JP4371172B2 - Liquid crystal device and electronic device - Google Patents
Liquid crystal device and electronic device Download PDFInfo
- Publication number
- JP4371172B2 JP4371172B2 JP2008176571A JP2008176571A JP4371172B2 JP 4371172 B2 JP4371172 B2 JP 4371172B2 JP 2008176571 A JP2008176571 A JP 2008176571A JP 2008176571 A JP2008176571 A JP 2008176571A JP 4371172 B2 JP4371172 B2 JP 4371172B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- liquid crystal
- display region
- region
- insulating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明は液晶装置、及び、電子機器に係り、特に、サブ画素内に透過表示領域及び反射
表示領域を備えた電気光学装置の構成に関する。
The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus, and more particularly to a configuration of an electro-optical device including a transmissive display area and a reflective display area in a sub-pixel.
一般に、液晶装置は、一対の基板間に液晶を封入したセル構造を有し、基板の内面に、
液晶の初期配向状態を規制する配向膜が形成される。配向膜の形成方法としては、たとえ
ば、ポリイミド等の未硬化の樹脂を基板の内面上にスピンコート法や印刷法などにより塗
布し、乾燥あるいは焼成を施すことなどによって形成される。
In general, a liquid crystal device has a cell structure in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates.
An alignment film that regulates the initial alignment state of the liquid crystal is formed. As a method for forming the alignment film, for example, an uncured resin such as polyimide is applied to the inner surface of the substrate by a spin coating method, a printing method, or the like, and dried or baked.
一方、液晶装置の表示形式としては、バックライト等の照明光を透過させることによっ
て透過光で表示を行う透過型液晶装置と、外光などを反射させて反射光で表示を行う反射
型液晶装置とがあるが、特に、携帯型電子機器には、透過表示と反射表示の双方を可能に
した半透過反射型の液晶装置が搭載されることが多い。この半透過反射型の液晶装置は、
有効駆動領域内に、バックライトによる透過表示を可能とする透過表示領域と、外光によ
る反射表示を可能とする反射表示領域を共に備えたサブ画素を配列したものである。
On the other hand, as a display format of the liquid crystal device, a transmissive liquid crystal device that displays with transmitted light by transmitting illumination light such as a backlight, and a reflective liquid crystal device that displays with reflected light by reflecting external light or the like However, in particular, portable electronic devices often include a transflective liquid crystal device that enables both transmissive display and reflective display. This transflective liquid crystal device is
In the effective drive region, sub-pixels are arranged that include both a transmissive display region capable of transmissive display using a backlight and a reflective display region capable of reflective display using external light.
上記の半透過反射型の液晶装置では、透過表示を構成する透過光は液晶層を一回だけ通
過するのに対して、反射表示を構成する反射光は液晶層を往復二回通過するため、透過表
示と反射表示で表示光に対する液晶層の光変調の度合(リタデーション)が大きく異なる
ことになる。このため、透過表示と反射表示における光変調の差を低減するために、通常
、反射表示領域における液晶層の厚みを透過表示領域における液晶層の厚みよりも小さく
している。
In the transflective liquid crystal device described above, the transmitted light constituting the transmissive display passes through the liquid crystal layer only once, whereas the reflected light constituting the reflective display passes through the liquid crystal layer twice, The degree of retardation of the liquid crystal layer with respect to the display light (retardation) differs greatly between transmissive display and reflective display. For this reason, in order to reduce the difference in light modulation between the transmissive display and the reflective display, the thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region is usually made smaller than the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region.
具体的には、基板の内面上に絶縁膜を部分的に形成することで、液晶層の厚みをコント
ロールしている。すなわち、サブ画素の反射表示領域には絶縁膜を厚く形成し、透過表示
領域には絶縁膜を形成しない、或いは、薄く形成することにより、一対の基板間に挟まれ
た液晶層の厚みを反射表示領域と透過表示領域で異なるものとしている(例えば、以下の
特許文献1参照)。
Specifically, the thickness of the liquid crystal layer is controlled by partially forming an insulating film on the inner surface of the substrate. That is, a thick insulating film is formed in the reflective display area of the sub-pixel, and an insulating film is not formed or formed thin in the transmissive display area, thereby reflecting the thickness of the liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. The display area and the transmissive display area are different (for example, see Patent Document 1 below).
ところが、上記の半透過反射型の液晶装置では、基板上に絶縁膜が部分的に形成されて
いるため、その基板上に未硬化の配向樹脂を塗布したとき、絶縁膜の非形成領域(透過表
示領域)に配向樹脂が溜まり、これが配向膜の厚みムラを招来して、表示品位を低下させ
るという問題点があった。そこで、隣接する画素間で凹状の透過表示領域が連続するよう
に構成することにより、配向樹脂の流動性を高め、配向膜の厚みムラを低減することが提
案されている(たとえば、以下の特許文献2参照)。
However, in the above-described transflective liquid crystal device, since the insulating film is partially formed on the substrate, when an uncured alignment resin is applied on the substrate, the non-insulating region of the insulating film (transmission) There is a problem that the alignment resin is accumulated in the display area), which causes unevenness in the thickness of the alignment film and lowers the display quality. Thus, it has been proposed to increase the fluidity of the alignment resin and reduce the thickness unevenness of the alignment film by configuring the concave transmissive display region to be continuous between adjacent pixels (for example, the following patents). Reference 2).
しかしながら、前述の改良された液晶装置では、凹状の透過表示領域が画素間で連続し
ているために配向樹脂の流動性が向上しているものの、透過表示領域における配向膜の厚
みムラが充分に解消されない場合がある。たとえば、反射表示領域もまた画素間で連続す
るようなパターンで絶縁膜を形成した場合には、連続する透過表示領域の間に、連続する
反射表示領域が介在することとなるので、反射表示領域から流入した配向樹脂が透過表示
領域の連続方向にばらつき、特に、反射表示領域に近い透過表示領域の周縁部で配向膜の
厚みムラが生じ、表示品位が低下することがある。また、印刷法によって配向樹脂を塗布
する場合には、その印刷方向と透過表示領域の連続方向の関係によっては表示品位の低下
が避けられない場合があった。
However, in the above-described improved liquid crystal device, although the concave transmissive display area is continuous between pixels, the fluidity of the alignment resin is improved, but the thickness unevenness of the alignment film in the transmissive display area is sufficient. It may not be resolved. For example, when an insulating film is formed in a pattern in which the reflective display area is also continuous between pixels, the continuous reflective display area is interposed between the continuous transmissive display areas. The alignment resin that has flowed in from the dispersion varies in the continuous direction of the transmissive display region, and in particular, unevenness in the thickness of the alignment film may occur at the peripheral portion of the transmissive display region close to the reflective display region, thereby reducing display quality. In addition, when the alignment resin is applied by a printing method, the display quality may be inevitably deteriorated depending on the relationship between the printing direction and the continuous direction of the transmissive display area.
一方、前述の液晶装置では画素毎に島状の反射表示領域を形成する例も開示され、この
場合には各画素の反射表示領域間にも溝状の凹部が形成されることとなるため、縦横(行
方向及び列方向)に配向樹脂が流動できるようになって配向膜の厚みムラが低減されるも
のと考えられる。しかし、この場合には、反射表示領域の面積に比べてその周縁距離が長
くなるため、反射表示領域の周縁に形成された段差によって液晶の配向不良が発生しやす
くなり、表示品位が悪化するという問題点がある。
On the other hand, in the above-described liquid crystal device, an example in which an island-shaped reflective display region is formed for each pixel is disclosed, and in this case, a groove-shaped recess is formed between the reflective display regions of each pixel. It is considered that the alignment resin can flow in the vertical and horizontal directions (row direction and column direction), and thickness unevenness of the alignment film is reduced. However, in this case, since the peripheral distance is longer than the area of the reflective display area, liquid crystal alignment is likely to occur due to a step formed at the peripheral edge of the reflective display area, and display quality deteriorates. There is a problem.
そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、絶縁膜による配向材
の流動性阻害を抑制することにより配向膜の厚みムラに起因する表示品位の低下を抑制で
きるとともに、絶縁膜の周縁における液晶の配向不良に起因する表示品位の低下をも抑制
できる液晶装置を実現することにある。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and the problem is that it is possible to suppress deterioration in display quality due to uneven thickness of the alignment film by suppressing the fluidity inhibition of the alignment material by the insulating film, An object of the present invention is to realize a liquid crystal device capable of suppressing deterioration in display quality due to poor alignment of liquid crystal at the periphery of an insulating film.
斯かる実情に鑑み、本発明の液晶装置は、一対の基板及び当該一対の基板間に挟持され
てなる液晶を有し、複数のサブ画素を備えるとともに、当該サブ画素には透過表示領域及
び反射表示領域が設けられてなる液晶装置において、一方の前記基板は前記サブ画素に対
応して設けられてなるスイッチング素子及び前記スイッチング素子に接続されてなる配線
、並びに、当該スイッチング素子及び配線上に配置される絶縁膜を有し、前記絶縁膜は、
前記透過表示領域、及び、隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に凹部を有し、前記絶
縁膜のうち前記凹部以外の部分の少なくとも一部が前記反射表示領域と平面的に重なり配
置され、前記液晶は、前記凹部を反映して、前記透過表示領域における層厚より前記反射
表示領域における層厚の方が薄く構成され、前記隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域
に形成された前記凹部は、前記透過表示領域に形成された前記凹部より浅いことを特徴と
する。
In view of such a situation, the liquid crystal device of the present invention includes a pair of substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and includes a plurality of subpixels. In the liquid crystal device provided with the display region, one of the substrates is disposed on the switching element and the wiring, the switching element provided corresponding to the sub-pixel, the wiring connected to the switching element, and the switching element. The insulating film, the insulating film,
The transmissive display region and a region along the boundary of the adjacent subpixels have a recess, and at least a part of the insulating film other than the recess is arranged to overlap the reflective display region in a plane, Reflecting the recess, the liquid crystal is configured such that the layer thickness in the reflective display region is thinner than the layer thickness in the transmissive display region, and the recess is formed in a region along the boundary between the adjacent sub-pixels. Is shallower than the concave portion formed in the transmissive display region.
本発明によれば、隣接するサブ画素の境界に沿う領域に設けられた凹部により、配向材
の流動性を向上させることができるとともに、何らかの遮光が施されることの多いサブ画
素の境界に沿う領域に凹部が形成されるために表示への影響を抑制することができ、また
、隣接するサブ画素の境界に沿う領域に設けられた凹部が透過表示領域に設けられた凹部
よりも浅く形成されることにより、液晶に接する表面段差を低減することができるため、
表示への影響をより低減できる。さらに、隣接するサブ画素の境界に沿う領域に配線が配
置される場合には、当該領域の凹部が透過表示領域の凹部より浅いことによって凹部の底
部下に絶縁膜の一部が残るので、短絡不良の防止を図ることが可能になる。
According to the present invention, the concave portion provided in the region along the boundary between the adjacent sub-pixels can improve the fluidity of the alignment material, and along the boundary between the sub-pixels where light shielding is often performed. Since the concave portion is formed in the region, the influence on the display can be suppressed, and the concave portion provided in the region along the boundary of the adjacent sub-pixel is formed shallower than the concave portion provided in the transmissive display region. Can reduce the surface level difference in contact with the liquid crystal,
The influence on the display can be further reduced. Furthermore, when wiring is arranged in a region along the boundary of adjacent subpixels, a portion of the insulating film remains below the bottom of the concave portion because the concave portion of the region is shallower than the concave portion of the transmissive display region. It becomes possible to prevent defects.
本発明において、前記サブ画素は行方向及び列方向に配列され、前記透過表示領域に設
けられた前記凹部は前記行方向に連続し、前記隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に
設けられた前記凹部は、前記行方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に配置され
ていることが好ましい。これによれば、透過表示領域に設けられた凹部が行方向に連続し
、これより浅い凹部が行方向に隣接するサブ画素の境界に沿う領域に配置されるため、行
方向と列方向の双方に配向材の流動性を高めることができる。
In the present invention, the sub-pixels are arranged in a row direction and a column direction, and the concave portion provided in the transmissive display region is provided in a region along the boundary of the adjacent sub-pixels that is continuous in the row direction. The recess is preferably disposed in a region along a boundary between the sub-pixels adjacent in the row direction. According to this, since the concave portion provided in the transmissive display region is continuous in the row direction and the shallower concave portion is disposed in the region along the boundary of the sub-pixels adjacent in the row direction, both the row direction and the column direction are provided. In addition, the fluidity of the alignment material can be increased.
本発明において、前記サブ画素は行方向及び列方向に配列され、前記透過表示領域に設
けられた前記凹部は前記行方向に連続し、前記隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に
設けられた前記凹部は、前記列方向に延長形成されていることが好ましい。これによれば
、透過表示領域に設けられた凹部が行方向に連続し、これより浅い凹部が列方向に延長形
成されるため、行方向と列方向の双方に配向材の流動性を高めることができる。
In the present invention, the sub-pixels are arranged in a row direction and a column direction, and the concave portion provided in the transmissive display region is provided in a region along the boundary of the adjacent sub-pixels that is continuous in the row direction. It is preferable that the concave portion is formed to extend in the row direction. According to this, since the concave portion provided in the transmissive display region is continuous in the row direction and the shallower concave portion is formed to extend in the column direction, the fluidity of the alignment material is improved in both the row direction and the column direction. Can do.
本発明において、前記サブ画素は行方向及び列方向に配列され、前記隣接する前記サブ
画素の境界に沿う領域に設けられた前記凹部は前記行方向に伸びる部分及び前記列方向に
伸びる部分を有することが好ましい。これによれば、行方向と列方向の双方に配向材の流
動性を高めることができる。
In the present invention, the sub-pixels are arranged in a row direction and a column direction, and the concave portion provided in a region along a boundary of the adjacent sub-pixels has a portion extending in the row direction and a portion extending in the column direction. It is preferable. According to this, the fluidity of the alignment material can be enhanced in both the row direction and the column direction.
また、本発明の別の液晶装置は、一対の基板及び当該一対の基板間に挟持されてなる液晶を有し、透過表示領域及び反射表示領域が設けられてなるサブ画素を具備する液晶装置において、前記一対の基板のうち一方の基板は前記サブ画素に対応して設けられてなるスイッチング素子及び前記スイッチング素子に接続されてなる配線、並びに、当該スイッチング素子上及び配線上に配置される絶縁膜を有し、前記絶縁膜は、前記透過表示領域及び前記配線に沿う領域に凹部を有し、前記絶縁膜のうち前記凹部以外の部分の少なくとも一部が前記反射表示領域と平面的に重なり配置され、前記液晶は、前記凹部を反映して、前記透過表示領域における層厚より前記反射表示領域における層厚の方が薄く構成され、前記配線と前記配線に沿う領域に設けられた前記凹部の内底部との間に前記絶縁膜の厚み方向の一部が介在していることを特徴とする。配線に沿う領域に形成された凹部は、前記配線上の領域に形成するとよく、また、前記透過表示領域に形成された前記凹部より浅いとよい。 Another liquid crystal device according to the present invention includes a pair of substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and includes a transmissive display region and a sub-pixel provided with a reflective display region. One of the pair of substrates is a switching element provided corresponding to the sub-pixel, a wiring connected to the switching element , and an insulating film disposed on the switching element and the wiring The insulating film has a recess in the transmissive display region and a region along the wiring , and at least a part of the insulating film other than the recess overlaps with the reflective display region in a plane. is, the liquid crystal, reflecting the recess, wherein the than the layer thickness in the transmissive display region is configured thinner toward the layer thickness in the reflective display region, in a region along the wire and the wire Portion of the thickness direction of the insulating layer between the inner bottom portion of the vignetting said recess, characterized in that interposed. The concave portion formed in the region along the wiring may be formed in the region on the wiring, and may be shallower than the concave portion formed in the transmissive display region.
本発明の別の液晶装置によれば、配線に沿う領域に設けられた凹部により、配向材の流動性を向上させることができる。配線自体によって遮光され、或いは何らかの遮光が施されることの多い配線上の領域に凹部が形成されるために表示への影響を抑制することができる。更には、配線に沿う領域に設けられた凹部が透過表示領域に設けられた凹部よりも浅く形成されることにより、液晶に接する表面段差を低減することができるため、表示への影響をより低減できる。さらに、配線上の凹部が透過表示領域の凹部より浅いことによって凹部の底部下に絶縁膜の一部が残るので、短絡不良の防止を図ることが可能になる。 According to another liquid crystal device of the present invention, the fluidity of the alignment material can be improved by the recess provided in the region along the wiring. Since a concave portion is formed in a region on the wiring which is shielded by the wiring itself or often shielded from light, the influence on the display can be suppressed. Furthermore, since the concave portion provided in the region along the wiring is formed shallower than the concave portion provided in the transmissive display region, the surface level difference in contact with the liquid crystal can be reduced, thereby further reducing the influence on the display. it can. Further, since the concave portion on the wiring is shallower than the concave portion of the transmissive display area, a part of the insulating film remains below the bottom of the concave portion, so that it is possible to prevent a short circuit failure.
上記液晶装置において、前記配線に沿う領域に形成された前記凹部は、前記配線に沿って伸びる凹溝であることが好ましい。これによれば、配向材の流動性をさらに高めることができるとともに、隣接するサブ画素の境界に沿って形成することができるので、表示への影響を低減することができる。 In the liquid crystal device, wherein the recess formed in a region along the wire is preferably a groove extending along said wire. According to this, the fluidity of the alignment material can be further improved, and the alignment material can be formed along the boundary between adjacent sub-pixels, so that the influence on the display can be reduced.
上記液晶装置において、前記サブ画素は行方向及び列方向に複数配列され、前記透過表示領域に設けられた前記凹部は前記行方向に連続し、前記配線上の領域に形成された前記凹部は、前記列方向に延長形成されていることが好ましい。これによれば、透過表示領域に設けられた凹部が行方向に連続し、これより浅い凹部が列方向に延長形成されるため、表示への影響を低減しつつ、配向材の流動性を高めることができる。 In the liquid crystal device, the sub-pixels are arrayed in a row direction and a column direction, wherein the recess provided in the transmissive display region is continuous in the row direction, the recess formed in the region on the wiring, It is preferable to extend in the row direction. According to this, the concave portions provided in the transmissive display area are continuous in the row direction, and the shallower concave portions are formed to extend in the column direction, thereby improving the fluidity of the alignment material while reducing the influence on the display. be able to.
上記液晶装置において、前記サブ画素は行方向及び列方向に複数配列され、前記配線は前記列方向に伸び、前記配線より下層に配置された前記行方向に伸びる下層の配線と、前記配線と前記下層の配線の間に配置された層間絶縁層とをさらに有することが好ましい。これによれば、下層の配線上には層間絶縁層が配置されているので、下層の配線に起因する短絡不良等の問題は生じにくいが、上記配線は層間絶縁層の上層に配置されているので、当該配線に起因する短絡不良等の問題は相対的に生じやすくなるから、本発明の構成は特に効果的である。 In the liquid crystal device, the sub-pixels are arrayed in a row direction and a column direction, the wiring extends in the column direction, and a lower wire extending in the row direction and is disposed in a lower layer than the wiring, the said wires It is preferable to further include an interlayer insulating layer disposed between lower wirings. According to this, since the interlayer insulating layer is disposed on the lower layer wiring, problems such as short-circuit failure due to the lower layer wiring are unlikely to occur, but the wiring is disposed on the upper layer of the interlayer insulating layer. Therefore, problems such as short-circuit defects due to the wiring are relatively likely to occur, and the configuration of the present invention is particularly effective.
上記液晶装置においては、複数の前記サブ画素と、前記反射表示領域において前記絶縁膜上に形成された反射層と、を有し、前記配線は隣接する前記サブ画素の境界に沿って形成してもよい。 The liquid crystal device includes a plurality of the sub-pixels and a reflective layer formed on the insulating film in the reflective display region, and the wiring is formed along a boundary between the adjacent sub-pixels. Also good.
以上説明したように、上記液晶装置によれば、絶縁膜が透過表示領域以外において配線に沿う領域に凹部を有することにより、表示に対する影響を抑制しつつ配向材の流動性を高めることができるとともに、配線と当該凹部との間に絶縁膜の厚み方向の一部が介在していることにより、配線及び凹部に起因する短絡不良を防止することができる。 As described above, according to the liquid crystal device, since the insulating film has the recess in the region along the wiring other than the transmissive display region, the fluidity of the alignment material can be improved while suppressing the influence on the display. Since a part of the insulating film in the thickness direction is interposed between the wiring and the concave portion, it is possible to prevent a short-circuit failure caused by the wiring and the concave portion.
更には、上記液晶装置において、前記絶縁膜は、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に形成される下層絶縁層と、前記反射表示領域に形成される上層絶縁層とを含み、前記配線と前記配線に沿う領域に設けられた前記凹部の内底部との間に前記下層絶縁層が介在していることが好ましい。
Furthermore, in the liquid crystal device, the insulating film includes a lower insulating layer formed in the transmissive display region and the reflective display region, and an upper insulating layer formed in the reflective display region, and the wiring and the It is preferable that the lower insulating layer is interposed between the inner bottom portion of the concave portion provided in a region along the wiring.
さらに、本発明のさらに異なる液晶装置は、一対の基板及び当該一対の基板間に挟持さ
れてなる液晶を有し、行方向及び列方向に配列された複数のサブ画素を備えるとともに、
当該サブ画素には透過表示領域及び反射表示領域が設けられてなる液晶装置において、一
方の前記基板は、前記サブ画素に対応して設けられてなるスイッチング素子及び前記スイ
ッチング素子に接続されてなる前記行方向に伸びる下層の配線と前記列方向に伸びる上層
の配線、当該下層の配線と上層の配線の間に配置された層間絶縁層、並びに、前記上層の
配線上に配置される絶縁膜を有し、前記絶縁膜は、前記透過表示領域に凹部を有し、当該
凹部は前記列方向に隣接する複数の前記サブ画素に亘って連続するとともに、前記凹部以
外の部分で前記上層の配線を被覆し、前記絶縁膜のうち前記凹部以外の部分の少なくとも
一部が前記反射表示領域と平面的に重なり配置され、前記液晶は、前記凹部を反映して、
前記透過表示領域における層厚より前記反射表示領域における層厚の方が薄く構成されて
いることを特徴とする。
Further, the liquid crystal device of the present invention further includes a pair of substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and includes a plurality of subpixels arranged in a row direction and a column direction,
In the liquid crystal device in which the sub-pixel is provided with a transmissive display region and a reflective display region, one of the substrates is a switching element provided corresponding to the sub-pixel and the switching element is connected to the switching element. It has a lower layer wiring extending in the row direction and an upper layer wiring extending in the column direction, an interlayer insulating layer disposed between the lower layer wiring and the upper layer wiring, and an insulating film disposed on the upper layer wiring. The insulating film has a recess in the transmissive display region, the recess is continuous over the plurality of sub-pixels adjacent in the column direction, and covers the upper layer wiring at a portion other than the recess. And at least a part of the insulating film other than the concave portion is arranged so as to overlap the reflective display region in a plane, and the liquid crystal reflects the concave portion,
The layer thickness in the reflective display region is thinner than the layer thickness in the transmissive display region.
これによれば、行方向に伸びる下層の配線を横切るように、透過表示領域に設けられた
絶縁層の凹部を列方向に連続させるとともに、列方向に伸びる上層の配線を絶縁膜の凹部
以外の部分で被覆することによって、配向材の流動性を確保しつつ、配線及び凹部に起因
する短絡を防止することが可能になる。
According to this, the concave portion of the insulating layer provided in the transmissive display region is continued in the column direction so as to cross the lower layer wiring extending in the row direction, and the upper layer wiring extending in the column direction is connected to other than the concave portion of the insulating film. By covering with the portion, it is possible to prevent short circuit caused by the wiring and the recess while securing the fluidity of the alignment material.
以上説明した各発明において、前記サブ画素ごとに前記素子に導電接続された画素電極
を有し、前記絶縁膜における前記透過表示領域に設けられた前記凹部の内底部の縁に前記
素子と前記画素電極とのコンタクト部が形成されていることが好ましい。これによれば、
絶縁膜の凹部を利用して素子と画素電極との導電コンタクトを確保できるため、コンタク
トホールの形成工程等を設ける必要がなくなる。
In each of the inventions described above, each of the sub-pixels has a pixel electrode that is conductively connected to the element, and the element and the pixel are arranged on an edge of an inner bottom portion of the concave portion provided in the transmissive display region in the insulating film. A contact portion with the electrode is preferably formed. According to this,
Since the conductive contact between the element and the pixel electrode can be secured by using the concave portion of the insulating film, it is not necessary to provide a contact hole forming step or the like.
次に、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の液晶装置を搭載し、当該液晶装置
により表示部を構成したことを特徴とする。電子機器の種類は特に限定されないが、透過
表示領域に基づく透過表示と反射表示領域に基づく反射表示とが共に可能になる点で、携
帯電話機、携帯型コンピュータ、電子携帯時計等の携帯型電子機器であることが特に効果
的である。
Next, an electronic apparatus according to the present invention is characterized in that the liquid crystal device according to any one of the above is mounted and a display unit is configured by the liquid crystal device. The type of the electronic device is not particularly limited, but portable electronic devices such as a mobile phone, a portable computer, and an electronic portable watch are capable of performing both transmissive display based on the transmissive display region and reflective display based on the reflective display region. It is particularly effective.
さらに、本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板及び当該一対の基板間に挟持され
てなる液晶を有し、複数のサブ画素を備えるとともに、当該サブ画素には透過表示領域及
び反射表示領域が設けられてなる液晶装置の製造方法において、一方の前記基板に、前記
サブ画素に対応して設けられてなるスイッチング素子及び前記スイッチング素子に接続さ
れてなる配線を形成する工程と、前記スイッチング素子及び配線上に、前記透過表示領域
、及び、隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に凹部を有し、前記絶縁膜のうち前記凹
部以外の部分の少なくとも一部が前記反射表示領域と平面的に重なり配置され、前記隣接
する前記サブ画素の境界に沿う領域に形成された前記凹部は、前記透過表示領域に形成さ
れた前記凹部より浅い絶縁膜を形成する工程と、前記一方の基板に配向材が前記凹部内を
流動する態様で当該配向材を塗布し、配向膜を形成する工程と、前記凹部を反映して、前
記透過表示領域における層厚より前記反射表示領域における層厚の方が薄く構成される前
記液晶を配置する工程と、を具備することを特徴とする。
Furthermore, the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention includes a pair of substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and includes a plurality of subpixels. The subpixels include a transmissive display region and a reflective display. In the method of manufacturing a liquid crystal device provided with a region, a step of forming a switching element provided corresponding to the sub-pixel and a wiring connected to the switching element on one of the substrates, and the switching On the element and the wiring, there is a recess in the transmissive display region and a region along the boundary of the adjacent subpixel, and at least a part of the insulating film other than the recess is flat with the reflective display region. The recess formed in the region along the boundary between the adjacent sub-pixels is overlapped with the insulating film shallower than the recess formed in the transmissive display region. A step of forming the alignment film by applying the alignment material on the one substrate in a mode in which the alignment material flows in the recess, and a layer thickness in the transmissive display region reflecting the recess. And a step of arranging the liquid crystal having a thinner layer thickness in the reflective display region.
[第1実施形態]
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図1は第1実施
形態の液晶装置100の一方の基板110の平面構造を示す概略平面図、図2は図1のA
−A線に沿った断面構造を示す概略縦断面図、図3は図1のB−B線に沿った断面構造を
示す概略縦断面図、図4は液晶装置100の拡大縦断面図である。なお、本願に添付した
各図は全て寸法や寸法比等を作図上の都合により適宜に設定して描いてあり、実際の寸法
や寸法比を示すものではない。
[First Embodiment]
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic plan view showing a planar structure of one
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view showing a sectional structure along the line BB in FIG. 1, and FIG. 4 is an enlarged longitudinal sectional view of the
液晶装置100は、図4に示すように、一対の基板、すなわち、第1基板110と第2
基板120とを図示しないシール材等を介して貼り合わせ、両基板間に液晶131を封入
したパネル構造を有する。本実施形態の場合、第1基板110は配線及び素子を有するア
レイ基板(素子基板)であり、第2基板120はカラーフィルタを有するCF基板(対向
基板)である。
As shown in FIG. 4, the
It has a panel structure in which the
本実施形態においては、図1及び図4に示すように、サブ画素Gが行方向(図1及び図
4の左右方向)及び列方向(図1の上下方向、図4の紙面と直交する方向)の双方に配列
されている。サブ画素G内には、それぞれ、後述する反射層116によって第2基板12
0側から入射した光が反射される反射表示領域Grと、反射層116が形成されず、入射
した光が透過する透過表示領域Gtとが形成されている。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 4, the sub-pixels G are arranged in the row direction (left-right direction in FIGS. 1 and 4) and the column direction (up-down direction in FIG. ) Are arranged on both sides. In the sub-pixel G, the second substrate 12 is provided by a
A reflective display region Gr where light incident from the 0 side is reflected and a transmissive display region Gt where the
第1基板110上には、Ta2O5やSiO2等で構成される絶縁層111が形成され、
この絶縁層111上には、列方向に配列された複数のサブ画素Gからなるサブ画素列ごと
に、Ta、Ta−W、Al等の金属で構成された配線112が配置されている。配線11
2は行方向に隣接するサブ画素Gの境界に沿って列方向に伸びるように設けられている。
なお、図示例では上記境界上に配線112が配置されているが、実際には配線112は上
記境界に対して行方向にずれて配置されていてもよい。
An insulating
On the insulating
2 is provided so as to extend in the column direction along the boundary between the sub-pixels G adjacent in the row direction.
In the illustrated example, the
配線112はサブ画素ごとに設けられた素子113に導電接続され、この素子113は
コンタクト電極114に導電接続されている。本実施形態では、素子113は二端子非線
形素子であるTFD(薄膜トランジスタ、MIM素子)である。図示例の場合、素子11
3は図1には二つの極性が逆のTFD素子構造が直列に接続されてなるバックツーバック
構造を有している。
The
3, FIG. 1 has a back-to-back structure in which two TFD element structures having opposite polarities are connected in series.
配線112、素子113及びコンタクト電極114は、蒸着法やスパッタリング法等の
導電体の成膜処理、陽極酸化法やCVD法等の絶縁体の成膜処理、フォトリソグラフィ法
やエッチング処理等のパターニング処理等を用いる公知の方法で形成される。
The
上記配線112及び素子113上には、アクリル樹脂等で構成された透明な絶縁膜11
5が形成されている。この絶縁膜115は、印刷法、スピンコーティング法、CVD法等
の成膜処理と、フォトリソグラフィ法やエッチング法等のパターニング処理によってサブ
画素G内で所定のパターンを有するように構成されている。図示例の場合、サブ画素G内
では、透過表示領域Gtにおいて絶縁膜115が形成されず、反射表示領域Grでは絶縁
膜115が形成されている。ただし、絶縁膜115が透明材料で構成される場合には、透
過表示領域Gt内に絶縁膜115の厚み方向の一部が存在していてもよい。すなわち、本
実施形態では、絶縁膜115に凹部が形成され、この凹部を反映して、透過表示領域Gt
における液晶131の層厚が反射表示領域Grの層厚より厚く構成されるようになってい
ればよい。
On the
5 is formed. The insulating
The layer thickness of the
また、上記絶縁膜115は、複数のサブ画素Gが集まって最小の表示単位を構成する画
素Pごとに同一のパターンを有するように構成されている。画素Pは、図示例では、後述
するカラーフィルタ121の複数色の着色層121R,121B,121Gにそれぞれ対
応する複数種類のサブ画素Gが集まって構成されている。具体的には、行方向に隣接する
三つのサブ画素Gが一つの画素Pを構成している。
Further, the insulating
基板110上では、上記絶縁膜115は、透過表示領域Gt、及び、列方向に隣接する
サブ画素Gの境界に沿う領域において形成されず、これらの領域が凹部を構成するように
なっている。そして、透過表示領域Gtに設けられた凹部115xは、列方向に隣接する
サブ画素Gの境界に沿う領域に設けられた凹部115yによって行方向に隣接するサブ画
素G間で相互に連続するように構成されている。
On the
絶縁膜115は、行方向に隣接するサブ画素の境界に沿う領域に凹溝115zを有し、
この凹溝115zは絶縁膜115の厚みより浅く形成されている。すなわち、凹溝115
zの内底部は、絶縁膜115の下地面(絶縁膜115が配置されている面)より上に存在
し、当該内底部の下に絶縁膜115の厚み方向の一部が残存している。また、凹溝115
zの下方には、上記配線112が凹溝115zと平行に(すなわち列方向に)伸びるよう
に配置されている。
The insulating
The
The inner bottom portion of z exists above the lower ground of the insulating film 115 (the surface on which the insulating
Below the z, the
凹溝115zは、図示例の場合、画素P内において、後述する赤の着色層が配置される
サブ画素(図1及び図4の左端のサブ画素)Gと、青の着色層が配置されるサブ画素(図
1及び図4の中央のサブ画素)Gとの境界に沿う領域にのみ形成されている。これは、赤
と青のサブ画素の境界領域は、青のサブ画素と緑のサブ画素(図1及び図4の右端のサブ
画素)の境界、或いは、緑と赤のサブ画素の境界に比べて配向不良が目立ちにくいからで
ある。ただし、これらのいずれの境界に沿う領域に凹溝115zを形成しても構わない。
In the illustrated example, in the illustrated example, the
上記の絶縁膜115は透明な材料で構成され、特に、樹脂材料で構成されることが好ま
しい。樹脂材料で構成された絶縁膜115は、例えば、ハーフトーンマスクを用いたフォ
トリソグラフィ法で形成することができる。具体的には、ポジ型の感光性樹脂を印刷等で
塗布し、上記凹部115x、115yに相当する領域に光透過部を有し、上記凹溝115
zに相当する領域に半透過部を有し、それ以外の領域に光遮蔽部を有するフォトマスクで
露光し、現像することによって形成することができる。なお、ネガ型の感光性樹脂を用い
る場合には、光透過部と光遮蔽部とが逆の関係になる。
The insulating
It can be formed by exposing and developing with a photomask having a semi-transmissive portion in a region corresponding to z and a light shielding portion in other regions. In the case where a negative photosensitive resin is used, the light transmitting portion and the light shielding portion are in an inverse relationship.
上記絶縁膜115は微細な表面凹凸を有するように形成されることが好ましい。この微
細な表面凹凸は、上記のフォトリソグラフィ法で絶縁膜115を形成する場合には、フォ
トマスクに微細な光透過部を分散して設けることによって形成することができる。
The insulating
絶縁膜115の縁部のうち、反射表示領域Grと透過表示領域Gtの境界部分に形成さ
れる段差面の下、すなわち、凹部115xの内底部の縁には、上記コンタクト電極114
が露出している。このコンタクト電極114は、後述する画素電極117に導電接続され
る。
Of the edge of the insulating
Is exposed. The
上記絶縁膜115の表面上には、Al,Agなどの高い反射率を呈する光反射性材料か
らなる反射層116が形成される。この反射層116は、サブ画素G内の上記反射表示領
域Grに対応する領域、すなわち、サブ画素G内の上記絶縁膜115上に形成される。反
射層116は、上記絶縁膜115の微細な表面凹凸を反映して微細な凹凸を有する散乱性
反射面を備えたものとなる。図示例の場合、反射層116は導電性材料(金属材料)で構
成されるので、上記コンタクト電極114に導電接続されるように構成されていてもよい
。
On the surface of the insulating
上記のサブ画素G内にはITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体で構成される
画素電極117が形成される。この画素電極117は、直接、若しくは、上記反射層11
6を介して、上記コンタクト電極114に導電接続される。
In the sub-pixel G, a
6 is conductively connected to the
一方、第2基板120上には、図4に示すように、アクリル樹脂等の透明樹脂基材中に
染料や顔料等の着色材を分散配置させてなる着色層121R,121B,121Gが所定
パターンで配置される。図示例の場合には、同じ色の着色層が列方向に配置され、異なる
色の着色層が行方向に繰り返し配列されたストライプ配列のカラーフィルタ121が構成
されている。ここで、着色層121Rは赤、着色層121Bは青、着色層121Gは緑の
フィルタ要素を構成する。異なる色の着色層間には、例えば、行方向に隣接するサブ画素
の境界に沿う領域で隣接する、異なる色の着色層を重ねることによって構成された遮光部
を設けることができる。また、金属膜や黒色樹脂等の遮光性材料によって遮光部を形成し
てもよい。図示例の場合、凹溝115zと重なる領域では、黒色樹脂等からなる遮光層1
21BMによる遮光部を形成している。これは、凹溝115zの形成領域では、凹溝11
5zによる基板110の表面段差によって液晶の配向不良が発生しやすいので、光漏れ等
によるコントラスト不良が発生しやすいからである。
On the other hand, on the
A light shielding portion by 21BM is formed. This is because in the formation region of the
This is because a liquid crystal alignment defect is likely to occur due to the surface step of the
カラーフィルタ121上にはアクリル樹脂等からなる透明保護膜122が形成される。
この透明保護膜122は、不純物の侵入による着色層の劣化を防止するとともにカラーフ
ィルタ121の表面を平坦化するために設けられる。
A transparent
The transparent
透明保護膜122上にはITO等の透明導電体からなる対向電極(共通電極)123が
形成される。本実施形態のように素子113が二端子非線形素子である場合には、対向電
極123は行方向に伸びる帯状の電極であり、複数の対向電極123が列方向に平行に配
列されて、全体としてストライプ状に形成される。ただし、素子113がTFTのような
三端子非線形素子である場合には、行方向及び列方向に配列された複数のサブ画素Gに対
して共通に対向配置される一体の共通電極が設けられる。
On the transparent
なお、図4に示すスペーサ132は絶縁樹脂等で構成され、図示例の場合、第1基板1
10の表面上にフォトリソグラフィ法等によって形成される。ただし、このスペーサ13
2は一対の基板のいずれかに固定されていればよい。また、図示例のように固定されたも
のに限らず、両基板に固定されていないスペーサであってもよい。また、シール材等に混
入させることによって表示領域にはスペーサを配置しない構成とすることも可能である。
The
10 is formed on the surface 10 by a photolithography method or the like. However, this spacer 13
2 should just be fixed to either of a pair of board | substrates. Further, the spacers are not limited to those fixed as in the illustrated example, and may be spacers not fixed to both substrates. Further, it is possible to adopt a configuration in which spacers are not arranged in the display region by being mixed in a sealing material or the like.
上記のように構成された第1基板110及び第2基板120の内面には、配向樹脂等の
配向材が塗布され、焼成若しくは乾燥処理が施されることなどによって、配向膜118及
び124が形成される。例えば、典型的には、ポリイミド樹脂を印刷法(例えば凸版印刷
)やスピンコーティング法等によって塗布し、その後、所定温度で焼成する。なお、この
ように構成された配向膜118,124自体に液晶配向能が或る場合にはそのままでよい
が、そうでない場合には、必要に応じてラビング処理等の後処理が配向膜に施される。
上記のように配向材が塗布されるとき、第1基板110の表面には上記絶縁膜115に
よる凹凸構造が形成されているので、配向材の流動が阻害され、これによって特に透過表
示領域Gtにおける配向膜の厚みムラが生じ、これによって液晶の配向ムラが発生して、
表示ムラが出る場合がある。しかしながら、本実施形態では、透過表示領域Gtに設けら
れた凹部115xが凹部115yによって行方向に連続した状態とされ、しかも、列方向
に凹溝115zが伸びるように設けられているため、行方向にも列方向にも配向材が流動
しやすくなることから、表示ムラを低減することができる。特に、凹溝115zは列方向
に隣接するサブ画素G間の凹部115x及び115yを連通する態様で構成されているの
で、配向材の列方向の流動性を高めることができる。
When the alignment material is applied as described above, since the uneven structure of the insulating
Display unevenness may occur. However, in the present embodiment, since the
また、本実施形態では、凹部115yが列方向に隣接するサブ画素Gの境界に沿う領域
に設けられ、凹溝115zが行方向に隣接するサブ画素Gの境界に沿う領域に設けられて
いるので、これらの凹部若しくは凹溝による表面段差に起因する液晶の配向不良による表
示への影響を抑制できる。特に、凹溝115zは絶縁層115の厚みより浅く形成されて
いるので、表面の段差量そのものが低減されるから、凹溝115zによる液晶の配向不良
をさらに低減することができる。
Further, in the present embodiment, the
さらに、本実施形態では、凹溝115zが配線112に沿った領域(図示例の場合には
配線112上の領域)に形成されているが、凹溝115zの下方には絶縁膜115の厚み
の一部が残存しているので、配線112と、反射層116や画素電極117との短絡を防
止することができる。
Furthermore, in this embodiment, the
なお、凹部115yと凹溝115zの交差部では、配線112を被覆するために、絶縁
膜115の厚みの一部が残るように、例えば、凹溝115zの内底部と同じ厚みの絶縁層
が残るように構成することが好ましい。ただし、この交差部において絶縁膜115が全て
除去されていても構わない。
For example, an insulating layer having the same thickness as the inner bottom portion of the
また、上記実施形態では、透過表示領域Gtに設けられた凹部115xが行方向に隣接
するサブ画素Gの境界に沿う領域に設けられた細幅の凹部115yによって行方向に連続
するように構成されているが、これとは異なり、凹部115yを透過表示領域Gtと同じ
列方向の範囲で透過表示領域Gtと同幅に構成することによって、透過表示領域Gtを通
過する一体の帯状の凹部が行方向に伸びるように構成してもよい。
In the above embodiment, the
[第2実施形態]
次に、図5を参照して、本発明に係る液晶装置の第2実施形態について説明する。なお
、本実施形態において、第1実施形態と同様の部分には同一符号を付し、それらの説明は
省略する。また、図示しない構成は第1実施形態の説明と同様に構成されるものとする。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. Further, the configuration not shown is configured in the same manner as the description of the first embodiment.
本実施形態では、第1実施形態と同様の配線112及び素子113の上に透明な下層絶
縁層115Aが形成される。また、下層絶縁層115A上には上層絶縁層115Bが形成
される。この上層絶縁層115Bは本実施形態の場合には透明材料でなくても構わない。
上層絶縁層115Bは、第1実施形態の絶縁層115と同様に、凹部115x及び凹溝1
15zを設けるようにパターニングされる。ここで、凹部115x及び凹溝115zは、
上層絶縁層115Bを形成しないことによって構成され、したがって、凹部115x及び
凹溝115zの内底部は下層絶縁層115Aの表面で構成される。なお、上層絶縁層11
5Bの表面には微細な表面凹凸が形成され、その上に形成された反射層116が散乱性反
射面を構成する点は第1実施形態と同様である。
In the present embodiment, a transparent lower
Similar to the insulating
Patterned to provide 15z. Here, the
Thus, the upper insulating
Similar to the first embodiment, fine surface irregularities are formed on the surface of 5B, and the
本実施形態では、素子113に導電接続されたコンタクト電極114’が下層絶縁層1
15Aに設けられたコンタクトホール115a内に形成され、このコンタクトホール11
5aを介してコンタクト電極114’が下層絶縁層115A上の画素電極117と導電接
続されている。このコンタクトホール115aは、上層絶縁層115Bをパターニングし
て凹部115x及び凹溝115zを形成した後に別途パターニング工程を設けることによ
り形成してもよく、或いは、感光性樹脂からなる下層絶縁層115A及び上層絶縁層11
5Bを積層した後にハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィ法で凹部115x及
び凹溝115zと同時に形成してもよい。
In the present embodiment, the
This contact hole 11a is formed in a
The
After stacking 5B, the
本実施形態では、配線112と凹溝115zの内底部との間に下層絶縁層115Aが形
成されているので、下層絶縁層115Aと上層絶縁層115Bを第1実施形態の絶縁膜と
見た場合、第1実施形態と同様に配線112と凹溝115zの内底部との間に絶縁膜の一
部が介在していることとなる。したがって、第1実施形態と同様に、配線112と、反射
層116及び画素電極117との間の短絡不良を確実に防止できる。
In the present embodiment, since the lower insulating
なお、本実施形態では、凹部115xの深さと凹溝115zの深さを同一としているが
、第1実施形態と同様に、凹溝115zを凹部115xよりも浅く形成することがより好
ましい。
In the present embodiment, the depth of the
[第3実施形態]
次に、図6を参照して、本発明に係る液晶装置の第3実施形態について説明する。この
実施形態では、第2実施形態において形成した下層絶縁層115A及び上層絶縁層115
Bを単一の絶縁膜115’によって構成したものである。他の構成は第2実施形態と同様
であるので、同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the lower insulating
B is constituted by a single
本実施形態では、凹部115x及び凹溝115zが絶縁膜115’の厚みより浅く形成
され、これらの内底部の下に絶縁膜115’の厚み方向の一部が残存している。したがっ
て、第2実施形態と同様に、配線112と凹溝115zの内底部との間に絶縁膜115’
の厚み方向の一部が介在しているため、胆略不良を防止できる。
In the present embodiment, the
Since a part in the thickness direction of the intervening layer is interposed, it is possible to prevent poor bileness.
本実施形態では、配線112及び素子113を形成した後、絶縁膜115’を形成し、
その後、凹部115x、凹溝115z、コンタクトホール115a’を形成する。しかる
後に、コンタクトホール115a’内にコンタクト電極114を形成し、そして、反射層
116及び画素電極117を形成する。この場合、絶縁膜115’のパターニングは、第
2実施形態と同様に、凹部115x及び凹溝115zの形成と、コンタクトホール115
a’の形成とを別工程で行ってもよく、或いはまた、ハーフトーンマスク等を利用して同
時に行ってもよい。
In this embodiment, after forming the
Thereafter, a
The formation of a ′ may be performed in a separate process, or may be performed simultaneously using a halftone mask or the like.
なお、本実施形態においては、凹部115xの深さと、凹溝115zの深さとが同一と
なっているが、第1実施形態と同様に凹溝115zを凹部115xより浅く形成すること
がより好ましい。
In the present embodiment, the depth of the
[第4実施形態]
次に、図7及び図8を参照して、本発明に係る第4実施形態について説明する。この実
施形態では、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。ま
た、図示しない部分については特に言及するものを除き、基本的に同様に構成されている
ものとする。
[Fourth Embodiment]
Next, with reference to FIG.7 and FIG.8, 4th Embodiment which concerns on this invention is described. In this embodiment, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. In addition, parts not shown in the figure are basically configured in the same manner except for those specifically mentioned.
本実施形態では、先の実施形態とは異なり、素子113’としてTFT(薄膜トランジ
スタ)等の三端子非線形素子を用いている。したがって、行方向に伸びる配線(走査線)
112Aと、列方向に伸びる配線(信号線)112Bが設けられ、これらが各サブ画素G
に対応して設けられた素子113に接続されている。また、図示しない第2基板上の対向
電極は全てのサブ画素Gに対向配置される共通電極とされる。
In the present embodiment, unlike the previous embodiment, a three-terminal nonlinear element such as a TFT (thin film transistor) is used as the
112A and wirings (signal lines) 112B extending in the column direction are provided, and these are provided for each sub-pixel G.
Are connected to the
本実施形態において、配線112Aは下層に配置され、この下層の配線112A上に層
間絶縁層112Xが形成され、さらに、この層間絶縁層112X上に上層の配線112B
が形成されている。
In the present embodiment, the
Is formed.
また、素子113’は、配線112Aに導電接続された(或いは、配線112Aと一体
に構成された)ゲート電極113g’と、このゲート電極113g’に対して図示しない
ゲート絶縁膜を介して対向配置される多結晶シリコンやアモルファスシリコン等で構成さ
れる半導体層113s’とを有している。半導体層113s’における上記ゲート電極1
13g’と対向するチャネル領域の一側にある部分は上記配線112Bと導電接続され、
同チャネル領域の他側にある部分はコンタクト電極114に導電接続されている。なお、
凹部115xの内底部の縁にコンタクト電極114が露出し、画素電極117に導電接続
されている点は第1実施形態と同様である。
The
A portion on one side of the channel region facing 13g ′ is conductively connected to the
The portion on the other side of the channel region is conductively connected to the
Similar to the first embodiment, the
ここで、下層の配線112Aは、その上に層間絶縁層112Xを有するため短絡不良の
問題を生じにくいが、上層の配線112Bは、その上に絶縁膜115が配置されているだ
けであるので、絶縁膜115に設けられた凹溝115zが絶縁膜115の厚み全体を除去
する態様で形成されているとすると、配線112Bと、反射層116及び画素電極117
との間の短絡不良が発生しやすくなる。
Here, since the
It becomes easy for a short circuit failure between the two to occur.
しかしながら、本実施形態では、凹溝115zが絶縁膜115の厚みより浅く形成され
ているので、凹溝115zの内底部の下に絶縁膜115の厚み方向の一部が残存している
ことから、上層の配線112Bと反射層116及び画素電極117との間の短絡不良を防
止できる。
However, in this embodiment, since the
[第5実施形態]
次に、図9を参照して、本発明に係る第5実施形態について説明する。この実施形態で
は、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。また、図示
しない部分は特に言及するものを除き、第1実施形態の説明と同様に構成されているもの
とする。
[Fifth Embodiment]
Next, a fifth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. In addition, parts not shown in the drawing are configured in the same manner as in the description of the first embodiment, unless otherwise specified.
図9は本実施形態の第1基板110の概略平面図である。本実施形態が第1実施形態と
異なる点は、行方向に伸びる凹溝115vをさらに設けた点である。この凹溝115vは
、サブ画素G内の透過表示領域Gtと反射表示領域Grの境界に沿って伸び、行方向に隣
接する複数のサブ画素Gに亘って形成されている。この凹溝115vは、上記凹溝115
zと同様に、透過表示領域Gtに設けられた凹部115xよりも浅く形成されている。な
お、凹部115xの内底部の縁にコンタクト電極114が露出し、画素電極117に導電
接続されている点は第1実施形態と同様である。
FIG. 9 is a schematic plan view of the
Similarly to z, it is formed shallower than the
凹溝115vを設けることで、配向材の凹部115x間の行方向の流動性を高めること
ができる。特に、透過表示領域Gtの凹部115xの列方向の一側に上記凹部115yが
形成されているが、凹溝115vは透過表示領域Gtの凹部115xの列方向の他側に臨
むように設けられているため、透過表示領域Gtの凹部115xの列方向両側において行
方向に見た配向材の流動性が向上することから、表示ムラをさらに低減することができる
。
By providing the
凹溝115vは素子113の上方に配置されているので、凹溝115vを透過表示領域
Gtに設けられた凹部115xと同様の深さとなるように構成すると、素子113と反射
層116や画素電極117との間の短絡不良を生ずる可能性が高くなるが、本実施形態の
場合、凹溝115vは凹部115xより浅く形成されていることから、上記の短絡不良を
防止できる。
Since the
[第6実施形態]
次に、図10及び図11を参照して本発明に係る第6実施形態について説明する。この
実施形態でも、先の第4実施形態と同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略す
る。
[Sixth Embodiment]
Next, a sixth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. Also in this embodiment, the same parts as those in the previous fourth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
図10は第1基板の概略平面図、図11は第1基板の概略縦断面図である。この実施形
態では、サブ画素G’内の透過表示領域Gt’に凹部115x’が設けられ、この凹部1
15x’が列方向に複数のサブ画素G’に亘って連続するように構成されている。具体的
には、列方向に隣接するサブ画素G’の境界に凹部115y’が設けられ、この凹部11
5y’によって凹部115x’が列方向に連続している。
FIG. 10 is a schematic plan view of the first substrate, and FIG. 11 is a schematic longitudinal sectional view of the first substrate. In this embodiment, a
15x ′ is configured to be continuous over a plurality of sub-pixels G ′ in the column direction. Specifically, a
The
図示例では、凹部115x’の行方向の幅と、凹部115y’の行方向の幅とが同一で
あり、両凹部によって列方向に伸びる一体の帯状の凹部が形成されている。そして、これ
ら複数の帯状の凹部が行方向に平行に配列され、全体としてストライプ状に構成されてい
る。ここで、各サブ画素G’内では、反射表示領域Gr’が透過表示領域Gt’の行方向
両側に構成されているが、サブ画素G’において、反射表示領域Gr’を透過表示領域G
t’の行方向片側にのみ設けてもよい。また、列方向に伸びる上層の配線112Bは絶縁
膜115’の凹部以外の部分によって完全に被覆されている。
In the illustrated example, the width of the
It may be provided only on one side in the row direction of t ′. Further, the
本実施形態では、下層の配線112A、層間絶縁層112X及び上層の配線112Bか
らなる構造は第4実施形態と同様であるが、凹部115x’及び115y’によって透過
表示領域Gt’が列方向に連続するように構成されている。このとき、列方向に連続する
凹部は配線112Aを横切ることとなるが、配線112Aは層間絶縁層112Xの下層に
形成されているために短絡不良等の問題は生じない。一方、上層の配線112Bは絶縁膜
115’の凹部以外の部分によって完全に被覆されているので、配線112Bに起因する
短絡不良も生じない。なお、凹部115x’の内底部の縁にコンタクト電極114が露出
し、画素電極117に導電接続されている点は第1実施形態と同様である。
In the present embodiment, the structure including the
[電子機器]
最後に、上記の液晶装置100を搭載した電子機器について説明する。図12は上記液
晶装置100を搭載した電子機器を示す概略斜視図である。
[Electronics]
Finally, an electronic apparatus equipped with the
図12は、本発明に係る電子機器の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示
す携帯電話機300は、複数の操作ボタン301a,301b及び送話口などを備えた操
作部301と、表示画面302aや受話口などを備えた表示部302とを有し、表示部3
02の内部に上記の液晶装置100が組み込まれてなる。そして表示部302の表示画面
302aにおいて液晶装置100により形成された表示画像を視認することができるよう
になっている。この場合、携帯電話機300の内部には、上記液晶装置100を制御する
表示制御回路が設けられる。この表示制御回路は、液晶装置100に対して映像信号その
他の入力データや所定の制御信号を送り、その動作態様を決定するように構成されている
。
FIG. 12 shows a mobile phone which is an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention. A
The
尚、本発明の液晶装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば
、上記図示例の凹溝は断面が矩形(正方形若しくは長方形)状に構成され、その内底部が
平坦に構成されているが、これはあくまでも図示の都合上このように示しているに過ぎず
、実施にはこのように平坦な内底部を有するものでなくてもよい。例えば、溝断面の輪郭
がU字、V字、W字状など、種々の形状を有していても構わない。
In addition, the liquid crystal device and the electronic apparatus of the present invention are not limited to the above illustrated examples,
Of course, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the groove shown in the above example has a rectangular (square or rectangular) cross section, and its inner bottom is flat, but this is only shown as such for the sake of illustration. In practice, it does not have to have such a flat inner bottom. For example, the profile of the groove cross section may have various shapes such as a U shape, a V shape, and a W shape.
100…液晶装置、110…第1基板、111…絶縁層、112…配線、113…素子
、114…コンタクト電極、115…絶縁膜、115x,115y…凹部、115z…凹
溝、116…反射層、117…画素電極、118…配向膜、120…第2基板、121…
カラーフィルタ、122…透明保護膜、123…対向電極、124…配向膜。
DESCRIPTION OF
Color filter, 122 ... transparent protective film, 123 ... counter electrode, 124 ... alignment film.
Claims (8)
前記一対の基板のうち一方の基板は前記サブ画素に対応して設けられてなるスイッチング素子及び前記スイッチング素子に接続されてなる配線、並びに、当該スイッチング素子上及び配線上に配置される絶縁膜を有し、
前記行方向および前記列方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域と、前記透過表示領域と、において、前記絶縁膜が形成されないことで、または、前記絶縁膜の厚みより浅く形成されることで形成された凹部を有し、前記各凹部は、連通されるとともに、前記配向膜を備え、
前記絶縁膜のうち前記凹部以外の部分の少なくとも一部が前記反射表示領域と平面的に重なり配置され、
前記液晶は、前記凹部を反映して、前記透過表示領域における層厚より前記反射表示領域における層厚の方が薄く構成され、
前記凹部は、前記配線に沿う領域を有し、
前記配線と前記配線に沿う領域に設けられた前記凹部の内底部との間に前記絶縁膜の厚み方向の一部が介在していることを特徴とする液晶装置。 An alignment film having a pair of substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates , provided with a transmissive display region and a reflective display region, and applying an alignment material to the transmissive display region and the reflective display region A liquid crystal device including sub-pixels arranged in a row direction and a column direction .
One of the pair of substrates includes a switching element provided corresponding to the sub-pixel, a wiring connected to the switching element, and an insulating film disposed on the switching element and the wiring. Have
In the region along the boundary between the sub-pixels adjacent to each other in the row direction and the column direction and the transmissive display region, the insulating film is not formed, or is formed shallower than the thickness of the insulating film. Each of the recesses is communicated with the alignment film, and
At least a part of the insulating film other than the concave portion is arranged so as to overlap the reflective display region in a plane,
The liquid crystal is configured such that the layer thickness in the reflective display region is thinner than the layer thickness in the transmissive display region, reflecting the recess.
The recess has a region along the wiring,
A part of the insulating film in the thickness direction is interposed between the wiring and an inner bottom portion of the recess provided in a region along the wiring.
前記透過表示領域に設けられた前記凹部は前記行方向に連続し、
前記配線上の領域に形成された前記凹部は、前記列方向に延長形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。 A plurality of the sub-pixels are arranged in a row direction and a column direction,
The concave portions provided in the transmissive display area are continuous in the row direction,
4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the recess formed in a region on the wiring extends in the column direction. 5.
前記配線は前記列方向に伸び、
前記配線より下層に配置された前記行方向に伸びる下層の配線と、前記配線と前記下層の配線の間に配置された層間絶縁層とをさらに有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。 A plurality of the sub-pixels are arranged in a row direction and a column direction,
The wiring extends in the column direction,
4. The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a lower layer wiring extending in the row direction disposed below the wiring, and an interlayer insulating layer disposed between the wiring and the lower layer wiring. 5. A liquid crystal device according to claim 1.
前記反射表示領域において前記絶縁膜上に形成された反射層と、を有し、
前記配線は隣接する前記サブ画素の境界に沿って形成されてなることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 A plurality of the sub-pixels;
A reflective layer formed on the insulating film in the reflective display region;
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the wiring is formed along a boundary between adjacent subpixels.
前記配線と前記配線に沿う領域に設けられた前記凹部の内底部との間に前記下層絶縁層が介在していることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置。 The insulating film includes a lower insulating layer formed in the transmissive display region and the reflective display region, and an upper insulating layer formed in the reflective display region,
The liquid crystal device according to claim 6, wherein the lower insulating layer is interposed between the wiring and an inner bottom portion of the recess provided in a region along the wiring.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008176571A JP4371172B2 (en) | 2008-07-07 | 2008-07-07 | Liquid crystal device and electronic device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008176571A JP4371172B2 (en) | 2008-07-07 | 2008-07-07 | Liquid crystal device and electronic device |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005286275A Division JP4179316B2 (en) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | Liquid crystal device and electronic device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008282038A JP2008282038A (en) | 2008-11-20 |
JP4371172B2 true JP4371172B2 (en) | 2009-11-25 |
Family
ID=40142834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008176571A Expired - Fee Related JP4371172B2 (en) | 2008-07-07 | 2008-07-07 | Liquid crystal device and electronic device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4371172B2 (en) |
-
2008
- 2008-07-07 JP JP2008176571A patent/JP4371172B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008282038A (en) | 2008-11-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11860492B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2007047259A (en) | Liquid crystal display device | |
JP4179316B2 (en) | Liquid crystal device and electronic device | |
US10042221B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2017187530A (en) | Liquid crystal display device | |
US8179513B2 (en) | Transflective liquid crystal display panel and electronic apparatus | |
JP5323329B2 (en) | Liquid crystal display | |
JP4371172B2 (en) | Liquid crystal device and electronic device | |
JP4127272B2 (en) | Electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP4561552B2 (en) | Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus | |
JP5121488B2 (en) | Liquid crystal device and electronic device | |
JP5008992B2 (en) | Liquid crystal display panel and method for measuring chromaticity of color filter substrate of liquid crystal display panel | |
JP2007094257A (en) | Liquid crystal apparatus, electronic device and manufacturing method of liquid crystal apparatus | |
JP2006030367A (en) | Array substrate and liquid crystal display | |
KR102419748B1 (en) | Liquid crystal display device having uniform cell gap | |
JP2009069615A (en) | Electro-optical device and electronic equipment | |
JP2007094256A (en) | Liquid crystal apparatus, electronic device and manufacturing method of liquid crystal apparatus | |
JP2010020099A (en) | Display element | |
JP2009157295A (en) | Liquid crystal display element | |
JP2007263998A (en) | Liquid crystal device, electronic equipment, and method for manufacturing liquid crystal device | |
JP2007065132A (en) | Liquid crystal display | |
JP2005070219A (en) | Liquid crystal display | |
JP2015219349A (en) | Display device | |
JP2009192668A (en) | Liquid crystal device and electronic equipment | |
JP2009145836A (en) | Liquid crystal device, manufacturing method therefor, and electronic equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090407 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090605 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090811 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090824 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4371172 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |