JP4407344B2 - 焦点可変素子 - Google Patents
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また、前述の表面加工型や分割電極型においては、(iv)フレネルレンズとして機能するよう、基板の表面加工形状や分割電極の半径を調整して設計された回折型の焦点可変素子なども提案されている(例えば、特許文献3参照)。
一方、(ii)の傾斜電場型では、液晶セルの厚さを薄くでき、また液晶パネル作製が容易であるといった利点があるものの、電極と液晶層が離れているため、液晶を駆動する電圧が高くなる問題を生じている。
また、(iii)の分割電極型では、電極を分割しているので発生する位相差が階段状であり、回折光の発生や高次波面収差の発生、更に分割に伴う回折散乱損失などが問題となっている。
更に、(iv)の回折型焦点可変素子は、光の波長に応じて回折効率や回折角度が変化するために波長依存性が強い問題や、焦点距離を連続的に変化できない制約がある。
図1は本発明の一実施形態に係る焦点可変素子10の断面図、図2はその焦点可変素子10に備える電極装置20の電極構造を示す平面図である。
このうち、線状給電電極21〜25は、外部の電圧制御手段18(図1参照)により、適宜適切な電圧を印加する。線状給電電極21〜25は、高抵抗平面電極26A〜26Dと比較して、その電気抵抗が1/100以下であればよく、ITO膜などの透明電極や、金、銀、アルミニウムやクロムなどを成分とする金属導電膜でよい。線状給電電極21〜25の数は任意であり(図2では5つ)、電極数を多くすれば波面収差が小さくなり好ましいが、構成が複雑となるために5〜7個が適切である。
本発明の焦点可変素子10が入射光の焦点距離を可変とするためには、液晶が発する位相分布が軸対称放物面形状であればよい。例えば、波面が平坦な無限焦点(つまり、平面波)の光束α(図2参照)が入射した場合、軸対称放物面型の位相分布により、その波面αが放物面状に変調され、光が集光または拡散する。
Γ(r)=a・r2 ・・・・・・(1)
但し、r:光軸βからの距離
a:比例係数
となる。
r2=X2+Y2
の関係が成立し、位相分布ΓをX成分ΓX、Y成分ΓYに変数分離できる。
ΓX(X)=aX・X2 ・・・(2)
ΓY(Y)=aY・Y2 ・・・(3)
但し、aX、aY:比例係数
一方、液晶14が負の誘電異方性を有し、かつ、電圧無印加において垂直配向していれば、電圧増加と共に液晶14のチルト角が小さくなるため、実効屈折率は大きくなる。もし、液晶14の実効屈折率が印加電圧に比例すれば、r2に比例する電位分布に応じて、軸対称放物面型の位相分布を得ることができる。
φx(r)=φx0+kX2 ・・・(4)
φy(r)=φy0−kY2 ・・・(5)
但し、φx0:定数電位(X=0での電位)
φy0:定数電位(Y=0での電位)
k:比例係数
で示す関数形であれば、液晶14に印加される電圧V(r)は、電位φx(r)と電位φy(r)の差であるから、式(1)に示した軸対称放物面形状を有する位相分布Γは、次式、
Γ(r)=a・[{(φx(r)−φx0)/k}
+{−(φy(r)−φy0)/k}] ・・・(6)
で表すことができる。
なお、式(4)、(5)で比例係数kを等しくするには、電極15、16の電極装置20の構造を等しくすればよい。
図2の電極装置20の構造から、電位はY方向に均一であるとすれば、位置Xにおける電位φは、
φ(X)=(Rbφa+Raφb)/(Ra+Rb) ・・・(7)
但し、φa:線状給電電極24の電位
φb:線状給電電極25の電位
である。なお、Raは線状給電電極24から位置Xまでの高抵抗平面電極26Dの積分抵抗、Rbは位置Xから線状給電電極25までの積分抵抗である。
ここで、(7)式が(4)式と等しくなるためには、(8)、(9)式より、
f(X)=K/X ・・・(10)
但し、K:比例係数
であればよい。
図3中のXa、Xbは、線状給電電極24、25の電位φa、φbに相当し、高抵抗平面電極26A〜26Dの電位分布は、放物線形状を呈している。この図3の放物線は、正確には、線状給電電極24、25の内部では等電位であるため、全体では一つの放物線に一致しない。この不一致は、波面収差になるので好ましくなく、線状給電電極24、25の電極幅はできる限り狭い方が好ましい。
また、光軸βでの電位勾配は0であるため、厳密には高抵抗平面電極幅26Dは無限大に発散してしまうが、光軸β付近での電位(図2では線状給電電極23の電位)は一定にしても影響が小さいため、ある一定領域を等電位としてもよい。
一方、破線(b)、(c)は、従来の焦点可変素子を用いた場合の波面収差を示すものであり、何れも波面収差が0.2λ(rms)以上であるため、回折限界程度まで結像させることは困難である。
また、本発明の焦点可変素子はシリンドリカルレンズとして機能させることもできる。その場合は、電極装置20に対向する電極が一様に形成されている一様等電位電極であればよく、位相分布はX方向に放物形状、Y方向に等位相となるので、例えば、楕円形状の光束を円形に整形するなど、アナモルフィック素子として応用できる。
以下に、実施例1の焦点可変素子10の製造方法について、図1及び図2を参照して説明する。
線状給電電極21〜25は、ITO膜をスパッタリング法により成膜した後、フォトリソグラフィー技術及びエッチング法を用いて形成する。また、高抵抗平面電極26A〜26Dは、リフトオフ法(マスクを用いた薄膜積層方法の一種)を用いて、酸化錫を主組成とする透明導電膜により形成する。なお、線状給電電極21〜25の抵抗値は40Ω/□、高抵抗平面電極26A〜26Dの抵抗値は100KΩ/□である。
(3)次に、直径30μmのガラスファイバースペーサーを5%混入した熱硬化型接着材を透明基板11の電極15が形成された面に印刷塗布し、シール13とする。
(4)更に、透明基板11の上にシール13だけ離間させた状態で透明基板12を重ね合せ、圧着固化することによりセルとする。
(5)そして、シール13の一部に設けた注入口(図示せず)から、カイラル材とモノマーと重合開始材がネマティック液晶に混合された液晶14をセル中に充填するように注入する。なお、この液晶14は、液晶相がカイラルネマティック相を呈する温度において紫外線を照射し、モノマーを光重合高分子化して得られた高分子安定化カイラルネマティック液晶である。
n(0Vrms)=1.56、
n(100Vrms)=1.49
であり、100Vrmsの電圧印加により約0.07だけ屈折率が変化する。
また、本実施例の焦点可変素子10の屈折率電圧依存性は、入射偏光によらないことから、この屈折率変化は等方的である。また、応答速度は約1msec以下である。
また、線状給電電極21〜25への印加電圧を変化することで、集光位置を光軸α方向に移動させることができる。よって、本実施例の焦点可変素子10により、入射偏光に依存せず高速に制御可能な焦点距離可変レンズを得ることができる。
11、12 透明基板
13 シール
14 液晶
17 配向膜
15、16:電極
18 電圧印加手段
20 電極装置
21〜25 線状給電電極
26A〜26D 高抵抗平面電極
100 給電型電極
101〜103:給電電極
104 高抵抗平面電極
200 分割型電極
201〜210 分割電極
α 光束
β 光軸
Claims (5)
- 一対の透明基板に挟持された液晶に印加する電圧の大きさに応じて、前記液晶を透過する光の焦点距離を変化させる焦点可変素子であって、
前記一対の透明基板のそれぞれの一面に、前記液晶に前記電圧を印加する高抵抗平面電極と、前記高抵抗平面電極に所定の電位分布を形成するための複数の線状給電電極とを有する電極装置を備え、
前記電極装置は、前記一対の透明基板のそれぞれの一面に備えられた複数の前記線状給電電極が、互いに対向して配置され、
前記一対の透明基板のそれぞれの一面に備えられた前記高抵抗平面電極は、複数の前記線状給電電極に挟まれるとともに、前記光の光軸を含む、前記線状給電電極の長手方向からの距離に反比例した電極幅を有し、
前記高抵抗平面電極部分の電位は、前記光軸を含む、前記線状給電電極の長手方向からの距離の二乗に比例する電位勾配となるとともに、前記光軸を含む、前記線状給電電極の長手方向と直交する方向からの距離によらず電位勾配が一定であり、
前記一対の透明基板のうち一方の一面に備えられた、複数の前記高抵抗平面電極および複数の前記線状給電電極の前記電位勾配の方向と、前記一対の透明基板の他方の一面に備えられた、複数の前記高抵抗平面電極および複数の前記線状給電電極の前記電位勾配の方向と、が互いに直交する焦点可変素子。 - 前記液晶が、カイラルネマティック液晶又はブルー相を呈する低分子液晶と、光重合高分子との複合組成液晶である請求項1に記載の焦点可変素子。
- 一対の透明基板に挟持された第1の液晶と、前記第1の液晶に積層された一対の透明基板に挟持された第2の液晶と、に印加する電圧の大きさに応じて、前記第1の液晶および前記第2の液晶を透過する光の焦点距離を変化させる焦点可変素子であって、
前記第1の液晶を挟持する前記一対の透明基板のいずれか一方の一面に、前記第1の液晶に前記電圧を印加する第1の高抵抗平面電極と、前記第1の高抵抗平面電極に所定の電位分布を形成するための複数の第1の線状給電電極とを有するとともに、前記第1の液晶を挟持する前記一対の透明基板の他方の一面に一様な第1の透明電極を有する第1の電極装置と、
前記第2の液晶を挟持する前記一対の透明基板のいずれか一方の一面に、前記第2の液晶に前記電圧を印加する第2の高抵抗平面電極と、前記第2の高抵抗平面電極に所定の電位分布を形成するための複数の第2の線状給電電極とを有するとともに、前記第2の液晶を挟持する前記一対の透明基板の他方の一面に一様な第2の透明電極を有する第2の電極装置と、を備え、
前記第1の電極装置における前記第1の高抵抗平面電極は、複数の前記第1の線状給電電極に挟まれるとともに、前記光の光軸を含む、前記第1の線状給電電極の長手方向からの距離に反比例した電極幅を有し、
前記第1の高抵抗平面電極部分の電位は、前記光軸を含む、前記第1の線状給電電極の長手方向からの距離の二乗に比例する電位勾配となるとともに、前記光軸を含む、前記第1の線状給電電極の長手方向と直交する方向からの距離によらず電位勾配が一定であり、
前記第2の電極装置における前記第2の高抵抗平面電極は、複数の前記第2の線状給電電極に挟まれるとともに、前記光の光軸を含む、前記第2の線状給電電極の長手方向からの距離に反比例した電極幅を有し、
前記第2の高抵抗平面電極部分の電位は、前記光軸を含む、前記第2の線状給電電極の長手方向からの距離の二乗に比例する電位勾配となるとともに、前記光軸を含む、前記第2の線状給電電極の長手方向と直交する方向からの距離によらず電位勾配が一定であり、
前記第1の線状給電電極の長手方向と、前記第2の線状給電電極の長手方向と、が直交する焦点可変素子。 - 前記第1の液晶および前記第2の液晶が、カイラルネマティック液晶又はブルー相を呈する低分子液晶と、光重合高分子との複合組成液晶である請求項3に記載の焦点可変素子。
- 波長板、偏光板、等方性回折格子、複屈折性回折格子のうち少なくとも1つが積層若しくは形成されて一体化している請求項1〜4の何れか1項に記載の焦点可変素子。
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