JP4376662B2 - ステージ装置および露光装置 - Google Patents
ステージ装置および露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4376662B2 JP4376662B2 JP2004058802A JP2004058802A JP4376662B2 JP 4376662 B2 JP4376662 B2 JP 4376662B2 JP 2004058802 A JP2004058802 A JP 2004058802A JP 2004058802 A JP2004058802 A JP 2004058802A JP 4376662 B2 JP4376662 B2 JP 4376662B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- stage
- movable table
- vacuum chamber
- linear motor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
ステージ装置は、走行軸方向に正確に位置決めされるとともに、その姿勢も正規の姿勢に保つ必要がある。特にヨー角(マスクの面に垂直な軸回りの回転変位)を生じないようにする必要がある。そこで、特許文献2あるいは特許文献3に開示されているように、走行方向に平行に配置された2本のリニアスケールを備え、前記リニアスケールの示度の差からヨー角を求める装置が提案されている。
そこで、本発明は、可動台のヨー角を制御して可動台の姿勢を正規の姿勢に保つとともに、フットプリントを小さくできるステージ装置および露光装置を提供することを目的とするものである。
台を非接触軸受又は流体軸受で支持して固定部に対して直交するX軸とY軸の2
軸方向に移動可能にするとともに、Y軸方向に互いに平行に延びる2本のY軸リ
ニアモータと前記Y軸リニアモータの走行方向に直交する方向に駆動するX軸リ
ニアモータとで前記可動台をX軸とY軸方向に駆動して任意の位置に位置決めす
るステージ装置において、
前記可動台のY軸の一端からY軸の対向他端方向に延びる1本の2次元リニア
スケールを前記可動台の中央に備え、前記2次元リニアスケールを読み取る2次
元リニアセンサを2個、前記Y軸リニアモータの走行方向に所定間隔をあけて前
記固定部に取り付け、
前記2個の2次元リニアセンサは前記Y軸リニアモータの走行方向に直交する
方向の前記可動台の変位を検出し、
検出した前記変位差を前記所定間隔で割ることにより前記可動台のヨー角の正
接を出し、
前記ヨー角に基づいて前記2本のY軸リニアモータの推力を調整し、前記可動
台の走行方向の姿勢を修正することを特徴としている。
請求項2に記載の露光装置の発明は、真空チャンバーと、前記真空チャンバー
内にある光源と、前記真空チャンバー内にあってマスクを取り付けるためのステ
ージ装置と、前記真空チャンバー内にあるウェハ載置用ウェハステージと、前記
真空チャンバー内にあって前記光源からの光をマスクの上に集光する集光ミラー
と、前記真空チャンバー内にあって前記マスクで反射された光を反射させて最終
的にウェハに達せしめる光学系ミラーと、から成る露光装置において、前記ステ
ージ装置として請求項1に記載のステージ装置を備え、前記ステージ装置によっ
て位置決めを行なうことを特徴としている。
図3は、前記ステージ装置をY軸方向(図2の右側)から見た側面図である。
まず、本発明に係るステージ装置の構成について説明する。
図1〜図3において、1は本発明に係るステージ装置であり、図示しないマスクをX軸およびY軸方向に移動させて正確に位置決めする装置である。2はステージ装置1の固定部であり、Y軸方向の両端が開口するとともに、下面にY軸方向に伸びる溝状の開口を備えた略矩形のフレームである。3(図2,図3)は可動台である。可動台3は固定部2に取り付けられた空気浮上軸受4で支持され、X軸およびY軸方向に自在に移動できる。また、可動部3は互いに平行に配置された2組のY軸リニアモータ5と1組のX軸リニアモータ6を備えている。なお、空気浮上軸受4、Y軸リニアモータ5およびX軸リニアモータ6は、図3に示すように、固定部2の天板と底板に上下対称に配置されている。
また、図示は省略したが、可動台3の上面および下面に、Y軸リニアモータ5およびX軸リニアモータ6の可動子が配置されていることは言うまでもない。
可動台3はX軸リニアモータ6とY軸リニアモータ5によって駆動されて、X軸およびY軸方向に自在に移動する。ただしX軸方向のストロークはY軸方向に比べて小さい。
可動台3(図3)がY軸(図で左右方向)に対して正規の姿勢を保っている場合、すなわちZ軸(図で上下方向)回りの回転角(ヨー角)が0の状態においては、2台の2次元リニアセンサ8が読み出したX軸方向(図で紙面に垂直方向)の位置は等しくなる。
しかし、例えば何らかの理由で2台のY軸リニアモータ5、5の推力に差が生じると、可動台3にZ軸回りの偶力が生じるからヨー角が変位する。ヨー角が変位すると、2台の2次元リニアセンサ8が読み出したX軸方向の位置に差が生じる。ところが、2台の2次元リニアセンサ8、8の間隔は予め解っているから、前記X軸方向の位置の差をこの間隔で割れば、ヨー角の正接(Tangent)が得られるので、ヨー角はこれから求めることができる。
そこで、このようにして求めたヨー角に基づいて2台のY軸リニアモータ5、5の一方(又は、両方)の推力を調整すれば可動台3の姿勢を正規の位置に戻す事ができる。
まず、本発明の第2の実施例に係る露光装置の構成について説明する。
図において、10は露光装置であり、11は露光装置10を収納する真空チャンバーである。12は光源であり、波長0.1nm〜400nmのEUV光(極端紫外光:Extreme Ultra-Violet)を発する。13はステージ装置であり、前記第1実施例で説明した2軸位置決め装置である。ステージ装置13の下面にはマスク14が取り付けられている。マスク14にはウェハ15に形成される回路のパターンが描かれている。ウェハ15はウェハステージ16に載置されている。
光源12を発したEUV光は、まず、集光ミラー17でマスク14の上に集光され、集光されたEUV光はマスク14で反射されて凹面ミラー18に達し、そこから反射されて凸面ミラー19に達し、さらにそこから反射されて凸面ミラー20に達し、さらにそこから反射されて凹面ミラー21に達するといった順に反射を繰り返して、最終的にウェハ15に達する。このとき、ステージ装置13およびウェハステージ16は、ウェハ15の表面にマスク14上に描かれた回路パターンの縮小像をウェハ15上に形成するように、相対的に位相を合せて移動する。
また、本実施例は反射鏡を用いた露光装置に第1実施例で説明した位置決め装置を使用した実施例であるが、レンズを用いた露光装置にも同様に適用可能である。
さらにまた、本実施例ではレクチル(回路原版)の位置決めをするのに、第1実施例で説明した位置決め装置を使用しているが、ウェハを位置決めするのにも第1実施例で説明した位置決め装置を使用することができる。
2 固定部
3 可動台
4 空気浮上軸受
5 Y軸リニアモータ
6 X軸リニアモータ
7 2次元リニアスケール
8 2次元リニアセンサ
10 露光装置
11 真空チャンバー
12 光源
13 ステージ装置
14 マスク
15 ウェハ
16 ウェハステージ
17 集光ミラー
18 凹面ミラー
19 凸面ミラー
20 凸面ミラー
21 凹面ミラー
Claims (2)
- 可動台を非接触軸受又は流体軸受で支持して固定部に対して直交するX軸とY
軸の2軸方向に移動可能にするとともに、Y軸方向に互いに平行に延びる2本の
Y軸リニアモータと前記Y軸リニアモータの走行方向に直交する方向に駆動する
X軸リニアモータとで前記可動台をX軸とY軸方向に駆動して任意の位置に位置
決めするステージ装置において、
前記可動台のY軸の一端からY軸の対向他端方向に延びる1本の2次元リニア
スケールを前記可動台の中央に備え、前記2次元リニアスケールを読み取る2次
元リニアセンサを2個、前記Y軸リニアモータの走行方向に所定間隔をあけて前
記固定部に取り付け、
前記2個の2次元リニアセンサは前記Y軸リニアモータの走行方向に直交する
方向の前記可動台の変位を検出し、
検出した前記変位差を前記所定間隔で割ることにより前記可動台のヨー角の正
接を出し、
前記ヨー角に基づいて前記2本のY軸リニアモータの推力を調整し、前記可動
台の走行方向の姿勢を修正することを特徴とするステージ装置。 - 真空チャンバーと、
前記真空チャンバー内にある光源と、
前記真空チャンバー内にあってマスクを取り付けるためのステージ装置と、
前記真空チャンバー内にあるウェハ載置用ウェハステージと、
前記真空チャンバー内にあって前記光源からの光をマスクの上に集光する集光
ミラーと、
前記真空チャンバー内にあって前記マスクで反射された光を反射させて最終的
にウェハに達せしめる光学系ミラーと、から成る露光装置において、
前記ステージ装置として請求項1に記載のステージ装置を備え、前記ステージ
装置によって位置決めを行なうことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004058802A JP4376662B2 (ja) | 2004-03-03 | 2004-03-03 | ステージ装置および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004058802A JP4376662B2 (ja) | 2004-03-03 | 2004-03-03 | ステージ装置および露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005250743A JP2005250743A (ja) | 2005-09-15 |
JP4376662B2 true JP4376662B2 (ja) | 2009-12-02 |
Family
ID=35031177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004058802A Expired - Fee Related JP4376662B2 (ja) | 2004-03-03 | 2004-03-03 | ステージ装置および露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4376662B2 (ja) |
-
2004
- 2004-03-03 JP JP2004058802A patent/JP4376662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005250743A (ja) | 2005-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6566389B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
TWI451203B (zh) | A moving body driving system, a pattern forming apparatus, an exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method | |
TWI559098B (zh) | Mobile device and moving body driving method, exposure apparatus and exposure method, and component manufacturing method | |
TWI592768B (zh) | 計測裝置 | |
JP2020190740A (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 | |
JP2022133345A (ja) | 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
KR20120091158A (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2013506973A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
US20100195085A1 (en) | Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
KR20120091160A (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
TWI502284B (zh) | 移動體裝置、曝光裝置及裝置製造方法 | |
JP2011060823A (ja) | 基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法、及び基板保持装置の調整方法 | |
KR102130964B1 (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
KR20190051049A (ko) | 이동체 장치, 이동 방법, 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
JP2007053244A (ja) | ステージ装置およびその露光装置 | |
JP2010080863A (ja) | 転写装置及びデバイス製造方法 | |
KR102296327B1 (ko) | 이동체 장치, 이동 방법, 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
JP4962779B2 (ja) | ステージ装置およびその浮上制御方法と、ステージ装置を用いた露光装置 | |
JP4376662B2 (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
JP4424739B2 (ja) | ステージ装置 | |
JPH11251409A (ja) | 位置決め装置、及び露光装置 | |
JP4948886B2 (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
KR102318643B1 (ko) | 이동체 장치, 이동 방법, 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
KR102320293B1 (ko) | 이동체 장치, 이동 방법, 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
JP2010080861A (ja) | 転写装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060424 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090428 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090605 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090811 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090901 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4376662 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130918 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |