JP2007002064A - Molding - Google Patents

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Yoshinori Chiku
義則 知久
Kazuo Tsuchiyama
和夫 土山
Shigeki Nomura
茂樹 野村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding usable as a material excellent in dielectric property, exerting stable electrical performances under several use conditions and having excellent mechanical strength. <P>SOLUTION: The molding comprises a resin containing a phyllosilicate, which resin is obtained by polymerizing benzoxazine represented by formula (1), wherein, R is a ≥2C divalent substituent; and H in a benzene ring may be substituted with an alkyl or alkoxy. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、層状珪酸塩を含有し、特定構造のベンゾオキサジンを重合して得られる樹脂からなる成形体に関する。本発明の成形体は、誘電率、誘電正接が低く、耐熱性に優れ、かつ繊膨張係数が低減され、絶縁基板用成形体として好適である。   The present invention relates to a molded article comprising a resin obtained by polymerizing a benzoxazine having a specific structure, containing a layered silicate. The molded product of the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, is excellent in heat resistance, has a reduced fiber expansion coefficient, and is suitable as a molded product for an insulating substrate.

近年、電子機器の高性能化、高機能化、小型化等が急速に進んでおり、電子機器に用いられる電子部品においても、小型化および軽量化が強く求められている。そのため、電子部品を構成する材料についても、耐熱性、機械的強度、電気的特性等のさらなる向上が強く求められている。   In recent years, electronic devices have been rapidly improved in performance, functionality, and miniaturization, and electronic components used in electronic devices are also strongly required to be smaller and lighter. Therefore, further improvements in heat resistance, mechanical strength, electrical characteristics, and the like are also strongly demanded for materials constituting electronic parts.

電子機器に用いられている多層プリント基板は、複数層の絶縁層とこれらの絶縁層間に配置された回路パターンとを有する。従来、この種の絶縁層としては、例えば、熱硬化性樹脂をガラスクロスに含浸させた熱硬化性樹脂プリプレグを硬化させたものや、熱硬化性樹脂もしくは光硬化性樹脂からなる樹脂シート等が用いられている。   A multilayer printed circuit board used in an electronic device has a plurality of insulating layers and a circuit pattern arranged between these insulating layers. Conventionally, as this type of insulating layer, for example, a thermosetting resin prepreg obtained by impregnating a glass cloth with a thermosetting resin, a resin sheet made of a thermosetting resin or a photocurable resin, or the like is used. It is used.

また、上記多層プリント基板においても、高密度化および薄型化を果たすために、絶縁層の層間が極めて薄くされることが望まれている。したがって、絶縁層を構成する材料としては、薄型のガラスクロスを用いた絶縁層や、無機充填剤を含有する樹脂からなる絶縁層が必要とされている。ガラスクロスや無機充填剤を使用する理由は、極めて薄い層間であっても機械的強度などの力学的物性を確保したり、熱履歴が与えられた場合でも熱履歴前後の寸法変化、すなわち熱線膨張率を小さくするためである。   Also in the multilayer printed board, it is desired that the insulating layer be made extremely thin in order to achieve high density and thinning. Therefore, as a material constituting the insulating layer, an insulating layer using a thin glass cloth and an insulating layer made of a resin containing an inorganic filler are required. The reason for using glass cloth and inorganic fillers is to ensure mechanical properties such as mechanical strength even in extremely thin layers, or to change the dimensions before and after the thermal history even when a thermal history is given, that is, thermal expansion This is to reduce the rate.

上記のような機能を発揮する無機充填剤を含有する樹脂としては、シリカを用いる一般的な方法の他に、層状珪酸塩化合物(薄片状無機物)を用いる方法がある(特許文献1、特許文献2)。層状珪酸塩化合物とは、通常粘土中に見られるモンモリロナイト、マイカ、ヘクトライト等(あるいはそれらの表面修飾物)で、層状珪酸塩1単位(1枚)は厚さ数nm、長さ及び幅は数十〜数百nm程度のサイズを有する。この層状珪酸塩化合物を1単位毎に分解し、樹脂中に分散させることにより、ごく僅かの添加量(例えば樹脂に対して10重量部以下)によって、機械特性、耐熱性、熱線膨張係数の低減等の効果が期待できる。   As a resin containing an inorganic filler that exhibits the above functions, there is a method using a layered silicate compound (flaky inorganic material) in addition to a general method using silica (Patent Document 1, Patent Document). 2). Layered silicate compounds are montmorillonite, mica, hectorite, etc. (or their surface modifications) usually found in clay, and one unit (one sheet) of layered silicate is several nm thick, length and width are It has a size of about several tens to several hundreds of nanometers. By decomposing this layered silicate compound into units and dispersing it in the resin, the mechanical properties, heat resistance, and thermal expansion coefficient can be reduced with a very small addition amount (for example, 10 parts by weight or less based on the resin). Such effects can be expected.

一方、近年、特に高集積化・高周波化した電子回路に対して基板が要求される性能として、電子機能、具体的には誘電率と誘電正接とがある。誘電率は信号の伝達遅延に直接影響を与えるものであり、誘電率が低いほど信号遅延は少なく好ましい。一方、誘電正接は信号の伝達損失に関わるものであり、誘電正接が小さいほど損失は少なく好ましい。   On the other hand, in recent years, the performance required of a substrate for an electronic circuit with high integration and high frequency is an electronic function, specifically, a dielectric constant and a dielectric loss tangent. The dielectric constant directly affects the signal transmission delay, and the lower the dielectric constant, the smaller the signal delay. On the other hand, the dielectric loss tangent relates to signal transmission loss. The smaller the dielectric loss tangent, the smaller the loss and the better.

従来用いられているエポキシ樹脂やフェノール樹脂等は誘電率が3〜4、誘電正接は0.01〜0.03程度であり、必ずしも高いとは言えないが、近年の電子回路に対しては性能不足となりつつある。また、誘電率、誘電正接に優れた樹脂として、フッ素樹脂が挙げられる。しかし、フッ素樹脂は金属等との接着性が極めて乏しく、実用的な回路基板とはならない。また、ポリスチレン、ポリエチレン等のポリオレフィンも、低誘電率、低誘電正接ではあるが、耐熱性に乏しく、ハンダ工程温度(例えば260℃)にて軟化・変形が起こるため、同じく実用的な回路基板としては使用できない。一方、低誘電率の液晶ポリマー等も開発されているが、加工性やコスト等、まだ実用に供する段階にはない。   Conventionally used epoxy resins and phenol resins have a dielectric constant of 3 to 4 and a dielectric loss tangent of about 0.01 to 0.03, which is not necessarily high, but it has performance for recent electronic circuits. It is becoming scarce. Moreover, a fluororesin is mentioned as resin excellent in a dielectric constant and a dielectric loss tangent. However, the fluororesin has extremely poor adhesion to metals and the like, and is not a practical circuit board. Polyolefins such as polystyrene and polyethylene also have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, but have poor heat resistance and soften and deform at soldering process temperatures (eg, 260 ° C.). Cannot be used. On the other hand, a liquid crystal polymer having a low dielectric constant has been developed, but it has not yet been put into practical use in terms of processability and cost.

このような状況の中で、ベンゾオキサジン樹脂が低誘電率と低誘電正接を有することが知られている。しかしながら、ベンゾオキサジン樹脂は一般的にもろいため、他の熱硬化樹脂(例えばエポキシ樹脂やフェノール樹脂)と複合して用いることが多く、その結果、ベンゾオキサジン樹脂固有の長所を活かし切れていないのが実情であった。   Under such circumstances, it is known that benzoxazine resin has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. However, since benzoxazine resins are generally fragile, they are often used in combination with other thermosetting resins (for example, epoxy resins and phenol resins), and as a result, the merits of benzoxazine resins are not fully utilized. It was a fact.

一方、特許文献3には、ベンゾオキサジンの硬化体に対し、クレイ(cray)を配合することが開示されている。しかしながら、硬化体を構成するベンゾオキサジンの構造は特定されておらず、また、可撓性の付与や誘電率制御を可能とする記載はない。
特開2002−220433号公報 特開2003−26939号公報 米国特許6,323,270号公報
On the other hand, Patent Document 3 discloses blending clay with a cured product of benzoxazine. However, the structure of benzoxazine constituting the cured body is not specified, and there is no description that allows flexibility and permittivity control.
JP 2002-220433 A JP 2003-26939 A US Pat. No. 6,323,270

本発明者らは、上述の事情に鑑み、種々の樹脂及び複合材料について鋭意研究を重ねた結果、特定構造を有するベンゾオキサジンの重合体に層状珪酸塩化合物を分散させた樹脂を加工した成形体が、電気的性能(誘電率、誘電正接)及び機械的強度に極めて優れることを見出し、本発明を完成するに至った。   In view of the above-mentioned circumstances, the present inventors have conducted extensive research on various resins and composite materials, and as a result, molded products obtained by processing a resin in which a layered silicate compound is dispersed in a polymer of benzoxazine having a specific structure. However, it was found that the electrical performance (dielectric constant, dielectric loss tangent) and mechanical strength were extremely excellent, and the present invention was completed.

本発明の目的は、現在の電子部品を構成する材料に要求される物性に鑑み、誘電特性に優れるとともに、各工程条件下や種々の使用条件下においても安定的な電気的性能を発揮し、機械的強度に優れた電子部品材料を提供することにある。特には優れた絶縁基板用材料として利用可能な成形体を提供することを目的とする。   The object of the present invention is to provide excellent dielectric properties in view of physical properties required for materials constituting current electronic components, and to exhibit stable electrical performance under each process condition and various use conditions. An object of the present invention is to provide an electronic component material having excellent mechanical strength. In particular, an object is to provide a molded body that can be used as an excellent material for an insulating substrate.

すなわち、本発明は、層状珪酸塩を含有する樹脂からなる成形体において、前記樹脂が下記式(1)で表されるベンゾオキサジンを重合して得られる樹脂であることを特徴とする成形体を提供するものである。

Figure 2007002064
式中、Rは炭素原子数2以上の2価の置換基であり、べンゼン環の水素はアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。 That is, the present invention provides a molded article comprising a resin containing a layered silicate, wherein the resin is a resin obtained by polymerizing a benzoxazine represented by the following formula (1): It is to provide.
Figure 2007002064
In the formula, R is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms, and hydrogen in the benzene ring may be substituted with an alkyl group or an alkoxy group.

また、本発明は、前記式(1)中のRが、炭素原子数2以上の直鎖状アルキレン基又はその水素がアルキル置換された分岐状アルキレン基であることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   Further, the present invention provides the molded article, wherein R in the formula (1) is a linear alkylene group having 2 or more carbon atoms or a branched alkylene group in which hydrogen is alkyl-substituted. Is to provide.

さらに、本発明は、前記式(1)中のRが、環状構造を含むアルキレン基又はアリーレン基であることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   Furthermore, the present invention provides the above molded product, wherein R in the formula (1) is an alkylene group or an arylene group containing a cyclic structure.

また、本発明は、前記式(1)中のRが、下記式(2)で表されることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。

Figure 2007002064
nは2以上30以下の整数を表す。 Moreover, this invention provides said molded object characterized by R in said Formula (1) being represented by following formula (2).
Figure 2007002064
n represents an integer of 2 or more and 30 or less.

さらに、本発明は、前記層状珪酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群より選択される一種または二種以上の層状珪酸塩であることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   Further, the present invention provides the molded article, wherein the layered silicate is one or more layered silicates selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite, swellable mica and vermiculite. It is to provide.

また、本発明は、前記層状珪酸塩が、平均粒子径1μm以下の粉末であることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   In addition, the present invention provides the above-mentioned molded product, wherein the layered silicate is a powder having an average particle diameter of 1 μm or less.

さらに、本発明は、前記層状珪酸塩が、厚みが0.001〜1μmの単層又は多層の粉末であることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   Furthermore, the present invention provides the above-mentioned molded product, wherein the layered silicate is a single layer or multilayer powder having a thickness of 0.001 to 1 μm.

また、本発明は、前記層状珪酸塩が、平均粒子径が0.05μm〜0.5μmであり、厚みが0.01〜0.5μmの単層又は多層であり、アスペクト比が50〜200の粉末であることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   In the present invention, the layered silicate is a single layer or a multilayer having an average particle diameter of 0.05 μm to 0.5 μm, a thickness of 0.01 to 0.5 μm, and an aspect ratio of 50 to 200. The molded article is characterized by being a powder.

さらに、本発明は、前記層状珪酸塩が、炭素原子数6以上のアルキルアンモニウム塩、芳香族4級アンモニウム塩および複素環4級アンモニウム塩からなる群より選択される一種又は二種以上のカチオン性界面活性剤で処理されたものであることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   Furthermore, the present invention provides the one or more cationic compounds wherein the layered silicate is selected from the group consisting of alkyl ammonium salts having 6 or more carbon atoms, aromatic quaternary ammonium salts and heterocyclic quaternary ammonium salts. The molded article is characterized by being treated with a surfactant.

また、本発明は、前記層状珪酸塩が、下記式(3)で表されるアルキルアンモニウムで化学処理されたものであることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。

Figure 2007002064
1、R2、R3、R4は炭素原子数1以上30以下のアルキル基であり、かつ、R1、R2、R3、R4の少なくとも一つは炭素原子数2以上の直鎖状アルキル基である。 Moreover, this invention provides said molded object characterized by the said layered silicate being chemically processed by the alkylammonium represented by following formula (3).
Figure 2007002064
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, and at least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a straight chain having 2 or more carbon atoms. It is a chain alkyl group.

さらに、本発明は、前記ベンゾオキサジンを開環重合して得られる樹脂100重量部に対し、前記層状珪酸塩が0.2〜100重量部含有されていることを特徴とする上記の成形体を提供するものである。   Furthermore, the present invention provides the above-mentioned molded product, wherein 0.2 to 100 parts by weight of the layered silicate is contained with respect to 100 parts by weight of a resin obtained by ring-opening polymerization of the benzoxazine. It is to provide.

また、本発明は、(A)下記式(1)で表されるベンゾオキサジンの粉体に、層状珪酸塩を粉体を混合して分散させる工程、又は、(B)該ベンゾオキサジンの粉体を溶媒に溶解しこれに層状珪酸塩を混合して分散させる工程、又は、(C)該ベンゾオキサジンを加熱溶融させこれに層状珪酸塩を混合分散させる工程、又は、(D)該ベンゾオキサジンを部分硬化させたベンゾオキサジン樹脂若しくはベンゾキサジンオリゴマーに層状珪酸塩を混合分散させる工程により得られる複合樹脂組成物を、100〜300℃に加熱して硬化させることを特徴とする上記の成形体の製造方法を提供するものである。

Figure 2007002064
式中、Rは炭素原子数2以上の2価の置換基であり、べンゼン環の水素はアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。 The present invention also includes (A) a step of mixing and dispersing a layered silicate powder in a benzoxazine powder represented by the following formula (1), or (B) a powder of the benzoxazine. Is dissolved in a solvent and the layered silicate is mixed and dispersed therein, or (C) the benzoxazine is heated and melted and the layered silicate is mixed and dispersed therein, or (D) the benzoxazine is dispersed. A composite resin composition obtained by mixing and dispersing a layered silicate in a partially cured benzoxazine resin or benzoxazine oligomer is cured by heating at 100 to 300 ° C. A manufacturing method is provided.
Figure 2007002064
In the formula, R is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms, and hydrogen in the benzene ring may be substituted with an alkyl group or an alkoxy group.

さらに、本発明は、前記複合樹脂組成物の加熱に際し、100〜300℃の温度範囲において段階的に温度を上げて加熱することを特徴とする上記の成形体の製造方法を提供するものである。   Furthermore, the present invention provides a method for producing the above-mentioned molded article, wherein the composite resin composition is heated by heating stepwise in a temperature range of 100 to 300 ° C. when the composite resin composition is heated. .

本発明の成形体は、機械的強度に優れ、かつ、電気的性能(誘電率、誘電正接)、耐熱性、低熱線膨張係数に優れている。これにより、高周波に対応した電子回路基板材料を提供することが出来る。特に本発明の成形体を用いることにより、高性能(高演算速度)のコンピュータ等の情報機器に用いられる基板材料を提供することが出来る。   The molded article of the present invention is excellent in mechanical strength and excellent in electrical performance (dielectric constant, dielectric loss tangent), heat resistance, and low thermal linear expansion coefficient. Thereby, the electronic circuit board material corresponding to a high frequency can be provided. In particular, by using the molded article of the present invention, it is possible to provide a substrate material used for information equipment such as a high-performance (high calculation speed) computer.

本発明を好適例を用いて以下に詳述する。本発明は下記の好適例だけに限定されない。   The present invention is described in detail below using preferred examples. The present invention is not limited to the following preferred examples.

1.本発明に用いるベンゾオキサジン樹脂
本発明の成形体に用いる樹脂は、特定構造のベンゾオキサジン(又はそのオリゴマー)を加熱し開環重合させた熱硬化性樹脂であり、いわゆる3次元架橋による強固な構造を有する硬化体である。このため、成形体を構成する硬化樹脂は、ハンダ浴浸せき等の高温にさらされても、変形や熱分解等が起き難く、優れた耐熱性を有する。さらに熱硬化性樹脂であるので、耐水性、耐薬品性にも優れている。したがって、かかる熱硬化性樹脂に層状珪酸塩を含有させた複合材料からなる本発明の成形体(複合成形体と称せられる)は、電子回路基板材料などとして特に好適に用いることが可能な成形体である。
1. Benzoxazine resin used in the present invention The resin used in the molded product of the present invention is a thermosetting resin obtained by heating and ring-opening polymerization of a specific structure of benzoxazine (or an oligomer thereof), and has a strong structure by so-called three-dimensional crosslinking. It is a hardening body which has. For this reason, even if the cured resin constituting the molded body is exposed to a high temperature such as immersion in a solder bath, deformation and thermal decomposition hardly occur and the resin has excellent heat resistance. Furthermore, since it is a thermosetting resin, it is excellent in water resistance and chemical resistance. Therefore, the molded body (referred to as a composite molded body) of the present invention made of a composite material containing a layered silicate in such a thermosetting resin can be used particularly suitably as an electronic circuit board material. It is.

本発明に用いるベンゾオキサジンは、フェノール性化合物、アミン化合物、ホルムアルデヒドの無触媒反応で製造することが出来るため、樹脂内に金属やハロゲンが残留する可能性はきわめて少ない。金属触媒や酸・塩基等を用いた硬化反応が必要な樹脂や、その原料中にハロゲンが含まれる可能性のある樹脂(例えばエポキシ樹脂は多くの場合エピクロロヒドリンから合成されるため塩素を含む場合が多い)と比べ、金属やハロゲンの混入が少ない。ハロゲンや金属は、金属腐食等や信号短絡の原因になるため、ベンゾオキサジン樹脂は、この観点からも電子回路基板材料等に特に好適に用いることが出来る。   Since the benzoxazine used in the present invention can be produced by a non-catalytic reaction of a phenolic compound, an amine compound, and formaldehyde, there is very little possibility that a metal or halogen remains in the resin. Resins that require a curing reaction using metal catalysts, acids, bases, etc., or resins that may contain halogens in their raw materials (for example, epoxy resins are often synthesized from epichlorohydrin, so chlorine In many cases, it contains less metal and halogen. Since halogen or metal causes metal corrosion or a signal short circuit, the benzoxazine resin can be particularly preferably used as an electronic circuit board material from this viewpoint.

また、ベンゾオキサジンの重合においては、開環・縮合反応が起こり、重合硬化するが、その際、揮発する成分がないことも特徴の一つである。したがって、ベンゾオキサジン樹脂中に未反応のベンゾオキサジンやそのオリゴマーが存在し、その後の製造工程や使用状態において熱にさらされ、未反応部分の硬化更進がおこっても、ガスの発生等が無く、表面に形成された配線材料や実装されたデバイスに影響を与えることがないという利点がある。   Further, in the polymerization of benzoxazine, ring opening / condensation reaction takes place and the polymer is cured, but at this time, there is no component that volatilizes. Therefore, unreacted benzoxazine and oligomers exist in the benzoxazine resin, and it is exposed to heat in the subsequent manufacturing process and use state, and there is no generation of gas even if the unreacted part is further cured. There is an advantage that the wiring material formed on the surface and the mounted device are not affected.

そして、本発明の成形体を構成するベンゾオキサジン樹脂は、硬化後に生じるフェノール性OHと3級アミンが水素結合により環状に固定されるために、誘電率や誘電正接低くなるものと考えられる(式(4)参照)。さらに、吸水性はきわめて低く、洗浄等プロセス時にも変化が無く、使用時の湿度変化による吸水もないため、誘電率、誘電正接、寸法等の安定性に優れた成形体を製造することが出来るのである。






Figure 2007002064
The benzoxazine resin constituting the molded article of the present invention is considered to have a low dielectric constant and dielectric loss tangent because the phenolic OH and tertiary amine generated after curing are fixed in a ring form by hydrogen bonding (formula (Refer to (4)). Furthermore, since the water absorption is very low, there is no change during cleaning and other processes, and there is no water absorption due to changes in humidity during use, so it is possible to produce molded articles with excellent stability such as dielectric constant, dielectric loss tangent and dimensions. It is.






Figure 2007002064

本発明で用いるベンゾオキサジン樹脂は、下記式(1)で示されるベンゾオキサジンを開環重合により硬化させた樹脂を用いる。

Figure 2007002064
式中、Rは炭素数2以上の2価の置換基であり、べンゼン環の水素はアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。 As the benzoxazine resin used in the present invention, a resin obtained by curing a benzoxazine represented by the following formula (1) by ring-opening polymerization is used.
Figure 2007002064
In the formula, R is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms, and hydrogen in the benzene ring may be substituted with an alkyl group or an alkoxy group.

式(1)のベンゾオキサジンは、加熱により開環重合し、置換基Rで架橋された硬化体になる。そして置換基Rはスペーサーとして機能する。このスペーサーは、樹脂全体の密度制御と可撓性制御を可能とする。ここで、Rが長鎖の置換基である場合、架橋されるベンゼン環部分の平均距離が長くなり、結果として密度の低い硬化体が形成できる。このように、密度の制御が可能であり、したがって誘電率を制御できるという大きな利点がある。   The benzoxazine of the formula (1) undergoes ring-opening polymerization by heating to become a cured product crosslinked with the substituent R. The substituent R functions as a spacer. This spacer makes it possible to control the density and flexibility of the entire resin. Here, when R is a long-chain substituent, the average distance of the benzene ring portion to be cross-linked becomes long, and as a result, a cured product having a low density can be formed. Thus, there is a great advantage that the density can be controlled and therefore the dielectric constant can be controlled.

式(1)のベンゾオキサジンに類似した構造として、式(5)に示されるベンゾオキサジンからベンゾオキサジン樹脂を製造する方法が知られている。例えば、R1がメチレンであり、R2がフェニルであるベンゾオキサジンは、四国化成工業(株)社より商品名「ベンゾオキサジンF−a」として市販されている。

Figure 2007002064
式中、R1は2価の置換基であり、R2は1価の置換基である。 As a structure similar to the benzoxazine represented by the formula (1), a method for producing a benzoxazine resin from the benzoxazine represented by the formula (5) is known. For example, benzoxazine in which R 1 is methylene and R 2 is phenyl is commercially available from Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. under the trade name “benzoxazine Fa”.
Figure 2007002064
In the formula, R 1 is a divalent substituent, and R 2 is a monovalent substituent.

式(5)のベンゾオキサジンの場合、熱による重合、硬化により、置換基R1がスペーサーとなるベンゾオキサジン樹脂が生成可能である。そして、原料として用いられるフェノールをR1で結合した化合物は、R1がメチレン、2,2−プロピレン、スルホン、スルフィド、ケトン等のものは市販されている。しかしながら、R1が長鎖の化合物は新たな合成が必要となり、大量の製造は困難かつ高価となる。したがって、R1は種類は限られており、R1により成形体の密度制御や可撓性制御を行うことは極めて困難である。 In the case of the benzoxazine of the formula (5), a benzoxazine resin in which the substituent R 1 serves as a spacer can be generated by polymerization and curing with heat. Then, the compound phenol used as the starting material was bonded by R 1, R 1 is methylene, 2,2-propylene, sulfone, sulfide, those ketone are commercially available. However, a compound with a long R 1 chain requires new synthesis, making it difficult and expensive to produce in large quantities. Therefore, the types of R 1 are limited, and it is extremely difficult to control the density and flexibility of the molded body with R 1 .

これに対して、式(1)で示されるベンゾオキサジン構造体の場合、置換基Rは原料として置換基Rを含むジアミンが原料となる。ジアミンの場合、種々のアルキレン、環状構造体をはじめ、多種多様なものが市販されている。したがって、式(5)で示されるベンゾオキサジン構造体よりも、式(1)で示されるベンゾオキサジンを原料としたベンゾオキサジン樹脂の方が、誘電率制御、可撓性制御の面から極めて優位な成形体を製造することが可能となる。   On the other hand, in the case of the benzoxazine structure represented by the formula (1), the substituent R is a diamine containing the substituent R as a raw material. In the case of a diamine, a wide variety of diamines are commercially available, including various alkylenes and cyclic structures. Therefore, the benzoxazine resin using the benzoxazine represented by the formula (1) as a raw material is much more advantageous than the benzoxazine structure represented by the formula (5) in terms of permittivity control and flexibility control. A molded body can be manufactured.

式(1)で示されるベンゾオキサジンの置換基Rは炭素数2以上の2価の置換基である。炭素数の上限はなく、多ければ多いほど密度は低下し、結果として誘電率を低くすることが可能であり、可撓性も向上する。しかし、極端に多すぎると全体としての架橋密度が低下し、耐熱性や強度が低下するため、炭素数は30以下が好ましく、15以下が更に好ましい。一方、炭素数が2未満だと誘電率は充分に下がらず、可撓性も不足するため、電子回路基板等に適さなくなる可能性がある。   The substituent R of benzoxazine represented by the formula (1) is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms. There is no upper limit on the number of carbon atoms, and the greater the number, the lower the density. As a result, the dielectric constant can be lowered and the flexibility is improved. However, if it is too much, the crosslinking density as a whole is lowered and the heat resistance and strength are lowered. Therefore, the carbon number is preferably 30 or less, and more preferably 15 or less. On the other hand, when the number of carbon atoms is less than 2, the dielectric constant is not sufficiently lowered and the flexibility is insufficient, so that it may not be suitable for an electronic circuit board or the like.

また、置換基Rは炭素原子数2以上の2価の置換基であれば特定されないが、特に直鎖状アルキレン基、又は、その水素がアルキル置換された分岐状アルキレン基が好ましい。アルキレン基は極性が小さいため誘電率を上昇させることなく、さらにアルキレン基の撥水性のために吸水性が低下し、環境変化やプロセスによる吸水がより少なくなるため、電子回路基板等に用いるのに適している。特にアルキレン基において、次の式(2)で示される直鎖状アルキル基がより好ましく用いることが出来る。

Figure 2007002064
nは2以上30以下の整数を表す In addition, the substituent R is not specified as long as it is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms, but a linear alkylene group or a branched alkylene group in which hydrogen is alkyl-substituted is particularly preferable. Alkylene groups are low in polarity and do not increase the dielectric constant. Further, the water absorption is reduced due to the water repellency of the alkylene groups, and water absorption due to environmental changes and processes is reduced. Is suitable. Particularly in the alkylene group, a linear alkyl group represented by the following formula (2) can be used more preferably.
Figure 2007002064
n represents an integer of 2 to 30

直鎖状アルキレン基は、適度なフレキシビリティを有するため、樹脂に可撓性を付与することが出来る。直鎖状アルキレン基の具体例としては、1,2−エチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブテン、1,6−ヘキシレン、1,8−オクチレン、1,10−デシレン、1,12−ドデシレン等が挙げられるが、これらに限定されることなく、炭素原子数2〜30のものであれば好ましく用いることが出来る。直鎖アルキレンの場合、炭素原子数が2未満であるとフレキシビリティの付与が十分ではなく、一方、炭素原子数が30を超えるものは架橋密度が低下して耐熱性が低下するため、炭素原子数は2〜30のものが好ましく用いることが出来る。直鎖状アルキレンは単独で使用されても、他の構造を含むアルキレンと併用されても良い。   Since a linear alkylene group has moderate flexibility, it can impart flexibility to the resin. Specific examples of the linear alkylene group include 1,2-ethylene, 1,3-propylene, 1,4-butene, 1,6-hexylene, 1,8-octylene, 1,10-decylene, 1,12. Although -dodecylene etc. are mentioned, it is not limited to these, If it is a C2-C30 thing, it can use preferably. In the case of straight chain alkylene, if the number of carbon atoms is less than 2, flexibility is not sufficiently imparted. On the other hand, those having more than 30 carbon atoms are reduced in cross-linking density and heat resistance, so that carbon atoms A number of 2 to 30 can be preferably used. Straight chain alkylenes may be used alone or in combination with alkylenes containing other structures.

また、直鎖状アルキレン基の水素原子がアルキル基で置換された分岐状アルキレン基も好ましく用いることが出来る。分岐状アルキレンとしては、1,2−プロピレン、2−メチル−1,5−ペンチル等が挙げられるがこれに限定されることはなく、炭素数が2〜30のものであれば好ましく用いることが出来る。分岐状アルキレンは直鎖状アルキレンに対しフレキシビリティが劣るが、そのために分子間空孔を形成し、材料の誘電率をより低下させる可能性がある。分岐状アルキレンは単独で使用されても、他の構造を含むアルキレンと併用されても良い。   A branched alkylene group in which a hydrogen atom of a linear alkylene group is substituted with an alkyl group can also be preferably used. Examples of the branched alkylene include 1,2-propylene, 2-methyl-1,5-pentyl and the like, but are not limited thereto, and those having 2 to 30 carbon atoms are preferably used. I can do it. Although branched alkylene is inferior to linear alkylene in flexibility, it may form intermolecular vacancies and lower the dielectric constant of the material. Branched alkylenes may be used alone or in combination with alkylenes containing other structures.

さらに、環状構造を含むアルキレン基を用いることも好ましい。環状構造を含むアルキレン基としては、1,4−シクロヘキシレン、ジシクロペンタジエニレン、アダマンチレン等が挙げられるがこれに限定されることはなく、炭素原子数が2〜30のものが好ましい。環状構造を含むアルキレン基は、直鎖状アルキレンや分岐状アルキレンに対してさらに剛直となり、そのために分子間空孔を形成し、より材料の誘電率を、さらには誘電正接をより低下させる可能性がある。環状構造を含むアルキレン基は単独で使用されても、他の構造を含むアルキレン基と併用されても良い。   Furthermore, it is also preferable to use an alkylene group containing a cyclic structure. Examples of the alkylene group containing a cyclic structure include 1,4-cyclohexylene, dicyclopentadienylene, adamantylene, and the like. However, the alkylene group is not limited thereto, and those having 2 to 30 carbon atoms are preferable. An alkylene group containing a cyclic structure may be more rigid than linear alkylene or branched alkylene, thereby forming intermolecular vacancies, further reducing the dielectric constant of the material, and even the dielectric loss tangent. There is. An alkylene group containing a cyclic structure may be used alone or in combination with an alkylene group containing another structure.

また、アリーレン基を用いることも好ましい。アリーレン基としては、1,4−フェニレン、4,4’−ビフェニレン、4,4’−ビフェニルエーテル、4,4’−ビフェニルケトン、4,4’−ビフェニルスルホン等が挙げられるが、これに限定されることはなく、炭素原子数が2〜30のものが好ましい。アリーレン基は、環状構造を含むアルキレン基と同様に剛直となり、そのために分子間空孔を形成し、材料の誘電率をより低下させる可能性がある。また、耐熱性を向上させる効果もある。アリーレン基は単独で使用されても、他の構造を含むアリーレン基と併用されても良い。   It is also preferable to use an arylene group. Examples of the arylene group include 1,4-phenylene, 4,4′-biphenylene, 4,4′-biphenyl ether, 4,4′-biphenyl ketone, 4,4′-biphenyl sulfone, and the like. And those having 2 to 30 carbon atoms are preferred. The arylene group becomes rigid like the alkylene group containing a cyclic structure, and therefore, an intermolecular void is formed, which may further lower the dielectric constant of the material. It also has the effect of improving heat resistance. Arylene groups may be used alone or in combination with arylene groups containing other structures.

これらの窒素間をアルキレン基又はアリーレン基で結合したベンゾオキサジン化合物は、対応するジアミン化合物と、フェノール類と、ホルムアルデヒド類を反応させることにより得ることが出来る。合成方法については、公知の方法を用いることが出来る。例えば米国特許公報5,543,516号に示される方法や同公報に示される文献等に記載されている。対応するジアミン化合物とは、例えば、1,2−エチレン構造に対してはエチレンジアミン、1,3−プロピレン構造に対しては1,3−ジアミノプロパン、1,4−ブテン構造に対しては1,4−ジアミノブタン、1,6−ヘキシレン構造に対しては1,6−ジアミノヘキサン等を示し、いずれの構造に対しても相当するジアミンが入手できれば合成可能である。   A benzoxazine compound in which these nitrogen atoms are bonded by an alkylene group or an arylene group can be obtained by reacting the corresponding diamine compound, phenols and formaldehyde. As the synthesis method, a known method can be used. For example, it is described in the method shown in US Pat. No. 5,543,516 and the literature shown in the same publication. Corresponding diamine compounds are, for example, ethylenediamine for 1,2-ethylene structures, 1,3-diaminopropane for 1,3-propylene structures, 1,1 for 1,4-butene structures. For 4-diaminobutane and 1,6-hexylene structures, 1,6-diaminohexane and the like are shown, and synthesis is possible if the corresponding diamine is available for any structure.

2.本発明に用いる層状珪酸塩
本発明の成形体は、上記ベンゾオキサジン重合体を含む樹脂成分に層状珪酸塩を含有させて分散させた複合材料を成形する。
本発明において、層状珪酸塩とは、例えば、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スティブンサイト、ノントロナイトなどのスメクタイト系粘土鉱物や、膨潤性マイカ(膨潤性雲母)、バーミキュライト、ハロイサイト等の平板状珪酸塩を意味する。このような層状珪酸塩を添加することにより、温度変化時の熱線膨張係数を低減することが可能である。前述のように、熱線膨張係数が信号線で使用される金属等と大きく異なる場合、使用時や製造時の温度変化の際、樹脂と金属の間の界面に応力が集中し、剥がれや信号線断裂が起こる可能性がある。
2. Layered silicate used in the present invention The molded body of the present invention forms a composite material in which a layered silicate is contained in the resin component containing the benzoxazine polymer and dispersed.
In the present invention, the layered silicate is, for example, a smectite clay mineral such as montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, stevensite, nontronite, swelling mica (swelling mica), vermiculite, halloysite, etc. Means flat silicate. By adding such a layered silicate, it is possible to reduce the coefficient of thermal expansion at the time of temperature change. As mentioned above, when the coefficient of thermal expansion is significantly different from that of the metal used for the signal line, stress concentrates on the interface between the resin and the metal when the temperature changes during use or manufacturing, causing peeling or signal lines. Rupture can occur.

樹脂の熱線膨張係数を低下させるために無機材料を添加することはよく知られている。通常、この無機材料としてはシリカやアルミナ等の無機粒子が用いられているが、これら粒子状物質を用いた場合、多量の添加を行わない限り、例えば信号配線に用いられている銅の熱線膨張係数(約20ppm)に近づけることは困難である。このように、多量の無機充填剤を添加した場合、樹脂自体が脆く固くなったり、樹脂と信号配線金属との密着性が悪くなったりする可能性がある。   It is well known to add an inorganic material in order to reduce the thermal expansion coefficient of the resin. Usually, inorganic particles such as silica and alumina are used as this inorganic material, but when these particulate materials are used, unless a large amount is added, for example, thermal expansion of copper used for signal wiring It is difficult to approach the coefficient (about 20 ppm). As described above, when a large amount of inorganic filler is added, the resin itself may become brittle and hard, or the adhesion between the resin and the signal wiring metal may deteriorate.

しかしながら、層状珪酸塩を用いた場合、粒子状の無機添加剤を導入する場合に比べて、樹脂や層状珪酸塩の種類等により異なるので一概に言えないが、1/2〜1/10の添加量で十分である。したがって、本発明の成形体では、樹脂の脆化や密着性の低下を引き起こすことが無く、電子回路基板材料等に特に好適に用いることが出来る。   However, when layered silicate is used, compared to the case where a particulate inorganic additive is introduced, since it differs depending on the type of resin, layered silicate, etc., it cannot be generally stated, but addition of 1/2 to 1/10 The amount is sufficient. Therefore, the molded article of the present invention can be used particularly suitably for electronic circuit board materials and the like without causing embrittlement of resin and lowering of adhesion.

なお、本発明に関連し、上述したように米国特許6,323,270号において、ベンゾオキサジンの硬化体に対し、層状珪酸塩{特許中ではクレイ(cray)と記載}を用いた発明が開示されている。しかしながら、米国特許6,323,270号においては、ベンゾオキサジン構造体の構造は特定されていない。これに対して、本発明では特に式(1)に特定される構造を有するベンゾオキサジンを原料とするベンゾオキサジン樹脂を用いることにより、可撓性の付与や誘電率制御を可能とした点に顕著な特徴がある。   In addition, in connection with the present invention, as described above, in US Pat. No. 6,323,270, an invention using a layered silicate (described as clay in the patent) is disclosed for a cured product of benzoxazine. Has been. However, in US Pat. No. 6,323,270, the structure of the benzoxazine structure is not specified. In contrast, in the present invention, the use of a benzoxazine resin made from a benzoxazine having a structure specified by the formula (1) as a raw material makes it possible to impart flexibility and control the dielectric constant. There is a special feature.

そして、特定構造のベンゾオキサジンを原料とするベンゾオキサジン樹脂に添加する層状珪酸塩とは、結晶層間に交換性金属カチオンを有する層状の珪酸塩化合物を意味する。この層状珪酸塩は、天然物であっても良いし、合成物であっても良い。層状珪酸塩は、基本構成である珪酸塩層(単層)が略平行の積層された状態(複層)のものであり、この粉末を樹脂中に分散させると、元の積層数以下の層数にへき開し(デラミネーション)、成形体を構成する樹脂中に分散する。あるいは、あらかじめ元の積層数以下の層数にへき開した粉末を、成型体を構成する樹脂中に分散させることもできる。   And the layered silicate added to the benzoxazine resin using benzoxazine having a specific structure as a raw material means a layered silicate compound having an exchangeable metal cation between crystal layers. This layered silicate may be a natural product or a synthetic product. The layered silicate is a layer in which the silicate layer (single layer), which is a basic structure, is laminated in a substantially parallel manner (multiple layers). When this powder is dispersed in a resin, the number of layers is less than the original number of layers. It is cleaved into a number (delamination) and dispersed in the resin constituting the molded body. Alternatively, powder that has been cleaved in advance to the number of layers that is less than or equal to the original number of layers can be dispersed in the resin that constitutes the molded body.

本発明に用いる層状珪酸塩としては、特に限定されるものではないが、例えば、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スティブンサイト、ノントロナイトなどのスメクタイト系粘土鉱物や、膨潤性マイカ(膨潤性雲母)、バーミキュライト、ハロイサイト等が挙げられる。なかでも、分散性が良好であり、強度や高温での寸法安定性も向上させ得るため、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカおよびバーミキュライトからなる群より選択される少なくとも1種類の層状珪酸塩が好適に用いられ、とりわけ、ヘクトライトがより好適に用いられる。これらの層状珪酸塩は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   The layered silicate used in the present invention is not particularly limited. For example, smectite clay minerals such as montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, stevensite, nontronite, and swelling mica (swelling) Sexual mica), vermiculite, halloysite and the like. Among them, at least one layered silicate selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite, swellable mica and vermiculite is preferable because it has good dispersibility and can improve strength and dimensional stability at high temperatures. In particular, hectorite is more preferably used. These layered silicates may be used alone or in combination of two or more.

また、層状珪酸塩は、特に限定されるものではないが、平均粒子径2μm以下の粉末を樹脂に分散させることが好ましく、より好ましくは1μm以下であり、さらに好ましくは0.5μm以下である。層状珪酸塩の平均粒子径が2μm以下であると、成形体の透明性が向上し、作業時に、下部基板などとの位置合わせを容易にすることができる。また、層状珪酸塩の平均粒子径が1μm以下であると、レーザー加工時に成形体の残渣が残りにくく、レーザー加工性が向上する。さらに、層状珪酸塩の平均粒子径が0.5μm以下であると、成形体を光学材料や光導波路用の材料として使用することも可能となる。   The layered silicate is not particularly limited, but it is preferable to disperse a powder having an average particle diameter of 2 μm or less in the resin, more preferably 1 μm or less, and further preferably 0.5 μm or less. When the average particle diameter of the layered silicate is 2 μm or less, the transparency of the molded body is improved, and alignment with the lower substrate or the like can be facilitated during operation. In addition, when the average particle diameter of the layered silicate is 1 μm or less, the residue of the molded body hardly remains during laser processing, and laser workability is improved. Furthermore, when the average particle diameter of the layered silicate is 0.5 μm or less, the molded body can be used as an optical material or a material for an optical waveguide.

そして、樹脂中に分散する層状珪酸塩の粉末(結晶形状)は、特に限定されるものではないが、平均粒子径が0.01μm以上であり、単層又は多層の粉末の厚みが0.001〜1μmであり、アスペクト比が20〜500である粉末であることが好ましい。より好ましくは、平均粒子径が0.05μm以上であり、厚みが0.01〜0.5μmであり、アスペクト比が50〜200である。   The layered silicate powder (crystal shape) dispersed in the resin is not particularly limited, but the average particle diameter is 0.01 μm or more, and the thickness of the single-layer or multilayer powder is 0.001. It is preferable that the powder is ˜1 μm and the aspect ratio is 20 to 500. More preferably, the average particle diameter is 0.05 μm or more, the thickness is 0.01 to 0.5 μm, and the aspect ratio is 50 to 200.

層状珪酸塩の平均粒子径(平均の長さ)とは、電子顕微鏡写真から観察される、層の面における長径と短径の平均値を粒子径とし、その50個の平均値である。
また、厚みとは、粉末を構成する層の厚さであり(単層の粉末であっても、多層の粉末であってもよい)、電子顕微鏡写真から観察される厚さである。
The average particle diameter (average length) of the layered silicate is an average value of 50 particles obtained by taking the average value of the major axis and the minor axis on the surface of the layer observed from an electron micrograph as the particle diameter.
The thickness is a thickness of a layer constituting the powder (a single layer powder or a multilayer powder), and is a thickness observed from an electron micrograph.

本発明に用いる層状珪酸塩の結晶層間に存在する交換性金属カチオンは、層状珪酸塩の薄片状結晶表面に存在するナトリウムイオンやカルシウムイオンなどの金属イオンのことである。これらの金属イオンは、他のカチオン性物質とのカチオン交換性を有するため、カチオン性を有する種々の物質を上記層状珪酸塩の結晶層間に挿入(インターカレート)もしくは捕捉することができる。   The exchangeable metal cation existing between the crystal layers of the layered silicate used in the present invention is a metal ion such as sodium ion or calcium ion existing on the surface of the lamellar crystal of the layered silicate. Since these metal ions have cation exchange properties with other cationic substances, various substances having a cationic property can be inserted (intercalated) or captured between the crystal layers of the layered silicate.

層状珪酸塩のカチオン交換容量は、特に限定されるものではないが、50〜200ミリ当量/100gであることが好ましい。層状珪酸塩のカチオン交換容量が50ミリ当量/100g未満であると、カチオン交換により層状珪酸塩の結晶層間に挿入もしくは捕捉されるカチオン性物質の量が少なくなるために、結晶層間が十分に疎水化(非極性化)されないことがある。逆に、層状珪酸塩のカチオン交換容量が200ミリ当量/100gを超えると、層状珪酸塩の結晶層間の結合力が強固になりすぎて、結晶薄片が剥離しにくくなることがある。   The cation exchange capacity of the layered silicate is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 meq / 100 g. When the cation exchange capacity of the layered silicate is less than 50 meq / 100 g, the amount of the cationic substance inserted or trapped between the crystal layers of the layered silicate due to cation exchange is reduced, so that the crystal layer is sufficiently hydrophobic. (Non-polarization) may not be possible. Conversely, if the cation exchange capacity of the layered silicate exceeds 200 meq / 100 g, the bonding force between the crystal layers of the layered silicate becomes too strong, and the crystal flakes may be difficult to peel off.

層状珪酸塩は、化学処理を施すことによって、ベンゾオキサジン樹脂への分散性が向上する。以下、化学処理を施すことにより分散性を向上させた層状珪酸塩を、「有機変性層状珪酸塩」と記す。
この化学処理は、特に限定されるものではないが、例えば、以下に示す化学修飾(1)法〜化学修飾(6)法によって行うことができる。これらの化学修飾法は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
When the layered silicate is subjected to a chemical treatment, the dispersibility in the benzoxazine resin is improved. Hereinafter, the layered silicate whose dispersibility is improved by applying chemical treatment is referred to as “organic modified layered silicate”.
Although this chemical treatment is not particularly limited, it can be performed by, for example, the following chemical modification (1) method to chemical modification (6) method. These chemical modification methods may be used alone or in combination of two or more.

化学修飾(1)法は、カチオン性界面活性剤によるカチオン交換法とも言い、具体的には、予め層状珪酸塩の結晶層間をカチオン性界面活性剤でカチオン交換して、疎水化しておく方法である。予め層状珪酸塩の結晶層間を疎水化しておくことにより、層状珪酸塩とベンゾオキサジン樹脂(そのオリゴマーを含む)成分との親和性が高まり、より均一に微分散させることができる。   The chemical modification (1) method is also referred to as a cation exchange method using a cationic surfactant. Specifically, the method is a method in which the cation exchange between the crystal layers of the layered silicate is performed with a cationic surfactant in advance to make it hydrophobic. is there. By previously hydrophobizing the crystal layer of the layered silicate, the affinity between the layered silicate and the component of the benzoxazine resin (including its oligomer) is increased, and it can be more uniformly finely dispersed.

上記カチオン性界面活性剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、4級アンモニウム塩、4級ホスホニウム塩等が挙げられる。なかでも、層状珪酸塩の結晶層間を十分に疎水化できることから、炭素原子数6以上のアルキルアンモニウム塩、芳香族4級アンモニウム塩および複素環4級アンモニウム塩からなる群より選択される少なくとも1種類のアンモニウム塩が好適に用いられる。これらのカチオン性界面活性剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   Although it does not specifically limit as said cationic surfactant, For example, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt, etc. are mentioned. Among them, since the crystal layer of the layered silicate can be sufficiently hydrophobized, at least one selected from the group consisting of alkyl ammonium salts having 6 or more carbon atoms, aromatic quaternary ammonium salts, and heterocyclic quaternary ammonium salts. The ammonium salt is preferably used. These cationic surfactants may be used alone or in combination of two or more.

上記4級アンモニウム塩としては、特に限定されるものではないが、例えば、トリメチルアルキルアンモニウム塩、トリエチルアルキルアンモニウム塩、トリブチルアルキルアンモニウム塩、ジメチルジアルキルアンモニウム塩、ジブチルジアルキルアンモニウム塩、メチルベンジルジアルキルアンモニウム塩、ジベンジルジアルキルアンモニウム塩、トリアルキルメチルアンモニウム塩、トリアルキルエチルアンモニウム塩、トリアルキルブチルアンモニウム塩などのアルキルアンモニウム塩、ベンジルメチル{2−[2−(p−1,1,3,3−テトラメチルブチルフェノオキシ)エトキシ]エチル}アンモニウムクロライドなどの芳香環を有する4級アンモニウム塩(芳香族4級アンモニウム塩)、トリメチルフェニルアンモニウムなどの芳香族アミン由来の4級アンモニウム塩(芳香族4級アンモニウム塩)、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩などの複素環を有する4級アンモニウム塩(複素環4級アンモニウム塩)、ポリエチレングリコール鎖を2つ有するジアルキル4級アンモニウム塩、ポリプロピレングリコール鎖を2つ有するジアルキル4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール鎖を1つ有するトリアルキル4級アンモニウム塩、ポリプロピレングリコール鎖を1つ有するトリアルキル4級アンモニウム塩等が挙げられる。なかでも、ラウリルトリメチルアンモニウム塩、ステアリルトリメチルアンモニウム塩、トリオクチルメチルアンモニウム塩、ジステアリルジメチルアンモニウム塩、ジ硬化牛脂ジメチルアンモニウム塩、ジステアリルジベンジルアンモニウム塩、N−ポリオキシエチレン−N−ラウリル−N,N−ジメチルアンモニウム塩等が好適に用いられる。これらの4級アンモニウム塩は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   Although it does not specifically limit as said quaternary ammonium salt, For example, a trimethyl alkyl ammonium salt, a triethyl alkyl ammonium salt, a tributyl alkyl ammonium salt, a dimethyl dialkyl ammonium salt, a dibutyl dialkyl ammonium salt, a methyl benzyl dialkyl ammonium salt, Alkylammonium salts such as dibenzyldialkylammonium salt, trialkylmethylammonium salt, trialkylethylammonium salt, trialkylbutylammonium salt, benzylmethyl {2- [2- (p-1,1,3,3-tetramethyl) A quaternary ammonium salt (aromatic quaternary ammonium salt) having an aromatic ring such as butylphenoxy) ethoxy] ethyl} ammonium chloride, trimethylphenylammonium A quaternary ammonium salt derived from an aromatic amine (aromatic quaternary ammonium salt), an alkylpyridinium salt, an imidazolium salt and the like, a quaternary ammonium salt having a heterocyclic ring (heterocyclic quaternary ammonium salt), and 2 polyethylene glycol chains. Dialkyl quaternary ammonium salts having two polypropylene glycol chains, trialkyl quaternary ammonium salts having one polyethylene glycol chain, trialkyl quaternary ammonium salts having one polypropylene glycol chain, etc. Can be mentioned. Among them, lauryl trimethyl ammonium salt, stearyl trimethyl ammonium salt, trioctyl methyl ammonium salt, distearyl dimethyl ammonium salt, di-cured tallow dimethyl ammonium salt, distearyl dibenzyl ammonium salt, N-polyoxyethylene-N-lauryl-N , N-dimethylammonium salt and the like are preferably used. These quaternary ammonium salts may be used alone or in combination of two or more.

上記4級ホスホニウム塩としては、特に限定されるものではないが、例えば、ドデシルトリフェニルホスホニウム塩、メチルトリフェニルホスホニウム塩、ラウリルトリメチルホスホニウム塩、ステアリルトリメチルホスホニウム塩、トリオクチルメチルホスホニウム塩、ジステアリルジメチルホスホニウム塩、ジステアリルジベンジルホスホニウム塩等が挙げられる。これらの4級ホスホニウム塩は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   The quaternary phosphonium salt is not particularly limited, and examples thereof include dodecyltriphenylphosphonium salt, methyltriphenylphosphonium salt, lauryltrimethylphosphonium salt, stearyltrimethylphosphonium salt, trioctylmethylphosphonium salt, distearyldimethyl. Examples thereof include phosphonium salts and distearyl dibenzylphosphonium salts. These quaternary phosphonium salts may be used alone or in combination of two or more.

化学修飾(2)法は、上記化学修飾(1)法で化学処理が施された有機変性層状珪酸塩の結晶表面に存在する水酸基を水酸基と化学結合し得る官能基または水酸基との化学的親和性の大きい官能基を分子末端に1個以上有する化合物で化学処理する方法である。   The chemical modification (2) method is a chemical affinity with a functional group or a hydroxyl group capable of chemically bonding a hydroxyl group present on the crystal surface of the organically modified layered silicate subjected to the chemical treatment by the chemical modification (1) method. This is a method of chemically treating with a compound having one or more functional groups having high properties at the molecular terminals.

化学修飾(3)法は、上記化学修飾(1)法で化学処理が施された有機変性層状珪酸塩の結晶表面に存在する水酸基を、水酸基と化学結合し得る官能基または水酸基との化学的親和性の大きい官能基を分子の片末端に1個以上有し、反応性官能基を分子の他末端に1個以上有する化合物で化学処理する方法である。   In the chemical modification (3) method, a hydroxyl group present on the crystal surface of the organically modified layered silicate subjected to the chemical treatment by the chemical modification (1) method is chemically bonded to a functional group or a hydroxyl group capable of chemically bonding to the hydroxyl group. This is a method of chemical treatment with a compound having one or more functional groups with high affinity at one end of the molecule and one or more reactive functional groups at the other end of the molecule.

上記水酸基と化学結合し得る官能基または水酸基との化学的親和性の大きい官能基としては、特に限定されるものではないが、例えば、アルコキシル基、エポキシ基(グリシジル基)、カルボキシル基(二塩基性酸無水物も含む)、水酸基、イソシアネート基、アルデヒド基、アミノ基等が挙げられる。   The functional group capable of chemically bonding to the hydroxyl group or the functional group having a large chemical affinity with the hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include an alkoxyl group, an epoxy group (glycidyl group), and a carboxyl group (dibasic). Acid anhydrides), hydroxyl groups, isocyanate groups, aldehyde groups, amino groups, and the like.

上記水酸基と化学結合し得る官能基を有する化合物または水酸基との化学的親和性の大きい官能基を有する化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、上記例示の官能基等を有するシラン化合物、チタネート化合物、エポキシ化合物、カルボン酸類、スルホン酸類、アルコール類等が挙げられ、なかでも、シラン化合物が好適に用いられる。これらの化合物は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   The compound having a functional group capable of chemically bonding to the hydroxyl group or the compound having a functional group having a large chemical affinity with the hydroxyl group is not particularly limited. Examples thereof include compounds, titanate compounds, epoxy compounds, carboxylic acids, sulfonic acids, alcohols, etc. Among them, silane compounds are preferably used. These compounds may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記化学修飾(2)法で用いられるシラン化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシランが挙げられる。これらの化学修飾(2)法で用いられるシラン化合物は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   Although it does not specifically limit as a silane compound used by the said chemical modification (2) method, For example, a methyltriethoxysilane, a dimethyldimethoxysilane, a trimethylmethoxysilane, a hexyltrimethoxysilane, a hexyltriethoxysilane, an octadecyl Examples include trimethoxysilane and octadecyltriethoxysilane. The silane compounds used in these chemical modification (2) methods may be used alone or in combination of two or more.

また、上記化学修飾(3)法で用いられるシラン化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの化学修飾(3)法で用いられるシラン化合物は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   In addition, the silane compound used in the chemical modification (3) method is not particularly limited, and examples thereof include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, and γ-amino. Propyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyldimethylmethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropylmethylethoxysilane, N-β- (Aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyl Dimethoxysilane, Examples include γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltriethoxysilane. These silane compounds used in the chemical modification (3) method may be used alone or in combination of two or more.

化学修飾(4)法は、化学修飾(1)法で化学処理が施された有機変性層状珪酸塩の結晶表面をアニオン性界面活性を有する化合物で化学処理する方法である。
上記アニオン性界面活性を有する化合物としては、イオン相互作用により層状珪酸塩を化学処理できるものであれば良く、特に限定されるものではない。上記アニオン性界面活性を有する化合物としては、例えば、ラウリル酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、高級アルコール硫酸エステル塩、第2級高級アルコール硫酸エステル塩、不飽和アルコール硫酸エステル塩等が挙げられる。これらのアニオン性界面活性を有する化合物は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
The chemical modification (4) method is a method in which the crystal surface of the organically modified layered silicate chemically treated by the chemical modification (1) method is chemically treated with a compound having an anionic surface activity.
The compound having anionic surface activity is not particularly limited as long as it can chemically treat the layered silicate by ionic interaction. Examples of the compound having an anionic surface activity include sodium laurate, sodium stearate, sodium oleate, higher alcohol sulfate, secondary higher alcohol sulfate, unsaturated alcohol sulfate, and the like. . These compounds having anionic surface activity may be used alone or in combination of two or more.

化学修飾(5)法は、上記アニオン性界面活性を有する化合物のうち、分子鎖中のアニオン部位以外に反応性官能基を1個以上有する化合物で化学処理する方法である。   The chemical modification (5) method is a method in which a chemical treatment is performed with a compound having one or more reactive functional groups other than the anion site in the molecular chain among the compounds having anionic surface activity.

化学修飾(6)法は、化学修飾(1)法〜化学修飾(5)法のいずれかの方法で化学処理が施された有機変性層状珪酸塩に、さらに、例えば無水マレイン酸変性ポリフェニレンエーテル樹脂のような層状珪酸塩と反応可能な官能基を有する樹脂で化学処理する方法である。   The chemical modification (6) method includes an organically modified layered silicate that has been chemically treated by any one of the chemical modification (1) method to the chemical modification (5) method, and further, for example, maleic anhydride-modified polyphenylene ether resin. It is the method of chemically processing with resin which has a functional group which can react with layered silicate like.

本発明の成形体においては、上記化学処理が施された有機変性層状珪酸塩のなかでも、ベンゾオキサジン樹脂成分への親和性が良く、成形体の物性向上効果も高いことから、アルキルアンモニウム塩で化学処理が施されたヘクトライトが特に好適に用いられる。   In the molded product of the present invention, among the organically modified layered silicates that have been subjected to the above chemical treatment, the affinity to the benzoxazine resin component is good, and the effect of improving the physical properties of the molded product is high. A hectorite subjected to chemical treatment is particularly preferably used.

3.ベンゾオキサジン樹脂と層状珪酸塩との混合比及び混合方法
本発明の成形体は、ベンゾオキサジン樹脂100重量部に対し、層状珪酸塩が0.2〜100重量部の範囲で含まれていることを特徴とする。ベンゾオキサジン樹脂100重量部には未反応のベンゾキサジンやオリゴマーも含む。層状珪酸塩の好ましい配合量は、0.5〜80重量部の範囲であり、さらに好ましくは1〜50重量部の範囲である。
ベンゾオキサジン樹脂成分100重量部に対し、層状珪酸塩の配合量が0.2重量部未満であると、高温物性の向上効果を十分に得ることができなくなる。逆に、ベンゾオキサジン樹脂100重量部に対し、層状珪酸塩の配合量が100重量部を超えると、複合成形体の密度が高くなりすぎて、力学的物性が低下し、実用性が損なわれる。
ベンゾオキサジン樹脂成分100重量部に対し、層状珪酸塩の配合量を1〜50重量部の範囲とすることにより、力学的物性および工程適性を損なわれることなく、成形体は特に優れた寸法安定性、耐熱性、誘電特性等を発現する成形体が得られる。
3. Mixing ratio and mixing method of benzoxazine resin and layered silicate The molded article of the present invention is that the layered silicate is contained in the range of 0.2 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzoxazine resin. Features. 100 parts by weight of the benzoxazine resin includes unreacted benzoxazine and oligomers. The preferred amount of layered silicate is in the range of 0.5 to 80 parts by weight, more preferably in the range of 1 to 50 parts by weight.
If the blended amount of the layered silicate is less than 0.2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzoxazine resin component, the effect of improving high-temperature properties cannot be sufficiently obtained. On the contrary, when the compounding amount of the layered silicate exceeds 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzoxazine resin, the density of the composite molded body becomes too high, the mechanical properties are lowered, and the practicality is impaired.
By making the amount of layered silicate to be in the range of 1 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzoxazine resin component, the molded article has particularly excellent dimensional stability without impairing mechanical properties and process suitability. , A molded product exhibiting heat resistance, dielectric properties and the like can be obtained.

一般に、熱硬化性樹脂組成物中に大量の無機充填剤を配合すると、硬化物のガラス転移温度以上の温度における線膨張率を十分に低くすることは困難であり、厚みを薄くすることも難しく、さらには透明性も損なわれる。よって、レーザー加工時の絶縁層同士の位置合わせなどの工程上も不便を生じる。しかし、本発明の成形体における層状珪酸塩は、そのサイズが微小であることや分散性が非常に高いことから、大量に配合しても上記のような問題が生じにくい。   Generally, when a large amount of inorganic filler is blended in the thermosetting resin composition, it is difficult to sufficiently reduce the linear expansion coefficient at a temperature higher than the glass transition temperature of the cured product, and it is also difficult to reduce the thickness. Furthermore, transparency is also impaired. Therefore, inconvenience occurs in processes such as alignment of insulating layers during laser processing. However, the layered silicate in the molded body of the present invention is small in size and has very high dispersibility, so that the above-described problems hardly occur even when blended in a large amount.

本発明に用いる熱硬化性樹脂組成物においては、ベンゾオキサジン樹脂と層状珪酸塩とを組み合わせると、界面の面積が非常に大きく、相互作用が強い。したがって、他の無機充填剤に比較して、同量の配合量であるならば物性向上効果が著しく大きくなる。すなわち、他の無機充填剤をに比べて、機械的物性を損なうことなく、層状珪酸塩の配合量を少なくした成形体を製造することが可能である。   In the thermosetting resin composition used in the present invention, when the benzoxazine resin and the layered silicate are combined, the area of the interface is very large and the interaction is strong. Therefore, compared with other inorganic fillers, if the blending amount is the same, the effect of improving physical properties is significantly increased. That is, compared with other inorganic fillers, it is possible to produce a molded body in which the amount of layered silicate is reduced without impairing mechanical properties.

本発明の成形体の製造方法において、各成分の混合方法は、(A)硬化前のベンゾオキサジン粉体と層状珪酸塩を粉体のまま混合・分散させる方法、(B)硬化前のベンゾオキサジン粉体を溶媒に溶解し層状珪酸塩を混合・分散させる方法、(C)硬化前のベンゾオキサジンを加熱溶融させ層状珪酸塩を混合・分散させる方法、(D)部分硬化させたベンゾオキサジン及び/又はオリゴマーに、層状珪酸塩を混合・分散させる方法等を用いることが出来る。いずれの方法も好適な成形体を得ることが出来る。   In the method for producing a molded article of the present invention, the mixing method of each component is (A) a method of mixing and dispersing a benzoxazine powder before curing and a layered silicate as powder, and (B) a benzoxazine before curing. Method of dissolving powder in solvent and mixing / dispersing layered silicate, (C) Method of mixing and dispersing layered silicate by heating and melting benzoxazine before curing, (D) Partially cured benzoxazine and / or Alternatively, a method of mixing and dispersing layered silicate in the oligomer can be used. Either method can provide a suitable molded product.

混合・分散方法は特に限定されるものではなく、例えば、ディスペンサー、ホモジナイザー、遊星式攪拌機、ボールミル、押出機、2本ロール、バンバリーミキサーなどの従来公知の分散機や混練機を用いて、常温下または加熱下で、剪断力をかけながら各成分を均一に混練すれば良い。   The mixing / dispersing method is not particularly limited. For example, a conventionally known disperser or kneader such as a dispenser, a homogenizer, a planetary stirrer, a ball mill, an extruder, a two-roller, or a Banbury mixer may be used at room temperature. Alternatively, each component may be kneaded uniformly while applying a shearing force under heating.

得られた混合物は、加熱することにより完全に硬化し、成形体とすることが出来る。加熱する温度は用いるベンゾオキサジン化合物により異なるが、一般的には100〜300℃が好適であり、好ましくは120〜250℃、更に好ましくは160〜220℃であり、加熱時間も、加工する成形体の種類により異なるため一概に言えないが、通常は10分から10時間の範囲内である。また、加熱に際し、例えば140℃、160℃、180℃と段階的に温度を上げても良い。   The obtained mixture can be completely cured by heating to form a molded body. The heating temperature varies depending on the benzoxazine compound to be used, but generally 100 to 300 ° C is preferable, preferably 120 to 250 ° C, more preferably 160 to 220 ° C, and the heating time is also a molded article to be processed. Since it differs depending on the type of the material, it cannot be generally stated, but it is usually in the range of 10 minutes to 10 hours. Further, when heating, the temperature may be increased stepwise, for example, 140 ° C., 160 ° C., and 180 ° C.

加熱の際に、好みの形状に成形するため、型を用いても良いし、プレス板で挟んでフィルム状・シート状にしても良い。成形方法は公知の方法を用いることが出来る。   In order to form into a desired shape during heating, a mold may be used, or a film or sheet may be sandwiched between press plates. A known method can be used as the molding method.

また、本発明の成形体には、必要に応じて、例えば、層状珪酸塩以外の充填剤、軟化剤(可塑剤)、造核剤、酸化防止剤(老化防止剤)、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、難燃剤、帯電防止剤、防曇剤、着色剤、有機溶剤などの各種添加剤の1種類もしくは2種類以上が含有されていても良い。   In addition, the molded body of the present invention may contain, for example, a filler other than the layered silicate, a softener (plasticizer), a nucleating agent, an antioxidant (anti-aging agent), a heat stabilizer, a light as necessary. One kind or two or more kinds of various additives such as a stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, a flame retardant, an antistatic agent, an antifogging agent, a colorant, and an organic solvent may be contained.

本発明の成形体の用途としては、特に限定されるものではないが、例えばフィルム状に成形(製膜)して、加工することにより得られる樹脂シート、プリプレグ、各種回路基板、光導波路材料等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a use of the molded object of this invention, For example, a resin sheet, a prepreg, various circuit boards, optical waveguide material, etc. which are obtained by shape | molding (film formation) into a film shape and processing it, etc. Is mentioned.

以下に本発明の成形体を実施例及び比較例を挙げてさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the molded product of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to these examples.

[評価法]
成形体は下記特性を評価した。
(1)誘電特性(誘電率および誘電正接)
複合成形体を厚み500μmのシート状に成形し、得られたシート状成形体を15mm×15mmに切断した。これを誘電率測定装置(HEWLETT PAKARD社製、品番「HP4291B」)に供給し23℃で測定を行い、100MHz、1GHzにおける誘電率および誘電正接を読み取った。
(2)機械的強度(引張り強度と伸び)
複合成形体を厚さ50μmのシート状に成形し、これを80mm×10mmに裁断して測定用試験片とした。JIS−K7171に準拠して引張試験機(オリエンテック社製、商品名:「テンシロン」)にて測定を行った。
(3)耐熱性(ガラス転移温度)
複合成形体を厚さ50μmのシート状に成形し、これを50mm×5mmに裁断して測定用試験片とした。得られた試験片を粘弾性レオメータ−(Rheometorics社製、商品名「RMS−800」)に供給し、周波数10Hz、ひずみ0.05%、昇温速度10℃/分で粘弾性測定を行い、tanδのピーク温度としてガラス転移温度を測定した。
(4)熱線膨張係数
複合成形体を厚さ50μmのシート状に成形し、これを50mm×5mmに裁断して測定用試験片とした。得られた試験片をTMA装置(セイコー電子社製、商品名「TMA/SS120C」)に供給し、昇温速度5℃/分にて23℃から150℃の範囲で測定を行って平均線膨張率を測定した。
[Evaluation method]
The molded product was evaluated for the following characteristics.
(1) Dielectric properties (dielectric constant and dielectric loss tangent)
The composite molded body was molded into a sheet having a thickness of 500 μm, and the obtained sheet-shaped molded body was cut into 15 mm × 15 mm. This was supplied to a dielectric constant measuring apparatus (manufactured by HEWLETT PAKARD, product number “HP4291B”) and measured at 23 ° C., and the dielectric constant and dielectric loss tangent at 100 MHz and 1 GHz were read.
(2) Mechanical strength (tensile strength and elongation)
The composite molded body was formed into a sheet having a thickness of 50 μm, and this was cut into 80 mm × 10 mm to obtain a test specimen for measurement. Based on JIS-K7171, it measured with the tensile tester (Orientec company make, brand name: "Tensilon").
(3) Heat resistance (glass transition temperature)
The composite molded body was formed into a sheet having a thickness of 50 μm, and this was cut into 50 mm × 5 mm to obtain a test specimen for measurement. The obtained test piece was supplied to a viscoelastic rheometer (trade name “RMS-800” manufactured by Rheometrics), and viscoelasticity measurement was performed at a frequency of 10 Hz, a strain of 0.05%, and a heating rate of 10 ° C./min. The glass transition temperature was measured as the peak temperature of tan δ.
(4) Coefficient of thermal expansion The composite molded body was formed into a sheet having a thickness of 50 μm, and this was cut into 50 mm × 5 mm to obtain a test specimen for measurement. The obtained test piece was supplied to a TMA apparatus (trade name “TMA / SS120C” manufactured by Seiko Denshi Co., Ltd.) and measured at a temperature rising rate of 5 ° C./min in the range of 23 ° C. to 150 ° C. to obtain an average linear expansion. The rate was measured.

「一般式(1)のベンゾオキサジンの合成」
(1)還流冷却器を有する反応器にクロロホルム1lを投入し、これに1,6−ジアミノヘキサン1モル、フェノール2モルおよびパラホルムアルデヒド4モルを混合し、クロロホルムの還流温度にて攪拌下5時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を0.5N水酸化ナトリウム水溶液で2回洗浄した後2回水洗した。溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、クロロホルムを減圧下に留去してRがへキシレン基であるベンゾオキサジン化合物(以下、「ベンゾオキサジン化合物(C6)」という)を得た。
"Synthesis of benzoxazine of general formula (1)"
(1) A reactor having a reflux condenser was charged with 1 l of chloroform, mixed with 1 mol of 1,6-diaminohexane, 2 mol of phenol and 4 mol of paraformaldehyde, and stirred at the reflux temperature of chloroform for 5 hours. Reaction was performed. After completion of the reaction, the reaction solution was washed twice with 0.5N aqueous sodium hydroxide solution and then twice with water. After the solution was dried over anhydrous sodium sulfate, chloroform was distilled off under reduced pressure to obtain a benzoxazine compound (hereinafter referred to as “benzoxazine compound (C6)”) in which R is a hexylene group.

(2)還流冷却器を有する反応器にクロロホルム1lを投入し、これに4,4’−ジアミノジフェニルエーテル1モル、フェノール2モルおよびパラホルムアルデヒド4モルを混合し、クロロホルムの還流温度にて攪拌下5時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を0.5N水酸化ナトリウム水溶液で2回洗浄した後2回水洗した。溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、クロロホルムを減圧下に留去してRがジフェニルエーテル基であるベンゾオキサジン化合物(以下、「ベンゾオキサジン化合物(DPE)」という)を得た。 (2) Into a reactor having a reflux condenser, 1 l of chloroform was added, and 1 mol of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2 mol of phenol and 4 mol of paraformaldehyde were mixed and stirred at the reflux temperature of chloroform. Time reaction was performed. After completion of the reaction, the reaction solution was washed twice with 0.5N aqueous sodium hydroxide solution and then twice with water. After the solution was dried over anhydrous sodium sulfate, chloroform was distilled off under reduced pressure to obtain a benzoxazine compound (hereinafter referred to as “benzoxazine compound (DPE)”) in which R is a diphenyl ether group.

「層状珪酸塩」
合成スメクタイト(コープケミカル社製、商品名:「STN」)を用いた。
"Layered silicate"
Synthetic smectite (manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., trade name: “STN”) was used.

[実施例1]
合成スメクタイト(=層状珪酸塩;コープケミカル社製、商品名:「STN」)2重量部とDMF38重量部をホモジナイザー(特殊機化工業社製、商品名:「T.K.HOMODISPER」)に供給し回転数3,000回転で2時間攪拌した。これに、ベンゾオキサジン化合物(C6)100重量部を加え、80℃に加温しながら2,000回転で3時間攪拌して熱硬化性樹脂組成物を得た。
得られた熱硬化性樹脂組成物を100μmの厚さで離型PET上に塗工し、100℃で1時間脱泡・乾燥した後、140℃で1時間、160℃で1時間、最後に180℃で1時間加熱して、厚さ50μmのシート状成形体を得た。
[Example 1]
Supply 2 parts by weight of synthetic smectite (= layered silicate; trade name: “STN”) and 38 parts by weight of DMF to a homogenizer (trade name: “T.K. HOMODISPER”). The mixture was stirred at 3,000 rpm for 2 hours. To this was added 100 parts by weight of a benzoxazine compound (C6), and the mixture was stirred at 2,000 rpm for 3 hours while heating to 80 ° C. to obtain a thermosetting resin composition.
The obtained thermosetting resin composition was coated on a release PET with a thickness of 100 μm, defoamed and dried at 100 ° C. for 1 hour, then at 140 ° C. for 1 hour, at 160 ° C. for 1 hour, and finally Heating was performed at 180 ° C. for 1 hour to obtain a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm.

[実施例2]
合成スメクタイト(=層状珪酸塩;コープケミカル社製、商品名:「STN」)を5重量部使用した以外は実施例1と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。上記と同様に塗工・乾燥・硬化を行い、厚さ50μmのシート状成形体を得た。
[Example 2]
A thermosetting resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 5 parts by weight of synthetic smectite (= layered silicate; manufactured by Coop Chemical Co., Ltd., trade name: “STN”) was used. Coating, drying and curing were performed in the same manner as described above to obtain a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm.

[比較例1]
<塗工による成形体の作成>
ベンゾオキサジン化合物(C6)100重量部にDMF38重量部を加え、ホモジナイザー(特殊機化工業社製、商品名:「T.K.HOMODISPER」)に供給し、80℃に加温しながら2,000回転で3時間攪拌して層状珪酸塩の入っていない熱硬化性樹脂組成物を得た。
これを実施例1と同様に塗工したが、硬化過程で粘度が低下して、均一なシート状成形体を得ることが出来なかった。したがって、下記のプレス法により比較例1の成形体を製造した。
[Comparative Example 1]
<Creation of molded product by coating>
38 parts by weight of DMF was added to 100 parts by weight of the benzoxazine compound (C6), and the mixture was supplied to a homogenizer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd., trade name: “TK HOMODISPER”) and heated to 80 ° C. while being heated to 2,000. The mixture was stirred for 3 hours by rotation to obtain a thermosetting resin composition containing no layered silicate.
This was applied in the same manner as in Example 1, but the viscosity decreased during the curing process, and a uniform sheet-like molded product could not be obtained. Therefore, the molded body of Comparative Example 1 was produced by the following pressing method.

<プレス法による成形体の作成>
ベンゾオキサジン化合物(C6)3gを150mm×150mm×50μmのテフロン(登録商標)型に供給し、120℃で1時間かけてオーブンで融解・脱気した後、ステンレス製のプレス版に挟み込み、加熱プレスにて140℃で1時間、160℃で1時間、最後に180℃で1時間加熱して、厚さ50μmのシート状成形体を得た。
<Creation of molded body by press method>
3 g of benzoxazine compound (C6) is supplied to a 150 mm x 150 mm x 50 µm Teflon (registered trademark) mold, melted and degassed in an oven at 120 ° C for 1 hour, and then sandwiched in a stainless steel press plate. Were heated at 140 ° C. for 1 hour, 160 ° C. for 1 hour, and finally at 180 ° C. for 1 hour to obtain a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm.

[比較例2]
合成スメクタイト(=層状珪酸塩;コープケミカル社製、商品名:「STN」)を120重量部使用した以外は実施例1と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。これを用いて実施例1と同様に塗工によるシート化を試みたが、成形シートは硬く脆く、各種物性評価に供する状態には至らなかった。
[Comparative Example 2]
A thermosetting resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 120 parts by weight of synthetic smectite (= layered silicate; manufactured by Coop Chemical Co., Ltd., trade name: “STN”) was used. Using this, an attempt was made to form a sheet by coating in the same manner as in Example 1. However, the molded sheet was hard and brittle, and did not reach a state for evaluation of various physical properties.

[実施例3]
合成スメクタイト(=層状珪酸塩;コープケミカル社製、商品名:「STN」)2重量部とDMF38重量部をホモジナイザー(特殊機化工業社製、商品名:「T.K.HOMODISPER」)に供給し回転数3,000回転で2時間攪拌した。これに、ベンゾオキサジン化合物(DPE)100重量部を加え、80℃に加温しながら2,000回転で3時間攪拌して熱硬化性樹脂組成物を得た。
得られた熱硬化性樹脂組成物を100μmの厚さで離型PET上に塗工し、120℃で1時間脱泡・乾燥した後、140℃で1時間、160℃で1時間、最後に180℃で1時間加熱して、厚さ50μmのシート状成形体を得た。
[Example 3]
Supply 2 parts by weight of synthetic smectite (= layered silicate; trade name: “STN”) and 38 parts by weight of DMF to a homogenizer (trade name: “T.K. HOMODISPER”). The mixture was stirred at 3,000 rpm for 2 hours. To this was added 100 parts by weight of a benzoxazine compound (DPE), and the mixture was stirred at 2,000 rpm for 3 hours while heating to 80 ° C. to obtain a thermosetting resin composition.
The obtained thermosetting resin composition was coated on a release PET with a thickness of 100 μm, defoamed and dried at 120 ° C. for 1 hour, then at 140 ° C. for 1 hour, at 160 ° C. for 1 hour, and finally Heating was performed at 180 ° C. for 1 hour to obtain a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm.

[実施例4]
合成スメクタイト(=層状珪酸塩;コープケミカル社製、商品名:「STN」)を5重量部使用した以外は実施例3と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。上記と同様に塗工・乾燥・硬化を行い、厚さ50μmのシート状成形体を得た。
[Example 4]
A thermosetting resin composition was obtained in the same manner as in Example 3 except that 5 parts by weight of synthetic smectite (= layered silicate; manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., trade name: “STN”) was used. Coating, drying and curing were performed in the same manner as described above to obtain a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm.

[比較例3]
<塗工によるサンプル作成>
ベンゾオキサジン化合物(DPE)100重量部にDMF38重量部を加え、ホモジナイザー(特殊機化工業社製、商品名:「T.K.HOMODISPER」)に供給し、80℃に加温しながら2,000回転で3時間攪拌して層状珪酸塩の入っていない熱硬化性樹脂組成物を得た。
これを実施例3と同様に塗工したが、硬化過程で粘度が低下して、均一なシート状成形体を得ることが出来なかった。したがって、下記のプレス法により比較例3の成形体を製造した。
[Comparative Example 3]
<Sample preparation by coating>
38 parts by weight of DMF was added to 100 parts by weight of a benzoxazine compound (DPE), and the mixture was supplied to a homogenizer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd., trade name: “TK HOMODPERPER”) and heated to 80 ° C. while being heated to 2,000. The mixture was stirred for 3 hours by rotation to obtain a thermosetting resin composition containing no layered silicate.
This was coated in the same manner as in Example 3, but the viscosity decreased during the curing process, and a uniform sheet-like molded product could not be obtained. Therefore, the molded body of Comparative Example 3 was produced by the following pressing method.

<プレス法による成形体の作成>
ベンゾオキサジン化合物(DPE)3gを150mm×150mm×50μmのテフロン(登録商標)型に供給し、120℃で1時間かけてオーブンで融解・脱気した後、ステンレス製のプレス版に挟み込み、加熱プレスにて140℃で1時間、160℃で1時間、最後に180℃で1時間加熱して、厚さ50μmのシート状成形体を得た。
<Creation of molded body by press method>
3 g of benzoxazine compound (DPE) is supplied to a 150 mm x 150 mm x 50 µm Teflon (registered trademark) mold, melted and degassed in an oven at 120 ° C for 1 hour, and then sandwiched between stainless steel press plates and heated press Were heated at 140 ° C. for 1 hour, 160 ° C. for 1 hour, and finally at 180 ° C. for 1 hour to obtain a sheet-like molded body having a thickness of 50 μm.

実施例1、実施例2、比較例1で得られたシート状成形体を用いて誘電率、誘電正接、引張強度(伸び)、ガラス転移温度、熱線膨張係数を測定した。得られた結果を「表1」に示した。   The dielectric constant, dielectric loss tangent, tensile strength (elongation), glass transition temperature, and thermal linear expansion coefficient were measured using the sheet-like molded bodies obtained in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. The obtained results are shown in “Table 1”.

Figure 2007002064
Figure 2007002064

実施例3、実施例4、較例2で得られたシート状成形体を用いて誘電率、誘電正接、引張強度(伸び)、ガラス転移温度、熱線膨張係数を測定した。得られた結果を「表2」に示した。





Using the sheet-like molded bodies obtained in Example 3, Example 4, and Comparative Example 2, the dielectric constant, dielectric loss tangent, tensile strength (elongation), glass transition temperature, and thermal expansion coefficient were measured. The obtained results are shown in “Table 2”.





Figure 2007002064
Figure 2007002064

上記「表1」及び「表2」に示す結果から明らかなように、特定構造を有するベンゾオキサジン化合物を用いて層状珪酸塩化合物を分散させた複合樹脂からなる本発明の成形体は、電気的性能(誘電率、誘電正接)、耐熱性、機械的強度、低熱線膨張係数のバランスが優れている。また、特定の層状珪酸塩を混入することによりシートへの塗工適性も大きく改良された(例えば実施例1と比較例1との比較)。
以上から、本発明の成形体は、電子回路用の絶縁基板材料として特に有用であることが分かる。
As is clear from the results shown in the above “Table 1” and “Table 2”, the molded article of the present invention comprising a composite resin in which a layered silicate compound is dispersed using a benzoxazine compound having a specific structure is electrically Excellent balance of performance (dielectric constant, dielectric loss tangent), heat resistance, mechanical strength, and low thermal expansion coefficient. Moreover, the suitability for coating on the sheet was greatly improved by mixing a specific layered silicate (for example, comparison between Example 1 and Comparative Example 1).
From the above, it can be seen that the molded article of the present invention is particularly useful as an insulating substrate material for electronic circuits.

本発明の成形体は、機械的強度に優れ、かつ、電気的性能(誘電率、誘電正接)、耐熱性、低熱線膨張係数に優れているので、高周波に対応した電子回路基板材料として好ましく利用される。本発明の成形体によって、特に高演算速度のコンピュータ等の情報機器に用いられる基板材料を提供することが可能となる。
The molded article of the present invention is excellent in mechanical strength and excellent in electrical performance (dielectric constant, dielectric loss tangent), heat resistance, and low thermal linear expansion coefficient, and is preferably used as an electronic circuit board material corresponding to high frequencies. Is done. With the molded article of the present invention, it is possible to provide a substrate material used for information equipment such as a computer having a high calculation speed.

Claims (13)

層状珪酸塩を含有する樹脂からなる成形体において、前記樹脂が下記式(1)で表されるベンゾオキサジンを重合して得られる樹脂であることを特徴とする成形体。
Figure 2007002064
式中、Rは炭素原子数2以上の2価の置換基であり、べンゼン環の水素はアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
A molded article comprising a resin containing a layered silicate, wherein the resin is a resin obtained by polymerizing a benzoxazine represented by the following formula (1).
Figure 2007002064
In the formula, R is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms, and hydrogen in the benzene ring may be substituted with an alkyl group or an alkoxy group.
前記式(1)中のRが、炭素原子数2以上の直鎖状アルキレン基又はその水素がアルキル置換された分岐状アルキレン基であることを特徴とする請求項1記載の成形体。   The molded article according to claim 1, wherein R in the formula (1) is a linear alkylene group having 2 or more carbon atoms or a branched alkylene group in which hydrogen is alkyl-substituted. 前記式(1)中のRが、環状構造を含むアルキレン基又はアリーレン基であることを特徴とする請求項1記載の成形体。   The molded body according to claim 1, wherein R in the formula (1) is an alkylene group or an arylene group containing a cyclic structure. 前記式(1)中のRが、下記式(2)で表されることを特徴とする請求項1記載の成形体。
Figure 2007002064
nは2以上30以下の整数を表す。
R in said Formula (1) is represented by following formula (2), The molded object of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
Figure 2007002064
n represents an integer of 2 or more and 30 or less.
前記層状珪酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライト、膨潤性マイカ及びバーミキュライトからなる群より選択される一種または二種以上の層状珪酸塩であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の成形体。   5. The layered silicate is one or more layered silicates selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite, swellable mica, and vermiculite. Molded body. 前記層状珪酸塩が、平均粒子径1μm以下の粉末であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の成形体。   The said layered silicate is powder with an average particle diameter of 1 micrometer or less, The molded object of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 前記層状珪酸塩が、厚みが0.001〜1μmの単層又は多層の粉末であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載の成形体。   The molded article according to any one of claims 1 to 6, wherein the layered silicate is a single-layer or multilayer powder having a thickness of 0.001 to 1 µm. 前記層状珪酸塩が、平均粒子径が0.05μm〜0.5μmであり、厚みが0.01〜0.5μmの単層又は多層であり、アスペクト比が50〜200の粉末であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の成形体。   The layered silicate is a single layer or multilayer having an average particle diameter of 0.05 μm to 0.5 μm, a thickness of 0.01 to 0.5 μm, and an aspect ratio of 50 to 200. The molded body according to any one of claims 1 to 7. 前記層状珪酸塩が、炭素原子数6以上のアルキルアンモニウム塩、芳香族4級アンモニウム塩および複素環4級アンモニウム塩からなる群より選択される一種又は二種以上のカチオン性界面活性剤で処理されたものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の成形体。   The layered silicate is treated with one or more cationic surfactants selected from the group consisting of alkyl ammonium salts having 6 or more carbon atoms, aromatic quaternary ammonium salts and heterocyclic quaternary ammonium salts. The molded product according to claim 1, wherein the molded product is a molded product. 前記層状珪酸塩が、下記式(3)で表されるアルキルアンモニウムで化学処理されたものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の成形体。
Figure 2007002064
1、R2、R3、R4は炭素原子数1以上30以下のアルキル基であり、かつ、R1、R2、R3、R4の少なくとも一つは炭素原子数2以上の直鎖状アルキル基である。
The molded article according to any one of claims 1 to 8, wherein the layered silicate is chemically treated with an alkylammonium represented by the following formula (3).
Figure 2007002064
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, and at least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a straight chain having 2 or more carbon atoms. It is a chain alkyl group.
前記ベンゾオキサジンを開環重合して得られる樹脂100重量部に対し、前記層状珪酸塩が0.2〜100重量部含有されていることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項記載の成形体。   11. The layered silicate is contained in an amount of 0.2 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a resin obtained by ring-opening polymerization of the benzoxazine. Molded body. (A)下記式(1)で表されるベンゾオキサジンの粉体に、層状珪酸塩を粉体を混合して分散させる工程、又は、(B)該ベンゾオキサジンの粉体を溶媒に溶解しこれに層状珪酸塩を混合して分散させる工程、又は、(C)該ベンゾオキサジンを加熱溶融させこれに層状珪酸塩を混合分散させる工程、又は、(D)該ベンゾオキサジンを部分硬化させたベンゾオキサジン樹脂若しくはベンゾキサジンオリゴマーに層状珪酸塩を混合分散させる工程により得られる複合樹脂組成物を、100〜300℃に加熱して硬化させることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項記載の成形体の製造方法。
Figure 2007002064
式中、Rは炭素原子数2以上の2価の置換基であり、べンゼン環の水素はアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
(A) A step of mixing and dispersing a layered silicate powder in a benzoxazine powder represented by the following formula (1), or (B) dissolving the benzoxazine powder in a solvent. Or (C) a step of mixing and dispersing the layered silicate by heating and melting the benzoxazine, or (D) a benzoxazine obtained by partially curing the benzoxazine. The composite resin composition obtained by mixing and dispersing a layered silicate in a resin or a benzoxazine oligomer is cured by heating to 100 to 300 ° C. A method for producing a molded article.
Figure 2007002064
In the formula, R is a divalent substituent having 2 or more carbon atoms, and hydrogen in the benzene ring may be substituted with an alkyl group or an alkoxy group.
前記複合樹脂組成物の加熱に際し、100〜300℃の温度範囲において段階的に温度を上げて加熱することを特徴とする請求項12記載の成形体の製造方法。
13. The method for producing a molded body according to claim 12, wherein the composite resin composition is heated by increasing the temperature stepwise in a temperature range of 100 to 300 ° C. when heating the composite resin composition.
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