JP4376610B2 - Surface protective film and surface protective film using the same - Google Patents

Surface protective film and surface protective film using the same Download PDF

Info

Publication number
JP4376610B2
JP4376610B2 JP2003420473A JP2003420473A JP4376610B2 JP 4376610 B2 JP4376610 B2 JP 4376610B2 JP 2003420473 A JP2003420473 A JP 2003420473A JP 2003420473 A JP2003420473 A JP 2003420473A JP 4376610 B2 JP4376610 B2 JP 4376610B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
surface protective
silicone
acrylate
ionizing radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003420473A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005181564A (en
Inventor
亜季 松尾
光則 丸山
邦人 梶谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kimoto Co Ltd
Original Assignee
Kimoto Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kimoto Co Ltd filed Critical Kimoto Co Ltd
Priority to JP2003420473A priority Critical patent/JP4376610B2/en
Priority to KR1020040106083A priority patent/KR101118872B1/en
Priority to TW093139169A priority patent/TWI350303B/en
Priority to CN2004101011989A priority patent/CN1637598B/en
Publication of JP2005181564A publication Critical patent/JP2005181564A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4376610B2 publication Critical patent/JP4376610B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/48Protective coatings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Description

本発明は、離型性を有する表面保護膜、および表面保護フィルムに関し、特にプリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際の原稿(フォトマスク)の表面に好適に用いられる表面保護膜、および表面保護フィルムに関する。   The present invention relates to a surface protective film having a releasability and a surface protective film, and in particular, a surface suitably used for the surface of a manuscript (photomask) when exposing an adhesive photoresist in a printed circuit board manufacturing process or the like. The present invention relates to a protective film and a surface protective film.

通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストにフォトマスク(露光用原稿)を密着露光して作製される。このため、フォトマスクの表面に何らかの処理を施さないと、露光終了後フォトマスクをフォトレジストから剥がす際に、フォトレジストの一部がフォトマスク表面に付着し、拭き取ってもフォトマスク上に残存してしまい、露光精度の低下を招いてしまうという問題を生じる。このような事情から、従来からフォトマスク上のフォトレジストに対向する面に、離型性を有する表面保護フィルムを設けて、フォトレジストがフォトマスクに付着することを防止している。   Usually, a printed wiring board or a resin relief plate is produced by closely exposing a photomask (exposure original) to an adhesive photoresist such as a liquid photoresist. For this reason, if the surface of the photomask is not subjected to any treatment, when the photomask is removed from the photoresist after completion of exposure, a part of the photoresist adheres to the photomask surface and remains on the photomask even after wiping. As a result, there arises a problem that the exposure accuracy is lowered. Under such circumstances, conventionally, a surface protective film having releasability is provided on the surface of the photomask facing the photoresist to prevent the photoresist from adhering to the photomask.

このようなフォトマスク用の表面保護フィルムとしては、プラスチックフィルムの一方の面に離型性を有する表面保護膜を有し、もう一方の面に粘着層を有するものが提案されている(特許文献1参照)。しかしこのような表面保護フィルムにおいても、表面保護膜へのフォトレジストの付着を完全に防止することはできず、これらの表面保護膜に残ったフォトレジストや、その他のほこり等を除去するため、表面保護膜の表面を洗浄溶剤によって定期的にクリーニング(拭き取り操作)することが行われている。このため、このような表面保護フィルムには、クリーニング後においてもレジストの付着を防止するよう離型性が持続することが要求されている。   As such a surface protective film for a photomask, a film having a surface protective film having releasability on one surface of a plastic film and an adhesive layer on the other surface has been proposed (Patent Document). 1). However, even in such a surface protective film, adhesion of the photoresist to the surface protective film cannot be completely prevented, and in order to remove the photoresist remaining in these surface protective films, other dust, etc., The surface of the surface protection film is regularly cleaned (wiping operation) with a cleaning solvent. For this reason, it is required for such a surface protective film to maintain releasability so as to prevent resist adhesion even after cleaning.

このような理由から、洗浄溶剤によるクリーニング後においても、フォトレジストに対する離型性が持続する表面保護フィルムが提案されており、確かにこのような表面保護フィルムは、低級アルコール等の洗浄溶剤によるクリーニングについては、十分な離型性を持続することができた(特許文献2参照)。しかし、最近のフォトレジストの塗布方法としては、量産性を高めるために従来のスクリーン印刷からスプレーコートやカーテンコートという方法が取られるようになってきている。そのためフォトレジスト中に含まれる溶剤の成分や含有量が変化してきており、フォトレジスト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によって、表面保護膜が徐々に侵されてしまい、フォトレジストに対する十分な離型性が持続できなくなっている。
特開平11−7121号公報(段落番号0002) 特開2000−273412号公報(段落番号0008)
For these reasons, surface protective films that have been maintained with a release property even after cleaning with a cleaning solvent have been proposed. Certainly, such surface protective films are cleaned with a cleaning solvent such as a lower alcohol. As for, sufficient releasability could be maintained (see Patent Document 2). However, as a recent photoresist coating method, a spray coating method or a curtain coating method has been used instead of the conventional screen printing in order to increase mass productivity. Therefore, the components and contents of the solvent contained in the photoresist have changed, and the surface protective film has been gradually attacked by the solvent comprising polyhydric alcohol or its derivative contained in the photoresist. Sufficient mold releasability for can not be sustained.
JP-A-11-7121 (paragraph number 0002) Japanese Patent Laid-Open No. 2000-273412 (paragraph number 0008)

そこで、本発明は、表面保護膜が洗浄溶剤によるクリーニングによって侵されることなく、さらにフォトレジスト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によっても侵されることがなく、フォトレジストに対する極めて高い離型性が持続する表面保護膜、およびこれを用いた表面保護フィルムを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention does not attack the surface protective film by cleaning with a cleaning solvent, and is not affected by a solvent made of a polyhydric alcohol or a derivative thereof contained in the photoresist. It is an object to provide a surface protective film that maintains releasability and a surface protective film using the same.

本発明の表面保護膜は、離型性を有するものであり、電離放射線硬化型樹脂組成物、およびイソシアネートプレポリマーから形成されてなることを特徴とするものである。   The surface protective film of the present invention has releasability and is formed from an ionizing radiation curable resin composition and an isocyanate prepolymer.

また本発明の表面保護膜は、電離放射線硬化型樹脂組成物、イソシアネートプレポリマー、および離型剤から形成されてなることを特徴とするものである。   The surface protective film of the present invention is formed from an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer, and a release agent.

また好ましくは、前記離型剤がシリコーン系化合物であることを特徴とするものである。   Preferably, the release agent is a silicone compound.

また好ましくは、前記シリコーン系化合物がシリコーンアクリレートであることを特徴とするものである。   Preferably, the silicone compound is a silicone acrylate.

また好ましくは、前記シリコーンアクリレートは、シリコーン含有率が50重量%以上90重量%以下、数平均分子量が5000〜20000、アクリレート官能基数が3以上であることを特徴とするものである。   Preferably, the silicone acrylate has a silicone content of 50% by weight to 90% by weight, a number average molecular weight of 5000 to 20000, and an acrylate functional group number of 3 or more.

本発明の表面保護フィルムは、プラスチックフィルムの一方の面に上述の表面保護膜を有し、もう一方の面に粘着層を有することを特徴とするものである。   The surface protective film of the present invention is characterized by having the above-mentioned surface protective film on one surface of a plastic film and an adhesive layer on the other surface.

なお、本発明でいうシリコーン含有率とは、シリコーンアクリレートにおけるポリアルキルシロキサン骨格の占める割合をいう。   In addition, the silicone content rate as used in the field of this invention means the ratio for which the polyalkylsiloxane skeleton in silicone acrylate accounts.

本発明の表面保護膜、および表面保護フィルムは、表面保護膜が洗浄溶剤によるクリーニングによって侵されることなく、さらにフォトレジスト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によっても侵されることがなく、フォトレジストに対する極めて高い離型性を持続するものとすることができる。   The surface protective film and the surface protective film of the present invention may be attacked by a solvent comprising a polyhydric alcohol or a derivative thereof contained in the photoresist without the surface protective film being attacked by cleaning with a cleaning solvent. And extremely high releasability with respect to the photoresist can be maintained.

本発明の表面保護膜は、離型性を有するものであり、電離放射線硬化型樹脂組成物、およびイソシアネートプレポリマーから形成されてなるものである。また本発明の表面保護膜は、電離放射線硬化型樹脂組成物、イソシアネートプレポリマー、および離型剤から形成されてなるものである。以下、各構成要素の実施の形態について説明する。   The surface protective film of the present invention has releasability and is formed from an ionizing radiation curable resin composition and an isocyanate prepolymer. The surface protective film of the present invention is formed from an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer, and a release agent. Hereinafter, embodiments of each component will be described.

フォトマスクの表面に用いられる表面保護フィルムは、プリント配線板等の基となる基板にはスルーホール等によって凹凸があるため、密着露光される際に凸部は平滑部よりも高い圧力が加わり、露光を繰り返すごとに表面保護膜が少しずつ削り取られてしまうという問題がある。   Since the surface protection film used on the surface of the photomask has unevenness due to through-holes etc. on the base substrate such as a printed wiring board, the convex part is applied with higher pressure than the smooth part when closely exposed, There is a problem that the surface protective film is scraped off little by little as exposure is repeated.

本発明においては、表面保護膜を構成する樹脂成分として電離放射線硬化型樹脂組成物を用いることにより、露光を繰り返し行っても表面保護膜を削り取られ難くすることができる。これにより、表面保護膜が物理的に削られてしまうことによる表面保護膜の離型性の低下を防止すると共に、ヘーズの上昇を抑制し、解像力の低下を防止することができる。また、表面保護膜は傷がつき難くなるため、表面保護膜の耐久性が向上し露光できる回数を大幅に増やすことができる。   In the present invention, by using an ionizing radiation curable resin composition as a resin component constituting the surface protective film, the surface protective film can be made difficult to be scraped off even if exposure is repeated. As a result, it is possible to prevent a decrease in the releasability of the surface protective film due to physical scraping of the surface protective film, suppress an increase in haze, and prevent a decrease in resolution. Further, since the surface protective film is hardly damaged, the durability of the surface protective film is improved and the number of exposures can be greatly increased.

表面保護膜の硬さは、被積層体によって異なってくるが、JIS K5400:1990におけるテーバー摩耗硬度試験における前後のヘーズの差(即ち、テーバー摩耗硬度試験後のヘーズからテーバー摩耗硬度試験前のヘーズを引いた値、以下「ΔH」と略す)が、25未満、さらには20未満とすることが好ましい。   The hardness of the surface protective film varies depending on the laminate, but the difference in haze before and after the Taber abrasion hardness test in JIS K5400: 1990 (ie, the haze before the Taber abrasion hardness test from the haze after the Taber abrasion hardness test) The value obtained by subtracting (hereinafter abbreviated as “ΔH”) is preferably less than 25, more preferably less than 20.

このような電離放射線硬化型樹脂組成物は、電離放射線(紫外線または電子線)の照射によって架橋硬化することができる光重合性プレポリマーを用いることができ、この光重合性プレポリマーとしては、1分子中に2個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより3次元網目構造となるアクリル系プレポリマーが特に好ましく使用される。このアクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が使用できる。さらにこれらのアクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性を向上させ表面保護膜の硬度をより向上させるために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。   As such an ionizing radiation curable resin composition, a photopolymerizable prepolymer that can be crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams) can be used. An acrylic prepolymer having two or more acryloyl groups in the molecule and having a three-dimensional network structure by crosslinking and curing is particularly preferably used. As the acrylic prepolymer, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, polyfluoroalkyl acrylate, silicone acrylate and the like can be used. Furthermore, these acrylic prepolymers can be used alone, but it is preferable to add a photopolymerizable monomer in order to improve the cross-linking curability and further improve the hardness of the surface protective film.

光重合性モノマーとしては、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー、1、6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等の2官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能アクリルモノマー等の1種若しくは2種以上が使用される。   As photopolymerizable monomers, monofunctional acrylic monomers such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, butoxyethyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, diethylene glycol One kind of bifunctional acrylic monomer such as diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol diacrylate, etc., or polyfunctional acrylic monomer such as dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate or the like Two or more are used.

表面保護膜は、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他、紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を用いることが好ましい。   In addition to the above-mentioned photopolymerizable prepolymer and photopolymerizable monomer, the surface protective film preferably uses additives such as a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator when cured by ultraviolet irradiation.

光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシロキシムエステル、チオキサンソン類等があげられる。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, benzoin, benzylmethyl ketal, benzoylbenzoate, α-acyloxime ester, thioxanthone and the like.

また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどがあげられる。   Further, the photopolymerization accelerator can reduce the polymerization obstacle due to air at the time of curing and increase the curing speed. For example, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, and the like. can give.

ここで、上述したポリフルオロアルキルアクリレート、およびシリコーンアクリレートを単独で用いた場合は、離型剤を用いることなく表面保護膜に離型性を付与することができるが、表面保護膜とした時の被積層体に対する接着性、および表面硬度等を考慮すると、単独で用いるよりも離型剤として上述した他の電離放射線硬化型樹脂組成物と共に使用することが好ましい。   Here, when the above-mentioned polyfluoroalkyl acrylate and silicone acrylate are used alone, it is possible to impart releasability to the surface protective film without using a mold release agent. Considering adhesiveness to the laminate, surface hardness, etc., it is preferable to use it together with the above-mentioned other ionizing radiation curable resin composition as a release agent rather than using it alone.

次に、離型剤としては、特に限定されず、フッ素系化合物やシリコーン系化合物を用いた離型剤を使用することができ、フォトレジストからの初期の離型性を考慮すると、シリコーン系化合物であることが好ましい。このようなシリコーン系化合物としては、例えば、シリコーンオイル、シリコーンレジン、オルガノシルセスキオキサンのラダー重合体、シリコーン系櫛形グラフトポリマー、シリコーンアクリレートなどがあげられ、なかでも上述の電離放射線硬化型樹脂組成物と共に架橋させることができることからシリコーンアクリレートを用いることが好ましい。   Next, the release agent is not particularly limited, and a release agent using a fluorine-based compound or a silicone-based compound can be used. In consideration of the initial release property from the photoresist, the silicone-based compound It is preferable that Examples of such silicone compounds include silicone oils, silicone resins, organosilsesquioxane ladder polymers, silicone comb graft polymers, silicone acrylates, and the like. It is preferable to use silicone acrylate because it can be cross-linked with the product.

ここで、シリコーンアクリレートは上述したように電離放射線硬化型樹脂組成物の中に含まれるものであるが、表面保護膜とした時の被積層体との接着性、表面硬度、初期の離型性、および露光やクリーニングを繰り返し行った後の離型性の持続という観点から、離型剤として用いることが望ましい。このように離型剤としてシリコーンアクリレートを用いる場合は、他の電離放射線硬化型樹脂組成物によって表面硬度を高くし、シリコーンアクリレートは少量の添加でも十分な離型性が出るようにシリコーン含有率を特定のものとし、また露光やクリーニングを繰り返し行った後の離型性の持続という観点から、数平均分子量やアクリレート官能基数を特定なものとすることが好ましい。   Here, the silicone acrylate is contained in the ionizing radiation curable resin composition as described above. However, the adhesiveness to the laminate, the surface hardness, and the initial release property when the surface protective film is formed. From the viewpoint of sustaining releasability after repeated exposure and cleaning, it is desirable to use it as a release agent. Thus, when silicone acrylate is used as a release agent, the surface hardness is increased by another ionizing radiation curable resin composition, and the silicone content is increased so that sufficient release properties can be obtained even when a small amount of silicone acrylate is added. It is preferable to make the number average molecular weight and the number of acrylate functional groups specific from the viewpoint of making them specific and maintaining releasability after repeated exposure and cleaning.

即ち、このようなシリコーンアクリレートは、シリコーン含有率が下限として50重量%以上、好ましくは60重量%以上とし、上限として90重量%以下、好ましくは80重量%以下とする。シリコーン含有率を50重量%以上とすることにより優れた離型性を付与することができ、90重量%以下とすることにより有効なアクリレート官能基数を付与して離型性を持続することができる。   That is, such a silicone acrylate has a silicone content of 50% by weight or more, preferably 60% by weight or more as a lower limit, and an upper limit of 90% by weight or less, preferably 80% by weight or less. When the silicone content is 50% by weight or more, excellent release properties can be imparted, and when it is 90% by weight or less, effective acrylate functional group numbers can be imparted and the release properties can be maintained. .

また、数平均分子量は5000〜20000であることが好ましく、さらには10000〜15000であることが好ましい。数平均分子量を5000以上とすることにより露光の際に離型剤がフォトレジスト側に転写してしまうのを防止することでき、20000以下とすることにより上述した電離放射線硬化型樹脂組成物との相溶性が低下するのを防止し、被膜の透明性を維持することができると共に、表面保護膜の離型性を持続させることができる。   The number average molecular weight is preferably 5,000 to 20,000, and more preferably 10,000 to 15,000. By setting the number average molecular weight to 5000 or more, it is possible to prevent the release agent from being transferred to the photoresist side during exposure. By setting the number average molecular weight to 20000 or less, the ionizing radiation curable resin composition described above can be prevented. The compatibility can be prevented from lowering, the transparency of the coating can be maintained, and the releasability of the surface protective film can be maintained.

また、アクリレート官能基数は3以上であることが好ましく、さらにはアクリレート官能基数は3以上8以下であることが好ましい。アクリレート官能基数を3以上とすることにより上述した電離放射線硬化型樹脂組成物との反応性を十分なものとし離型性を持続させることができる。またアクリレート官能基数を8以上としても上述した電離放射線硬化型樹脂組成物との反応性の向上による離型性の持続は望めないため、このような範囲とすることが好ましい。   The number of acrylate functional groups is preferably 3 or more, and more preferably 3 or more and 8 or less. By setting the number of acrylate functional groups to 3 or more, the reactivity with the ionizing radiation curable resin composition described above can be made sufficient, and the releasability can be maintained. Further, even if the number of acrylate functional groups is 8 or more, it is not possible to maintain the releasability by improving the reactivity with the ionizing radiation curable resin composition described above.

このような離型剤の添加量は、フッ素系化合物、またはシリコーン系化合物などの用いる離型剤の種類によって異なるが、シリコーン系化合物の場合、一般に表面保護膜を構成する全樹脂固形分中の、0.1重量%〜20重量%程度である。さらにシリコーンアクリレートを用いる場合には、シリコーン含有率によっても異なるが上記範囲の場合、0.5重量%〜10重量%、さらには0.5重量%〜5重量%程度とすることが好ましい。   The amount of such a release agent added varies depending on the type of release agent used, such as a fluorine-based compound or a silicone-based compound, but in the case of a silicone-based compound, generally, the total amount of resin solids constituting the surface protective film About 0.1 wt% to 20 wt%. Further, when silicone acrylate is used, it varies depending on the silicone content, but in the above range, it is preferably 0.5 wt% to 10 wt%, more preferably about 0.5 wt% to 5 wt%.

次に、上述した電離放射線硬化型樹脂組成物と共に本発明の表面保護膜を構成するイソシアネートプレポリマーについて説明する。ここでいうイソシアネートプレポリマーとは、通常、ポリオール樹脂と共に常温硬化系で用いられるイソシアネートプレポリマーを指す。イソシアネートプレポリマーは、原料イソシアネートによりトリレンジイソシアネート系、ジフェニルメタンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、イソホロンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系などがあり、特に、無黄変性、耐候性の観点からキシリレンジイソシアネート系、イソホロンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系のものが好適に用いられる。   Next, the isocyanate prepolymer which comprises the surface protective film of this invention with the ionizing radiation curable resin composition mentioned above is demonstrated. The isocyanate prepolymer here refers to an isocyanate prepolymer that is usually used in a room temperature curing system together with a polyol resin. Isocyanate prepolymers include tolylene diisocyanate type, diphenylmethane diisocyanate type, xylylene diisocyanate type, isophorone diisocyanate type, hexamethylene diisocyanate type, etc., depending on the raw material isocyanate. Isophorone diisocyanate and hexamethylene diisocyanate are preferably used.

このようなイソシアネートプレポリマーを電離放射線硬化型樹脂組成物と共に架橋硬化させることにより、表面保護膜に離型性を持続させることができる。このように電離放射線硬化型樹脂組成物と共にイソシアネートプレポリマーを含有させると、離型性が持続できるようになる理由は、必ずしも明らかでないが、被膜表面では空気中の酸素による硬化障害や離型剤による硬化障害が少なからずも起こっており、これにより耐溶剤性が低下しているものと思われ、表面保護膜にイソシアネートプレポリマーを含有させると被膜表面でイソシアネートプレポリマーが架橋反応し、硬化障害によってわずかに生じた架橋不足を補うことができるためと考えられる。これにより表面保護膜はイソシアネートプレポリマーを含有させなかったものと比べて耐溶剤性が向上し、離型性が維持できるものと考えられる。ここで不活性ガス等の雰囲気下で電離放射線を照射することにより、このような空気中の酸素による硬化障害を生じさせないようにすることもできるが、このような方法では設備を整えるための費用がかかるうえ、離型剤による硬化障害を防止することはできない。   By releasing and curing such an isocyanate prepolymer together with the ionizing radiation curable resin composition, the mold release property can be maintained in the surface protective film. The reason why the releasability can be maintained when the isocyanate prepolymer is contained together with the ionizing radiation curable resin composition in this way is not necessarily clear, but on the surface of the coating, it is difficult to cure due to oxygen in the air or a release agent. It seems that there are not a few curing obstacles due to this, and it seems that the solvent resistance is lowered due to this, and when the isocyanate prepolymer is included in the surface protective film, the isocyanate prepolymer crosslinks on the surface of the coating, and the curing obstacle This is considered to be because the shortage of crosslinking caused slightly by the above can be compensated. Thus, it is considered that the surface protective film has improved solvent resistance and can maintain releasability as compared with the case where the isocyanate prepolymer is not contained. By irradiating with ionizing radiation in an atmosphere of inert gas or the like here, it is possible to prevent such a curing failure due to oxygen in the air. In addition, it is impossible to prevent the curing failure caused by the release agent.

このようなイソシアネートプレポリマーの含有量は、特に限定されるものではなく、イソシアネート基の含有率、表面保護膜の厚みや離型剤の添加量によって異なってくるので一概にいえないが、表面保護膜を構成する全樹脂固形分中の、下限として1重量%以上、好ましくは5重量%以上、更に好ましくは10重量%以上とし、上限としては50重量%以下、好ましくは30重量%以下とする。1重量%以上とすることにより表面保護膜の表面でイソシアネートプレポリマーが架橋反応し、硬化障害によってわずかに生じた架橋不足を補うことができ、50重量%以下とすることにより電離放射線硬化型樹脂組成物を用いることによって得られる被膜硬度等の物性を損なわないようにすることができる。   The content of such an isocyanate prepolymer is not particularly limited, and it cannot be generally stated because it varies depending on the isocyanate group content, the thickness of the surface protective film, and the amount of release agent added. The lower limit of the total resin solids constituting the membrane is 1% by weight or more, preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, and the upper limit is 50% by weight or less, preferably 30% by weight or less. . When the amount is 1% by weight or more, the isocyanate prepolymer undergoes a cross-linking reaction on the surface of the surface protective film, and the shortage of crosslinking caused by a curing failure can be compensated. By setting the amount to 50% by weight or less, ionizing radiation curable resin By using the composition, physical properties such as film hardness can be prevented from being impaired.

また、表面保護膜は、電離放射線硬化型樹脂組成物、イソシアネートプレポリマー、および必要に応じて添加した離型剤の他、これらの効果を阻害しない範囲であれば他の樹脂をブレンドしてもよい。ただし、ポリオール樹脂等のようにイソシアネートプレポリマーと反応してしまうような樹脂の場合は、反応してしまう分イソシアネートプレポリマーの添加量を多くする必要がある。また、表面保護膜には、これらの効果を阻害しない範囲であれば、滑剤、微粒子、蛍光増白剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤等の種々の添加剤を含ませることができる。   In addition to the ionizing radiation curable resin composition, isocyanate prepolymer, and release agent added as necessary, the surface protective film may be blended with other resins as long as these effects are not impaired. Good. However, in the case of a resin that reacts with an isocyanate prepolymer, such as a polyol resin, it is necessary to increase the amount of the isocyanate prepolymer that is reacted. In addition, the surface protective film has a lubricant, fine particles, a fluorescent brightening agent, a pigment, an antistatic agent, a flame retardant, an antibacterial agent, an antifungal agent, an antioxidant, and a plasticizer as long as these effects are not impaired. Various additives such as a leveling agent, a flow modifier, an antifoaming agent, and a dispersing agent can be included.

特に、フォトマスク用の表面保護膜としては、密着露光時の真空引きをしやすくするという観点から、表面保護膜中に無機顔料や、樹脂ビーズなどの微粒子など含有させて表面保護膜の表面に微細な凹凸を形成することが好ましい。このような微粒子としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリン、クレー、タルク等の無機顔料や、アクリル樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の樹脂ビーズ等が使用できる。このような微粒子の添加量は、微粒子の種類、表面保護膜の厚みによって異なってくるので一概にいえないが、通常は表面保護膜を構成する全樹脂固形分に対し0.1重量%〜10重量%程度である。また、このような微粒子の平均粒径は、表面保護膜の厚みによって異なってくるので一概にいえないが、通常0.1μm〜10μm程度であり、好ましくは0.5μm〜5μmのものが使用される。   In particular, as a surface protective film for a photomask, from the viewpoint of facilitating evacuation during contact exposure, an inorganic pigment, fine particles such as resin beads are included in the surface protective film on the surface of the surface protective film. It is preferable to form fine irregularities. Examples of such fine particles include inorganic pigments such as calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, silica, aluminum hydroxide, kaolin, clay, talc, acrylic resin particles, polystyrene resin particles, polyurethane resin particles, polyethylene resin particles, benzoguanamine. Resin beads such as resin particles and epoxy resin particles can be used. The amount of such fine particles to be added varies depending on the type of fine particles and the thickness of the surface protective film, and thus cannot be generally stated. Usually, however, 0.1 wt% to 10 wt% with respect to the total resin solid content constituting the surface protective film. It is about wt%. In addition, the average particle size of such fine particles varies depending on the thickness of the surface protective film, but cannot be generally stated, but is usually about 0.1 μm to 10 μm, preferably 0.5 μm to 5 μm. The

表面保護膜の厚みとしては、特に限定されないが、露光の際のフォトマスクの解像度を低下させないという観点からできるだけ薄い方が好ましく、また表面保護膜の表面硬度、密着露光を繰り返すことによる表面保護膜の削れ、初期の離型性、およびクリーニング後の離型性の持続という観点から具体的には0.5μm〜5μm、好ましくは1μm〜3μm程度とする。   The thickness of the surface protective film is not particularly limited, but is preferably as thin as possible from the viewpoint of not reducing the resolution of the photomask at the time of exposure, and the surface protective film by repeating the surface hardness of the surface protective film and contact exposure. Specifically, the thickness is set to about 0.5 μm to 5 μm, preferably about 1 μm to 3 μm from the viewpoints of chipping, initial releasability, and sustained releasability after cleaning.

このような表面保護膜は、電離放射線硬化型樹脂組成物、イソシアネートプレポリマー、および必要に応じて加えた離型剤、他の樹脂、他の添加剤、および希釈溶媒などを混合して表面保護膜用塗布液を調整し、従来公知のコーティング方法、例えば、バーコーター、ダイコーター、ブレードコーター、スピンコーター、ロールコーター、グラビアコーター、フローコーター、スプレー、スクリーン印刷などによって、フォトマスクなどの保護したいものに直接塗布した後、必要に応じて乾燥させ、電離放射線の照射によって硬化させ、さらに必要に応じて加熱によってキュアリングをすることにより作製することができる。   Such a surface protective film is made by mixing an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer, and a release agent added as necessary, other resins, other additives, a diluting solvent, and the like to protect the surface. I want to protect the photomask etc. by adjusting the coating solution for film and using a conventionally known coating method such as bar coater, die coater, blade coater, spin coater, roll coater, gravure coater, flow coater, spray, screen printing, etc. It can be produced by directly applying to a product, drying as necessary, curing by irradiation with ionizing radiation, and further curing by heating as necessary.

また、電離放射線を照射する方法としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプなどから発せられる100nm〜400nm、好ましくは200nm〜400nmの波長領域の紫外線を照射する、又は走査型やカーテン型の電子線加速器から発せられる100nm以下の波長領域の電子線を照射することにより行うことができる。   As a method of irradiating with ionizing radiation, ultraviolet rays in a wavelength region of 100 nm to 400 nm, preferably 200 nm to 400 nm, emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, etc. are irradiated or scanned. The irradiation can be performed by irradiating an electron beam having a wavelength region of 100 nm or less emitted from a type or curtain type electron beam accelerator.

また本発明の表面保護膜は、上記のようにフォトマスク上に直接形成して使用することもできるが、例えば、一方の面に粘着層が設けられたプラスチックフィルムのもう一方の面に、上述と同様にして表面保護膜を形成して表面保護フィルムを作製し、この表面保護フィルムの粘着層を有する面とフォトマスクの表面とを貼り合わせることにより使用することもできる。   The surface protective film of the present invention can also be used by directly forming it on a photomask as described above. For example, the surface protective film is formed on the other surface of the plastic film having an adhesive layer on one surface. In the same manner as above, a surface protective film is formed to produce a surface protective film, and the surface of the surface protective film having the adhesive layer and the surface of the photomask can be used together.

このようなプラスチックフィルムとしては、特に限定されないが、透明性の高いものが好ましく、特に露光の際に使用される紫外線透過率の高いものほど好ましい。このようなプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリ塩化ビニル等の透明性に優れるプラスチックフィルムが用いられる。特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが機械的強度、寸法安定性に優れているために好適に使用され、プラズマ処理、コロナ放電処理、遠紫外線照射処理、下引き易接着処理層の形成等の易接着処理が施されたものを用いることが好ましい。   Although it does not specifically limit as such a plastic film, A thing with high transparency is preferable, and the thing with a high ultraviolet-ray transmittance especially used in the case of exposure is more preferable. As such a plastic film, a plastic film having excellent transparency such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, triacetyl cellulose, acrylic, polyvinyl chloride, and the like is used. In particular, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferably used because of its excellent mechanical strength and dimensional stability, such as plasma treatment, corona discharge treatment, deep ultraviolet irradiation treatment, and formation of an easily subtractable adhesion treatment layer. It is preferable to use one that has been subjected to easy adhesion treatment.

このようなプラスチックフィルムの厚みは、露光の際のフォトマスクの解像度を低下させないという観点からできるだけ薄い方が好ましいが、取扱性や機械的強度等も考慮すると、1μm〜100μm、好ましくは2μm〜25μm、さらに好ましくは4μm〜15μm程度である。   The thickness of such a plastic film is preferably as thin as possible from the viewpoint of not reducing the resolution of the photomask at the time of exposure. However, in consideration of handleability and mechanical strength, it is 1 μm to 100 μm, preferably 2 μm to 25 μm. More preferably, it is about 4 μm to 15 μm.

次に粘着層は、少なくとも粘着性成分から形成される。粘着性成分としては、特に限定されることはなく、天然樹脂系粘着剤、合成樹脂系粘着剤等が使用され、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤等の合成樹脂系粘着剤が好ましく使用される。また、このような粘着層には、粘着性を阻害しない範囲であれば、架橋剤や表面保護膜と同様の種々の添加剤を含ませることができる。   Next, the adhesive layer is formed from at least an adhesive component. The adhesive component is not particularly limited, and natural resin-based adhesives, synthetic resin-based adhesives, etc. are used, and synthetic resin-based adhesives such as acrylic-based adhesives, silicone-based adhesives, urethane-based adhesives, etc. Agents are preferably used. In addition, such an adhesive layer can contain various additives similar to the crosslinking agent and the surface protective film as long as the adhesiveness is not impaired.

粘着層の厚みとしては、特に限定されないが、透明性(解像度)を阻害せずに適度な粘着性が得られるように、0.5μm〜20μm、好ましくは1μm〜10μm、さらに好ましくは2μm〜4μm程度とする。また粘着層には、その粘着性によって表面保護フィルムの取り扱い性が低下しないように、プラスチックフィルムや紙等の表面に離型処理を施したセパレーターを貼り合わせておくとよい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but 0.5 μm to 20 μm, preferably 1 μm to 10 μm, and more preferably 2 μm to 4 μm so that appropriate adhesiveness can be obtained without impairing transparency (resolution). To the extent. Moreover, it is good to stick the separator which performed the mold release process on the surfaces, such as a plastic film and paper, so that the handleability of a surface protection film may not fall by the adhesiveness.

このような粘着層は、粘着性成分、および必要に応じて加えた架橋剤や他の添加剤を溶剤に溶解または分散して粘着層用塗布液を調製し、上述した表面保護膜と同様の従来公知のコーティング方法により、上述したプラスチックフィルムの表面保護膜を形成する面とは反対面に塗布、乾燥することにより作製することができる。また、上記粘着層用塗布液をセパレーター等に塗布、乾燥し、プラスチックフィルムの表面保護膜を形成する面とは反対面にラミネートすることにより作製することもできる。   Such a pressure-sensitive adhesive layer is prepared by dissolving or dispersing a pressure-sensitive adhesive component and, if necessary, a crosslinking agent and other additives in a solvent to prepare a pressure-sensitive adhesive layer coating solution. It can be produced by applying and drying the surface of the plastic film opposite to the surface on which the surface protective film is formed by a conventionally known coating method. Alternatively, the adhesive layer coating solution can be applied to a separator or the like, dried, and laminated on the surface opposite to the surface of the plastic film on which the surface protective film is formed.

以上のように、本発明によれば、電離放射線硬化型樹脂組成物、およびイソシアネートプレポリマーから形成されてなる離型性を有する表面保護膜としたことにより、洗浄溶剤によるクリーニングやフォトレジストに含まれる溶剤によって侵されることなく、露光やクリーニングを繰り返し行っても高い離型性を持続する表面保護膜、および表面保護フィルムが得られる。   As described above, according to the present invention, the ionizing radiation curable resin composition and the surface protective film having releasability formed from the isocyanate prepolymer are included in cleaning with a cleaning solvent and photoresist. Thus, a surface protective film and a surface protective film that maintain high releasability even after repeated exposure and cleaning without being attacked by the solvent to be obtained can be obtained.

以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明する。なお、本実施例において「部」、「%」は、特に示さない限り重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. In this example, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.

[実施例1]
厚み6μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(ルミラー:東レ社)の一方の面に下記処方の表面保護膜用塗布液を、もう一方の面に下記処方の粘着層用塗布液をそれぞれ順次塗布、乾燥させ、表面保護膜を形成する方の面には高圧水銀灯で紫外線を照射して厚み2μmの表面保護膜を形成した。また、粘着層を有する面には取り扱い性を考慮して厚み25μmのセパレーター(MRB:三菱化学ポリエステルフィルム社)を貼り合わせ、60℃で2日間キュアリングして実施例1の表面保護フィルムを作製した。なお、離型剤として用いたシリコーンアクリレートaは、シリコーン含有率が70%、数平均分子量が約12000、アクリレート官能基数が6のものであった。
[Example 1]
A surface protective film coating solution of the following formulation is applied to one side of a 6 μm thick polyethylene terephthalate film (Lumirror: Toray Industries Inc.), and an adhesive layer coating solution of the following formulation is sequentially applied to the other side and dried. A surface protective film having a thickness of 2 μm was formed on the surface on which the protective film was formed by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp. In addition, a separator having a thickness of 25 μm (MRB: Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) was bonded to the surface having the adhesive layer in consideration of handling, and cured at 60 ° C. for 2 days to produce the surface protective film of Example 1. did. The silicone acrylate a used as the release agent had a silicone content of 70%, a number average molecular weight of about 12000, and a number of acrylate functional groups of 6.

<実施例1の表面保護膜用塗布液の処方>
・電離放射線硬化型樹脂組成物 16部
(ポリエステルアクリレート)(固形分100%)
(アロニックスM7100:東亜合成社)
・イソシアネートプレポリマー(固形分75%)5.5部
(バーノックD750:大日本インキ化学社)
・離型剤 0.2部
(シリコーンアクリレートa)(固形分100%)
・光重合開始剤 1部
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン 77部
<Prescription of Coating Solution for Surface Protective Film of Example 1>
・ Ionizing radiation curable resin composition 16 parts (polyester acrylate) (100% solids)
(Aronix M7100: Toa Gosei Co., Ltd.)
・ 5.5 parts of isocyanate prepolymer (solid content: 75%) (Bernock D750: Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Release agent 0.2 parts (silicone acrylate a) (solid content 100%)
・ Photopolymerization initiator 1 part (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ 77 parts of methyl ethyl ketone

<粘着層用塗布液の処方>
・アクリル系粘着剤(固形分40%) 10部
(アロンタックSCL-200:東亞合成化学社)
・トルエン 10部
・酢酸エチル 10部
<Prescription of coating solution for adhesive layer>
・ Acrylic adhesive (solid content 40%) 10 parts (Arontack SCL-200: Toagosei Co., Ltd.)
・ Toluene 10 parts ・ Ethyl acetate 10 parts

[実施例2]
実施例1の表面保護膜用塗布液を、下記処方の表面保護膜用塗布液に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例2の表面保護フィルムを作製した。なお、離型剤として使用したシリコーンアクリレートbは、シリコーン含有率が20%、数平均分子量が約3000、アクリレート官能基数が2のものであった。
[Example 2]
A surface protective film of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for surface protective film of Example 1 was changed to the coating liquid for surface protective film having the following formulation. The silicone acrylate b used as the release agent had a silicone content of 20%, a number average molecular weight of about 3000, and 2 acrylate functional groups.

<実施例2の表面保護膜用塗布液の処方>
・電離放射線硬化型樹脂組成物 16部
(エポキシアクリレート)(固形分100%)
(KAYARADR130:日本化薬社)
・イソシアネートプレポリマー(固形分75%)5.5部
(バーノックD750:大日本インキ化学社)
・離型剤 0.2部
(シリコーンアクリレートb)(固形分100%)
・光重合開始剤 1部
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン 77部
<Prescription of Coating Solution for Surface Protective Film of Example 2>
・ Ionizing radiation curable resin composition 16 parts (epoxy acrylate) (solid content 100%)
(KAYARADR130: Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ 5.5 parts of isocyanate prepolymer (solid content: 75%) (Bernock D750: Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Release agent 0.2 parts (silicone acrylate b) (solid content 100%)
・ Photopolymerization initiator 1 part (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ 77 parts of methyl ethyl ketone

[実施例3]
実施例1の表面保護膜用塗布液を、下記処方の表面保護膜用塗布液に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例3の表面保護フィルムを作製した。なお、離型剤として使用したシリコーンオイルは、ポリシロキサンの片末端を有機基に変性したものであった。
[Example 3]
A surface protective film of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for surface protective film of Example 1 was changed to the coating liquid for surface protective film having the following formulation. The silicone oil used as the release agent was obtained by modifying one end of polysiloxane with an organic group.

<実施例3の表面保護膜用塗布液の処方>
・電離放射線硬化型樹脂組成物 16部
(ウレタンアクリレート)(固形分100%)
(NKオリゴU15HA:新中村化学工業社)
・イソシアネートプレポリマー(固形分75%)5.5部
(バーノックD750:大日本インキ化学社)
・離型剤 0.2部
(シリコーンオイル)(固形分100%)
(X22−170DX:信越化学工業社)
・光重合開始剤 1部
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン 77部
<Prescription of Coating Solution for Surface Protective Film of Example 3>
-Ionizing radiation curable resin composition 16 parts (urethane acrylate) (solid content 100%)
(NK Oligo U15HA: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ 5.5 parts of isocyanate prepolymer (solid content: 75%) (Bernock D750: Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Releasing agent 0.2 parts (silicone oil) (solid content 100%)
(X22-170DX: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
・ Photopolymerization initiator 1 part (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ 77 parts of methyl ethyl ketone

[比較例1]
実施例1の表面保護膜用塗布液を、下記処方の表面保護膜用塗布液(イソシアネートプレポリマーを添加しなかったもの)に変更した以外は実施例1と同様にして、比較例1のの表面保護フィルムを作製した。
[Comparative Example 1]
Comparative Example 1 was the same as Example 1 except that the surface protective film coating solution of Example 1 was changed to the surface protective film coating solution of the following formulation (without adding the isocyanate prepolymer). A surface protective film was produced.

<比較例1の表面保護膜用塗布液の処方>
・電離放射線硬化型樹脂組成物 20部
(ポリエステルアクリレート)(固形分100%)
(アロニックスM7100:東亜合成社)
・離型剤 0.2部
(シリコーンアクリレートa)(固形分100%)
・光重合開始剤 1部
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン 79部
<Prescription of Coating Solution for Surface Protective Film of Comparative Example 1>
・ Ionizing radiation curable resin composition 20 parts (polyester acrylate) (100% solids)
(Aronix M7100: Toa Gosei Co., Ltd.)
Release agent 0.2 parts (silicone acrylate a) (solid content 100%)
・ Photopolymerization initiator 1 part (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ Methyl ethyl ketone 79 parts

[比較例2]
実施例2の表面保護膜用塗布液を、下記処方の表面保護膜用塗布液(イソシアネートプレポリマーを添加しなかったもの)に変更した以外は実施例2と同様にして、比較例2の表面保護フィルムを作製した。
[Comparative Example 2]
The surface of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 2 except that the surface protective film coating solution of Example 2 was changed to a surface protective film coating solution having the following formulation (without addition of isocyanate prepolymer). A protective film was prepared.

<比較例2の表面保護膜用塗布液の処方>
・電離放射線硬化型樹脂組成物 20部
(エポキシアクリレート)(固形分100%)
(KAYARADR130:日本化薬社)
・離型剤 0.2部
(シリコーンアクリレートb)(固形分100%)
・光重合開始剤 1部
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン 79部
<Prescription of Coating Solution for Surface Protective Film of Comparative Example 2>
・ Ionizing radiation curable resin composition 20 parts (epoxy acrylate) (solid content 100%)
(KAYARADR130: Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Release agent 0.2 parts (silicone acrylate b) (solid content 100%)
・ Photopolymerization initiator 1 part (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ Methyl ethyl ketone 79 parts

[比較例3]
実施例3の表面保護膜用塗布液を、下記処方の表面保護膜用塗布液(イソシアネートプレポリマーを添加しなかったもの)に変更した以外は実施例3と同様にして、比較例3の表面保護フィルムを作製した。
[Comparative Example 3]
The surface of Comparative Example 3 was prepared in the same manner as in Example 3 except that the surface protective film coating solution of Example 3 was changed to a surface protective film coating solution having the following formulation (without addition of isocyanate prepolymer). A protective film was prepared.

<比較例3の表面保護膜用塗布液の処方>
・電離放射線硬化型樹脂組成物 20部
(ウレタンアクリレート)(固形分100%)
(NKオリゴU15HA:新中村化学工業社)
・離型剤 0.2部
(シリコーンオイル)(固形分100%)
(X22−170DX:信越化学工業社)
・光重合開始剤 1部
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社)
・メチルエチルケトン 79部
<Prescription of Coating Solution for Surface Protective Film of Comparative Example 3>
・ Ionizing radiation curable resin composition 20 parts (urethane acrylate) (solid content 100%)
(NK Oligo U15HA: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ Releasing agent 0.2 parts (silicone oil) (solid content 100%)
(X22-170DX: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
・ Photopolymerization initiator 1 part (Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ Methyl ethyl ketone 79 parts

実施例、及び比較例で得られた表面保護フィルムについて、表面保護膜が洗浄溶剤によるクリーニングや、フォトレジスト中に含まれる多価アルコール等の溶剤によっても侵されることがなく、フォトレジストに対する高い離型性が持続するかどうか、以下のような試験を行ない評価した。また繰り返し露光を行うことによる表面保護膜の耐摩耗性について評価した。評価結果を表1に示す。   With respect to the surface protective films obtained in the examples and comparative examples, the surface protective film is not affected by cleaning with a cleaning solvent or a solvent such as polyhydric alcohol contained in the photoresist. The following tests were conducted to evaluate whether or not formability persisted. Moreover, the abrasion resistance of the surface protective film by repeated exposure was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

(1)初期の離型性の評価
実施例1〜3、及び比較例1〜3の表面保護フィルムの表面保護膜を有する面に、粘着テープ(ニットーポリエステル31b:日東電工社)を貼り付けて、引張試験機( TENSILON HTM-100:東洋ボールドウイン社)を用いて、剥離速度300mm/minにおける180°剥離力を測定し、評価した。評価は、剥離力が、20g/50mm未満であったものを「◎」、20g/50mm〜30g/50mmであったものを「○」、未硬化でタック感のあったものを「×」とした。
(1) Evaluation of initial releasability Adhesive tape (Nitto Polyester 31b: Nitto Denko Corporation) is attached to the surface having the surface protective film of the surface protective films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. The 180 ° peeling force at a peeling speed of 300 mm / min was measured and evaluated using a tensile tester (TENSILON HTM-100: Toyo Baldwin). The evaluation was “「 ”when the peel force was less than 20 g / 50 mm,“ ◯ ”when it was 20 g / 50 mm to 30 g / 50 mm, and“ x ”when it was uncured and had a tacky feeling. did.

(2)拭取り試験後の離型性の評価
拭き取り試験として、実施例1〜3、及び比較例1、2の表面保護フィルムの表面保護膜を有する面を、洗浄溶剤としてエチルアルコール(EtOH)をガーゼに含ませて、50回拭取り操作を行った後の離型性を上記初期の離型性と同様にして測定した。また、フォトレジストに含まれる多価アルコールに対する耐溶剤性を評価するため、エチルアルコール(EtOH)の代わりにプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)を用いて、上記と同様にして拭取り試験を行った。評価は、剥離力が初期の測定値よりも2倍未満であったものを「◎」、2倍以上10倍未満であったものを「○」、10倍以上となったものを「×」とした。
(2) Evaluation of releasability after wiping test As a wiping test, the surface having the surface protective film of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 was treated with ethyl alcohol (EtOH) as a cleaning solvent. Was included in the gauze, and the releasability after 50 wiping operations was measured in the same manner as the initial releasability. Moreover, in order to evaluate the solvent resistance with respect to the polyhydric alcohol contained in a photoresist, the wiping test was done like the above using propylene glycol monomethyl ether (PGM) instead of ethyl alcohol (EtOH). The evaluation is “◎” when the peel force is less than twice the initial measurement value, “◯” when the peel force is 2 times or more and less than 10 times, and “×” when the peel force is 10 times or more. It was.

(3)耐摩耗性の評価
実施例1〜3、及び比較例1、2の表面保護フィルムのセパレーターを剥がして、透明ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み188μm)に貼り合わせた後、JIS K5400:1990に準拠し、摩耗輪CS―10F、荷重500g、回転速度70rpm、回転数100回にてテーバー摩耗試験を行い、試験後のヘーズから試験前のヘーズ(初期のヘーズ)を差し引いた値をテーバー摩耗硬度ΔHとした。なおヘーズは、JIS K7136:2000に基づいてヘーズメーター(NDH2000:日本電飾社)を用いて測定した。評価はΔHが20未満であったものを「○」とした。
(3) Evaluation of abrasion resistance The separators of the surface protective films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were peeled off and bonded to a transparent polyethylene terephthalate film (thickness: 188 μm), and then compliant with JIS K5400: 1990. Then, the Taber abrasion test was performed with the wear wheel CS-10F, the load 500 g, the rotation speed 70 rpm, and the rotation speed 100 times, and the value obtained by subtracting the haze before the test (initial haze) from the haze after the test was calculated as Taber abrasion hardness ΔH. It was. The haze was measured using a haze meter (NDH2000: Nippon Denka Co., Ltd.) based on JIS K7136: 2000. In the evaluation, a case where ΔH was less than 20 was evaluated as “◯”.

Figure 0004376610
Figure 0004376610

表1の結果からも明らかなように、実施例1〜3の表面保護フィルムは、表面保護膜が電離放射線硬化型樹脂組成物、イソシアネートプレポリマー、および離型剤から形成されているため、表面保護膜をクリーニングするために使用される洗浄溶剤であるエチルアルコールに対して、優れた耐溶剤性を有するのみならず、フォトレジスト中に含まれるような多価アルコールであるプロピレングリコールモノメチルエーテルに対しても優れた耐溶剤性を有するものであった。   As is clear from the results in Table 1, the surface protective films of Examples 1 to 3 are formed on the surface because the surface protective film is formed of an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer, and a release agent. Not only has excellent solvent resistance to ethyl alcohol, which is a cleaning solvent used to clean the protective film, but also propylene glycol monomethyl ether, which is a polyhydric alcohol such as contained in a photoresist. However, it had excellent solvent resistance.

特に実施例1の表面保護フィルムは、表面保護膜が離型剤としてシリコーン含有率が70重量%、数平均分子量が約12000、アクリレート官能基数が6であるシリコーンアクリレートを用いたため、拭取り試験後も極めて優れた離型性を持続するものとなった。一方比較例1の表面保護フィルムは、表面保護膜がイソシアネートプレポリマーを含有せずに形成されたものであるため、実施例1と比べると拭き取り試験後の離型性の持続が劣るものとなった。   In particular, since the surface protective film of Example 1 used a silicone acrylate having a silicone content of 70% by weight, a number average molecular weight of about 12000, and an acrylate functional group number of 6 as a release agent, the surface protective film was used after the wiping test. Also maintained extremely excellent release properties. On the other hand, since the surface protective film of Comparative Example 1 was formed without containing the isocyanate prepolymer, compared with Example 1, the release property after the wiping test was inferior. It was.

また、実施例2の表面保護フィルムは、表面保護膜が離型剤としてシリコーン含有率が20重量%、数平均分子量が約3000、アクリレート官能基数が2であるシリコーンアクリレートを用いたため、拭取り試験後も良好な離型性を持続するものとなった。一方比較例2の表面保護フィルムは、表面保護膜がイソシアネートプレポリマーを含有せずに形成されたものであるため、実施例2と比べると拭き取り試験後の離型性の持続が劣るものとなった。   Moreover, since the surface protective film of Example 2 used a silicone acrylate having a silicone content of 20% by weight, a number average molecular weight of about 3000, and an acrylate functional group number of 2 as a release agent, a wiping test was performed. Later, good release properties were maintained. On the other hand, since the surface protective film of Comparative Example 2 was formed without containing the isocyanate prepolymer, compared to Example 2, the release property after the wiping test was inferior. It was.

また、実施例3の表面保護フィルムは、表面保護膜が離型剤としてシリコーンオイルを用いたものであるがイソシアネートプレポリマーを含有して形成されたため、初期の離型性は良好なものとなり、拭取り試験後も良好な離型性を持続するものとなった。一方比較例3の表面保護フィルムは、イソシアネートプレポリマーを含有せずに形成されたため、表面保護膜はシリコーンオイルによる硬化障害を起こし未硬化でタック感のあるものとなってしまった。   In addition, the surface protective film of Example 3 was formed using an isocyanate prepolymer although the surface protective film was formed using silicone oil as a release agent, so that the initial release property was good, Even after the wiping test, good releasability was maintained. On the other hand, since the surface protective film of Comparative Example 3 was formed without containing an isocyanate prepolymer, the surface protective film was hardened by silicone oil and became uncured and tacky.

Claims (6)

電離放射線硬化型樹脂組成物、およびイソシアネートプレポリマーから形成されてなることを特徴とする離型性を有する表面保護膜。   A surface protective film having releasability, which is formed from an ionizing radiation curable resin composition and an isocyanate prepolymer. 電離放射線硬化型樹脂組成物、イソシアネートプレポリマー、および離型剤から形成されてなることを特徴とする表面保護膜。   A surface protective film formed from an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer, and a release agent. 前記離型剤は、シリコーン系化合物であることを特徴とする請求項2記載の表面保護膜。   The surface protective film according to claim 2, wherein the release agent is a silicone compound. 前記シリコーン系化合物は、シリコーンアクリレートであることを特徴とする請求項3記載の表面保護膜。   4. The surface protective film according to claim 3, wherein the silicone compound is silicone acrylate. 前記シリコーンアクリレートは、シリコーン含有率が50重量%以上90重量%以下、数平均分子量が5000〜20000、アクリレート官能基数が3以上であることを特徴とする請求項4記載の表面保護膜。   The surface protection film according to claim 4, wherein the silicone acrylate has a silicone content of 50 wt% or more and 90 wt% or less, a number average molecular weight of 5000 to 20000, and an acrylate functional group number of 3 or more. プラスチックフィルムの一方の面に請求項1から5のいずれか一項記載の表面保護膜を有し、もう一方の面に粘着層を有することを特徴とする表面保護フィルム。   A surface protective film comprising the surface protective film according to any one of claims 1 to 5 on one surface of a plastic film and an adhesive layer on the other surface.
JP2003420473A 2003-12-18 2003-12-18 Surface protective film and surface protective film using the same Expired - Fee Related JP4376610B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003420473A JP4376610B2 (en) 2003-12-18 2003-12-18 Surface protective film and surface protective film using the same
KR1020040106083A KR101118872B1 (en) 2003-12-18 2004-12-15 Surface protecting film and surface protecting material using the same
TW093139169A TWI350303B (en) 2003-12-18 2004-12-16 Surface protecting film and surface protecting material using the same
CN2004101011989A CN1637598B (en) 2003-12-18 2004-12-20 Surface protective film and surface protection material using the same film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003420473A JP4376610B2 (en) 2003-12-18 2003-12-18 Surface protective film and surface protective film using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005181564A JP2005181564A (en) 2005-07-07
JP4376610B2 true JP4376610B2 (en) 2009-12-02

Family

ID=34781988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003420473A Expired - Fee Related JP4376610B2 (en) 2003-12-18 2003-12-18 Surface protective film and surface protective film using the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4376610B2 (en)
KR (1) KR101118872B1 (en)
CN (1) CN1637598B (en)
TW (1) TWI350303B (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4516476B2 (en) * 2005-05-09 2010-08-04 積水化学工業株式会社 Photomask protective adhesive tape
KR100645216B1 (en) * 2005-08-30 2006-11-10 동부일렉트로닉스 주식회사 Photo mask and manufacturing method thereof
CN101589340B (en) * 2007-03-23 2012-03-28 积水化学工业株式会社 Pressure-sensitive adhesive tape for the protection of photo masks
JP4448897B2 (en) * 2007-10-19 2010-04-14 積水化学工業株式会社 Photomask protective adhesive tape
JP5507451B2 (en) * 2008-05-12 2014-05-28 電気化学工業株式会社 Temporary fixing method of workpiece
JP5464824B2 (en) * 2008-06-30 2014-04-09 株式会社きもと Thermosetting protective liquid for glass mask and glass mask
JP5419409B2 (en) * 2008-09-29 2014-02-19 大日本印刷株式会社 A decorative sheet suitable for bending
JP5419410B2 (en) * 2008-09-30 2014-02-19 株式会社きもと Ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask and emulsion mask using the same
KR101145582B1 (en) * 2009-03-23 2012-05-15 디아이씨 가부시끼가이샤 Adhesive protective film, screen panel, and portable electronic terminal
JP2011153226A (en) * 2010-01-27 2011-08-11 Sekisui Chem Co Ltd Photoresist stick proofing tape
DE102011003090A1 (en) * 2011-01-25 2012-07-26 Evonik Goldschmidt Gmbh Use of silicone methacrylate particles in cosmetic formulations
CN105462236B (en) * 2016-01-14 2018-06-01 成都市新筑路桥机械股份有限公司 A kind of polymer composite of prefabricated noise reduction block

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11305420A (en) 1998-04-27 1999-11-05 Shineisha:Kk Photomask raw glass with surface film protective layer and its production and protective layer forming liquid
JP2002072453A (en) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Glass Co Ltd Photomask with film surface protecting layer and method for producing the same
JP2002172743A (en) * 2000-12-05 2002-06-18 Kimoto & Co Ltd Surface protective film
JP4716557B2 (en) * 2000-12-05 2011-07-06 株式会社きもと Surface protection film

Also Published As

Publication number Publication date
TWI350303B (en) 2011-10-11
TW200530363A (en) 2005-09-16
CN1637598B (en) 2013-09-04
JP2005181564A (en) 2005-07-07
KR101118872B1 (en) 2012-03-19
KR20050061332A (en) 2005-06-22
CN1637598A (en) 2005-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI608935B (en) Plastic film laminate
JP4376610B2 (en) Surface protective film and surface protective film using the same
JPH1020103A (en) Antidazzle film
KR20130131320A (en) Curable resin composition and multi-layer laminate manufactured using the same
JP2008129130A (en) Hard coat film
JP2014152281A (en) Method for producing transparent resin laminate film
JP4634680B2 (en) Easily peelable adhesive film
JP2012168301A (en) Forming method of thin metallic wire and manufacturing method of wire grid polarizer using the same
JP4178975B2 (en) Surface material for pen input device and pen input device
JP4842281B2 (en) Surface protection film
JP5396090B2 (en) Sheet for printing
JP4444643B2 (en) Surface protective film and surface protective film using the same
JP5662005B2 (en) Curable resin composition and multilayer structure produced using the composition
JP2003306619A (en) Photosensitive resin composition for hard-coating agent and film having cured skin comprising the same
JPH06107993A (en) Screen printing ink composition
JP2006326426A (en) Method for forming antistatic coating film
JPH10104826A (en) Photopolymerizable composition
JP4444647B2 (en) Surface protective film and surface protective film
JP2003161802A (en) Light-curing resin composite, sheet, transfer foil, minute project and recessed pattern forming method and optical component
JPH0741695A (en) Abrasion-resistant coating composition
JP2549425B2 (en) Active energy ray curable resin composition
JP4716557B2 (en) Surface protection film
JP2010260177A (en) To-be-printed base material having photo-curable transfer layer, and forming method for printed image using the same
JP6247826B2 (en) Photo-curable resin composition for imprint molding
JP2006159651A (en) Multi-layer film and its production method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090901

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090909

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918

Year of fee payment: 3

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20120319

A072 Dismissal of procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072

Effective date: 20120807

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150918

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150918

Year of fee payment: 6

RD07 Notification of extinguishment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D07

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees