JP4411967B2 - 圧電振動デバイスの周波数調整方法 - Google Patents
圧電振動デバイスの周波数調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4411967B2 JP4411967B2 JP2003431860A JP2003431860A JP4411967B2 JP 4411967 B2 JP4411967 B2 JP 4411967B2 JP 2003431860 A JP2003431860 A JP 2003431860A JP 2003431860 A JP2003431860 A JP 2003431860A JP 4411967 B2 JP4411967 B2 JP 4411967B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- piezoelectric vibration
- frequency adjustment
- piezoelectric
- adjustment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 107
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 67
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 48
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 34
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 32
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 93
- 239000010408 film Substances 0.000 description 43
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 28
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 21
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
2 パッケージ
3 振動片(振動部)
G1、G2、G3 周波数グループ
Claims (6)
- 少なくとも1つ以上の圧電振動ウエハから少なくとも1つ以上形成された振動部を搭載する圧電振動デバイスの前記振動部の周波数を調整する周波数調整方法であって、
周波数調整の周波数の対象を圧電振動ウエハの中心周波数とし、
前記圧電振動ウエハの中心周波数は、当該圧電振動ウエハにおける振動部の平均周波数であり、
予め設定した許容周波数範囲内において周波数範囲を複数の周波数グループに分類する分類工程と、
前記分類工程において分類した前記周波数グループ毎に、それぞれ周波数調整幅を設定する調整幅設定工程と、を有し、
前記周波数調整は、前記振動部に金属膜を蒸着する蒸着工程と、前記振動部に形成された金属膜を除去する除去工程とによって行ない、かつ、これら前記蒸着工程と前記除去工程との少なくとも一工程を複数回行ない、
前記調整幅設定工程では、前記周波数調整を行うにつれて前記周波数調整幅の範囲が狭くなるよう設定し、
前記振動部が電極形成された状態の少なくとも1つ以上の前記圧電振動ウエハが有する中心周波数値によって、この圧電振動ウエハを前記周波数グループに分類し、
さらに、周波数調整を行なった前記振動部を前記圧電振動デバイスの筐体であるパッケージに配した後に、イオンミーリング法を用いて前記振動部に形成された前記金属膜をエッチングするエッチング工程を有することを特徴とする圧電振動デバイスの周波数調整方法。 - 請求項1に記載の圧電振動デバイスの周波数調整方法において、
前記蒸着工程と前記除去工程とを複数回行なうことを特徴とする圧電振動デバイスの周波数調整方法。 - 請求項1または2に記載の圧電振動デバイスの周波数調整方法において、
前記除去工程において前記周波数調整幅の範囲が狭くなるよう設定することを特徴とする圧電振動デバイスの周波数調整方法。 - 請求項1乃至3のうちいずれか1つに記載の圧電振動デバイスの周波数調整方法において、
前記エッチング工程の前に、前記振動部に金属膜を蒸着する第2の蒸着工程を有することを特徴とする圧電振動デバイスの周波数調整方法。 - 請求項1乃至4のうちいずれか1つに記載の圧電振動デバイスの周波数調整方法において、
前記圧電振動デバイスは、音叉型圧電振動デバイスであることを特徴とする圧電振動デバイスの周波数調整方法。 - 請求項1乃至5のうちいずれか1つに記載の圧電振動デバイスの周波数調整方法において、
前記周波数調整の各工程において、前記分類工程において分類する前記周波数グループの数を可変させることを特徴とする圧電振動デバイスの周波数調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003431860A JP4411967B2 (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 圧電振動デバイスの周波数調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003431860A JP4411967B2 (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 圧電振動デバイスの周波数調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005191988A JP2005191988A (ja) | 2005-07-14 |
JP4411967B2 true JP4411967B2 (ja) | 2010-02-10 |
Family
ID=34789741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003431860A Expired - Fee Related JP4411967B2 (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 圧電振動デバイスの周波数調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4411967B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112162145B (zh) * | 2020-09-09 | 2022-04-08 | 浙江大学台州研究院 | 一种sc切型石英晶片在线研磨测频系统的自动搜索方法 |
CN112162149B (zh) * | 2020-09-09 | 2022-04-08 | 浙江大学台州研究院 | 一种sc切型石英晶片在线研磨测频系统的跟踪测频方法 |
CN112162148B (zh) * | 2020-09-09 | 2022-04-08 | 浙江大学台州研究院 | 一种sc切型石英晶片在线单频率跟踪测频方法 |
CN112327051B (zh) * | 2020-09-09 | 2022-04-08 | 浙江大学台州研究院 | 一种sc切型石英晶片研磨的在线测频方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5753123A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-30 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Superthin crystal resonator |
JP2602215B2 (ja) * | 1986-12-15 | 1997-04-23 | 日本電波工業 株式会社 | 圧電振動子の周波数調整方法 |
JPH07273582A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Kokusai Electric Co Ltd | 弾性表面波共振子の製造方法 |
JPH08274566A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-18 | Daishinku Co | 弾性表面波デバイスの周波数調整装置 |
JP3453971B2 (ja) * | 1995-12-25 | 2003-10-06 | 松下電器産業株式会社 | 水晶振動子の製造方法 |
JPH1041771A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 振動子の製造方法とその製造装置 |
JP3696439B2 (ja) * | 1999-06-30 | 2005-09-21 | 東光株式会社 | 表面弾性波素子の製造方法及び製造装置 |
JP2001044760A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-16 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 水晶振動子及び電圧制御発振器並びにその製造方法 |
JP2003273696A (ja) * | 2002-01-11 | 2003-09-26 | Piedekku Gijutsu Kenkyusho:Kk | 水晶ユニットの製造方法と水晶発振器の製造方法 |
-
2003
- 2003-12-26 JP JP2003431860A patent/JP4411967B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005191988A (ja) | 2005-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6933809B2 (en) | Film bulk acoustic resonator (FBAR) device and method for producing the same | |
US9362880B2 (en) | Manufacturing method of an array of BAW resonators with mask controlled resonant frequencies | |
US20040017130A1 (en) | Adjusting the frequency of film bulk acoustic resonators | |
JP5040654B2 (ja) | 水晶振動子 | |
JP4130990B2 (ja) | バルク音響共振器およびフィルタのウェハレベル同調のための方法およびシステム | |
CN103430450B (zh) | 压电振动片、压电振子、压电振动片的制造方法、及压电振子的制造方法 | |
JP4567731B2 (ja) | 圧電薄膜共振器の製造方法および集積回路 | |
US20060017352A1 (en) | Thin device and method of fabrication | |
JP2003318685A (ja) | 水晶振動子の製造方法 | |
US20110241491A1 (en) | Surface-mountable quartz-crystal devices and methods for manufacturing same | |
JP2003073200A (ja) | エッチング方法及びその方法によって成形されたエッチング成形品 | |
JP3712035B2 (ja) | 表面波装置の製造方法 | |
TWI724249B (zh) | 壓電振動元件的頻率調整方法 | |
US6975184B2 (en) | Adjusting the frequency of film bulk acoustic resonators | |
JP4411967B2 (ja) | 圧電振動デバイスの周波数調整方法 | |
JP4665849B2 (ja) | 圧電振動デバイスの製造方法 | |
US6787970B2 (en) | Tuning of packaged film bulk acoustic resonator filters | |
JP4196641B2 (ja) | 超薄板圧電デバイスとその製造方法 | |
CN111525905B (zh) | 体声波谐振器、半导体器件、质量负载制作方法及电子设备 | |
US6794212B2 (en) | Method and apparatus for fabricating a thin film bulk acoustic resonator | |
JP2995550B2 (ja) | 水晶振動片の製造方法 | |
JP4039230B2 (ja) | 音叉型振動子の発振周波数調整方法、及びその方法によって発振周波数が調整された音叉型振動子 | |
US5445708A (en) | Method for preparing ultrathin piezoelectric resonator plates | |
JP7356085B2 (ja) | 圧電振動子及びその製造方法 | |
US8669687B2 (en) | Method of adjusting the resonance frequency of a micro-machined vibrating element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050721 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080508 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080826 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081024 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090317 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090416 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090514 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090804 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090918 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091027 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091109 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4411967 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131127 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |