JP4348919B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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JP4348919B2
JP4348919B2 JP2002275175A JP2002275175A JP4348919B2 JP 4348919 B2 JP4348919 B2 JP 4348919B2 JP 2002275175 A JP2002275175 A JP 2002275175A JP 2002275175 A JP2002275175 A JP 2002275175A JP 4348919 B2 JP4348919 B2 JP 4348919B2
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置、及び電子機器に係り、特に、電流駆動素子を駆動させる電気光学装置、及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電流駆動素子を備えた有機ＥＬパネル等の電気光学装置が各種提案されている。一般的な電気光学装置は、ＲＧＢ各色に対応した３種類の電流駆動素子と、複数の前記電流駆動素子を有するマトリクス表示部と、該マトリクス表示部の周辺に配設され、前記電流駆動素子にそれぞれ接続される複数の電源線を連接する、ＲＧＢ各色に対応した３本の駆動用電源ラインとから構成されている。
【０００３】
このように複数の電源ラインが混在する場合においては、各駆動用電源ライン及び各電源線を互いに異なる配線層に設けるか（例えば、特許文献１参照。）又は、交差部を除いて全て同一レイヤに形成し、交差部において一方の配線を他の一の層に迂回させていた（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−１２０２２２号公報
【特許文献２】
特開２００２−２２９４８０号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来技術においては、以下のような問題点を有していた。
即ち、複数の電源配線をそれぞれ別の配線層に配置した場合には、配線層の数が増えて製造プロセスの複雑化、量産性の低下、品質の劣化を招来する。また、交差部の迂回配線においては、通常、有機ＥＬ等の電流駆動素子を駆動する場合には、陽極と陰極間に直流電流が流れるので、駆動用電源ラインまたは電源線で電圧降下が生じる。上記のように、複数の駆動用電源ラインを有する場合は、マトリクス表示部の外周部に配設された第１の駆動用電源ラインに対して、該第１の駆動用電源ラインの外周に配設されている第２の駆動用電源ラインは、内側の第１の駆動用電源ラインを跨いで電源線を連接させて駆動電流を供給しなければならないので、例えば、第２の駆動用電源ラインが単層であると、跨ぎ部分の抵抗値が大きくなり、電圧降下が大きくなるという問題があった。特に、内側に配設された第１の駆動用電源ラインを跨ぐための配線として、アルミニウム等の金属材の配線ではなく、ドープされたシリコン等の体積抵抗率が大きいゲート配線等を用いる場合には、さらに大きな電圧降下が生じる。即ち、大きな電圧降下によって、電源線に供給される電位にばらつきが発生し、電極線間で共通インピーダンスによるクロストークが生じることにより、表示品質を低下させるという問題があった。
【０００６】
また、駆動用電源ラインの幅寸法を大きくすることによって、電圧降下を抑えることが可能であるが、駆動用電源ラインを配設する領域は、限られているので、上限なく幅寸法を大きくすることができないという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、駆動用電源ラインの幅寸法を広くすることなく、電圧降下を抑え、共通インピーダンスによるクロストークを抑えて表示ばらつきの少ない電気光学装置、及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の電気光学装置においては、ＲＧＢ各色に対応した３種類の電流駆動素子と、複数の前記電流駆動素子を有するマトリクス表示部と、前記マトリクス表示部の周辺に配設され、前記電流駆動素子に接続される電源線を連接する、前記マトリクス表示部の最も近傍に配設される第１の駆動用電源ラインと第２の駆動用電源ラインと、を備える電気光学装置であって、前記第１の駆動用電源ライン、前記第２の駆動用電源ライン及び前記電源線は、全て同一レイヤに形成され、前記第１の駆動用電源ラインは、ゲート配線及び補助配線と立体的に交差してなり、前記第２の駆動用電源ラインと前記電源線とは、前記第１の駆動用電源ラインを迂回し、前記レイヤの下層にそれぞれ配設される前記ゲート配線及び前記補助配線を介して連接されることを特徴とする。
前記課題を解決するために、本発明の電気光学装置においては、ＲＧＢ各色に対応した３種類の電流駆動素子と、複数の前記電流駆動素子を有するマトリクス表示部と、前記マトリクス表示部の周辺に配設され、前記電流駆動素子に接続される複数の電極線を連接する、少なくとも２本の駆動用電源ラインと、を備える電気光学装置であって、前記駆動用電源ライン及び前記電極線は、全て同一レイヤに形成され、前記マトリクス表示部の最も近傍に配設される一方の駆動用電源ラインと、該駆動用電源ラインの外周に配設される他方の駆動用電源ラインに連接された電源線とは立体的に交差してなり、前記他方の駆動用電源ラインと前記電源線とは、前記一方の駆動用電源ラインを迂回し、前記レイヤの下層にそれぞれ配設されるゲート配線及び補助配線を介して連接されることを特徴としている。
上記の構造によれば、上記他方の駆動用電源ラインと、該駆動用電源ラインに接続される電源線とは、ゲート配線に加えて、補助配線を介して接続されているので、駆動電流が導通する配線の断面積を増加させることができる。さらに、例えば、ゲート配線の抵抗値をＲ１、補助配線の抵抗値をＲ２とすると、合成した跨ぎ抵抗値Ｒは、Ｒ＝（Ｒ１×Ｒ２）／（Ｒ１＋Ｒ２）の式を満たすので、合成した跨ぎ抵抗値Ｒを低下させることができるので、電圧降下を抑え、また、供給電圧のばらつきを抑えることが可能となる。
【０００９】
本発明の電気光学装置においては、前記補助配線は、ＩＴＯ電極と接続されるバリア層であることを特徴としている。
上記の構造によれば、補助配線として、独自の層を形成することなく、通常の多層配線デバイスで形成されるバリア層を利用することが可能となる。
【００１０】
本発明の電気光学装置においては、前記補助配線は、遮光層であることを特徴としている。
上記の構造によれば、補助配線として、独自の層を形成することなく、通常の多層配線デバイスで形成される遮光層を利用することが可能となる。
【００１１】
本発明の電気光学装置においては、前記駆動用電源ライン及び前記電源線は、それぞれ金属材で形成され、かつ、前記補助配線は、ポリシリコン、またはシリコン化合物で形成されてなり、前記補助配線は、該補助配線専用のコンタクトホールを介して、前記ゲート配線に連接されることを特徴としている。
上記の構造によれば、補助配線として、既存の配線を効率良く利用するので、簡単な構造で駆動電流が導通する配線の断面積を増加させることができ、合成した跨ぎ抵抗値を低下させ、さらに電圧降下を抑えることが可能となる。
【００１２】
本発明の電気光学装置においては、前記駆動用電源ライン、前記電源線、及び前記補助配線は、それぞれ金属材で形成されてなり、前記補助配線は、前記駆動用電源ライン及び前記電源線と、前記ゲート配線とを連接させるコンタクトホールを共有して連接されることを特徴としている。
上記の構造によれば、補助配線として、駆動用電源ライン及び電源線と同一の金属材、もしくは、前記金属材との融合性が良好な材質の膜が採用されるので、駆動電流が導通する配線の断面積が増加し、合成した跨ぎ抵抗値を低下させることができ、さらに電圧降下を抑えることが可能となる。
【００１３】
本発明の電気光学装置においては、前記コンタクトホールは、１カ所の連接部に対して、少なくとも２個設けられることを特徴としている。
上記の構造によれば、例えば、駆動用電源ラインとゲート配線等の接続部では、１カ所の連接部において複数のコンタクトホールが形成されているので、有機ＥＬ素子等の電流駆動素子に、大きな駆動電流を効率良く供給させることが可能となる。また、断面積の広いコンタクトホールを１つ形成させる場合と比較して、複数のコンタクトホールを形成させる場合は、形状が良いコンタクトホールを効率良く形成させることが可能となる。
【００１４】
本発明の電子機器においては、請求項１から６に記載の電気光学装置の少なくとも１つを含むことを特徴としている。
上記の構造によれば、電源線に供給される電位のばらつきを抑え、電極線間で共通インピーダンスによるクロストークを生じさせることなく、発光階調特性が良好に保持されるので、表示品位に優れた表示部を備えた電子機器を実現することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態による電気光学装置、及び電子機器について詳細に説明する。
【００１６】
〔電気光学装置の第１の実施形態〕
図１は、本発明の第１の実施形態における電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図１（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図１（ｂ）は、層構造を示す断面図である。
図１（ａ），（ｂ）に示すように、マトリクス表示部１００の外周部には、第１の駆動用電源ライン１０が配設され、さらに、該第１の駆動用電源ライン１０の外周部には、第２の駆動用電源ライン１１が、第１の駆動用電源ライン１０と同一のレイヤに配設されている。
【００１７】
第１の駆動用電源ライン１０は、例えば、マトリクス表示部１００内に複数備えられたＧｒｅｅｎ用の電流駆動素子（不図示）に駆動電流を供給する駆動用電源ラインであり、第１駆動用電源ライン１０には、Ｇｒｅｅｎ用の各電流駆動素子に駆動電流を分配する複数の電源線ＸＧ が、第１の駆動用電源ライン１０と同一のレイヤにおいて、直接連接されている。第１の駆動用電源ライン１０及び電源線ＸＧ は、ＡｌやＡｌＳｉＣｕ等の金属材が採用される。
【００１８】
第２の駆動用電源ライン１１は、例えば、マトリクス表示部１００内に複数備えられたＲｅｄ用の電流駆動素子（不図示）に駆動電流を供給する駆動用電源ラインである。また、Ｒｅｄ用の各電流駆動素子に駆動電流を分配する複数の電源線ＸＲ が、Ｇｒｅｅｎ用の電源線ＸＧ を形成する同一レイヤに形成されており、第２駆動用電源ライン１１と電源線ＸＲ とは、前記レイヤの下層部に形成されているゲート配線１２を介して接続されている。第２の駆動用電源ライン１１及び電源線ＸＲ は、ＡｌやＡｌＳｉＣｕ等の金属材が採用される。また、ゲート配線１２は、ゲート電極を兼ねており、材質は、ドープされたＳｉ等が採用される。
【００１９】
図１（ｂ）に示すように、第２駆動用電源ライン１１とゲート配線１２とは、該第２駆動用電源ライン１１とゲート配線１２との間に形成された複数（図中では６本）のコンタクトホール１３を介して接続されている。また、電源線ＸＲ とゲート配線１２とは、該電源線ＸＲ とゲート配線１２との間に形成された複数（図中では２本）のコンタクトホール１４を介して接続されている。即ち、第２駆動用電源ライン１１と電源線ＸＲ とは、第１の駆動用電源ライン１０を迂回して接続されている。
【００２０】
さらに、図１（ｂ）に示すように、第１の駆動用電源ライン１０とゲート配線１２との層間には、補助配線１５が形成されており、補助配線１５は、該補助配線１５とゲート配線１２との間に形成された複数（図中では５本）のコンタクトホール１６を介して接続されている。
【００２１】
補助配線１５としては、例えば、ＩＴＯ電極と接続されるバリア層や画素領域以外からの光を遮断する遮光層等が採用される。図２は、高温ポリシリコンパネルにおける補助配線１５の位置関係を示す概略断面図である。高温ポリシリコンパネルは、図中最底部の石英基板２０から上層へ向かって順に、第１層間絶縁膜２１と、ゲート絶縁膜２２と、第２層間絶縁膜２３と、第３層間絶縁膜２４と、第４層間絶縁膜２５とで形成されており、さらに、該第４層間絶縁膜２５上に、感光性アクリル層２６と、陰極２７とが形成されている。なお、陰極２７は、一例として、Ａｌ、Ｃａ、ＬｉＦの各層を積層して構成されている。
【００２２】
さらに、高温ポリシリコンパネルの上記各層間には、画素領域部３０と、ＴＦＴ形成部４０と、遮光層部５０と、キャパシタ形成部６０とを備えている。画素領域部３０は、第４層間絶縁膜２５上にＩＴＯ層３１が形成され、該ＩＴＯ層３１上には、第５層間絶縁膜３２と、さらに、ＩＴＯ層３１と陰極２７間に、ＰＥＤＯＴ層３３と、ＬＥＰ層３４とから構成されている。
【００２３】
ＴＦＴ形成部４０は、第２層間絶縁膜２３部に形成されるゲート線４１と、第３層間絶縁膜２４部に形成されるバリア層４２と、第４層間絶縁膜２５部に形成されるデータ線４３とからなり、該データ線４３とバリア層４２は、ゲート絶縁膜２２部に形成されるチャネルシリコン層４４に接続され、かつ、バリア層４２は、画素領域部３０のＩＴＯ層３１に接続されている。ゲート線４１の材質は、ポリシリコンであり、バリア層４２は、ポリシリコン及びＷＳｉ等のシリサイドで形成され、データ線４３の材質には、Ａｌ又はＡｌＳｉＣｕ等のＡｌ合金が採用される。
【００２４】
遮光層部５０は、石英基板２０上に形成される遮光層５１と、ＴＦＴ形成部４０と同様に形成されるゲート線５２及びデータ線５３とからなり、該ゲート線５２及びデータ線５３とは、共に遮光層５１に接続されている。遮光層５１の材質は、ＷＳｉ等のシリサイドである。
【００２５】
キャパシタ形成部６０は、ＴＦＴ形成部４０と同様に形成されるゲート線６１と、バリア層６２と、２カ所のデータ線６３，６４と、チャネルシリコン層６５とからなり、データ線６３とゲート線６１とが接続され、データ線６４及びバリア層６２は、チャネルシリコン層６５に接続されている。
【００２６】
図１における補助配線１５には、図２において、バリア層４２が採用される。バリア層４２は、図２に示すように、高温プロセス基板においてＩＴＯ層３１と直接導通できる唯一の層であり、さらに、不図示であるが、バリア層４２とゲート線４１とは接続されており、直接導通させることが可能である。
【００２７】
したがって、本実施形態によれば、第２の駆動用電源ライン１１から電源線ＸＲ に駆動電流を供給する際に、Ａｌ等の金属材と比較して体積抵抗率の大きいＳｉで形成されたゲート配線１２を通過するのであるが、該ゲート配線１２には補助配線１５が接続されているために、駆動電流が導通する配線の断面積が増加させることができる。さらに、例えば、ゲート配線１２の抵抗値をＲ１、補助配線１５の抵抗値をＲ２とすると、合成した跨ぎ抵抗値Ｒは、Ｒ＝（Ｒ１×Ｒ２）／（Ｒ１＋Ｒ２）の式を満たすので、合成した跨ぎ抵抗値Ｒを低下させることができるので、電圧降下を抑え、また、供給電圧のばらつきを抑えることが可能となる。
【００２８】
さらに、第２駆動用電源ライン１１とゲート配線１２とは、該第２駆動用電源ライン１１とゲート配線１２との間に形成された複数のコンタクトホール１３を介して接続され、同様に、電源線ＸＲ とゲート配線１２とは、該電源線ＸＲ とゲート配線１２との間に形成された複数のコンタクトホール１４を介して接続されているので、有機ＥＬ素子等の電流駆動素子に、大きな駆動電流を効率良く供給させることが可能となる。また、断面積の広いコンタクトホールを１つ形成させる場合と比較して、複数のコンタクトホール１３，１４を形成させる場合は、形状が良いコンタクトホールを効率良く形成させることが可能となる。
【００２９】
〔電気光学装置の第２の実施形態〕
図３は、本発明の第２の実施形態における電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図３（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図３（ｂ）は、層構造を示す断面図である。本図中において、図１と同一構成のものには、同一の符号を付している。
本実施形態における電気光学装置では、基本的な構成は、図１に示す電気光学装置と同様であるが、図１に示した、ゲート配線１２に専用のコンタクトホール１６を介して接続される補助配線１５の代わりに、第２駆動用電源ライン１１とゲート配線１２とを接続するコンタクトホール１３と、電源線ＸＲ とゲート配線１２とを接続するコンタクトホール１４とを介して接続される補助配線１７が形成されていることを特徴とする。
【００３０】
コンタクトホール１３を連接する第２駆動用電源ライン１１と、コンタクトホール１４を連接する電源線ＸＲ とは、金属材で形成されているので、補助配線１７は、前記金属材と同一材料、もしくは、前記金属材との融合性が良好な材質の膜が採用される。したがって、第１の実施形態における補助配線１５と比較して、駆動電流が導通する配線の断面積が増加し、合成した跨ぎ抵抗値を低下させることができるので、さらに電圧降下を抑えることが可能となる。
【００３１】
〔電気光学装置の第３の実施形態〕
図４は、本発明の第３の実施形態における電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図４（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図４（ｂ）は、層構造を示す断面図である。本図中において、図１及び図２と同一構成のものには、同一の符号を付している。
本実施形態における電気光学装置では、基本的な構成は、図１及び図２に示す電気光学装置と同様であるが、図１に示した補助配線１５のとして、ゲート配線１２の下層部に形成された遮光層７０を使用し、該遮光層７０は、ゲート配線１２を介さずに、第２の駆動用電源ライン１１及び電源線ＸＲ に単独で接続されることを特徴とする。
【００３２】
ゲート配線１２は、図１に示したコンタクトホール１３の代わりに、コンタクトホール７１を介して第２の駆動用電源ライン１１に接続され、また、図１に示したコンタクトホール１４の代わりに、コンタクトホール７２を介して電源線ＸＲ に接続される。また、遮光層７０は、図２に示した遮光層５１と同様に、第１層間絶縁膜上に形成され、第２の駆動用電源ライン１１とは、コンタクトホール７３を介して接続され、さらに、電源線ＸＲ とは、コンタクトホール７４を介して接続される。各コンタクトホール７１〜７４は、図中では各１本記載したが、図１及び図２と同様に、接続部１カ所に対して形成されるコンタクトホールの本数は、適宜変更可能である。
【００３３】
したがって、本実施形態によれば、ゲート配線１２及び遮光層７０の２カ所の配線を利用して、即ち、駆動電流の導通路を増加させて、第２の駆動用電源ライン１１から電源線ＸＲ に駆動電流を供給するので、合成した跨ぎ抵抗値を低下させることができ、電圧降下を抑えることが可能となる。
【００３４】
〔電気光学装置の第４の実施形態〕
図５は、本発明の第４の実施形態における電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図５（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図５（ｂ）は、層構造を示す断面図である。本図中において、図１，図２及び図４と同一構成のものには、同一の符号を付している。
本実施形態における電気光学装置では、基本的な構成は、図４に示す電気光学装置と同様であるが、遮光層７０は、第２の駆動用電源ライン１１及び電源線ＸＲ とは接続されず、ゲート配線１２に接続されることを特徴とする。
【００３５】
遮光層７０は、ゲート配線１２とは、２カ所のコンタクトホール８０，８１を介して接続される。各コンタクトホール８０，８１は、図中では各１本記載したが、図１及び図２と同様に、接続部１カ所に対して形成されるコンタクトホールの本数は、適宜変更可能である。したがって、本実施形態によれば、第３の実施形態と同様の作用・効果が奏される。
【００３６】
〔電子機器〕
次に、上記電気光学装置を備えた電子機器の実施形態について説明する。
図６は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図６において、携帯電話本体２１０には、上記の電気光学装置を用いた表示部２１１が備えられている。
【００３７】
図７は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図７において、時計本体２２０には、上記の電気光学装置を用いた表示部２１１が備えられている。
【００３８】
図８は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８において、情報処理装置２３０には、キーボード等の入力部２３１と、情報処理装置本体２３２と、上記の電気光学装置を用いた表示部２３３とが備えられている。
【００３９】
図６〜８に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えており、電圧降下が抑えられることによって、電源線に供給される電位のばらつきを抑え、電極線間で共通インピーダンスによるクロストークを生じさせることなく、発光階調特性が良好に保持されるので、表示品位に優れた表示部を備えた電子機器を実現することができる。
【００４０】
以上、本発明の実施形態による電気光学装置、及び電子機器について説明したが、本発明は、上記実施形態に制限されず、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、以下のような変形も考えられる。
【００４１】
上記実施形態においては、駆動用電源ラインの本数を、ＲＧＢ各色のうち、Ｇｒｅｅｎ用及びＲｅｄ用の２本としたが、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、Ｇｒｅｅｎ用及びＲｅｄ用の駆動用電源ラインに、Ｂｌｕｅ用の駆動用電源ラインを加えて、３本の駆動用電源ラインを並列に配設することもあり得る。さらに、Ｒｅｄの電流駆動素子用の駆動用電源ラインと、ＧｒｅｅｎとＢｌｕｅの両電流駆動素子用の駆動用電源ラインとして、駆動用電源ラインを２本とすることもあり得る。本構成によっても、上記実施形態と同様の作用・効果が奏される。
【００４２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、駆動用電源ラインと、他の駆動用電源ラインを跨いで接続される電源線とは、ゲート配線に加えて、補助配線を介して接続されているので、駆動電流が導通する配線の断面積を増加させることができ、さらに、ゲート配線と補助配線との合成した跨ぎ抵抗値を低下させることができるので、電圧降下を抑え、また、供給電圧のばらつきを抑えることが可能となる。したがって、電極線間で共通インピーダンスによるクロストークを生じさせることなく、発光階調特性が良好に保持されるので、表示品位に優れた表示部を備えた電子機器を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１実施形態による電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図１（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図１（ｂ）は、層構造を示す断面図である。
【図２】 本発明の第１実施形態による電気光学装置を構成する高温ポリシリコンパネルを示す概略断面図である。
【図３】 本発明の第２実施形態による電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図３（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図３（ｂ）は、層構造を示す断面図である。
【図４】 本発明の第３実施形態による電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図４（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図４（ｂ）は、層構造を示す断面図である。
【図５】 本発明の第４実施形態による電気光学装置の駆動用電源ラインと電源線との連接部を示す概念図であり、図５（ａ）は、配線の配置を示す平面図であり、図５（ｂ）は、層構造を示す断面図である。
【図６】 本発明の電気光学装置を備えた電子機器の一例である、携帯電話を示した斜視図である。
【図７】 本発明の電気光学装置を備えた電子機器の一例である、腕時計型電子機器を示した斜視図である。
【図８】 本発明の電気光学装置を備えた電子機器の一例である、携帯型情報処理装置を示した斜視図である。
【符号の説明】
１０ 第１の駆動用電源ライン
１１ 第２の駆動用電源ライン
１２ ゲート配線
１３，１４，１６，７１，７２，７３，７４，８０，８１ コンタクトホール１５，１７ 補助配線
４２，６２ バリア層
５１，７０ 遮光層
１００ マトリクス表示部
ＸＧ ，ＸＲ 電源線[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus, and more particularly, to an electro-optical device and an electronic apparatus that drive a current driving element.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, various electro-optical devices such as an organic EL panel provided with a current driving element have been proposed. A general electro-optical device is provided with three types of current drive elements corresponding to RGB colors, a matrix display unit having a plurality of current drive elements, and arranged around the matrix display unit. It is composed of three drive power lines corresponding to each color of RGB, which connect a plurality of power lines connected to each other.
[0003]
When a plurality of power supply lines coexist in this way, each drive power supply line and each power supply line are provided in different wiring layers (for example, refer to Patent Document 1), or all except the intersection are the same layer. And one wiring is detoured to another layer at the intersection (see, for example, Patent Document 2).
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-6-120222 [Patent Document 2]
Japanese Patent Laid-Open No. 2002-229480
[Problems to be solved by the invention]
However, the above prior art has the following problems.
That is, when a plurality of power supply wirings are arranged in different wiring layers, the number of wiring layers increases, resulting in a complicated manufacturing process, a decrease in mass productivity, and a deterioration in quality. In the bypass wiring at the intersection, when a current drive element such as an organic EL is driven, a direct current flows between the anode and the cathode, so that a voltage drop occurs in the drive power supply line or power supply line. As described above, when a plurality of drive power supply lines are provided, the first drive power supply lines arranged on the outer periphery of the matrix display section are arranged on the outer periphery of the first drive power supply lines. The provided second driving power supply line has to supply the driving current by connecting the power supply lines across the inner first driving power supply line. For example, the second driving power supply line If is a single layer, there is a problem that the resistance value of the straddling portion becomes large and the voltage drop becomes large. In particular, when a gate wiring having a high volume resistivity such as doped silicon is used as a wiring for straddling the first driving power supply line disposed on the inside, instead of a wiring made of a metal material such as aluminum. Causes a larger voltage drop. In other words, the potential supplied to the power supply line varies due to a large voltage drop, and crosstalk due to a common impedance occurs between the electrode lines, thereby degrading display quality.
[0006]
In addition, it is possible to suppress the voltage drop by increasing the width dimension of the driving power supply line, but since the area where the driving power supply line is provided is limited, the width dimension can be increased without an upper limit. There was a problem that I could not.
[0007]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and without increasing the width of the drive power supply line, suppresses voltage drop, suppresses crosstalk due to common impedance, and has less display variation, and An object is to provide electronic equipment.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, in the electro-optical device of the present invention, three types of current driving elements corresponding to RGB colors, a matrix display unit having a plurality of current driving elements, and a periphery of the matrix display unit A first driving power source line and a second driving power source line disposed in the vicinity of the matrix display unit, the first driving power source line being connected to the power source line connected to the current driving element; In the optical device, the first drive power supply line, the second drive power supply line, and the power supply line are all formed in the same layer, and the first drive power supply line includes a gate wiring and an auxiliary line. The gate wirings three-dimensionally intersecting with the wiring, and the second driving power supply line and the power supply line bypass the first driving power supply line and are respectively disposed in the lower layer of the layer as well as Characterized in that it is connected via the serial auxiliary wiring.
In order to solve the above problems, in the electro-optical device of the present invention, three types of current driving elements corresponding to RGB colors, a matrix display unit having a plurality of current driving elements, and a periphery of the matrix display unit An electro-optical device comprising: at least two drive power lines arranged to connect a plurality of electrode lines connected to the current drive element, wherein the drive power line and the electrode lines are: A power supply line that is formed in the same layer and is connected to the other drive power supply line that is disposed on the outer periphery of the drive power supply line and that is disposed closest to the matrix display unit. The other drive power supply line and the power supply line bypass the one drive power supply line and are arranged on the lower layer of the layer. And it is characterized by being connected via an auxiliary line.
According to the above structure, since the other driving power supply line and the power supply line connected to the driving power supply line are connected via the auxiliary wiring in addition to the gate wiring, the driving current is The cross-sectional area of the conductive wiring can be increased. Further, for example, assuming that the resistance value of the gate wiring is R1 and the resistance value of the auxiliary wiring is R2, the combined straddle resistance value R satisfies the equation R = (R1 × R2) / (R1 + R2). Since the resistance value R can be reduced, it is possible to suppress a voltage drop and to suppress variations in supply voltage.
[0009]
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the auxiliary wiring is a barrier layer connected to the ITO electrode.
According to the above structure, it is possible to use a barrier layer formed by a normal multilayer wiring device without forming a unique layer as the auxiliary wiring.
[0010]
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the auxiliary wiring is a light shielding layer.
According to the above structure, it is possible to use a light shielding layer formed by a normal multilayer wiring device without forming a unique layer as the auxiliary wiring.
[0011]
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the driving power supply line and the power supply line are each formed of a metal material, and the auxiliary wiring is formed of polysilicon or a silicon compound, and the auxiliary wiring is The gate wiring is connected to the auxiliary wiring through a contact hole dedicated to the auxiliary wiring.
According to the above structure, since the existing wiring is efficiently used as the auxiliary wiring, the cross-sectional area of the wiring through which the driving current is conducted can be increased with a simple structure, the combined straddle resistance value is reduced, Furthermore, it becomes possible to suppress a voltage drop.
[0012]
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the driving power supply line, the power supply line, and the auxiliary wiring are each formed of a metal material, and the auxiliary wiring includes the driving power supply line and the power supply line, A contact hole for connecting the gate wiring is shared and connected.
According to the above structure, as the auxiliary wiring, the drive power line and the power supply line are made of the same metal material or a film made of a material having a good fusion property with the metal material, so that the drive current is conducted. The cross-sectional area of the wiring is increased, the combined bridge resistance value can be reduced, and the voltage drop can be further suppressed.
[0013]
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, at least two contact holes may be provided for one connecting portion.
According to the above structure, for example, in the connecting portion such as the driving power supply line and the gate wiring, a plurality of contact holes are formed in one connecting portion, so that a large current driving element such as an organic EL element is used. It becomes possible to supply the drive current efficiently. Further, in the case where a plurality of contact holes are formed, it is possible to efficiently form a contact hole having a good shape as compared with the case where one contact hole having a large cross-sectional area is formed.
[0014]
The electronic apparatus according to the present invention includes at least one of the electro-optical devices according to claims 1 to 6.
According to the above structure, it is possible to suppress variation in potential supplied to the power supply line, and to maintain good emission gradation characteristics without causing crosstalk due to common impedance between the electrode lines. An electronic device including the display unit can be realized.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an electro-optical device and an electronic apparatus according to an embodiment of the invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0016]
[First Embodiment of Electro-Optical Device]
FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1A is a plan view illustrating a wiring arrangement. FIG. 1B is a cross-sectional view showing the layer structure.
As shown in FIGS. 1A and 1B, a first driving power supply line 10 is disposed on the outer periphery of the matrix display unit 100, and the outer periphery of the first driving power supply line 10 is further provided. The second drive power supply line 11 is disposed in the same layer as the first drive power supply line 10.
[0017]
The first drive power supply line 10 is, for example, a drive power supply line that supplies a drive current to a plurality of green current drive elements (not shown) provided in the matrix display unit 100. The line 10 includes a plurality of power supply lines X G for distributing a drive current to each green current drive element. However, they are directly connected in the same layer as the first drive power supply line 10. First drive power line 10 and power line X G A metal material such as Al or AlSiCu is employed.
[0018]
The second drive power supply line 11 is, for example, a drive power supply line that supplies drive current to a plurality of Red current drive elements (not shown) provided in the matrix display unit 100. In addition, a plurality of power supply lines X R that distribute drive current to each of the current drive elements for Red Is the green power line X G The second drive power supply line 11 and the power supply line X R Are connected via a gate wiring 12 formed in a lower layer portion of the layer. Second drive power line 11 and power line X R A metal material such as Al or AlSiCu is employed. The gate wiring 12 also serves as a gate electrode, and a material such as doped Si is used.
[0019]
As shown in FIG. 1B, the second driving power supply line 11 and the gate wiring 12 include a plurality (six in the figure) formed between the second driving power supply line 11 and the gate wiring 12. ) Through the contact hole 13. Also, the power line X R And the gate line 12 are connected to the power line X R And the gate wiring 12 are connected via a plurality of (two in the drawing) contact holes 14. That is, the second drive power line 11 and the power line X R Is connected to bypass the first drive power supply line 10.
[0020]
Further, as shown in FIG. 1B, an auxiliary wiring 15 is formed between the first driving power supply line 10 and the gate wiring 12, and the auxiliary wiring 15 is connected to the auxiliary wiring 15 and the gate wiring. The wirings 12 are connected via a plurality of (five in the drawing) contact holes 16 formed between the wirings 12.
[0021]
As the auxiliary wiring 15, for example, a barrier layer connected to the ITO electrode, a light shielding layer that blocks light from other than the pixel region, and the like are employed. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the positional relationship of the auxiliary wiring 15 in the high-temperature polysilicon panel. The high-temperature polysilicon panel includes a first interlayer insulating film 21, a gate insulating film 22, a second interlayer insulating film 23, and a third interlayer insulating film 24 in order from the bottom quartz substrate 20 to the upper layer in the drawing. In addition, a photosensitive acrylic layer 26 and a cathode 27 are formed on the fourth interlayer insulating film 25. For example, the cathode 27 is formed by laminating layers of Al, Ca, and LiF.
[0022]
Further, a pixel region portion 30, a TFT formation portion 40, a light shielding layer portion 50, and a capacitor formation portion 60 are provided between the respective layers of the high-temperature polysilicon panel. In the pixel region portion 30, an ITO layer 31 is formed on the fourth interlayer insulating film 25. On the ITO layer 31, a fifth interlayer insulating film 32 and a PEDOT layer between the ITO layer 31 and the cathode 27 are formed. 33 and a LEP layer 34.
[0023]
The TFT forming portion 40 includes a gate line 41 formed in the second interlayer insulating film 23 portion, a barrier layer 42 formed in the third interlayer insulating film 24 portion, and data formed in the fourth interlayer insulating film 25 portion. The data line 43 and the barrier layer 42 are connected to the channel silicon layer 44 formed in the gate insulating film 22 part, and the barrier layer 42 is connected to the ITO layer 31 in the pixel area part 30. Has been. The material of the gate line 41 is polysilicon, the barrier layer 42 is formed of polysilicon and silicide such as WSi, and the data line 43 is made of Al or an Al alloy such as AlSiCu.
[0024]
The light shielding layer portion 50 includes a light shielding layer 51 formed on the quartz substrate 20, and a gate line 52 and a data line 53 formed in the same manner as the TFT forming portion 40. Both are connected to the light shielding layer 51. The material of the light shielding layer 51 is silicide such as WSi.
[0025]
The capacitor forming unit 60 includes a gate line 61 formed in the same manner as the TFT forming unit 40, a barrier layer 62, two data lines 63 and 64, and a channel silicon layer 65. The data line 63 and the gate line 61, the data line 64 and the barrier layer 62 are connected to the channel silicon layer 65.
[0026]
As the auxiliary wiring 15 in FIG. 1, the barrier layer 42 in FIG. 2 is employed. As shown in FIG. 2, the barrier layer 42 is the only layer capable of directly conducting with the ITO layer 31 in the high-temperature process substrate. Further, although not shown, the barrier layer 42 and the gate line 41 are connected. It is possible to conduct directly.
[0027]
Therefore, according to the present embodiment, the second drive power supply line 11 to the power supply line X R When a drive current is supplied to the gate line 12, the gate line 12 made of Si having a larger volume resistivity than a metal material such as Al passes through the gate line 12, and an auxiliary line 15 is connected to the gate line 12. Therefore, the cross-sectional area of the wiring through which the drive current is conducted can be increased. Further, for example, when the resistance value of the gate wiring 12 is R1 and the resistance value of the auxiliary wiring 15 is R2, the combined straddle resistance value R satisfies the formula R = (R1 × R2) / (R1 + R2). Since the straddling resistance value R can be reduced, it is possible to suppress a voltage drop and to suppress variations in supply voltage.
[0028]
Further, the second drive power supply line 11 and the gate wiring 12 are connected through a plurality of contact holes 13 formed between the second drive power supply line 11 and the gate wiring 12. Line X R And the gate line 12 are connected to the power line X R And a plurality of contact holes 14 formed between the gate wiring 12 and the gate wiring 12, a large driving current can be efficiently supplied to a current driving element such as an organic EL element. Further, in the case where the plurality of contact holes 13 and 14 are formed, it is possible to efficiently form a contact hole having a good shape as compared with the case where one contact hole having a large cross-sectional area is formed.
[0029]
[Second Embodiment of Electro-Optical Device]
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 3A is a plan view illustrating a wiring arrangement. FIG. 3B is a cross-sectional view showing the layer structure. In the figure, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
The basic configuration of the electro-optical device according to the present embodiment is the same as that of the electro-optical device shown in FIG. 1, but the auxiliary shown in FIG. 1 is connected to the gate wiring 12 through a dedicated contact hole 16. Instead of the wiring 15, the contact hole 13 connecting the second driving power supply line 11 and the gate wiring 12, and the power supply line X R And an auxiliary wiring 17 connected through a contact hole 14 connecting the gate wiring 12 and the gate wiring 12.
[0030]
The second drive power line 11 connecting the contact hole 13 and the power line X R connecting the contact hole 14 Is made of a metal material, and the auxiliary wiring 17 is made of a film made of the same material as the metal material or a material having good fusion with the metal material. Therefore, as compared with the auxiliary wiring 15 in the first embodiment, the cross-sectional area of the wiring through which the drive current is conducted can be increased and the combined straddle resistance value can be reduced, so that the voltage drop can be further suppressed. It becomes.
[0031]
[Third Embodiment of Electro-Optical Device]
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 4A is a plan view illustrating a wiring arrangement. FIG. 4B is a cross-sectional view showing the layer structure. In the figure, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals.
The basic configuration of the electro-optical device according to this embodiment is the same as that of the electro-optical device shown in FIGS. 1 and 2, but the auxiliary wiring 15 shown in FIG. The light-shielding layer 70 is used, and the light-shielding layer 70 does not go through the gate wiring 12 but the second drive power supply line 11 and the power supply line X R. It is characterized by being connected alone.
[0032]
The gate wiring 12 is connected to the second drive power supply line 11 through the contact hole 71 instead of the contact hole 13 shown in FIG. 1, and is contacted instead of the contact hole 14 shown in FIG. Power line X R through hole 72 Connected to. Similarly to the light shielding layer 51 shown in FIG. 2, the light shielding layer 70 is formed on the first interlayer insulating film, and is connected to the second drive power supply line 11 via the contact hole 73. , Power line X R Are connected through a contact hole 74. Although one contact hole 71 to 74 is shown in the drawing, the number of contact holes formed for one connection portion can be appropriately changed as in FIGS. 1 and 2.
[0033]
Therefore, according to the present embodiment, the second driving power supply line 11 is connected to the power supply line X by using two wirings of the gate wiring 12 and the light shielding layer 70, that is, increasing the conduction path of the driving current. R Since the driving current is supplied to the power source, the combined straddle resistance value can be reduced, and the voltage drop can be suppressed.
[0034]
[Fourth Embodiment of Electro-Optical Device]
FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 5A is a plan view illustrating a wiring arrangement. FIG. 5B is a cross-sectional view showing the layer structure. In this figure, the same components as those in FIGS. 1, 2 and 4 are given the same reference numerals.
The basic configuration of the electro-optical device according to the present embodiment is the same as that of the electro-optical device illustrated in FIG. 4, but the light shielding layer 70 includes the second drive power supply line 11 and the power supply line X R. And is connected to the gate wiring 12.
[0035]
The light shielding layer 70 is connected to the gate wiring 12 through two contact holes 80 and 81. Although one contact hole 80 and 81 is shown in the drawing, the number of contact holes formed for one connection portion can be changed as appropriate, as in FIGS. 1 and 2. Therefore, according to this embodiment, the same operations and effects as those of the third embodiment are achieved.
[0036]
〔Electronics〕
Next, an embodiment of an electronic apparatus including the electro-optical device will be described.
FIG. 6 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 6, the mobile phone main body 210 is provided with a display unit 211 using the above electro-optical device.
[0037]
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 7, the watch body 220 is provided with a display unit 211 using the above electro-optical device.
[0038]
FIG. 8 is a perspective view showing an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 8, the information processing device 230 includes an input unit 231 such as a keyboard, an information processing device main body 232, and a display unit 233 using the above electro-optical device.
[0039]
The electronic apparatus shown in FIGS. 6 to 8 includes the electro-optical device according to the above-described embodiment, and suppresses a voltage drop, thereby suppressing variation in potential supplied to the power supply line and crossing the electrode lines due to a common impedance. Since the light emission gradation characteristics are satisfactorily maintained without causing talk, an electronic device including a display portion with excellent display quality can be realized.
[0040]
The electro-optical device and the electronic apparatus according to the embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be freely changed within the scope of the present invention. For example, the following modifications can be considered.
[0041]
In the above embodiment, the number of drive power supply lines is two for Green and Red among the RGB colors, but the present invention is not limited to this. For example, a drive power line for Blue may be added to a drive power line for Green and Red, and three drive power lines may be arranged in parallel. Further, there may be two drive power supply lines as a drive power supply line for the Red current drive element and a drive power supply line for both the Green and Blue current drive elements. Also by this structure, the effect | action and effect similar to the said embodiment are show | played.
[0042]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the drive power supply line and the power supply line connected across the other drive power supply lines are connected via the auxiliary wiring in addition to the gate wiring. Therefore, it is possible to increase the cross-sectional area of the wiring through which the drive current is conducted, and to further reduce the combined resistance value of the gate wiring and the auxiliary wiring, thereby suppressing the voltage drop and reducing the supply voltage. Variations can be suppressed. Therefore, the light emission gradation characteristics are favorably maintained without causing crosstalk due to the common impedance between the electrode lines, so that it is possible to realize an electronic device including a display unit with excellent display quality.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 (a) is a plan view illustrating a wiring arrangement; FIG. 1B is a cross-sectional view showing a layer structure.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a high-temperature polysilicon panel constituting the electro-optical device according to the first embodiment of the invention.
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3A is a plan view illustrating a wiring arrangement; FIG. 3B is a cross-sectional view showing the layer structure.
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 4A is a plan view illustrating a wiring arrangement; FIG. 4B is a cross-sectional view showing the layer structure.
FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating a connecting portion between a driving power line and a power line of an electro-optical device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 5 (a) is a plan view illustrating a wiring arrangement; FIG. 5B is a cross-sectional view showing the layer structure.
FIG. 6 is a perspective view showing a mobile phone as an example of an electronic apparatus provided with the electro-optical device of the invention.
FIG. 7 is a perspective view showing a wristwatch type electronic apparatus which is an example of an electronic apparatus provided with the electro-optical device of the invention.
FIG. 8 is a perspective view illustrating a portable information processing apparatus as an example of an electronic apparatus including the electro-optical device of the invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st drive power supply line 11 2nd drive power supply line 12 Gate wiring 13, 14, 16, 71, 72, 73, 74, 80, 81 Contact hole 15, 17 Auxiliary wiring 42, 62 Barrier layer 51, 70 light shielding layer 100 matrix display part X G , X R power line

Claims (9)

ＲＧＢ各色に対応した３種類の電流駆動素子と、
複数の前記電流駆動素子を有するマトリクス表示部と、
前記マトリクス表示部の周辺に配設され、前記電流駆動素子に接続される電源線を連接する、前記マトリクス表示部の最も近傍に配設される第１の駆動用電源ラインと第２の駆動用電源ラインと、
を備える電気光学装置であって、
前記第１の駆動用電源ライン、前記第２の駆動用電源ライン及び前記電源線は、全て同一レイヤに形成され、
前記第１の駆動用電源ラインは、ゲート配線及び補助配線と立体的に交差してなり、
前記第２の駆動用電源ラインと前記電源線とは、前記第１の駆動用電源ラインを迂回し、前記レイヤの下層にそれぞれ配設される前記ゲート配線及び前記補助配線を介して連接されることを特徴とする電気光学装置。Three types of current drive elements corresponding to each color of RGB,
A matrix display unit having a plurality of current drive elements;
A first driving power line and a second driving power line disposed in the vicinity of the matrix display part, which are disposed in the vicinity of the matrix display part and connect power lines connected to the current driving elements. A power line,
An electro-optical device comprising:
The first driving power line, the second driving power line and the power line are all formed in the same layer,
The first driving power line is three-dimensionally intersected with the gate wiring and the auxiliary wiring,
The second drive power supply line and the power supply line bypass the first drive power supply line and are connected to each other via the gate wiring and the auxiliary wiring respectively disposed in the lower layer of the layer. An electro-optical device. 前記補助配線は、遮光層であることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。  The electro-optical device according to claim 1, wherein the auxiliary wiring is a light shielding layer. 請求項２に記載の電気光学装置であって、
前記第２の駆動用電源ラインと前記電源線とは、前記第２の駆動用電源ラインが、第１のコンタクトホールを介して前記補助配線と、第２のコンタクトホールを介して前記ゲート配線とそれぞれ電気的に接続され、前記電源線が、第３のコンタクトホールを介して前記補助配線と、第４のコンタクトホールを介して前記ゲート配線と電気的に接続されることにより、電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。The electro-optical device according to claim 2,
The second drive power supply line and the power supply line include the second drive power supply line via the first contact hole, the auxiliary wiring, and the second contact hole via the gate wiring. Each of the power lines is electrically connected, and the power line is electrically connected to the auxiliary wiring through a third contact hole and the gate wiring through a fourth contact hole. An electro-optical device. 請求項２に記載の電気光学装置であって、
前記ゲート配線と前記補助配線とは複数の第１のコンタクトホールを介して電気的に接続され、前記第２の駆動用電源ラインと前記ゲート配線とは第２のコンタクトホールを介して電気的に接続され、前記電源線と前記ゲート配線とは第３のコンタクトホールを介して電気的に接続されることにより、前記第２の駆動用電源ラインと前記電源線とが電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。The electro-optical device according to claim 2,
The gate wiring and the auxiliary wiring are electrically connected via a plurality of first contact holes, and the second driving power supply line and the gate wiring are electrically connected via a second contact hole. The power line and the gate line are electrically connected through a third contact hole, whereby the second drive power line and the power line are electrically connected. An electro-optical device. 前記補助配線は、ＩＴＯ電極と接続されるバリア層であることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。  2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the auxiliary wiring is a barrier layer connected to the ITO electrode. 前記第１の駆動用電源ライン、前記第２の駆動用電源ライン及び前記電源線は、それぞれ金属材で形成され、かつ、前記補助配線は、ポリシリコン、またはシリコン化合物で形成されてなり、
前記補助配線は、該補助配線専用のコンタクトホールを介して、前記ゲート配線に連接されることを特徴とする請求項１、２、４及び５のいずれか一項に記載の電気光学装置。The first drive power supply line, the second drive power supply line, and the power supply line are each formed of a metal material, and the auxiliary wiring is formed of polysilicon or a silicon compound,
6. The electro-optical device according to claim 1 , wherein the auxiliary wiring is connected to the gate wiring through a contact hole dedicated to the auxiliary wiring. 前記第１の駆動用電源ライン、前記第２の駆動用電源ライン、前記電源線、及び前記補助配線は、それぞれ金属材で形成されてなり、
前記補助配線は、前記第２の駆動用電源ライン及び前記電源線と前記ゲート配線とを連接させるコンタクトホールを共有して、前記第２の駆動用電源ライン及び前記電源線と連接されることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。The first driving power supply line, the second driving power supply line, the power supply line, and the auxiliary wiring are each formed of a metal material,
The auxiliary wiring is connected to the second driving power supply line and the power supply line by sharing a contact hole for connecting the second driving power supply line and the power supply line to the gate wiring. The electro-optical device according to claim 5. 前記コンタクトホールは、１カ所の連接部に対して、少なくとも２個設けられることを特徴とする請求項６または７に記載の電気光学装置。  8. The electro-optical device according to claim 6, wherein at least two of the contact holes are provided for one connecting portion. 請求項１から８に記載の電気光学装置のいずれか１つを含むことを特徴とする電子機器。  An electronic apparatus comprising any one of the electro-optical devices according to claim 1.
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