JP4391891B2 - 面間隔測定方法及び面間隔測定装置 - Google Patents
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Description
めの面間隔測定装置において、可干渉距離が短い光源と、光源からの光を第1の光束と第
2の光束とに分割する光束分割部と、測定対象となる光学面の位置に応じて第1の光束の
光路長を変化させる光路長可変部と、第2の光束の光路内に配置されている被検光学系の
うち測定対象である光学面に関する所定位置に、第2の光束を集光させる集光部と、被検
光学系のうち所定の光学面に関して、被検光学系の設計値に基づいて、所定の分散量及び
厚さを有する分散補償部の第1の光束の光路内への挿脱に関する挿脱データを演算する分
散補償量演算部と、挿脱データに基づいて第1の光束の光路内へ分散補償部を挿脱する分
散補償部挿脱部と、光路長が変化した第1の光束と、光学面で反射した第2の光束とを重
ね合わせる光束合成部と、第1の光束と第2の光束とで生ずる干渉縞の光強度分布を検出
する光強度検出部と、第1の光束の光路長の変化量と、挿脱データと、光強度分布とに基
づいて被検光学系の面間隔を算出する面間隔算出部とを有し、
光学面が分散補償部を第1の光束の光路内へ新たに挿脱して測定する面であるとき、光強度検出部において、分散補償部を挿脱する前の状態と分散補償部を挿脱した後の状態との2つの状態で、光学面についての干渉縞の光強度分布を
検出することを特徴とする面間隔測定装置を提供できる。
次に、面間隔測定装置100を用いて面間隔を測定する原理を説明する。なお、本実施例の詳細な面間隔測定手順は図2のフローチャートを用いて後述する。まず、被検光学系117の特定のレンズ面、例えば第1面を測定する。このため、被検光学系117の設計値又は実測値を用いた光線追跡により、測定光学系116の位置を移動する。これにより、測定光学系116は、第1面の見かけの曲率中心位置へ測定光束を集光する。次に、第1面を測定するときの測定光束の光路長と、略同一の光路長となるように、参照ミラー108を移動して大まかなアライメント、即ち大まかな位置決めをする。そして、参照ミラー108の位置を所定範囲内でさらに細かく移動させながら、干渉信号を記録する。参照ミラー108の細かいアライメント(位置決め)は、予め計算で求められた位置を中心として、所定の範囲内を光軸AXの沿った方向に移動する。細かいアライメントにおいて、参照ミラー108を移動する所定の範囲は、設計値に公差を加味した量を目安に設定される。参照ミラー108の移動と同時に、光電検出器114により干渉縞の光強度が取得される。参照ミラー108の細かいアライメントにより、干渉信号を生ずる位置を探す。そして、光電検出器114で検出される干渉信号がピーク値となるときの参照ミラー108の位置を記録する。参照ミラー108の位置は、後述する「実測累積面間光路長」に対応する。
次に、分散補償部を用いる分散補償について説明する。光源101は、上述したように、時間的コヒーレンスが低い光源である。このため、光源101からの光のスペクトル分布は、所定の波長幅の広がりを有している。上述したように、測定光束は、被検光学系117を構成するレンズを透過するときに、広いスペクトル分布の各波長間で光路差を生ずる。これに対して、参照光束は、このような波長による光路長差を殆ど生じない。この結果、参照光束と測定光束とを重畳させると、長さの異なる波連どうしが干渉する。このため、干渉縞のコントラストが低下してしまう。特に、被検光学系117が、ズームレンズのように硝材総厚が大きいときは、光源101から遠い側のレンズ面を測定するときに、図7−2で示したように干渉縞を検出できなくなってしまうこともある。
本実施例では、分散補償部の挿脱をしたときでも、正確に面間隔を算出できるように、以下に述べる面間隔測定手順を行なう。図2は、本実施例に係る面間隔測定装置100による面間隔測定の手順を示すフローチャートである。
ここで、
D:被検面となるレンズ面の設計面間隔、
ng:硝材の群屈折率、
s:面番号、をそれぞれ示す。
例えば、レンズ面S1を基準とするので、DM1[1]=0となる。
n 第1の分散補償板 第2の分散補償板
0 無し 無し
1 有り 無し
2 無し 有り
3 有り 有り
・・・(2)
ここで、
cp:分散補償を示す添え字、
ng:中心波長に対する分散補償板の群屈折率、
λl:下限波長、
λh:上限波長、
d[cp][n]:挿脱パターン番号nのときの分散補償板の総厚さ、
n:挿脱パターン番号、をそれぞれ示す。
−DM1[lens][s][λh]・・・(3)
ここで、
lens:被検光学系を示す添え字、
λl:下限波長、
λh:上限波長、
DM1[lens][s]:第1面S1を基準としたときの被検面までの設計累積面間光路長、
s:面番号、をそれぞれ示す。
Δod[n]=(ng[λm]−1)×d[cp][n] ・・・(4)
ここで、
ng[λm]:光源101のスペクトル分布の中心波長に対するガラス板の群屈折率、
d[cp][n]:挿脱パターン番号nのときの分散補償板の総厚さ、
n:挿脱パターン番号、をそれぞれ示す。
101 光源
102 コリメータレンズ
103 偏光子
104 偏光ビームスプリッタ
105 1/4波長板
106a、106b モータ
107a、107b 分散補償板
108 参照ミラー
108a コーナーキューブ
109 レーザ測長器
110 入出力装置
111 コンピュータ
112 モニタ
113 検光子
114 光電検出器
115 1/4波長板
116 測定光学系
117 被検光学系
500 面間隔測定装置
501 分散補償板
502 測定光学系
700 被検光学系
Claims (5)
- 複数の光学面を有する被検光学系の面間隔を測定するための面間隔測定方法において、
可干渉距離が短い光源からの光を第1の光束と第2の光束とに分割する光束分割工程と
、
測定対象となる前記光学面の位置に応じて前記第1の光束の光路長を変化させる光路長
可変工程と、
前記第2の光束の光路内に配置されている前記被検光学系のうち測定対象である前記光
学面に関する所定位置に、前記第2の光束を集光させる集光工程と、
前記被検光学系のうち所定の前記光学面に関して、前記被検光学系の設計値に基づいて
、所定の分散量及び厚さを有する分散補償部の前記第1の光束の光路内への挿脱に関する
挿脱データを演算する分散補償量演算工程と、
前記挿脱データに基づいて前記第1の光束の光路内へ前記分散補償部を挿脱する分散補
償部挿脱工程と、
光路長が変化した前記第1の光束と、測定対象となる前記光学面で反射した前記第2の
光束とを重ね合わせる光束合成工程と、
前記第1の光束と前記第2の光束とで生ずる干渉縞の光強度分布を検出する光強度検出
工程と、
前記第1の光束の光路長の前記変化量と、前記挿脱データと、前記光強度分布とに基づ
いて前記被検光学系の面間隔を算出する面間隔算出工程とを含み、
前記光学面が前記分散補償部を前記第1の光束の光路内へ新たに挿脱して測定する面で
あるときに、前記光強度検出工程において、前記分散補償部を挿脱する前の状態と前記分
散補償部を挿脱した後の状態との2つの状態で、前記光学面についての干渉縞の光強度分
布を検出することを特徴とする面間隔測定方法。 - 前記分散補償部は、複数の分散補償板からなり、
前記分散補償量演算工程では、前記複数の分散補償板を組み合わせる前記挿脱データを
演算し、
前記分散補償部挿脱工程では、前記複数の分散補償板を組み合わせて挿脱することを特
徴とする請求項1に記載の面間隔測定方法。 - 前記光源からの光は所定のスペクトル分布を有し、前記スペクトル分布の中心波長より
も長波長側の所定波長を上限波長とし、前記中心波長よりも短波長側の所定波長を下限波
長とそれぞれしたとき、
前記分散補償量演算工程は、前記上限波長の光路長と前記下限波長の光路長との差分を
前記分散量として演算し、
さらに前記分散補償量演算工程は、前記被検光学系の基準となる前記光学面から測定対
象となる前記光学面までに生ずる前記分散量と、前記分散補償部で生ずる前記分散量とを
比較し、比較結果に基づいて前記複数の分散補償板の組み合わせを決定することを特徴と
する請求項2に記載の面間隔測定方法。 - 前記光路長可変工程において、前記分散補償部の厚さによる光路長の変化量分だけ、さ
らに前記第1の光束の光路長を変化させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項
に記載の面間隔測定方法。 - 複数の光学面を有する被検光学系の面間隔を測定するための面間隔測定装置において、
可干渉距離が短い光源と、
前記光源からの光を第1の光束と第2の光束とに分割する光束分割部と、
測定対象となる前記光学面の位置に応じて前記第1の光束の光路長を変化させる光路長
可変部と、
前記第2の光束の光路内に配置されている前記被検光学系のうち測定対象である前記光
学面に関する所定位置に、前記第2の光束を集光させる集光部と、
前記被検光学系のうち所定の前記光学面に関して、前記被検光学系の設計値に基づいて
、所定の分散量及び厚さを有する分散補償部の前記第1の光束の光路内への挿脱に関する
挿脱データを演算する分散補償量演算部と、
前記挿脱データに基づいて前記第1の光束の光路内へ前記分散補償部を挿脱する分散補
償部挿脱部と、
光路長が変化した前記第1の光束と、前記光学面で反射した前記第2の光束とを重ね合
わせる光束合成部と、
前記第1の光束と前記第2の光束とで生ずる干渉縞の光強度分布を検出する光強度検出
部と、
前記第1の光束の光路長の前記変化量と、前記挿脱データと、前記光強度分布とに基づ
いて前記被検光学系の面間隔を算出する面間隔算出部とを有し、
前記光学面が前記分散補償部を前記第1の光束の光路内へ新たに挿脱して測定する面で
あるとき、前記光強度検出部において、前記分散補償部を挿脱する前の状態と前記分散補
償部を挿脱した後の状態との2つの状態で、前記光学面についての干渉縞の光強度分布を
検出することを特徴とする面間隔測定装置。
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JP2004174103A JP4391891B2 (ja) | 2004-06-11 | 2004-06-11 | 面間隔測定方法及び面間隔測定装置 |
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JP2005351801A JP2005351801A (ja) | 2005-12-22 |
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