JP4432353B2 - COLOR FILTER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DEVICE USING COLOR FILTER - Google Patents

COLOR FILTER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DEVICE USING COLOR FILTER Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット記録技術を利用した電界放射型表示装置、蛍光表示装置、プラズマディスプレイ(PDP)及び液晶表示装置などの表示装置用のカラーフィルタ及びその製造方法並びにカラーフィルタを用いた液晶素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、主としてコストダウンを目的として、インクジェット方式を利用したカラーフィルタの製造方法が検討されている(特許文献1参照)。しかしながら、インクジェット方式によりカラーフィルタを作成する際には、特に「混色」、「白抜け」、「色ムラ」といったインクジェット方式特有の問題がある。
【0003】
ブラックマトリクスを隔壁として、該ブラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラックマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の体積を有するインクを付与する必要がある。仮にインク中に含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合においては、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持することができる。よって付与されたインクがブラックマトリクスを乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達することはない。
【0004】
しかしながら、インクをインクジェットヘッドノズルより安定して吐出させるためには、粘度を低くする必要があり、即ちインク中の固形分濃度を低くせざるを得ない。この場合、着色部を形成するには多量のインクを付与する必要がある。この時、隔壁となるブラックマトリクスを越えてインクがあふれてしまうため、隣接する着色部間で「混色」が発生してしまう。
【0005】
また近年、TFT型液晶素子用のカラーフィルタにおいては、TFTを外光から保護する目的で、或いは、開口率を大きくして明るい表示を得る目的で、ブラックマトリクスの開口部形状が複雑になってきている。そのため、複数のコーナー部を有することになり、インク中の固形分が高い場合に該コーナー部に対してインクが十分に拡散しないという問題が発生する。また、ブラックマトリクスを形成する際には、一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ工程が使用されている。該レジストに含まれる種々の成分により透明基板の表面に汚染物が付着して、インクの拡散の妨げとなる場合もある。
【0006】
これが「白抜け」と呼ばれる問題である。該白抜けは色ムラやコントラストの低下といった表示不良の原因となる。
【0007】
【特許文献1】
特開昭59-75205号公報(第3図)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、カラーフィルタをインクジェット方式を利用した簡易なプロセスで安価に製造するに際して、「混色」、「白抜け」、「色ムラ」といったインクジェット方式特有の問題を解決し、信頼性の高いカラーフィルタを歩留まり良く提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、少なくとも光透過性基板上に正方形の開口部を有するブラックマトリクスとブラックマトリクスの開口部にインクジェット方式により塗布された着色インクを有する着色部を形成するカラーフィルタの製造方法において、上記開口部に、ブラックマトリクスの開口部の厚みに対して乾燥した段階で20〜30%の厚さになるように上記着色インクを塗布する工程と、上記着色インクを硬化させることにより下塗り層を形成する工程と、上記下塗り層の上に、上記着色インクを重ね塗りする工程と、重ね塗りした上記着色インクを硬化させる工程によって着色部を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
請求項2に記載の発明は、上記ブラックマトリクスの厚みが0.5〜2.0μm、開口率が60%以上である請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法である。
請求項3に記載の発明は、上記着色インクが有機溶剤に顔料をインク全体の重量に対して少なくとも10%以上の濃度で分散させたものであることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法である。
請求項4に記載の発明は、上記下塗り層を形成する工程において、上記着色インクを付与した後、70℃で20分間の熱処理を行って上記着色インクを仮硬化させることを特徴とする請求項1もしくは請求項3のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
請求項5に記載の発明は、上記着色部を形成する工程において、上記着色インクを重ね塗りした後、230℃で1時間の熱処理を行って上記着色インクを硬化させることを特徴とする請求項1もしくは請求項3のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
請求項6に記載の発明は、上記着色インクが熱、光、電子線のいずれかのエネルギーにより硬化する請求項1又は請求項3〜5の何れかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
請求項に記載の発明は、請求項1〜に記載の製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタである。
請求項に記載の発明は、請求項に記載のカラーフィルタと対抗基板間に液晶を挟持したことを特徴とする液晶素子である。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の製造方法の一実施形態を示した工程図である。以下、図1の(a)〜(g)は下記工程(a)〜(g)に該当する断面図である。
【0011】
[工程(a)]
光透過性基板1を用意する。本発明においては、光透過性基板として一般にガラス基板が用いられるが、液晶表示装置等最終的な用途に必要な特性、例えば透明性、機械的強度等を満足し、後工程に耐えるものであればガラス基板に限定されるものではなく、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、等のプラスチック基板なども用いることができる。
【0012】
[工程(b)]
光透過性基板1上にブラックマトリクス3を形成するための遮光性樹脂組成物層2を形成する。該遮光性樹脂組成物層2は、最終的にブラックマトリクスとして使用されるものであり、十分な遮光性を有する必要がある。したがって、上記樹脂組成物中に、遮光剤を分散せしめた黒色樹脂組成物を用いる。該遮光剤としては、カーボンブラックを用いることが望ましく、該カーボンブラックとしては、チャネルブラック、ローラーブラック、ディスクブラックと呼ばれているコンタクト法で製造されたもの、ガスファーネストブラック、オイルファーネストブラックと呼ばれているファーネスト法で製造されたもの、サーマルブラック、アセチレンブラックと呼ばれているサーマル法で製造されたものなどを用いることができるが、特に、チャネルブラック、ガスファーネストブラック、オイルファーネストブラックが好ましい。さらに必要に応じて、R、G、Bの顔料の混合物などを加えても良い。また、一般に市販されている黒色レジストを用いることもできる。必要に応じて高抵抗化した遮光層を用いても良い。さらにブラックマトリクス3は遮光性、インク付与時にインクが隣接着色部へ漏れ出さない為の隔壁としても作用する為、少なくとも0.5〜2.0μm程度の厚みを持ったものが良い。また、より鮮明な画像を得る為には開口率60%以上が必要である。
【0013】
また、遮光性樹脂組成物層2の材料としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミドイミドを含むポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニル系樹脂などの感光性の樹脂材料を用いることができるが、250℃以上の耐熱性を有することが好ましく、その点から、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂が好ましく用いられる。
【0014】
遮光性樹脂組成物層2は、スピンコート、ロールコート、バーコート、スプレーコート、ディップコート、ダイコート、或いは印刷法等の方法により形成することができる。
【0015】
[工程(c)]
フォトマスクを用いて遮光性樹脂組成物層2をパターン露光、現像処理を行ってパターニングし、ブラックマトリクス3を形成する。
【0016】
[工程(d)]
インクジェット記録装置を用いて、インクジェットヘッド5より、ブラックマトリクス3の開口部4にR、G、Bの各色のインク6a〜6cを下塗りする(下塗り層という)。下塗りとは、開口部全面にインク6a〜6cが濡れ広がった状態であり、開口部の深さに対して30%程度のインク量を付与することを指す。
【0017】
本発明においてカラーフィルタの形成に用いる着色インクとしては、染料系、顔料系共に用いることが可能である。また、熱処理あるいは光、電子線照射等により硬化し、インクの着色剤として使用される染料あるいは顔料を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリマー等の成分を含有する硬化型インクであることが好ましい。インクの主成分としては水、有機溶剤共に用いることが可能であるが、揮発性、溶解性、また塗布性、分散安定性等から有機溶剤であるほうが好ましい。溶剤としては、トルエン、キシレン、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジクライム、シクロヘキサノンなどが用いられるが、塗布性、分散安定性、等から選択され、単一または複数の溶剤組成の溶剤を適宜選択する。また、インクの着色剤として顔料を用いる場合、所定の濃度達成の為には顔料の割合がインク全体の重量に対して少なくとも10%以上であることが好ましい。
【0018】
さらに、インクジェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット(登録商標)タイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パターンは任意に設定することができる。
【0019】
[工程(e)]
上記下塗りしたR、G、Bの各色のインク6a〜6cを熱処理あるいは光、電子線照射等必要な処理を施し、インク6a〜6c中の溶剤成分を除去して硬化させることにより下塗り層7a〜7cを形成する。その結果、下塗り層中の濃度が上昇することとなった。
【0020】
[工程(f)]
再び、インクジェットヘッド5を用いてブラックマトリクス3の開口部4、すなわち下塗り層7a〜7cの上から、R、G、Bの各色のインク6a〜6cを付与する。
【0021】
上記のように、下塗り層の上にさらに、下塗り層を形成したインクと同じインクを重ね塗りすることによって、インクが隔壁によって囲まれた領域内(開口部4)に十分且つ均一に拡散することができる。すなわち、「白抜け」の問題が解消され、「色ムラ」のないカラーフィルタ基板を得ることができる。なお、上記工程(d)〜工程(f)を更に繰り返すことにより、着色層中の濃度が上昇し、「白抜け」、「色ムラ」の問題が更に解決する。
【0022】
[工程(g)]
熱処理あるいは光照射等必要な処理を施し、インク6a〜6c中の溶剤成分を除去して硬化させることにより、着色部(画素)8a〜8cを形成する。
【0023】
さらに、必要に応じて保護層9や透明導電膜を形成する。この場合の保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプ、或いは光熱併用硬化タイプの樹脂材料、或いは、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後の透明導電膜形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるものであれば使用可能である。また、透明導電膜は、保護層を介さずに直接形成してもよい。
【0024】
図2に、本発明のカラーフィルタ基板を用いた液晶素子の一実施形態の断面図を示す。図中、10は基板1と同様の光透過性基板、11a、11bは電極、12a、12bは配向膜、13は液晶で、14a、14bは偏光板である。本実施形態は、図示しないTFTを用いたアクティブマトリクス型の液晶素子である。
【0025】
図2の液晶素子の製造方法について説明する。先に述べたカラーフィルタ基板の保護膜9上に、(共通)電極11b、配向膜12bを形成する。一方、対向する基板10にはTFT(図示せず)と(画素)電極11aがマトリクス状に形成され、さらにその上に配向膜12aが形成される。これらの基板を、カラーフィルタの各着色部8a〜8cが画素電極11aに対向する位置に配列するように対向配置し、封止材を介して接着し、その間隙に液晶化合物13を充填して図2に示した液晶素子が構成される。上記配向膜12a、13bの表面は通常ラビング処理等配向処理が施されており、これによって液晶分子を一定方向に配列させることができる。
【0026】
さらに、基板1、10の外側にはそれぞれ偏光板14a、14bが接着されている。
【0027】
バックライトとしては蛍光灯と散乱板との組合せ(図示せず)が一般的に用いられており、上記液晶素子を、バックライトの光15の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行なう。
【0028】
本発明において用いられる液晶化合物としては特に限定されず、TN型液晶や、強誘電性液晶(FLC)などが好適に用いられる。また、本発明は、上記実施形態で示したアクティブマトリクス型の液晶素子に限らず、例えば単純マトリクス型の液晶素子も構成することができる。
【0029】
また、本発明のカラーフィルタ基板は、液晶素子以外にも好適に利用することができる。
【0030】
【実施例】
ガラス基板(コーニング社製、品番7059)上にカーボンブラックを含有する黒色レジスト(新日鐵化学製「V-259BKレジスト」)をスピンコータによって、約1.5μmの塗膜に形成した。さらに、所定の露光、現像、ベーク処理を行って、線幅20μm、100μm×100μmの正方形の開口部を有する開口率60%のブラックマトリクスパターン(隔壁)を作製した。
【0031】
(着色インクの調整)
赤インクについては、アクリル樹脂(メタクリル酸20重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15重量部、メチルメタクリレート10重量部、ブチルメタクリレート55重量部を、エチルセロソルブ300重量部に溶解し、窒素雰囲気下で、アゾビスニトリル0.75重量部を加えて、70℃、5時間反応させ得られたアクリル樹脂)を、樹脂濃度20重量%になるようにエチルセロソルブで希釈した。この希釈樹脂90.1gと、赤色顔料クロモフタルレッドA2B(C,I,Pig Red177 65300:チバガイキー社製)6.95g、黄色顔料パリオトールイエローL1820(C,I,Pig Yellow 139:BASF社製)2.05gと分散剤0.9gを添加して、ビーズミル分散機で冷却しなから3時間分散した。溶剤としてエチルセロソルブを用い、粘度が5cp以下になるように希釈し、よく攪拌して赤インクを調製した。
【0032】
緑インクについては、アクリル樹脂(メタクリル酸20重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15重量部、メチルメタクリレート10重量部、ブチルメタクリレート55重量部を、エチルセロソルブ300重量部に溶解し、窒素雰囲気下で、アゾビスニトリル0.75重量部を加えて、70℃、5時間反応させ得られたアクリル樹脂)を、樹脂濃度20重量%になるようにエチルセロソルブで希釈した。この希釈樹脂90.1gと、緑色顔料リオノールグリーン2YS(C,I,Pig Green 36:東洋インキ製造社製)7.55g、黄色顔料パリオトールイエローL1820(C,I,Pig Yellow 139:BASF社製)1.45gと分散剤0.9gを添加して、ビーズミル分散機で冷却しなから3時間分散した。溶剤としてエチルセロソルプで粘度が5cp以下になるように希釈し、よく攪拌して緑インクを調製した。
【0033】
青インクについては、アクリル樹脂(メタクリル酸20重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15重量部、メチルメタクリレート10重量部、ブチルメタクリレート55重量部を、エチルセロソルブ300重量部に溶解し、窒素雰囲気下で、アゾビスニトリル0.75重量部を加えて、70℃、5時間反応させ得られたアクリル樹脂)を、樹脂濃度20重量%になるようにエチルセロソルブで希釈した。この希釈樹脂91gと、青色顔料ヘリオゲンブルーL6700F(BASF社製)0.8g、紫色顔料リオノゲンバイオレットRL(東洋インキ社製)0.1gと分散剤0.9gを添加して、ビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散した。溶剤としてエチルセロソルブで粘度が5cp以下になるように希釈し、よく攪拌して青インクを調製した。
【0034】
次いでピエゾ方式、ノズル解像度180dpiのヘッドを搭載したインクジェット記録装置を用いて、ガラス基板上のマトリクス状遮光層の開口部に上記に示す方法で調製したR、G、Bの顔料分散インクを付与した。この時、付与したインク量はマトリクス状遮光層の開口部の厚みに対して乾燥した段階で20〜30%程度の高さになるように調節した。インク付与後、70℃で20分間の熱処理を行い、上記インクを仮硬化させ、R、G、Bの着色部からなる下塗り層を形成した。
【0035】
次いで、上記インクジェット記録装置を用いて、上記R、G、B の各インクをブラックマトリクスの開口部(下塗り層)上に重ね塗りし、230℃で1時間の熱処理を行って該インクを硬化し、R、G、Bの着色部からなるカラーフィルタを形成した。
【0036】
さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹脂SS-7625(JSR製)を膜厚1μmとなるようにスピンコートし、230℃で1時間の熱処理を行って硬化させた。
【0037】
このようにして作成された液晶素子用カラーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、混色や白抜けは観察されなかった。また、濃度も高いものであった。また、各着色部の平坦性を観察したところ、各着色部ともほぼ平坦に形成されていた。各着色部間の色差(■Eab)は3以下と良好であり、信頼性の高いカラーフィルタが作製できた。
【0038】
そして、このカラーフィルタと対抗基板(アクティブマトリクス型TFT)間に液晶を挟持した液晶素子の表示特性は良好であった。
【0039】
(比較例1)
実施例と同様にしてガラス基板上にブラックマトリクスを形成し、下塗り層を設けず、一工程のみで実施例と同量のインクを開口部に対して付与し着色部を形成、カラーフィルタを作製した。
【0040】
さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹脂SS−7625(JSR製)を膜厚1μmとなるようにスピンコートし、230℃で1時間の熱処理を行って硬化させた。
【0041】
このようにして作成された液晶素子用カラーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、多量のインクを付与した結果、開口部からインクが溢れ出したことにより、各着色部が重なり混色し、良好なパターン状着色層は形成されなかった。
【0042】
そして、このカラーフィルタと対抗基板(アクティブマトリクス型TFT)間に液晶を挟持した液晶素子の表示特性は好ましいものではなかった。
【0043】
(比較例2)
実施例と同様にしてガラス基板上にブラックマトリクスを形成し、下塗り層を設けた時と同量のインクを開口部に対して付与し着色部を形成、カラーフィルタを作製した。
【0044】
さらに、保護膜として二液型の熱硬化性樹脂SS−7625(JSR製)を膜厚1μmとなるようにスピンコートし、230℃で1時間の熱処理を行って硬化させた。
【0045】
このようにして作成された液晶素子用カラーフィルタ基板を光学顕微鏡により観察したところ、混色は確認されなかったが、付与したインク量の不足により白抜けが確認された。また、形成された膜厚が薄いことにより実施例よりも濃度が薄く、現行のカラーフィルタとの色差(■Eab)は10以上となり良好なカラーフィルタは形成されなかった。
【0046】
また、各着色部の平坦性を観察したところ、各着色部ともに平坦性は悪く、色差(■Eab)は10以上であった。
【0047】
そして、このカラーフィルタと対抗基板(アクティブマトリクス型TFT)間に液晶を挟持した液晶素子の表示特性は好ましいものではなかった。
【0048】
【表1】

Figure 0004432353
【0049】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、隔壁で囲まれた領域内にインクを付与する際に、隣接する着色部間での混色を防止し、且つ、該領域内でインクを十分に拡散、濃度を向上させて白抜けのない着色部を形成することができる。すなわち、混色、白抜け、色ムラのない着色部を備えた信頼性の高い光学素子をインクジェット方式により簡易なプロセスによって歩留まり良く製造することができる。よって、上記カラーフィルタを用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子をより安価に提供することができる。
【0050】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図2】本発明の液晶素子の一実施形態の断面図である。
【符号の説明】
1 光透過性基板
2 遮光性樹脂組成物層
3 ブラックマトリクス
4 開口部
5 インクジェットヘッド
6a〜6c 着色インク
7a〜7c 下塗り層
8a〜8c 着色部
9 保護膜
10 光透過性基板
11a、11b 電極
12a、12b 配向膜
13 液晶
14a、14b 偏光板
15 光[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a color filter for a display device such as a field emission display device, a fluorescent display device, a plasma display (PDP) and a liquid crystal display device using an ink jet recording technique, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal element using the color filter. .
[0002]
[Prior art]
In recent years, a method for producing a color filter using an ink jet method has been studied mainly for the purpose of cost reduction (see Patent Document 1). However, when creating a color filter by the ink jet method, there are particularly problems specific to the ink jet method, such as “mixed color”, “white spot”, and “color unevenness”.
[0003]
In the manufacturing method of the color filter in which the black matrix is used as a partition and ink is applied to the opening of the black matrix to form a colored portion, the volume is several to several tens of times the volume of the opening of the black matrix. It is necessary to apply an ink having If the solid content concentration of the colorant or curing component contained in the ink is high, that is, if the volume of the applied ink is relatively small, the black matrix functions sufficiently as a partition wall, and the inside of the opening of the black matrix Ink can be retained. Therefore, the applied ink does not go over the black matrix and reach the adjacent colored portions of different colors.
[0004]
However, in order to eject ink more stably from the inkjet head nozzle, it is necessary to lower the viscosity, that is, the solid content concentration in the ink must be lowered. In this case, it is necessary to apply a large amount of ink to form the colored portion. At this time, since the ink overflows beyond the black matrix serving as the partition wall, “color mixing” occurs between the adjacent colored portions.
[0005]
In recent years, in color filters for TFT-type liquid crystal elements, the shape of the opening of the black matrix has become complicated in order to protect the TFT from external light or to obtain a bright display by increasing the aperture ratio. ing. For this reason, there are a plurality of corner portions, and when the solid content in the ink is high, there arises a problem that the ink does not sufficiently diffuse into the corner portions. In forming a black matrix, a photolithography process using a resist is generally used. Contaminants may adhere to the surface of the transparent substrate due to various components contained in the resist, which may hinder ink diffusion.
[0006]
This is a problem called “white spot”. The white spots cause display defects such as color unevenness and contrast reduction.
[0007]
[Patent Document 1]
JP 59-75205 A (Fig. 3)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
The object of the present invention is to solve the problems inherent to the ink jet system such as “color mixing”, “white spot”, and “color unevenness” when manufacturing a color filter at a low cost by a simple process using the ink jet system. The object is to provide a high color filter with high yield.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
According to a first aspect of the present invention, there is provided a color filter for forming a black matrix having a square opening on at least a light-transmitting substrate and a colored portion having a colored ink applied to the opening of the black matrix by an ink jet method. In the manufacturing method, a step of applying the colored ink to the opening so as to have a thickness of 20 to 30% when dried with respect to the thickness of the opening of the black matrix, and curing the colored ink Forming a colored portion by a step of forming an undercoat layer, a step of overcoating the colored ink on the undercoat layer, and a step of curing the overcolored colored ink . It is a manufacturing method.
The invention according to claim 2 is the method for producing a color filter according to claim 1, wherein the black matrix has a thickness of 0.5 to 2.0 μm and an aperture ratio of 60% or more.
According to a third aspect of the present invention, in the color ink according to the first aspect, the colored ink is obtained by dispersing a pigment in an organic solvent at a concentration of at least 10% or more with respect to the total weight of the ink. It is a manufacturing method of a filter.
The invention according to claim 4 is characterized in that, in the step of forming the undercoat layer, after the colored ink is applied, the colored ink is temporarily cured by performing a heat treatment at 70 ° C. for 20 minutes. The manufacturing method of the color filter in any one of Claim 1 or Claim 3.
The invention according to claim 5 is characterized in that, in the step of forming the colored portion, after the colored ink is overcoated, a heat treatment is performed at 230 ° C. for 1 hour to cure the colored ink. It is a manufacturing method of the color filter in any one of Claim 1 or Claim 3.
The invention according to claim 6 is the method for producing a color filter according to claim 1 or 3 , wherein the colored ink is cured by any one of heat, light, and electron beam.
A seventh aspect of the present invention is a color filter manufactured by the manufacturing method according to the first to sixth aspects.
The invention according to claim 8 is a liquid crystal element characterized in that a liquid crystal is sandwiched between the color filter according to claim 7 and a counter substrate.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram showing an embodiment of the production method of the present invention. Hereinafter, (a) to (g) in FIG. 1 are cross-sectional views corresponding to the following steps (a) to (g).
[0011]
[Step (a)]
A light transmissive substrate 1 is prepared. In the present invention, a glass substrate is generally used as the light-transmitting substrate. However, the glass substrate should satisfy the characteristics required for the final use such as a liquid crystal display device, such as transparency and mechanical strength, and can withstand subsequent processes. For example, the substrate is not limited to a glass substrate, and plastic substrates such as polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), and polyethylene naphthalate (PEN) can also be used.
[0012]
[Step (b)]
A light-shielding resin composition layer 2 for forming a black matrix 3 is formed on the light transmissive substrate 1. The light-shielding resin composition layer 2 is finally used as a black matrix and needs to have sufficient light-shielding properties. Therefore, a black resin composition in which a light shielding agent is dispersed in the resin composition is used. As the light-shielding agent, it is desirable to use carbon black, and the carbon black is manufactured by a contact method called channel black, roller black, or disk black, gas furnace black, oil furnace black. It is possible to use those manufactured by the furnace method called thermal black, thermal black, those manufactured by the thermal method called acetylene black, etc., especially channel black, gas furnace black, oil Furnest black is preferred. If necessary, a mixture of R, G, and B pigments may be added. Moreover, the black resist generally marketed can also be used. If necessary, a light-shielding layer with a high resistance may be used. Further, the black matrix 3 preferably has a thickness of at least about 0.5 to 2.0 .mu.m because it functions as a light-blocking property and also serves as a partition wall for preventing ink from leaking to the adjacent colored portion when ink is applied. In order to obtain a clearer image, an aperture ratio of 60% or more is required.
[0013]
Moreover, as a material of the light-shielding resin composition layer 2, a photosensitive resin material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin including a polyamideimide, a urethane resin, a polyester resin, or a polyvinyl resin is used. However, it is preferable to have a heat resistance of 250 ° C. or higher, and from this point, an epoxy resin, an acrylic resin, and a polyimide resin are preferably used.
[0014]
The light-shielding resin composition layer 2 can be formed by a method such as spin coating, roll coating, bar coating, spray coating, dip coating, die coating, or printing.
[0015]
[Step (c)]
A black matrix 3 is formed by patterning the light-shielding resin composition layer 2 by performing pattern exposure and development using a photomask.
[0016]
[Step (d)]
Using an inkjet recording apparatus, R, G, and B inks 6a to 6c are undercoated (referred to as an undercoat layer) from the inkjet head 5 to the openings 4 of the black matrix 3. Undercoating is a state in which the inks 6a to 6c are wet and spread over the entire surface of the opening, and refers to applying an ink amount of about 30% with respect to the depth of the opening.
[0017]
In the present invention, as the color ink used for forming the color filter, both dye-based and pigment-based inks can be used. Further, it is a curable ink containing a component that is cured by heat treatment or irradiation with light, electron beam, etc. and immobilizes a dye or pigment used as an ink colorant, that is, a component such as a crosslinkable monomer or polymer. Is preferred. As the main component of the ink, both water and an organic solvent can be used, but an organic solvent is preferred from the viewpoint of volatility, solubility, applicability, dispersion stability, and the like. As the solvent, toluene, xylene, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, diclime, cyclohexanone, and the like are used. The solvent is selected from coating properties, dispersion stability, etc., and a solvent having a single or plural solvent composition is appropriately selected. Further, when a pigment is used as the colorant of the ink, it is preferable that the ratio of the pigment is at least 10% or more based on the total weight of the ink in order to achieve a predetermined concentration.
[0018]
Furthermore, as an ink jet method, a bubble jet (registered trademark) type using an electrothermal transducer as an energy generating element or a piezo jet type using a piezoelectric element can be used, and the coloring area and coloring pattern can be arbitrarily set. Can be set.
[0019]
[Step (e)]
Undercoat layers 7a to 6c are prepared by subjecting the inks 6a to 6c of R, G, and B, which have been undercoated, to heat treatment or necessary treatment such as light and electron beam irradiation, and removing and curing the solvent components in the inks 6a to 6c. 7c is formed. As a result, the concentration in the undercoat layer increased.
[0020]
[Step (f)]
Again, the ink 6a-6c of each color of R, G, and B is applied from the opening part 4 of the black matrix 3, ie, undercoat layer 7a-7c, using the inkjet head 5. FIG.
[0021]
As described above, the same ink as the ink on which the undercoat layer is formed is further applied on the undercoat layer, so that the ink is sufficiently and uniformly diffused in the region (opening 4) surrounded by the partition walls. Can do. That is, the “white spot” problem is solved, and a color filter substrate free from “color unevenness” can be obtained. By further repeating the above steps (d) to (f), the density in the colored layer increases, and the problems of “white spots” and “color unevenness” are further solved.
[0022]
[Step (g)]
Colored portions (pixels) 8a to 8c are formed by performing necessary processing such as heat treatment or light irradiation, and removing and curing the solvent components in the inks 6a to 6c.
[0023]
Further, a protective layer 9 and a transparent conductive film are formed as necessary. As the protective layer in this case, a photocuring type, a thermosetting type, or a photothermal combination curing type resin material, or an inorganic film formed by vapor deposition, sputtering, or the like can be used. Any material can be used as long as it has transparency and can withstand a subsequent transparent conductive film formation process, alignment film formation process, and the like. Moreover, you may form a transparent conductive film directly, without passing through a protective layer.
[0024]
FIG. 2 shows a cross-sectional view of an embodiment of a liquid crystal element using the color filter substrate of the present invention. In the figure, 10 is a light-transmitting substrate similar to the substrate 1, 11a and 11b are electrodes, 12a and 12b are alignment films, 13 is a liquid crystal, and 14a and 14b are polarizing plates. The present embodiment is an active matrix type liquid crystal element using a TFT (not shown).
[0025]
A method for manufacturing the liquid crystal element of FIG. 2 will be described. A (common) electrode 11b and an alignment film 12b are formed on the protective film 9 of the color filter substrate described above. On the other hand, TFTs (not shown) and (pixel) electrodes 11a are formed in a matrix on the opposing substrate 10, and an alignment film 12a is further formed thereon. These substrates are arranged to face each other so that the colored portions 8a to 8c of the color filter are arranged at positions facing the pixel electrodes 11a, and are bonded through a sealing material, and the liquid crystal compound 13 is filled in the gaps. The liquid crystal element shown in FIG. 2 is configured. The surfaces of the alignment films 12a and 13b are usually subjected to an alignment process such as a rubbing process, whereby liquid crystal molecules can be aligned in a certain direction.
[0026]
Further, polarizing plates 14a and 14b are bonded to the outside of the substrates 1 and 10, respectively.
[0027]
A combination of a fluorescent lamp and a scattering plate (not shown) is generally used as the backlight, and the liquid crystal element is displayed by functioning as an optical shutter that changes the transmittance of the light 15 of the backlight. To do.
[0028]
The liquid crystal compound used in the present invention is not particularly limited, and TN liquid crystal, ferroelectric liquid crystal (FLC) and the like are preferably used. Further, the present invention is not limited to the active matrix liquid crystal element described in the above embodiment, and a simple matrix liquid crystal element can also be configured, for example.
[0029]
Further, the color filter substrate of the present invention can be suitably used in addition to the liquid crystal element.
[0030]
【Example】
A black resist (“V-259BK resist” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) containing carbon black was formed on a glass substrate (Corning, product number 7059) by a spin coater to a coating thickness of about 1.5 μm. Furthermore, predetermined exposure, development, and baking processes were performed, and a black matrix pattern (partition) having a square opening with a line width of 20 μm and 100 μm × 100 μm and an aperture ratio of 60% was produced.
[0031]
(Colored ink adjustment)
For red ink, acrylic resin (20 parts by weight of methacrylic acid, 15 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 55 parts by weight of butyl methacrylate was dissolved in 300 parts by weight of ethyl cellosolve, and azobis was added under a nitrogen atmosphere. Acrylic resin obtained by adding 0.75 parts by weight of nitrile and reacting at 70 ° C. for 5 hours was diluted with ethyl cellosolve so that the resin concentration was 20% by weight. 90.1 g of this diluted resin, red pigment chromophthal red A2B (C, I, Pig Red 177 65300: manufactured by Ciba Gaiky) 6.95 g, yellow pigment Paliotol Yellow L1820 (C, I, Pig Yellow 139: manufactured by BASF) 2.05 g and 0.9 g of a dispersant were added and dispersed for 3 hours without cooling with a bead mill disperser. Ethyl cellosolve was used as a solvent, diluted to have a viscosity of 5 cp or less, and stirred well to prepare a red ink.
[0032]
For green ink, acrylic resin (20 parts by weight of methacrylic acid, 15 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 55 parts by weight of butyl methacrylate was dissolved in 300 parts by weight of ethyl cellosolve, and azobis was added under a nitrogen atmosphere. Acrylic resin obtained by adding 0.75 parts by weight of nitrile and reacting at 70 ° C. for 5 hours was diluted with ethyl cellosolve so that the resin concentration was 20% by weight. 90.1 g of this diluted resin, green pigment Lionol Green 2YS (C, I, Pig Green 36: manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) 7.55 g, yellow pigment Paliotol Yellow L1820 (C, I, Pig Yellow 139: BASF Corporation) 1.45 g and 0.9 g dispersant were added and dispersed for 3 hours without cooling with a bead mill disperser. The solution was diluted with ethyl cellosolve as a solvent so that the viscosity was 5 cp or less, and stirred well to prepare a green ink.
[0033]
For blue ink, acrylic resin (20 parts by weight of methacrylic acid, 15 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 55 parts by weight of butyl methacrylate was dissolved in 300 parts by weight of ethyl cellosolve, and azobis was added under a nitrogen atmosphere. Acrylic resin obtained by adding 0.75 parts by weight of nitrile and reacting at 70 ° C. for 5 hours was diluted with ethyl cellosolve so that the resin concentration was 20% by weight. 91 g of this diluted resin, 0.8 g of blue pigment heliogen blue L6700F (manufactured by BASF), 0.1 g of purple pigment ryonogen violet RL (manufactured by Toyo Ink) and 0.9 g of a dispersant were added to disperse the bead mill. It was dispersed for 3 hours while cooling with a machine. A blue ink was prepared by diluting with ethyl cellosolve as a solvent to a viscosity of 5 cp or less and stirring well.
[0034]
Next, using a piezo method and an inkjet recording apparatus equipped with a head having a nozzle resolution of 180 dpi, R, G, and B pigment dispersion inks prepared by the method described above were applied to the openings of the matrix-shaped light shielding layer on the glass substrate. . At this time, the amount of applied ink was adjusted to a height of about 20 to 30% at the stage of drying with respect to the thickness of the opening of the matrix light shielding layer. After applying the ink, a heat treatment was performed at 70 ° C. for 20 minutes to temporarily cure the ink, thereby forming an undercoat layer composed of R, G, and B colored portions.
[0035]
Next, using the inkjet recording apparatus, the R, G, and B inks are overcoated on the black matrix opening (undercoat layer), and heat-treated at 230 ° C. for 1 hour to cure the ink. A color filter composed of colored portions of R, G, and B was formed.
[0036]
Further, a two-component thermosetting resin SS-7625 (manufactured by JSR) was spin-coated as a protective film so as to have a film thickness of 1 μm, and cured by heat treatment at 230 ° C. for 1 hour.
[0037]
When the color filter substrate for a liquid crystal element thus prepared was observed with an optical microscope, neither color mixing nor white spots were observed. Also, the concentration was high. Moreover, when the flatness of each coloring part was observed, each coloring part was formed substantially flat. The color difference (■ Eab) between the colored portions was as good as 3 or less, and a highly reliable color filter could be produced.
[0038]
The display characteristics of the liquid crystal element in which the liquid crystal is sandwiched between the color filter and the opposing substrate (active matrix TFT) were good.
[0039]
(Comparative Example 1)
A black matrix is formed on a glass substrate in the same manner as in the example, and an undercoat layer is not provided. The same amount of ink as in the example is applied to the opening to form a colored portion in one step, and a color filter is produced. did.
[0040]
Further, a two-component thermosetting resin SS-7625 (manufactured by JSR) was spin-coated as a protective film so as to have a film thickness of 1 μm, and cured by heat treatment at 230 ° C. for 1 hour.
[0041]
When the color filter substrate for a liquid crystal element thus prepared was observed with an optical microscope, as a result of applying a large amount of ink, the ink overflowed from the opening, and each colored portion was overlapped and mixed, resulting in good color. A patterned colored layer was not formed.
[0042]
The display characteristics of the liquid crystal element in which the liquid crystal is sandwiched between the color filter and the counter substrate (active matrix TFT) are not preferable.
[0043]
(Comparative Example 2)
In the same manner as in the example, a black matrix was formed on a glass substrate, and the same amount of ink as in the case of providing an undercoat layer was applied to the opening to form a colored portion, thereby producing a color filter.
[0044]
Further, a two-component thermosetting resin SS-7625 (manufactured by JSR) was spin-coated as a protective film so as to have a film thickness of 1 μm, and cured by heat treatment at 230 ° C. for 1 hour.
[0045]
When the color filter substrate for a liquid crystal element thus prepared was observed with an optical microscope, no color mixture was confirmed, but white spots were confirmed due to an insufficient amount of applied ink. Further, since the formed film thickness was thin, the density was lower than that of the example, and the color difference (■ Eab) with the current color filter was 10 or more, and a good color filter was not formed.
[0046]
Further, when the flatness of each colored portion was observed, the flatness of each colored portion was poor and the color difference (■ Eab) was 10 or more.
[0047]
The display characteristics of the liquid crystal element in which the liquid crystal is sandwiched between the color filter and the counter substrate (active matrix TFT) are not preferable.
[0048]
[Table 1]
Figure 0004432353
[0049]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, when ink is applied to the area surrounded by the partition walls, color mixing between adjacent colored portions is prevented, and ink is sufficiently diffused within the area. The density can be improved to form a colored portion without white spots. That is, a highly reliable optical element having a colored portion free from mixed colors, white spots, and color unevenness can be manufactured by a simple process with a high yield using an inkjet method. Therefore, a liquid crystal element having excellent color display characteristics can be provided at a lower cost by using the color filter.
[0050]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a process chart showing an embodiment of a production method of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an embodiment of the liquid crystal element of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light transmissive board | substrate 2 Light-shielding resin composition layer 3 Black matrix 4 Opening part 5 Inkjet head 6a-6c Colored ink 7a-7c Undercoat layer 8a-8c Colored part 9 Protective film 10 Light transmissive board | substrates 11a, 11b Electrode 12a, 12b Alignment film 13 Liquid crystal 14a, 14b Polarizing plate 15 Light

Claims (8)

少なくとも光透過性基板上にブラックマトリクスと
ブラックマトリクスの開口部にインクジェット方式により着色インクを塗布した着色部を形成するカラーフィルタの製造方法において、
上記光透過性基板上に正方形の開口部を有するブラックマトリクスを形成する工程と、
上記ブラックマトリクスの開口部に上記着色インクを下塗りする工程と、
上記着色インクを硬化させて、上記ブラックマトリクスの開口部の厚みに対して乾燥した段階で20〜30%の厚みとなる下塗り層を形成する工程と、
上記下塗り層の上に、上記着色インクを重ね塗りする工程と、
重ね塗りした上記着色インクを硬化させて着色部を形成する工程と、
を備えること特徴とするカラーフィルタの製造方法。
At least a black matrix on a light transmissive substrate ,
In the manufacturing method of the color filter that forms the colored portion by applying the colored ink to the opening of the black matrix by the inkjet method,
Forming a black matrix having a square opening on the light transmissive substrate;
Undercoating the colored ink in the opening of the black matrix;
A step of curing the colored ink and forming an undercoat layer having a thickness of 20 to 30% when dried with respect to the thickness of the opening of the black matrix;
A step of repeatedly applying the colored ink on the undercoat layer;
Curing the overlying colored ink to form a colored portion;
A method for producing a color filter, comprising:
上記ブラックマトリクスの厚みが0.5〜2.0μm、開口率が60%以上である請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the black matrix has a thickness of 0.5 to 2.0 μm and an aperture ratio of 60% or more. 上記着色インクが有機溶剤に顔料をインク全体の重量に対して少なくとも10%以上の濃度で分散させたものであることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。2. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the colored ink is obtained by dispersing a pigment in an organic solvent at a concentration of at least 10% or more based on the total weight of the ink. 上記下塗り層を形成する工程において、上記着色インクを付与した後、70℃で20分間の熱処理を行って上記着色インクを仮硬化させることを特徴とする請求項1もしくは請求項3のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。4. The method according to claim 1, wherein, in the step of forming the undercoat layer, after the colored ink is applied, the colored ink is temporarily cured by performing a heat treatment at 70 ° C. for 20 minutes. The manufacturing method of the color filter of description. 上記着色部を形成する工程において、上記着色インクを重ね塗りした後、230℃で1時間の熱処理を行って上記着色インクを硬化させることを特徴とする請求項1もしくは請求項3のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。4. In the step of forming the colored portion, after the color ink is overcoated, heat treatment is performed at 230 ° C. for 1 hour to cure the color ink. The manufacturing method of the color filter of description. 上記着色インクが熱、光、電子線のいずれかのエネルギーにより硬化する請求項1又は請求項3〜5のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the colored ink is cured by any energy of heat, light, and electron beam. 請求項1〜6に記載の製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。A color filter manufactured by the manufacturing method according to claim 1. 請求項7に記載のカラーフィルタと対抗基板間に液晶を挟持したことを特徴とする液晶素子。A liquid crystal element comprising a liquid crystal sandwiched between the color filter according to claim 7 and a counter substrate.
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