JP4344211B2 - Thermoplastic resin composition, film and substrate material - Google Patents

Thermoplastic resin composition, film and substrate material Download PDF

Info

Publication number
JP4344211B2
JP4344211B2 JP2003353911A JP2003353911A JP4344211B2 JP 4344211 B2 JP4344211 B2 JP 4344211B2 JP 2003353911 A JP2003353911 A JP 2003353911A JP 2003353911 A JP2003353911 A JP 2003353911A JP 4344211 B2 JP4344211 B2 JP 4344211B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermoplastic resin
layered silicate
resin composition
layers
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003353911A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005120149A (en
Inventor
昭彦 藤原
英寛 出口
信弘 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2003353911A priority Critical patent/JP4344211B2/en
Publication of JP2005120149A publication Critical patent/JP2005120149A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4344211B2 publication Critical patent/JP4344211B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

本発明は、熱可塑性樹脂組成物、及び、その熱可塑性樹脂組成物を用いたフィルム及び基板用材料に関する。   The present invention relates to a thermoplastic resin composition, and a film and a substrate material using the thermoplastic resin composition.

近年、電子機器(電気機器も含む)の高性能化、高機能化、小型化等が急速に進んでおり、電子機器に用いられる電子部品にも小型化や軽量化等が強く要請されている。これに伴い、電子部品の素材についても、耐熱性、機械的強度、電気特性等の諸物性の更なる改善が求められており、例えば、半導体素子のパッケージ方法や半導体素子を実装する配線板についても、より高密度、より高機能、且つ、より高性能なものが求められている。又、昨今の環境意識の高まりに伴い、例えば、リサイクル性に優れていること、ハロゲン元素を含有していないこと、鉛フリーの半田を使用すること等の低環境負荷性の付与も求められている。   In recent years, electronic devices (including electrical devices) have been rapidly improved in performance, functionality, and downsizing, and electronic components used in electronic devices are also strongly required to be downsized and lightened. . As a result, further improvements in physical properties such as heat resistance, mechanical strength, and electrical characteristics have been demanded for the materials of electronic components. For example, for semiconductor device packaging methods and wiring boards for mounting semiconductor devices. However, there is a demand for higher density, higher functionality, and higher performance. In addition, with the recent increase in environmental awareness, it is also required to provide low environmental impact such as excellent recyclability, no halogen elements, and the use of lead-free solder. Yes.

電子機器に用いられる多層プリント基板は、複数層の絶縁基板(層間絶縁基板)により構成されており、従来、この層間絶縁基板としては、例えば、熱硬化性樹脂をガラスクロスに含浸させた熱硬化性樹脂プリプレグや、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂からなるフィルム等が用いられてきた。上記多層プリント基板においても、高密度化や薄型化等のために層間を極めて薄くすることが要求されており、薄型のガラスクロスを用いた層間絶縁基板やガラスクロスを用いない層間絶縁基板が必要とされている。   Multilayer printed circuit boards used in electronic devices are composed of multiple layers of insulating substrates (interlayer insulating substrates). Conventionally, as this interlayer insulating substrate, for example, thermosetting resin impregnated with a thermosetting resin A curable resin prepreg, a film made of a thermosetting resin or a photocurable resin, and the like have been used. Even in the multilayer printed circuit board, the interlayer is required to be extremely thin for high density and thinning, and an interlayer insulating substrate using a thin glass cloth or an interlayer insulating substrate not using a glass cloth is required. It is said that.

そのような層間絶縁基板として、ゴム(エラストマー)類やアクリル樹脂等で変性した熱硬化性樹脂材料からなる層間絶縁基板や、無機充填剤を大量に配合した熱可塑性樹脂材料からなる層間絶縁基板等が検討されており、例えば、重量平均分子量が50000以上の高分子量エポキシ重合体、多官能エポキシ樹脂、硬化剤、架橋剤を主成分とするワニスに、平均粒子径が0.8〜5μmの非繊維状の無機充填剤を配合し、支持体の片面もしくは両面に塗布し、溶媒を除去して得られたエポキシ接着フィルムを絶縁層として使用する多層プリント配線板(多層絶縁基板)の製造方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。   As such an interlayer insulating substrate, an interlayer insulating substrate made of a thermosetting resin material modified with rubber (elastomer) or acrylic resin, an interlayer insulating substrate made of a thermoplastic resin material containing a large amount of an inorganic filler, etc. For example, a varnish mainly composed of a high molecular weight epoxy polymer having a weight average molecular weight of 50,000 or more, a polyfunctional epoxy resin, a curing agent, and a crosslinking agent has a mean particle diameter of 0.8 to 5 μm. There is a method for producing a multilayer printed wiring board (multilayer insulating substrate) in which a fibrous inorganic filler is blended, applied to one or both sides of a support, and an epoxy adhesive film obtained by removing the solvent is used as an insulating layer. (For example, refer to Patent Document 1).

しかし、上記製造方法により作製される多層絶縁基板には、高分子量エポキシ重合体や多官能エポキシ樹脂と無機充填剤との界面面積を確保して機械的強度などの力学的物性を十分に向上させるために、多量の無機充填剤を配合する必要があるため、製造工程が増加したり煩雑になる等の加工上の不具合が生じるという問題点や、層間を薄くすることが困難であるという問題点がある。   However, the multilayer insulating substrate produced by the above-described manufacturing method sufficiently improves the mechanical properties such as mechanical strength by securing the interface area between the high molecular weight epoxy polymer or polyfunctional epoxy resin and the inorganic filler. Therefore, since it is necessary to add a large amount of inorganic filler, there are problems that processing problems such as an increase in the manufacturing process and complexity, and a problem that it is difficult to make the interlayer thin. There is.

又、薄型のガラスクロスを用いた層間絶縁基板やガラスクロスを用いない層間絶縁基板には、耐熱性や寸法安定性等が不十分であるという問題点や、脆弱で割れ易いために、製造工程で不具合を生じることが多いという問題点がある。   In addition, the interlayer insulation substrate using a thin glass cloth and the interlayer insulation substrate not using a glass cloth have problems such as insufficient heat resistance and dimensional stability, and are fragile and easily broken. There is a problem that many problems occur.

一方、ポリイミドフィルムは、種々のプラスチックフィルムの中でも、耐熱性、低温特性、耐薬品性、電気特性等に優れていることから、電子機器用途の材料としてのみならず、宇宙分野や航空分野から電子通信分野まで幅広く用いられている。   Polyimide films, on the other hand, are superior in heat resistance, low temperature characteristics, chemical resistance, electrical characteristics, etc. among various plastic films. Widely used in the communications field.

しかし、上記ポリイミドフィルムも種々の要求性能を十分に満足するものではなく、用途に応じて種々の性能を併せ持つことが要求されている。特に電子機器用途の材料としては、高機能化や小型化に対応するために、吸水率(吸湿率)の低いポリイミドフィルムが
望まれている。吸水率(吸湿率)を低くすることにより、吸水(吸湿)による誘電率などの電気的特性の低下や吸水(吸湿)・膨張による寸法変化の発生等の不具合を抑制することができる。又、吸水率(吸湿率)を低くすること以外にも、例えばTAB用テープの製造を考えると、応力を受ける工程や温度変化を受ける工程を数多く含むため、基材フィルム(ベースフィルム)としてのポリイミドフィルム(有機絶縁フィルム)には、応力や温度変化による寸法の変化が小さいこと、即ち、寸法安定性に優れていることが要求される。
However, the polyimide film does not sufficiently satisfy various required performances, and is required to have various performances depending on applications. In particular, as a material for electronic equipment, a polyimide film having a low water absorption rate (moisture absorption rate) is desired in order to cope with high functionality and downsizing. By reducing the water absorption rate (moisture absorption rate), it is possible to suppress problems such as a decrease in electrical characteristics such as dielectric constant due to water absorption (moisture absorption) and the occurrence of dimensional changes due to water absorption (moisture absorption) and expansion. In addition to lowering the water absorption rate (moisture absorption rate), for example, when considering the production of TAB tape, since it includes many processes that receive stress and processes that undergo temperature changes, the base film (base film) The polyimide film (organic insulating film) is required to have a small dimensional change due to stress and temperature change, that is, excellent in dimensional stability.

このように、高性能化、高機能化、小型化等に伴い、TAB用テープやフレキシブルプリント基板の基材フィルム或いは積層板用樹脂としては、耐熱性以外にも、熱や吸水(吸湿)による寸法変化が小さく、弾性率が高いことが望まれている。   As described above, as the performance of the TAB tape, the substrate film of the flexible printed circuit board, and the resin for the laminated board are increased due to high performance, high functionality, downsizing, etc., in addition to heat resistance, heat and water absorption (moisture absorption) It is desired that the dimensional change is small and the elastic modulus is high.

このような要求に応えるために種々の試みがなされており、例えば、吸水率が1.6重量%以下であり、吸湿膨張係数が15ppm以下である、特定の構造を有する新規なポリイミド樹脂及びこのポリイミド樹脂からなるポリイミドフィルムが開示されている(例えば、特許文献2参照。)。   Various attempts have been made to meet such demands. For example, a novel polyimide resin having a specific structure having a water absorption rate of 1.6% by weight or less and a hygroscopic expansion coefficient of 15 ppm or less, and this A polyimide film made of a polyimide resin is disclosed (for example, see Patent Document 2).

しかし、上記ポリイミド樹脂は非熱可塑性樹脂であるため、ポリイミドフィルムの製膜に際しては流延法を採っている。このように、非熱可塑性樹脂の場合は、熱による成形加工が困難であるという問題点や、設備費や製造コストが高くなるという問題点、又、リサイクルが困難であるという問題点がある。以上のように、種々の要求性能を十分に満足するポリイミドフィルムは実用化されていないのが現状である。
特開2000−183539号公報 特開平10−36506号公報
However, since the polyimide resin is a non-thermoplastic resin, a casting method is adopted when forming the polyimide film. As described above, in the case of a non-thermoplastic resin, there are a problem that molding by heat is difficult, a problem that equipment costs and manufacturing costs are high, and a problem that recycling is difficult. As described above, a polyimide film that sufficiently satisfies various required performances has not been put into practical use.
JP 2000-183539 A Japanese Patent Laid-Open No. 10-36506

本発明の目的は、上記問題点及び現状に鑑み、吸水性(吸湿性)が低く、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現する成形体を得るに適する熱可塑性樹脂組成物、及び、その熱可塑性樹脂組成物を用いたフィルム及び基板用材料を提供することにある。   In view of the above problems and the present situation, the object of the present invention is a thermoplastic resin composition suitable for obtaining a molded article having low water absorption (hygroscopicity) and exhibiting excellent dimensional stability even under high temperature and high humidity, and An object of the present invention is to provide a film and a substrate material using the thermoplastic resin composition.

本発明等は、上記課題を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定のイミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩を用いることにより、熱可塑性樹脂中に上記層状珪酸塩を高分散させることが可能となって、吸水性(吸湿性)が極めて低く、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現する成形体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in order to achieve the above-mentioned problems, the present invention, etc., highly disperses the above-mentioned layered silicate in a thermoplastic resin by using a layered silicate organized by a specific imidazolium ion. As a result, it has been found that a molded article that has extremely low water absorption (hygroscopicity) and exhibits excellent dimensional stability even under high temperature and high humidity can be obtained, and the present invention has been completed.

即ち、請求項1に記載の発明(本発明)による熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂100重量部に対し、分子量が200以上であるイミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩0.5〜45重量部が含有されており、イミダゾリウムイオンが式(1)記載の構造であることを特徴とする。 That is, the thermoplastic resin composition according to the first aspect of the present invention (the present invention) is a layered silicate that is organized with imidazolium ions having a molecular weight of 200 or more with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin. 45 parts by weight are contained, Lee Mi Dazo potassium ions, characterized in that a structure of the formula (1) wherein.

Figure 0004344211
Figure 0004344211

(式中、R、R、R、R、Rの1つは、少なくとも芳香族環を有する基であり、また、R、R、Rの少なくとも1つは、H以外の基である)
請求項に記載の発明による熱可塑性樹脂組成物は、上記請求項1に記載の熱可塑性樹脂組成物において、熱可塑性樹脂が、ガラス転移温度が150℃以上であり、且つ、溶解度パラメーターが42.0(J/cm1/2以上であることを特徴とする。
(In the formula, one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 is a group having at least an aromatic ring, and at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is H Is a group other than
The thermoplastic resin composition according to the invention according to claim 2, the thermoplastic resin composition according to claim 1, the thermoplastic resin is a glass transition temperature of 0.99 ° C. or more and a solubility parameter of 42 0.0 (J / cm 3 ) 1/2 or more.

請求項に記載の発明による熱可塑性樹脂組成物は、上記請求項1または2に記載の熱可塑性樹脂組成物において、熱可塑性樹脂が、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂及びポリエーテルエーテルケトン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種類であることを特徴とする。 The thermoplastic resin composition according to the invention described in claim 3 is the thermoplastic resin composition according to claim 1 or 2 , wherein the thermoplastic resin is a polyimide resin, a polyesterimide resin, a polyetherimide resin, or a polyether. It is at least one selected from the group consisting of ether ketone resins.

請求項に記載の発明による熱可塑性樹脂組成物は、上記請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物において、層状珪酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群より選択される少なくとも1種類であることを特徴とする。 The thermoplastic resin composition according to the invention described in claim 4 is the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the layered silicate is montmorillonite, hectorite, swellability. It is at least one selected from the group consisting of mica and vermiculite.

請求項に記載の発明による熱可塑性樹脂組成物は、上記請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物において、層状珪酸塩が、広角X線回折測定法により測定された(001)面の平均層間距離が3nm以上であり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散していることを特徴とする。 The thermoplastic resin composition according to claim 5 is the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein the layered silicate is obtained by a wide-angle X-ray diffraction measurement method. The measured average distance between layers of the (001) plane is 3 nm or more, and part or all of them are dispersed as a laminate of 5 layers or less.

請求項に記載の発明(本発明)によるフィルムは、上記請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製されることを特徴とする。 A film according to the invention described in claim 6 (the present invention) is produced using the thermoplastic resin composition described in any one of claims 1 to 5 .

請求項に記載の発明(本発明)による基板用材料は、上記請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製されることを特徴とする。以下、本発明を詳細に説明する。 A substrate material according to the invention described in claim 7 (the present invention) is produced using the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 5 . Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の熱可塑性樹脂組成物に用いられる熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度(Tg)が150℃以上であることが好ましく、より好ましくは200℃以上であり、更に好ましくは220℃以上である。尚、本発明で言うガラス転移温度とは、JIS K−7121「プラスチックの転移温度測定方法」に準拠して測定されたガラス転移温度を意味する。   The thermoplastic resin used in the thermoplastic resin composition of the present invention preferably has a glass transition temperature (Tg) of 150 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, and still more preferably 220 ° C. or higher. In addition, the glass transition temperature said by this invention means the glass transition temperature measured based on JISK-7121 "Plastic transition temperature measuring method".

上記熱可塑性樹脂のガラス転移温度が150℃未満であると、得られる熱可塑性樹脂組成物を用いて作製される成形体の耐熱性が不十分となって、成形体を例えば基板用材料として用いた場合、高温物性、特に鉛フリーの半田耐熱性や加熱に対する寸法安定性等が不十分となることがある。   If the glass transition temperature of the thermoplastic resin is less than 150 ° C., the molded article produced using the thermoplastic resin composition obtained has insufficient heat resistance, and the molded article is used as a substrate material, for example. In such a case, high-temperature physical properties, particularly lead-free solder heat resistance and dimensional stability against heating, may be insufficient.

又、本発明の熱可塑性樹脂組成物に用いられる熱可塑性樹脂は、溶解度パラメーター(
SP値)が42.0(J/cm31/2以上であることが好ましく、より好ましくは46.2(J/cm31/2以上であり、更に好ましくは52.5(J/cm31/2以上である。尚、本発明で言う溶解度パラメーターとは、Fedorsの計算式を用いて求められた溶解度パラメーターを意味する。上記Fedorsの計算式によれば、溶解度パラメーターは、各原子団のモル凝集エネルギーの和を体積で除したものの平方根であって、単位体積当たりの極性を示すものであり、上記溶解度パラメーターが大きいほど極性が高いことになる。
In addition, the thermoplastic resin used in the thermoplastic resin composition of the present invention has a solubility parameter (
The SP value is preferably 42.0 (J / cm 3 ) 1/2 or more, more preferably 46.2 (J / cm 3 ) 1/2 or more, and further preferably 52.5 (J / Cm 3 ) 1/2 or more. In addition, the solubility parameter said by this invention means the solubility parameter calculated | required using the calculation formula of Fedors. According to the Fedors equation, the solubility parameter is the square root of the sum of the molar cohesive energies of each atomic group divided by the volume, and indicates the polarity per unit volume. The greater the solubility parameter, the greater the solubility parameter. The polarity will be high.

上記熱可塑性樹脂の溶解度パラメーターが42.0(J/cm31/2未満であると、熱可塑性樹脂の極性が十分に高くならないため、後述するイミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩との親和性(相溶性)が不十分となって、熱可塑性樹脂中に上記層状珪酸塩を高分散(ナノ分散)させることが困難となることがある。 When the solubility parameter of the thermoplastic resin is less than 42.0 (J / cm 3 ) 1/2 , the polarity of the thermoplastic resin does not become sufficiently high, so that the layered silicate organized by imidazolium ions described later May not be sufficiently dispersed (nanodispersed) in the thermoplastic resin.

このような特性(ガラス転移温度及び溶解度パラメーター)を有する熱可塑性樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド12などのポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂等が挙げられ、中でも、耐熱性が優れているポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂及びポリエーテルエーテルケトン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種類が好適に用いられる。これらの熱可塑性樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   The thermoplastic resin having such characteristics (glass transition temperature and solubility parameter) is not particularly limited. For example, polyester resins such as polybutylene terephthalate, polybutylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. , Polyamide resins such as polyamide 6, polyamide 66 and polyamide 12, polyamide imide resins, polyimide resins, polyester imide resins, polyether imide resins, polyether ether ketone resins, polyphenylene ether resins, modified polyphenylene ether resins, polybenzimidazole resins, etc. Among them, it is composed of a polyimide resin, a polyesterimide resin, a polyetherimide resin and a polyetheretherketone resin, which are excellent in heat resistance. At least one being more selective is preferably used. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.

本発明の熱可塑性樹脂組成物に用いられる層状珪酸塩とは、結晶層間に交換性金属カチオンを有する珪酸塩鉱物を意味する。   The layered silicate used in the thermoplastic resin composition of the present invention means a silicate mineral having an exchangeable metal cation between crystal layers.

上記層状珪酸塩としては、特に限定されるものではないが、例えば、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スティブンサイト、ノントロナイトなどのスメクタイト系粘土鉱物や、膨潤性マイカ(膨潤性雲母)、バーミキュライト、ハロイサイト等が挙げら、中でも、有機溶剤への膨潤性が良く有機処理がし易い、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群より選択される少なくとも1種類が好適に用いられる。これらの層状珪酸塩は、天然物であっても良いし、合成物であっても良い。又、これらの層状珪酸塩は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   The layered silicate is not particularly limited. For example, smectite clay minerals such as montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, stevensite, nontronite, and swelling mica (swelling mica) Among them, at least one selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite, swellable mica and vermiculite is preferably used. . These layered silicates may be natural products or synthetic products. Moreover, these layered silicates may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記層状珪酸塩としては、下記関係式で定義される形状異方性効果の大きいものを用いることが好ましい。形状異方性効果の大きい層状珪酸塩を用いることにより、得られる熱可塑性樹脂組成物ひいては成形体はより優れた力学的物性を発現するものとなる。   As the layered silicate, it is preferable to use one having a large shape anisotropy effect defined by the following relational expression. By using a layered silicate having a large shape anisotropy effect, the resulting thermoplastic resin composition, and thus the molded body, exhibits more excellent mechanical properties.

形状異方性効果=結晶表面(A)の面積/結晶表面(B)の面積
式中、結晶表面(A)は層の表面を意味し、結晶表面(B)は層の側面を意味する。
Shape anisotropy effect = area of crystal surface (A) / area of crystal surface (B) In the formula of crystal surface (A), the crystal surface (A) means the surface of the layer, and the crystal surface (B) means the side surface of the layer.

上記層状珪酸塩の形状は、特に限定されるものではないが、凝集構造を解砕した結晶薄片の平均長さが0.01〜3μm、厚みが0.001〜1μm、アスペクト比が20〜500であるものが好ましく、より好ましくは、平均長さが0.05〜2μm、厚みが0.01〜0.5μm、アスペクト比が50〜200のものである。   The shape of the layered silicate is not particularly limited, but the average length of the crystal flakes obtained by crushing the aggregated structure is 0.01 to 3 μm, the thickness is 0.001 to 1 μm, and the aspect ratio is 20 to 500. More preferably, the average length is 0.05 to 2 μm, the thickness is 0.01 to 0.5 μm, and the aspect ratio is 50 to 200.

上記層状珪酸塩の結晶層間に存在する交換性金属カチオンとは、層状珪酸塩の結晶表面上に存在するナトリウムやカルシウムなどの金属のイオンのことであり、これらの金属の
イオンは、他のカチオン性物質とのカチオン交換性を有するため、カチオン性を有する種々の物質を上記層状珪酸塩の結晶層間に挿入(インターカレート)もしくは捕捉することができる。
The exchangeable metal cation existing between the layered silicate crystal layers is an ion of a metal such as sodium or calcium existing on the surface of the layered silicate crystal, and these metal ions are other cations. Since it has a cation exchange property with an active substance, various cationic substances can be inserted (intercalated) or captured between the crystal layers of the layered silicate.

上記層状珪酸塩のカチオン交換容量は、特に限定されるものではないが、50〜200ミリ等量/100gであることが好ましい。層状珪酸塩のカチオン交換容量が50ミリ等量/100g未満であると、カチオン交換により層状珪酸塩の結晶層間に挿入もしくは捕捉されるカチオン性物質の量が少なくなるため、結晶層間が十分に非極性化(疎水化)されないことがあり、逆に層状珪酸塩のカチオン交換容量が200ミリ等量/100gを超えると、層状珪酸塩の結晶層間の結合力が強固になりすぎて、結晶薄片が剥離し難くなることがある。   The cation exchange capacity of the layered silicate is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 milliequivalent / 100 g. When the cation exchange capacity of the layered silicate is less than 50 milliequivalents / 100 g, the amount of the cationic substance inserted or trapped between the crystal layers of the layered silicate due to the cation exchange is reduced, so that the crystal layer is not sufficiently separated If the cation exchange capacity of the layered silicate exceeds 200 milliequivalents / 100 g, the bonding force between the crystal layers of the layered silicate becomes too strong, and the crystal flakes may not be polarized (hydrophobized). May become difficult to peel.

本発明の熱可塑性樹脂組成物に用いられる上記層状珪酸塩は、分子量が200以上のイミダゾリウムイオンにより有機化(化学修飾)されている。分子量が200未満であると、有機化処理した層状珪酸塩の層間が十分に広がらず剥離性が悪くなり、樹脂中に高分散させる事が出来ない。また、層状珪酸塩を樹脂中に高分散させるためには、分子量が225以上のイミダゾリウムイオンにより有機化されていることがより好ましく、分子量が250以上のイミダゾリウムイオンにより有機化されていることが更に好ましい。   The layered silicate used in the thermoplastic resin composition of the present invention is organically (chemically modified) with imidazolium ions having a molecular weight of 200 or more. When the molecular weight is less than 200, the layer of the layered silicate that has been subjected to the organic treatment is not sufficiently spread and the peelability is deteriorated, so that it cannot be highly dispersed in the resin. In order to highly disperse the layered silicate in the resin, it is more preferably organicized with imidazolium ions having a molecular weight of 225 or higher, and organicized with imidazolium ions having a molecular weight of 250 or higher. Is more preferable.

更には、イミダゾリウムイオンが式1で示される構造を有していることが好ましい。側鎖に芳香族環を有する基を有することにより、有機化処理した層状珪酸塩の耐熱性が向上し、樹脂との高温混練でも分解することが少なく、樹脂中に高分散させることが出来る。   Furthermore, it is preferable that the imidazolium ion has a structure represented by Formula 1. By having a group having an aromatic ring in the side chain, the heat resistance of the organically treated layered silicate is improved, and it is hardly decomposed even at high temperature kneading with the resin and can be highly dispersed in the resin.

Figure 0004344211
Figure 0004344211

(式中、R1、R2、R3、R4、R5の1つは、少なくとも芳香族環を有する基であり、ま
た、R1、R2、R3の少なくとも1つは、H以外の基である。上記芳香族環を有する基と
は、例えばフェニル基やベンジル基などを有する基が挙げられる。)
上記イミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩を用いることにより、熱可塑性樹脂中に層状珪酸塩を大量に且つ高分散状態(ナノ分散状態)で分散させることができる。即ち、本発明で用いられる熱可塑性樹脂及び/又は本発明の熱可塑性樹脂組成物を製造する際に用いられる溶媒に適合する有機化を層状珪酸塩に施さなかった場合、層状珪酸塩が凝集し易くなって、熱可塑性樹脂中に層状珪酸塩を大量に且つ高分散状態で分散させることが困難となるが、層状珪酸塩に上記有機化を施すことにより、層状珪酸塩は凝集し難くなって、熱可塑性樹脂中に層状珪酸塩を大量に且つ高分散状態で分散させることができる。
(In the formula, one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 is a group having at least an aromatic ring, and at least one of R 1 , R 2 , R 3 is H (Examples of the group having an aromatic ring include a group having a phenyl group or a benzyl group.)
By using the layered silicate that has been organized with the imidazolium ions, the layered silicate can be dispersed in a large amount in a highly dispersed state (nanodispersed state) in the thermoplastic resin. That is, when the layered silicate is not subjected to organicization suitable for the solvent used in producing the thermoplastic resin and / or the thermoplastic resin composition of the present invention, the layered silicate aggregates. It becomes easy and it becomes difficult to disperse the layered silicate in the thermoplastic resin in a large amount and in a highly dispersed state, but the layered silicate becomes difficult to aggregate by applying the above-mentioned organication to the layered silicate. The layered silicate can be dispersed in a large amount and in a highly dispersed state in the thermoplastic resin.

上記層状珪酸塩のイミダゾリウムイオンによる有機化方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、上記イミダゾリウムイオンにイオン化し得るカチオン性界面活性剤によるカチオン交換法が挙げられる。   The method for organizing the layered silicate with imidazolium ions is not particularly limited, and examples thereof include a cation exchange method using a cationic surfactant that can be ionized into the imidazolium ions.

上記カチオン性界面活性剤によるカチオン交換法で層状珪酸塩の結晶層間を非極性化(
疎水化)しておくことにより、熱可塑性樹脂として例えばポリフェニレンエーテル樹脂などの低極性樹脂を用いる場合でも、熱可塑性樹脂(低極性樹脂)と層状珪酸塩との親和性が高まり、熱可塑性樹脂(低極性樹脂)中に層状珪酸塩を大量に且つ高分散状態で分散させることができる。
Non-polarization between the crystal layers of the layered silicate by the cation exchange method with the above cationic surfactant (
By making it hydrophobic, the affinity between the thermoplastic resin (low polarity resin) and the layered silicate is increased even when a low polarity resin such as polyphenylene ether resin is used as the thermoplastic resin. The layered silicate can be dispersed in a large amount and in a highly dispersed state in the low polar resin).

上記イミダゾリウムイオン化し得るカチオン性界面活性剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、1,2−ジメチル−3−オクチルイミダゾリウム塩、1,2−ジメチル−3−デシルイミダゾリウム塩、1,3−ジベンジル−2−フェニルイミダゾリウム
、1,3−ジベンジル−2−フェニル−4(5)−メチルイミダゾリウム、1−ベンジル−
2−フェニル−4(5)−メチルイミダゾリウム塩、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウム塩、1−オクチル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウム塩、1−デシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウム塩、1−デシル−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウム塩、1−オクチル−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウム塩、1−ブチル−4,5−ジフェニルイミダゾリウム塩、1−オクチル−4,5−ジフェニルイミダゾリウム塩、1−デシル−4,5−ジフェニルイミダゾリウム塩、1−ベンジル−4,5−ジフェニルイミダゾリウム塩、1−(3−フタルイミドプロピル)−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウム塩、1−(2−フェニルエチル)−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウム塩等が挙げられる。これらの上記イミダゾリウムイオンにイオン化し得るカチオン性界面活性剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
The cationic surfactant capable of ionizing the imidazolium is not particularly limited, and examples thereof include 1,2-dimethyl-3-octylimidazolium salt and 1,2-dimethyl-3-decylimidazolium salt. 1,3-dibenzyl-2-phenylimidazolium, 1,3-dibenzyl-2-phenyl-4 (5) -methylimidazolium, 1-benzyl-
2-phenyl-4 (5) -methylimidazolium salt, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium salt, 1-octyl-2-methyl-3-benzylimidazolium salt, 1-decyl-2- Methyl-3-benzylimidazolium salt, 1-decyl-2-phenyl-3-benzylimidazolium salt, 1-octyl-2-phenyl-3-benzylimidazolium salt, 1-butyl-4,5-diphenylimidazolium Salt, 1-octyl-4,5-diphenylimidazolium salt, 1-decyl-4,5-diphenylimidazolium salt, 1-benzyl-4,5-diphenylimidazolium salt, 1- (3-phthalimidopropyl)- 2-phenyl-3-benzylimidazolium salt, 1- (2-phenylethyl) -2-phenyl-3-benzylimidazoli Salt-free, and the like. These cationic surfactants that can be ionized into imidazolium ions may be used alone or in combination of two or more.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、前記熱可塑性樹脂100重量部に対し、上記イミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩0.5〜45重量部が含有されてなることが必要であり、好ましくは1〜35重量部であり、より好ましくは1.5〜25重量部である。   The thermoplastic resin composition of the present invention needs to contain 0.5 to 45 parts by weight of a layered silicate organized by the imidazolium ion with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin, Preferably it is 1-35 weight part, More preferably, it is 1.5-25 weight part.

熱可塑性樹脂100重量部に対する上記イミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩の含有量が0.5重量部未満であると、得られる熱可塑性樹脂組成物ひいては成形体の上記層状珪酸塩を含有させることによる高温物性の向上効果や吸水性(吸湿性)の低減効果が不十分となり、逆に熱可塑性樹脂100重量部に対する上記有機オニウムイオンにより有機化された層状珪酸塩の含有量が45重量部を超えると、得られる熱可塑性樹脂組成物ひいては成形体の密度(比重)が高くなり過ぎ、且つ、機械的強度などの力学的物性も低下して、実用性が乏しくなる。   When the content of the layered silicate organized by the imidazolium ions with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin is less than 0.5 parts by weight, the resulting thermoplastic resin composition and thus the molded layered silicate is contained. The effect of improving the high-temperature physical properties and the effect of reducing the water absorption (hygroscopicity) are insufficient, and conversely, the content of the layered silicate organized by the organic onium ions with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin is 45% by weight. When the amount exceeds 50 parts, the density (specific gravity) of the resulting thermoplastic resin composition and thus the molded body becomes too high, and mechanical properties such as mechanical strength are also lowered, resulting in poor practicality.

本発明の熱可塑性樹脂組成物中においては、上記層状珪酸塩が、広角X線回折測定法により測定された(001)面の平均層間距離が3nm以上であり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散していることが好ましく、より好ましくは、上記平均層間距離が3〜5nmであり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散していることである。尚、本発明で言う層状珪酸塩の平均層間距離とは、層状珪酸塩の微細薄片状結晶を層とした場合の平均の層間距離を意味し、X線回折ピーク及び透過型電子顕微鏡撮影により、即ち、広角X線回折測定法により、算出することができる。又、層状珪酸塩の分散状態は、透過型電子顕微鏡による5万倍から10万倍の倍率で観察して、一定面積中において観察できる層状珪酸塩の積層体の全層数(X)及び5層以下の積層体として分散している積層体の層数(Y)を計測し、下記計算式により算出することができる。   In the thermoplastic resin composition of the present invention, the layered silicate has an (001) plane average interlayer distance of 3 nm or more measured by a wide-angle X-ray diffraction measurement method, and part or all of the layered silicate is 5 It is preferable to be dispersed as a laminate having a layer or less, more preferably, the average interlayer distance is 3 to 5 nm, and part or all of the laminate is dispersed as a laminate having 5 layers or less. . In addition, the average interlayer distance of the layered silicate referred to in the present invention means the average interlayer distance when the layered silicate fine flaky crystal is used as a layer, and by X-ray diffraction peak and transmission electron microscope photography, That is, it can be calculated by a wide-angle X-ray diffraction measurement method. The dispersion state of the layered silicate is observed with a transmission electron microscope at a magnification of 50,000 to 100,000, and the total number of layers (X) and 5 of the layered silicate laminate that can be observed in a certain area. The number of layers (Y) of the laminated body dispersed as a laminated body of layers or less can be measured and calculated by the following calculation formula.

5層以下の積層体の分散割合(%)=(Y/X)×100
層状珪酸塩の平均層間距離が3nm以上であるということは、層状珪酸塩の層間が3nm以上に開裂していることを意味しており、又、層状珪酸塩の一部又は全部が5層以下の積層体として分散しているということは、層状珪酸塩の積層体の一部又は全部が熱可塑性樹脂組成物中に広く分散していることを意味しており、いずれも層状珪酸塩の層間の相互
作用が弱まっていることを意味する。
Dispersion ratio (%) of laminate of 5 layers or less = (Y / X) × 100
That the average interlayer distance of the layered silicate is 3 nm or more means that the interlayer of the layered silicate is cleaved to 3 nm or more, and part or all of the layered silicate is 5 layers or less. Dispersion as a laminate of the above means that part or all of the layered silicate laminate is widely dispersed in the thermoplastic resin composition, both of which are layered silicate layers. Means that the interaction is weakened.

層状珪酸塩の平均層間距離が3nm以上であり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散していることにより、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩との界面面積が十分に大きくなると共に、層状珪酸塩の薄片状結晶間の距離が適度なものとなって、得られる熱可塑性樹脂組成物ひいては成形体の力学的物性、高温物性、耐熱性、寸法安定性等が著しく向上する。   When the average interlayer distance of the layered silicate is 3 nm or more and a part or all of the layered silicate is dispersed as a laminate of 5 layers or less, the interface area between the thermoplastic resin and the layered silicate becomes sufficiently large. At the same time, the distance between the flaky crystals of the layered silicate becomes appropriate, and the resulting thermoplastic resin composition, and thus the mechanical properties, high-temperature properties, heat resistance, dimensional stability, etc. of the molded product are remarkably improved.

又、層状珪酸塩の平均層間距離が5nmを超えると、層状珪酸塩の結晶薄片がほぼ層毎に分離して、層状珪酸塩の層間における相互作用が殆ど無視できるほどに弱まるので、高温での束縛強度が弱くなって、得られる熱可塑性樹脂組成物ひいては成形体の特に高温下における寸法安定性が不十分となることがある。   Also, when the average interlayer distance of the layered silicate exceeds 5 nm, the crystallites of the layered silicate are separated into layers, and the interaction between the layers of the layered silicate becomes so weak that it can be almost ignored. The binding strength is weakened, and the resulting thermoplastic resin composition, and thus the molded article, may have insufficient dimensional stability, particularly at high temperatures.

層状珪酸塩の一部又は全部が5層以下の積層体として分散しているということは、具体的には、層状珪酸塩の積層体の10%以上が5層以下の積層体として分散している状態にあることが好ましいことを意味し、より好ましくは層状珪酸塩の積層体の20%以上が5層以下の積層体として分散している状態である。   That part or all of the layered silicate is dispersed as a laminate of 5 layers or less, specifically, 10% or more of the layered silicate laminate is dispersed as a laminate of 5 layers or less. It means that it is preferable to be in a state of being, and more preferably 20% or more of the layered silicate laminate is dispersed as a laminate of 5 layers or less.

又、層状珪酸塩の積層体における積層数としては、層状珪酸塩の分散による効果を十分に得るためには、5層以下に分層していることが好ましく、より好ましくは3層以下に分層していることであり、更に好ましくは1層に分層していることである。   The number of layers in the layered silicate laminate is preferably divided into 5 layers or less, more preferably 3 layers or less in order to sufficiently obtain the effect of dispersion of the layered silicate. It is that it is layered, more preferably it is divided into one layer.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、前記熱可塑性樹脂100重量部に対し、前記有機オニウムイオンにより有機化された層状珪酸塩0.5〜45重量部を含有させ、上記層状珪酸塩が、広角X線回折測定法により測定された(001)面の平均層間距離が3nm以上であり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散しているものとすることにより、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩との界面面積が十分に大きくなって、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩の表面との相互作用が大きくなる。その結果、熱可塑性樹脂組成物の溶融粘度が適度に高くなって成形性が向上することに加え、常温から高温までの広い温度領域において弾性率などの力学的物性が向上し、熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上又は融点以上の高温下においても力学的物性を保持することができると共に、高温時における線膨張率を低く抑えることもできる。このような効果は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上又は融点以上の高温下においても、熱可塑性樹脂組成物中に高分散状態で存在する層状珪酸塩が一種の疑似架橋点として機能していることにより得られるものと考えられる。   The thermoplastic resin composition of the present invention contains 0.5 to 45 parts by weight of a layered silicate organized by the organic onium ions with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin, and the layered silicate has a wide angle. A thermoplastic resin having an average interlayer distance of (001) plane measured by X-ray diffractometry of 3 nm or more and part or all dispersed as a laminate of 5 layers or less. The interface area between the layered silicate and the layered silicate becomes sufficiently large, and the interaction between the thermoplastic resin and the surface of the layered silicate increases. As a result, the melt viscosity of the thermoplastic resin composition becomes moderately high and the moldability is improved, and the mechanical properties such as the elastic modulus are improved in a wide temperature range from room temperature to high temperature. Mechanical properties can be maintained even at high temperatures above the glass transition temperature or above the melting point, and the linear expansion coefficient at high temperatures can be kept low. Such an effect is that the layered silicate present in a highly dispersed state in the thermoplastic resin composition functions as a kind of pseudo-crosslinking point even at a high temperature not lower than the glass transition temperature or the melting point of the thermoplastic resin. It is thought that it is obtained by this.

又、層状珪酸塩の薄片状結晶間の距離も適度なものとなるので、燃焼時に、層状珪酸塩の薄片状結晶が移動して難燃被膜となる焼結体を形成し易くなる。この焼結体は、燃焼時の早い段階で形成されるので、外界からの酸素の供給を遮断することができると共に、燃焼により発生する可燃性ガスを遮断することもできる。従って、本発明の熱可塑性樹脂組成物ひいては成形体は優れた難燃性を発現するものとなる。   Further, since the distance between the lamellar crystals of the layered silicate is also appropriate, the lamellar crystals of the lamellar silicate move during combustion, and it becomes easy to form a sintered body that becomes a flame retardant coating. Since this sintered body is formed at an early stage during combustion, supply of oxygen from the outside world can be shut off, and combustible gas generated by combustion can be shut off. Therefore, the thermoplastic resin composition of the present invention, and thus the molded product, exhibits excellent flame retardancy.

更に、本発明の熱可塑性樹脂組成物中においては、層状珪酸塩がナノメートルサイズで高分散しているので、本発明の熱可塑性樹脂組成物から例えば基板用材料を作製し、この基板用材料に炭酸ガスレーザなどのレーザにより穿孔加工を施した場合、熱可塑性樹脂成分と層状珪酸塩成分とが同時に分解蒸発すると共に、部分的に残存する層状珪酸塩の残渣も数μm以下の小さなもののみであるため、デスミア加工により容易に除去することができる。従って、穿孔加工により発生する層状珪酸塩の残渣によってメッキ不良等が発生するのを効果的に防止することができる。   Further, in the thermoplastic resin composition of the present invention, since the layered silicate is highly dispersed in nanometer size, for example, a substrate material is prepared from the thermoplastic resin composition of the present invention, and this substrate material When drilling is performed with a laser such as a carbon dioxide laser, the thermoplastic resin component and the layered silicate component are simultaneously decomposed and evaporated, and the partially remaining layered silicate residue is only a few μm or less. Therefore, it can be easily removed by desmearing. Accordingly, it is possible to effectively prevent the occurrence of defective plating due to the layered silicate residue generated by drilling.

本発明の熱可塑性樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されるものではないが、例
えば、熱可塑性樹脂の原料となるモノマーと層状珪酸塩とを混練し、この状態で重合反応を行って熱可塑性樹脂を得る方法、例えば押出機、二本ロール、バンバリーミキサーなどの混練機を用いて、常温下もしくは加熱下で、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩とを溶融混練する方法、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩とが溶解もしくは分散し得る溶媒中で両者を混練した後、溶媒を除去する方法等が挙げられ、いずれの製造方法が採られても良い。
The method for producing the thermoplastic resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, a monomer that is a raw material for the thermoplastic resin and a layered silicate are kneaded, and a polymerization reaction is performed in this state. A method for obtaining a thermoplastic resin, for example, a method for melt-kneading a thermoplastic resin and a layered silicate at room temperature or under heating using a kneader such as an extruder, a two-roller, a Banbury mixer, etc., and a thermoplastic resin A method of removing the solvent after kneading both in a solvent in which the layered silicate can be dissolved or dispersed may be used, and any production method may be adopted.

又、熱可塑性樹脂中に層状珪酸塩をより均一且つ微細に分散させる方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩とを常法により混練した後に発泡剤を用いて熱可塑性樹脂を発泡させる方法、分散剤を用いる方法等が挙げられ、いずれの分散方法が採られても良い。このような分散方法を採ることにより、熱可塑性樹脂中に層状珪酸塩をより均一且つ微細に分散させることができる。   Further, the method for dispersing the layered silicate more uniformly and finely in the thermoplastic resin is not particularly limited. For example, the foaming agent is obtained after kneading the thermoplastic resin and the layered silicate by a conventional method. A method of foaming a thermoplastic resin by using a method, a method of using a dispersant, and the like can be mentioned, and any dispersion method may be adopted. By adopting such a dispersion method, the layered silicate can be more uniformly and finely dispersed in the thermoplastic resin.

上記熱可塑性樹脂と層状珪酸塩とを常法により混練した後に発泡剤を用いて熱可塑性樹脂を発泡させる方法は、発泡によるエネルギーを層状珪酸塩の分散に活用する方法である。   The method in which the thermoplastic resin and the layered silicate are kneaded by a conventional method and then the thermoplastic resin is foamed using a foaming agent is a method in which the energy of foaming is utilized for the dispersion of the layered silicate.

上記発泡剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、気体状発泡剤、易揮発性液体状発泡剤、加熱分解型固体状発泡剤等が挙げられる。これらの発泡剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   Although it does not specifically limit as said foaming agent, For example, a gaseous foaming agent, an easily volatile liquid foaming agent, a heat decomposable solid foaming agent etc. are mentioned. These foaming agents may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記熱可塑性樹脂と層状珪酸塩とを常法により混練した後に発泡剤を用いて熱可塑性樹脂を発泡させる具体的な方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性樹脂と層状珪酸塩とからなる熱可塑性樹脂組成物に気体状発泡剤を高圧下で含浸させた後、この気体状発泡剤を上記熱可塑性樹脂組成物内で気化させて発泡体を作製する方法、層状珪酸塩の層間に予め加熱分解型固体状発泡剤を含有させ、その加熱分解型固体状発泡剤を加熱により分解させて発泡体を作製する方法等が挙げられ、いずれの発泡方法が採られても良い。   The specific method of foaming the thermoplastic resin using a foaming agent after kneading the thermoplastic resin and the layered silicate by a conventional method is not particularly limited. For example, the thermoplastic resin and the layered material are used. A method for producing a foam by impregnating a thermoplastic resin composition comprising silicate with a gaseous foaming agent under high pressure and then vaporizing the gaseous foaming agent in the thermoplastic resin composition, lamellar silicic acid Examples include a method in which a thermally decomposable solid foaming agent is previously contained between the salt layers, and the thermally decomposable solid foaming agent is decomposed by heating to produce a foam. good.

本発明の熱可塑性樹脂組成物には、必須成分である前記熱可塑性樹脂及び前記有機オニウムイオンにより有機化された層状珪酸塩に加えるに、本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要に応じて、例えば、層状珪酸塩以外の無機充填剤、有機充填剤、軟化剤(可塑剤)、酸化防止剤(老化防止剤)、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、粘度調整剤、着色剤、滑剤、難燃剤、帯電防止剤、有機溶媒等の公知の各種添加剤の1種類もしくは2種類以上が添加されていても良い。   In the thermoplastic resin composition of the present invention, in addition to the thermoplastic resin which is an essential component and the layered silicate which is organized by the organic onium ions, as long as it does not impede the achievement of the object of the present invention. For example, inorganic fillers other than layered silicates, organic fillers, softeners (plasticizers), antioxidants (anti-aging agents), thermal stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, viscosity modifiers, colorants In addition, one kind or two or more kinds of known various additives such as a lubricant, a flame retardant, an antistatic agent, and an organic solvent may be added.

次に、本発明のフィルム及び基板用材料は、上述した本発明の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製される。   Next, the film and substrate material of the present invention are produced using the above-described thermoplastic resin composition of the present invention.

本発明のフィルムの成形(製膜)方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、押出成形法、インフレーション法、キャスティング法等の公知の各種フィルム成形法が挙げられ、いずれの成形方法が採られても良い。又、本発明のフィルムは、上記成形後に1軸方向もしくは2軸方向に延伸処理が施されていても良い。更に、本発明のフィルムは、単層構成であっても良いし、2層以上の多層構成であっても良い。本発明のフィルムを多層構成とする場合、その成形(製膜)方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、多層押出ラミネート法や多層共押出法等が挙げられ、いずれの成形方法が採られても良い。   The film forming (film forming) method of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include various known film forming methods such as an extrusion method, an inflation method, and a casting method. May be taken. In addition, the film of the present invention may be subjected to a stretching treatment in the uniaxial direction or biaxial direction after the molding. Furthermore, the film of the present invention may have a single layer structure or a multilayer structure of two or more layers. When the film of the present invention has a multilayer structure, the forming (film forming) method is not particularly limited, and examples thereof include a multilayer extrusion laminating method and a multilayer coextrusion method. May be taken.

又、本発明の基板用材料の成形方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、押出成形法、射出成形法、圧延成形法、注型成形法等の公知の各種成形法が挙げられ、いずれの成形方法が採られても良い。   The method for molding the substrate material of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include various known molding methods such as an extrusion molding method, an injection molding method, a rolling molding method, and a casting molding method. Any molding method may be adopted.

以上述べたように、請求項1に記載の発明に係る熱可塑性樹脂組成物では、熱可塑性樹脂100重量部に対し、分子量は200以上であるイミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩が0.5〜45重量部配合されているため、吸水性(吸湿性)が低く、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現する成形体を得るに適している。従って、請求項1に記載の発明に係る熱可塑性樹脂組成物は、フィルムや基板用材料を始め、各種工業用途むけ成形体用の成形材料として好適に用いられる。   As described above, in the thermoplastic resin composition according to the first aspect of the present invention, the layered silicate organized by imidazolium ions having a molecular weight of 200 or more with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin is 0. Since 5 to 45 parts by weight is blended, it is suitable for obtaining a molded article having low water absorption (hygroscopicity) and exhibiting excellent dimensional stability even under high temperature and high humidity. Therefore, the thermoplastic resin composition according to the invention described in claim 1 is suitably used as a molding material for molded articles for various industrial uses, including films and substrates.

ミダゾリウムイオンが式(1)に記載の構造を有する場合には、層状珪酸塩を熱可塑性樹脂中により一層大量にかつ高度に微分散させることができる。 When i Mi Dazo potassium ions has a structure according to formula (1) it is a layered silicate can be further large quantities and highly finely dispersed in the thermoplastic resin.

可塑性樹脂のガラス転移温度が150℃以上であり、かつ溶解度パラメータが42.0(J/cm1/2以上である場合には、熱可塑性樹脂の極性が十分高くなり、イミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩との親和性が高められる。従って、熱可塑性樹脂中に層状珪酸塩がより一層高度に微分散され得る。 When the glass transition temperature of the thermoplastic resin is 150 ° C. or higher and the solubility parameter is 42.0 (J / cm 3 ) 1/2 or higher, the polarity of the thermoplastic resin becomes sufficiently high, and imidazolium ions The affinity with the layered silicate that has been made organic is improved. Accordingly, the layered silicate can be further finely dispersed in the thermoplastic resin.

可塑性樹脂が、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリエーテル樹脂及びポリエーテルエーテルケトン樹脂からなる群から選択された少なくとも1種である場合には、熱可塑性樹脂の極性が十分に高く、従ってイミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩がより一層高度に微分散され得る。 When the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of polyimide resin, polyesterimide resin, polyether resin and polyetheretherketone resin, the polarity of the thermoplastic resin is sufficiently high, and thus imidazolium Layered silicates organized by ions can be even more finely dispersed.

状珪酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群から選択された少なくとも1種である場合には、有機溶剤への膨潤性が良く有機処理がし易い。
Layer-like silicate, montmorillonite, hectorite, when at least one selected from the group consisting of swelling mica and vermiculite, are easily well organic treatment swellable in organic solvents.

層状珪酸塩の広角X線回折測定法により測定された(001)面の平均層間距離が3nm以上であり、かつ一部または全部が5層以下の積層体として分散されている場合には、層状珪酸塩が高度に分散されているため、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物により構成された成型品の力学的物性、耐熱性及び寸法安定性をより効果的に高めることができる。   When the average interlayer distance of the (001) plane measured by the wide-angle X-ray diffractometry of the layered silicate is 3 nm or more and a part or all of them are dispersed as a laminate of 5 layers or less, Since the silicate is highly dispersed, the mechanical properties, heat resistance and dimensional stability of the molded article constituted by the thermoplastic resin composition according to the present invention can be improved more effectively.

又、本発明のフィルム及び基板用材料は、上記本発明の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製されるので、吸水性(吸湿性)が低く、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現するものであり、電子機器用の電子部品を始め、各種工業用途むけの成形体として好適に用いられる。   In addition, since the film and substrate material of the present invention are produced using the thermoplastic resin composition of the present invention, the water absorption (hygroscopicity) is low, and excellent dimensional stability even under high temperature and high humidity. It is expressed and is suitably used as a molded article for various industrial applications including electronic parts for electronic devices.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂100重量部に対し、前記一般式(1)又は前記一般式(2)で表される有機オニウムイオンにより有機化された層状珪酸塩0.5〜45重量部が含有されてなるので、吸水性(吸湿性)が低く、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現する成形体を得るに適するものである。   The thermoplastic resin composition of the present invention is a layered silicate that is organized with an organic onium ion represented by the general formula (1) or the general formula (2) with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin. Since ~ 45 parts by weight is contained, it is suitable for obtaining a molded article having low water absorption (hygroscopicity) and exhibiting excellent dimensional stability even under high temperature and high humidity.

又、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、上記熱可塑性樹脂として、ガラス転移温度が150℃以上であり、且つ、溶解度パラメーターが42(J/cm31/2以上である、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステルイミド樹脂及びポリエーテルイミド樹脂からなる群より選択される少なくとも1種類を用いることにより、及び/又は、上記層状珪酸塩として、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群より選択される少なくとも1種類を用い、その層状珪酸塩が熱可塑性樹脂組成物中に広角X線回折測定法により測定された(001)面の平均層間距離が3n
m以上であり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散しているようになすことにより、上記効果がより確実なものとなる。
In addition, the thermoplastic resin composition of the present invention is a polyimide resin having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher and a solubility parameter of 42 (J / cm 3 ) 1/2 or higher as the thermoplastic resin. By using at least one selected from the group consisting of polyetheretherketone resins, polyesterimide resins and polyetherimide resins and / or as the layered silicate, from montmorillonite, hectorite, swellable mica and vermiculite Using at least one selected from the group consisting of the above, the layered silicate was measured in a thermoplastic resin composition by wide-angle X-ray diffraction measurement, and the average interlayer distance on the (001) plane was 3n
The above-mentioned effect is more certain by making it partly or entirely dispersed as a laminate of 5 layers or less.

本発明のフィルム及び基板用材料は、上記本発明の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製されるので、吸水性(吸湿性)が低く、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現する。   Since the film and substrate material of the present invention are produced using the thermoplastic resin composition of the present invention, the water absorption (hygroscopicity) is low, and excellent dimensional stability is exhibited even under high temperature and high humidity. .

本発明を更に詳しく説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   In order to explain the present invention in more detail, examples are given below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
ラボプラストミル(東洋精機製、品番:100C100)に熱可塑性ポリイミド樹脂(商品名
:「オーラムPD−450M」,三井化学社製)45重量部と、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド(四国化成工業社製)を用いて処理したマイカ5重量部とを投入し、330℃90rpmで15分間混練した。得られた混練物を上下各330℃に温調された熱プレスで挟み、プレス圧4.9MPaで75秒間プレスして、厚み100μmのポリイミド樹脂シートを作製した。
Example 1
Laboplast mill (Toyo Seiki, product number: 100C100) and 45 parts by weight of thermoplastic polyimide resin (trade name: “Aurum PD-450M”, manufactured by Mitsui Chemicals) and 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazo 5 parts by weight of mica treated with lithium chloride (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added and kneaded at 330 ° C. and 90 rpm for 15 minutes. The obtained kneaded product was sandwiched between upper and lower hot presses adjusted to 330 ° C. and pressed at a press pressure of 4.9 MPa for 75 seconds to prepare a polyimide resin sheet having a thickness of 100 μm.

(実施例2)
ラボプラストミル(東洋精機製、品番:100C100)に熱可塑性ポリイミド樹脂(商品名
:「オーラムPD−450M」,三井化学社製)45重量部と、1−オクチル−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライドを用いて処理したマイカ5重量部とを投入し、330℃90rpmで15分間混練をした。得られた混練物を上下各330℃に温調された熱プレスで挟み、プレス圧4.9MPaで75秒間プレスして、厚み100μmのポリイミド樹脂シートを作製した。
(Example 2)
Laboplast mill (Toyo Seiki, product number: 100C100) and 45 parts by weight of thermoplastic polyimide resin (trade name: “Aurum PD-450M”, manufactured by Mitsui Chemicals) and 1-octyl-2-phenyl-3-benzylimidazo 5 parts by weight of mica treated with lithium chloride was added and kneaded at 330 ° C. and 90 rpm for 15 minutes. The obtained kneaded product was sandwiched between upper and lower hot presses adjusted to 330 ° C. and pressed at a press pressure of 4.9 MPa for 75 seconds to prepare a polyimide resin sheet having a thickness of 100 μm.

(実施例3)
ラボプラストミル(東洋精機製、品番:100C100)に熱可塑性ポリイミド樹脂(商品名
:「オーラムPD−450M」,三井化学社製)45重量部と、1、3−ベンジル−2−フェニル−4−メチルイミダゾリウムクロライドを用いて処理したモンモリロナイト5重量部とを投入し、330℃90rpmで15分間混練をした。得られた混練物を上下各330℃に温調された熱プレスで挟み、プレス圧4.9MPaで75秒間プレスして、厚み100μmのポリイミド樹脂シートを作製した。
(Example 3)
Laboplast mill (Toyo Seiki, product number: 100C100) and 45 parts by weight of thermoplastic polyimide resin (trade name: “Aurum PD-450M”, manufactured by Mitsui Chemicals) and 1,3-benzyl-2-phenyl-4- 5 parts by weight of montmorillonite treated with methylimidazolium chloride was added and kneaded at 330 ° C. and 90 rpm for 15 minutes. The obtained kneaded product was sandwiched between upper and lower hot presses adjusted to 330 ° C. and pressed at a press pressure of 4.9 MPa for 75 seconds to prepare a polyimide resin sheet having a thickness of 100 μm.

(比較例1)
熱可塑性樹脂組成物中に1−オクチル−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライドを用いて処理したマイカを含有させなかったこと以外は実施例1の場合と同様にして、厚み100μmの板状成形体を作製した。
(Comparative Example 1)
A plate having a thickness of 100 μm in the same manner as in Example 1 except that mica treated with 1-octyl-2-phenyl-3-benzylimidazolium chloride was not included in the thermoplastic resin composition. A molded body was produced.

(比較例2)
層状珪酸塩として、1−オクチル−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライドを用いて処理したマイカの代わりに、有機オニウムイオンによる有機化がなされていない膨潤性合成マイカ(商品名:「ソマシフME−100」,コープケミカル社製)を用いたこと以外は実施例1の場合と同様にして、厚み100μmの板状成形体を作製した。
(Comparative Example 2)
Instead of mica treated with 1-octyl-2-phenyl-3-benzylimidazolium chloride as a layered silicate, swellable synthetic mica (trade name: “Somasif ME”, which has not been organicized with organic onium ions) A plate-like molded body having a thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Example 1 except that “−100” (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was used.

(比較例3)
熱可塑性樹脂組成物中に1−オクチル−2−フェニル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライドを用いて処理したマイカの代わりにジメチルジアルキルアンモニウムで処理されたマイカ(商品名:「ソマシフMAE−100」,コープケミカル社製)用いたこと以外は
実施例1の場合と同様にして、厚み100μmのフィルムを作製した。
(Comparative Example 3)
Mica treated with dimethyldialkylammonium instead of mica treated with 1-octyl-2-phenyl-3-benzylimidazolium chloride in a thermoplastic resin composition (trade name: “Somasif MAE-100”, Corp. A film having a thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Example 1 except that it was used.

(比較例4)
層状珪酸塩として、1、3−ベンジル−2−フェニル−4−メチルイミダゾリウムクロライドを用いて処理したモンモリロナイトの代わりに、有機オニウムイオンによる有機化がなされていないモンモリロナイト(「商品名CloisiteNa+」,サザンクレイ社製)を用
いたこと以外は実施例3の場合と同様にして、厚み100μmの板状成形体を作製した。
(Comparative Example 4)
Instead of montmorillonite treated with 1,3-benzyl-2-phenyl-4-methylimidazolium chloride as a layered silicate, montmorillonite (“trade name CloisiteNa + ”, A plate-shaped molded article having a thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Example 3 except that Southern Clay was used.

実施例1〜実施例3及び比較例1〜比較例4で用いた熱可塑性樹脂のガラス転移温度をJIS K−7121に準拠して測定し、溶解度パラメーターをFedorsの計算式を用いて求めた。その結果は表1に示すとおりであった。   The glass transition temperature of the thermoplastic resin used in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 was measured according to JIS K-7121, and the solubility parameter was determined using the Fedors equation. The results are shown in Table 1.

又、実施例1〜実施例3及び比較例2、3、4で得られた板状成形体又はフィルムを用いて、層状珪酸塩の平均層間距離及び5層以下の積層体の分散割合を以下の方法で求めた。その結果は表1に示すとおりであった。   Moreover, using the plate-shaped molded body or film obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 2, 3, and 4, the average interlayer distance of the layered silicate and the dispersion ratio of the laminate of 5 layers or less are as follows: It was calculated by the method. The results are shown in Table 1.

[層状珪酸塩の平均層間距離]
X線回折測定装置(商品名「RINT1100」、リガク社製)を用いて、板状成形体中又はフィルム中の層状珪酸塩の積層面の回折より得られる回折ピークの2θを測定し、下記のブラックの回折式により、層状珪酸塩の(001)面間隔dを算出し、得られたdを平均層間距離(nm)とした。
[Average interlayer distance of layered silicate]
Using an X-ray diffractometer (trade name “RINT1100”, manufactured by Rigaku Corporation), 2θ of the diffraction peak obtained from diffraction of the laminated surface of the layered silicate in the plate-shaped molded body or film is measured, and the following The (001) plane distance d of the layered silicate was calculated from the black diffraction formula, and the obtained d was defined as the average interlayer distance (nm).

λ=2dsinθ
式中、λは0.154であり、θは回折角を示す。
λ = 2 dsin θ
In the formula, λ is 0.154, and θ represents a diffraction angle.

[5層以下の積層体の分散割合]
板状成形体又はフィルムを透過型電子顕微鏡(商品名「JEM−1200EXII」、日本電子社製)を用いて10万倍で観察し、一定面積中において観察できる層状珪酸塩の積層体の全層数(X)及び5層以下の積層体として分散している積層体の層数(Y)を計測し、下記計算式により5層以下の積層体の分散割合(%)を算出した。
[Dispersion ratio of laminate of 5 layers or less]
A plate-like molded product or film is observed with a transmission electron microscope (trade name “JEM-1200EXII”, manufactured by JEOL Ltd.) at a magnification of 100,000 times, and all layers of a layered silicate laminate that can be observed in a certain area The number (X) and the number of layers (Y) of the laminate dispersed as a laminate of 5 layers or less were measured, and the dispersion ratio (%) of the laminate of 5 layers or less was calculated by the following formula.

5層以下の積層体の分散割合(%)=(Y/X)×100
更に、実施例1〜実施例3及び比較例1〜比較例4で得られた板状成形体又はフィルムの性能((1)吸水率、(2)湿度線膨張率)を以下の方法で測定した。その結果は表1に示すとおりであった。
Dispersion ratio (%) of laminate of 5 layers or less = (Y / X) × 100
Furthermore, the performance ((1) water absorption, (2) humidity linear expansion coefficient) of the plate-like molded bodies or films obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 was measured by the following method. did. The results are shown in Table 1.

(1)吸水率
板状成形体又はフィルムを3cm×5cmに裁断して試験片を作製し、80℃で5時間乾燥させた後の重量(W1)を測定した。次いで、上記試験片を水中に浸漬し、25℃の雰囲気下に24時間放置した後、取り出し、ウエスで丁寧に水分を拭き取った後の重量(W2)を測定し、下記計算式により吸水率(重量%)を算出した。
(1) Water absorption The plate-shaped molded body or film was cut into 3 cm × 5 cm to prepare test pieces, and the weight (W1) after drying at 80 ° C. for 5 hours was measured. Next, the test piece was immersed in water and allowed to stand in an atmosphere at 25 ° C. for 24 hours, then taken out, and the weight (W2) after carefully wiping off moisture with a waste was measured. % By weight) was calculated.

吸水率(重量%)=100×(W2−W1)/W1
(2)湿度線膨張率
板状成形体又はフィルムを50℃−30%RHの恒温恒湿器中に24時間放置した後の寸法(L1)を測定した。次いで、上記板状成形体又はフィルムを50℃−80%RHの恒温恒湿器中に24時間放置した後の寸法(L2)を測定し、下記計算式により湿度線膨張率を算出した。
Water absorption (% by weight) = 100 × (W2−W1) / W1
(2) Humidity linear expansion coefficient The dimension (L1) after leaving a plate-shaped molded object or a film for 24 hours in a 50 degreeC-30% RH constant temperature and humidity chamber was measured. Subsequently, the dimension (L2) after leaving the said plate-shaped molded object or film for 24 hours in a 50 degreeC-80% RH constant temperature humidity chamber was measured, and the humidity linear expansion coefficient was computed by the following formula.

湿度線膨張率(%RH-1)=(L2−L1)/L1/(80−30) Humidity linear expansion coefficient (% RH- 1 ) = (L2-L1) / L1 / (80-30)

Figure 0004344211
Figure 0004344211

表1から明らかなように、本発明による実施例1〜実施例3の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製した実施例1〜実施例3の板状成形体又はフィルムは、いずれも吸水率が低く、且つ、湿度線膨張率が小さく、高温高湿下においても優れた寸法安定性を発現した。   As is apparent from Table 1, the plate-like molded products or films of Examples 1 to 3 produced using the thermoplastic resin compositions of Examples 1 to 3 according to the present invention all have a water absorption rate. It has a low coefficient of linear expansion of humidity and exhibits excellent dimensional stability even under high temperature and high humidity.

これに対し、有機オニウムイオンにより有機化された層状珪酸塩を含有させなかった比較例1の熱可塑性樹脂組成物、及び、有機オニウムイオンによる有機化がなされていない層状珪酸塩を含有させた比較例2、4の熱可塑性樹脂組成物、イミダゾリウムイオンでない有機オニウムイオンで有機化がなされた比較例3の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製した比較例1〜比較例4の板状成形体又はフィルムは、いずれも吸水率が高く、且つ、湿度線膨張率が大きく、高温高湿下における寸法安定性が悪かった。   On the other hand, the thermoplastic resin composition of Comparative Example 1 that did not contain a layered silicate that was organized by organic onium ions, and a comparison that contained a layered silicate that was not organized by organic onium ions The thermoplastic resin compositions of Examples 2 and 4 and the plate-like molded articles of Comparative Examples 1 to 4 prepared using the thermoplastic resin composition of Comparative Example 3 that was organicized with an organic onium ion that is not an imidazolium ion Or all the films had a high water absorption rate, a large coefficient of linear expansion of humidity, and poor dimensional stability under high temperature and high humidity.

Claims (7)

熱可塑性樹脂100重量部に対し、分子量が200以上であるイミダゾリウムイオンにより有機化された層状珪酸塩0.5〜45重量部が含有されており、
イミダゾリウムイオンが式(1)記載の構造であることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
Figure 0004344211
(式中、R 、R 、R 、R 、R の1つは、少なくとも芳香族環を有する基であり、また、R 、R 、R の少なくとも1つは、H以外の基である)
It contains 0.5 to 45 parts by weight of a layered silicate organized by imidazolium ions having a molecular weight of 200 or more with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin ,
A thermoplastic resin composition, wherein the imidazolium ion has a structure described by formula (1) .
Figure 0004344211
(In the formula, one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 is a group having at least an aromatic ring, and at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is H Is a group other than
熱可塑性樹脂が、ガラス転移温度が150℃以上であり、且つ、溶解度パラメーターが42.0(J/cm1/2以上であることを特徴とする請求項1に記載の熱可塑性樹脂組成物。 2. The thermoplastic resin composition according to claim 1, wherein the thermoplastic resin has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher and a solubility parameter of 42.0 (J / cm 3 ) 1/2 or higher. object. 熱可塑性樹脂が、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂及びポリエーテルエーテルケトン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種類であることを特徴とする請求項1または2に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin according to claim 1 or 2 , wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of a polyimide resin, a polyesterimide resin, a polyetherimide resin, and a polyetheretherketone resin. Composition. 層状珪酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群より選択される少なくとも1種類であることを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 Layered silicate, montmorillonite, hectorite, thermoplastic resin according to any one of claims 1 to 3, characterized in that at least one kind selected from the group consisting of swelling mica and vermiculite Composition. 層状珪酸塩が、広角X線回折測定法により測定された(001)面の平均層間距離が3nm以上であり、且つ、一部又は全部が5層以下の積層体として分散していることを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The layered silicate has a (001) plane average interlayer distance of 3 nm or more measured by a wide-angle X-ray diffraction measurement method, and a part or all of the layered silicate is dispersed as a laminate of 5 layers or less. The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製されることを特徴とするフィルム。 A film produced using the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 5 . 請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を用いて作製されることを特徴とする基板用材料。 A substrate material produced using the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 5 .
JP2003353911A 2003-10-14 2003-10-14 Thermoplastic resin composition, film and substrate material Expired - Fee Related JP4344211B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003353911A JP4344211B2 (en) 2003-10-14 2003-10-14 Thermoplastic resin composition, film and substrate material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003353911A JP4344211B2 (en) 2003-10-14 2003-10-14 Thermoplastic resin composition, film and substrate material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005120149A JP2005120149A (en) 2005-05-12
JP4344211B2 true JP4344211B2 (en) 2009-10-14

Family

ID=34612060

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003353911A Expired - Fee Related JP4344211B2 (en) 2003-10-14 2003-10-14 Thermoplastic resin composition, film and substrate material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4344211B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5129448B2 (en) * 2005-12-28 2013-01-30 富士フイルム株式会社 Organized layered silicate, method for producing the same, and resin composition
JP5769588B2 (en) * 2011-11-04 2015-08-26 株式会社デンソー Heat resistant adhesive

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164097A (en) * 1999-12-10 2001-06-19 Showa Denko Kk Blow molded container made of aliphatic polyester and method for molding the same
JP3863771B2 (en) * 2000-12-08 2006-12-27 積水化学工業株式会社 Insulating substrate material, printed circuit board, laminate, copper foil with resin, copper clad laminate, polyimide film, TAB film and prepreg
JP2002322292A (en) * 2001-04-23 2002-11-08 Nitto Denko Corp Thermofusible polyimide resin film and multilayer wiring board using the same
JP3967101B2 (en) * 2001-09-25 2007-08-29 帝人株式会社 Polyester composition
JP2004277439A (en) * 2003-03-12 2004-10-07 Unitika Ltd Polyester resin composition, its manufacturing method and its molded product
JP2005097027A (en) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd Organic denatured phyllosilicate, and composition thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005120149A (en) 2005-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100704321B1 (en) Resin composition
KR100851799B1 (en) Material for insulating substrate, printed board, laminate, copper foil with resin, copper-clad laminate, polyimide film, film for tab, and prepreg
KR101079467B1 (en) Thermosetting resin composition resin sheet and resin sheet for insulated substrate
WO2003066741A1 (en) Resin composition
JP2003026939A (en) Material for insulating substrate, printed wiring board, laminate, copper foil with resin, copper-clad laminate, polyimide film, film for tab, and prepreg
KR20050107999A (en) The epoxy resin composition for copper clad laminate
JP4167909B2 (en) Resin composition
JP5010124B2 (en) Thermoplastic resin composition, sheet, copper foil with resin, printed circuit board, and prepreg
JP2010031107A (en) Sheet with antistatic function
JP2004002789A (en) Mold release sheet, laminated mold release film and method for producing board
JP4344211B2 (en) Thermoplastic resin composition, film and substrate material
US20050272847A1 (en) Method of forming nanocomposite materials
JP2004323797A (en) Thermoplastic resin composition, film and material for substrate
JP4220794B2 (en) Insulating substrate material, printed circuit board, laminate, copper foil with resin, copper clad laminate, polyimide film, TAB film and prepreg
JP4268456B2 (en) Resin substrate material
JP2004359927A (en) Polyimide resin composition and polyimide resin sheet
JP2007002064A (en) Molding
JP2003292802A (en) Resin varnish composition, resin sheet and resin coating layer
JP2004352730A (en) Polyimide resin composition and resin sheet
JP3901134B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, printed wiring board and multilayer printed wiring board
JP2005187727A (en) Polyimide resin composition, method for producing the same, its film and material for substrate
JP4369134B2 (en) Substrate and molded product
JP2003292787A (en) Method for producing resin composition and resin composition
JP2003335867A (en) Method of manufacturing thermoplastic resin composition and thermoplastic resin composition
JP2004002790A (en) Manufacturing method of thermoplastic resin composition, and thermoplastic resin composition and material for electronic substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060726

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090408

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090521

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20090521

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20090521

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090616

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090710

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130717

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees