合である比吸収率SARは次のようにして求める。
【0017】
すなわち、SARは単位質量に吸収される単位時間あたりのエネルギーをW/kgで表したものであり、電界強度Eのなかにある誘電体に吸収される単位体積あたりの電力Pは、生体組織の誘電率をεとすると、
P=ωεE2tanδ
と表せる。
【0018】
また、単位質量に吸収される電力は、生体組織の密度をρとすると、
SAR=ωεE2tanδ/ρ
である。さらに、生体組織の導電率をσとすると、
tan δ=σ/(ωε)であるから、
SAR=σE2 /ρ
と表せる。
【0019】
したがって電磁波の吸収率を如何に高めるかは、電界Eを如何に強くするかにかかっている。
【0020】
図2および図3は図1に示した同軸プローブにおいて、同軸プローブ100の先端からスリットSまでの距離h1を変化させたときの反射係数の変化をシミュレーションによって求めた結果を示している。ここで、図1における各部の条件は次のとおりである。
【0021】
〈各部の寸法〉
h1=0.8
g1=2.0
L1=72
L2=30
r1=0.24
r2=0.8
L=50
R=10
ここで単位は全て[mm]である。
【0022】
〈臓器OR〉
比誘電率=43.0(肝臓の比誘電率に等しい値)
tanδ=10×1010
導電率=1.69
とし、周波数を2.45GHzとし、FEM(有限要素法)を用いてシミュレーションした。
【0023】
図2の(A)は誘電体2として、比誘電率が2.1のポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を用いた場合、(B)は誘電体2として、比誘電率が9.7のアルミナを用いた場合である。また、図3の(A)は誘電体2として比誘電率35のセラミックスを用いた場合、(B)は比誘電率60のセラミックスを用いた場合である。
【0024】
同軸プローブの誘電体部分にポリテトラフルオロエチレンを用いた場合、同軸プローブの同軸ケーブル部分の管内波長は2.45GHzで約80mmである。したがってその1/4波長は20mmであるが、図2の(A)に示したように、同軸プローブの先端からの距離h1が20mm付近で最も反射係数が大きくなっていて、h1が20mmより大きくても小さくても反射係数が小さくなる傾向にある。このことから、先端からの距離h1が管内波長で1/4波長に相当する位置にスリットSを設けても、すなわち電流がほぼ0となる位置にスリットSを設けても電磁波の放射にほとんど寄与せず反射係数はほぼ1となることが分かる。また、先端からの距離h1を変化させると、反射係数は同軸プローブに生じる定在波の位相に対応して変化するが、スリットSが存在するため、反射係数の変化は必ずしも正弦波状にはならないことが分かる。
【0025】
誘電体2としてポリテトラフルオロエチレンを用いた場合には、h1=4.6のとき、反射係数が0.23(dB表示で−12.8)となる。スリットSの位置をこのように定めることによって、従来のh1=10mmとしたときの反射係数より1/2以上に小さくでき、しかも同軸プローブのより先端付近から電磁波を放射できることになる。
【0026】
同軸プローブ100の誘電体2としてアルミナセラミックスを用いた場合には、管内波長が約40mmであるので、図2の(B)に示したように、h1の変化に対する反射係数の変化が管内波長の1/2(約20mm)の周期で変化している。これはスリットSで隔てられた外導体間の電位差によって反射係数が定まり、その電位差の正負に関係がないためである。この例では、同軸プローブの先端から0.8mmで反射係数が0.15(dB表示で−16.4)という特性が得られる。なお、そこから1周期離れた20mm付近で更に低い反射係数が得られているが、この位置は同軸プローブの先端から離れすぎているため同軸プローブの先端付近で生体組織を加熱するという目的には使えない。
【0027】
同軸プローブ100の誘電体2の比誘電率が35の誘電体セラミックスの場合には、図3の(A)に示したように、先端からの距離h1を0.6mmとしたとき、反射係数が最も低く0.138(dB表示で−17.2)の特性が得られる。
【0028】
また、同軸プローブ100の誘電体2の比誘電率が60の誘電体セラミックスの場合には、図3の(B)に示したように、先端からの距離h1を0.4mmとしたとき、反射係数が最も低く0.245(dB表示で−12.2)の特性が得られる。
【0029】
図4はアルミナセラミックスを誘電体の材料とした同軸プローブのSAR分布を示している。図11に示した従来の同軸プローブのSAR分布と比較すれば明らかなように、スリットの形成位置が先端から10mmであったものが0.8mmとなり、同軸プローブのより先端に近い位置で高いSARが得られる。
【0030】
以上の結果から分かるように、同軸プローブ100の誘電体2にアルミナセラミックスを用いることによって、反射係数が従来0.65であったものが0.15にまで改善される。また、比誘電率35の誘電体セラミックスを用いることによって、0.138にまで改善できる。しかも、最も小さな反射係数が得られるときのスリットSの位置も先端に近づく。
【0031】
なお、図3の(B)に示したように、誘電体2の比誘電率が60のとき、スリットSの位置が最も先端に近づいているが、反射係数が、比誘電率を35にした場合に比べて悪くなっている。これは、肝臓の比誘電率43.0よりも同軸プローブ100の誘電体2の比誘電率が大きくなることによって、同軸プローブからの電磁波の放射が妨げられているからである。すなわち、同軸プローブ100と生体組織との整合がとれていないからである。
【0032】
このように、誘電体2として比誘電率35の(周囲の誘電体の比誘電率43.0より低い)誘電体セラミックスを用いたときと、比誘電率9.7(周囲の誘電体の比誘電率43.0の1/5以上の値)であるアルミナセラミックスを用いたときに、先端に近い位置にスリットを設けた場合に低反射特性が得られる。したがって、同軸プローブの誘電体2の誘電率を周囲の加熱対象の誘電率より低く、且つ当該周囲の誘電率の1/5以上に定めればよい。
【0033】
次に、第2の実施形態に係る同軸プローブについて図5〜図9を参照して説明する。
第1の実施形態に係る同軸プローブでは、その外導体3の所定位置で軸回りに外導体3を取り除いた単一のスリットSを設けたが、この第2の実施形態に係る同軸プローブでは、第1のスリットS1と第2のスリットS2を形成している。
【0034】
第1の実施形態に係る同軸プローブのSAR分布の例では、同軸プローブに生じる定在波の影響で、図4に示したようにSARの高い領域A0以外に同軸プローブの根元方向に戻った位置にSARの比較的高い領域A1が生じている。この第2の実施形態に係る同軸プローブは、同軸プローブ100の外導体3を伝って根元方向に延びる部分でのSARの強度を抑えて、先端部付近にのみSARの高い領域を集中させるようにしたものである。
【0035】
図5において各部の寸法を次のとおりにしてシミュレーションを行った。
h1=0.8
g1=2.0
g2=1.5
L1=72
L2=30
r1=0.24
r2=0.8
L=50
R=10
単位は全てmmである。
【0036】
ここでは第1のスロットS1を主たる電磁波の漏れを生じさせる部分とし、第2のスリットS2は不要な電磁波の放射を抑制するために設ける。そのため、第2のスリットS2のスリット幅g2を第1のスリットS1のスリット幅g1より小さく定めている。
【0037】
図6〜図9は図5に示した第1のスリットS1と第2のスリットS2との間の寸法h2を変化させたときの反射係数とSARの分布について示している。ここで横軸は同軸プローブの先端位置を0とするプローブの位置(単位mm)、縦軸は半径方向の距離(単位mm)であり、SARを濃度で表している。
【0038】
同軸プローブ100の誘電体2にアルミナを用いた場合の周波数2.45GHzにおける管内波長は約40mmである。このときにスリットS2に生じる電界の位相を180ずらすためには、第1のスリットS1の中心から第2のスリットS2の中心までの距離を管内波長の1/4付近に設定すればよい。したがって計算上では第1・第2のスリットS1−S2間の中心間隔を10mm程度に設定すればよいと考えられる。図6〜図9に示した例では、h2=5.7mm(中心間距離7.45mm)とした場合に最も反射係数が小さく良好な特性を示している。これは、生体組織の比誘電率を43.0に設定しているため、波長短縮効果が生じ、位相を180°にずらすために必要な第1・第2のスリットS1−S2間の距離が短縮化されたためであろう。したがって、上記中心間距離を、管内波長の1/4以下で且つ同軸プローブ周囲の誘電率で換算した電磁波の伝搬波長の1/4以上に設定すればよい。
