JP4393573B1 - Transparent conductive laminate and transparent touch panel using the same - Google Patents

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Abstract

【課題】透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる透明導電性積層体、およびこのような透明導電性積層体を用いた透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明有機高分子基板(16)の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層(15)と透明導電層(14)とが順次積層された透明導電性積層体(14、15、16)であって、硬化樹脂層が、硬化樹脂成分、および硬化樹脂成分中に分散している少なくとも1種の平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物超微粒子Aおよび金属フッ化物超微粒子Bを有し、硬化樹脂層におけるこれらの超微粒子AおよびBの含有量はそれぞれ、硬化樹脂成分100質量部あたり1質量部以上20質量部未満であり、かつこれらの超微粒子AおよびBの質量比(A/B)が、0.3よりも大きいことを特徴とする、透明導電性積層体とする。またこのような透明導電性積層体(14、15、16)を有する透明タッチパネル(20)とする。
【選択図】図3
A transparent conductive laminate capable of preventing Newton's rings occurring between two transparent electrode substrates constituting a transparent touch panel, and a transparent touch panel using such a transparent conductive laminate.
A transparent conductive laminate (14) in which a cured resin layer (15) having an uneven surface and a transparent conductive layer (14) are sequentially laminated on at least one surface of a transparent organic polymer substrate (16). 15 and 16), wherein the cured resin layer is dispersed in the cured resin component and the cured resin component, and the metal oxide ultrafine particles A and the metal fluoride ultrafine particles having an average primary particle diameter of 100 nm or less. The content of these ultrafine particles A and B in the cured resin layer is 1 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the cured resin component, and the ultrafine particles A and B have fine particles B. The transparent conductive laminate is characterized in that the mass ratio (A / B) is larger than 0.3. Moreover, it is set as the transparent touch panel (20) which has such a transparent conductive laminated body (14, 15, 16).
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、透明タッチパネルおよびそれに好適な透明導電性積層体に関する。さらに詳しくは視認性に優れた透明タッチパネルおよびそれに用いる透明導電性積層体に関する。   The present invention relates to a transparent touch panel and a transparent conductive laminate suitable for the transparent touch panel. In more detail, it is related with the transparent touch panel excellent in visibility, and the transparent conductive laminated body used for it.

近年、マンマシンインターフェースの一つとして対話型入力方式を実現する透明タッチパネルが多く使用されるようになった。透明タッチパネルは位置検出方式によって、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。このうち抵抗膜方式は、構造が単純で価格/性能比も良いため、近年急速な普及を見せている。   In recent years, a transparent touch panel that realizes an interactive input method is often used as one of man-machine interfaces. The transparent touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like depending on the position detection method. Among these, the resistive film method has been rapidly spread in recent years because of its simple structure and good price / performance ratio.

抵抗膜方式の透明タッチパネルは、対向する側に透明導電層を有する2枚のフィルムまたはシートを一定間隔に保持して構成される電子部品であり、可動電極基板(視認側の電極基板)をペンまたは指で押圧し、たわませ、固定電極基板(対向する側の電極基板)と接触、導通することによって検出回路が位置を検知し、所定の入力がなされるものである。この際、押圧部周辺にニュートンリングと呼ばれる干渉縞が現れることがある。また、押圧しない状態であっても可動電極基板の撓みにより可動電極基板と固定電極基板の間隔が狭くなった部分にニュートンリングが現れることがある。ニュートンリングの発生によりディスプレイの視認性が低下する。   A resistive film type transparent touch panel is an electronic component configured by holding two films or sheets having a transparent conductive layer on opposite sides at a constant interval, and a movable electrode substrate (viewing side electrode substrate) is a pen. Alternatively, the detection circuit detects the position by pressing and bending with a finger, making contact with the fixed electrode substrate (the electrode substrate on the opposite side) and conducting, and a predetermined input is made. At this time, interference fringes called Newton rings may appear around the pressing portion. Even in a state where the electrode is not pressed, a Newton ring may appear in a portion where the distance between the movable electrode substrate and the fixed electrode substrate is narrowed due to the bending of the movable electrode substrate. The visibility of the display decreases due to the occurrence of Newton rings.

このような抵抗膜方式の透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板間に発生するニュートンリングを軽減するためには、適切な形状、大きさの凹凸をフィルム表面に形成する方法が有効である。具体的には、平均一次粒子径1〜4μmのフィラーを所定量含むコーティング層と透明導電層を、プラスチックフィルムの上に形成する方法や(特許文献1参照)、平均二次粒子径1.0〜3.0μmとなるシリカ粒子を含む突起塗工層(突起を有する塗工層)をプラスチックフィルム上に形成する方法が開示されている(特許文献2参照)。   In order to reduce Newton's ring generated between two transparent electrode substrates constituting such a resistive film type transparent touch panel, a method of forming irregularities of appropriate shape and size on the film surface is effective. . Specifically, a method of forming a coating layer containing a predetermined amount of filler having an average primary particle diameter of 1 to 4 μm and a transparent conductive layer on a plastic film (see Patent Document 1), an average secondary particle diameter of 1.0 A method of forming a protrusion coating layer (coating layer having protrusions) containing silica particles of ˜3.0 μm on a plastic film is disclosed (see Patent Document 2).

上記のように平均一次粒子径または二次粒子径が数ミクロン程度の粒子を含有するコーティング層と透明導電層をプラスチックフィルム上に形成した透明導電性積層体を用いた透明タッチパネルの場合、ニュートンリング発生は軽減される。しかし、近年の高精細ディスプレイ上に上記の透明タッチパネルを設置した場合、上記のコーティング層中の粒子周辺の樹脂がレンズ効果を果たすことによって、ディスプレイから来る光の色分離(チラツキ(sparkling))を起こし、ディスプレイの視認性を著しく劣化させる問題が発生していた。   In the case of a transparent touch panel using a transparent conductive laminate in which a coating layer containing particles having an average primary particle size or secondary particle size of about several microns as described above and a transparent conductive layer are formed on a plastic film, Newton rings Occurrence is reduced. However, when the transparent touch panel is installed on a high-definition display in recent years, the resin around the particles in the coating layer plays a lens effect, so that color separation (sparkling) of light coming from the display is achieved. This causes a problem that the visibility of the display is remarkably deteriorated.

また、上記以外のニュートンリングを軽減するためのコーティング層として、平均一次粒子径が0.5μm以上5μm以下の無機微粒子を含有する硬化樹脂に、平均一次粒子径100nm以下の無機超微粒子を添加することで、凹凸形状を制御しニュートンリング発生とチラツキ発生による視認性劣化を同時に軽減する方法が開示されている(特許文献3参照)。しかしながら、この方法で形成されたアンチニュートンリング層は、タッチパネルに要求される摺動耐久性や端押し耐久性試験を行った場合、これら無機粒子によって形成されている突起部分から透明導電層が劣化・剥離し始め、最期にはタッチパネルとしての電気特性が劣化する問題がある。   Further, as a coating layer for reducing Newton rings other than the above, inorganic ultrafine particles having an average primary particle size of 100 nm or less are added to a cured resin containing inorganic fine particles having an average primary particle size of 0.5 μm or more and 5 μm or less. Thus, a method has been disclosed in which the uneven shape is controlled to simultaneously reduce the deterioration of visibility due to Newton's ring generation and flickering (see Patent Document 3). However, when the anti-Newton ring layer formed by this method is subjected to the sliding durability and end-press durability test required for the touch panel, the transparent conductive layer deteriorates from the protruding portion formed by these inorganic particles.・ Because it begins to peel, there is a problem that the electrical characteristics of the touch panel deteriorate at the end.

また打点耐久試験を行った場合、可動電極基板の透明導電層形成面に含有される無機微粒子によって形成された突起が、固定電極基板上に形成されたドットスペーサーを破壊し、破片がタッチパネル内に飛散する。このように飛散したドットスペーサーの破片が可動電極基板と固定電極基板間の導通を妨げ、タッチパネルの電気特性を劣化させる問題がある。更にこれら飛散したドットスペーサーの破片は、可動電極基板と固定電極基板の透明導電層を着傷し、タッチパネルの電気特性を劣化させる問題もある。   In addition, when performing a dot durability test, the protrusions formed by inorganic fine particles contained on the transparent conductive layer forming surface of the movable electrode substrate destroy the dot spacers formed on the fixed electrode substrate, and the fragments are in the touch panel. Scatter. There is a problem in that the scattered dot spacer fragments prevent the conduction between the movable electrode substrate and the fixed electrode substrate, and deteriorate the electrical characteristics of the touch panel. Further, the scattered dot spacer fragments may damage the transparent conductive layers of the movable electrode substrate and the fixed electrode substrate, thereby deteriorating the electrical characteristics of the touch panel.

さらにこのような無機微粒子を用いて形成されたアンチニュートンリング層を固定電極基板として用いた場合には、無機微粒子によって形成された突起が可動電極基板の透明導電層を着傷し、タッチパネルの電気特性が劣化する問題もある。また、数μm程度の微粒子を含む樹脂層を、グラビアコーター等を使用したウェットコーティングで形成する場合、塗工液中の微粒子が経時的に沈降するため、頻繁に塗工液交換が必要であり、生産性に問題があった。   Further, when an anti-Newton ring layer formed using such inorganic fine particles is used as a fixed electrode substrate, the protrusions formed by the inorganic fine particles damage the transparent conductive layer of the movable electrode substrate, and the touch panel There is also a problem that the characteristics deteriorate. In addition, when a resin layer containing fine particles of about several μm is formed by wet coating using a gravure coater or the like, the fine particles in the coating solution settle out over time, so it is necessary to change the coating solution frequently. There was a problem with productivity.

膜表面に凹凸形状を形成するために1μm以上の無機微粒子を使用しない方法として、熱可塑性樹脂および平均一次粒子径が0.001μm以上かつ1μm未満の無機微粒子を、活性化エネルギー線を照射することで重合可能な化合物またはそのオリゴマーと組み合わせている例があるが、このような手法で形成された層では、ヘーズが極端に高くなるため、ディスプレイの視認性を悪化させる問題がある(特許文献4参照)。   As a method not using inorganic fine particles of 1 μm or more in order to form irregularities on the film surface, irradiating the thermoplastic resin and inorganic fine particles having an average primary particle diameter of 0.001 μm or more and less than 1 μm with activation energy rays However, in the layer formed by such a method, the haze becomes extremely high, and there is a problem of deteriorating the visibility of the display (Patent Document 4). reference).

また、平均一次粒子径100nm以下の超微粒子を1.0μm未満の凝集体としてまたは凝集体を形成しない状態で硬化樹脂層中に分散させることにより、凹凸形状を形成する方法も開示されているが、このような手法で形成されたアンチニュートンリング層は凹凸が小さいため、押圧が強い場合には、ニュートンリングが確認されるものであった(特許文献5、6、7、8参照)。   Further, although a method for forming an uneven shape by dispersing ultrafine particles having an average primary particle diameter of 100 nm or less as an aggregate of less than 1.0 μm or in a state where no aggregate is formed in a cured resin layer is disclosed. Since the anti-Newton ring layer formed by such a method has small unevenness, Newton rings were confirmed when the pressure was strong (see Patent Documents 5, 6, 7, and 8).

特開平10−323931号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-323931 特開2002−373056号公報JP 2002-373056 A 特開2006−190512号公報JP 2006-190512 A 特開2002−275391号公報JP 2002-275391 A 特開2006−056136号公報JP 2006-056136 A 特開2005−209431号公報JP 2005-209431 A 特開2004−351744号公報JP 2004-351744 A 特開2004−195898号公報JP 2004-195898 A

本発明の目的は、透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる透明タッチパネル用透明導電性積層体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a transparent touch panel that can prevent Newton's rings from occurring between two transparent electrode substrates constituting a transparent touch panel without causing deterioration of visibility due to flicker even when the transparent touch panel is installed on a high-definition display. It is providing the transparent conductive laminated body for touchscreens.

本発明の他の目的は、上記視認性を維持し、かつ生産性の良好な透明導電性積層体を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a transparent conductive laminate having good visibility and maintaining the above-mentioned visibility.

本発明のさらに他の目的は、上記透明導電性積層体を用いた新規な透明タッチパネルを提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a novel transparent touch panel using the transparent conductive laminate.

本発明者らは上記課題を解決するために超微粒子を用いた粗面化技術を鋭意検討した結果、少なくとも1種の平均1次粒径100nm以下の金属酸化物超微粒子と、少なくとも1種の平均1次粒径100nm以下の金属フッ化物超微粒子とを、特定の比率で混合し、使用することで、硬化樹脂層中で弱い会合状態を形成し、所望の凹凸形状が形成されることを見出し、下記の本発明に想到した。   In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied a surface roughening technique using ultrafine particles. As a result, at least one metal oxide ultrafine particle having an average primary particle size of 100 nm or less and at least one kind of metal oxide are used. By mixing and using metal fluoride ultrafine particles having an average primary particle size of 100 nm or less in a specific ratio, a weak associating state is formed in the cured resin layer, and a desired uneven shape is formed. The inventor has conceived the present invention described below.

〈1〉透明有機高分子基板の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層と透明導電層とが順次積層された透明導電性積層体であって、
(1)上記硬化樹脂層が、硬化樹脂成分、ならびに上記硬化樹脂成分中に分散している少なくとも1種の平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物超微粒子Aおよび少なくとも1種の平均一次粒子径100nm以下の金属フッ化物超微粒子Bを有し、
(2)上記硬化樹脂層における金属酸化物超微粒子Aの含有量は、硬化樹脂成分100質量部あたり1質量部以上20質量部未満であり、
(3)上記硬化樹脂層における金属フッ化物超微粒子Bの含有量は、硬化樹脂成分100質量部あたり1質量部以上20質量部未満であり、
(4)上記硬化樹脂層における金属酸化物超微粒子Aの金属フッ化物超微粒子Bに対する質量比(A/B)が、0.3よりも大きく、且つ
(5)金属酸化物超微粒子AがSiOであり、且つ金属フッ化物超微粒子BがMgFである、
透明導電性積層体。
〈2〉上記硬化樹脂層の十点平均粗さ(Rz)が、300nm以上1500nm未満であり、かつ上記硬化樹脂層の算術平均粗さ(Ra)が、50nm以上300nm未満であることを特徴とする、上記第〈1〉項記載の透明導電性積層体。
〈3〉上記硬化樹脂層の厚さが0.1〜4.5μmである、上記第〈1〉又は〈2〉項記載の透明導電性積層体。
〈4〉上記透明有機高分子基板と上記硬化樹脂層に基づくヘーズが、1%以上10%未満である、上記第〈1〉〜〈3〉項のいずれか記載の透明導電性積層体。
〈5〉上記透明導電層が酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であり、かつ上記透明導電層の厚さが5〜50nmである、上記第〈1〉〜〈4〉項のいずれか記載の透明導電性積層体。
〈6〉上記透明導電層と接し且つ膜厚が上記透明導電層より薄く0.5nm以上5.0nm未満である金属化合物層を、上記硬化樹脂層と上記透明導電層との間に有する、上記第〈1〉〜〈5〉項のいずれか記載の透明導電性積層体。
〈7〉上記金属化合物層の金属が、上記金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bの金属と同一である、上記第〈6〉項記載の透明導電性積層体。
〈8〉少なくとも片面に透明導電層が設けられた2枚の透明電極基板が、互いの透明導電層同士が向き合うように配置されて構成された透明タッチパネルにおいて、少なくとも一方の透明電極基板として上記第〈1〉〜〈7〉のいずれか記載の透明導電性積層体を用いることを特徴とする、透明タッチパネル。
<1> A transparent conductive laminate in which a cured resin layer having an uneven surface and a transparent conductive layer are sequentially laminated on at least one surface of a transparent organic polymer substrate,
(1) The cured resin layer is a cured resin component, and at least one metal oxide ultrafine particle A having an average primary particle diameter of 100 nm or less and at least one average primary particle diameter dispersed in the cured resin component. Having metal fluoride ultrafine particles B of 100 nm or less,
(2) The content of the metal oxide ultrafine particles A in the cured resin layer is 1 part by mass or more and less than 20 parts by mass per 100 parts by mass of the cured resin component,
(3) The content of the metal fluoride ultrafine particles B in the cured resin layer is 1 part by mass or more and less than 20 parts by mass per 100 parts by mass of the cured resin component,
(4) The mass ratio (A / B) of the metal oxide ultrafine particles A to the metal fluoride ultrafine particles B in the cured resin layer is greater than 0.3, and (5) the metal oxide ultrafine particles A are SiO. 2 and the metal fluoride ultrafine particle B is MgF 2 .
Transparent conductive laminate.
<2> The ten-point average roughness (Rz) of the cured resin layer is 300 nm or more and less than 1500 nm, and the arithmetic average roughness (Ra) of the cured resin layer is 50 nm or more and less than 300 nm. The transparent conductive laminate according to <1> above.
<3> The transparent conductive laminate according to <1> or <2>, wherein the thickness of the cured resin layer is 0.1 to 4.5 μm.
<4> The transparent conductive laminate according to any one of <1> to <3>, wherein the haze based on the transparent organic polymer substrate and the cured resin layer is 1% or more and less than 10%.
<5> Any of the above items <1> to <4>, wherein the transparent conductive layer is a crystalline layer containing indium oxide as a main component, and the thickness of the transparent conductive layer is 5 to 50 nm. The transparent conductive laminate described.
<6> The metal compound layer which is in contact with the transparent conductive layer and whose film thickness is thinner than the transparent conductive layer and is less than or equal to 0.5 nm and less than 5.0 nm is provided between the cured resin layer and the transparent conductive layer. The transparent conductive laminate according to any one of <1> to <5>.
<7> The transparent conductive laminate according to <6> , wherein the metal of the metal compound layer is the same as the metal of the metal oxide ultrafine particles A and / or metal fluoride ultrafine particles B.
<8> In a transparent touch panel in which two transparent electrode substrates each provided with a transparent conductive layer on at least one side are arranged so that the transparent conductive layers face each other, the first electrode as the at least one transparent electrode substrate <1>-<7> A transparent touch panel characterized by using the transparent conductive laminate according to any one of items .

本発明によれば、高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさない透明タッチパネルであって、透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる透明タッチパネルのための透明導電性積層体が提供される。また、本発明によれば、このような本発明の透明導電性積層体を用いてなるディスプレイおよび光学電子部品が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it installs on a high-definition display, it is a transparent touch panel which does not raise | generate visibility degradation by flickering, Comprising: The Newton ring which generate | occur | produces between the two transparent electrode substrates which comprise a transparent touch panel can be prevented. A transparent conductive laminate for a transparent touch panel is provided. Moreover, according to this invention, the display and optical electronic component which use such a transparent conductive laminated body of this invention are provided.

より具体的には、本発明の透明導電性積層体は、光学電子部品として用いる場合、ニュートンリングを軽減しつつ、高精細ディスプレイに適応しても画素の色分離(チラツキ)を生じさせにくいという光学特性のバランスを可能とせしめ、従来の技術では実現できなかった視認性に優れた光学特性を有する全く新機能なタッチパネル用基板として応用することができる。   More specifically, when the transparent conductive laminate of the present invention is used as an optical electronic component, it is less likely to cause pixel color separation (flicker) even when applied to a high-definition display while reducing Newton rings. The optical characteristics can be balanced, and it can be applied as a completely new touch panel substrate having optical characteristics with excellent visibility that could not be realized by conventional techniques.

また、本発明の透明導電性積層体を使用した透明タッチパネルでは、可動電極基板と固定電極基板間に発生するニュートンリングを抑制しつつ、高精細表示体上での画素の色分離(チラツキ)を抑制することができる。   In addition, in the transparent touch panel using the transparent conductive laminate of the present invention, color separation (flicker) of pixels on a high-definition display body can be achieved while suppressing Newton rings generated between the movable electrode substrate and the fixed electrode substrate. Can be suppressed.

さらに、本発明の透明導電性積層体では、生産時における塗工液の交換頻度を減らすことができる。   Furthermore, in the transparent conductive laminate of the present invention, the frequency of replacement of the coating liquid during production can be reduced.

以下、本発明の実施の形態を説明するが、本発明は以下の説明に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following descriptions.

本発明の透明導電性積層体は、透明有機高分子基板の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層と透明導電層とが順次積層された透明導電性積層体である。この本発明の透明導電性積層体の1つの態様は、図3に示すように、透明有機高分子基板(16)の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層(15)と透明導電層(14)とが順次積層された透明導電性積層体である。この図3で示す本発明の透明導電性積層体の1つの態様では、本発明の透明導電性積層体(14、15、16)は、透明導電層(12)を有するガラス板のような他の基板(11)と、互いの透明導電層(12、14)同士が向き合うように配置され、その間にスペーサー(13)が配置されて、透明タッチパネル(20)を形成することができる。 The transparent conductive laminate of the present invention is a transparent conductive laminate in which a cured resin layer having an uneven surface and a transparent conductive layer are sequentially laminated on at least one surface of a transparent organic polymer substrate. As shown in FIG. 3 , one embodiment of the transparent conductive laminate of the present invention comprises a cured resin layer (15) having an uneven surface and a transparent surface on at least one surface of a transparent organic polymer substrate (16). A transparent conductive laminate in which a conductive layer (14) is sequentially laminated. In one embodiment of the transparent conductive laminate of the present invention shown in FIG. 3 , the transparent conductive laminate (14, 15, 16) of the present invention is a glass plate having a transparent conductive layer (12). A transparent touch panel (20) can be formed by disposing the substrate (11) and the transparent conductive layers (12, 14) so that the transparent conductive layers (12, 14) face each other and a spacer (13) disposed therebetween.

〈透明有機高分子基板〉
本発明の透明導電性積層体で用いられる透明有機高分子基板は、任意の透明有機高分子基板、特に光学分野で使用されている耐熱性、透明性等に優れた透明有機高分子基板であってよい。
<Transparent organic polymer substrate>
The transparent organic polymer substrate used in the transparent conductive laminate of the present invention is an arbitrary transparent organic polymer substrate, particularly a transparent organic polymer substrate excellent in heat resistance and transparency used in the optical field. It's okay.

本発明の透明導電性積層体に用いる透明有機高分子基板としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなる基板があげられる。また、本発明の透明導電性積層体に用いる透明有機高分子基板としては、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドに代表されるアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなる基板もあげられる。またさらに、本発明の透明導電性積層体に用いる透明有機高分子基板としては、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや上記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなる基板などもあげられる。   Examples of the transparent organic polymer substrate used in the transparent conductive laminate of the present invention include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polycarbonate polymers, cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, and polymethyl methacrylate. And a substrate made of a transparent polymer such as an acrylic polymer. The transparent organic polymer substrate used in the transparent conductive laminate of the present invention includes polystyrene, styrene-based polymers such as acrylonitrile / styrene copolymer, polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclic or norbornene structure, and ethylene / propylene copolymer. Examples thereof include substrates made of transparent polymers such as olefin polymers such as polymers, vinyl chloride polymers, amide polymers represented by nylon and aromatic polyamide. Furthermore, as the transparent organic polymer substrate used in the transparent conductive laminate of the present invention, imide polymer, sulfone polymer, polyether sulfone polymer, polyether ether ketone polymer, polyphenylene sulfide polymer, vinyl alcohol type Examples also include substrates made of transparent polymers such as polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers, epoxy polymers and blends of the above polymers.

本発明の透明導電性積層体における用途では、これら透明有機高分子基板のうち、光学的に複屈折の少ないもの、あるいは複屈折をλ/4やλ/2に制御したもの、さらには複屈折をまったく制御していないものを、用途に応じて適宜選択することができる。ここで言うように用途に応じて適宜選択を行う場合としては、例えば液晶ディスプレイに使用する偏光板や位相差フィルム、インナー型のタッチパネルのように、直線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光によって機能を発現するディスプレイ部材として、本発明の透明導電性積層体を用いる場合をあげることができる。   For use in the transparent conductive laminate of the present invention, among these transparent organic polymer substrates, those having low optical birefringence, those having birefringence controlled to λ / 4 or λ / 2, and birefringence What is not controlled at all can be appropriately selected according to the application. As described here, when selecting appropriately according to the application, for example, polarizing plates, retardation films, inner type touch panels used in liquid crystal displays, etc., depending on polarized light such as linearly polarized light, elliptically polarized light, circularly polarized light, etc. A case where the transparent conductive laminate of the present invention is used as a display member exhibiting a function can be given.

透明高分子基板の膜厚は適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性などの点より10〜500μm程度であり、特に20〜300μmが好ましく、30〜200μmがより好ましい。   The film thickness of the transparent polymer substrate can be appropriately determined, but is generally about 10 to 500 μm, particularly 20 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm from the viewpoint of workability such as strength and handleability.

〈硬化樹脂層〉
本発明の透明導電性積層体に用いられる凹凸形状を有する硬化樹脂層は、硬化樹脂成分、ならびにこの硬化樹脂成分中に分散している少なくとも一種の平均1次粒子径100nm以下の金属酸化物超微粒子Aおよび平均1次粒子径100nm以下の金属フッ化物超微粒子Bを含有している。
<Curing resin layer>
The cured resin layer having a concavo-convex shape used in the transparent conductive laminate of the present invention comprises a cured resin component, and at least one metal oxide super particle having an average primary particle diameter of 100 nm or less dispersed in the cured resin component. Fine particles A and metal fluoride ultrafine particles B having an average primary particle diameter of 100 nm or less are contained.

〈硬化樹脂層−硬化樹脂成分〉
硬化性樹脂成分としては、平均一次粒子径100nm以下の超微粒子の分散が可能で、硬化樹脂層形成後に皮膜として十分な強度を持ち、かつ透明性のあるものを特に制限なく使用でき、例えば電離放射線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂等が挙げられる。
<Hardened resin layer-cured resin component>
As the curable resin component, it is possible to disperse ultrafine particles having an average primary particle diameter of 100 nm or less, and there is no particular limitation to use a transparent material that has sufficient strength as a film after the formation of the cured resin layer and is transparent. Examples include radiation curable resins and thermosetting resins.

電離放射線硬化型樹脂を与えるモノマーとしては、例えばポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、上記以外の硬い層を与えるウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、変性スチレンアクリレート、メラミンアクリレート、シリコン含有アクリレート等の単官能および多官能アクリレートを挙げることができる。   Monomers and polyfunctional acrylates such as polyol acrylates, polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, modified styrene acrylates, melamine acrylates, and silicon-containing acrylates that give a hard layer other than those described above are examples of monomers that provide ionizing radiation curable resins Can be mentioned.

電離放射線硬化型樹脂を与える具体的なモノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールポロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールポロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エポキシ変性アクリレート、ウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。   Specific monomers that give the ionizing radiation curable resin include, for example, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropylane ethylene oxide-modified triacrylate, trimethylolpropylane propylene oxide-modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified triacrylate, pentaerythritol triacrylate. Multifunctional such as acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, tripropylene glycol triacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, epoxy modified acrylate, urethane modified acrylate, epoxy modified acrylate Monomer.

電離放射線硬化型樹脂を与えるこれらのモノマーは、単独で用いても、数種類を混合して用いてよく、また場合によっては、各種アルコキシシランの加水分解物を適量添加してもよい。なお、電離放射線によって樹脂層の重合を行う場合、一般に光重合開始剤を適量添加し、また必要に応じ光増感剤を適量添加してもよい。この光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイルベンゾエート、チオキサンソン類等が挙げられ、光増感剤としては、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   These monomers that give ionizing radiation curable resins may be used alone or in combination of several kinds, and in some cases, an appropriate amount of various alkoxysilane hydrolysates may be added. In addition, when polymerizing a resin layer by ionizing radiation, generally an appropriate amount of a photopolymerization initiator may be added, and an appropriate amount of a photosensitizer may be added as necessary. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, benzoin, benzoylbenzoate, and thioxanthone. Examples of the photosensitizer include triethylamine and tri-n-butylphosphine.

熱硬化型樹脂としては、例えばメチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のシラン化合物をモノマーとしたオルガノシラン系の熱硬化型樹脂、エーテル化メチロールメラミン等をモノマーとしたメラミン系熱硬化型樹脂、イソシアネート系熱硬化型樹脂、フェノール系熱硬化型樹脂、エポキシ硬化型樹脂等が挙げられる。これら熱硬化型樹脂を単独又は複数組合せて使用することも可能である。また必要に応じ、熱硬化型樹脂に、熱可塑性樹脂を混合することも可能である。   As the thermosetting resin, for example, an organosilane thermosetting resin using a silane compound such as methyltriethoxysilane or phenyltriethoxysilane as a monomer, a melamine thermosetting resin using etherified methylolmelamine or the like as a monomer, Examples thereof include an isocyanate thermosetting resin, a phenol thermosetting resin, and an epoxy curable resin. These thermosetting resins can be used alone or in combination. If necessary, a thermoplastic resin can be mixed with the thermosetting resin.

なお、熱によって樹脂層の架橋を行う場合には、反応促進剤および/または硬化剤を適量配合することができる。反応促進剤としては、例えばトリエチレンジアミン、ジブチル錫ジラウレート、ベンジルメチルアミン、ピリジン等が挙げられる。また、硬化剤としては、例えばメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノ−3,3′―ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等が挙げられる。   In addition, when bridge | crosslinking a resin layer with a heat | fever, a reaction accelerator and / or a hardening | curing agent can be mix | blended in a proper quantity. Examples of the reaction accelerator include triethylenediamine, dibutyltin dilaurate, benzylmethylamine, pyridine and the like. Examples of the curing agent include methylhexahydrophthalic anhydride, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyldiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, and the like.

なお、硬化樹脂層は、レベリング剤や光増感剤などの第三成分を含んでいても良い。   The cured resin layer may contain a third component such as a leveling agent or a photosensitizer.

〈硬化樹脂層−超微粒子〉
(材料)
硬化樹脂に配合する平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物超微粒子Aとしては、SiO を用いることができる。
<Hardened resin layer-ultrafine particles>
(material)
The average primary particle diameter 100nm or less of the metal oxide ultrafine particle A to be blended in the cured resin, it is possible to have use the S iO 2.

硬化樹脂に配合する平均一次粒子径100nm以下の金属フッ化物超微粒子Bとしては、MgF を用いることができるAs the metal fluoride ultrafine particles B having an average primary particle diameter of 100 nm or less to be blended with the cured resin, MgF 2 can be used .

(分散状態)
本発明の用途において凹凸の形状を形成する硬化樹脂層には、高精細ディスプレイ上に設置した場合にも、良好な視認性を保持する事が求められるが、金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bが光学波長以上の明確な凝集体を形成する場合には、チラツキが大きくなり視認性が低下する。一方、金属酸化物超微粒子Aおよび金属フッ化物超微粒子Bが実質的に均質に分散する場合には、形成される凹凸の高さが低くなり、透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できず、実使用時の視認性が著しく低下する。
(Distributed state)
In the use of the present invention, the cured resin layer that forms the uneven shape is required to maintain good visibility even when placed on a high-definition display, but the metal oxide ultrafine particles A and / or When the metal fluoride ultrafine particles B form a clear aggregate having an optical wavelength or longer, flickering increases and visibility decreases. On the other hand, when the metal oxide ultrafine particles A and the metal fluoride ultrafine particles B are substantially homogeneously dispersed, the height of the unevenness formed becomes low, and the distance between the two transparent electrode substrates constituting the transparent touch panel is reduced. The Newton ring that occurs in this case cannot be prevented, and the visibility during actual use is significantly reduced.

したがって、本発明の透明導電性積層体では、金属酸化物超微粒子Aおよび金属フッ化物超微粒子Bが、1μm以上の二次凝集体もしくは二次粒子を形成していないことが好ましく、特に光学波長以上の二次凝集体もしくは二次粒子、例えば600nm以上の二次凝集体もしくは二次粒子を形成していないことが好ましい。ただし、平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bが光学波長未満の二次凝集体を形成するような状態はあっても良い。   Therefore, in the transparent conductive laminate of the present invention, it is preferable that the metal oxide ultrafine particles A and the metal fluoride ultrafine particles B do not form secondary aggregates or secondary particles of 1 μm or more, particularly the optical wavelength. It is preferable that the above secondary aggregates or secondary particles, for example, secondary aggregates or secondary particles of 600 nm or more are not formed. However, there may be a state in which the metal oxide ultrafine particles A and / or metal fluoride ultrafine particles B having an average primary particle diameter of 100 nm or less form secondary aggregates having an optical wavelength less than that.

また、本発明の透明導電性積層体では、金属酸化物超微粒子Aおよび金属フッ化物超微粒子Bが弱い会合状態をとることにより、適切な形状の凹凸を表面に形成することが望まれる。   Further, in the transparent conductive laminate of the present invention, it is desired that the metal oxide ultrafine particles A and the metal fluoride ultrafine particles B are in a weak association state to form irregularities with appropriate shapes on the surface.

(配合比)
硬化樹脂に上記超微粒子を分散させる配合比は、硬化樹脂成分100質量部に対し、金属酸化物超微粒子Aと金属フッ化物超微粒子Bがそれぞれ、1質量部以上20質量部未満であることが必要であり、好ましくは1質量部以上15質量部以下であり、更に好ましくは1質量部以上10質量部以下である。これは、金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bが少なすぎる場合には、本発明の用途に必要な表面に凹凸を有する樹脂層を形成することは難しく、他方でこの割合が大きすぎる場合には、硬化樹脂成分の割合が少なくなるために、硬化樹脂層形成後の皮膜として十分な強度を持つことが難しくなるためである。
(Mixing ratio)
The compounding ratio for dispersing the ultrafine particles in the cured resin is such that the metal oxide ultrafine particles A and the metal fluoride ultrafine particles B are each 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured resin component. Necessary, preferably 1 to 15 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass. This is because when the metal oxide ultrafine particles A and / or the metal fluoride ultrafine particles B are too small, it is difficult to form a resin layer having irregularities on the surface necessary for the use of the present invention. When is too large, the ratio of the cured resin component is decreased, so that it is difficult to have sufficient strength as a film after the cured resin layer is formed.

また、硬化樹脂層の凹凸を充分に大きくするためには、金属酸化物超微粒子Aの金属フッ化物超微粒子Bに対する質量比(A/B(%))が、0.3よりも大きいことが必要であり、好ましくはこの比が0.3よりも大きく且つ10.0以下であり、より好ましくはこの比が0.3よりも大きく且つ5.0以下である。   In order to sufficiently increase the unevenness of the cured resin layer, the mass ratio (A / B (%)) of the metal oxide ultrafine particles A to the metal fluoride ultrafine particles B should be larger than 0.3. Required, preferably this ratio is greater than 0.3 and 10.0 or less, more preferably this ratio is greater than 0.3 and 5.0 or less.

〈硬化樹脂層−膜厚〉
表面に凹凸を有する硬化樹脂層の膜厚は、0.1μm以上4.5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上3μm以下であることがより好ましい。膜厚が小さすぎる場合には、特に紫外線硬化樹脂が酸素による影響で硬化不足となりやすいため好ましくない。また一般的に膜厚が大きすぎる場合には、紫外線硬化樹脂の硬化収縮が高分子基板を撓ませ、カールが発生するので好ましくない。
<Hardened resin layer-film thickness>
The thickness of the cured resin layer having irregularities on the surface is preferably from 0.1 μm to 4.5 μm, and more preferably from 0.1 μm to 3 μm. When the film thickness is too small, the UV curable resin is not preferable because it is likely to be insufficiently cured due to the influence of oxygen. In general, when the film thickness is too large, curing shrinkage of the ultraviolet curable resin deflects the polymer substrate and causes curling, which is not preferable.

硬化樹脂層の表面の凹凸は、膜厚によっても影響を受けるので、膜厚を制御することは非常に重要である。特に本発明の場合、硬化樹脂成分に対し、加える金属酸化物超微粒子Aおよび金属フッ化物超微粒子Bを一定の量として膜厚だけを変化させた場合、膜厚を薄くするほど表面は平坦化する傾向にあり、逆に膜厚を厚くするほど表面は粗面化する傾向がある。   Since the unevenness on the surface of the cured resin layer is also affected by the film thickness, it is very important to control the film thickness. In particular, in the case of the present invention, when only the film thickness is changed with the metal oxide ultrafine particles A and the metal fluoride ultrafine particles B added to the cured resin component to a certain amount, the surface becomes flatter as the film thickness is reduced. Conversely, the surface tends to become rougher as the film thickness is increased.

〈硬化樹脂層−他の成分〉
また、本発明における硬化樹脂層の表面の凹凸は使用する超微粒子のチクソ性にも依存する。それ故、チクソ性を発現、あるいは制御する目的で、硬化樹脂層を形成する際に、溶媒や分散剤を適宜選択して用いることができる。溶媒としては例えば、アルコール系、芳香族系、ケトン系、ラクテート系、セルソルブ系、グリコール系などの各種が使用できる。分散剤としては例えば、脂肪酸アミン系、スルホン酸アミド系、ε−カプロラクトン系、ハイドロステアリン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステルアミンなど各種が使用できる。これらの溶媒や分散剤は、それぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
<Curing resin layer-other components>
Moreover, the unevenness | corrugation of the surface of the cured resin layer in this invention is dependent also on the thixotropy of the ultrafine particle to be used. Therefore, for the purpose of expressing or controlling thixotropy, a solvent and a dispersant can be appropriately selected and used when forming the cured resin layer. As the solvent, for example, various alcohols, aromatics, ketones, lactates, cellosolves, glycols and the like can be used. Examples of the dispersant include various fatty acid amines, sulfonic acid amides, ε-caprolactone, hydrostearic acid, polycarboxylic acid, and polyesteramine. These solvents and dispersants can be used alone or in combination of two or more.

〈硬化樹脂層−表面の凹凸〉
(十点平均粗さ(Rz))
硬化樹脂層の表面の凹凸は、十点平均粗さ(Rz)が、300nm以上1500nm未満であることが望ましく、300nm以上1000nm未満であることがより望ましく、300nm以上800nm未満であることが特に望ましい。十点平均粗さ(Rz)が小さすぎる場合には、ガラスやフィルム基板を本発明の凹凸面に強く接触させた際に、ニュートンリングが生じる。一方で十点平均粗さ(Rz)が大きすぎる場合には、ヘーズが大きくなり、高精細の液晶ディスプレイに適応すると、画素の色分離が生じてチラツキを起こすなどの理由から特にディスプレイ用途の基板としては好ましくない。
<Curing resin layer-surface irregularities>
(Ten point average roughness (Rz))
As for the unevenness of the surface of the cured resin layer, the ten-point average roughness (Rz) is preferably 300 nm or more and less than 1500 nm, more preferably 300 nm or more and less than 1000 nm, and particularly preferably 300 nm or more and less than 800 nm. . When the ten-point average roughness (Rz) is too small, Newton's ring occurs when the glass or film substrate is brought into strong contact with the uneven surface of the present invention. On the other hand, if the ten-point average roughness (Rz) is too large, the haze becomes large, and when applied to a high-definition liquid crystal display, the color separation of pixels occurs, causing flickering and so on. It is not preferable.

なお、本発明に関して、十点平均粗さ(Rz)は、JIS B0601−1982準拠で定義されるものである。具体的には、十点平均粗さ(Rz)は、アナログ式表面粗さ測定器によって求めた値であり、基準長さの断面曲線(測定したままのデータ)において、最高の山頂から高い順に5番目までの山高さの平均と最深の谷底から深い順に5番目までの谷深さの平均との和として定義される値である。ここで、基準長さは0.25mmとする。   In the present invention, the ten-point average roughness (Rz) is defined in accordance with JIS B0601-1982. Specifically, the ten-point average roughness (Rz) is a value obtained by an analog surface roughness measuring instrument, and in the cross-sectional curve (data as measured) of the reference length in descending order from the highest peak. It is a value defined as the sum of the average of the peak heights up to the fifth and the average of the depths of the valleys up to the fifth in order from the deepest valley bottom. Here, the reference length is 0.25 mm.

(平均算術粗さ(Ra))
また本発明において生じる、硬化樹脂層の表面の凹凸は平均算術粗さ(Ra)は、50nm以上300nm未満であることが望ましく、50nm以上200nm未満であることがより望ましく、50nm以上150nm未満であることが特に望ましい。平均算術粗さ(Ra)が大きすぎると、ヘーズが大きくなり、高精細の液晶ディスプレイに適応すると、画素の色分離が生じてチラツキを起こすなどの理由から特にディスプレイ用途の基板としては好ましくない。一方、平均算術粗さ(Ra)が小さすぎる場合には、ガラスやフィルム基板を本発明の凹凸面に強く接触させた際に、ニュートンリングが生じる。
(Average arithmetic roughness (Ra))
Further, the average arithmetic roughness (Ra) of the unevenness of the surface of the cured resin layer generated in the present invention is preferably 50 nm or more and less than 300 nm, more preferably 50 nm or more and less than 200 nm, and more preferably 50 nm or more and less than 150 nm. It is particularly desirable. If the average arithmetic roughness (Ra) is too large, the haze becomes large, and when it is applied to a high-definition liquid crystal display, it is not preferable as a substrate for display applications because it causes pixel color separation and flickering. On the other hand, when the average arithmetic roughness (Ra) is too small, Newton's ring occurs when the glass or film substrate is brought into strong contact with the uneven surface of the present invention.

なお、本発明に関して、平均算術粗さ(中心線平均粗さ)(Ra)は、JIS B0601−1994準拠で定義されるものである。具体的には、算術平均粗さ(Ra)は、粗さ曲線からその中心線の方向に基準長さLの部分を抜き取り、その抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸とし、粗さ曲線をy=f(x)で表した時、下記の式によって表されるものである:   In the present invention, the average arithmetic roughness (centerline average roughness) (Ra) is defined in accordance with JIS B0601-1994. Specifically, the arithmetic average roughness (Ra) is determined by extracting a portion of the reference length L from the roughness curve in the direction of the center line, the center line of the extracted portion being the X axis, and the direction of the vertical magnification being the Y axis. And when the roughness curve is represented by y = f (x), it is represented by the following formula:

〈硬化樹脂層−ヘーズ〉
本発明の凹凸表面を有する硬化樹脂層は、溶媒、分散剤、金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bの添加量、硬化樹脂層の膜厚などのパラメーターをかえることによって、Rz、Ra、さらにはヘーズを自由に制御することができる。
<Hardened resin layer-haze>
The cured resin layer having a concavo-convex surface of the present invention is obtained by changing parameters such as the amount of solvent, dispersant, metal oxide ultrafine particles A and / or metal fluoride ultrafine particles B, and the thickness of the cured resin layer. Rz, Ra, and further haze can be controlled freely.

視認性の観点からヘーズは、1%以上10%未満であることが望ましく、1%以上8%未満がより望ましく、1%以上7%未満が特に望ましい。   From the viewpoint of visibility, haze is preferably 1% or more and less than 10%, more preferably 1% or more and less than 8%, and particularly preferably 1% or more and less than 7%.

なお、本発明に関して、ヘーズは、JIS K7136準拠で定義されるものである。具体的には、ヘーズは、全光線透過率τに対する拡散透過率τの比として定義される値であり、より具体的には下記の式から求めることができる:
ヘーズ(%)=[(τ/τ)−τ(τ/τ)]×100
τ: 入射光の光束
τ: 試験片を透過した全光束
τ: 装置で拡散した光束
τ: 装置及び試験片で拡散した光束
In the present invention, haze is defined according to JIS K7136. Specifically, haze is a value defined as the ratio of diffuse transmittance τ d to total light transmittance τ t , and more specifically can be determined from the following equation:
Haze (%) = [(τ 4 / τ 2 ) −τ 32 / τ 1 )] × 100
τ 1 : incident light beam τ 2 : total light beam transmitted through the test piece τ 3 : light beam diffused by the device τ 4 : light beam diffused by the device and the test piece

〈硬化樹脂層−形成方法〉
本発明の凹凸表面を有する硬化樹脂層の形成方法としては、特に湿式法による形成が好適であり、例えばドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコータ−、スプレー法、浸漬法等、公知のあらゆる方法を用いることができる。
<Curing resin layer-forming method>
As a method for forming a cured resin layer having an uneven surface according to the present invention, formation by a wet method is particularly suitable. For example, a doctor knife, bar coater, gravure roll coater, curtain coater, knife coater, spin coater, spray method, immersion Any known method such as a method can be used.

〈透明導電層〉
本発明において、透明導電層は、特に制限は無いが、例えば結晶質の金属層あるいは結晶質の金属化合物層を挙げることができる。透明導電層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であることが好ましく、特に結晶質のITO(Indium Tin Oxide)からなる層が好ましく用いられる。
<Transparent conductive layer>
In the present invention, the transparent conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include a crystalline metal layer or a crystalline metal compound layer. Examples of the component constituting the transparent conductive layer include metal oxide layers such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, and tin oxide. Of these, a crystalline layer mainly composed of indium oxide is preferable, and a layer made of crystalline ITO (Indium Tin Oxide) is particularly preferably used.

また、透明導電層が結晶質の場合、結晶粒径は、特に上限を設ける必要はないが3000nm以下であることが好ましい。結晶粒径が3000nmを超えると筆記耐久性が悪くなるため好ましくない。ここで結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡(TEM)下で観察される多角形状または長円状の各領域における対角線または直径の中で最大のものと定義される。   When the transparent conductive layer is crystalline, the crystal grain size need not be particularly limited, but is preferably 3000 nm or less. A crystal grain size exceeding 3000 nm is not preferable because writing durability is deteriorated. Here, the crystal grain size is defined as the largest diagonal line or diameter in each polygonal or oval region observed under a transmission electron microscope (TEM).

透明導電層が結晶質の膜でない場合には、タッチパネルに要求される摺動耐久性や環境信頼性が低下することがある。   When the transparent conductive layer is not a crystalline film, the sliding durability and environmental reliability required for the touch panel may be lowered.

透明導電層は、公知の手法にて形成することが可能であり、例えばDCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法(Physical Vapor Deposition(以下では「PVD」とする))等を用いることができるが、大面積に対して均一な膜厚の金属化合物層を形成するという工業生産性に着目すると、DCマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法(PVD)のほかに、化学気相堆積法(Chemical Vapor Deposition(以下では「CVD」とする))、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。   The transparent conductive layer can be formed by a known method. For example, a physical formation method (such as a DC magnetron sputtering method, an RF magnetron sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a pulse laser deposition method) Physical Vapor Deposition (hereinafter referred to as “PVD”)) or the like can be used, but focusing on industrial productivity of forming a metal compound layer having a uniform film thickness over a large area, the DC magnetron sputtering method is desirable. In addition to the physical formation method (PVD), a chemical formation method such as a chemical vapor deposition method (hereinafter referred to as “CVD”) or a sol-gel method may be used. The sputtering method is desirable from the viewpoint of thickness control.

透明導電層の膜厚は、透明性と導電性の点から5〜50nmであることが好ましい。更に好ましくは5〜30nmである。透明導電層の膜厚が5nm未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向が有り、また50nmを超えると表面抵抗値が低下するためタッチパネルとして好ましくない。   The film thickness of the transparent conductive layer is preferably 5 to 50 nm from the viewpoints of transparency and conductivity. More preferably, it is 5-30 nm. If the film thickness of the transparent conductive layer is less than 5 nm, the resistance value tends to be inferior in stability over time, and if it exceeds 50 nm, the surface resistance value decreases, which is not preferable as a touch panel.

本発明の透明導電性積層体をタッチパネルに用いる場合、タッチパネルの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、膜厚10〜30nmにおいて透明導電層の表面抵抗値が100〜2000Ω/□(Ω/sq)、より好ましくは140〜1000Ω/□(Ω/sq)の範囲を示す透明導電層を用いることが好ましい。   When the transparent conductive laminate of the present invention is used for a touch panel, the surface resistance value of the transparent conductive layer is 100 to 2000Ω / □ (Ω at a film thickness of 10 to 30 nm due to reduction of power consumption of the touch panel and circuit processing. / Sq), more preferably a transparent conductive layer having a range of 140 to 1000 Ω / □ (Ω / sq) is preferably used.

〈金属化合物層〉
本発明の透明導電性積層体は、凹凸表面を有する硬化樹脂層と透明導電層の間に、膜厚が0.5nm以上5.0nm未満の金属化合物層を更に有していてもよい。
<Metal compound layer>
The transparent conductive laminate of the present invention may further have a metal compound layer having a film thickness of 0.5 nm or more and less than 5.0 nm between the cured resin layer having an uneven surface and the transparent conductive layer.

透明有機高分子基板、凹凸表面を有する硬化樹脂層、膜厚が制御された金属化合物層、透明導電層を順次積層することにより各層間の密着性が大幅に改善される。さらに、硬化樹脂層中の金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bの金属と上記の金属化合物層の金属を同一にすることで、凹凸表面を有する硬化樹脂層と透明導電層の層間の密着性が更に改善される。   By sequentially laminating a transparent organic polymer substrate, a cured resin layer having an uneven surface, a metal compound layer having a controlled film thickness, and a transparent conductive layer, the adhesion between the layers is greatly improved. Further, by making the metal of the metal oxide ultrafine particles A and / or metal fluoride ultrafine particles B in the cured resin layer the same as the metal of the metal compound layer, the cured resin layer and the transparent conductive layer having an uneven surface The adhesion between the layers is further improved.

このような金属化合物層を有する透明導電性積層体を用いた透明タッチパネルでは、金属化合物層がない場合と比較して、透明タッチパネルに要求される筆記耐久性が向上する。金属化合物層の膜厚が5.0nm以上では、金属化合物層が連続体としての機械物性を示し始めることにより、透明タッチパネルに要求される端押し耐久性の向上は望めない。一方、0.5nm未満の膜厚では膜厚の制御が困難なことに加え、凹凸表面を有する硬化樹脂層と透明導電層との密着性を十分発現させることが困難になり、透明タッチパネルに要求される筆記耐久性の向上は不十分となることがある。   In the transparent touch panel using the transparent conductive laminate having such a metal compound layer, the writing durability required for the transparent touch panel is improved as compared with the case where there is no metal compound layer. When the thickness of the metal compound layer is 5.0 nm or more, the endurance durability required for the transparent touch panel cannot be improved because the metal compound layer starts to exhibit mechanical properties as a continuum. On the other hand, when the film thickness is less than 0.5 nm, it is difficult to control the film thickness, and it becomes difficult to fully develop the adhesion between the cured resin layer having an uneven surface and the transparent conductive layer, which is required for a transparent touch panel. Improvement in writing durability may be insufficient.

金属化合物層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物の層が挙げられる。   Examples of the component constituting the metal compound layer include metal oxide layers such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, and tin oxide.

これらの金属化合物層は、公知の手法にて形成することが可能であり、例えばDCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法(PVD)等を用いることができるが、大面積に対して均一な膜厚の金属化合物層を形成するという工業生産性に着目すると、DCマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法(PVD)のほかに、化学気相堆積法(CVD)、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。   These metal compound layers can be formed by a known method, for example, physical formation such as DC magnetron sputtering method, RF magnetron sputtering method, ion plating method, vacuum deposition method, pulse laser deposition method, etc. The method (PVD) or the like can be used, but the DC magnetron sputtering method is desirable from the viewpoint of industrial productivity of forming a metal compound layer having a uniform film thickness over a large area. In addition to the physical formation method (PVD), a chemical formation method such as a chemical vapor deposition method (CVD) or a sol-gel method can be used, but the sputtering method is desirable from the viewpoint of film thickness control. .

スパッタリングに用いるターゲットは金属ターゲットを用いることが望ましく、反応性スパッタリング法を用いることが広く採用されている。これは、金属化合物層として用いる元素の酸化物が絶縁体であることが多く、金属化合物ターゲットの場合DCマグネトロンスパッタリング法が適応できないことが多いからである。また、近年では、2つのカソードを同時に放電させ、ターゲットへの絶縁体の形成を抑制するような電源が開発されており、擬似的なRFマグネトロンスパッタリング法を適応できるようになってきている。   As a target used for sputtering, a metal target is preferably used, and a reactive sputtering method is widely employed. This is because the oxide of the element used as the metal compound layer is often an insulator, and in the case of a metal compound target, the DC magnetron sputtering method is often not applicable. In recent years, a power source has been developed that simultaneously discharges two cathodes and suppresses formation of an insulator on a target, and a pseudo RF magnetron sputtering method can be applied.

〈光学干渉層およびハードコート層〉
本発明の透明導電性積層体には、用途に応じて光学干渉により反射率を制御する光学干渉層およびハードコート層を単独、あるいは複数を必要に応じて適切な順に、組み合わせて用いることができる。透明導電層、光学干渉層、およびハードコート層の積層順は、用途に応じて発現を期待される機能を果たしていれば特に限定するものではない。これらの積層順を例えばタッチパネル用基板として用いる場合、透明導電層をA、光学干渉層をB、凹凸表面を有する硬化樹脂層をC、透明有機高分子基板をD、ハードコートをEとすると、例えばA/B/C/D/E、A/B/C/D/C、A/B/B/C/D/E、A/B/B/C/D/C、A/C/D/E/B、A/C/D/C/B、A/C/D/E/B/B、A/C/D/C/B/Bなどとすることができる。
<Optical interference layer and hard coat layer>
In the transparent conductive laminate of the present invention, an optical interference layer and a hard coat layer that control reflectance by optical interference can be used singly or in combination, if necessary, in an appropriate order. . The order of lamination of the transparent conductive layer, the optical interference layer, and the hard coat layer is not particularly limited as long as the function expected to be exhibited is achieved depending on the application. When these stacking orders are used as, for example, a touch panel substrate, the transparent conductive layer is A, the optical interference layer is B, the cured resin layer having an uneven surface is C, the transparent organic polymer substrate is D, and the hard coat is E. For example, A / B / C / D / E, A / B / C / D / C, A / B / B / C / D / E, A / B / B / C / D / C, A / C / D / E / B, A / C / D / C / B, A / C / D / E / B / B, A / C / D / C / B / B, and the like.

光学干渉層は、高屈折率層と低屈折率層を適宜組み合わせることにより反射光を防止あるいは抑制する層を指す。光学干渉層は少なくとも一層の高屈折率層と少なくとも一層の低屈折率層より構成される。高屈折率層と低屈折率層の組み合わせ単位を二つ以上とすることも出来る。光学干渉層が一層の高屈折率層と一層の低屈折率層から構成される場合、光学干渉層の膜厚は30nm〜150nmが好ましく、更に好ましくは50nm〜150nmである。光学干渉層は、湿式法、乾式法のいずれの方法でも形成することができる。例えば湿式法ではドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコータ−等、スプレー法、浸漬法等、乾式法ではスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法あるいは印刷法、CVD法などを適応することが出来る。   The optical interference layer refers to a layer that prevents or suppresses reflected light by appropriately combining a high refractive index layer and a low refractive index layer. The optical interference layer is composed of at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer. Two or more combination units of the high refractive index layer and the low refractive index layer may be used. When the optical interference layer is composed of one high refractive index layer and one low refractive index layer, the thickness of the optical interference layer is preferably 30 nm to 150 nm, and more preferably 50 nm to 150 nm. The optical interference layer can be formed by either a wet method or a dry method. For example, in the wet method, doctor knife, bar coater, gravure roll coater, curtain coater, knife coater, spin coater, etc., spray method, dipping method, etc., in dry method, PVD method such as sputtering method, vacuum deposition method, ion plating method, etc. Printing method, CVD method, etc. can be applied.

ハードコート層としては、熱硬化樹脂や活性エネルギー線硬化樹脂などが適応できる。なかでも、活性エネルギー線に紫外線を用いた、紫外線硬化型樹脂は生産性や経済性に優れており好適である。   As the hard coat layer, a thermosetting resin, an active energy ray curable resin, or the like can be applied. Among these, an ultraviolet curable resin using ultraviolet rays for active energy rays is preferable because it is excellent in productivity and economy.

ハードコート層のための紫外線硬化型樹脂としては、例えば1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ(ブタンジオール)ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートおよびビスフェノールAジメタクリレートの如きジアクリレート類;トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレートおよびトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレートの如きトリアクリレート類;ペンタエリトリトールテトラアクリレートおよびジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレートの如きテトラアクリレート類;並びにジペンタエリトリトール(モノヒドロキシ)ペンタアクリレートの如きペンタアクリレート類を挙げることができる。ハードコート層のための紫外線硬化型樹脂としては、この他にも、5官能以上の多官能アクリレートも用いることができる。これらの多官能アクリレートは1種単独、または2種以上混合して同時に用いてもよい。さらにこれらのアクリレート類には、光開始剤、光増感剤、レベリング剤、金属酸化物やアクリル成分などから成る微粒子や超微粒子などの第三成分を1種または2種以上を添加して用いることができる。   Examples of the ultraviolet curable resin for the hard coat layer include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, and tripropylene glycol. Diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, poly (butanediol) diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, triisopropylene Diacrylates such as glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate and bisphenol A dimethacrylate; Triacrylates such as tyrolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol monohydroxytriacrylate and trimethylolpropane triethoxytriacrylate; tetraacrylates such as pentaerythritol tetraacrylate and di-trimethylolpropane tetraacrylate; and Mention may be made of pentaacrylates such as dipentaerythritol (monohydroxy) pentaacrylate. As the ultraviolet curable resin for the hard coat layer, a polyfunctional acrylate having 5 or more functional groups can also be used. These polyfunctional acrylates may be used alone or in combination of two or more. Further, these acrylates are used by adding one or more of third components such as photoinitiators, photosensitizers, leveling agents, fine particles composed of metal oxides and acrylic components, and ultrafine particles. be able to.

〈用途〉
本発明の透明導電性積層体は、少なくとも片面に透明導電層が設けられた2枚の透明電極基板が互いの透明導電層同士が向き合うように配置されて構成された透明タッチパネルにおいて、可動および/または固定電極基板用の透明電極基板として使用できる。
<Application>
The transparent conductive laminate of the present invention is a transparent touch panel in which two transparent electrode substrates each provided with a transparent conductive layer on at least one side are arranged so that the transparent conductive layers face each other. Alternatively, it can be used as a transparent electrode substrate for a fixed electrode substrate.

以下では実施例を挙げ、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。なお、実施例中、「部」および「%」は、特に断らない限り質量基準である。また、実施例中における各種の測定は、下記のとおり行った。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to such examples. In the examples, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified. Various measurements in the examples were performed as follows.

〈Ra(算術平均粗さ)〉
Sloan社製触針段差計DEKTAK3を用いて測定した。測定はJIS B0601−1994年版に準拠して行なった。
<Ra (arithmetic mean roughness)>
Measurement was performed using a stylus step meter DEKTAK3 manufactured by Sloan. The measurement was performed according to JIS B0601-1994 edition.

〈Rz(十点平均粗さ)〉
(株)小坂研究所製SurfcorderSE−3400を用いて測定した。測定はJIS B0601−1982年版に準拠して行なった。
<Rz (10-point average roughness)>
Measurement was performed using Surfcorder SE-3400 manufactured by Kosaka Laboratory. The measurement was performed according to JIS B0601-1982 edition.

〈厚さ〉
Anritsu Electric社製の触針式膜厚計アルファステックを使用し測定を行った。
<thickness>
Measurement was carried out using a stylus-type film thickness meter Alphatech manufactured by Anritsu Electric.

〈ヘーズ〉
日本電色(株)製ヘーズメーター(MDH2000)を用いて測定した。
<Haze>
It measured using the Nippon Denshoku Co., Ltd. haze meter (MDH2000).

〈全光線透過率〉
日本電色(株)製ヘーズメーター(MDH2000)を用いてJIS K7316−1に準じて測定した。
<Total light transmittance>
It measured according to JISK7316-1 using the Nippon Denshoku Co., Ltd. haze meter (MDH2000).

〈アンチニュートンリング性〉
3波長蛍光灯の下で、タッチパネルの表面(垂直方向0度)に対して斜め60度の方向から、可動電極基板と固定電極基板を接触させた領域でのニュートンリングの有無を目視で観察した。ニュートンリングが観測できないものを良好(○)、かすかに観測できるものをやや良好(△)、明確に観測できるものを不良(×)とした。
<Anti-Newton ring property>
Under a three-wavelength fluorescent lamp, the presence or absence of a Newton ring was visually observed in a region where the movable electrode substrate and the fixed electrode substrate were in contact with each other from a direction of 60 degrees obliquely with respect to the surface of the touch panel (vertical direction 0 degree). . Good (◯) indicates that Newton's ring cannot be observed, slightly good (△) indicates that it is faintly observable, and indicates poor (×) that is clearly observable.

〈チラツキ性〉
約123dpi(対角10.4インチ、XGA(1024×768ドット))の液晶ディスプレイ上にタッチパネルを設置しチラツキの有無を目視で確認した。チラツキが確認できないものを良好(○)、かすかに確認できるものをやや良好(△)、明確に確認できるものを不良(×)とした。
<Sparkling properties>
A touch panel was placed on a liquid crystal display of about 123 dpi (diagonal 10.4 inches, XGA (1024 × 768 dots)), and the presence or absence of flicker was visually confirmed. The case where flicker could not be confirmed was judged as good (◯), the case where it was faintly confirmed as slightly good (Δ), and the case where it could be clearly confirmed was judged as bad (x).

〈像鮮明度(透過法)〉
スガ試験機社製 ICM−1Tを用いて測定を行った。測定は、JIS K7105(1999年版)に準拠し、0.5mmの光学くしで測定した透過の像鮮明度(%)を測定した。この値が大きいことは、ディスプレイ上に透明導電性フィルムを置いたときの透過像の歪みが小さいことを意味する。
<Image clarity (transmission method)>
Measurement was performed using ICM-1T manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. The measurement was based on JIS K7105 (1999 edition), and the image sharpness (%) of transmission measured with an optical comb of 0.5 mm was measured. A large value means that the distortion of the transmission image when the transparent conductive film is placed on the display is small.

[実施例1]
透明有機高分子基板にポリカーボネートフィルム(帝人化成株式会社製、C110−100)を用い、その一方の面に下記組成の塗布液Rをワイヤーバーで塗布し、40℃で1分間加熱乾燥した後、紫外線ランプで120mW/cm、400mJ/cmの紫外線を照射し、膜厚約1.5μmの凹凸表面を有する硬化樹脂層を形成させた。得られた硬化樹脂層中では、図1および図2に示す通り超微粒子が弱い会合状態を形成し、その粗密差により非常に微細な凹凸表面が形成されていることが確認された。
[Example 1]
A polycarbonate film (C110-100, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) is used for the transparent organic polymer substrate, and a coating liquid R having the following composition is applied to one surface thereof with a wire bar and heated and dried at 40 ° C. for 1 minute. Irradiation with ultraviolet rays of 120 mW / cm 2 and 400 mJ / cm 2 was performed with an ultraviolet lamp to form a cured resin layer having an uneven surface with a thickness of about 1.5 μm. In the resulting cured resin layer, it was confirmed that the ultrafine particles formed a weak association state as shown in FIGS. 1 and 2, and a very fine uneven surface was formed due to the difference in density.

塗布液Rの組成
4官能アクリレート: 100質量部「アロニックス」M−405(東亞合成株式会社製)
金属酸化物超微粒子分散液: 80質量部(固形分換算8質量部、シーアイ化成株式会社製SiO超微粒子10質量%イソプロピルアルコール分散液、超微粒子の一次平均粒子径は30nm品)
金属フッ化物超微粒子分散液: 20質量部(固形分換算4質量部、シーアイ化成株式会社製MgF超微粒子20質量%イソプロピルアルコール分散液、超微粒子の一次平均粒子径は50nm)
光反応開始剤: 5質量部「イルガキュア」184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)
希釈液: 適宜の量(イソブチルアルコール)
Composition of coating solution R Tetrafunctional acrylate: 100 parts by mass “Aronix” M-405 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Metal oxide ultrafine particle dispersion liquid: 80 parts by mass (in terms of solid content, 8 parts by mass, manufactured by CI Kasei Co., Ltd. SiO 2 ultrafine particles 10 mass% isopropyl alcohol dispersion, the average primary particle diameter of ultrafine particle 30nm products)
Metal fluoride ultrafine particle dispersion: 20 parts by mass (4 parts by mass in terms of solid content, MgF 2 ultrafine particle 20% by mass isopropyl alcohol dispersion manufactured by CI Kasei Co., Ltd., primary average particle size of ultrafine particles is 50 nm)
Photoinitiator: 5 parts by mass “Irgacure” 184 (Ciba Specialty Chemicals)
Diluent: appropriate amount (isobutyl alcohol)

次いで硬化樹脂層を形成した面上に、酸化インジウムと酸化錫の質量比が95:5の組成で充填密度が98%の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いて、スパッタリング法により非晶質の透明導電層(ITO層)を形成した。ITO層の厚さは約20nm、表面抵抗値は約370Ω/□(Ω/sq)であった。   Next, on the surface on which the cured resin layer is formed, an amorphous transparent by an sputtering method using an indium oxide-tin oxide target having a mass ratio of indium oxide and tin oxide of 95: 5 and a packing density of 98% is used. A conductive layer (ITO layer) was formed. The thickness of the ITO layer was about 20 nm, and the surface resistance value was about 370Ω / □ (Ω / sq).

引き続いて130℃90分の熱処理を行い、透明導電層(ITO層)を結晶化させることにより透明導電性積層体を作製した。ITO層が結晶化した後の透明導電層の表面抵抗値は約450Ω/□(Ω/sq)であった。なお、TEMにより観察された透明導電層の結晶粒径は50nm〜200nmの範囲であった。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。   Subsequently, a heat treatment was performed at 130 ° C. for 90 minutes, and the transparent conductive layer (ITO layer) was crystallized to produce a transparent conductive laminate. The surface resistance value of the transparent conductive layer after the ITO layer was crystallized was about 450Ω / □ (Ω / sq). The crystal grain size of the transparent conductive layer observed by TEM was in the range of 50 nm to 200 nm. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本例の透明導電性積層体を使用したタッチパネルは、アンチニュートンリング性、耐チラツキ性、及び像鮮明度について優れたものであった。   As is clear from Table 1, the touch panel using the transparent conductive laminate of this example was excellent in anti-Newton ring property, flicker resistance, and image sharpness.

なお、超微粒子の分散状体について確認するために、実施例1でのようにして作成した凹凸表面を有する硬化樹脂層付き高分子基板を、エポキシ樹脂で包埋し、完全にエポキシ樹脂が硬化した後でミクロトームを用いて薄片試料を作製した。この試料を透過型電子顕微鏡で観察し、超微粒子が1μm以上の2次凝集粒子を形成しておらずかつ粗密の差により凹凸表面を形成していることを確認した(添付の図1および図2)。   In order to confirm the dispersion of ultrafine particles, the polymer substrate with a cured resin layer having an uneven surface prepared as in Example 1 was embedded with an epoxy resin, and the epoxy resin was completely cured. After that, a thin sample was prepared using a microtome. This sample was observed with a transmission electron microscope, and it was confirmed that the ultrafine particles did not form secondary agglomerated particles having a size of 1 μm or more and formed uneven surfaces due to the difference in density (Attached FIGS. 1 and 1). 2).

[実施例2]
実施例1の金属酸化物超微粒子分散液を20質量部(固形分換算2質量部)、金属フッ化物超微粒子分散液を30質量部(固形分換算6質量部)とした以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Example 2]
Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle dispersion of Example 1 was 20 parts by mass (2 parts by mass in terms of solids) and the metal fluoride ultrafine particle dispersion was 30 parts by mass (6 parts by mass in terms of solids). In the same manner, a transparent conductive laminate was obtained. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本例の透明導電性積層体を使用したタッチパネルは、アンチニュートンリング性、耐チラツキ性、及び像鮮明度について優れたものであった。   As is clear from Table 1, the touch panel using the transparent conductive laminate of this example was excellent in anti-Newton ring property, flicker resistance, and image sharpness.

[実施例3]
実施例1の金属酸化物超微粒子分散液を40質量部(固形分換算4質量部)、金属フッ化物超微粒子分散液を5質量部(固形分換算1質量部)とした以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Example 3]
Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle dispersion of Example 1 was 40 parts by mass (4 parts by mass in terms of solids) and the metal fluoride ultrafine particle dispersion was 5 parts by mass (1 part by mass in terms of solids). In the same manner, a transparent conductive laminate was obtained. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本例の透明導電性積層体を使用したタッチパネルは、アンチニュートンリング性、耐チラツキ性、及び像鮮明度について優れたものであった。   As is clear from Table 1, the touch panel using the transparent conductive laminate of this example was excellent in anti-Newton ring property, flicker resistance, and image sharpness.

[実施例4]
実施例1の金属酸化物超微粒子分散液を120質量部(固形分換算12質量部)、金属フッ化物超微粒子分散液を10質量部(固形分換算2質量部)とした以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Example 4]
Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle dispersion of Example 1 was 120 parts by mass (12 parts by mass in terms of solids) and the metal fluoride ultrafine particle dispersion was 10 parts by mass (2 parts by mass in terms of solids). In the same manner, a transparent conductive laminate was obtained. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本例の透明導電性積層体を使用したタッチパネルは、アンチニュートンリング性、耐チラツキ性、及び像鮮明度について優れたものであった。   As is clear from Table 1, the touch panel using the transparent conductive laminate of this example was excellent in anti-Newton ring property, flicker resistance, and image sharpness.

[実施例5]
実施例1の金属酸化物超微粒子分散液を80質量部(固形分換算8質量部)、金属フッ化物超微粒子分散液を20質量部(固形分換算4質量部)、硬化後膜厚を5μmとした以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Example 5]
80 parts by mass of the metal oxide ultrafine particle dispersion of Example 1 (8 parts by mass in terms of solid content), 20 parts by mass of the metal fluoride ultrafine particle dispersion (4 parts by mass in terms of solids), and a film thickness after curing of 5 μm A transparent conductive laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本例の透明導電性積層体を使用したタッチパネルは、アンチニュートンリング性、耐チラツキ性、及び像鮮明度について優れたものであった。   As is clear from Table 1, the touch panel using the transparent conductive laminate of this example was excellent in anti-Newton ring property, flicker resistance, and image sharpness.

[実施例6]
実施例1のポリカーボネートフィルムの代わりに厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製OFW)を用いた以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Example 6]
A transparent conductive laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene terephthalate film (OFW manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) having a thickness of 188 μm was used instead of the polycarbonate film of Example 1. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本例の透明導電性積層体を使用したタッチパネルは、アンチニュートンリング性、耐チラツキ性、及び像鮮明度について優れたものであった。   As is clear from Table 1, the touch panel using the transparent conductive laminate of this example was excellent in anti-Newton ring property, flicker resistance, and image sharpness.

[比較例1]
実施例1の金属酸化物超微粒子分散液を10質量部(固形分換算1質量部)、金属フッ化物超微粒子分散液を20質量部(固形分換算4質量部)に変更した以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle dispersion of Example 1 was changed to 10 parts by mass (1 part by mass in terms of solid content) and the metal fluoride ultrafine particle dispersion was changed to 20 parts by mass (4 parts by mass in terms of solid content). In the same manner as in Example 1, a transparent conductive laminate was obtained. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

この比較例の透明導電性積層体の特性を、表1に示す。この比較例の透明導電性積層体は良好な耐チラツキ性を有していたが、アンチニュートンリング性に関して劣っていた。   Table 1 shows the characteristics of the transparent conductive laminate of this comparative example. The transparent conductive laminate of this comparative example had good flicker resistance but was inferior in anti-Newton ring properties.

[比較例2]
実施例1の金属酸化物超微粒子分散液を150質量部(固形分換算15質量部)とし、且つ金属フッ化物超微粒子分散液を使用しないこと以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Comparative Example 2]
Transparent electroconductive laminate in the same manner as in Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle dispersion of Example 1 is 150 parts by mass (15 parts by mass in terms of solid content) and the metal fluoride ultrafine particle dispersion is not used. Got the body. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

この比較例の透明導電性積層体の特性を、表1に示す。この比較例の透明導電性積層体は良好な耐チラツキ性を有していたが、アンチニュートンリング性に関して劣っていた。   Table 1 shows the characteristics of the transparent conductive laminate of this comparative example. The transparent conductive laminate of this comparative example had good flicker resistance but was inferior in anti-Newton ring properties.

[比較例3]
金属酸化物超微粒子分散液を使用しない以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Comparative Example 3]
A transparent conductive laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle dispersion was not used. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

この比較例の透明導電性積層体の特性を、表1に示す。この比較例の透明導電性積層体は良好な耐チラツキ性を有していたが、アンチニュートンリング性に関して劣っていた。   Table 1 shows the characteristics of the transparent conductive laminate of this comparative example. The transparent conductive laminate of this comparative example had good flicker resistance but was inferior in anti-Newton ring properties.

[比較例4]
実施例1の金属フッ化物超微粒子成分の代わりに酸化亜鉛ナノ微粒子40質量部(固形分換算4質量部、シーアイ化成株式会社製ZnO超微粒子10質量%イソプロピルアルコール分散液、超微粒子の一次平均粒子径は30nm品)を用いた事以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Comparative Example 4]
In place of the metal fluoride ultrafine particle component of Example 1, 40 parts by mass of zinc oxide nanoparticles (4 parts by mass in terms of solid content, ZnO ultrafine particles 10 mass% isopropyl alcohol dispersion manufactured by CI Kasei Co., Ltd., primary average particles of ultrafine particles A transparent conductive laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a product having a diameter of 30 nm was used. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

この比較例の透明導電性積層体の特性を、表1に示す。この比較例の透明導電性積層体は良好なアンチニュートンリング性を有していたが、耐チラツキ性に関して劣っていた。   Table 1 shows the characteristics of the transparent conductive laminate of this comparative example. The transparent conductive laminate of this comparative example had good anti-Newton ring properties but was inferior in terms of flicker resistance.

[比較例5]
実施例1の金属フッ化物超微粒子成分の代わりに酸化チタンナノ微粒子27質量部(固形分換算4質量部、シーアイ化成株式会社製TiO超微粒子15質量%イソプロピルアルコール分散液、超微粒子の一次平均粒子径は30nm品)を用いた事以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Comparative Example 5]
27 parts by mass of titanium oxide nanoparticles (4 parts by mass in terms of solid content, TiO 2 ultrafine particles 15% by mass isopropyl alcohol dispersion manufactured by CI Kasei Co., Ltd., primary average particles of ultrafine particles instead of the metal fluoride ultrafine particles component of Example 1 A transparent conductive laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a product having a diameter of 30 nm was used. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

この比較例の透明導電性積層体の特性を、表1に示す。この比較例の透明導電性積層体は良好なアンチニュートンリング性を有していたが、耐チラツキ性に関して劣っていた。   Table 1 shows the characteristics of the transparent conductive laminate of this comparative example. The transparent conductive laminate of this comparative example had good anti-Newton ring properties but was inferior in terms of flicker resistance.

[比較例6]
実施例1の金属酸化物超微粒子成分を、一次平均粒子径が3.0μmのシリカ粒子に変更し、金属フッ化物超微粒子成分を使用せず、膜厚を2μmに変更した以外は実施例1と同様にして透明導電性積層体を得た。作製した透明導電性積層体の特性を表1に示す。
[Comparative Example 6]
Example 1 except that the metal oxide ultrafine particle component of Example 1 was changed to silica particles having a primary average particle size of 3.0 μm, the metal fluoride ultrafine particle component was not used, and the film thickness was changed to 2 μm. In the same manner, a transparent conductive laminate was obtained. The properties of the produced transparent conductive laminate are shown in Table 1.

この比較例の透明導電性積層体の特性を、表1に示す。この比較例の透明導電性積層体は良好なアンチニュートンリング性を有していたが、高解像度液晶ディスプレイに乗せると画素に色分離が生じ、耐チラツキ性に関して劣っていた。   Table 1 shows the characteristics of the transparent conductive laminate of this comparative example. The transparent conductive laminate of this comparative example had good anti-Newton ring properties, but when placed on a high-resolution liquid crystal display, color separation occurred in the pixels and the flicker resistance was poor.

実施例1で形成した凹凸表面を有する硬化樹脂層付き高分子基板を、硬化樹脂で包埋後、ミクロトームで薄片試料とし、透過電子顕微鏡で撮影した断面写真である。It is the cross-sectional photograph which image | photographed with the transmission electron microscope after embedding with the cured resin the polymeric substrate with a cured resin layer which has the uneven | corrugated surface formed in Example 1, and making it a thin piece sample with a microtome. 図1の超微粒子を含有した凹凸表面を有する硬化樹脂層をさらに拡大撮影した断面写真である。2 is a cross-sectional photograph obtained by further enlarging the cured resin layer having an uneven surface containing the ultrafine particles of FIG. 本発明の透明導電性積層体を有する透明タッチパネルの例を示す図である。It is a figure which shows the example of the transparent touch panel which has the transparent conductive laminated body of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 包埋樹脂
2 超微粒子を含有した凹凸表面を有する硬化樹脂層
3 透明有機高分子基板
11 基板(ガラス板)
12、14 透明導電層
13 スペーサー
15 凹凸表面を有する硬化樹脂層
16 透明有機高分子基板
20 透明タッチパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Embedded resin 2 The cured resin layer which has the uneven | corrugated surface containing ultrafine particles 3 Transparent organic polymer substrate 11 Substrate (glass plate)
12, 14 Transparent conductive layer 13 Spacer 15 Cured resin layer having uneven surface 16 Transparent organic polymer substrate 20 Transparent touch panel

Claims (8)

透明有機高分子基板の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層と透明導電層とが順次積層された透明導電性積層体であって、
(1)前記硬化樹脂層が、硬化樹脂成分、ならびに前記硬化樹脂成分中に分散している少なくとも1種の平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物超微粒子Aおよび少なくとも1種の平均一次粒子径100nm以下の金属フッ化物超微粒子Bを有し、
(2)前記硬化樹脂層における金属酸化物超微粒子Aの含有量は、硬化樹脂成分100質量部あたり1質量部以上20質量部未満であり、
(3)前記硬化樹脂層における金属フッ化物超微粒子Bの含有量は、硬化樹脂成分100質量部あたり1質量部以上20質量部未満であり、
(4)前記硬化樹脂層における金属酸化物超微粒子Aの金属フッ化物超微粒子Bに対する質量比(A/B)が、0.3よりも大きく、且つ
(5)金属酸化物超微粒子AがSiOであり、且つ金属フッ化物超微粒子BがMgFである、
透明導電性積層体。
A transparent conductive laminate in which a cured resin layer having a concavo-convex surface and a transparent conductive layer are sequentially laminated on at least one surface of a transparent organic polymer substrate,
(1) The cured resin layer is a cured resin component, and at least one metal oxide ultrafine particle A having an average primary particle size of 100 nm or less and at least one average primary particle size dispersed in the cured resin component. Having metal fluoride ultrafine particles B of 100 nm or less,
(2) The content of the metal oxide ultrafine particles A in the cured resin layer is 1 part by mass or more and less than 20 parts by mass per 100 parts by mass of the cured resin component,
(3) The content of the metal fluoride ultrafine particles B in the cured resin layer is 1 part by mass or more and less than 20 parts by mass per 100 parts by mass of the cured resin component,
(4) The mass ratio (A / B) of the metal oxide ultrafine particles A to the metal fluoride ultrafine particles B in the cured resin layer is greater than 0.3, and (5) the metal oxide ultrafine particles A are SiO. 2 and the metal fluoride ultrafine particle B is MgF 2 .
Transparent conductive laminate.
前記硬化樹脂層の十点平均粗さ(Rz)が、300nm以上1500nm未満であり、かつ前記硬化樹脂層の算術平均粗さ(Ra)が、50nm以上300nm未満であることを特徴とする、請求項1記載の透明導電性積層体。   The ten-point average roughness (Rz) of the cured resin layer is 300 nm or more and less than 1500 nm, and the arithmetic average roughness (Ra) of the cured resin layer is 50 nm or more and less than 300 nm, Item 2. The transparent conductive laminate according to Item 1. 前記硬化樹脂層の厚さが0.1〜4.5μmである、請求項1又は2記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminated body of Claim 1 or 2 whose thickness of the said cured resin layer is 0.1-4.5 micrometers. 前記透明有機高分子基板と前記硬化樹脂層に基づくヘーズが、1%以上10%未満である、請求項1〜3のいずれか記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein a haze based on the transparent organic polymer substrate and the cured resin layer is 1% or more and less than 10%. 前記透明導電層が酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であり、かつ前記透明導電層の厚さが5〜50nmである、請求項1〜4のいずれか記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the transparent conductive layer is a crystalline layer containing indium oxide as a main component, and the thickness of the transparent conductive layer is 5 to 50 nm. 前記透明導電層と接し且つ膜厚が前記透明導電層より薄く0.5nm以上5.0nm未満である金属化合物層を、前記硬化樹脂層と前記透明導電層との間に有する、請求項1〜5のいずれか記載の透明導電性積層体。   The metal compound layer which is in contact with the transparent conductive layer and whose film thickness is thinner than the transparent conductive layer and is less than or equal to 0.5 nm and less than 5.0 nm is provided between the cured resin layer and the transparent conductive layer. The transparent conductive laminate according to any one of 5. 前記金属化合物層の金属が、前記金属酸化物超微粒子Aおよび/または金属フッ化物超微粒子Bの金属と同一である、請求項6記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 6 , wherein the metal of the metal compound layer is the same as the metal of the metal oxide ultrafine particles A and / or metal fluoride ultrafine particles B. 少なくとも片面に透明導電層が設けられた2枚の透明電極基板が、互いの透明導電層同士が向き合うように配置されて構成された透明タッチパネルにおいて、少なくとも一方の透明電極基板として請求項1〜7のいずれか記載の透明導電性積層体を用いることを特徴とする、透明タッチパネル。   The transparent touch panel in which two transparent electrode substrates each having a transparent conductive layer provided on at least one side are arranged so that the transparent conductive layers face each other are used as at least one transparent electrode substrate. A transparent touch panel using the transparent conductive laminate according to any one of the above.
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