JP4344524B2 - エンドミルの製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はエンドミルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、高速度鋼、超硬合金またはサーメットからなる母材表面にTiAlN等の硬質被覆層を被覆した硬質被覆エンドミルなどが知られており、例えば特許文献1では、エンドミル側面の外周刃を含む逃げ面(マージン部)における硬質被覆層をTiAlNとし、切屑の通り道である溝底面(フルート部)における硬質被覆層をTiNとすることによって、外周刃における耐摩耗性を向上できるとともに切屑の排出で熱を伴う摩耗にも強い硬質被覆層の構成とすることができることが記載されている。
【0003】
また、特許文献2では、溝底面と逃げ面とが交わる外周刃に向かって硬質被覆層の膜厚を漸減させることによって外周刃の欠損やチッピングを低減できることが記載されている。
【0004】
【特許文献1】
実開平5−41624号公報
【特許文献2】
特開平1−240215号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献1に記載されたエンドミルのように、溝底面と逃げ面との膜質を変える方法ではマスキングを用いなければならないために複雑な工程が必要であり、また溝底面と逃げ面との境界部分に位置する外周刃における膜構成を制御することが困難で切削性能のバラツキが大きくなる等の問題があった。
【0006】
また、特許文献2に記載されるように、溝底面と逃げ面とが交わる外周刃に向かって硬質被覆層の膜厚を漸減させると、欠損やチッピングは低減するものの、外周刃における硬質被覆層が早期に摩滅して急激に摩耗が進行することから、工具寿命の延命には限界があった。
【0007】
本発明は上記課題に鑑みてなされたもので、その目的は、容易に精度良く製造することができるとともに、耐欠損性および耐摩耗性をともに向上でき、かつ切屑排出性も良好で優れた切削性能を発揮するエンドミルを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、エンドミルの溝部における硬質被覆層の特性および製造上の最適な条件を検討した結果、溝底面と逃げ面を含む溝部表面を同じ材質の硬質被覆層にて形成するとともに、溝底面の硬質被覆層の膜厚t1が逃げ面の硬質被覆層の膜厚t2に対してt1/t2比で0.2〜0.8となるように形成することによって、硬質被覆層を容易に精度良く形成することができるとともに、外周刃における耐欠損性および耐摩耗性をともに向上でき、さらに切屑排出性も良好な優れた切削性能を発揮するエンドミルとなるとの知見に基づくものである。
【0009】
すなわち、本発明のエンドミルの製造方法は、先端に配設される先端切刃と、該先端切刃に続く逃げ面と溝底面との間に外周刃を形成した溝部と、該溝部に続くシャンク部とを具備し、少なくとも前記先端切刃と前記溝部の表面に硬質被覆層を被着形成してなるものであって、エンドミル基体を試料回転治具にセットして装置内に載置し、アークイオンプレーティング法によってバイアス電圧30〜100V、成膜温度500〜600℃の条件で、エンドミル基体の回転速度が2〜10rpmとなるように試料回転治具回転させながら成膜することによって、前記溝底面の硬質被覆層と前記逃げ面の硬質被覆層とを同じ材質にて形成するとともに、前記溝底面の硬質被覆層の膜厚tが前記逃げ面の硬質被覆層の膜厚tに対してt/t比で0.2〜0.8となるように形成ることを特徴とするものである。
【0010】
ここで、前記溝底面の算術平均粗さ(Ra)が逃げ面の算術平均粗さ(Ra)よりも小さいことが切屑排出性を高めることができ、エンドミルの温度上昇を抑制してエンドミルの外周刃および溝底面における耐摩耗性を高めることができる。
【0011】
また、前記溝底面の表面粗さを小さくして平滑な表面とするためには、前記溝底面の硬質被覆層の膜厚t1が2μm以下であることが望ましい。
【0012】
さらに、前記外周刃の硬質被覆層の膜厚t3が前記逃げ面の硬質被覆層の膜厚t2に対してt3/t2比で0.3〜0.9となるように形成されていることが、切れ刃強度の向上を促し、エンドミルのような断続加工において発生しやすいコーティングの剥離や切れ刃のチッピングといった切れ刃の損傷を抑制し、安定した金属加工を行う点で望ましい。
【0013】
さらには、前記先端切刃の硬質被覆層の膜厚t4が前記外周刃の硬質被覆層の膜厚t3に対してt4/t3比で0.5〜0.9となるように形成されていることが、硬質被覆層の付着力を増大させ、外周刃に対して切削速度が遅くなる先端切刃における切れ刃の損傷を抑制する点で望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の硬質被覆エンドミルを図1および図2にもとづいて詳細に説明する。
【0015】
図1によれば、エンドミル1は、先端に配設される先端切刃2と、先端切刃2に続く逃げ面4と溝底面5との間に外周刃6を形成した溝部7と、溝部7に続くシャンク部8とを具備し、少なくとも先端切刃2と溝部7の表面に硬質被覆層を被着形成してなるものである。
【0016】
本発明によれば、図1のA−A断面図である図2に示すように、溝部7における溝底面の硬質被覆層5aと逃げ面の硬質被覆層4aとを同じ材質にて形成するとともに、溝底面の硬質被覆層5aの膜厚tが逃げ面の硬質被覆層4aの膜厚tに対してt/t比で0.2〜0.8、特に0.4〜0.7となるように形成されていることが大きな特徴である。
【0017】
これによって、マスキング等を用いて部分的に異なる膜質となるように成膜する必要がないことから、硬質被覆層4a、5aを容易に精度良く形成することができるとともに、外周刃6のすくい面をなす溝底面5の硬質被覆層5aの膜厚t1を薄くして外周刃6の耐欠損性を向上できるとともに、外周刃6に続く逃げ面4の硬質被覆層4aの膜厚t2を確保して耐摩耗性も高く維持することができ、耐欠損性および耐摩耗性をともに向上でき、さらに溝底面5の硬質被覆層5aの膜厚t1が薄いことから溝底面5の硬質被覆層5aの表面を平滑な面とすることができ、切屑排出性も良好な優れた切削性能を発揮するエンドミル1となる。
【0018】
なお、溝底面5の硬質被覆層5aの膜厚tが逃げ面4の硬質被覆層4aの膜厚tに対してt/t比で0.2よりも小さいと、外周刃6により生成した切りくずが溝底面5を擦過しながら通過する際に、摩滅等の物理的摩耗・酸化、拡散摩耗などの化学的摩耗により硬質被覆層5aが摩滅して素材が露出し、溶着等の理由により切削抵抗が増大し、最悪の場合、エンドミルが折損することとなり、逆に溝底面5の硬質被覆層5aの膜厚tが逃げ面4の硬質被覆層4aの膜厚tに対してt/t比で0.8よりも大きいと、外周刃6の耐欠損性と耐摩耗性をともに向上させることができず、外周刃6が欠損やチッピングや摩耗によって工具寿命が短くなる。
【0019】
ここで、溝底面5の算術平均粗さ(Ra)が逃げ面4の算術平均粗さ(Ra)よりも小さいと、切屑排出性を高めることができ、エンドミル1の温度上昇を抑制して外周刃6および切屑と接触する溝底面5における耐摩耗性を高めることができる。なお、溝底面5の算術平均粗さ(Ra)は切屑処理性および耐摩耗性の点で0.005〜0.3μm、特に0.02〜0.15μmであることが望ましい。
【0020】
また、溝底面5の表面粗さを小さくして平滑な表面とするためには、溝底面5における硬質被覆層5aの膜厚t1が2μm以下、特に1〜2μmであることが望ましい。
【0021】
さらに、外周刃6における硬質被覆層6aの膜厚t3が逃げ面4における硬質被覆層4aの膜厚t2に対してt3/t2比で0.3〜0.9となるように形成されていること、すなわち外周刃6における硬質被覆層6aの表面から所定の厚み領域をホーニング加工や研磨することによって外周刃6における硬質被覆層6aに残存する残留応力を低減して硬質被覆層6aが剥離することを抑制し、外周刃6の耐欠損性を向上させることができる。なお、本発明における外周刃6における硬質被覆層6aの膜厚t3とは図2に示すように外周刃6(コーナー部)における硬質被覆層6aの膜厚を指す。
【0022】
さらには、先端切刃2の硬質被覆層2aの膜厚tが、外周刃6における硬質被覆層6aの膜厚tに対してt/t比で0.5〜0.9となるように形成されていることが先端刃2の欠損と損傷の抑制の点で望ましい。
【0023】
また、図1のエンドミル1によれば、逃げ面の延長には逃げを有して凹曲線状の溝壁面10が形成され、この溝壁面10は溝底面へと続くように形成される。溝壁面10は外周刃6の剛性を高めるとともに切屑の排出方向を安定化する効果がある。
【0024】
なお、本発明のエンドミル1に用いられる母材としては、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは高速度鋼が使用可能であるが、特に強度、剛性、耐欠損性のバランスの点で超硬合金が望ましく、中でも平均粒径が0.1〜1.5μmのWC粒子を6〜15質量%のCoからなる結合金属で結合し、所望によってV、Cr、Ti、Ta、Nbの炭化物、窒化物を含有した超硬合金が耐摩耗性及び高温特性の点で好適に使用可能である。
【0025】
また、硬質被覆層2a、4a、5a、6aとしてはTiおよびTiを除く4a、5a、6a族金属とAl、Siから選ばれた1種または2種以上の炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸窒化物、およびAl23から選ばれることが好適であり、2層以上の多層としてもよいが、本発明によれば、逃げ面4の硬質被覆層4aと溝底面5の硬質被覆層5aとは同じ膜構成にて形成され、それら硬質被覆層4a、5aの膜厚が上述した範囲となるように制御される。
【0026】
さらに、図1ではスクエアタイプのエンドミルについて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ラジアスエンドミルやボールエンドミルへの適用も可能である。また、ソリッドタイプのみならずスローアウェイタイプにも応用できる。
【0027】
(製造方法)
上述した本発明のエンドミルを製造する方法の一例について説明する。
【0028】
まず、公知の成形、焼成を行う粉末冶金法によって上述した母材となる焼結体を準備し、所定の円柱形状に加工した後、上述した逃げ面4、溝底面5および溝壁面10を有する溝部の加工を行う。
【0029】
次に、加工されたエンドミル基体1を図3に示すような試料回転治具にセットして装置内に載置し、アークイオンプレーティング法によってバイアス電圧30〜100V、成膜温度500〜600℃の条件で成膜する。
【0030】
本発明によれば、上記成膜条件として、上記バイアス電圧および成膜温度内に制御することに加えて、エンドミル基体の回転速度が2〜10rpm、特に3〜5rpmとなるように試料回転治具を回転させながら成膜することが重要であり、この条件でエンドミル基体を回転させながら成膜することにより溝部の逃げ面4および溝底面5における硬質被覆層4a、5aの膜厚t、tを上述した所定の範囲内に制御することが可能である。
【0031】
すなわち、上記バイアス電圧が30Vより低いか、成膜温度が500℃より低いか、またはエンドミル基体の回転速度が2rpmより遅いと、上記t1/t2比が0.8よりも大きくなり、逆に上記バイアス電圧が100Vより高いか、成膜温度が600℃より高いか、またはエンドミル基体の回転速度が10rpmより速いと、上記t1/t2比が0.2よりも小さくなる。
【0032】
なお、エンドミル基体の回転速度は図3に示す硬質被覆層を成膜する際の冶具を用いてエンドミル基体を公転および自転させることによって制御する。
【0033】
そして、所望により、外周刃6および先端切刃2における硬質被覆層6a、2aの表面から一部の領域を研磨することにより本発明のエンドミルを作製することができる。
【0034】
【実施例】
平均粒径0.9μmのWC粒子を主体としCrおよびVを総量で1質量%とCoが10質量%とからなる超硬合金を直径6mmの円柱状に加工した後、所定形状の先端切刃および溝部形状に加工したエンドミル基体を用意し、イオンプレーティング法により表1に示す条件で硬質被覆層を形成し、さらに先端切刃および外周刃における硬質被覆層を表面から0.5μm以下の厚み領域についてブラシにてホーニング加工して試料No.1〜7のエンドミルを作製した。
【0035】
得られたエンドミルについてA−A研磨断面にて走査型電子顕微鏡観察を行い、逃げ面、溝底面、外周刃および先端切刃における硬質被覆層の膜厚t1〜t4を測定した。また、逃げ面および溝底面における算術平均粗さ(Ra)を測定した。さらに、同じ条件で作製したエンドミルを用いて下記条件で切削試験を行った。結果は表1に示した。
(切削条件)
被削材:S45C、
切削速度:45m/min.
深さ方向切り込み:3mm
切り込み幅:0.1mm
一刃あたりの送り:0.015mm/刃
【0036】
【表1】
Figure 0004344524
【0037】
表1の結果より、硬質被覆層の成膜条件が所定範囲から外れて前記t1/t2比が0.8より大きい試料No.6では切屑が詰まりやすく切削抵抗が大きくなった。また、前記t1/t2比が0.2より小さい試料No.7では切削途中で、溝底面の硬質被覆層が摩滅し、切削抵抗が急上昇し折損した。
【0038】
これに対して、本発明の範囲内である試料No1〜では、いずれも耐欠損性および耐摩耗性に優れ工具寿命の長いものであった。
【0039】
【発明の効果】
以上詳述したとおり、本発明のエンドミルの製造方法によれば、溝底面と逃げ面を含む溝部表面を同じ材質の硬質被覆層にて形成するとともに、上記溝底面表面の硬質被覆層の膜厚tが上記逃げ面表面の硬質被覆層の膜厚tに対してt/t比で0.2〜0.8となるように形成することによって、容易に、かつ精度良く硬質被覆層を形成することができるとともに、外周刃における耐欠損性および耐摩耗性をともに向上でき、さらに切屑排出性も良好な優れた切削性能を発揮するエンドミルとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエンドミルの一例を示す側面図である。
【図2】図1のA−A線における断面図である。
【図3】本発明のエンドミルの硬質被覆層の成膜方法を説明するための図である。
【符号の説明】
1 エンドミル
2 先端切刃
2a 先端切刃における硬質被覆層
4 逃げ面
4a 逃げ面における硬質被覆層
5 溝底面
5a 溝底面における硬質被覆層
6 外周刃
6a 外周刃における硬質被覆層
7 溝部
8 シャンク部
10 溝壁面

Claims (5)

  1. 先端に配設される先端切刃と、該先端切刃に続く逃げ面と溝底面との間に外周刃を形成した溝部と、該溝部に続くシャンク部とを具備し、少なくとも前記先端切刃と前記溝部の表面に硬質被覆層を被着形成してなるエンドミルの製造方法であって、エンドミル基体を試料回転治具にセットして装置内に載置し、アークイオンプレーティング法によってバイアス電圧30〜100V、成膜温度500〜600℃の条件で、エンドミル基体の回転速度が2〜10rpmとなるように試料回転治具を回転させながら成膜することによって、前記溝底面の硬質被覆層と前記逃げ面の硬質被覆層とを同じ材質にて形成するとともに、前記溝底面の硬質被覆層の膜厚tが前記逃げ面の硬質被覆層の膜厚tに対してt/t比で0.2〜0.8となるように形成ることを特徴とするエンドミルの製造方法
  2. 前記溝底面の算術平均粗さ(Ra)逃げ面の算術平均粗さ(Ra)よりも小さくすることを特徴とする請求項1記載のエンドミルの製造方法
  3. 前記溝底面の硬質被覆層の膜厚t 2μm以下とすることを特徴とする請求項1または2記載のエンドミルの製造方法
  4. 前記外周刃の硬質被覆層の膜厚t 前記逃げ面の硬質被覆層の膜厚tに対してt/t比で0.3〜0.9となるように形成ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載のエンドミルの製造方法
  5. 前記先端切刃の硬質被覆層の膜厚t 前記外周刃の硬質被覆層の膜厚tに対してt/t比で0.5〜0.9となるように形成ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載のエンドミルの製造方法
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