【0039】
以上のようにして同軸プローブに2つのスリットを設け、それぞれの位置を定めることによって、同軸プローブの外導体表面に発生する(先端部以外の根元方向に延びる)定在波を抑えることができ、患部以外の生体組織への不要な加熱を抑えることができる。
【0040】
【発明の効果】
この発明によれば、内導体と外導体との間に誘電体が介在し、先端で外導体と内導体とを電気的に接続するとともに、外導体の一部にスリットを設けた同軸プローブにおいて、先端に対するスリットの位置を、先端位置からの距離変化に対する反射係数の特性で略減衰極となる位置に定めたことにより、電磁波の放射効率が高まる。
【0041】
また、この発明によれば、誘電体の誘電率を周囲の誘電率より低く且つ当該周囲の誘電率の1/5以上に定めたことによって反射係数が低減されるとともにスリットの形成位置がより先端に近づき、より低侵入での治療が可能となる。
【0042】
また、この発明によれば、前記誘電体をアルミナセラミックスとしたことにより、生体組織との界面での反射損失を低減でき、さらに誘電体損失も小さいため高い電磁波放射効率が得られる。また、高い機械的強度が得られるとともに、生体に対して生化学的に無害とすることができる。
【0043】
また、この発明によれば、前記スリットを第1のスリットとし、前記同軸プローブの先端から第1のスリットまでの距離より遠い位置に第2のスリットを設け、第1のスリットの中心から第2のスリットの中心までの距離が前記同軸ケーブルの管内波長の1/4以下で且つ第1・第2のスリット周囲の誘電率で換算した電磁波伝搬波長の1/4以上としたことにより、同軸プローブの根元部分での電磁波の放射が抑えられ、先端部付近でのみ効率良く電磁波を放射できるようになる。また、電磁波放射対象である生体組織内部で同軸プローブの外導体表面に発生する定在波を抑えて、患部以外の生体組織への加熱が抑えられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係る同軸プローブの構造を示す図
【図2】同同軸プローブの誘電体の比誘電率を定めたときの、同軸プローブ先端からの距離に対する反射係数の変化について示す図
【図3】同同軸プローブの誘電体の比誘電率を定めたときの、同軸プローブ先端からの距離に対する反射係数の変化について示す図
【図4】同同軸プローブのSAR分布を示す図
【図5】第2の実施形態に係る同軸プローブの構成を示す図
【図6】同同軸プローブの第1・第2のスリット間の間隔を変化させたときのSAR分布を示す図
【図7】同同軸プローブの第1・第2のスリット間の間隔を変化させたときのSAR分布を示す図
【図8】同同軸プローブの第1・第2のスリット間の間隔を変化させたときのSAR分布を示す図
【図9】同同軸プローブの第1・第2のスリット間の間隔を変化させたときのSAR分布を示す図
【図10】従来の同軸プローブの構成を示す図
【図11】同同軸プローブのSAR分布を示す図
【符号の説明】
1−内導体
2−誘電体
3−外導体
S−スリット
OR−臓器
100−同軸プローブ
Claims (3)
- 内導体と外導体との間に誘電体が介在し、先端で外導体と内導体とを電気的に接続するとともに、外導体の一部にスリットを設けた同軸プローブにおいて、
前記先端に対する前記スリットの位置を、前記先端位置からλ/4となる位置(前記λは、前記スリットの周囲を生体組織で覆っている状態での、前記生体組織内の電磁波の波長)に定め、
前記誘電体の誘電率を前記生体組織の誘電率の1/5以上35/43以下に定めたことを特徴とする同軸プローブ。 - 前記誘電体をアルミナセラミックスとした請求項1に記載の同軸プローブ。
- 前記スリットを第1のスリットとし、前記同軸プローブの先端から第1のスリットまでの距離より遠い位置に第2のスリットを設け、第1のスリットの中心から第2のスリットの中心までの距離が前記同軸ケーブルの管内波長の1/4以下であり、且つ第1・第2のスリット周囲の誘電率で換算した前記電磁波の伝搬波長の1/4以上である請求項1または2に記載の同軸プローブ。
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