JP4433669B2 - Electrodeposition type display device - Google Patents

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JP4433669B2
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気化学型表示装置の1つである金属イオンの電析(エレクトロデポジション)によって表示を行うエレクトロデポジション型表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ネットワークの普及につれ、従来印刷物の形状で配布されていた文書類が、いわゆる電子書類で配信されるようになってきており、さらに書籍や雑誌などもいわゆる電子出版の形で提供される場合が多くなりつつある。
【0003】
これらの情報を閲覧するために、従来行われているのは、コンピュータのCRTまたは液晶ディスプレイから読むことである。しかし発光型のディスプレイでは、人間工学的理由から疲労が著しく、長時間の読書には耐えられないことが指摘されている。また読む場所がコンピュータの設置場所に限られるという難点がある。
【0004】
最近ノート型コンピュータの普及で携帯型のディスプレイとして使えるものもあるが、発光型であることに加えて消費電力の関係で、これも数時間以上の読書に用いることはできない。近年、反射型液晶ディスプレイも開発され、このような反射型液晶ディスプレイを用いれば低消費電力で駆動することができるが、液晶の無表示(白色表示)における反射率はおよそ30%であり、これでは紙への印刷物に比べ著しく視認性が悪く、疲労が生じやすく、これも長時間の読書に耐えるものではない。
【0005】
これらの問題点を解決するために、最近、いわゆるペ一パーライクディスプレイ、あるいは電子ぺ一パーと呼ばれるものが開発されつつある。これらは主に電気泳動法により着色粒子を電極間で移動させるか、二色性を有する粒子を電場で回転させることにより、着色させている。しかしこれらの方法では、粒子間の隙間が光を吸収し、その結果としてコントラストが悪くなり、また駆動する電圧を100V以上にしなければ実用上の書き込み速度(1秒以内)が得られないという難点がある。
【0006】
電気化学的な作用に基づき発色を行う電気化学表示装置(ECD: Electrochromic Display)では、コントラストの高さという点では上記電気泳動方式などに比べて優れており、すでに調光ガラスや時計用ディスプレイに実用化されている。ところが、調光ガラスや時計用ディスプレイではそもそもマトリクス駆動の必要性が無いことから、電子ペ一パーのようなディスプレイ用途には適用できず、また一般的に黒色の品位が悪く、現状では反射率が低い表示装置への応用にとどまっている。
【0007】
また、電子ぺ一パーのようなディスプレイにおいては、その用途上、太陽光や室内光などの光に晒され続けることになるが、調光ガラスや時計用ディスプレイに実用化されているような電気化学表示装置では黒色の部分を形成するために、所要の有機材料が使用される。ところが、一般的に、有機材料は耐光性に乏しく、長時間使用した場合では槌色して黒色濃度が低下すると言う問題点が生ずる。また、表示装置としてマトリクス駆動のものも知られる(例えば、特許文献1参照。)が、駆動素子は液晶表示装置の一部を構成するに過ぎない。
【0008】
このような技術的な課題を解決するものとして、電気化学的な酸化と還元で色の変化を行う材料として金属イオンを用い、これを溶解するものとして白く着色した高分子固体電解質を用い、マトリクス駆動が可能であって、コントラスト及び黒色濃度を高くすることができる電気化学表示素子及び電気化学表示装置の提案がなされている。また、対向電極間にゲル状の電解質膜を形成し、ビスマス系の金属イオンの電析により書き込みや消去を行う装置(例えば、非特許文献1参照。)も知られている。
【0009】
【特許文献1】
特公平4-73764号公報
【0010】
【非特許文献1】
ビー・ワーザワスキー(B. Warszawski)著、Matrix Addressing and Driving in a New Electrochemical Display Technology, Polyvision France, Paris, France, SID 93 DIGEST 993頁
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
このような構成の電気化学表示素子においては、第一の透明電極と第二の電極の間に通電することで、これら第一の透明電極と第二の電極の間に存在する高分子固体電解質層に当該高分子固体電解質層が含有する金属イオンによる電気化学的な析出が発生し、色の変色が生ずる。この高分子固体電解質層は着色剤を含有することから、色の変化が生じた場合のコントラストを高くすることができ、また、駆動素子によってマトリクス駆動も可能である。
【0012】
しかし従来の電気化学反応を利用したこのデバイスの場合、電圧を印加してから着色するまでに数百ms以上を要していた。このことは、このデバイスを電子ペーパーのようなディスプレイ用途に適用する場合には大きな問題となっていた。これは自由に画像を表現するためには画素電極を形成してマトリクス駆動をする必要があるが、その駆動の際に線順次走査をすると、画素の着色時間と走査線の本数の積の分だけの時間がかかるためである。例えばSVGAの画面であれば数分を要することになってしまう。
【0013】
電子ペーパーとして使用する場合は、動画再生ほどの応答速度は必ずしも必要ではないものの、実用面を考慮すれば、全画面での書き込み速度を1秒以内程度の設定する必要があり、そのためには書き込みや消去に要する時間を例えば100ms以下程度に短くする必要がある。
【0014】
そこで、本発明は、上述の技術的な課題に鑑み、書き込みや消去に要する時間を短時間に出来る構造のエレクトロデポジション型表示装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するため、本発明のエレクトロデポジション型表示装置は、電解質層の裏面側に配設されている略平板状の基板と、基板に設けられている複数の帯状の背面電極と、背面電極を覆って配設され、通過する電流により金属イオンを析出する高分子電解質層と、高分子電解質層を挟んで背面電極に対向し、背面電極と直交する方向に設けられている帯状の透明電極と、透明電極上に設けられている透明基材と、透明電極を被覆する透明な絶縁膜と、絶縁膜において、透明電極と高分子電解質層とが直接接続する開口部が画素内に形成され、開口部の面積が100μm 以上5mm 以下である。
【0016】
対向する一対の電極間に前記金属イオンを含有する電解質膜を挟持させ、この一対の電極間に電流を流すことで電極部に金属イオンを電析させたり、溶解させたりすることができる。発明者らが行った実験によれば、このような対向する電極のサイズが電気化学反応の速度に強く依存していることが見出され、その電極面積を約5mm以下にすれば着色時間を実用的に有用とされる100ms以下にできると言うデータが得られている。これは、印加電圧に応じるような液晶デバイスとは異なり、電気化学デバイスでは電極界面で電荷の授受が必要であり、電源側からの電流注入効率を考えると、応答速度は集電体領域面積に対する画素面積の割合に大きく依存する。すなわち、ビデオ信号並の応答速度が望めない場合でも金属イオンの析出に数分もかかるようでは実用性が失われるとの面から、着色時間として100ms以下とする基準を設け、これを満たす最大電極面積は5mmであることから、電極面積は5mm以下としている。また、下限については、10μm角程度の大きさでは視覚によって認識するのが困難であることから、人間の視認能力の面から100μm以上としている。
【0017】
また、上記構造を有するエレクトロデポジション型表示装置より構成されるが、特に前記対向する電極のうち少なくとも一方の電極を透明電極によって構成し、その透明電極の画素内サイズを100μm以上5mm以下の面積にするように設定しても良い。電極を透明材料により構成する場合では、電極パターンを絶縁膜で被覆する構造に形成することができ、その絶縁膜に形成された開口部のサイズが電析用に機能する電極面積とされる。このような電極構造においても、応答速度は集電体領域面積に対する画素面積の割合に大きく依存し、実用性の面から上限面積は5mm以下とされ、視認性の面から下限面積は100μm以上とされる。
【0018】
また、本発明のエレクトロデポジション型表示装置は、金属イオンの電析及び溶解によってコントラストを生じさせて駆動させ、複数配列される画素は、前記金属イオンを含有する電解質膜を対向する一対の電極間に挟持させた構造を有し、100μm以上5mm以下の面積に画素内サイズが設定される前記電極の一方を用いて駆動させる。
【0019】
上記駆動により、電極面積が100μm以上5mm以下に設定されることから、集電体領域面積に対する画素面積の割合に依存する応答速度は、実用性及び視認性の面からの各条件を満たすことになる。このため応答性良く、画像を表示させることが実現される。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態の電気化学表示装置について説明する。
【0021】
先ず、図1を参照しながら、本実施形態の電気化学表示装置の構造について説明する。本実施形態の電気化学表示装置は、行方向と列方向にそれぞれ延長される平行な行電極、列電極の間に電解質層を挟み、行電極と列電極の間に電圧を印加させて電解質層から金属イオンを析出させて表示を行うパッシブマトリクス駆動型であって且つエレクトロデポジション(電析)型の表示装置とされる。
【0022】
このパッシブマトリクス駆動型の電気化学表示装置は、電解質層の裏面側に配設される略平板状の基板11と、該基板状の例えば行方向にそれぞれ延長される複数の帯状の背面電極12と、これら背面電極12を覆って配設される高分子電解質層13と、その高分子電解質層13を挟んで前記背面電極12に対向し該背面電極12とは直交する列方向にそれぞれ延長される複数の帯状の透明電極14と、該複数の帯状の透明電極14上に設けられている透明基材15とを主な構成要素としており、図1では省略されているが、各帯状の透明電極14は透明な絶縁膜によって被覆され、その画素対応部分において比較的小さなサイズで透明電極14を高分子電解質層13に直接接続させる開口部が形成されている。このようなサイズの小さな開口部を介して金属イオンを電析させることで効率の良い析出が行われ、後述するように短い時間での書き込みが実現されることになる。
【0023】
略平板状の基板11は、電極12、14及び高分子電解質層13の支持体として機能する板材であり、必ずしも透明である必要はなく、電極12、14及び高分子電解質層13を確実に保持できる基板やフィルム、シートなどを用いることができる。基板11について、例示すると、石英ガラス板、白板ガラス板などのガラス基板、セラミック基板、紙基板、木材基板を用いることが可能であるが、これに限定されず、合成樹脂基板として、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどのセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキサフルオロプロピレンなどのフッ素ポリマー、ポリオキシメチレンなどのポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマーなどのポリオレフィン、及びポリイミドーアミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂を支持体として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板状にすることも可能であるが、可とう性を持ったフィルム状の構造体とすることも可能である。
【0024】
このような基板11上には、複数の背面電極12が平行に延長されて形成される。背面電極12は例えば行方向にそれぞれ延長される帯状のパターンを有しており、このような電極材料としては、電気化学的に安定な金属であれば何でもよいが、好ましいのは銀、白金、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウムなどであり、基板11上に金属膜などの良導体からなる膜を成膜することで作成できる。また、電極を複合材料によって構成される構造としても良く、一例としては、銅などの電極材に銀を被着した構造の電極を用いても良い。この背面電極12は、更に主反応に用いる金属を予め或いは随時十分に補うことができれば、カーボンを電極として使用可能である。そのためのカーボンを電極上に担持させる方法として、樹脂を用いてインク化し、基板面に印刷する方法があり、カーボンを使用することで電極の低価格化も可能である。なお、これら背面電極12の端部には、信号を供給するための図示しない信号線がそれぞれ接続され、それらの信号線には背面電極12用の駆動回路が接続される。
【0025】
高分子電解質層13は、対向する電極12、14に挟まれて配設され、当該高分子電解質層13を通過する電流に応じて金属イオンを析出させ、その析出した金属イオンが着色材として機能する層である。この高分子電解質層13は、母材用の高分子材料、金属塩、可塑剤などを含む構成を有し、また、この高分子電解質層13には、背景色を呈するための白色顔料等が含まれる。
【0026】
高分子電解質層13を構成する高分子固体電解質に用いる母材用高分子材料としては、骨格ユニットがそれぞれ-(C-C-O)n-、-(C-C-N)n-、若しくは-(C-C-S)n-であらわされるポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリエチレンスルフィドが挙げられる。これらを主鎖構造として、枝分を有する構成であってもよい。また、ポリメチルメタクリレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリビニリデンクロライト、ポリカーボネートなども好ましい。
【0027】
高分子電解質層13を形成する際には、前記母材用高分子に所要の可塑剤を加えるのが好ましい。好ましい可塑剤としては、マトリックスポリマーが親水性の場合には、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコールおよびこれらの混合物等が好ましく、疎水性の場合にはプロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、γ一ブチロラクトン、アセトニトリル、スルフォラン、ジメトキシエタン、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジメチルアセトアミド、n-メチルピロリドンおよびこれらの混合物が好ましい。
【0028】
高分子電解質層13は前記母材用高分子に電解質を溶解せしめて形成されるが、その電解質としては、硝酸銀、ホウフッ化銀、ハロゲン化銀、過塩素酸銀、シアン化銀、チオシアン化銀、から選ばれた少なくとも1種類の銀塩の他、四級アンモニウムハライド(F, Cl, Br, I)とアルカリ金属ハライド(LiCl, LiBr, LiI, NaCl, NaBr, NaI等)、シアン化アルカリ金属塩、チオシアン化アルカリ金属塩から選ばれた少なくとも1種類の支持電解質を含有したものを電解質として溶解せしめる。
【0029】
高分子電解質層13にはコントラストを向上させるために着色剤が含有される。着色が黒色の場合には、背景色としては白色の隠蔽性の高い材料が導入される。このような材料として、例えば、着色用の白色粒子が用いられ、着色用の白色粒子としては二酸化チタン、炭酸カルシウム、シリカ、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムを使用することができる。
【0030】
この着色剤を混ぜる割合としては、無機粒子による場合、約1-20wt%が好ましく、より好ましくは約1-10wt%であり、さらに好ましくは約5-10wt%である。これは酸化チタンなどの無機の白色粒子は、高分子への溶解性はなく分散するだけであって、混合する割合が増えると、無機粒子が凝集する結果、光学濃度が不均一になってしまう。また、無機粒子にはイオン導電性がないため、混合割合の増加は高分子固体電解質の導電性の低下を招く。両者を考慮すると、混合割合の上限はおよそ20wt%である。
【0031】
無機粒子を着色剤として混ぜる場合、高分子電解質層13の膜厚は、10μm-200μmであることが好ましく、より好ましくは10μm-100μmであり、さらに好ましくは10μm-50μmである。薄い方が電極間の抵抗が小さくなるので発色・消色時間の低減や消費電力の低下につながり好ましい。しかし、10μm以下になると、機械的強度が低下して、ピンホールや亀裂が生じて好ましくない。また、あまり薄い場合には白色粒子の混合量が少なくなるため、白色性(光学濃度)が十分でなくなることになる。
【0032】
着色剤を混ぜる割合としては、色素による場合では、10wt%でも良い。これは色素の発色効率は無機粒子に比べてはるかに高いためである。従って、電気化学的に安定した色素であれば、少ない量でもコントラストを出すことができる。通常は、色素として油溶性染料が好ましい。
【0033】
このような高分子電解質層13を挟んで前記背面電極12と対向する側に配列される透明電極14は、例えば前記背面電極12と略垂直な方向即ち列方向にそれぞれ延長される帯状のパターンを有している。透明電極14は透明導電性膜からなり、In23とSnO2の混合物、いわゆるITO膜やSnO2またはIn3をコーティングした膜を用いることが好ましい。これらITO膜やSnO2またはIn3をコーティングした膜にSnやSbをドーピングしたものでも良く、MgOやZnOなどを用いることも可能である。なお、これら透明電極14の端部には、信号を供給するための図示しない信号線がそれぞれ接続され、それらの信号線には透明電極14用の駆動回路が接続される。
【0034】
透明電極14上には、透明基材15が取付けられる。透明基材15としては、石英ガラス板、白板ガラス板などの透明ガラス基板を用いることが可能であるが、これらに限定されず、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどのセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキサフルオロプロピレンなどのフッ素ポリマー、ポリオキシメチレンなどのポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマーなどのポリオレフィン、及びポリイミド−アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂により透明基材15として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板状にすることも可能であるが、可とう性を持ったフィルム状の構造体とすることも可能である。
【0035】
次に図2、図3を参照しながら、このような構造を有する本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の基本的な動作について説明する。本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置では、高分子電解質層13に溶解している銀イオンなどの金属イオンが透明電極14をマイナス側に制御することで析出する傾向にあり、特に図3のサイクリックボルタモノグラムに示されるように、約−0.7V程度の析出過電位を越えるような電位を与えることで、銀イオンなどの金属イオンが還元され、還元された金属イオンが透明電極14上に析出する。
【0036】
従って、析出を行う場合には、一旦析出過電位以下のマイナス電位を透明電極14に付与して析出を促す。続いて図3の(a)のサイクリックボルタモノグラムの−0.5V程度の析出電位を維持することで、金属イオンの電析を促進させることができる。図2では電析によって黒くなった部分の画素を"B"で示しており、金属イオンの還元が無かった画素については"W"の白色のままとされる。この白色の部分は、光の反射率が高く例えば70%以上に維持されることになる。黒色の部分の反射率は例えば2.7%以下にされる。
【0037】
一方、消去させる場合には、透明電極14に対して逆方向の電位を与えて析出させた金属を溶解させる。この金属の析出によって黒色が徐々消えて行くことになり、高分子電解質層13の白色が現れてくることになる。透明電極14に対する電位をプラス、マイナスの間で切り替えることで、黒色、白色の間の表示色の切替が可能である。この電位の切替制御は、例えば、図2におけるスイッチ18を電池16側や電池16とは逆電位関係となる電位17側に切り替えて制御することで行なうことができる。図3の(b)は電荷密度と光学濃度の関係を示した図であり、一般的に電荷密度が高い方が光学濃度を高くできる傾向にある。
【0038】
図4は透明電極部分の斜視図である。透明基材15上に帯状のパターンで複数の透明電極14が形成され、それぞれの透明電極14を被覆するように絶縁膜19が形成されている。この絶縁膜19には、前記透明電極14上で小さなサイズの開口部20が設けられており、この開口部20の開口サイズは、その透明電極の画素内サイズとして機能することになり、本実施形態においては、その面積は100μm以上5mm以下に設定される。このような小さな開口部20を設けることにより、透明電極14は内部の高分子電解質層13に開口部20の小さな面積を以って接触する。従って、高分子電解質層13の開口部20内の部分では、透明電極14が集電体として機能しながら小さなサイズの開口部20での電流集中が生じ、短い時間での書き込みが実現されることになる。なお、本実施形態では、画素の電極サイズを100μm以上5mm以下としているが、好ましくは400μm以上4mm以下とすることも可能である。また、高分子電解質層の膜厚としては、例えば10μm乃至200μmとすることができ、好ましくは10μm乃至100μmとすることができ、より好ましくは10μm乃至50μmの範囲とすることができる。
【0039】
次に、図5乃至図9を参照して、表示装置の実施例として作成したセグメント表示セル構造について説明する。セグメント表示セルには、それぞれ円形又は正方形の異なるサイズの開口部が形成され、光学濃度の変化によってどのようなサイズの開口部が好適であるかを調べている。
【0040】
先ず、図5を参照しながら、作製したセグメント表示セルの構造について説明する。背面電極21上にスペーサー22の間に保持される高分子電解質層23が形成され、その高分子電解質層23の上にそれぞれが絶縁膜26に被覆された透明電極24が複数個形成され、その透明電極24上に透明基材25が形成された構造を有する。このような構造のセグメント表示セルは、具体的には次のような手順で作製されたものである。
【0041】
先ず、表示極である透明電極24については、40mm角若しくは30mm角、厚さ0.8mmのガラス基板を透明基材25として用い、その透明基材25上に、以下の手順で短冊状の透明電極24および絶縁膜26を形成した。まず、スパッタ法により、膜厚500nmでシート抵抗値が12Ω/□であるITO膜をガラス基板上に成膜した。つぎに、ITO膜上にフォトレジストを塗布し、リソグラフィー法によりフォトレジストを短冊状に形成した。ついでこのガラス基板をITOエッチング液に浸食させて、フォトレジストで覆われていない部分のITO膜を除去して透明電極24を形成した。その後、フォトレジストはアセトン等の有機溶剤で除去し、この短冊状になったITO膜からなる透明電極24の上に、TEOS(ケイ酸エチルSi(OC2H5)4:Tetra-Ethoxyortho-Silicate)とOを使用したプラズマCVD法により、絶縁膜26として用いられるSiOを200nm成膜した。次に、SiO膜上にフォトレジストを塗布し、リソグラフィー法によりフォトレジストを所望の形状に形成し、フッ化アンモニウムやフッ酸等から成る混合液にこの基板を浸食させて、フォトレジストで覆われていない部分のSiO膜を除去した。その後、フォトレジストはアセトン等の有機溶剤で除去した。ここで所望の形状は、図5、図6に示すような円形の開口部の径を変える形で複数形成したものや、図7に示すような正方形の開口部の径を変える形で複数形成したものなどの形状とされる。これらの形状については後述する。
【0042】
対向極である背面電極21は、以下の手順により作製した。先ず、ポリカーボネートあるいはPET(ポリエチレンテレフタレート)又は回路基板に使われるガラスエポキシ樹脂などのエポキシ系の樹脂に、まず銅電極を全面に形成した。続いて形成された電極に電界をかけて、銀(あるいは所望の金属)を溶解した溶液中に浸し、電界メッキ法により銀を電極に析出させ、背面電極21を作製した。銅の電極は例えば15μm程度であり、銀の電極は例えば15μm程度であって双方を合わせて30μm程度の電極厚さとなった。電界をかけずに銀あるいは金属を析出する無電界法もあるが、電界メッキ法の方が析出する金属の厚さが厚くなるので望ましい。
【0043】
このような背面電極21を形成した後、高分子電解質層23を形成するため、分子量約35万のポリビニルアルコール1重量部と、水とイソプロピルアルコールの1:1混合溶媒10重両部、臭化リチウム1.7重量部、ヨウ化銀1.7重量部を混合し、120℃に過熱して均一溶液を調製した.ついでこれに平均粒径0.5μmの酸化アルミニウム0.2重量部を添加し、ホモジナイザーでこれを均一に分散せしめた。
【0044】
ホモジナイザーで均一に分散された溶液を上記基材25の絶縁膜26上にドクターブレードにより厚さ100μmで塗布したのち、対向極側の背面電極21を直ちに張り合わせ、これを110℃,0.1Mpaで1時間減圧乾燥し、ゲル化した高分子電解質層23を二つの電極間に形成した。次いで貼り合わせの端面をスペーサー22及び接着剤によって封止した。
【0045】
図5の(b)と図6は円形の開口部の径を変える形で開口部を複数形成した例であり、ここで開口部の各サイズについて説明すると、最も大きな開口部31aのサイズは直径7.0mmであり、次に大きな開口部31bのサイズは直径2.0mmであり、その次に大きな開口部31cのサイズは直径1.0mmであり、最も小さな開口部31dのサイズは直径0.5mmである。また、図6に示す各寸法については、透明電極幅Rが約9mmであり、表示セル端部から開口部の位置までのサイズRが約14mm、RとRは基板サイズであってそれぞれ約40mmである。
【0046】
同様に、図7は電極46を被覆する絶縁膜47に正方形の開口部の径を変える形で複数の開口部を形成した例を示しており、表示部側や背面電極側の構造、高分子電解質層の構造については、先に説明した図5の構造のセグメント表示セルと同様の構造を有する。ここで開口部の各サイズについて説明すると、最も大きな開口部33aのサイズは3.0mm角であり、次に大きな開口部33bのサイズは2.0mm角であり、その次に大きな開口部33cのサイズは1.0mm角であり、最も小さな開口部33dのサイズは0.5mm角である。また、図7に示す各寸法については、透明電極幅Lが約6mmであり、表示セル端部から開口部の位置までのサイズLが約12mm、Lは基板サイズであって約30mmである。
【0047】
このような図6の円形の開口部と図7の正方形の開口部を有するセグメント表示セルを用いて、その駆動と駆動と表示特性の評価を行なった。まず、所望の表示側電極を選択し,発色時には表示極を銀など金属からなる背面電極とする第二電極に対して、−2Vの電圧を必要濃度に達するまでの時間印加し、表示極側で還元反応を起こし、消色時には+2.4の電圧を還元反応時の1.0〜1.2倍の時間をかけて酸化反応させることにより、着色表示と無色〔白色〕表示とを切り替えた。
【0048】
図6に示したセグメント表示セルの構造において、無色(白色)時の反射率は〜63%(OD〜0.2)であり、発色する際の着色挙動(着色速度)について図8に示す。図8の縦軸は、光学濃度であり、より高い数値の場合に黒色が濃いことを示す。図8のグラフの横軸は対数表示の時間を示す。図8のグラフからも明らかなように、円形開口部の直径φが0.5mmから2.0mmの範囲では、発色する際の着色挙動は急峻な立ち上がりを示し、開口部31b、31c、31dではその着色が素早く行なわれることが分かる。一方、円形開口部の直径φが7.0mmと大きな開口部31aでは、着色が遅くなり、ODが0.5の値に対しても0.1秒以上の時間がかかっている。即ち、開口部が大きい場合には、着色の反応速度が遅くなることが示されており、開口部のサイズを4〜5mm以下の面積とすることで開口部での電界集中が良好であることが示されたことになる。
【0049】
図9は図6に示した円形の開口部と図7に示した正方形の開口部のそれぞれ応答時間を示したグラフであり、縦軸が応答時間(秒)であり、横軸は面積(mm)である。図9において、▲1▼は直径0.5mmの円形開口部31d、▲2▼は直径1.0mmの円形開口部31c、▲3▼は直径2.0mmの円形開口部31b、▲4▼は直径7.0mmの円形開口部31aである。また、▲5▼は0.5mm角の正方形開口部33d、▲6▼は1.0mm角の正方形開口部33c、▲7▼は2.0mm角の正方形開口部33b、▲8▼は3.0mm角の正方形開口部33aを示す。
【0050】
この図9からも明らかなように、表示部が円形でも正方形でも、小さいサイズの開口部の方が応答時間が短い傾向にあり、OD=1.0に到達するまでの時間が短くなっている。また、▲4▼の直径7.0mmの円形開口部31aや▲8▼の3.0mm角の正方形開口部33aでは面積が大きくなり過ぎて必要な応答速度にならない。即ち、表示面積が〜5mm以下であれば、0.1sec以下の応答時間であることが外挿され、実用的な側面から、応答速度0.1秒程度までとする場合では、直径2.0mm以下の円形開口部や2.0mm角以下の正方形開口部が選択されることになる。なお、図8、図9の各例においては、いずれも表示部の中心部に検出器の焦点を合わせて測定を行なっている。
【0051】
他の実施形態のエレクトロデポジション型の表示装置として、図10、図11に示すように、第三の電極として、透明電極54および背面電極52とは独立した電位検知電極56を形成してもよい。これら電位検知電極56は、一般的には参照極と呼ばれるものであり、透明基材55上の透明電極54または高分子電解質層53を挟んで対向する基板51上の背面電極52と同一の面内に、これらの電極54、52とは電気的に絶縁された部材として配設されてなり、透明基材55上の透明電極54または基板51上の背面電極52の電位を検知するのに用いられる。
【0052】
参照用電極である電位検知電極56は、透明電極54または背面電極52と同じ面に設置することができる。反応の過程における電位を正確に検知するためには透明電極54側に形成のが好ましいが、そうすると開口率が低下するのでこの点では好ましくない。電極材料は銀が好ましく、これをストライプ電極間に、電極に平行に1本から複数本設置し、かつ電極に直角に1本から複数本設置して、直行した交点では結線するようにする。なお、ストライプ状の電極52、54と直角方向にある電位検知電極56が、ストライプ状の電極52、54を跨ぐ部分については、ストライプ状の電極52、54の表面を絶縁膜でコーティングしておく必要がある。
【0053】
また、図12、図13を参照しながら更に他の実施例としてのパッシブマトリクス型表示装置について説明する。図5の表示装置と同様に、先ず、表示極である透明電極側の構造については、10cm×10cm、厚さ0.2mmのポリカーボネート基板上に、以下の手順でストライプ状透明電極73および絶縁膜を形成した。具体的には、透明電極73のストライプ幅Pは150μmであり、透明電極73のピッチPは170μmピッチとし、開口部74(絶縁膜におおわれていない部分)の大きさPは140μm角とし、先ずスパッタ法により膜厚500nmでシート抵抗値が12Ω/□であるITO膜をポリカーボネート基板上に成膜し、次いでITO膜上にフォトレジストを塗布し、リソグラフィー法によりフォトレジストを所望のストライプ形状に形成した。ついでこのポリカーボネート基板をITOエッチング液に浸食させて、フォトレジストで覆われていない部分のITO膜を除去した。その後、フォトレジストはアセトン等の有機溶剤で除去した。つぎに、このストライプ状になったITO膜の上にTEOS(ケイ酸エチルSi(OC):Tetra-Ethoxyortho-Silicate)とOを使用したプラズマCVD法により、SiOを200nm成膜した。
【0054】
次に、SiO膜上にフォトレジストを塗布し、リソグラフィー法によりフォトレジストを所望の形状に形成し、フッ化アンモニウムやフッ酸等から成る混合液にこの基板を浸食させて、フォトレジストで覆われていない部分のSiO膜を除去した。その後、フォトレジストはアセトン等の有機溶剤で除去した。
【0055】
これに対向して配置される対向極である背面電極71は、以下の手順により作製した。ポリカーボネート、PETまたは、回路基板に使われるガラスエポキシ樹脂などのエポキシ系の樹脂からなる基板72上に、まず銅電極をストライプ状に形成した。ストライプ状の銅電極の形成方法は、まず、銅を全面にスパッタ法などにより成膜する。つづいて、全面の銅電極にフォトレジストを塗布し、ストライプ状に形成されたメタルマスクあるいは、紫外線を遮断するマスクで覆い、紫外線を照射する。リソグラフィー法によりマスクされた部分のフォトレジストおよび電極をウェットエッチング法もしくはドライエッチング法によりストライプ状の各電極71の間が絶縁となるように除去する。続いて形成されたストライプ状の電極71に電界をかけて,銀あるいは,所望の金属の溶解した溶液中に浸し,電界メッキ法により銀あるいは金属を電極71に析出させ、ストライプ状の背面電極71を作製する。
【0056】
銅の電極部は15μm程度、銀の電極部は15μm程度で双方を合わせ30μm程度の電極厚さとなる。電界をかけずに、銀あるいは金属を析出する無電界法もあるが、電界メッキ法の方が、析出する金属の厚さが厚くなるので望ましい。基板72は、表示させる画素の間隔をなるべく狭くすることが望ましい。画素の間隙は、固体電解質により覆われているが、固体電解質が透けて見えることも想定し、なるべく白色の基板72を用いることが望ましい。
【0057】
表示極の製作と高分子固体電解質の調製および塗布については、分子量約35万のポリビニルアルコール1重量部と、水とイソプロピルアルコールの1:1混合溶媒10重量部、臭化リチウム1.7重量部、ヨウ化銀1.7重量部を混合し、120℃に過熱して、均一溶液を調製した。ついでこれに平均粒径0.5μmの二酸化チタン0.2重量部を添加し、ホモジナイザーでこれを均一に分散せしめた。
【0058】
これを上記基板の上にドクターブレードにより厚さ60μmで塗布したのち、第2の電極を直ちに張り合わせ、これを110℃、0.1Mpaで1時間減圧乾燥し、ゲル化した高分子固体電解質を二つの電極間に形成した。次いで貼り合わせの端面を接着剤によって封止して、図12の如き構成を得た。
【0059】
次に、本実施例についてのパッシブマトリクス型表示装置についての駆動と表示特性の評価を行なった。所望のストライブ状電極73、71の組を公知の方法で選択し、発色時には表示極に一画素あたり5μCの電気量を0.1秒間で流し、表示極側で還元反応を起こし、消色時には同一電気量で酸化することにより、着色表示と無色〔白色〕表示とを切り替えた。
【0060】
無色(白色)時の反射率は70%であり、発色(黒色)時の表示部の光学濃度(OD)は約1.4(反射率4%)であった。また、図13に示すように選択していない画素が発色、あるいは消色することはなかった。なお、OD=1に到達するまでの時間は〜30ms程度となった。発色状態に置いた後、回路を開放して放置したところ、1週間後の表示部の光学濃度に変化はなく十分なメモリー性を有していることが判明した。発色,消色のサイクルを繰り返し行ったところ、発色時の黒色濃度が1.0以下になるまでの繰り返しサイクル回数は約800万回であった。
【0061】
なお、上述の実施形態では、画素内の電極の面積を制限する方法として絶縁膜に形成される開口部のサイズを設定する方法を説明したが、他の方法としては、画素を構成する電極自体を小さいサイズとすることも可能である。
【0062】
【発明の効果】
本発明のエレクトロデポジション型表示装置によれば、電極の画素内サイズを開口部のサイズの調整などによって100μm以上5mm以下の面積にするように設定していることから、集電体領域面積に対する画素面積の割合に依存する応答速度は、実用性及び視認性の面からの各条件を満たすことになる。このため応答性良く、画像を表示させることが実現される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態にかかるエレクトロデポジション型表示装置の一例を示す概略斜視図である。
【図2】本発明の一実施形態にかかるエレクトロデポジション型表示装置の一例の動作を説明するための概略断面図である。
【図3】本発明の一実施形態にかかるエレクトロデポジション型表示装置の一例の動作を説明するためのグラフであって、(a)はサイクリックボルタモノグラム、(b)は電荷密度に対する光学濃度のグラフである。
【図4】本発明の一実施形態にかかるエレクトロデポジション型表示装置の一例の透明電極近傍の拡大斜視断面図である。
【図5】本発明の一実施形態にかかるエレクトロデポジション型表示装置の一例としてのセグメント表示セルの構造を示す図であって、(a)は概略断面図であり、(b)は平面図である。
【図6】前記セグメント表示セルに形成した種々の円形開口部を示す平面図である。
【図7】前記セグメント表示セルに形成した種々の正方形開口部を示す平面図である。
【図8】前記円形開口部のサイズの違いによって着色速度が異なる旨を説明する着色特性図である。
【図9】前記開口部のサイズの違いによって応答速度が異なる旨を説明する応答特性図である。
【図10】本発明の他の一実施形態にかかるエレクトロデポジション型表示装置の例を示す概略斜視図である。
【図11】図10のエレクトロデポジション型表示装置の例の平面図である。
【図12】本発明のエレクトロデポジション型表示装置の一例にかかる実施例の構造を示す概略平面図である。
【図13】図12の装置を動作させた時の画素の表示状態を示す図である。
【符号の説明】
11 基板
12 背面基板
13 高分子電解質層
14 透明電極
15 透明基材
21 背面電極
22 スペーサー
23 高分子電解質層
24 透明電極
25 透明基材
31a〜31d,33a〜33d 開口部
51 基板
52 背面電極
53 高分子電解質層
54 透明電極
55 透明基材
56 電位検知電極
71 背面電極
72 基板
73 透明電極
74 開口部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to an electrodeposition type display device that performs display by electrodeposition (electrodeposition) of metal ions, which is one of electrochemical display devices.In placeRelated.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the spread of networks, documents that have been distributed in the form of printed materials are now being distributed as so-called electronic documents, and books and magazines are also provided in the form of electronic publications. Is increasing.
[0003]
In order to view this information, a conventional method is to read from a computer CRT or a liquid crystal display. However, it has been pointed out that light-emitting displays are extremely fatigued for ergonomic reasons and cannot withstand long-time reading. In addition, there is a difficulty in that the reading place is limited to the place where the computer is installed.
[0004]
Recently, some notebook computers can be used as portable displays, but they cannot be used for reading for more than a few hours due to power consumption in addition to light-emitting displays. In recent years, reflective liquid crystal displays have also been developed, and if such reflective liquid crystal displays are used, they can be driven with low power consumption. However, the reflectance when liquid crystal is not displayed (white display) is approximately 30%. However, the visibility is remarkably poor compared to the printed matter on paper, and fatigue tends to occur.
[0005]
In order to solve these problems, a so-called paper-like display or electronic paper has been developed recently. These are colored by moving the colored particles between the electrodes mainly by electrophoresis or by rotating the dichroic particles with an electric field. However, in these methods, the gap between particles absorbs light, resulting in poor contrast, and the practical writing speed (within 1 second) cannot be obtained unless the driving voltage is set to 100 V or higher. There is.
[0006]
Electrochemical display devices (ECD) that perform color development based on electrochemical action are superior to the electrophoretic methods described above in terms of high contrast. It has been put into practical use. However, since there is no need for matrix driving in the light control glass or watch display, it cannot be applied to display applications such as electronic paper, and the quality of black is generally poor. However, its application is limited to display devices with low values.
[0007]
In addition, displays such as electronic paper continue to be exposed to light such as sunlight and room light because of their use, but they are used in light control glass and watch displays. In a chemical display device, a required organic material is used to form a black portion. However, in general, organic materials have poor light resistance, and when used for a long period of time, there arises a problem that the black density is lowered due to fading. In addition, a matrix driving type is known as a display device (see, for example, Patent Document 1), but the driving element only constitutes a part of the liquid crystal display device.
[0008]
As a solution to such technical problems, a metal ion is used as a material that undergoes a color change by electrochemical oxidation and reduction, and a white solid polymer electrolyte is used as a material to dissolve the metal ion. There have been proposed an electrochemical display element and an electrochemical display device that can be driven and can increase contrast and black density. Also known is an apparatus (for example, see Non-Patent Document 1) in which a gel electrolyte membrane is formed between opposing electrodes and writing or erasing is performed by electrodeposition of bismuth-based metal ions.
[0009]
[Patent Document 1]
Japanese Examined Patent Publication No. 4-73764
[0010]
[Non-Patent Document 1]
B. Warszawski, Matrix Addressing and Driving in a New Electrochemical Display Technology, Polyvision France, Paris, France, SID 93 DIGEST 993
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
In the electrochemical display element having such a configuration, a polymer solid electrolyte existing between the first transparent electrode and the second electrode is energized between the first transparent electrode and the second electrode. Electrodeposition due to metal ions contained in the polymer solid electrolyte layer occurs in the layer, resulting in a color change. Since this solid polymer electrolyte layer contains a colorant, it is possible to increase the contrast when a color change occurs, and it is also possible to drive the matrix by a drive element.
[0012]
However, in the case of this device using a conventional electrochemical reaction, it takes several hundred ms or more from applying a voltage to coloring. This has been a serious problem when this device is applied to display applications such as electronic paper. In order to express an image freely, it is necessary to form a pixel electrode and perform matrix driving. However, if line-sequential scanning is performed at the time of driving, it is the product of the product of the pixel coloring time and the number of scanning lines. Because it only takes time. For example, an SVGA screen will take several minutes.
[0013]
When used as electronic paper, the response speed is not necessarily as high as video playback, but considering the practical aspect, it is necessary to set the writing speed on the entire screen to within about 1 second. It is necessary to shorten the time required for erasing to about 100 ms or less.
[0014]
  Accordingly, in view of the above technical problems, the present invention provides an electrodeposition type display device having a structure capable of shortening the time required for writing and erasing.PlaceThe purpose is to provide.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
  In order to solve the above-mentioned problem, an electrodeposition type display device of the present invention isA substantially flat substrate disposed on the back side of the electrolyte layer, a plurality of strip-like back electrodes provided on the substrate, and a back electrode, which is disposed so as to deposit metal ions by passing current. A polymer electrolyte layer, a strip-shaped transparent electrode facing the back electrode across the polymer electrolyte layer and provided in a direction orthogonal to the back electrode, a transparent substrate provided on the transparent electrode, and transparent A transparent insulating film that covers the electrode, and an opening in the insulating film in which the transparent electrode and the polymer electrolyte layer are directly connected are formed in the pixel, and the area of the opening is 100 μm. 2 More than 5mm 2 It is as follows.
[0016]
The electrolyte membrane containing the metal ions is sandwiched between a pair of opposed electrodes, and a current is passed between the pair of electrodes, whereby the metal ions can be electrodeposited or dissolved on the electrode portion. According to experiments conducted by the inventors, it has been found that the size of such opposing electrodes strongly depends on the rate of electrochemical reaction, and the electrode area is about 5 mm.2The data that the coloring time can be reduced to 100 ms or less, which is practically useful, is obtained below. Unlike a liquid crystal device that responds to an applied voltage, an electrochemical device requires charge transfer at the electrode interface, and considering the current injection efficiency from the power supply side, the response speed is relative to the current collector area. This greatly depends on the ratio of the pixel area. In other words, even when the response speed equal to that of a video signal cannot be expected, the maximum electrode that satisfies this requirement is provided with a standard of 100 ms or less as a coloring time in view of loss of practicality if metal ion deposition takes several minutes. Area is 5mm2Therefore, the electrode area is 5mm2It is as follows. In addition, the lower limit is about 100 μm from the viewpoint of human visual ability because it is difficult to recognize visually by a size of about 10 μm square.2That's it.
[0017]
  Also,It is composed of an electrodeposition type display device having the above structure. In particular, at least one of the opposing electrodes is composed of a transparent electrode, and the size of the transparent electrode in a pixel is 100 μm.2More than 5mm2You may set so that it may become the following areas. When the electrode is made of a transparent material, it can be formed in a structure in which the electrode pattern is covered with an insulating film, and the size of the opening formed in the insulating film is an electrode area that functions for electrodeposition. Even in such an electrode structure, the response speed greatly depends on the ratio of the pixel area to the current collector area, and the upper limit area is 5 mm from the practical point of view.2The lower limit area is 100 μm from the viewpoint of visibility.2It is said above.
[0018]
  The electrodeposition type display device of the present invention is also provided.IsCausing contrast by electrodeposition and dissolution of metal ionsDrive, Multiple arrayPixelAnd having a structure in which the electrolyte membrane containing the metal ions is sandwiched between a pair of opposing electrodes, and has a thickness of 100 μm.2More than 5mm2Drive using one of the electrodes whose pixel size is set to the following area:The
[0019]
  With the above driving, the electrode area is 100 μm2More than 5mm2Since it is set as follows, the response speed depending on the ratio of the pixel area to the current collector area satisfies the respective conditions from the viewpoints of practicality and visibility. Therefore, it is possible to display an image with good responsiveness.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an electrochemical display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0021]
First, the structure of the electrochemical display device of this embodiment will be described with reference to FIG. The electrochemical display device of the present embodiment includes an electrolyte layer sandwiched between parallel row electrodes and column electrodes extending in the row direction and the column direction, respectively, and a voltage is applied between the row electrodes and the column electrodes. In this case, the display is a passive matrix drive type and electrodeposition type (electrodeposition) type display device in which metal ions are deposited from the substrate.
[0022]
This passive matrix drive type electrochemical display device includes a substantially flat substrate 11 disposed on the back side of an electrolyte layer, and a plurality of strip-like back electrodes 12 each extending in the row direction of the substrate, for example. The polymer electrolyte layer 13 disposed so as to cover the back electrode 12 and the back electrode 12 extending in the direction perpendicular to the back electrode 12 across the polymer electrolyte layer 13. A plurality of strip-shaped transparent electrodes 14 and a transparent base material 15 provided on the plurality of strip-shaped transparent electrodes 14 are the main constituent elements and are omitted in FIG. 14 is covered with a transparent insulating film, and an opening for directly connecting the transparent electrode 14 to the polymer electrolyte layer 13 with a relatively small size is formed in the pixel corresponding portion. By depositing metal ions through such a small opening, efficient deposition is performed, and writing in a short time is realized as described later.
[0023]
The substantially flat substrate 11 is a plate functioning as a support for the electrodes 12, 14 and the polymer electrolyte layer 13, and is not necessarily transparent, and reliably holds the electrodes 12, 14 and the polymer electrolyte layer 13. A usable substrate, film, sheet, or the like can be used. Examples of the substrate 11 include a glass substrate such as a quartz glass plate and a white plate glass plate, a ceramic substrate, a paper substrate, and a wood substrate. However, the substrate 11 is not limited thereto, and a polyethylene resin naphthalate is used as a synthetic resin substrate. , Esters such as polyethylene terephthalate, cellulose esters such as polyamide, polycarbonate, cellulose acetate, fluoropolymers such as polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene-cohexafluoropropylene, polyethers such as polyoxymethylene, polyacetal, polystyrene, polyethylene, Examples thereof include polyolefins such as polypropylene and methylpentene polymer, and polyimides such as polyimide-amide and polyetherimide. When these synthetic resins are used as a support, it is possible to form a rigid substrate that does not easily bend, but it is also possible to form a film-like structure having flexibility.
[0024]
On the substrate 11, a plurality of back electrodes 12 are formed extending in parallel. The back electrode 12 has, for example, a belt-like pattern extending in the row direction. Such an electrode material may be any electrochemically stable metal, but is preferably silver, platinum, They are chromium, aluminum, cobalt, palladium, etc., and can be formed by forming a film made of a good conductor such as a metal film on the substrate 11. In addition, the electrode may be configured by a composite material. For example, an electrode having a structure in which silver is deposited on an electrode material such as copper may be used. The back electrode 12 can use carbon as an electrode if the metal used for the main reaction can be sufficiently supplemented in advance or at any time. As a method for supporting carbon on the electrode, there is a method of forming an ink using a resin and printing it on the substrate surface. By using carbon, it is possible to reduce the price of the electrode. Note that signal lines (not shown) for supplying signals are respectively connected to the end portions of the back electrodes 12, and a drive circuit for the back electrodes 12 is connected to these signal lines.
[0025]
The polymer electrolyte layer 13 is disposed between the opposing electrodes 12 and 14, and deposits metal ions according to the current passing through the polymer electrolyte layer 13, and the deposited metal ions function as a coloring material. It is a layer to do. The polymer electrolyte layer 13 has a configuration including a polymer material for a base material, a metal salt, a plasticizer, and the like, and the polymer electrolyte layer 13 has a white pigment or the like for exhibiting a background color. included.
[0026]
As the polymer material for the base material used for the solid polymer electrolyte constituting the polymer electrolyte layer 13, the skeleton unit is represented by-(CCO) n-,-(CCN) n-, or-(CCS) n-, respectively. And polyethylene oxide, polyethyleneimine, and polyethylene sulfide. A structure having a branch may be used as a main chain structure. Polymethyl methacrylate, polyvinylidene fluoride, polyvinylidene chlorite, polycarbonate and the like are also preferable.
[0027]
When forming the polymer electrolyte layer 13, it is preferable to add a necessary plasticizer to the matrix polymer. As a preferable plasticizer, when the matrix polymer is hydrophilic, water, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and a mixture thereof are preferable. When the matrix polymer is hydrophobic, propylene carbonate, dimethyl carbonate, ethylene carbonate, γ-butyrolactone, Acetonitrile, sulfolane, dimethoxyethane, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone and mixtures thereof are preferred.
[0028]
The polymer electrolyte layer 13 is formed by dissolving an electrolyte in the matrix polymer. Examples of the electrolyte include silver nitrate, silver borofluoride, silver halide, silver perchlorate, silver cyanide, and silver thiocyanide. In addition to at least one silver salt selected from quaternary ammonium halides (F, Cl, Br, I) and alkali metal halides (LiCl, LiBr, LiI, NaCl, NaBr, NaI, etc.), alkali metal cyanide A solution containing at least one kind of supporting electrolyte selected from a salt and an alkali metal thiocyanide is dissolved as an electrolyte.
[0029]
The polymer electrolyte layer 13 contains a colorant in order to improve contrast. When the coloring is black, a white highly concealing material is introduced as the background color. As such a material, for example, white particles for coloring are used, and titanium dioxide, calcium carbonate, silica, magnesium oxide, and aluminum oxide can be used as the white particles for coloring.
[0030]
In the case of using inorganic particles, the mixing ratio of the colorant is preferably about 1-20 wt%, more preferably about 1-10 wt%, and further preferably about 5-10 wt%. This is because inorganic white particles such as titanium oxide are not soluble in the polymer and only disperse. When the mixing ratio increases, the inorganic particles aggregate, resulting in non-uniform optical density. . Moreover, since inorganic particles do not have ionic conductivity, an increase in the mixing ratio causes a decrease in the conductivity of the solid polymer electrolyte. Considering both, the upper limit of the mixing ratio is about 20 wt%.
[0031]
When inorganic particles are mixed as a colorant, the thickness of the polymer electrolyte layer 13 is preferably 10 μm-200 μm, more preferably 10 μm-100 μm, and even more preferably 10 μm-50 μm. The thinner one is preferable because the resistance between the electrodes becomes smaller, which leads to reduction in coloring / decoloring time and power consumption. However, when the thickness is 10 μm or less, the mechanical strength is lowered, and pinholes and cracks are generated, which is not preferable. On the other hand, if it is too thin, the amount of white particles mixed becomes small, and the whiteness (optical density) becomes insufficient.
[0032]
The mixing ratio of the colorant may be 10 wt% in the case of using a pigment. This is because the coloring efficiency of the dye is much higher than that of inorganic particles. Therefore, if the dye is electrochemically stable, contrast can be obtained even with a small amount. Usually, an oil-soluble dye is preferred as the pigment.
[0033]
The transparent electrode 14 arranged on the side facing the back electrode 12 across the polymer electrolyte layer 13 has, for example, a belt-like pattern extending in a direction substantially perpendicular to the back electrode 12, that is, in the column direction. Have. The transparent electrode 14 is made of a transparent conductive film, and is made of In.2OThreeAnd SnO2Of so-called ITO film and SnO2Or In2OThreeIt is preferable to use a film coated with. These ITO films and SnO2Or In2OThreeA film coated with Sn may be doped with Sn or Sb, and MgO, ZnO, or the like can also be used. Note that signal lines (not shown) for supplying signals are respectively connected to the end portions of the transparent electrodes 14, and a drive circuit for the transparent electrode 14 is connected to the signal lines.
[0034]
A transparent base material 15 is attached on the transparent electrode 14. As the transparent substrate 15, a transparent glass substrate such as a quartz glass plate or a white plate glass plate can be used, but is not limited thereto. Esters such as polyethylene naphthalate and polyethylene terephthalate, polyamide, polycarbonate, cellulose acetate Cellulose esters such as polyvinylidene fluoride, fluoropolymers such as polytetrafluoroethylene-cohexafluoropropylene, polyethers such as polyoxymethylene, polyacetals, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyolefins such as methylpentene polymer, and polyimide-amide And polyimide such as polyetherimide. When these synthetic resins are used as the transparent base material 15, it is possible to form a rigid substrate that does not easily bend, but it is also possible to form a flexible film-like structure. .
[0035]
Next, the basic operation of the electrodeposition type display device of this embodiment having such a structure will be described with reference to FIGS. In the electrodeposition type display device of this embodiment, metal ions such as silver ions dissolved in the polymer electrolyte layer 13 tend to precipitate by controlling the transparent electrode 14 to the minus side, and particularly in FIG. As shown in the cyclic volta monogram, by applying a potential exceeding the precipitation overpotential of about −0.7 V, metal ions such as silver ions are reduced, and the reduced metal ions are transferred onto the transparent electrode 14. It precipitates in.
[0036]
Therefore, when the deposition is performed, a negative potential lower than the deposition overpotential is once applied to the transparent electrode 14 to promote the deposition. Subsequently, electrodeposition of metal ions can be promoted by maintaining a deposition potential of about −0.5 V in the cyclic volta monogram of FIG. In FIG. 2, the pixel that is blackened by the electrodeposition is indicated by “B”, and the pixel that has not been reduced by the metal ions is left as “W” in white. This white portion has a high light reflectance and is maintained at, for example, 70% or more. The reflectance of the black part is set to 2.7% or less, for example.
[0037]
On the other hand, in the case of erasing, the deposited metal is dissolved by applying a reverse potential to the transparent electrode 14. The black color gradually disappears due to the deposition of the metal, and the white color of the polymer electrolyte layer 13 appears. By switching the potential with respect to the transparent electrode 14 between plus and minus, the display color can be switched between black and white. This potential switching control can be performed, for example, by switching and controlling the switch 18 in FIG. 2 to the battery 16 side or the potential 17 side having a reverse potential relationship with the battery 16. FIG. 3B is a diagram showing the relationship between the charge density and the optical density. In general, the higher the charge density, the higher the optical density tends to be.
[0038]
FIG. 4 is a perspective view of the transparent electrode portion. A plurality of transparent electrodes 14 are formed in a band-like pattern on the transparent substrate 15, and an insulating film 19 is formed so as to cover each transparent electrode 14. The insulating film 19 is provided with an opening 20 having a small size on the transparent electrode 14, and the opening size of the opening 20 functions as an in-pixel size of the transparent electrode. In form, the area is 100 μm2More than 5mm2Set to: By providing such a small opening 20, the transparent electrode 14 contacts the internal polymer electrolyte layer 13 with a small area of the opening 20. Therefore, in the portion in the opening 20 of the polymer electrolyte layer 13, current concentration occurs in the opening 20 having a small size while the transparent electrode 14 functions as a current collector, and writing in a short time is realized. become. In this embodiment, the pixel electrode size is 100 μm.2More than 5mm2Although it is as follows, preferably 400 μm24mm or more2It is also possible to: The thickness of the polymer electrolyte layer can be, for example, 10 μm to 200 μm, preferably 10 μm to 100 μm, and more preferably 10 μm to 50 μm.
[0039]
Next, a segment display cell structure created as an embodiment of the display device will be described with reference to FIGS. The segment display cells are formed with openings of different sizes, each having a circular shape or a square shape, and the size of the opening is examined by changing the optical density.
[0040]
First, the structure of the manufactured segment display cell will be described with reference to FIG. A polymer electrolyte layer 23 held between the spacers 22 is formed on the back electrode 21, and a plurality of transparent electrodes 24 each covered with an insulating film 26 are formed on the polymer electrolyte layer 23. It has a structure in which a transparent substrate 25 is formed on the transparent electrode 24. The segment display cell having such a structure is specifically manufactured by the following procedure.
[0041]
First, for the transparent electrode 24 as a display electrode, a 40 mm square or 30 mm square glass substrate having a thickness of 0.8 mm is used as the transparent base material 25, and a strip-like transparent material is formed on the transparent base material 25 by the following procedure. An electrode 24 and an insulating film 26 were formed. First, an ITO film having a film thickness of 500 nm and a sheet resistance value of 12Ω / □ was formed on a glass substrate by sputtering. Next, a photoresist was applied on the ITO film, and the photoresist was formed in a strip shape by a lithography method. Next, the glass substrate was eroded in an ITO etching solution, and the ITO film in a portion not covered with the photoresist was removed to form a transparent electrode 24. Thereafter, the photoresist is removed with an organic solvent such as acetone, and TEOS (ethyl silicate Si (OC2HFive)Four: Tetra-Ethoxyortho-Silicate) and O2SiO used as the insulating film 26 by the plasma CVD method using2Was deposited to 200 nm. Next, SiO2Photoresist is applied on the film, the photoresist is formed into a desired shape by lithography, and this substrate is eroded in a mixed solution of ammonium fluoride, hydrofluoric acid, etc. SiO2The membrane was removed. Thereafter, the photoresist was removed with an organic solvent such as acetone. Here, a plurality of desired shapes are formed by changing the diameter of the circular opening as shown in FIGS. 5 and 6, or a plurality of shapes are formed by changing the diameter of the square opening as shown in FIG. The shape is such as These shapes will be described later.
[0042]
The back electrode 21 which is a counter electrode was produced by the following procedure. First, a copper electrode was first formed on the entire surface of an epoxy resin such as polycarbonate or PET (polyethylene terephthalate) or a glass epoxy resin used for a circuit board. Subsequently, an electric field was applied to the formed electrode, and it was immersed in a solution in which silver (or a desired metal) was dissolved, and silver was deposited on the electrode by an electroplating method, whereby the back electrode 21 was produced. The copper electrode was about 15 μm, for example, and the silver electrode was about 15 μm, for example, and the total thickness was about 30 μm. There is an electroless method in which silver or metal is deposited without applying an electric field, but the electroplating method is desirable because the deposited metal becomes thicker.
[0043]
After forming such a back electrode 21, in order to form the polymer electrolyte layer 23, 1 part by weight of polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 350,000, 10 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of water and isopropyl alcohol, bromide 1.7 parts by weight of lithium and 1.7 parts by weight of silver iodide were mixed and heated to 120 ° C. to prepare a uniform solution. Next, 0.2 parts by weight of aluminum oxide having an average particle size of 0.5 μm was added thereto, and the mixture was uniformly dispersed with a homogenizer.
[0044]
After the solution uniformly dispersed by the homogenizer was applied to the insulating film 26 of the base material 25 with a doctor blade at a thickness of 100 μm, the back electrode 21 on the opposite electrode side was immediately bonded, and this was applied at 110 ° C. and 0.1 MPa. A gelled polymer electrolyte layer 23 was formed between the two electrodes by drying under reduced pressure for 1 hour. Subsequently, the end face of bonding was sealed with the spacer 22 and the adhesive.
[0045]
FIG. 5B and FIG. 6 are examples in which a plurality of openings are formed by changing the diameter of the circular opening. Here, each size of the opening will be described. The size of the largest opening 31a is the diameter. The next largest opening 31b has a diameter of 2.0 mm, the next largest opening 31c has a diameter of 1.0 mm, and the smallest opening 31d has a diameter of 0.00 mm. 5 mm. For each dimension shown in FIG. 6, the transparent electrode width R1Is about 9 mm, and the size R from the edge of the display cell to the position of the opening is R2Is about 14mm, R3And R4Are the substrate sizes, each about 40 mm.
[0046]
Similarly, FIG. 7 shows an example in which a plurality of openings are formed in the insulating film 47 covering the electrode 46 so as to change the diameter of the square openings. The structure of the electrolyte layer has the same structure as the segment display cell having the structure shown in FIG. 5 described above. Here, each size of the opening will be described. The largest opening 33a has a size of 3.0 mm square, the next largest opening 33 b has a size of 2.0 mm square, and the next largest opening 33 c has a size of 3.0 mm square. The size is 1.0 mm square, and the size of the smallest opening 33 d is 0.5 mm square. For each dimension shown in FIG. 7, the transparent electrode width L1Is approximately 6 mm, and the size L from the edge of the display cell to the position of the opening2Is about 12mm, L3Is a substrate size of about 30 mm.
[0047]
Using the segment display cell having the circular opening of FIG. 6 and the square opening of FIG. 7, the drive, drive, and display characteristics were evaluated. First, a desired display side electrode is selected, and at the time of color development, a voltage of -2 V is applied to the second electrode having a display electrode as a back electrode made of a metal such as silver, and the display electrode side In the case of decoloring, the color display and the colorless [white] display were switched by causing the oxidation reaction of the voltage of +2.4 over 1.0 to 1.2 times the time of the reduction reaction. .
[0048]
In the structure of the segment display cell shown in FIG. 6, the reflectance when colorless (white) is ˜63% (OD˜0.2), and the coloring behavior (coloring speed) at the time of color development is shown in FIG. 8. The vertical axis in FIG. 8 is the optical density, and indicates that black is dark when the numerical value is higher. The horizontal axis of the graph of FIG. 8 shows the time of logarithmic display. As is apparent from the graph of FIG. 8, when the diameter φ of the circular opening is in the range of 0.5 mm to 2.0 mm, the coloring behavior at the time of color development shows a steep rise, and in the openings 31b, 31c, and 31d, It can be seen that the coloring is performed quickly. On the other hand, when the diameter φ of the circular opening is as large as 7.0 mm, the coloring is slow, and it takes 0.1 seconds or longer even when the OD is 0.5. That is, it is shown that when the opening is large, the coloring reaction rate is slow, and the size of the opening is 4 to 5 mm.2It has been shown that the electric field concentration at the opening is good when the area is as follows.
[0049]
FIG. 9 is a graph showing the response times of the circular opening shown in FIG. 6 and the square opening shown in FIG. 7, the vertical axis is the response time (seconds), and the horizontal axis is the area (mm2). In FIG. 9, (1) is a circular opening 31d with a diameter of 0.5 mm, (2) is a circular opening 31c with a diameter of 1.0 mm, (3) is a circular opening 31b with a diameter of 2.0 mm, and (4) is The circular opening 31a has a diameter of 7.0 mm. In addition, (5) is a 0.5 mm square opening 33 d, (6) is a 1.0 mm square opening 33 c, (7) is a 2.0 mm square opening 33 b, and (8) is 3. A square opening 33a of 0 mm square is shown.
[0050]
As is apparent from FIG. 9, regardless of whether the display portion is circular or square, the small size opening tends to have a shorter response time, and the time to reach OD = 1.0 is shorter. . Further, in the circular opening 31a having a diameter of 7.0 mm of (4) and the square opening 33a of 3.0 mm square of (8), the area becomes too large to achieve a required response speed. That is, the display area is ~ 5mm2If it is below, it is extrapolated that the response time is 0.1 sec or less. From a practical aspect, when the response speed is up to about 0.1 sec, a circular opening having a diameter of 2.0 mm or less or 2 A square opening of less than 0.0 mm square will be selected. In each example of FIGS. 8 and 9, the measurement is performed with the detector focused on the center of the display unit.
[0051]
As an electrodeposition type display device according to another embodiment, as shown in FIGS. 10 and 11, a potential detection electrode 56 independent of the transparent electrode 54 and the back electrode 52 may be formed as the third electrode. Good. These potential detection electrodes 56 are generally referred to as reference electrodes, and are the same surface as the back electrode 52 on the substrate 51 facing the transparent electrode 54 or the polymer electrolyte layer 53 on the transparent base material 55. These electrodes 54 and 52 are disposed as electrically insulated members, and are used to detect the potential of the transparent electrode 54 on the transparent base 55 or the back electrode 52 on the substrate 51. It is done.
[0052]
The potential detection electrode 56 serving as a reference electrode can be installed on the same surface as the transparent electrode 54 or the back electrode 52. In order to accurately detect the potential in the course of the reaction, it is preferable to form it on the transparent electrode 54 side, but this is not preferable in this respect because the aperture ratio decreases. The electrode material is preferably silver, and one to a plurality of electrodes are provided between the stripe electrodes in parallel to the electrodes, and one to a plurality of them are installed at right angles to the electrodes so as to be connected at an orthogonal intersection. In addition, in the portion where the potential detection electrode 56 perpendicular to the striped electrodes 52 and 54 crosses the striped electrodes 52 and 54, the surfaces of the striped electrodes 52 and 54 are coated with an insulating film. There is a need.
[0053]
Further, a passive matrix display device as still another embodiment will be described with reference to FIGS. Similar to the display device of FIG. 5, first, the transparent electrode side structure, which is a display electrode, is formed on a polycarbonate substrate having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 0.2 mm on the polycarbonate transparent substrate 73 and the insulating film by the following procedure. Formed. Specifically, the stripe width P of the transparent electrode 732Is 150 μm and the pitch P of the transparent electrode 73 is3Is 170 μm pitch, and the size P of the opening 74 (the portion not covered by the insulating film) is P1First, an ITO film having a film thickness of 500 nm and a sheet resistance value of 12 Ω / □ is formed on a polycarbonate substrate by sputtering, and then a photoresist is applied on the ITO film, and the photoresist is applied by lithography. A desired stripe shape was formed. Next, the polycarbonate substrate was eroded in an ITO etching solution, and the ITO film in a portion not covered with the photoresist was removed. Thereafter, the photoresist was removed with an organic solvent such as acetone. Next, TEOS (ethyl silicate Si (OC) is formed on the striped ITO film.2H5)4: Tetra-Ethoxyortho-Silicate) and O2By the plasma CVD method using2Was deposited to 200 nm.
[0054]
Next, SiO2Photoresist is applied on the film, the photoresist is formed into a desired shape by lithography, and this substrate is eroded in a mixed solution of ammonium fluoride, hydrofluoric acid, etc. SiO2The membrane was removed. Thereafter, the photoresist was removed with an organic solvent such as acetone.
[0055]
The back electrode 71 which is a counter electrode arranged facing this was produced by the following procedure. First, copper electrodes were formed in stripes on a substrate 72 made of an epoxy resin such as polycarbonate, PET, or a glass epoxy resin used for a circuit board. As a method for forming a striped copper electrode, first, copper is formed on the entire surface by sputtering or the like. Subsequently, a photoresist is applied to the copper electrode on the entire surface, covered with a stripe-shaped metal mask or a mask for blocking ultraviolet rays, and irradiated with ultraviolet rays. The portions of the photoresist and electrodes masked by the lithography method are removed by wet etching or dry etching so that the stripe-shaped electrodes 71 are insulated. Subsequently, an electric field is applied to the formed striped electrode 71 so as to be immersed in a solution in which silver or a desired metal is dissolved, and silver or metal is deposited on the electrode 71 by an electroplating method. Is made.
[0056]
The copper electrode portion is about 15 μm, the silver electrode portion is about 15 μm, and the total thickness is about 30 μm. There is an electroless method in which silver or metal is deposited without applying an electric field, but the electroplating method is preferable because the thickness of the deposited metal becomes thicker. It is desirable for the substrate 72 to make the interval between pixels to be displayed as narrow as possible. The pixel gap is covered with a solid electrolyte, but it is desirable to use a white substrate 72 as much as possible, assuming that the solid electrolyte can be seen through.
[0057]
For production of the display electrode and preparation and application of the polymer solid electrolyte, 1 part by weight of polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 350,000, 10 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of water and isopropyl alcohol, and 1.7 parts by weight of lithium bromide Then, 1.7 parts by weight of silver iodide was mixed and heated to 120 ° C. to prepare a uniform solution. Next, 0.2 part by weight of titanium dioxide having an average particle size of 0.5 μm was added thereto, and the resulting mixture was uniformly dispersed with a homogenizer.
[0058]
After coating this onto the substrate with a doctor blade at a thickness of 60 μm, the second electrode was immediately bonded together, and this was dried under reduced pressure at 110 ° C. and 0.1 MPa for 1 hour to obtain a gelled polymer solid electrolyte. Formed between two electrodes. Next, the bonded end surfaces were sealed with an adhesive to obtain a configuration as shown in FIG.
[0059]
Next, driving and display characteristics of the passive matrix display device according to this example were evaluated. A desired pair of stripe electrodes 73 and 71 are selected by a known method, and at the time of color development, an electric quantity of 5 μC per pixel is supplied to the display electrode for 0.1 second, causing a reduction reaction on the display electrode side and decoloring. Occasionally, oxidation was performed with the same amount of electricity to switch between colored and colorless (white) display.
[0060]
The reflectance when colorless (white) was 70%, and the optical density (OD) of the display portion when colored (black) was about 1.4 (reflectance 4%). Further, as shown in FIG. 13, pixels that were not selected did not develop or lose color. Note that the time required to reach OD = 1 was about 30 ms. After leaving the colored state, the circuit was opened and allowed to stand, and it was found that the optical density of the display part after one week did not change and had sufficient memory properties. When the coloring and decoloring cycles were repeated, the number of repeated cycles until the black density at the time of coloring became 1.0 or less was about 8 million.
[0061]
In the above-described embodiment, the method for setting the size of the opening formed in the insulating film has been described as a method for limiting the area of the electrode in the pixel. Can also be made smaller.
[0062]
【The invention's effect】
Electrodeposition type display device of the present inventionIn placeAccording to this, the size of the electrode inside the pixel is adjusted to 100 μm by adjusting the size of the opening2More than 5mm2Since the following areas are set, the response speed depending on the ratio of the pixel area to the current collector area satisfies the conditions from the viewpoints of practicality and visibility. Therefore, it is possible to display an image with good responsiveness.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of an electrodeposition type display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining the operation of an example of an electrodeposition type display device according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 3A and 3B are graphs for explaining the operation of an example of an electrodeposition type display device according to an embodiment of the present invention, where FIG. 3A is a cyclic volta monogram, and FIG. 3B is an optical density with respect to charge density; It is a graph of.
FIG. 4 is an enlarged perspective sectional view of the vicinity of a transparent electrode of an example of an electrodeposition type display device according to an embodiment of the present invention.
5A and 5B are diagrams showing a structure of a segment display cell as an example of an electrodeposition type display device according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 5A is a schematic cross-sectional view, and FIG. 5B is a plan view. It is.
FIG. 6 is a plan view showing various circular openings formed in the segment display cell.
FIG. 7 is a plan view showing various square openings formed in the segment display cell.
FIG. 8 is a coloring characteristic diagram illustrating that the coloring speed varies depending on the size of the circular opening.
FIG. 9 is a response characteristic diagram explaining that the response speed varies depending on the size of the opening.
FIG. 10 is a schematic perspective view showing an example of an electrodeposition type display device according to another embodiment of the present invention.
11 is a plan view of an example of the electrodeposition type display device of FIG.
FIG. 12 is a schematic plan view showing the structure of an embodiment according to an example of an electrodeposition type display device of the present invention.
13 is a diagram showing a display state of a pixel when the apparatus of FIG. 12 is operated.
[Explanation of symbols]
11 Substrate
12 Back substrate
13 Polymer electrolyte layer
14 Transparent electrode
15 Transparent substrate
21 Back electrode
22 Spacer
23 Polymer electrolyte layer
24 Transparent electrode
25 Transparent substrate
31a-31d, 33a-33d opening
51 substrates
52 Back electrode
53 Polymer electrolyte layer
54 Transparent electrode
55 Transparent substrate
56 Potential detection electrode
71 Back electrode
72 substrates
73 Transparent electrode
74 opening

Claims (5)

電解質層の裏面側に配設されている略平板状の基板と、A substantially flat substrate disposed on the back side of the electrolyte layer;
前記基板に設けられている複数の帯状の背面電極と、A plurality of strip-shaped back electrodes provided on the substrate;
前記背面電極を覆って配設され、通過する電流により金属イオンを析出する高分子電解質層と、A polymer electrolyte layer disposed over the back electrode and depositing metal ions by passing current;
前記高分子電解質層を挟んで前記背面電極に対向し、前記背面電極と直交する方向に設けられている帯状の透明電極と、A strip-shaped transparent electrode facing the back electrode across the polymer electrolyte layer and provided in a direction orthogonal to the back electrode;
前記透明電極上に設けられている透明基材と、A transparent substrate provided on the transparent electrode;
前記透明電極を被覆する透明な絶縁膜と、A transparent insulating film covering the transparent electrode;
前記絶縁膜において、前記透明電極と前記高分子電解質層とが直接接続する開口部が画素内に形成され、In the insulating film, an opening for directly connecting the transparent electrode and the polymer electrolyte layer is formed in the pixel,
前記開口部の面積が100μmThe area of the opening is 100 μm 2 以上5mmMore than 5mm 2 以下であるIs
エレクトロデポジション型表示装置。Electrodeposition type display device.
前記画素はマトリクス状に配列され、パッシブマトリクス駆動される請求項1記載のエレクトロデポジション型表示装置。The pixels arranged in a matrix, electrodeposition type display apparatus Motomeko 1 wherein that will be passive matrix driving. 前記高分子電解質層は母材用高分子に電解質が溶解されて形成され、前記電解質は銀塩と支持電解質とからなる請求項1に記載のエレクトロデポジション型表示装置。2. The electrodeposition display device according to claim 1, wherein the polymer electrolyte layer is formed by dissolving an electrolyte in a base polymer, and the electrolyte is composed of a silver salt and a supporting electrolyte. 前記高分子電解質層にはコントラストを向上させるための着色剤が導入される請求項1記載のエレクトロデポジション型表示装置。 The electrodeposition type display device Motomeko 1, wherein the colorant Ru is introduced to improve the contrast in the polyelectrolyte layer. 前記画素に隣接して画素用電極の電位を検知するための参照用電極が形成される請求項1記載のエレクトロデポジション型表示装置。Electrodeposition type display device adjacent Motomeko 1 reference electrode for sensing the potential of the pixel electrode is Ru is formed according to the pixel.
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