JP4370758B2 - Electro-optical device substrate, method for manufacturing electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

Electro-optical device substrate, method for manufacturing electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus Download PDF

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。特に、反射半透過型の電気光学装置に用いた場合に好適な電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、自然光や室内照明光等の外光を表面側から入射させ、この光を反射させて表示を行う反射型表示と、光源からの光を裏面側から入射させて表示を行う透過型表示とを必要に応じて切換えることのできる、いわゆる反射半透過型電気光学装置が知られている。
【０００３】
このような従来の液晶表示パネルの典型例を図２３に示すが、反射半透過型としての液晶表示パネル１００の構造を模式的に示している。この液晶表示パネル１００は、対向する第１の基板１０１と、第２の基板１０２とを、接着剤等のシール材１０３によって貼り合せ、かかる第１の基板１０１と、第２の基板１０２との間に形成された空間に、液晶材料１０４を封入した構成のセル構造を備えている。そして、第１の基板１０１の内面上には、画素毎に開口部１１１ａを備えた反射層１１１が形成され、この反射層１１１の上に、着色層１１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂおよび表面保護層１１２ｐを備えたカラーフィルタ基板１１２がさらに形成されている。また、表面保護層１１２ｐにおけるカラーフィルタ基板１１２が設けられた反対側には、液晶材料１０４を駆動させるべく電圧を印加するための透明電極１１３が形成されている。
【０００４】
一方、第２の基板１０２の内面上には、対極としての透明電極１２１が形成されており、対向する基板１０１上の透明電極１１３に対して交差するように配置されている。そして、基板１０１上に形成された透明電極１１３、および基板１０２上に形成された透明電極１２１のそれぞれの表面に、配向膜や硬質透明膜（保護膜）などが、必要に応じて適宜形成されている。
また、基板１０２の外面上には、位相差板（１／４波長板）１０５および偏光板１０６が順次配置され、基板１０１の外面上には、別の位相差板（１／４波長板）１０７および偏光板１０８がそれぞれ順次配置されている。
【０００５】
以上のように構成された液晶表示パネル１００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に使用された場合、その背後にバックライト１０９が取付けられることになる。この液晶表示パネル１００は、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Ｒに沿って外光が液晶材料１０４を透過した後、反射層１１１によって反射され、再び液晶１０４を透過した後、外部に放出される。したがって、液晶表示パネル１００における外光による反射型表示が視認されることになる。
一方、夜間や野外などの暗い場所では、バックライト１０９を点灯させることにより、バックライト１０９の照明光のうち開口部１１１ａを通過した光が、透過経路Ｔに沿って液晶表示パネル１００を通過して放出される。したがって、液晶表示パネル１００におけるバックライト１０９による透過型表示が視認されることになる。
【０００６】
また、特開平１１−２４２２２６号公報には、図２４に示すように、視認性に優れ、高解像度表示が可能であり、かつ、反射光と透過光を共に表示に利用することができる液晶表示装置を提供することを目的として、液晶層における表示に利用される少なくとも二種類の異なる配向状態をとらせるための配向機構を具備した液晶表示装置３００が開示されている。
より具体的には、液晶層１１における表示に利用される少なくとも二種類の異なる配向状態をとらせるための配向機構、例えば、反射表示部１９と、透過表示部２０とで異なる膜厚に形成された絶縁膜２１を具備し、かつ、異なる配向状態を示す領域のうち少なくとも一つの領域に反射手段１３が配置されている。さらに、その配向状態を示す領域としての液晶表示を、反射表示を行う反射表示部１９と、透過表示を行う透過表示部２０との両方において、同時に用いることを特徴とした液晶表示装置３００が開示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図２３に示すような従来の反射半透過型の液晶表示パネル１００において、反射型表示を明るくするためには、反射層の開口部の面積を小さくする必要があるが、そのために透過型表示の明るさが低下してしまうという新たな問題が見られた。
特に、反射型表示で視認される反射光は、液晶層を２度通過した光であるのに対して、透過型表示において透過光は液晶層を１度だけ通過するので、光透過状態において反射光と透過光の双方を共に有効に表示に利用し、明るく視認できるように光学的に構成することができなかった。例えば、通常は暗くなりやすい反射型表示において反射光を有効に液晶パネルから出射できるように光学的に構成されることが多いことから、透過型表示を実現する透過光の利用効率が低くなっていた。
すなわち、液晶パネルに入射する光量に対して、液晶パネルを透過して出射する光量の比が低いため、反射層の開口部の面積を低減しすぎると透過型表示が暗くなるという問題が見られた。
したがって、反射型表示と透過型表示とを共に明るく構成することはきわめて困難であり、反射層の開口部の面積を低減させて反射型表示を明るくすると、透過型表示の明るさを確保するためにバックライトの照明光量を大きくする必要が生じ、その結果、電気光学装置の小型化、薄型化、軽量化、あるいは、消費電力の低減といった、携帯型電子機器において重要な目標の達成を妨げるという問題が見られた。
【０００８】
また、従来の反射型表示では、一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタの光透過率を高く設定して、表示の明るさを確保しなければならないという問題が見られた。
しかしながら、カラーフィルタの光透過率を高く設定すると、今度は、カラーフィルタを１回だけ透過する光に基づく透過型表示において十分な彩度を得ることができなくなるという問題が見られた。
さらにまた、反射型表示と、透過型表示とは、それぞれ光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、反射型表示において認識される画像の色彩と、透過型表示において認識される画像の色彩とが大きく異なり、違和感を与えるという問題が見られた。
そこで、反射層の開口部に位置する着色層と、反射層の反射部に位置する着色層とにおいて、フォトリソグラフィ技術等を用いて、それぞれを構成する着色剤の種類を異ならせるという試みもなされている。しかしながら、多色の着色層を形成する場合、工程数が著しく増えるという製造上の問題が見られた。
【０００９】
また、図２４に示される反射半透過型の液晶表示装置３００は、配向機構として、基材１５と反射層１３との間に、厚さが異なる絶縁層２１を設ける必要があり、かかる絶縁層２１上に、反射層１３を均一な厚さの薄膜として形成することが困難になるという問題が見られた。
特に、反射層に光散乱機能を付与するために凹凸を設ける場合があるが、反射層の下地として、厚さが異なる絶縁層を設けた場合、反射層を均一な凹凸を有する薄膜として形成することは実質的に困難であった。
【００１０】
そこで、本発明は、上記問題点を解決するものであり、その課題は、使用する着色剤の種類を少なくしたままで、反射型表示および透過型表示の明るさおよび色再現性をより高い次元で両立させることのできる電気光学装置の構成部品や構造等を効率的に提供することにある。
すなわち、本発明は、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく、認識される色彩の差異を極めて少なくすることができる電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明に係わる電気光学装置用基板は、反射部と透過部を備えた画素を有し、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、前記反射層と、前記着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整する為の調整層を備えるとともに、当該調整層の端部をテーパー状とし、前記透過部と重なる領域に、凹部を設けることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係わる電気光学装置基板によれば、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、反射層と、着色層と、当該位置調整層の端部をテーパー状とし、反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が透過できるための薄肉部を設け、反射部と透過部のカラーフィルタの高さが異なることにより、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、位置調整層を所定位置に設けることによって、電気光学装置用基板の光透過部における着色層上に凹部が容易に形成される。そのため、反射半透過型の電気光学装置を形成した場合に、反射層の開口部における電気光学物質の厚さがその他の部分よりも厚くなる。したがって、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値（電気光学物質層透過時の光学的作用値）が、反射型表示を実現する反射光に近くなるため、透過型表示における透過光の利用効率を従来よりも高めることができる。よって、透過光の利用効率が高まることによって、透過型表示を得るための照明光量を低減することが可能になり、また、反射層の開口部の面積を低減して反射型表示をより明るくすることも可能になる。
【００１２】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記調整層の厚さをｔ１とし、前記着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、位置調整層の厚さをｔ１とし、着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、着色層の表面、ひいては着色層上に形成した保護層や配向膜上にも容易に凹部を形成することができる。したがって、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれにおける色再現性と、明るさのバランスを良好なものとすることができる。
【００１３】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記調整層の端部をテーパ状とすることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、位置調整層の端部をテーパ状とすることが好ましい。
このように構成することにより、位置調整層に対して、着色層をより密着して形成することができる。
【００１４】
本発明に係る電気光学装置は、前記調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、位置調整層における光吸収を抑制し、反射層に到達する光量および反射層から外部に取り出される光量の低下を有効に防止することができる。
【００１５】
本発明に係る電気光学装置は、前記着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の前記透過部と重なる領域に、凹部を設けることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を設けることが好ましい。
このように特定の保護膜を備えた構成とすることにより、光の透過を妨げることなく、電気光学装置用基板の機械的強度や耐熱性を高めることができる。
【００１６】
本発明に係る電気光学装置は、前記着色層または前記保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を設けることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、着色層または保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を設けることが好ましい。
このように構成することにより、電気光学物質が凹部内に容易に入り込むことができ、反射層の開口に重なる領域における電気光学物質の厚さをさらに容易に調整することができる。
【００１７】
本発明に係る電気光学装置は、前記第１の基板または前記第２の基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、前記透過部を設けることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、反射層の開口部を設けることが好ましい。
このように構成することにより、電気光学物質が凹部内に容易に入り込むことができ、反射層の開口に重なる領域における電気光学物質の厚さをさらに容易に調整することができる。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置は、前記反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、その上の反射膜とを含むことを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、反射膜とを含むことが好ましい。
このように構成することにより、外部から入射した光が、反射層において過度に反射することを有効に防止することができる。
【００１９】
また、前記透過部を実質的に覆う着色層と、前記反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、反射層の開口部を実質的に覆う着色層と、反射層の反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することが好ましい。
このように構成することにより、比較的種類の少ない着色剤を使用した場合であっても、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれにおける色再現性と、明るさのバランスを良好なものとすることができる。
【００２０】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記透過部を実質的に覆う着色層の下方に、当該着色層の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る電気光学装置用基板を構成するにあたり、反射層の開口部を実質的に覆う着色層の下方に、当該着色層の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることが好ましい。
このように構成することにより、反射層の開口部を実質的に覆う着色層の厚さ
を容易に調整することができる。したがって、厚さが適当な着色層を介して、反射層の開口部を光透過させた場合に、十分かつ均一に光吸収をして、色再現性に優れた着色光を外部に取り出すことができる。
【００２１】
また、本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法は、反射部と透過部を備えた画素を有し、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、前記基板上に、前記反射層を形成する工程と、当該反射層上に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための調整層であって、前記透過部と重なる領域に、凹部を有する調整層を形成する工程と、当該調整層上に着色層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
本発明の別の実施の形態に係る態様は、基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、基板上に、反射層を形成する工程と、当該反射層上に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層であって、反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を有する位置調整層を形成する工程と、当該位置調整層上に、着色層を形成する工程と、を含む電気光学装置用基板の製造方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、得られた電気光学装置用基板によれば、電気光学装置用基板の光透過部における着色層上に凹部が容易に形成される。そのため、反射半透過型の電気光学装置を形成した場合に、反射層の開口部における電気光学物質の厚さがその他の部分よりも厚くなる。
したがって、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値が、反射型表示を実現する反射光に作用する電気光学物質のリタデーション値に近くなるため、透過型表示における透過光の利用効率が高い電気光学装置用基板を効率的に得ることができる。
よって、このような電気光学装置用基板を製造することにより、透過光の利用効率が高まることによって、透過型表示を得るための照明光量を低減することが可能になり、また、反射層の開口部の面積を低減して反射型表示をより明るくすることも可能になる。
【００２３】
反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、反射部および開口部を有する反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、着色層と、を含み、前記反射部と重なる領域における前記第２の基板と前記着色層との間に、前記電気光学物質の厚さを調整するための調整層を備え、当該調整層は前記透過部と重なる領域には設けられていないことを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置は、反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、反射部および開口部を有する反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、着色層と、を含み、一つの電気光学装置用基板における反射層上に、電気光学的物質の厚さを調整するための厚さ調整層を備えるとともに、当該厚さ調整層の反射層の開口部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部が設けてある電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、得られた電気光学装置によれば、透過型表示を構成する透過光に作用する電気光学物質のリタデーション値が、反射型表示を実現する反射光に作用する電気光学物質のリタデーション値に近くなる。
したがって、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれ明るい上に色再現性に優れた画像表示が得られる電気光学装置、例えば、反射半透過型の液晶表示装置等を提供することができる。
【００２４】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記反射部と重なる領域における電気光学物質の厚さをｔａとし、前記透過部と重なる領域における電気光学物質の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することを特徴とする。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
本発明の実施の形態に係る電気光学装置を構成するにあたり、反射層の反射部と重なる領域における電気光学的物質の厚さをｔａとし、反射層の開口部と重なる領域における電気光学的物質の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することが好ましい。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００２５】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記電気光学物質の屈折率異方性をΔｎとしたとき、下記式を満足することを特徴とする。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
本発明の実施の形態に係る電気光学装置を構成するにあたり、電気光学的物質の屈折率異方性をΔｎとしたとき、下記式を満足することが好ましい。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００２６】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えたことを特徴とする電子機器である。
このように構成することにより、反射型表示であっても、透過型表示であっても、それぞれ明るい上に、色再現性に優れた画像表示が得られる電気光学装置を利用した電子機器を効率的に提供することができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および、電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００２８】
［第１実施形態］
図１および図２を参照して、本発明の第１実施形態の電気光学装置用基板およびそれを用いた電気光学装置について、カラーフィルタ基板およびそれを用いた液晶パネルを例に採って説明する。
ここで、図１は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図である。また、図２（ａ）は、液晶パネル２００において、反射層２１２と、着色層２１４との間に、基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えるとともに、当該位置調整層２１３において、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できるための薄肉部を有することを示す断面図である。さらに、図２（ｂ）は、着色層２１４が、反射層２１２の開口部２１２ａおよび反射部２１２ｒを実質的に覆うように配置されているカラーフィルタ基板２１０の部分拡大平面図である。
【００２９】
１．液晶パネルの基本構造
図１に示される電気光学装置を構成する液晶パネル２００は、いわゆる反射半透過方式のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることが好ましい。
また、当該液晶パネル２００は、用途に応じて、パッシブマトリクス型構造のかわりに、反射半透過方式のアクティブマトリクス型構造、例えば、ＴＦＤ（Thin Film Diode）やＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のアクティブ素子（能動素子）を用いた液晶パネルであっても良い。
【００３０】
（１）セル構造
図１に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１の基板２１１を基体とする電気光学装置用基板、すなわち、カラーフィルタ基板２１０と、これに対向して、実質的に同様の構成を有する第２の基板２２１を基体とする対向基板２２０とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられていることが好ましい。
そして、図２に示すように、カラーフィルタ基板２１０と、対向基板２２０とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
【００３１】
（２）配線
図１に示すように、第１の基板２１１の内面であって第２の基板２２１に対向する表面上に、並列した複数のストライプ状の透明電極２１６を形成し、第２の基板２２１の内面上には、当該透明電極２１６に直交する方向に並列した、複数のストライプ状の透明電極２２２を形成することが好ましい。また、透明電極２１６を、配線２１８Ａに対して接続するとともに、もう一方の透明電極２２２を、配線２２８に対して接続することが好ましい。
そして、透明電極２１６と透明電極２２２とは相互に直交するため、その交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域（Ａ）を構成することになる。
【００３２】
また、図１に示すように、第１の基板２１１は、第２の基板２２１の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、この基板張出部２１０Ｔ上には、配線２１８Ａと、配線２２８に対して、シール材２３０の一部で構成される上下導通部を介して接続された配線２１８Ｂと、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部２１９と、が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部２１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ、２１８Ｂおよび入力端子部２１９に対して接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子（ＩＣ）２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部２１０Ｔの端部には、入力端子部２１９に接続されるように、フレキシブル配線基板２６３が実装されていることが好ましい。
【００３３】
（３）位相差板および偏光板
図１に示される液晶パネル２００において、図２に示すように、第１の基板２１１の外面の所定位置に、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
そして、第２の基板２２１の外面においても、鮮明な画像表示が認識できるように、別の位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
【００３４】
２．カラーフィルタ基板
次いで、図１および図２、あるいは図３〜図１３を適宜参照しながら、本発明の電気光学装置用基板としての構造的特徴や動作を、カラーフィルタ基板２１０を例に採って詳細に説明する。
【００３５】
（１）位置調整層
▲１▼位置
本発明の電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板２１０は、図４〜図６に示すように、反射層２１２と、着色層２１４との間であって、基板表面からの着色層２１４の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えることを特徴とする。
この理由は、図１３に示すように、着色層２１４の高さ位置を調整するための部材としての位置調整層２１３を備えることにより、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置であって、かつ、着色層２１４（着色層２３３）の表面に、容易に凹部２３７を設けることができるためである。したがって、当該凹部２３７に影響されて、液晶材料２３２が入り込むために、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置の液晶材料２３２の厚さ（図１３中、記号ｂで表示した厚さ）を、反射層２１２の反射部２１２ｒに対応した位置の液晶材料２３２の厚さ（図１３中、記号ａで表示した厚さ）よりも厚くすることができる。すなわち、透過型表示における液晶材料２３２のリタデーション値（液晶層透過時の光学的作用値）が、反射型表示における液晶材料２３２のリタデーション値（液晶層往復時の合計の光学的作用値）に近くなるため、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
よって、着色層２１４の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えることにより、透過光の利用効率が高まり、透過型表示を得るための照明光量を低減することが可能になる。また、反射層２１２の開口部２１２ａの面積を低減した場合であっても反射型表示をより明るくすることが可能になる。
【００３６】
▲２▼動作モデル
ここで、図３を参照して、位置調整層によって、液晶材料（液晶層）の厚さを変えた場合の効果をモデル的に説明する。上述したように、開口部Ｒａを備えた反射層Ｒの上に着色層Ｃを形成し、その上に透光層Ｔを形成し、この透光層Ｔに、反射層Ｒの開口部Ｒａ上に重なるように、開口部を設けることにより、開口部Ｒａと平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）を、それ以外の領域の液晶層の厚さ（記号ａ）の２倍にしたとする。また、説明の都合上、ホモジニアス方式の液晶セルが構成されているとする。そして、この液晶セルのリタデーションがΔｎ・ａ＝λ／４、Δｎ・ｂ＝λ／２（Δｎは液晶の光学異方性、λは光の波長）であるとする。
【００３７】
そして、液晶セルが光透過状態にある場合、透過型表示では、図３中に記号（Ａ）で示すように、バックライト等からの照明光が偏光板Ｐ２を通過して直線偏光となる。次いで、位相差板（１／４波長板）Ｄ２を通過することにより、例えば右回りの円偏光となった後に、セル厚Ｄ２の液晶層を通過することから位相差がさらに１／２波長進んで左回りの円偏光となる。次いで、さらに位相差板Ｄ１を通過して、元の直線偏光になり、偏光板Ｐ１を通過する。
一方、液晶セルが光透過状態にあるとき、反射型表示では、図３中に記号（Ｂ）で示すように、外光が偏光板Ｐ１を通過することにより直線偏光となる。次いで、位相差板（１／４波長板）Ｄ１を通過することにより、例えば右回りの円偏光になった後、セル厚Ｄ１の液晶層を往復２度通過することから、位相差がさらに１／２波長進んで左回りの円偏光となる。次いで、再び位相差板Ｄ１を通過することにより、元の直線偏光に戻って偏光板Ｐ１を通過する。
【００３８】
このような透過型表示においては、仮に通過する液晶層の厚さが、図３中に示す液晶層の厚さ（記号ｂ）の半分であるとすると、そのリタデーションはλ／４となる。そのため、図３中に記号（Ｃ）で示すように、照明光が偏光板Ｐ２、位相差板Ｄ２を経て液晶層を通過した後の偏光状態は、当初とは直交する方向の直線偏光となる。次いで、位相差板Ｄ１を通過して左回りの円偏光となり、さらに偏光板Ｐ１を通過する。このとき、偏光板Ｐ１を通過できる偏光成分は、液晶層の厚さがｂのときに通過できる光量のほぼ半分となる。
したがって、本実施形態のような反射半透過型の液晶表示パネルの場合には、反射層の開口部と平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）がそれ以外の領域の液晶層の厚さ（記号ａ）より厚くなると、光透過状態における光透過率が高くなり、特に、開口部と平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）が、それ以外の領域の液晶層の厚さ（記号ａ）のほぼ２倍になると、光透過量もまたほぼ２倍になる。
【００３９】
なお、液晶セルがホモジニアス方式ではなく、液晶層にツイストが存在すると透過率が向上しない場合もあるが、例えば４０度ツイストの液晶では、開口部と平面的に重なる領域の液晶厚をそれ以外の２倍にすれば４０％程度の透過率の向上が得られる。一般的に、反射層の開口部と重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）は、反射面上の液晶層の厚さ（記号ａ）よりも大きく、２ａ以下であることが好ましい。
この理由は、このように構成することによって、透過型表示に対する透過光の利用効率がさらに向上し、透過型表示を明るくすることができるためである。したがって、例えば、バックライトの照明光量を低減することができるため、バックライトの小型化、薄型化、軽量化や消費電力の低減を図ることが可能になる。また、反射層の開口部の面積を従来よりも低減することができるので、反射型表示の明るさを向上させることも可能になる。
【００４０】
また、第１実施形態においては、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域において薄肉部２１５ｃが存在する場合があるが、基本的に表面保護層２１５は透明であるため、光学的には第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
さらに、第１実施形態においては、着色層２１４が開口部２１２ａと重なる領域においても表面保護層２１５によって覆われているため、着色層２１４をより確実に保護することが可能になる。
【００４１】
▲３▼形態
また、第１実施形態においては、位置調整層２１３における反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、図４（ａ）に示すように開口部を設けたり、図４（ｂ）に示すように実質的に光が通過できるための薄肉部を設けたりすることを特徴とする。
この理由は、このように構成することにより、位置調整層２１３に起因した反射層２１２の開口部２１２ａを透過する光の吸収を有効に防止することができるためである。
【００４２】
また、図４（ａ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層２１３の端部を垂直面とすることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、反射層２１２の開口部２１２ａに該当する光透過部と、反射層２１２の反射部２１２ｒに該当する光反射部とが明確に区別されるため、透過型表示および反射型表示において得られる着色のバランスを良好なものとすることができる。
【００４３】
また、図５（ａ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の端部に階段部を設けることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層に形成される凹部の断面を、階段状に制御することができるとともに、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大して、密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４４】
また、図５（ｂ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の端部に緩やかな円錐状の斜面を設けることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層に形成される凹部の断面を、同様に円錐状に制御することができるとともに、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大して、密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４５】
また、図５（ｃ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の薄肉部にこぶ状の突起物を設けることが好ましい。
この理由は、位置調整層の薄肉部をこのような形状とすることにより、着色層を構成する着色剤を容易に流動させて、凹部の形状を再現良く、かつ迅速に制御することができるためである。また、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大するため、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４６】
また、図６（ａ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層における薄肉部にピラミッド状の突起物を設けることも好ましい。
この理由は、このように構成することにより、反射層の開口部を透過する光の指向性が高まり、鮮明な画像が認識できるためである。また、着色層と位置調整層との間の接触面積が増大するため、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４７】
また、図６（ｂ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層２１３の端部に斜面を設けてテーパ状とすることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層を形成する際に、空気等を巻き込むことが少なくなり、位置調整層上に精度良く形成することができるとともに、容易になじんで、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４８】
また、図６（ｃ）に示すように、位置調整層２１３の形状に関して、位置調整層の端部に基板に向かって拡大する方向の斜面を設けて逆テーパ状とすることが好ましい。
この理由は、位置調整層の端部をこのような形状とすることにより、着色層に形成される凹部の断面を、結果として垂直面あるいは垂直面に近い形状とすることができるためである。また、着色層の一部が位置調整層の下方に進入しているため、着色層と、位置調整層との間の接触面積が増大するとともに、アンカー効果によって、着色層と位置調整層との間の密着力を強固なものとすることができるためである。
【００４９】
▲４▼厚さ
また、位置調整層の厚さをｔ１とし、着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるｔ１／ｔ２で表される比率が０．１未満の値になると、反射層の開口部に対応した位置の液晶材料の厚さを、反射層の反射部に対応した位置の液晶材料よりも厚くすることが困難になる場合があるためである。
一方、かかるｔ１／ｔ２で表される比率が１０を超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなったり、着色層自体の形成、あるいは着色層上に透明電極や配向膜を均一な厚さに形成したりすることが困難になる場合があるためである。
したがって、着色層等の形成がより容易となるばかりか、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスがより良好となることから、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．８〜５の範囲内の値とすることがより好ましく、ｔ１／ｔ２で表される比率を１〜３の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５０】
また、位置調整層の厚さを具体的に、０．１〜１００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる位置調整層の厚さが０．１μｍ未満の値になると、反射層の開口部に対応した位置の液晶材料の厚さを、反射層の反射部に対応した位置の液晶材料よりも厚くすることが困難になる場合があるためである。
一方、かかる位置調整層の厚さが１００μｍを超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなったり、着色層自体の形成、あるいは着色層上に透明電極や配向膜を均一な厚さに形成したりすることが困難になる場合があるためである。
したがって、反射型表示および透過型表示のそれぞれにおける色再現性のバランスがより良好となることから、厚さ調整層の厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２〜３０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５１】
また、位置調整層の厚さに関して、反射層の反射部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔａとし、反射層の開口部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することが好ましい。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００５２】
さらに、位置調整層の厚さに関して、液晶材料の屈折率異方性を考慮して定めることが好ましい。すなわち、反射層の反射部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔａとし、反射層の開口部と重なる領域における液晶材料の厚さをｔｂとし、液晶材料の屈折率異方性をΔｎとしたときに、下記式を満足することが好ましい。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
このように構成することにより、透過型表示における光の利用効率をさらに向上させることができる。
【００５３】
▲５▼光透過率
また、位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることが好ましい。この理由は、かかる可視光透過率が９０％未満の値になると、位置調整層における光吸収量が多くなって、明るい画像が認識できない場合があるためである。したがって、位置調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることにより、位置調整層における光吸収を効果的に抑制し、反射層に到達する光量および反射層から外部に取り出される光量の低下を有効に防止することができる。
ただし、かかる可視光透過率の値が過度に大きいと、使用可能な材料や添加剤の種類が過度に制限される場合がある。
したがって、位置調整層の可視光透過率を９２〜９９．９％の範囲内の値とすることがより好ましく、９５〜９９．５％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５４】
（２）反射層
図１および図２に示すように、第１の基板２１１の表面には、反射層２１２が形成されている。この反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、反射基部とから構成することが好ましい。また、反射層２１２には、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとが設けられていることが好ましい。
そして、反射層２１２の上には、画素毎に着色層２１４が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる表面保護層（オーバーコート層）３１５が被覆していることが好ましい。この着色層２１４と表面保護層２１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
【００５５】
また、図１１に、反射層２１２の構成の好適例を示す。この反射層の例では、基材７４の表面に独立して形成された複数の凸部を有する第１の反射基部（例えば、厚さ１．６μｍ）７６と、その上に形成された比較的なだらかな表面状態を有する連続層からなる第２の反射基部（例えば、厚さ１．３μｍ）７９と、さらにその上に形成された金属薄膜からなる反射膜（例えば、厚さ０．２μｍ）７２と、を含んでいる。
【００５６】
（３）着色層
▲１▼構成
また、図１および図２に示す着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を除去することによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
【００５７】
▲２▼遮光膜
また、図２に示すように、画素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域に、黒色遮光膜（ブラックマトリクス或いはブラックマスク）２１４ＢＭが形成してあることが好ましい。
この黒色遮光膜２１４ＢＭとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【００５８】
▲３▼配列パターン
また、着色層の配列パターンとして、図２（ｂ）に示す図示例ではストライプ配列を採用しているが、このストライプ配列の他に、図１２（ｂ）に示すような斜めモザイク配列や、図１２（ｃ）に示すようなデルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００５９】
▲４▼分光透過率
また、反射層の開口部および反射部にそれぞれ位置する着色層（赤色着色層、青色着色層、緑色着色層）の分光透過率を所定範囲の値に制限することが好ましい。
例えば、図７に示すように、反射層の開口部に位置する赤色着色層の波長６００〜７８０ｎｍの最大透過率を８０％以上の値とし、同様に緑色着色層の波長５００〜６００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とし、さらに、同様に青色着色層の波長４００〜５００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とするとともに、波長４００〜７８０ｎｍにおける白色光の平均透過率を３０〜５０％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、所定範囲の波長における赤色着色層、青色着色層、および緑色着色層の各最大透過率をこのような範囲内の値とするとともに、白色光の平均透過率をこのような範囲内の値とすることにより、一定の色再現性が得られるとともに、彩度に優れた着色した透過光が得られるためである。
【００６０】
また、図８に示すように、反射層の反射部に位置する赤色着色層の波長６００〜７８０ｎｍの最大透過率を８０％以上の値とし、緑色着色層の波長５００〜６００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とし、さらに、青色着色層の波長４００〜５００ｎｍ未満の最大透過率を８０％以上の値とするとともに、波長４００〜７８０ｎｍにおける白色光の平均透過率を５８〜７０％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、所定範囲の波長における赤色着色層、青色着色層、および緑色着色層の各最大透過率をこのような範囲内の値とするとともに、白色光の平均透過率をこのような範囲内の値とすることにより、一定の色再現性が得られるとともに、比較的明るい着色した反射光が得られるためである。
【００６１】
▲５▼色域面積
また、反射層の開口部および反射部にそれぞれ位置する着色層（赤色着色層、青色着色層、緑色着色層）の色域面積を所定範囲の値に制限することが好ましい。すなわち、ＣＩＥ色度座標上において、赤、青、緑の各表示のｘ座標およびｙ座標の３点を結んでできる三角形の面積を所定範囲の値に制限することが好ましい。
例えば、図９に示すように、反射層の開口部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を０．６×１０-2〜２．０×１０-2の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる色域面積が０．６×１０-2未満の値になると、着色光における彩度が低下する場合があるためであり、一方、かかる色域面積が２．０×１０-2を超えると、着色層を透過して得られる着色光の明るさが、著しく低下する場合があるためである。
したがって、反射層の開口部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を１×１０-2〜１．８×１０-2の範囲内の値とすることがより好ましく、１．２×１０-2〜１．６×１０-2の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６２】
また、図１０に示すように、反射層の反射部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を０．４×１０-2〜１．８×１０-2の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる色域面積が０．４×１０-2未満の値になると、着色光の彩度が過度に低下する場合があるためであり、一方、かかる色域面積が１．８×１０-2を超えると、着色した反射光の明るさが著しく低下する場合があるためである。
したがって、反射層の開口部に位置する着色層のＣＩＥ色度座標における色域面積を０．６×１０-2〜１．７×１０-2の範囲内の値とすることがより好ましく、０．８×１０-2〜１．５×１０-2の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６３】
（４）厚さ調整層
▲１▼位置
図１４（ａ）に示すように、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４の厚さを調整するための厚さ調整層２３５を設けることが好ましい。
この理由は、かかる着色層２１４の下方に、このように厚さ調整層２３５を備えることにより、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４の厚さの調整が容易となるためである。したがって、透過型表示の場合に、適当な光量が得られるとともに、色再現性に優れた着色光を得ることができる。
また、図１４（ｂ）に示すように、基材２１１の一部に凹部２３６を設けるとともに、その一部または全部において、厚さ調整層２３５を設けることも好ましい。このように構成すると、反射膜２１２や着色層２１４を形成する前であっても厚さ調整層２３５を設けることが可能となる。
【００６４】
▲２▼厚さ
また、図１４（ａ）に示すように、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４（２３３）の厚さを調整するための厚さ調整層２３５の厚さをｔ３とし、反射層２１２の開口部２１２ａに位置する着色層２１４の厚さをｔ４としたときに、ｔ３／ｔ４で表される比率を０．０１〜１０の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるｔ３／ｔ４で表される比率が０．０１未満の値になると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に多くなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
一方、かかるｔ３／ｔ４で表される比率が１０を超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
したがって、反射型表示および透過型表示における、それぞれの色再現性のバランスがより良好となることから、ｔ３／ｔ４で表される比率を０．０５〜５の範囲内の値とすることがより好ましく、ｔ３／ｔ４で表される比率を０．１〜２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６５】
また、厚さ調整層の厚さを具体的に、０．１〜１００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる厚さ調整層の厚さが０．１μｍ未満の値になると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に多くなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
一方、かかる厚さ調整層の厚さが１００μｍを超えると、透過型表示において外部に取り出せる光量が過度に少なくなり、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスが低下する場合があるためである。
したがって、反射型表示および透過型表示における色再現性のバランスがより良好となることから、厚さ調整層の厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２〜３０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６６】
（５）表面保護層
図１３に示すように、着色層２１４上に、表面保護層２１５が設けてあることが好ましい。このように表面保護層２１５を設けることにより、着色層２１４自体、ひいては着色層２１４を含むカラーフィルタ基板２１０の耐久性や耐熱性等を著しく向上させることができる。
また、着色層２１４の位置調整層２３０に対応し、反射層２１２の開口部２１２ａと平面的に重なる領域であって、着色層２１４（２３３）上に、凹部２３７が形成してあることが好ましい。このように凹部２３７を形成して、そこを表面保護層２１５で覆うことにより、着色層２１４（２３３）の所定形状を強固に保持することができるためである。
また、表面保護層２１５にも、その表面に凹部２１５ａが形成されていることが好ましい。この理由は、かかる凹部２１５ａに起因して、図１３に示すように、液晶材料２３２の厚さを厚くすることができるためである。
なお、表面保護層２１５の凹部２１５ａにおけるエッジ部２１５ｂを、薄肉部２１５ｃとすることが好ましい。この理由は、かかる凹部２１５ａのエッジ部２１５ｂが厚肉であると、表面保護層２１５の表面に凹部２１５ａを形成することが困難になる場合があるためである。
また、表面保護層２１５の凹部２１５ａにおけるエッジ部２１５ｂを、着色層２１４と比較して、なだらかな斜面とすることが好ましい。この理由は、かかる凹部２１５ａのエッジ部２１５ｂが垂直面であると、液晶材料２３２の配向不良が生じ易くなる場合があるためである。
【００６７】
（６）透明電極および配向膜
図１３に示すように、表面保護層２１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２１６を形成することが好ましい。かかる透明電極２１６は、図２（ｂ）において、上下方向に伸びる帯状に形成されているが、複数の透明電極２１６が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、図１３に示すように、透明電極２１６の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板２１０を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の電圧駆動を容易に実施することができるためである。
【００６８】
（７）対向基板
また、図２および図１３に示すカラーフィルタ基板２１０と対向する対向基板２２０は、ガラス等からなる第２の基板２２１上に、第１の基板と同様の透明電極２２２、ＳｉＯ2やＴｉＯ2などからなる硬質保護膜２２３や配向膜２２４を順次積層させたものであることが好ましい。
なお、このカラーフィルタ基板２１０の例では、着色層２１４が第１の基板２１０に設けてあるが、かかる着色層２１４を、対向基板２２０における第２の基板２２１上に設けることも好ましい。
【００６９】
（８）液晶層
図２（ａ）および図１３に示すように、上記のように構成されたカラーフィルタ基板２１０と対向基板２２０との間に液晶材料２３２が充填されていることが好ましい。このとき、カラーフィルタ基板２１０における着色層２１４（２３３）の表面上には、画素毎に凹部２３７が形成されているので、液晶材料２３２は、この凹部２３７に起因して、表面保護層２１５の開口部２１５ａの内側に入り込んだ状態になるように構成されていることが好ましい。このため、液晶材料２３２の厚さは、表面保護層２１５の開口部２１５ａが形成された領域、すなわち、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域において、それ以外の領域、すなわち反射部２１２ｒが形成された領域に比べて厚く構成されることとなる。
【００７０】
（９）動作
以上、図１３に示すように構成された本実施形態において、対向基板２２０側から入射した外光は、液晶材料２３２を透過してカラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を透過した後に、反射部２１２ｒにて反射し、再び、着色層２１４、液晶材料２３２、および対向基板２２０をそれぞれ透過して外部に出射する。すなわち、反射光はカラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を２回通過することになる。
一方、着色層２１４は、反射層２１２の開口部２１２ａを全面的に覆っているので、例えばカラーフィルタ基板２１０の背後にバックライト等を配置して、背後から照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が反射層２１２の開口部２１２ａを通過して着色層２１４を透過し、液晶材料２３２および対向基板２２０を通過して出射する。このとき、透過光は、カラーフィルタ基板２１０の着色層２１４を１回だけ透過することになる。
【００７１】
このような状況において、位置調整層２１３に対応し、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域において、第１の基板２１１上に形成された着色層２１４（２３３）および表面保護層２１５がそれぞれ下方に沈み込み、カラーフィルタ基板２１０の表面に、凹部２１５ａが設けられている。そして、この表面の凹部２１５ａ内に液晶材料２３２が入り込むことにより、液晶層の厚さが厚くなるように構成されている。
したがって、本実施形態によれば、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーション（Δｎ・ｄ、ここでΔｎは屈折率異方性、ｄは厚さ）が増大し、透過型表示と同様のリタデーションに近づいて、透過型表示における透過光についても利用効率を高めることができる。
【００７２】
［第２実施形態］
次いで、図１５を参照して本発明に係る第２実施形態について説明する。なお、第２実施形態は、対向基板４２０に凹部４２５ａを設けた点に特徴があるため、その他の構成の説明については適宜省略する場合がある。
【００７３】
１．構成
第２実施形態における対向基板４２０において、第２の基板４２１の内面（第１の基板２１１に対向する表面）上に、凹部４２５ａが形成されている。また、第２の基板４２１においては、凹部４２５ａも含めた表面上に透明電極４２２、硬質保護層４２３、および配向膜４２４がそれぞれ形成されている。そして、第２の基板４２１上において、第１の基板２１１上に形成されている反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置であって、平面的に重なる領域に開口部４２５ａが設けられている。
【００７４】
また、図１５に示すように、カラーフィルタ基板２１０における着色層２１４上に、表面保護層２１５が形成されている。また、表面保護層２１５上には、第１実施形態と同様の構成の透明電極２１６および配向膜２１７が、それぞれ形成されている。
一方、カラーフィルタ基板２１０は、図１５に示すように、反射層２１２と、着色層２１４との間であって、基板２１１の表面からの着色層２１４の高さ位置を調整するための位置調整層２１３を備えることを特徴とする。
【００７５】
２．動作
着色層２１４上には、透明電極２１６および配向膜２１７が積層されているが、
着色層２１４（２３３）の表面に形成された凹部２３７に影響されて、透明電極２１６および配向膜２１７の表面にも凹部２１０ａが形成される。すなわち、表面に形成された凹部２１０ａに液晶材料４３２が入り込むため、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置の液晶材料４３２の厚さを、反射層２１２の反射部２１２ｒに対応した位置の液晶材料の厚さよりも厚くすることができる。
【００７６】
また、対向基板４２０の内面においても凹部４２５ａを反映した凹部４２０ａが形成される。そして、この表面の凹部４２０ａに液晶材料４３２が入り込むように構成されている。
したがって、カラーフィルタ基板２１０と、対向基板４２０の双方の内面に、それぞれ凹部２１０ａ、４２０ａが設けられているので、反射層２１２の開口部２１２ａと平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）を、反射層２１２の反射部２１２ｒにおける液晶層の厚さ（記号ａ）よりも容易に大きく構成することが可能である。
すなわち、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００７７】
［第３実施形態］
次いで、図１６を参照して本発明に係る第３実施形態について説明する。この実施形態において、カラーフィルタ基板２１０の構造の一部のみが第１実施形態と異なるので、同様の部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する場合がある。
【００７８】
１．構成
この実施形態では、第１の基板２１１の透過部に対応する位置に凹部２３４が形成されていることを特徴とする。
そして、第１の基板２１１の表面上に設けられた凹部２３４以外の箇所に、反射部２１２ｒを有する反射層２１４および位置調整層２１３が順次に形成されている。この反射層２１４および位置調整層２１３は、第１の基板２１１に設けられた凹部２３４に対応して、それぞれ開口部を備えている。
また、第１の基板２１１の凹部２３４および位置調整層２１３にわたって、着色層２１４（２３３）が設けられている。この着色層２１４の一部は、第１の基板２１１の表面上に設けられた凹部２３４内に侵入しており、それに影響されて着色層２１４（２３３）の表面にも凹部２３７が形成されている。
【００７９】
２．動作
カラーフィルタ基板２１０の着色層２１４上には、表面保護層２１５、透明電極２１６および配向膜２１７が積層されているが、着色層２１４（着色層２３３）の表面に形成された凹部２３７に影響されて、表面保護層２１５、透明電極２１６および配向膜２１７の表面にも凹部２１８がそれぞれ形成されている。すなわち、表面に形成された凹部２１８に液晶材料２３２が入り込むため、反射層２１２の開口部２１２ａに対応した位置の液晶材料２３２の厚さを、反射層２１２の反射部２１２ｒに対応した位置の液晶材料２３２よりも厚くすることができる。
したがって、カラーフィルタ基板２１０における着色層２１４（着色層２３３）の表面に凹部２３７が設けられているので、反射層２１２の開口部２１２ａと平面的に重なる領域の液晶層の厚さ（記号ｂ）を、反射面２１２の反射部２１２ｒにおける液晶層の厚さ（記号ａ）よりも容易に大きく構成することが可能である。
すなわち、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００８０】
［第４実施形態］
次いで、図１７を参照して本発明に係る第４実施形態について説明する。この実施形態においては、着色層７３５が、第１の基板７１１のかわりに、第２の基板７２１に設けられている点で第１実施形態と異なっており、他の構成部分についての説明は、適宜省略する場合がある。
【００８１】
１．構成
この実施形態においては、第１の基板７１１上に、反射層７１２が形成され、この反射層７１２には、反射面を備えた反射部７１２ｒと、開口部７１２ａとが設けられている。反射層７１２上には、ＳｉＯ2，ＴｉＯ2などの絶縁膜７２４が形成され、この絶縁膜７２４上には透明電極７２２が形成されている。また、透明電極７２２上には、配向膜７２３が形成されている。
なお、反射層７１２が画素毎に分離して形成されている場合には、反射層７１２上に絶縁膜７２４を介することなく、透明電極７２２を直接形成しても良い。
【００８２】
一方、第２の基板７２１の下方には、着色層７３５が形成され、画素間領域には黒色遮光層７１４ＢＭが形成されている。また、着色層７３５の下方には、表面保護層７１５が形成されており、第１の基板７１１上の反射層７１２の開口部７１２ａと平面的に重なるように、表面保護層７１５の表面に、凹部７１８が下方に向かって形成されている。また、表面保護層７１５の下方には、透明電極７１６が形成され、その下方にはさらに配向膜７１７が形成されている。
【００８３】
２．動作
本実施形態では、反射層７１２の形成された第１の基板７１１とは反対側の第２の基板７２１上に、位置調整層７３０、カラーフィルタの着色層７３５、および表面保護層７１５がそれぞれ形成されており、それらに影響されて、表面保護層７１５の表面に、凹部７１８が構成されている。
したがって、反射層７１２の開口部７１２ａと重なる領域における液晶層７３２の厚さ（記号ｂ）が、他の部分の厚さ（記号ａ）よりも厚くなるように構成されている。
すなわち、第４実施形態においても、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００８４】
［第５実施形態］
次いで、図１８（ａ）〜図１８（ｄ）および図１９を参照して、本発明に係る電気光学装置あるいは電気光学装置用基板の製造方法の実施形態について詳細に説明する。
なお、本実施形態において製造する電気光学装置は、図１に示す上記第１実施形態の液晶パネル２００を備えたものである。
【００８５】
１．構成
まず、図１９を参照して、図１に示す液晶パネル２００の概略構造について説明する。図１９は、図１に示す液晶パネル２００における半導体素子（ＩＣ）およびフレキシブル配線基板の実装前の状態を模式的に図示するものであり、各寸法は、図示の都合上、適宜調整し、構成要素も適宜省略してある。
また、液晶パネル２００は、第１の基板２１１上に、反射層２１２、着色層２１４、表面保護層２１５からなる積層構造体、および透明電極２１６がそれぞれ形成されたカラーフィルタ基板２１０と、これに対向する対向基板２２０とがシール材２３０にて貼り合わされ、内部に液晶材料２３２が配置されたものである。この透明電極２１６は、配線（図示せず。）に接続され、この配線がシール材２３０と第１の基板２１１との間を通過して、基板張出部２１０Ｔの表面上に引き出されている。また、基板張出部２１０Ｔ上には、入力端子部が形成されている。
【００８６】
２．製造工程
図１８（ａ）〜図１８（ｄ）は、図１９に示す液晶パネルを構成するカラーフィルタ基板２１０を形成するための製造工程を示すものである。
【００８７】
（１）着色層の形成
図１８（ａ）に示すように、第１の基板２１１上には、図１に示す液晶表示領域Ａに相当する領域に、反射層２１２、黒色遮光層２１４ＢＭ、および位置調整層２１３を順次形成する。
【００８８】
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。
また、例えば、図１１に示すような表面になだらかな凹凸を有する反射層７０を形成する場合、以下の工程▲１▼〜▲３▼を含むことが好ましい。
▲１▼透過部または光不透過部を独立した円および多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、平面方向にランダムに配列した光反射膜用マスクパターンを介して、光硬化プロセスによって、基材７４上に、基板表面からの高さが実質的に等しく、平面方向にランダムに配列され、かつ、独立した複数の凸部を有する第１の基材７６を形成する工程
▲２▼第１の基材７６の表面に光硬化性樹脂を塗布して、光硬化プロセスによって、連続した複数の凸部を有する第２の基材７９を形成する工程
▲３▼第２の基材７９の表面に、アルミニウム等の金属からなる反射層７２を蒸着法により形成する工程
また、黒色遮光層２１４ＢＭは、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成する。
さらに、位置調整層２１３は、透明樹脂等からなる感光性樹脂を部分的または全面的に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって、所定場所に形成することが好ましい。
また、着色層２１４についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、位置調整層２１３等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成することができる。
なお、複数の色の着色層２１４を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【００８９】
（２）表面保護層の形成
次いで、第１の基板２１１上に全面的に透光樹脂を塗布する。この透光樹脂は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、透光樹脂に対して、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、図１８（ｂ）に示すように、表面保護層２１５を形成する。
なお、位置調整層２１３および着色層２１４の表面の一部に形成された凹部に影響されて、表面保護層２１５の上にも凹部が形成されることになる。
【００９０】
（３）透明電極および配向膜の形成
次いで、図１８（ｃ）に示すように、基板上に全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２１６および配向膜２１７を形成する。
例えば、透明電極２１６はスパッタリング法により成膜できる。すなわち、透明導電層を全面的に形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極２１６を形成することができる。
また、配向膜２１７については、例えば、スピンコート法を用いて形成することができる。
【００９１】
（４）対向基板の形成
次いで、図１８（ｄ）に示すように、第２の基板２２１上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明導電層を、スパッタリング法等を用いて全面的に形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極２２２を形成することが好ましい。
【００９２】
次いで、透明電極２２２上に、ＳｉＯ2やＴｉＯ2などからなる硬質保護膜２２３や配向膜２２４を順次積層し、対向基板２２０とすることが好ましい。
そして、カラーフィルタ基板２１０と、これに対向する対向基板２２０とをシール材（図示せず）にて貼り合わせるとともに、内部に液晶材料２３２を配置することにより、液晶パネルを構成することができる。
このとき、反射層２１２の開口部２１２ａと重なる領域における液晶層２３２の厚さが他の部分よりも厚くなるので、透過型表示を構成する透過光に作用する液晶層のリタデーションが増大し、透過型表示における透過光の利用効率を高めることができる。
【００９３】
［第６実施形態］
本発明に係る第６実施形態としての電気光学装置を、電子機器における表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
【００９４】
（１）電子機器の概要
図２０は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル１８０と、これを制御するための制御手段１９０とを有している。また、図２０中では、液晶パネル１８０を、パネル構造体１８０Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路１８０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１９０は、表示情報出力源１９１と、表示処理回路１９２と、電源回路１９３と、タイミングジェネレータ１９４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１９１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１９２に供給するように構成されていることが好ましい。
【００９５】
また、表示情報処理回路１９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１８０Ｂへ供給することが好ましい。そして、駆動回路１８０Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
【００９６】
（２）モバイル型コンピュータ
また、本発明に係る電気光学装置（液晶表示装置）を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆる携帯型パーソナルコンピュータ）の表示部に適用した電子機器例について説明する。
図２１は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図２１に示すように、パーソナルコンピュータ１６０は、キーボード１６２を備えた本体部１６３と、本発明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１６４とを備えている。表示部１６４は、窓部１６４ｂに対応してプラスチックの保護板１６５が配設された筐体１６６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成となっている。より詳細には、液晶表示装置は、その観察側の基板面が保護板１４５と近接するように、筐体１６６に収容されている。なお、かかるパーソナルコンピュータ１６０においては、外光が十分に存在しない状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第６実施形態に示したように、背面側にバックライトユニットを備えた半透過反射型液晶表示装置を用いることが望ましい。
【００９７】
（３）携帯電話機
次いで、本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。
図２２は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。図２２に示すように、携帯電話機１７０は、複数の操作ボタン１７１のほか、受話口１７２、送話口１７３とともに、本発明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１７４を備えている。この携帯電話機１７０においては、窓部１７４ｂに対応してプラスチックの保護板１７５が配設された筐体１７６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成となっている。なお、携帯電話機１７０においても、上記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、その観察側の基板面が保護板１７５に近接するように、筐体１７６に収容されている。
【００９８】
（４）他の電子機器
本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、図２０に示したパーソナルコンピュータや、図２１に示した携帯電話機のほかにも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などが挙げられる。
【００９９】
さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
また、液晶表示装置だけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトミッティングダイオード）表示装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【０１００】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置用基板によれば、複数の着色層が、それぞれ反射層の開口部と重なる領域に、厚さが異なる厚肉部を備えていることにより、光透過させた場合に、十分かつ均一に光吸収をして、色再現性に優れた着色光を外部に取り出すことができるようになった。したがって、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができるようになった。
さらに、本発明の電気光学装置用基板によれば、着色層の面積を、反射層全体の面積よりも小さくすることができるため、着色層を形成する際のマージンを大きくすることができるようになった。よって、製造時における着色層のマージンを厳格に制御する必要が少なくなった。
【０１０１】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法によれば、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができる電気光学装置用基板を効率的に製造することができるようになった。
【０１０２】
また、本発明の電気光学装置によれば、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができるようになった。
【０１０３】
さらに、本発明の電子機器によれば、反射型表示および透過型表示の場合のいずれであっても、同程度に明るく認識されるとともに、色彩の差異を極めて少なくすることができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図２】第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図（ａ）およびカラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図（ｂ）である。
【図３】液晶分子の動作を説明するために供する図である。
【図４】位置調整層を説明するために供する図である（その１）。
【図５】位置調整層を説明するために供する図である（その２）。
【図６】位置調整層を説明するために供する図である（その３）。
【図７】反射層の開口部に位置する着色層における分光透過率曲線を示す図である。
【図８】反射層の反射部に位置する着色層における分光透過率曲線を示す図である。
【図９】反射層の開口部に位置する着色層におけるＣＩＥ色度座標を示す図である。
【図１０】反射層の反射部に位置する着色層におけるＣＩＥ色度座標を示す図である。
【図１１】反射層を説明するために供する図である。
【図１２】着色層におけるパターン配列を説明するために供する図である。
【図１３】第１実施形態の液晶パネルにおける画素内の構造を拡大して示す断面図である。
【図１４】第１実施形態の液晶パネルにおける変形例を説明するために供する図である。
【図１５】本発明に係る第２実施形態の液晶パネルの画素内の構造を模式的に示す断面図である。
【図１６】本発明に係る第３実施形態の液晶パネルの画素内の構造を模式的に示す断面図である。
【図１７】本発明に係る第４実施形態の液晶パネルの画素内の構造を模式的に示す断面図である。
【図１８】本発明に係る第５実施形態の電気光学装置の製造方法に関する工程図（ａ）〜（ｄ）である。
【図１９】本発明に係る第５実施形態である電気光学装置を示す断面図である。
【図２０】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図２１】本発明に係る電子機器の実施形態の一例として携帯型パーソナルコンピュータの外観を示す斜視図である。
【図２２】本発明に係る電子機器の実施形態の一例として携帯電話の外観を示す斜視図である。
【図２３】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である（その１）。
【図２４】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である（その２）。
【符号の説明】
２００ 液晶パネル
２１０ カラーフィルタ基板
２１１ 第１の基板
２１２ 反射層
２１２ａ 開口部
２１２ｒ 反射部
２１３ 位置調整層
２１４ 着色層
２１５ 表面保護層
２１５ａ 開口部
２１６ 透明電極
２２０ 対向基板
２２１ 第２の基板
２２２ 透明電極
２３５ 厚さ調整層
２３７ 凹部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an electro-optical device substrate, a method of manufacturing an electro-optical device substrate, an electro-optical device including the electro-optical device substrate, and an electronic apparatus including the electro-optical device. In particular, an electro-optical device substrate suitable for use in a reflective transflective electro-optical device, a method of manufacturing an electro-optical device substrate, an electro-optical device including an electro-optical device substrate, and an electro-optical device are included. It relates to electronic equipment.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a reflective display that performs display by allowing external light such as natural light or indoor illumination light to enter from the front side and reflects this light, and a transmissive display that performs display by allowing light from the light source to enter from the back side A so-called reflective transflective electro-optical device is known which can be switched as necessary.
[0003]
A typical example of such a conventional liquid crystal display panel is shown in FIG. 23, and the structure of the liquid crystal display panel 100 as a reflective transflective type is schematically shown. In the liquid crystal display panel 100, the first substrate 101 and the second substrate 102 facing each other are bonded together by a sealing material 103 such as an adhesive, and the first substrate 101 and the second substrate 102 are bonded to each other. A cell structure having a configuration in which a liquid crystal material 104 is sealed is provided in a space formed therebetween. A reflective layer 111 having an opening 111a for each pixel is formed on the inner surface of the first substrate 101, and colored layers 112r, 112g, and 112b and a surface protective layer 112p are formed on the reflective layer 111. The provided color filter substrate 112 is further formed. A transparent electrode 113 for applying a voltage to drive the liquid crystal material 104 is formed on the opposite side of the surface protective layer 112p where the color filter substrate 112 is provided.
[0004]
On the other hand, a transparent electrode 121 as a counter electrode is formed on the inner surface of the second substrate 102, and is disposed so as to intersect the transparent electrode 113 on the opposite substrate 101. An alignment film, a hard transparent film (protective film), and the like are appropriately formed on the surfaces of the transparent electrode 113 formed on the substrate 101 and the transparent electrode 121 formed on the substrate 102 as necessary. ing.
A retardation plate (¼ wavelength plate) 105 and a polarizing plate 106 are sequentially disposed on the outer surface of the substrate 102, and another retardation plate (¼ wavelength plate) is disposed on the outer surface of the substrate 101. 107 and a polarizing plate 108 are sequentially arranged.
[0005]
When the liquid crystal display panel 100 configured as described above is used in an electronic device such as a mobile phone or a portable information terminal, a backlight 109 is attached to the back thereof. In the liquid crystal display panel 100, in a bright place such as in the daytime or indoors, external light passes through the liquid crystal material 104 along the reflection path R, is reflected by the reflective layer 111, passes through the liquid crystal 104 again, and is emitted to the outside. Is done. Therefore, the reflection type display by the external light in the liquid crystal display panel 100 is visually recognized.
On the other hand, in a dark place such as at night or outdoors, by turning on the backlight 109, the light that has passed through the opening 111a out of the illumination light of the backlight 109 passes through the liquid crystal display panel 100 along the transmission path T. Released. Therefore, the transmissive display by the backlight 109 in the liquid crystal display panel 100 is visually recognized.
[0006]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-242226 discloses a liquid crystal display that is excellent in visibility, capable of high-resolution display, and can use both reflected light and transmitted light for display, as shown in FIG. For the purpose of providing an apparatus, a liquid crystal display device 300 having an alignment mechanism for causing at least two different alignment states used for display in a liquid crystal layer is disclosed.
More specifically, an alignment mechanism for taking at least two different alignment states used for display in the liquid crystal layer 11, for example, the reflective display unit 19 and the transmissive display unit 20 are formed with different film thicknesses. The reflecting means 13 is disposed in at least one of the regions having the insulating film 21 and showing different orientation states. Furthermore, a liquid crystal display device 300 is disclosed, in which a liquid crystal display as a region indicating the alignment state is used simultaneously in both the reflective display unit 19 that performs reflective display and the transmissive display unit 20 that performs transmissive display. Has been.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional reflective transflective liquid crystal display panel 100 as shown in FIG. 23, in order to brighten the reflective display, it is necessary to reduce the area of the opening of the reflective layer. There was a new problem that the brightness of the display was reduced.
In particular, the reflected light visually recognized in the reflective display is light that has passed through the liquid crystal layer twice, whereas in the transmissive display, the transmitted light passes through the liquid crystal layer only once, so that it is reflected in the light transmission state. Both the light and the transmitted light were effectively used for display, and could not be optically configured so that they could be viewed brightly. For example, in a reflective display that usually tends to be dark, it is often optically configured so that the reflected light can be effectively emitted from the liquid crystal panel, so that the use efficiency of the transmitted light for realizing the transmissive display is low. It was.
That is, since the ratio of the amount of light transmitted through the liquid crystal panel to the amount of light incident on the liquid crystal panel is low, there is a problem that the transmissive display becomes dark if the area of the opening of the reflective layer is excessively reduced. It was.
Therefore, it is extremely difficult to make both the reflective display and the transmissive display bright. If the reflective display is brightened by reducing the area of the opening of the reflective layer, the brightness of the transmissive display is ensured. As a result, it is necessary to increase the amount of illumination of the backlight, and as a result, it is difficult to achieve important targets in portable electronic devices such as miniaturization, thinning, weight reduction, and power consumption reduction of electro-optical devices. There was a problem.
[0008]
In addition, the conventional reflection type display generally tends to have insufficient display brightness. Therefore, there is a problem in that the brightness of the display must be ensured by setting the light transmittance of the color filter high. It was.
However, when the light transmittance of the color filter is set high, there has been a problem in that sufficient saturation cannot be obtained in the transmissive display based on the light that is transmitted only once through the color filter.
Furthermore, since the number of times light passes through the color filter is different between the reflective display and the transmissive display, the color of the image recognized in the reflective display and the color of the image recognized in the transmissive display are as follows. There was a problem in that they differed greatly and gave a sense of incongruity.
Therefore, an attempt has been made to use a photolithographic technique or the like to vary the type of colorant constituting each of the colored layer located in the opening of the reflective layer and the colored layer located in the reflective portion of the reflective layer. ing. However, in the case of forming a multicolored colored layer, there has been a manufacturing problem that the number of steps is remarkably increased.
[0009]
In addition, the reflective transflective liquid crystal display device 300 shown in FIG. 24 needs to provide an insulating layer 21 having a different thickness between the base material 15 and the reflective layer 13 as an alignment mechanism. There was a problem that it was difficult to form the reflective layer 13 as a thin film having a uniform thickness on the substrate 21.
In particular, the reflective layer may be provided with irregularities in order to impart a light scattering function. However, when an insulating layer having a different thickness is provided as the base of the reflective layer, the reflective layer is formed as a thin film having uniform irregularities. That was practically difficult.
[0010]
Therefore, the present invention solves the above-described problems, and the problem is that the brightness and color reproducibility of the reflective display and the transmissive display are higher with the number of types of colorants used being reduced. Therefore, it is possible to efficiently provide components, structures, and the like of the electro-optical device that can be compatible with each other.
In other words, the present invention provides a substrate for an electro-optical device and an electro-optical device that can be recognized to be as bright as possible in any of a reflective display and a transmissive display, and the difference in recognized colors can be extremely reduced. An object of the present invention is to provide a substrate manufacturing method, an electro-optical device including a substrate for an electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
An electro-optical device substrate according to the present invention includes a pixel having a reflective portion and a transmissive portion, and includes a substrate, a reflective layer having a reflective portion and an opening, and a colored layer. And an adjustment layer for adjusting the height position of the colored layer from the substrate surface between the reflective layer and the colored layer, The end is tapered, A recess is provided in a region overlapping with the transmission part.
According to the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, in the electro-optical device substrate including the substrate, the reflective layer having the reflective portion and the opening, and the colored layer, the reflective layer, the colored layer, The position adjustment layer The end is tapered, In the area that overlaps with the opening of the reflective layer, an opening or a thin part that can substantially transmit light is provided. The heights of the color filters of the reflective part and the transmissive part are different. As a result, the above-mentioned problems can be solved.
That is, by providing the position adjustment layer at a predetermined position, the concave portion is easily formed on the colored layer in the light transmission portion of the electro-optical device substrate. For this reason, when a reflective transflective electro-optical device is formed, the thickness of the electro-optical material in the opening of the reflective layer becomes thicker than other portions. Therefore, the retardation value of the electro-optic material that acts on the transmitted light that constitutes the transmissive display (the optical action value when transmitted through the electro-optic material layer) is close to the reflected light that realizes the reflective display. The utilization efficiency of transmitted light in can be improved as compared with the conventional case. Therefore, the use efficiency of the transmitted light is increased, so that the amount of illumination light for obtaining the transmissive display can be reduced, and the area of the opening of the reflective layer is reduced to make the reflective display brighter. It becomes possible.
[0012]
In the electro-optical device according to the invention, the ratio represented by t1 / t2 is in the range of 0.1 to 10, where the thickness of the adjustment layer is t1 and the thickness of the colored layer is t2. It is characterized by being a value within.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, when the thickness of the position adjustment layer is t1 and the thickness of the coloring layer is t2, the ratio represented by t1 / t2 is 0. A value within the range of 1 to 10 is preferable.
By comprising in this way, a recessed part can be easily formed also on the surface of a colored layer, and also the protective layer and alignment film which were formed on the colored layer. Therefore, the balance between color reproducibility and brightness in each of the reflective display and the transmissive display can be improved.
[0013]
Further, the electro-optical device according to the invention is characterized in that an end portion of the adjustment layer is tapered.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, it is preferable that the end portion of the position adjustment layer is tapered.
By comprising in this way, a colored layer can be formed more closely with respect to a position adjustment layer.
[0014]
The electro-optical device according to the invention is characterized in that the visible light transmittance of the adjustment layer is 90% or more.
In constructing the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, it is preferable that the visible light transmittance of the position adjustment layer is 90% or more.
By comprising in this way, the light absorption in a position adjustment layer can be suppressed, and the fall of the light quantity which reaches | attains a reflection layer and the light quantity taken out from a reflection layer can be prevented effectively.
[0015]
The electro-optical device according to the aspect of the invention includes a protective film on the colored layer, and a concave portion is provided in a region overlapping the transmission portion of the protective film.
In constituting the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, a protective film is provided on the colored layer, and an opening or substantially light is provided in a region overlapping the opening of the reflective layer of the protective film. It is preferable to provide a thin portion for allowing passage.
By adopting a configuration including a specific protective film in this manner, the mechanical strength and heat resistance of the electro-optical device substrate can be increased without hindering light transmission.
[0016]
The electro-optical device according to the invention is characterized in that an alignment film is provided on the colored layer or the protective film, and a recess is provided on the surface of the alignment film.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, it is preferable to provide an alignment film on the colored layer or the protective film and to provide a recess on the surface of the alignment film.
With this configuration, the electro-optical material can easily enter the recess, and the thickness of the electro-optical material in the region overlapping the opening of the reflective layer can be more easily adjusted.
[0017]
The electro-optical device according to the present invention is characterized in that a concave portion is provided on a surface of the first substrate or the second substrate, and the transmissive portion is provided in a region overlapping the concave portion.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, it is preferable to provide a recess on the surface of the substrate and provide an opening of the reflective layer in a region overlapping the recess.
With this configuration, the electro-optical material can easily enter the recess, and the thickness of the electro-optical material in the region overlapping the opening of the reflective layer can be more easily adjusted.
[0018]
The electro-optical device according to the invention is characterized in that the reflective layer includes a reflective base having a plurality of convex portions independently formed on the surface, and a reflective film thereon.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, it is preferable that the reflective layer includes a reflective base having a plurality of convex portions independently formed on the surface, and a reflective film.
By comprising in this way, it can prevent effectively that the light which injected from the outside reflects in a reflection layer excessively.
[0019]
Further, the colored layer that substantially covers the transmissive portion and the colored layer that partially covers the reflective portion are formed of the same or the same colorant.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, the colored layer that substantially covers the opening of the reflective layer and the colored layer that partially covers the reflective portion of the reflective layer are the same or the same. It is preferable to comprise from the coloring agent.
With this configuration, color reproducibility and brightness in each case, whether using a relatively small number of colorants, reflective display, or transmissive display, are used. The balance can be made good.
[0020]
In addition, the electro-optical device according to the invention is characterized in that a thickness adjustment layer for adjusting the thickness of the colored layer is provided below the colored layer that substantially covers the transmission portion.
In configuring the electro-optical device substrate according to the embodiment of the present invention, a thickness adjusting layer for adjusting the thickness of the colored layer is provided below the colored layer substantially covering the opening of the reflective layer. It is preferable to provide it.
By configuring in this way, the thickness of the colored layer that substantially covers the opening of the reflective layer
Can be adjusted easily. Therefore, when light is transmitted through the opening of the reflective layer through a colored layer with an appropriate thickness, the colored light with excellent color reproducibility can be taken out by absorbing light sufficiently and uniformly. it can.
[0021]
In addition, a method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to the present invention includes a pixel including a reflective portion and a transmissive portion, Reflective layer having a reflective portion and an opening And a step of forming the reflective layer on the substrate, and a height position of the colored layer from the substrate surface on the reflective layer. An adjustment layer for adjustment, comprising: a step of forming an adjustment layer having a recess in a region overlapping with the transmission portion; and a step of forming a colored layer on the adjustment layer.
An aspect according to another embodiment of the present invention is a method for manufacturing a substrate for an electro-optical device including a substrate, a reflective layer having a reflective portion and an opening, and a colored layer. A position adjusting layer for adjusting the height position of the colored layer from the substrate surface on the reflective layer, and forming an opening or substantially light in a region overlapping the opening of the reflective layer. There is provided a method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, including a step of forming a position adjustment layer having a thin wall portion through which a film can pass, and a step of forming a colored layer on the position adjustment layer. The point can be solved.
That is, according to the obtained electro-optical device substrate, the concave portion is easily formed on the colored layer in the light transmission portion of the electro-optical device substrate. For this reason, when a reflective transflective electro-optical device is formed, the thickness of the electro-optical material in the opening of the reflective layer becomes thicker than other portions.
Therefore, the retardation value of the electro-optical material acting on the transmitted light constituting the transmissive display is close to the retardation value of the electro-optical material acting on the reflected light realizing the reflective display. An electro-optical device substrate with high utilization efficiency can be obtained efficiently.
Therefore, by manufacturing such a substrate for an electro-optical device, it is possible to reduce the amount of illumination light for obtaining a transmissive display by increasing the utilization efficiency of the transmitted light, and the aperture of the reflective layer. It is also possible to make the reflective display brighter by reducing the area of the part.
[0023]
In a pair of electro-optical device substrates having a pixel including a reflective portion and a transmissive portion and including a first substrate and a second substrate facing each other, and an electro-optical device including an electro-optical material therebetween, the one Two electro-optic device substrates, a first substrate; Reflective layer having a reflective portion and an opening And another electro-optical device substrate includes a second substrate and a colored layer, and between the second substrate and the colored layer in a region overlapping with the reflective portion, An adjustment layer for adjusting the thickness of the electro-optic material is provided, and the adjustment layer is not provided in a region overlapping with the transmission part.
An electro-optical device according to the present invention includes a pair of electro-optical device substrates having a pixel including a reflective portion and a transmissive portion and including a first substrate and a second substrate facing each other, and an electro-optical material therebetween In the electro-optical device including the first electro-optical device substrate, the first substrate; Reflective layer having a reflective portion and an opening And another electro-optical device substrate includes a second substrate and a coloring layer, and the thickness of the electro-optical material is adjusted on the reflective layer of the one electro-optical device substrate There is provided an electro-optical device that includes a thickness adjustment layer for performing the adjustment and has an opening or a thin-walled portion for allowing light to pass substantially in a region overlapping the opening of the reflection layer of the thickness adjustment layer. Thus, the above-described problems can be solved.
That is, according to the obtained electro-optical device, the retardation value of the electro-optical material acting on the transmitted light constituting the transmissive display is close to the retardation value of the electro-optical material acting on the reflected light realizing the reflective display. Become.
Therefore, it is possible to provide an electro-optical device, such as a reflective transflective liquid crystal display device, which is bright and can display an image with excellent color reproducibility regardless of whether it is a reflective display or a transmissive display. can do.
[0024]
In the electro-optical device according to the present invention, when the thickness of the electro-optical material in the region overlapping with the reflection portion is ta and the thickness of the electro-optical material in the region overlapping with the transmission portion is tb, the following formula is obtained. It is characterized by satisfaction.
ta <tb <2ta
In constructing the electro-optical device according to the embodiment of the present invention, the thickness of the electro-optical material in the region overlapping the reflective portion of the reflective layer is ta, and the electro-optical material in the region overlapping the opening of the reflective layer is When the thickness is tb, it is preferable to satisfy the following formula.
ta <tb <2ta
With this configuration, the light use efficiency in the transmissive display can be further improved.
[0025]
In addition, the electro-optical device according to the present invention is characterized in that the following formula is satisfied when the refractive index anisotropy of the electro-optical material is Δn.
Δn · ta <Δn · tb <Δn · 2ta
In configuring the electro-optical device according to the embodiment of the present invention, it is preferable that the following formula is satisfied, where Δn is the refractive index anisotropy of the electro-optical material.
Δn · ta <Δn · tb <Δn · 2ta
With this configuration, the light use efficiency in the transmissive display can be further improved.
[0026]
According to another aspect of the invention, there is provided an electronic apparatus including any one of the electro-optical devices described above and a control unit for controlling the electro-optical device.
With this configuration, an electronic apparatus using an electro-optical device that can display an image display excellent in color reproducibility on both a reflective display and a transmissive display can be efficiently used. Can be provided.
[0027]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments relating to an electro-optical device substrate, an electro-optical device substrate manufacturing method, an electro-optical device substrate including the electro-optical device substrate, and an electronic apparatus including the electro-optical device according to the present invention are described below with reference to the drawings. This will be specifically described.
However, this embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.
[0028]
[First Embodiment]
With reference to FIGS. 1 and 2, the substrate for an electro-optical device and the electro-optical device using the same according to the first embodiment of the present invention will be described taking a color filter substrate and a liquid crystal panel using the same as examples. .
Here, FIG. 1 is a schematic perspective view showing an appearance of a liquid crystal panel 200 constituting the electro-optical device according to the first embodiment of the invention. 2A includes a position adjustment layer 213 for adjusting the height position of the colored layer from the substrate surface between the reflective layer 212 and the colored layer 214 in the liquid crystal panel 200. 5 is a cross-sectional view showing that the position adjustment layer 213 has an opening or a thin portion through which light can substantially pass in a region overlapping the opening 212a of the reflective layer 212. FIG. Further, FIG. 2B is a partially enlarged plan view of the color filter substrate 210 in which the colored layer 214 is disposed so as to substantially cover the opening 212a and the reflective portion 212r of the reflective layer 212.
[0029]
1. Basic structure of LCD panel
A liquid crystal panel 200 constituting the electro-optical device shown in FIG. 1 is a liquid crystal panel 200 having a so-called reflective transflective passive matrix structure, and an illumination device such as a backlight or a front light, or a case body (not shown). Etc. are preferably attached as needed.
In addition, the liquid crystal panel 200 has a reflective transflective active matrix structure, for example, an active element such as a TFD (Thin Film Diode) or TFT (Thin Film Transistor), instead of a passive matrix structure, depending on the application. A liquid crystal panel using (active element) may be used.
[0030]
(1) Cell structure
As shown in FIG. 1, a liquid crystal panel 200 is opposed to an electro-optical device substrate having a transparent first substrate 211 made of a glass plate, a synthetic resin plate, or the like as a base, that is, a color filter substrate 210. In addition, it is preferable that the counter substrate 220 having the second substrate 221 having a substantially similar configuration as a base is bonded through a sealing material 230 such as an adhesive.
As shown in FIG. 2, after the liquid crystal material 232 is injected into the space formed by the color filter substrate 210 and the counter substrate 220 into the inner portion of the sealing material 230 through the opening 230 a. It is preferable to have a cell structure sealed with a sealing material 231.
[0031]
(2) Wiring
As shown in FIG. 1, a plurality of parallel striped transparent electrodes 216 are formed on the inner surface of the first substrate 211 and opposed to the second substrate 221, and the inner surface of the second substrate 221 is formed. On the top, it is preferable to form a plurality of striped transparent electrodes 222 arranged in parallel in a direction orthogonal to the transparent electrode 216. Further, it is preferable that the transparent electrode 216 is connected to the wiring 218 </ b> A and the other transparent electrode 222 is connected to the wiring 228.
Since the transparent electrode 216 and the transparent electrode 222 are orthogonal to each other, a large number of pixels in which the intersecting regions are arranged in a matrix form, and the arrangement of the large number of pixels as a whole is the liquid crystal display region (A). Will be configured.
[0032]
As shown in FIG. 1, the first substrate 211 has a substrate overhanging portion 210 </ b> T that protrudes outward from the outer shape of the second substrate 221, and a wiring over the substrate overhanging portion 210 </ b> T. 218A, a wiring 218B connected to the wiring 228 via a vertical conduction part constituted by a part of the sealing material 230, an input terminal part 219 made of a plurality of wiring patterns formed independently, Is preferably formed.
Further, a semiconductor element (IC) 261 incorporating a liquid crystal driving circuit or the like is mounted on the substrate overhanging portion 210T so as to be connected to the wirings 218A and 218B and the input terminal portion 219. preferable.
Furthermore, it is preferable that a flexible wiring substrate 263 is mounted on the end portion of the substrate extension portion 210T so as to be connected to the input terminal portion 219.
[0033]
(3) Retardation plate and polarizing plate
In the liquid crystal panel 200 shown in FIG. 1, as shown in FIG. 2, a phase difference plate (¼ wavelength plate) 240 and a polarizing plate 241 are arranged at predetermined positions on the outer surface of the first substrate 211. Is preferred.
Further, it is preferable that another retardation plate (¼ wavelength plate) 250 and a polarizing plate 251 are arranged on the outer surface of the second substrate 221 so that a clear image display can be recognized.
[0034]
2. Color filter substrate
Next, referring to FIGS. 1 and 2 or FIGS. 3 to 13 as appropriate, structural features and operations as the electro-optical device substrate of the present invention will be described in detail by taking the color filter substrate 210 as an example. .
[0035]
(1) Position adjustment layer
▲ 1 ▼ position
As shown in FIGS. 4 to 6, the color filter substrate 210 as the electro-optical device substrate of the present invention is between the reflective layer 212 and the colored layer 214, and the height of the colored layer 214 from the substrate surface is high. A position adjustment layer 213 for adjusting the position is provided.
The reason for this is that, as shown in FIG. 13, by providing a position adjusting layer 213 as a member for adjusting the height position of the colored layer 214, the position corresponds to the opening 212a of the reflective layer 212, And it is because the recessed part 237 can be easily provided in the surface of the colored layer 214 (colored layer 233). Therefore, since the liquid crystal material 232 enters due to the influence of the concave portion 237, the thickness of the liquid crystal material 232 at the position corresponding to the opening 212a of the reflective layer 212 (thickness indicated by the symbol b in FIG. 13) is set. The thickness of the liquid crystal material 232 at the position corresponding to the reflective portion 212r of the reflective layer 212 (thickness indicated by symbol a in FIG. 13) can be made thicker. That is, the retardation value of the liquid crystal material 232 in the transmissive display (optical action value when transmitting through the liquid crystal layer) is close to the retardation value of the liquid crystal material 232 in the reflective display (total optical action value during reciprocation of the liquid crystal layer). Therefore, the utilization efficiency of the transmitted light in the transmissive display can be increased.
Therefore, by providing the position adjustment layer 213 for adjusting the height position of the colored layer 214, the use efficiency of transmitted light is increased, and the amount of illumination light for obtaining a transmissive display can be reduced. Further, even when the area of the opening 212a of the reflective layer 212 is reduced, the reflective display can be brightened.
[0036]
(2) Operation model
Here, with reference to FIG. 3, the effect when the thickness of the liquid crystal material (liquid crystal layer) is changed by the position adjustment layer will be described in a model manner. As described above, the colored layer C is formed on the reflective layer R having the opening Ra, the light transmitting layer T is formed thereon, and the light transmitting layer T is formed on the opening Ra of the reflective layer R. By providing an opening so as to overlap with the liquid crystal layer, the thickness (symbol b) of the liquid crystal layer in the region overlapping the opening Ra in plan view is twice the thickness (symbol a) of the liquid crystal layer in the other region. Suppose that For convenience of explanation, it is assumed that a homogeneous liquid crystal cell is configured. The retardation of this liquid crystal cell is assumed to be Δn · a = λ / 4, Δn · b = λ / 2 (Δn is the optical anisotropy of the liquid crystal, and λ is the wavelength of light).
[0037]
When the liquid crystal cell is in the light transmission state, in the transmissive display, illumination light from the backlight or the like passes through the polarizing plate P2 and becomes linearly polarized light, as indicated by a symbol (A) in FIG. Next, by passing through a retardation plate (quarter wavelength plate) D2, for example, it becomes clockwise circularly polarized light and then passes through a liquid crystal layer having a cell thickness of D2, so that the retardation further advances by 1/2 wavelength. Becomes counterclockwise circularly polarized light. Next, it further passes through the retardation plate D1, becomes the original linearly polarized light, and passes through the polarizing plate P1.
On the other hand, when the liquid crystal cell is in a light transmission state, in the reflective display, as shown by the symbol (B) in FIG. 3, external light passes through the polarizing plate P1 and becomes linearly polarized light. Next, by passing through the retardation plate (1/4 wavelength plate) D1, for example, it becomes clockwise circularly polarized light, and then passes through the liquid crystal layer of the cell thickness D1 twice, so that the retardation is further increased by 1 / 2 wavelength advance to counterclockwise circularly polarized light. Next, by passing through the retardation plate D1 again, it returns to the original linearly polarized light and passes through the polarizing plate P1.
[0038]
In such a transmissive display, if the thickness of the liquid crystal layer that passes through is half the thickness of the liquid crystal layer (symbol b) shown in FIG. 3, the retardation is λ / 4. Therefore, as indicated by the symbol (C) in FIG. 3, the polarization state after the illumination light passes through the liquid crystal layer through the polarizing plate P2 and the phase difference plate D2 is linearly polarized light in a direction orthogonal to the initial direction. . Next, the light passes through the retardation plate D1 to become counterclockwise circularly polarized light, and further passes through the polarizing plate P1. At this time, the polarization component that can pass through the polarizing plate P1 is approximately half of the amount of light that can pass when the thickness of the liquid crystal layer is b.
Therefore, in the case of the reflective transflective liquid crystal display panel as in the present embodiment, the thickness (symbol b) of the liquid crystal layer in the region overlapping the opening of the reflective layer in a plane is the liquid crystal layer in the other region. When the thickness of the liquid crystal layer becomes thicker (symbol a), the light transmittance in the light transmitting state becomes higher. As the layer thickness (symbol a) is approximately doubled, the amount of light transmission is also approximately doubled.
[0039]
Note that the liquid crystal cell is not of a homogeneous type, and if the liquid crystal layer is twisted, the transmittance may not be improved. For example, in the case of a 40 degree twisted liquid crystal, the thickness of the liquid crystal in the region overlapping the opening in a plane is set to other than that. If it is doubled, an improvement in transmittance of about 40% can be obtained. In general, the thickness (symbol b) of the liquid crystal layer in the region overlapping the opening of the reflective layer is preferably larger than the thickness of the liquid crystal layer on the reflective surface (symbol a) and 2a or less.
This is because the use efficiency of the transmitted light for the transmissive display is further improved and the transmissive display can be brightened by configuring in this way. Therefore, for example, since the amount of illumination light of the backlight can be reduced, the backlight can be reduced in size, thickness, weight, and power consumption. In addition, since the area of the opening of the reflective layer can be reduced as compared with the conventional case, the brightness of the reflective display can be improved.
[0040]
In the first embodiment, the thin portion 215c may exist in a region overlapping the opening 212a of the reflective layer 212. However, since the surface protective layer 215 is basically transparent, it is optically the first. The same effect as the embodiment can be obtained.
Furthermore, in the first embodiment, since the colored layer 214 is covered with the surface protective layer 215 even in the region where the colored layer 214 overlaps the opening 212a, the colored layer 214 can be more reliably protected.
[0041]
(3) Form
In the first embodiment, the position adjustment layer 213 is provided with an opening as shown in FIG. 4A in a region overlapping the opening 212a of the reflective layer 212, or as shown in FIG. 4B. A thin-walled portion for allowing light to pass through substantially is provided.
The reason for this is that this configuration effectively prevents absorption of light transmitted through the opening 212a of the reflective layer 212 due to the position adjustment layer 213.
[0042]
Further, as shown in FIG. 4A, with respect to the shape of the position adjustment layer 213, it is preferable that the end of the position adjustment layer 213 be a vertical plane.
The reason for this is that by forming the end of the position adjustment layer in such a shape, a light transmission portion corresponding to the opening 212a of the reflection layer 212 and a light reflection portion corresponding to the reflection portion 212r of the reflection layer 212 are obtained. Since they are clearly distinguished, the color balance obtained in the transmissive display and the reflective display can be made favorable.
[0043]
Further, as shown in FIG. 5A, with respect to the shape of the position adjustment layer 213, it is preferable to provide a stepped portion at the end of the position adjustment layer.
This is because the end of the position adjusting layer has such a shape, so that the cross section of the recess formed in the colored layer can be controlled stepwise, and between the colored layer and the position adjusting layer. This is because the contact area can be increased and the adhesion can be strengthened.
[0044]
In addition, as shown in FIG. 5B, regarding the shape of the position adjustment layer 213, it is preferable to provide a gentle conical slope at the end of the position adjustment layer.
The reason for this is that the end of the position adjusting layer has such a shape, so that the cross section of the recess formed in the colored layer can be similarly controlled in a conical shape, and the colored layer and the position adjusting layer This is because the contact area between the two can be increased and the adhesion can be strengthened.
[0045]
In addition, as shown in FIG. 5C, with respect to the shape of the position adjustment layer 213, it is preferable to provide a knurled protrusion on the thin portion of the position adjustment layer.
The reason for this is that by forming the thin portion of the position adjusting layer in such a shape, the colorant constituting the colored layer can easily flow, and the shape of the recess can be controlled with good reproducibility and speed. It is. Moreover, since the contact area between a colored layer and a position adjustment layer increases, the adhesive force between a colored layer and a position adjustment layer can be strengthened.
[0046]
In addition, as shown in FIG. 6A, regarding the shape of the position adjustment layer 213, it is also preferable to provide a pyramidal protrusion on the thin portion of the position adjustment layer.
This is because the directivity of the light transmitted through the opening of the reflective layer is increased and a clear image can be recognized by such a configuration. Moreover, since the contact area between a colored layer and a position adjustment layer increases, the adhesive force between a colored layer and a position adjustment layer can be strengthened.
[0047]
In addition, as shown in FIG. 6B, it is preferable that the position adjustment layer 213 has a tapered shape by providing a slope at the end of the position adjustment layer 213.
The reason for this is that by forming the end of the position adjusting layer in such a shape, air or the like is less likely to be entrained when forming the colored layer, and the position adjusting layer can be accurately formed on the position adjusting layer. This is because it can be easily adapted and the adhesion between the colored layer and the position adjusting layer can be strengthened.
[0048]
In addition, as shown in FIG. 6C, regarding the shape of the position adjustment layer 213, it is preferable to provide an inclined surface in a direction that expands toward the substrate at the end of the position adjustment layer so as to have a reverse taper shape.
This is because the cross section of the concave portion formed in the colored layer can be formed into a vertical plane or a shape close to the vertical plane as a result by setting the end of the position adjusting layer to such a shape. Moreover, since a part of the colored layer has entered below the position adjusting layer, the contact area between the colored layer and the position adjusting layer is increased, and the anchoring effect causes the colored layer and the position adjusting layer to This is because the adhesion between them can be strengthened.
[0049]
▲ 4 ▼ Thickness
Moreover, when the thickness of the position adjusting layer is t1, and the thickness of the colored layer is t2, it is preferable that the ratio represented by t1 / t2 is a value within the range of 0.1 to 10.
This is because when the ratio represented by t1 / t2 is less than 0.1, the thickness of the liquid crystal material at the position corresponding to the opening of the reflective layer is changed to the position corresponding to the reflective part of the reflective layer. This is because it may be difficult to make it thicker than the liquid crystal material.
On the other hand, if the ratio represented by t1 / t2 exceeds 10, the amount of light that can be extracted outside in the transmissive display is excessively reduced, the colored layer itself is formed, or the transparent electrode and the alignment film are uniformly formed on the colored layer. This is because it may be difficult to form a thick layer.
Therefore, not only the formation of the colored layer and the like becomes easier, but also the color reproducibility balance in the reflective display and the transmissive display becomes better, so the ratio represented by t1 / t2 is 0.8 to 5 It is more preferable to set it as the value within the range, and it is more preferable to set the ratio represented by t1 / t2 to a value within the range of 1-3.
[0050]
Further, it is preferable that the thickness of the position adjusting layer is specifically set to a value within the range of 0.1 to 100 μm.
This is because, when the thickness of the position adjustment layer is less than 0.1 μm, the thickness of the liquid crystal material at the position corresponding to the opening of the reflective layer is changed to the liquid crystal material at the position corresponding to the reflective portion of the reflective layer. This is because it may be difficult to increase the thickness.
On the other hand, when the thickness of the position adjustment layer exceeds 100 μm, the amount of light that can be extracted outside in the transmissive display is excessively reduced, the colored layer itself is formed, or the transparent electrode and the alignment film are uniformly formed on the colored layer. This is because it may be difficult to form.
Therefore, since the balance of color reproducibility in each of the reflective display and the transmissive display becomes better, the thickness of the thickness adjustment layer is more preferably set to a value in the range of 1 to 50 μm. More preferably, the value is within the range of 30 μm.
[0051]
Further, regarding the thickness of the position adjusting layer, when the thickness of the liquid crystal material in the region overlapping the reflective portion of the reflective layer is ta and the thickness of the liquid crystal material in the region overlapping the opening of the reflective layer is tb, the following formula Is preferably satisfied.
ta <tb <2ta
With this configuration, the light use efficiency in the transmissive display can be further improved.
[0052]
Further, the thickness of the position adjusting layer is preferably determined in consideration of the refractive index anisotropy of the liquid crystal material. That is, the thickness of the liquid crystal material in the region of the reflective layer that overlaps the reflective portion is ta, the thickness of the liquid crystal material in the region of the reflective layer that overlaps the opening is tb, and the refractive index anisotropy of the liquid crystal material is Δn. Sometimes it is preferable to satisfy the following formula:
Δn · ta <Δn · tb <Δn · 2ta
With this configuration, the light use efficiency in the transmissive display can be further improved.
[0053]
(5) Light transmittance
The visible light transmittance of the position adjustment layer is preferably 90% or more. This is because when the visible light transmittance is less than 90%, the amount of light absorption in the position adjustment layer increases, and a bright image may not be recognized. Therefore, by setting the visible light transmittance of the position adjustment layer to a value of 90% or more, the light absorption in the position adjustment layer is effectively suppressed, and the amount of light reaching the reflection layer and the amount of light extracted from the reflection layer can be reduced. The decrease can be effectively prevented.
However, if the value of the visible light transmittance is excessively large, the types of usable materials and additives may be excessively limited.
Therefore, the visible light transmittance of the position adjustment layer is more preferably set to a value within the range of 92 to 99.9%, and further preferably set to a value within the range of 95 to 99.5%.
[0054]
(2) Reflective layer
As shown in FIGS. 1 and 2, a reflective layer 212 is formed on the surface of the first substrate 211. The reflective layer 212 is preferably composed of a metal thin film made of aluminum, aluminum alloy, chromium, chromium alloy, silver, silver alloy, or the like, and a reflective base. The reflective layer 212 is preferably provided with a reflective portion 212r having a reflective surface and an opening 212a for each pixel.
A colored layer 214 is formed for each pixel on the reflective layer 212, and a surface protective layer (overcoat layer) 315 made of a transparent resin such as an acrylic resin or an epoxy resin is coated thereon. preferable. A color filter is formed by the colored layer 214 and the surface protective layer 215.
[0055]
FIG. 11 shows a preferred example of the configuration of the reflective layer 212. In this example of the reflective layer, a first reflective base (eg, thickness 1.6 μm) 76 having a plurality of protrusions independently formed on the surface of the substrate 74, and a relatively formed on the first reflective base 76 A second reflecting base 79 (eg, thickness 1.3 μm) 79 made of a continuous layer having a smooth surface state, and a reflecting film (eg, thickness 0.2 μm) 72 made of a metal thin film formed thereon. And.
[0056]
(3) Colored layer
(1) Configuration
In addition, the colored layer 214 shown in FIGS. 1 and 2 usually has a predetermined color tone by dispersing a coloring material such as a pigment or a dye in a transparent resin. An example of the color tone of the colored layer is a primary color filter composed of a combination of three colors R (red), G (green), and B (blue), but is not limited to this. ), M (magenta), C (cyan), and other various color tones.
Usually, a colored resist having a predetermined color pattern is formed by applying a colored resist made of a photosensitive resin containing a coloring material such as a pigment or a dye on the surface of the substrate and removing unnecessary portions by a photolithography method. Here, when forming a colored layer of a plurality of tones, the above steps are repeated.
[0057]
(2) Shading film
Further, as shown in FIG. 2, it is preferable that a black light-shielding film (black matrix or black mask) 214BM is formed in an inter-pixel region between the colored layers 214 formed for each pixel.
As the black light shielding film 214BM, for example, a colorant such as a black pigment or dye dispersed in a resin or other base material, or three colors of R (red), G (green), and B (blue) are used. A material in which a coloring material is dispersed in a resin or other base material can be used.
[0058]
(3) Array pattern
Further, as the arrangement pattern of the colored layers, a stripe arrangement is adopted in the illustrated example shown in FIG. 2B, but in addition to this stripe arrangement, an oblique mosaic arrangement as shown in FIG. Various pattern shapes such as a delta arrangement as shown in 12 (c) can be adopted.
[0059]
(4) Spectral transmittance
Moreover, it is preferable to limit the spectral transmittances of the colored layers (red colored layer, blue colored layer, green colored layer) respectively located in the opening and the reflective part of the reflective layer to a value within a predetermined range.
For example, as shown in FIG. 7, the maximum transmittance at a wavelength of 600 to 780 nm of the red colored layer located in the opening of the reflective layer is set to a value of 80% or more, and similarly the maximum of the wavelength of the green colored layer at a wavelength of less than 500 to 600 nm. The transmittance is set to a value of 80% or more. Similarly, the maximum transmittance of the blue colored layer having a wavelength of 400 to less than 500 nm is set to a value of 80% or more, and the average transmittance of white light at a wavelength of 400 to 780 nm is set to 30. A value in the range of ˜50% is preferable.
This is because the maximum transmittance of each of the red colored layer, the blue colored layer, and the green colored layer within a predetermined range of wavelengths is set to a value within such a range, and the average transmittance of white light is within such a range. This is because, when the value is set, a certain color reproducibility can be obtained, and colored transmitted light with excellent saturation can be obtained.
[0060]
In addition, as shown in FIG. 8, the maximum transmittance of the red colored layer located in the reflective portion of the reflective layer at a wavelength of 600 to 780 nm is 80% or more, and the green colored layer has a maximum transmittance of less than 500 to 600 nm. And 80% or more of the maximum transmittance of the blue colored layer at a wavelength of less than 400 to 500 nm, and an average transmittance of white light at a wavelength of 400 to 780 nm of 58 to 70%. A value within the range is preferable.
This is because the maximum transmittance of each of the red colored layer, the blue colored layer, and the green colored layer within a predetermined range of wavelengths is set to a value within such a range, and the average transmittance of white light is within such a range. This is because a constant color reproducibility can be obtained and a relatively bright colored reflected light can be obtained.
[0061]
▲ 5 ▼ Color gamut area
Moreover, it is preferable to limit the color gamut area of the colored layers (red colored layer, blue colored layer, green colored layer) located in the opening and the reflective part of the reflective layer to a value within a predetermined range. That is, on the CIE chromaticity coordinates, it is preferable to limit the area of a triangle formed by connecting three points of the x coordinate and the y coordinate of each display of red, blue, and green to a value within a predetermined range.
For example, as shown in FIG. 9, the color gamut area in the CIE chromaticity coordinates of the colored layer located at the opening of the reflective layer is 0.6 × 10 6. -2 ~ 2.0 × 10 -2 It is preferable to set the value within the range.
This is because the color gamut area is 0.6 × 10 6. -2 If the value is less than 1, the saturation in the colored light may be reduced. On the other hand, the color gamut area is 2.0 × 10. -2 This is because the brightness of the colored light obtained by passing through the colored layer may be significantly reduced.
Therefore, the color gamut area in the CIE chromaticity coordinates of the colored layer located at the opening of the reflective layer is 1 × 10. -2 ~ 1.8 × 10 -2 Is more preferably in the range of 1.2 × 10 -2 ~ 1.6 × 10 -2 It is more preferable to set the value within the range.
[0062]
Further, as shown in FIG. 10, the color gamut area in the CIE chromaticity coordinates of the colored layer located in the reflective portion of the reflective layer is 0.4 × 10. -2 ~ 1.8 × 10 -2 It is preferable to set the value within the range.
This is because the color gamut area is 0.4 × 10 6. -2 If the value is less than 1, the saturation of the colored light may be excessively lowered, while the color gamut area is 1.8 × 10. -2 This is because the brightness of the colored reflected light may be remarkably reduced when the value exceeds.
Therefore, the color gamut area in the CIE chromaticity coordinates of the colored layer located at the opening of the reflective layer is 0.6 × 10 6. -2 ~ 1.7 × 10 -2 Is more preferably in the range of 0.8 × 10 -2 ~ 1.5 × 10 -2 It is more preferable to set the value within the range.
[0063]
(4) Thickness adjustment layer
▲ 1 ▼ position
As shown in FIG. 14A, a thickness adjustment layer 235 for adjusting the thickness of the colored layer 214 located in the opening 212a of the reflection layer 212 is provided in a region overlapping with the opening 212a of the reflection layer 212. It is preferable.
This is because by providing the thickness adjusting layer 235 below the colored layer 214, the thickness of the colored layer 214 located in the opening 212a of the reflective layer 212 can be easily adjusted. . Therefore, in the case of transmissive display, an appropriate amount of light can be obtained, and colored light having excellent color reproducibility can be obtained.
Further, as shown in FIG. 14B, it is also preferable to provide the concave portion 236 in a part of the base material 211 and provide the thickness adjusting layer 235 in a part or all of the concave part 236. With this configuration, the thickness adjusting layer 235 can be provided even before the reflective film 212 and the colored layer 214 are formed.
[0064]
▲ 2 ▼ Thickness
Further, as shown in FIG. 14A, the thickness of the thickness adjusting layer 235 for adjusting the thickness of the colored layer 214 (233) located in the opening 212a of the reflective layer 212 is t3, and the reflective layer When the thickness of the colored layer 214 located in the opening 212a of 212 is t4, the ratio represented by t3 / t4 is preferably set to a value within the range of 0.01-10.
The reason for this is that when the ratio represented by t3 / t4 is less than 0.01, the amount of light that can be extracted outside in the transmissive display becomes excessive, and the color reproducibility in the reflective display and the transmissive display is balanced. This is because there is a case in which the lowering may occur.
On the other hand, when the ratio represented by t3 / t4 exceeds 10, the amount of light that can be extracted outside in the transmissive display becomes excessively small, and the balance of color reproducibility in the reflective display and the transmissive display may decrease. Because.
Therefore, since the balance of the color reproducibility in the reflective display and the transmissive display becomes better, the ratio represented by t3 / t4 is more preferably set to a value in the range of 0.05 to 5. Preferably, the ratio represented by t3 / t4 is more preferably a value within the range of 0.1-2.
[0065]
Moreover, it is preferable that the thickness of the thickness adjusting layer is specifically set to a value in the range of 0.1 to 100 μm.
The reason for this is that when the thickness of the thickness adjustment layer is less than 0.1 μm, the amount of light that can be extracted to the outside is excessively increased in the transmissive display, and the color reproducibility in the reflective display and the transmissive display is balanced. This is because it may decrease.
On the other hand, if the thickness of the thickness adjusting layer exceeds 100 μm, the amount of light that can be extracted outside in the transmissive display becomes excessively small, and the balance of color reproducibility in the reflective display and the transmissive display may be lowered. It is.
Accordingly, since the balance of color reproducibility in the reflective display and the transmissive display becomes better, the thickness of the thickness adjustment layer is more preferably set to a value in the range of 1 to 50 μm, and preferably 2 to 30 μm. More preferably, the value is within the range.
[0066]
(5) Surface protective layer
As shown in FIG. 13, a surface protective layer 215 is preferably provided on the colored layer 214. By providing the surface protective layer 215 in this manner, the durability, heat resistance, and the like of the colored layer 214 itself, and thus the color filter substrate 210 including the colored layer 214 can be significantly improved.
Further, it is preferable that a concave portion 237 is formed on the colored layer 214 (233), which corresponds to the position adjusting layer 230 of the colored layer 214 and overlaps the opening 212a of the reflective layer 212 in a plan view. . This is because the predetermined shape of the colored layer 214 (233) can be firmly held by forming the concave portion 237 and covering the concave portion 237 with the surface protective layer 215.
Moreover, it is preferable that the surface protective layer 215 also has a recess 215a formed on the surface thereof. This is because the thickness of the liquid crystal material 232 can be increased as shown in FIG. 13 due to the recess 215a.
In addition, it is preferable that the edge part 215b in the recessed part 215a of the surface protective layer 215 is made into the thin part 215c. This is because it may be difficult to form the concave portion 215a on the surface of the surface protective layer 215 if the edge portion 215b of the concave portion 215a is thick.
Further, it is preferable that the edge portion 215 b in the concave portion 215 a of the surface protective layer 215 has a gentle slope as compared with the colored layer 214. This is because if the edge portion 215b of the concave portion 215a is a vertical surface, alignment defects of the liquid crystal material 232 may easily occur.
[0067]
(6) Transparent electrode and alignment film
As shown in FIG. 13, it is preferable to form a transparent electrode 216 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) on the surface protective layer 215. The transparent electrode 216 is formed in a strip shape extending in the vertical direction in FIG. 2B, but is preferably configured in a stripe shape in which a plurality of transparent electrodes 216 are arranged in parallel.
Further, as shown in FIG. 13, an alignment film 217 made of polyimide resin or the like is preferably formed on the transparent electrode 216.
This is because, by providing the alignment film 217 in this way, when the color filter substrate 210 is used in a liquid crystal display device or the like, voltage driving of the liquid crystal material can be easily performed.
[0068]
(7) Counter substrate
The counter substrate 220 facing the color filter substrate 210 shown in FIG. 2 and FIG. 13 is formed on a second substrate 221 made of glass or the like, a transparent electrode 222 similar to the first substrate, SiO 2 2 And TiO 2 It is preferable that the hard protective film 223 and the alignment film 224 made of, for example, are sequentially laminated.
In the example of the color filter substrate 210, the colored layer 214 is provided on the first substrate 210. However, it is also preferable that the colored layer 214 is provided on the second substrate 221 in the counter substrate 220.
[0069]
(8) Liquid crystal layer
As shown in FIGS. 2A and 13, it is preferable that a liquid crystal material 232 is filled between the color filter substrate 210 and the counter substrate 220 configured as described above. At this time, since the concave portion 237 is formed for each pixel on the surface of the colored layer 214 (233) in the color filter substrate 210, the liquid crystal material 232 is formed on the surface protective layer 215 due to the concave portion 237. It is preferable to be configured so as to enter the inside of the opening 215a. For this reason, the thickness of the liquid crystal material 232 is such that in the region where the opening 215a of the surface protective layer 215 is formed, that is, in the region overlapping with the opening 212a of the reflective layer 212, the other region, that is, the reflective portion 212r is formed. It will be thicker than the region that has been made.
[0070]
(9) Operation
As described above, in the present embodiment configured as shown in FIG. 13, the external light incident from the counter substrate 220 side passes through the liquid crystal material 232 and passes through the colored layer 214 of the color filter substrate 210, and then the reflecting portion 212 r. Then, the light is again transmitted through the colored layer 214, the liquid crystal material 232, and the counter substrate 220, and is emitted to the outside. That is, the reflected light passes through the colored layer 214 of the color filter substrate 210 twice.
On the other hand, since the colored layer 214 covers the entire opening 212a of the reflective layer 212, for example, when a backlight or the like is arranged behind the color filter substrate 210 and illumination light is irradiated from behind, Part of the illumination light passes through the opening 212 a of the reflective layer 212, passes through the colored layer 214, and passes through the liquid crystal material 232 and the counter substrate 220 to be emitted. At this time, the transmitted light passes through the colored layer 214 of the color filter substrate 210 only once.
[0071]
In such a situation, in the region corresponding to the position adjustment layer 213 and overlapping the opening 212a of the reflective layer 212, the colored layer 214 (233) and the surface protective layer 215 formed on the first substrate 211 are respectively below A recess 215 a is provided on the surface of the color filter substrate 210. The liquid crystal material 232 enters the recess 215a on the surface, so that the thickness of the liquid crystal layer is increased.
Therefore, according to the present embodiment, the retardation (Δn · d, where Δn is the refractive index anisotropy and d is the thickness) of the liquid crystal layer acting on the transmitted light constituting the transmissive display increases, and the transmissive type By approaching the same retardation as the display, it is possible to improve the utilization efficiency of the transmitted light in the transmissive display.
[0072]
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Since the second embodiment is characterized in that the concave portion 425a is provided in the counter substrate 420, description of other configurations may be omitted as appropriate.
[0073]
1. Constitution
In the counter substrate 420 according to the second embodiment, a concave portion 425a is formed on the inner surface of the second substrate 421 (the surface facing the first substrate 211). In the second substrate 421, a transparent electrode 422, a hard protective layer 423, and an alignment film 424 are formed on the surface including the concave portion 425a. On the second substrate 421, an opening 425 a is provided in a region corresponding to the opening 212 a of the reflective layer 212 formed on the first substrate 211 and overlapping in a plane. .
[0074]
As shown in FIG. 15, a surface protective layer 215 is formed on the colored layer 214 in the color filter substrate 210. On the surface protective layer 215, a transparent electrode 216 and an alignment film 217 having the same configuration as that of the first embodiment are formed.
On the other hand, as shown in FIG. 15, the color filter substrate 210 is positioned between the reflective layer 212 and the colored layer 214 and adjusts the height position of the colored layer 214 from the surface of the substrate 211. A layer 213 is provided.
[0075]
2. Action
A transparent electrode 216 and an alignment film 217 are stacked on the colored layer 214.
Under the influence of the recess 237 formed on the surface of the colored layer 214 (233), the recess 210a is also formed on the surfaces of the transparent electrode 216 and the alignment film 217. That is, since the liquid crystal material 432 enters the recess 210a formed on the surface, the thickness of the liquid crystal material 432 at the position corresponding to the opening 212a of the reflective layer 212 is set to the liquid crystal at the position corresponding to the reflective portion 212r of the reflective layer 212. It can be thicker than the thickness of the material.
[0076]
In addition, a concave portion 420 a reflecting the concave portion 425 a is also formed on the inner surface of the counter substrate 420. And it is comprised so that the liquid-crystal material 432 may enter into the recessed part 420a of this surface.
Accordingly, since the recesses 210a and 420a are respectively provided on the inner surfaces of both the color filter substrate 210 and the counter substrate 420, the thickness (symbol) of the liquid crystal layer in the region overlapping the opening 212a of the reflective layer 212 in a plane It is possible to easily configure b) to be larger than the thickness (symbol a) of the liquid crystal layer in the reflective portion 212r of the reflective layer 212.
That is, the retardation of the liquid crystal layer acting on the transmitted light constituting the transmissive display is increased, and the utilization efficiency of the transmitted light in the transmissive display can be increased.
[0077]
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, since only a part of the structure of the color filter substrate 210 is different from that of the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and the description thereof may be omitted.
[0078]
1. Constitution
This embodiment is characterized in that a recess 234 is formed at a position corresponding to the transmission portion of the first substrate 211.
A reflective layer 214 having a reflective portion 212r and a position adjusting layer 213 are sequentially formed at locations other than the concave portion 234 provided on the surface of the first substrate 211. The reflection layer 214 and the position adjustment layer 213 each have an opening corresponding to the recess 234 provided in the first substrate 211.
In addition, a colored layer 214 (233) is provided across the recess 234 and the position adjustment layer 213 of the first substrate 211. A part of the colored layer 214 penetrates into the concave portion 234 provided on the surface of the first substrate 211, and the concave portion 237 is formed on the surface of the colored layer 214 (233) as a result. Yes.
[0079]
2. Action
A surface protective layer 215, a transparent electrode 216, and an alignment film 217 are laminated on the colored layer 214 of the color filter substrate 210, but are affected by the recesses 237 formed on the surface of the colored layer 214 (colored layer 233). Recesses 218 are also formed on the surfaces of the surface protective layer 215, the transparent electrode 216, and the alignment film 217, respectively. That is, since the liquid crystal material 232 enters the recess 218 formed on the surface, the thickness of the liquid crystal material 232 at the position corresponding to the opening 212a of the reflective layer 212 is set to the liquid crystal at the position corresponding to the reflective portion 212r of the reflective layer 212. It can be thicker than material 232.
Therefore, since the concave portion 237 is provided on the surface of the colored layer 214 (colored layer 233) in the color filter substrate 210, the thickness (symbol b) of the liquid crystal layer in a region overlapping the opening 212a of the reflective layer 212 in a plane. Can be easily configured to be larger than the thickness (symbol a) of the liquid crystal layer in the reflecting portion 212r of the reflecting surface 212.
That is, the retardation of the liquid crystal layer acting on the transmitted light constituting the transmissive display is increased, and the utilization efficiency of the transmitted light in the transmissive display can be increased.
[0080]
[Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the colored layer 735 is different from the first embodiment in that the colored layer 735 is provided on the second substrate 721 instead of the first substrate 711, and description of other components is as follows. It may be omitted as appropriate.
[0081]
1. Constitution
In this embodiment, a reflective layer 712 is formed on the first substrate 711, and the reflective layer 712 is provided with a reflective portion 712r having a reflective surface and an opening 712a. On the reflective layer 712, SiO 2 , TiO 2 An insulating film 724 is formed, and a transparent electrode 722 is formed on the insulating film 724. An alignment film 723 is formed on the transparent electrode 722.
Note that in the case where the reflective layer 712 is formed separately for each pixel, the transparent electrode 722 may be directly formed over the reflective layer 712 without the insulating film 724 interposed therebetween.
[0082]
On the other hand, a colored layer 735 is formed below the second substrate 721, and a black light shielding layer 714BM is formed in an inter-pixel region. Further, a surface protective layer 715 is formed below the colored layer 735, and on the surface of the surface protective layer 715 so as to planarly overlap with the opening 712a of the reflective layer 712 on the first substrate 711, A recess 718 is formed downward. A transparent electrode 716 is formed below the surface protective layer 715, and an alignment film 717 is further formed below the transparent electrode 716.
[0083]
2. Action
In this embodiment, a position adjustment layer 730, a color filter coloring layer 735, and a surface protective layer 715 are formed on the second substrate 721 opposite to the first substrate 711 on which the reflective layer 712 is formed. A recess 718 is formed on the surface of the surface protective layer 715 by being influenced by them.
Therefore, the thickness (symbol b) of the liquid crystal layer 732 in the region overlapping the opening 712a of the reflective layer 712 is configured to be thicker than the thickness of the other part (symbol a).
That is, also in the fourth embodiment, the retardation of the liquid crystal layer acting on the transmitted light constituting the transmissive display is increased, and the utilization efficiency of the transmitted light in the transmissive display can be increased.
[0084]
[Fifth Embodiment]
Next, with reference to FIGS. 18A to 18D and FIG. 19, an embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device or a substrate for an electro-optical device according to the present invention will be described in detail.
The electro-optical device manufactured in the present embodiment includes the liquid crystal panel 200 of the first embodiment shown in FIG.
[0085]
1. Constitution
First, the schematic structure of the liquid crystal panel 200 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG. 19 schematically shows a state before mounting of the semiconductor element (IC) and the flexible wiring board in the liquid crystal panel 200 shown in FIG. 1, and the dimensions are adjusted as appropriate for the convenience of illustration. Elements are also omitted as appropriate.
