JP4388510B2 - 集塵装置 - Google Patents
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Description
この石炭ガス化複合発電設備に用いる石炭ガス化装置の一例を図13に示す。図13に示すように、石炭ガス化装置101は、石炭102を供給してガス化する石炭ガス化炉103と、該石炭ガス化炉103からの生成ガス104を冷却する生成ガス冷却装置105と、冷却された生成ガス104中の未燃分である粉塵(チャー)105を遠心分離するサイクロン106と、生成ガス104中に残存している粉塵(チャー)105を集塵する集塵装置107と、浄化された生成ガスを精製して精製ガス108とするガス精製装置109と、前記分離又は集塵された粉塵(チャー)105を収容するホッパ110と、ホッパ110からの粉塵を石炭ガス化炉103に戻す戻し管111とを具備するものである。
この粉塵105の除去には逆洗ノズルを備えた逆洗装置が用いられている(特許文献1)。
すなわち、ガス導入管120のように管板112aの近傍はその濃度が高く、しかもその流速が速いのでその衝撃によりカルマン渦振動による損傷も発生する場合がある。
図1は、実施例1に係る集塵装置を示す概略図である。図2はその要部の平面図及び側面図である。
図1及び図2に示すように、本実施例に係る集塵装置10Aは、ガス11中の粉塵12を集塵してガス11を浄化する集塵装置であって、集塵装置本体13内に設けられ、内部をガス導入室14とガス排出室15とに区分けする管板16と、前記管板16から複数本垂下され、前記ガス11を外部から内部に流入して粉塵12をその表面で除去する集塵管17と、前記ガス導入室14に設けられ、管板16近傍にガス開口端部18aを位置し、前記集塵管17にガス11をダウンフローで供給するガス導入管18と、前記ガス導入管18の前記開口端部18aに設けたディフューザ19と、前記ガス排出室15に設けられ、浄化ガス20を排出するガス排出部21とを具備してなるものである。
なお、前記ガス排出室15側に設けられ、前記集塵管17に逆洗ガスを供給する逆洗浄部については図示を省略している。
前記ディフューザ19を設けることにより、ガス11の流速が減速される結果、ガス導入管18近傍に配設される集塵管17に損傷等を与えることが解消される。
ここで、本発明の集塵装置で処理するガス11としては、煤塵としてチャーを含有する石炭ガス化による生成ガスに限定されるものではなく、集塵管に損傷を与えるような微粒子を多量に含むガス(例えば煤塵濃度が1g/Nm3以上)であれば、いずれのものでもよい。
これは、図4のディフューザの直径拡大比と流速低減割合との関係図に示すように、前記開口比率が1.2以下であると流量減速効果が小さく、一方開口比率が1.4以上であると更なる流量減速効果が発現しないからである。なお、流速はガス11が集塵管17に当接した際の最速の流速である。
ここで、図3において、一例としてディフューザ19とガス導入管18との関係を示すと、ディフューザ19の開口径D1は650mm、ガス導入管の管径D2は550mm、管板16とディフューザ19の高さhは430mmとしているが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、集塵管17とガス導入管との距離Wは、各々の集塵装置においてガス中の煤塵による閉塞がないような距離とするのが好ましく、適宜設定すればよい。
図6は、実施例2に係る集塵装置を示す概略図である。前述した図1に示す実施例1の装置と同一部材については同一符号を付してその説明は省略する。
図6に示すように、本実施例に係る集塵装置10Bは、実施例1の集塵装置において、管板16の裏面側にガス流量分散部25を設置したものである。
図8は、実施例3に係る集塵装置を示す概略図である。前述した図1に示す実施例1の装置と同一部材については同一符号を付してその説明は省略する。
図8に示すように、本実施例に係る集塵装置10Cは、実施例1の集塵装置において、ガス導入管18及びディフューザ19の内面に旋回部31を形成してなるものである。
図9は、実施例4に係る集塵装置を示す概略図である。前述した図1に示す実施例1の装置と同一部材については同一符号を付してその説明は省略する。
図9に示すように、本実施例に係る集塵装置10Dは、実施例1の集塵装置において、 前記ディフューザ19の開口端部と管板16との間にガス流量分散板32を配設してなるものである。
また、複数の場合には、その形状及び大きさが同一であっても、異なる形状であってもよい。
11 ガス
12 粉塵
13 集塵装置本体
14 ガス導入室
15 ガス排出室
16 管板
17 集塵管
18 ガス導入管
19 ディフューザ
20 浄化ガス
Claims (9)
- ガス中の粉塵を集塵してガスを浄化する集塵装置であって、
集塵装置本体内に設けられ、前記集塵装置本体の内部を下方のガス導入室と上方のガス排出室とに区分けする管板と、
前記管板から垂下され、前記ガスを外部から内部に流入して粉塵をその表面で除去する集塵管と、
前記ガス導入室にて複数の前記集塵管に囲まれて設けられ、管板近傍にガス開口端部を位置し、前記集塵管にガスを供給するガス導入管と、
前記ガス導入管の前記開口端部に設けたディフューザと、
前記ガス排出室に設けられ、浄化されたガスを排出するガス排出部とを具備してなることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1において、
前記ディフューザの出口径と入口径との開口比率が1.2〜1.4であることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1又は2において、
前記ディフューザのコーン角が20〜60度であることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一つにおいて、
前記ディフューザの開口部に対向する管板に、ガス流量分散部を設けてなることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一つにおいて、
前記ディフューザ又はガス導入管のいずれか一方又は両方の内部にガス旋回流を形成する旋回部を形成してなることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一つにおいて、
前記ディフューザ開口端部と管板との間にガス流量分散板を1又は2以上配設してなることを特徴とする集塵装置。 - 請求項6において、
前記ガス流量分散板がリング状に形成されていることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一つにおいて、
前記集塵管が、前記ガス導入管を中心として放射状に複数配設されていることを特徴とする集塵装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一つにおいて、
前記ガス排出室に設けられ、前記集塵管に逆洗ガスを供給する逆洗浄部を有することを特徴とする集塵装置。
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