JP4366327B2 - マイクロコールターカウンタ - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 20
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 17
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000000601 blood cell Anatomy 0.000 description 1
- 210000001772 blood platelet Anatomy 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 210000003743 erythrocyte Anatomy 0.000 description 1
- 210000000265 leukocyte Anatomy 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Description
ΔJ=J1 /J2 =r1 2 /r2 2 …(1)
ここで、ΔJ:電流密度比
J1:図5のA地点の電流密度
J2:図5のB地点の電流密度
r1:流路Fの上部におけるA地点から上流側電極E1の端部までの距離( 電極との最短距離)
r2:流路Fの底部におけるB地点から上流側電極E1の端部までの距離( 電極との最長距離)
d:流路深さ
図1は、本発明に係るマイクロコールターカウンタの第1実施例を示す縦断側面図、図2は要部の概略斜視図である。このマイクロコールターカウンタ1は、例えば厚さが500μm、長さ10mm、幅5mm程度の大きさのシリコン基板2の上面に、例えばエッチングなどのマイクロマシニング加工技術を用いて適宜深さの測定用流路3が形成されている。
3 測定用流路
3A,3B アパーチャ両側の幅広流路部
8 アパーチャ
9A,9B 電極
9a,9b 導電性平板
9a1,9b1 導電性柱状体
a 粒子含有検体液
Claims (3)
- 測定用流路の途中にアパーチャが形成され、このアパーチャの両側流路部にそれぞれ電極が設けられ、一方の流路部側に導入した粒子含有検体液が前記アパーチャを経て他方の流路部側に流動するときで、その検体液が前記アパーチャを通過する際に生じるインピーダンス変化を前記両電極によって検出するように構成されているマイクロコールターカウンタにおいて、
前記両電極が、前記両側流路部の深さ方向を縦断し、かつ、検体液の所定方向への流れを遮断しないような三次元の立体構造に形成されていることを特徴とするマイクロコールターカウンタ。 - 前記両電極が、両側流路部の深さ方向を縦断する高さを有するとともに、検体液の所定の流れ方向に沿って長く、かつ、流路幅方向に間隔を隔てて互いに平行状に並設された複数の導電性平板の集合により三次元の立体構造に形成されている請求項1に記載のマイクロコールターカウンタ。
- 前記両電極が、前記両側流路部の深さ方向を縦断する高さを有し、かつ、検体液の所定の流れ方向及び流路幅方向に間隔を隔てて林立された複数本の導電性柱状体の集合により三次元の立体構造に形成されている請求項1に記載のマイクロコールターカウンタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005079554A JP4366327B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | マイクロコールターカウンタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005079554A JP4366327B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | マイクロコールターカウンタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006258725A JP2006258725A (ja) | 2006-09-28 |
JP4366327B2 true JP4366327B2 (ja) | 2009-11-18 |
Family
ID=37098142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005079554A Expired - Fee Related JP4366327B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | マイクロコールターカウンタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4366327B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015022834A1 (en) * | 2013-08-12 | 2015-02-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor micro-analysis chip and method of manufacturing the same |
US9316576B2 (en) | 2013-03-07 | 2016-04-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sample detection apparatus and detection method |
US9448153B2 (en) | 2013-03-07 | 2016-09-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor analysis microchip and method of manufacturing the same |
-
2005
- 2005-03-18 JP JP2005079554A patent/JP4366327B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9316576B2 (en) | 2013-03-07 | 2016-04-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sample detection apparatus and detection method |
US9448153B2 (en) | 2013-03-07 | 2016-09-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor analysis microchip and method of manufacturing the same |
WO2015022834A1 (en) * | 2013-08-12 | 2015-02-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor micro-analysis chip and method of manufacturing the same |
CN105452844A (zh) * | 2013-08-12 | 2016-03-30 | 株式会社东芝 | 半导体微量分析芯片和制造它的方法 |
CN105452844B (zh) * | 2013-08-12 | 2018-05-22 | 株式会社东芝 | 半导体微量分析芯片和制造它的方法 |
US10279348B2 (en) | 2013-08-12 | 2019-05-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor micro-analysis chip and method of manufacturing the same |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006258725A (ja) | 2006-09-28 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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