JP4369315B2 - 液滴輸送装置 - Google Patents
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Description
基板の表面において水性の液滴を輸送する液滴輸送装置において、
前記基板の表面は撥水処理されると共に、当該表面に油性の膜が形成され、
前記基板の表面に局所的な温度勾配を発生させる加熱手段が設けられていることを特徴とする液滴輸送装置である。
基板の表面において油性の液滴を輸送する液滴輸送装置において、
前記基板の表面は撥油処理されると共に、当該表面に水性の膜が形成され、
前記基板の表面に局所的な温度勾配を発生させる加熱手段が設けられていることを特徴とする液滴輸送装置である。
前記基板に対向して設けられる他の基板を有し、当該他の基板の表面は前記基板の表面と同種の処理が施されると共に、同種の膜が形成されており、
前記液滴は、前記基板と前記他の基板とに挟まれた空間を移動することを特徴とする液滴輸送装置である。
前記膜の前記基板表面に対する接触角はほぼ0度であり、
前記液滴は、前記膜中における前記基板表面との接触角が90度より大きいことを特徴とする液滴輸送装置である。
前記基板の表面または前記他の基板の表面の少なくとも一方には、前記液滴の輸送方向に沿ってガイド溝が形成されていることを特徴とする液滴輸送装置である。
前記ガイド溝は、前記液滴の半径にほぼ等しい幅を有する溝であることを特徴とする液滴輸送装置である。
前記ガイド溝は、前記液滴の輸送方向に沿って間欠的に形成されていることを特徴とする液滴輸送装置である。
図1及び図2は、第1の実施形態に係る液滴輸送装置における液滴の移動原理を説明する説明図であり、図1は基本原理、図2は連続的に移動させる原理を示している。以下、これらの図に基づいて、液滴を移動させる原理について説明する。
図4は、第2の実施形態に係る液滴輸送装置における部分的な概略側断面図である。同図に示すように、フォトリソグラフにより、ガラス基板41に薄膜ヒータ42a,42bと、配線42-1,42-2を形成した。ヒータを格子状に配置させると配線の引き回しが複雑になるので、各ヒータ共通のGND線とヒータおよび個別の配線は異なる層として形成した。配線42-1,42-2は金、薄膜ヒータ42a,42bはクロムで形成し、それぞれ5000オングストローム程度の厚さとした。二層間の絶縁層として5000オングストロームのシリカ層を堆積した。
図5は、第3の実施形態に係る液滴輸送装置における部分的な概略側断面図である。第1、第2の実施形態では、輸送対象である水滴が、基板の上において水滴の上方を空間に露出させて位置しているが、水滴の蒸発を抑制するためには、密閉した空間で水滴を輸送することが好ましい場合がある。
上述する各実施形態では、局所的な温度勾配を発生させる手段として、基板に形成した金属薄膜ヒータを挙げて説明したが、この他にも、発熱体として、基板にカーボンや金属を埋め込んだり、またはこれらを微粒子として分散させたりして、レーザー、交流電界又は交流磁界により外部から局所的に加熱して温度勾配を与えるようにしてもよい。さらに、ヒータの配線を簡便にするため、個々のヒータに隣接してダイオードやトランジスタなどの半導体素子を組み込んで、ヒータのON/OFFを制御してもよい。
2 ヒータ
2a〜2d ヒータ
3 スイッチ
3a〜3d スイッチ
4 電源
5 油膜
6 水滴
6a〜6c 水滴
7 加熱による油膜の移動方向
8 水滴の移動方向
θ 水滴の基板に対する油中での接触角
F 水滴に働く油膜の表面張力
10 液滴輸送装置
11 下部基板
12 ヒータ
12a〜12g ヒータ
16 水滴
16a,16b 水滴
19 ガイド溝
19a,19b ガイド溝
20 油膜量調整溝
41 下部基板
42a,42b ヒータ
42-1 配線
42-2 層間配線
45 油膜
46 水滴
48a,48b 水滴の移動方向
49a〜49c ガイド溝
51 下部基板
52a,52b ヒータ
52-1 配線
52-2 層間配線
55 油膜
56 水滴
58a,58b 水滴の移動方向
59a〜59c ガイド溝
60 上部基板
Claims (7)
- 基板の表面において水性の液滴を輸送する液滴輸送装置において、
前記基板の表面は撥水処理されると共に、当該表面に油性の膜が形成され、
前記基板の表面に局所的な温度勾配を発生させる加熱手段が設けられていることを特徴とする液滴輸送装置。 - 基板の表面において油性の液滴を輸送する液滴輸送装置において、
前記基板の表面は撥油処理されると共に、当該表面に水性の膜が形成され、
前記基板の表面に局所的な温度勾配を発生させる加熱手段が設けられていることを特徴とする液滴輸送装置。 - 請求項1又は2に記載する液滴輸送装置において、
前記基板に対向して設けられる他の基板を有し、当該他の基板の表面は前記基板の表面と同種の処理が施されると共に、同種の膜が形成されており、
前記液滴は、前記基板と前記他の基板とに挟まれた空間を移動することを特徴とする液滴輸送装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載する液滴輸送装置において、
前記膜の前記基板表面に対する接触角はほぼ0度であり、
前記液滴は、前記膜中における前記基板表面との接触角が90度より大きいことを特徴とする液滴輸送装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載する液滴輸送装置において、
前記基板の表面または前記他の基板の表面の少なくとも一方には、前記液滴の輸送方向に沿ってガイド溝が形成されていることを特徴とする液滴輸送装置。 - 請求項5に記載する液滴輸送装置において、
前記ガイド溝は、前記液滴の半径にほぼ等しい幅を有する溝であることを特徴とする液滴輸送装置。 - 請求項5又は6に記載する液滴輸送装置において、
前記ガイド溝は、前記液滴の輸送方向に沿って間欠的に形成されていることを特徴とする液滴輸送装置。
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JP2006021067A JP2006021067A (ja) | 2006-01-26 |
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