Further, the liquid crystal panel 200 includes a color filter substrate 210 in which a laminated structure including a reflective layer 212, a colored layer 214, a surface protective layer 215, and a transparent electrode 216 are formed on a first substrate 211, and a color filter substrate 210. The counter substrate 220 which opposes is bonded together by the sealing material 230, and the liquid crystal material 232 is arrange | positioned inside. The transparent electrode 216 is connected to a wiring (not shown), and the wiring passes between the sealing material 230 and the first substrate 211 and is drawn onto the surface of the substrate extension portion 210T. . An input terminal portion is formed on the substrate extension portion 210T.
[0086]
2. Manufacturing process
FIG. 18A to FIG. 18D show manufacturing steps for forming the color filter substrate 210 constituting the liquid crystal panel shown in FIG.
[0087]
(1) Formation of colored layer
As shown in FIG. 18A, a reflective layer 212, a black light shielding layer 214BM, and a position adjustment layer 213 are sequentially formed on the first substrate 211 in a region corresponding to the liquid crystal display region A shown in FIG. To do.
[0088]
Here, the reflective layer 212 having the opening 212a is formed by depositing a metal material or the like on the substrate by a vapor deposition method or a sputtering method, and then patterning using a photolithography technique and an etching method. .
For example, when forming the reflective layer 70 having gentle irregularities on the surface as shown in FIG. 11, it is preferable to include the following steps (1) to (3).
(1) Through a photocuring process through a mask pattern for a light-reflecting film, in which a transmissive part or a non-transparent part is formed into an independent circle and polygon, or one of the planar shapes, and randomly arranged in the planar direction. A step of forming a first base material 76 having a plurality of independent convex portions on the base material 74, which are substantially equal in height from the substrate surface, are randomly arranged in the plane direction, and have independent protrusions.
(2) A step of applying a photocurable resin to the surface of the first substrate 76 and forming a second substrate 79 having a plurality of continuous convex portions by a photocuring process.
(3) A step of forming a reflective layer 72 made of a metal such as aluminum on the surface of the second substrate 79 by vapor deposition.
The black light-shielding layer 214BM is formed by applying a photosensitive resin made of a transparent resin or the like in which a coloring material such as a pigment or a dye is dispersed, and sequentially performing pattern exposure and development processing on the photosensitive resin.
Furthermore, it is preferable that the position adjustment layer 213 is formed at a predetermined location by applying a photosensitive resin made of a transparent resin or the like partially or entirely, and sequentially performing pattern exposure and development processing thereon.
For the colored layer 214, a photosensitive resin made of a transparent resin or the like in which a coloring material such as a pigment or a dye is dispersed is applied on the position adjusting layer 213 and the like, and pattern exposure and development processing are sequentially performed thereon. Can be formed.
Note that when the colored layers 214 of a plurality of colors are formed in an array, the above process is repeated for each color.
[0089]
(2) Formation of surface protective layer
Next, a light-transmitting resin is applied over the entire surface of the first substrate 211. This translucent resin can be composed of, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, an imide resin, a fluororesin, or the like. These resins are applied onto a substrate in an uncured state having fluidity, and are cured by appropriate means such as drying, photocuring, and thermosetting. As a coating method, a spin coating method, a printing method, or the like can be used.
Next, the light-transmitting resin is patterned by using a photolithography technique and an etching method to form a surface protective layer 215 as shown in FIG.
Note that a concave portion is also formed on the surface protective layer 215 under the influence of the concave portion formed on part of the surface of the position adjusting layer 213 and the colored layer 214.
[0090]
(3) Formation of transparent electrode and alignment film
Next, as shown in FIG. 18C, a transparent electrode 216 and an alignment film 217 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) are formed on the entire surface of the substrate.
For example, the transparent electrode 216 can be formed by a sputtering method. That is, after the transparent conductive layer is formed over the entire surface, patterning is performed using a photolithography technique and an etching method, so that the transparent electrode 216 can be formed.
The alignment film 217 can be formed using, for example, a spin coating method.
[0091]
(4) Formation of counter substrate
Next, as shown in FIG. 18D, a transparent conductive layer made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) was formed on the entire surface of the second substrate 221 using a sputtering method or the like. Thereafter, patterning is preferably performed using a photolithography technique and an etching method to form the transparent electrode 222.
[0092]
Next, on the transparent electrode 222, SiO 2 And TiO 2 It is preferable that a hard protective film 223 and an alignment film 224 made of, for example, are sequentially stacked to form the counter substrate 220.
Then, the color filter substrate 210 and the counter substrate 220 facing the color filter substrate 210 are bonded to each other with a sealant (not shown), and the liquid crystal material 232 is disposed therein, whereby a liquid crystal panel can be configured.
At this time, since the thickness of the liquid crystal layer 232 in the region overlapping the opening 212a of the reflective layer 212 is thicker than the other portions, the retardation of the liquid crystal layer that acts on the transmitted light constituting the transmissive display increases, and the transmission The use efficiency of transmitted light in the type display can be increased.
[0093]
[Sixth Embodiment]
The case where the electro-optical device according to the sixth embodiment of the present invention is used as a display device in an electronic apparatus will be specifically described.
[0094]
(1) Overview of electronic equipment
FIG. 20 is a schematic configuration diagram illustrating an overall configuration of the electronic apparatus according to the present embodiment. This electronic apparatus has a liquid crystal panel 180 and control means 190 for controlling the liquid crystal panel 180. In FIG. 20, the liquid crystal panel 180 is conceptually divided into a panel structure 180A and a drive circuit 180B composed of a semiconductor IC or the like. The control unit 190 preferably includes a display information output source 191, a display processing circuit 192, a power supply circuit 193, and a timing generator 194.
The display information output source 191 includes a memory composed of a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit composed of a magnetic recording disk, an optical recording disk, etc. The display information is preferably supplied to the display information processing circuit 192 based on various clock signals generated by the timing generator 194 in the form of a predetermined format image signal or the like.
[0095]
The display information processing circuit 192 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information. It is preferable to supply the image information to the driving circuit 180B together with the clock signal CLK. The driving circuit 180B preferably includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 193 has a function of supplying a predetermined voltage to each of the above-described components.
[0096]
(2) Mobile computer
An example of an electronic apparatus in which the electro-optical device (liquid crystal display device) according to the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called portable personal computer) will be described.
FIG. 21 is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in FIG. 21, the personal computer 160 includes a main body 163 having a keyboard 162 and a display 164 using a liquid crystal display device (not shown) according to the present invention. The display unit 164 has a configuration in which the liquid crystal display device according to the present invention is accommodated in a housing 166 in which a plastic protective plate 165 is disposed corresponding to the window 164b. More specifically, the liquid crystal display device is accommodated in the housing 166 so that the substrate surface on the observation side is close to the protective plate 145. Note that the personal computer 160 includes a backlight unit on the back side as shown in the sixth embodiment in order to ensure the visibility of the display even in a situation where there is not enough external light. It is desirable to use a transflective liquid crystal display device.
[0097]
(3) Mobile phone
Next, an example in which the liquid crystal display device as the electro-optical device according to the invention is applied to a display unit of a mobile phone will be described.
FIG. 22 is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in FIG. 22, the mobile phone 170 includes a plurality of operation buttons 171, a receiver 172, a transmitter 173, and a display unit 174 using the liquid crystal display device (not shown) according to the present invention. Yes. The cellular phone 170 has a configuration in which the liquid crystal display device according to the present invention is accommodated in a housing 176 in which a plastic protective plate 175 is disposed corresponding to the window portion 174b. Note that in the cellular phone 170 as well as the personal computer, the liquid crystal display device is housed in the housing 176 so that the substrate surface on the observation side is close to the protective plate 175.
[0098]
(4) Other electronic devices
Electronic devices to which the liquid crystal display device as an electro-optical device according to the present invention can be applied include a liquid crystal television, a viewfinder type monitor, in addition to the personal computer shown in FIG. 20 and the mobile phone shown in FIG. Examples include direct-view video tape recorders, car navigation devices, pagers, electrophoresis devices, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, and electronic devices equipped with touch panels.
[0099]
Furthermore, the electro-optical device and the electronic apparatus of the present invention are not limited to the above-described illustrated examples, and it is needless to say that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the liquid crystal panel shown in each of the above embodiments has a simple matrix type structure, but an active matrix type electro-optical device using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) or a TFD (thin film diode). It can also be applied to.
The liquid crystal panel of the above embodiment has a so-called COG type structure, but is configured to connect a flexible wiring board or a TAB board to a liquid crystal panel that does not directly mount an IC chip, for example, a liquid crystal panel. It may be a thing.
In addition to liquid crystal display devices, each of a plurality of pixels such as an electroluminescence device, an inorganic electroluminescence device, a plasma display device, an electrophoretic display device, a field emission display device, and an LED (light-emitting diode) display device The present invention can also be applied to various electro-optical devices that can control the display state.
[0100]
【The invention's effect】
As described above, according to the electro-optical device substrate of the present invention, the plurality of colored layers are provided with the thick portions having different thicknesses in the regions overlapping the openings of the reflective layer, respectively. When transmitted, colored light with sufficient and uniform color absorption and excellent color reproducibility can be taken out. Therefore, in both the reflective display and the transmissive display, it is recognized as bright as the same level, and the color difference can be extremely reduced.
Furthermore, according to the electro-optical device substrate of the present invention, since the area of the colored layer can be made smaller than the area of the entire reflective layer, the margin for forming the colored layer can be increased. became. Therefore, it is less necessary to strictly control the margin of the colored layer at the time of manufacture.
[0101]
In addition, according to the method for manufacturing a substrate for an electro-optical device of the present invention, it is possible to recognize the same level of brightness in both the reflective display and the transmissive display, and extremely reduce the difference in color. Thus, it is possible to efficiently manufacture a substrate for an electro-optical device.
[0102]
In addition, according to the electro-optical device of the present invention, it is possible to recognize the same level of brightness in both the reflective display and the transmissive display, and extremely reduce the difference in color. It was.
[0103]
Furthermore, according to the electronic apparatus of the present invention, it is possible to recognize the same level of brightness in both the reflective display and the transmissive display, and to greatly reduce the color difference. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an appearance of a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view (a) schematically showing a panel structure of the first embodiment and an enlarged partial plan view (b) showing a planar structure of a color filter substrate.
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of liquid crystal molecules.
FIG. 4 is a diagram for explaining a position adjustment layer (part 1);
FIG. 5 is a diagram for explaining a position adjustment layer (part 2);
FIG. 6 is a diagram for explaining a position adjustment layer (part 3);
FIG. 7 is a diagram showing a spectral transmittance curve in a colored layer located at an opening of a reflective layer.
FIG. 8 is a diagram showing a spectral transmittance curve in a colored layer located in a reflective portion of a reflective layer.
FIG. 9 is a diagram showing CIE chromaticity coordinates in a colored layer located in an opening of a reflective layer.
FIG. 10 is a diagram showing CIE chromaticity coordinates in a colored layer located in a reflective portion of the reflective layer.
FIG. 11 is a diagram for explaining a reflective layer.
FIG. 12 is a diagram for explaining a pattern arrangement in a colored layer.
FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing a structure in a pixel in the liquid crystal panel of the first embodiment.
FIG. 14 is a diagram for explaining a modification of the liquid crystal panel of the first embodiment.
FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing a structure in a pixel of a liquid crystal panel according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a cross-sectional view schematically showing a structure in a pixel of a liquid crystal panel according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a cross-sectional view schematically showing a structure in a pixel of a liquid crystal panel according to a fourth embodiment of the present invention.
18A to 18D are process diagrams (a) to (d) relating to a method for manufacturing an electro-optical device according to a fifth embodiment of the invention.
FIG. 19 is a sectional view showing an electro-optical device according to a fifth embodiment of the invention.
FIG. 20 is a schematic configuration diagram showing a configuration block in the embodiment of the electronic apparatus according to the invention.
FIG. 21 is a perspective view showing an appearance of a portable personal computer as an example of an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.
FIG. 22 is a perspective view showing an appearance of a mobile phone as an example of an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.
FIG. 23 is a schematic cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional reflective transflective liquid crystal panel (No. 1).
FIG. 24 is a schematic cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional transflective liquid crystal panel (part 2).
[Explanation of symbols]
200 LCD panel
210 Color filter substrate
211 First substrate
212 Reflective layer
212a opening
212r Reflector
213 Position adjustment layer
214 Colored layer
215 Surface protective layer
215a opening
216 Transparent electrode
220 Counter substrate
221 Second substrate
222 Transparent electrode
235 Thickness adjustment layer
237 recess

Claims (12)

反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、反射部および開口部を有する反射層と、着色層と、を含み、
当該反射層と、前記着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さに位置を調整するための調整層を備えるとともに、当該調整層の端部をテーパー状とし、前記透過部と重なる領域に、薄肉部を設け、反射部と透過部のカラーフィルタの高さが異なることを特徴とする電気光学装置。In a pair of electro-optical device substrates having a pixel including a reflective portion and a transmissive portion and including a first substrate and a second substrate facing each other, and an electro-optical device including an electro-optical material therebetween,
The one electro-optical device substrate includes a first substrate, a reflective layer having a reflective portion and an opening, and a colored layer,
Between the reflective layer and the colored layer, an adjustment layer for adjusting the position to the height of the colored layer from the substrate surface is provided, and an end portion of the adjustment layer is tapered, and the transmission portion An electro-optical device characterized in that a thin-walled portion is provided in a region that overlaps with each other, and the heights of the color filters of the reflective portion and the transmissive portion are different . 前記調整層の厚さをｔ１とし、前記着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。The ratio represented by t1 / t2 is set to a value within a range of 0.1 to 10 when the thickness of the adjustment layer is t1 and the thickness of the colored layer is t2. The electro-optical device according to Item 1. 前記調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載の電気光学装置。The electro-optical device according to claim 1, wherein the adjustment layer has a visible light transmittance of 90% or more. 前記着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の前記透過部と重なる領域に、凹部を設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein a protective film is provided on the colored layer, and a concave portion is provided in a region overlapping the transmission portion of the protective film. 前記着色層または前記保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を設けることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。The electro-optical device according to claim 4, wherein an alignment film is provided on the colored layer or the protective film, and a recess is provided on a surface of the alignment film. 前記第１の基板または前記第２の基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、前記透過部を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。6. The electricity according to claim 1, wherein a concave portion is provided on a surface of the first substrate or the second substrate, and the transmissive portion is provided in a region overlapping with the concave portion. Optical device. 前記反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、その上の反射膜とを含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。The electricity according to any one of claims 1 to 6, wherein the reflective layer includes a reflective base having a plurality of protrusions independently formed on a surface, and a reflective film thereon. Optical device. 前記透過部を実質的に覆う着色層と、前記反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色材から構成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。The colored layer that substantially covers the transmissive portion and the colored layer that partially covers the reflective portion are made of the same kind or the same coloring material. The electro-optical device described. 前記透過部を実質的に覆う着色層の下方に、当該着色層の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置。The electricity according to any one of claims 1 to 8, wherein a thickness adjusting layer for adjusting the thickness of the colored layer is provided below the colored layer substantially covering the transmissive portion. Optical device. 前記反射部と重なる領域における電気光学物質の厚さをｔａとし、前記透過部と重なる領域における電気光学物質の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａThe following equation is satisfied, where ta is the thickness of the electro-optical material in the region overlapping the reflecting portion, and tb is the thickness of the electro-optical material in the region overlapping the transmitting portion. The electro-optical device according to claim 9.
ta <tb <2ta 前記電気光学物質の屈折率異方性をΔｎとしたとき、下記式を満足することを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ11. The electro-optical device according to claim 10, wherein the following equation is satisfied when the refractive index anisotropy of the electro-optical material is Δn.
Δn · ta <Δn · tb <Δn · 2ta 請求項１〜１１のいずれか一項に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。12. An electronic apparatus comprising: the electro-optical device according to claim 1; and a control unit for controlling the electro-optical device.
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