JP5363841B2 - Epoxy resin composition, prepreg, cured body, sheet-like molded body, laminate and multilayer laminate - Google Patents

Epoxy resin composition, prepreg, cured body, sheet-like molded body, laminate and multilayer laminate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide such a resin composition that, when the surface of its cured product is roughening-treated, the surface roughness is slight after the roughening treatment, and when a metallizing layer is formed on the surface of its cured product, the adhesiveness between the cured product and the metallizing layer is improved, and to provide a prepreg, a cured product, a sheet-like molded form, a laminated board and a multi-layer laminated board, each using the above resin composition. <P>SOLUTION: The resin composition, an epoxy-based one, comprises an epoxy-based resin (a), a curing agent (b) for the epoxy-based resin, silica (c) treated with either one or more of aminosilane and epoxysilane and having an average particle size of 5 &mu;m or smaller, and a nonionic surfactant (d). In this resin composition, the amounts of the silica (c) and the nonionic surfactant (d) are 25-400 pts.wt. and 0.1-10 pt.wt., based on 100 pts.wt. of the mixture (a+b) of the epoxy-based resin (a) and the curing agent (b), respectively. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、エポキシ系樹脂組成物、プリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板および多層積層板に関し、より詳細には、例えば、銅めっき層等が形成される基板などの用途に用いられるエポキシ系樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板および多層積層板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition, a prepreg, a cured body, a sheet-like molded body, a laminate and a multilayer laminate, and more specifically, for use in applications such as a substrate on which a copper plating layer is formed. The present invention relates to an epoxy resin composition, a prepreg using the resin composition, a cured body, a sheet-like molded body, a laminate, and a multilayer laminate.

従来から、例えば半導体装置などに用いられる樹脂または樹脂組成物として、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物に、イミダゾールシラン処理されたフィラーを含ませたものが用いられており、それによって、樹脂組成物の諸物性を向上させる種々の試みがなされ、提案されている(例えば、特許文献1〜4参照。)。   Conventionally, for example, as a resin or resin composition used in a semiconductor device or the like, a resin composition containing an epoxy resin containing a filler treated with imidazole silane has been used. Various attempts to improve various physical properties have been made and proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 4).

特許文献1には、半導体装置の封止樹脂として、特定のイミダゾールシランまたは特定のイミダゾールシランの混合物により処理されたフィラーを含む樹脂組成物が開示されている。この樹脂組成物では、フィラーの表面上に存在するイミダゾール基が硬化触媒及び反応起点として作用する。そのため、化学結合が生じ易く、該樹脂組成物を硬化させると、樹脂硬化物の強度を高めることができ、密着性が必要な場合に、特に有用であるとされている。
また、特許文献2には、アルコキシシリル基を有するイミダゾールシラン、もしくはアルコキシシリル基を有するジメチルアミノシランを含有するエポキシ樹脂組成物が開示されている。このエポキシ樹脂組成物は、硬化性、密着性、および貯蔵安定性に優れているとされている。
さらに、特許文献3には、エポキシ樹脂(A)、フェノール樹脂(B)および無機質充填剤(C)を含む樹脂組成物中に、Si原子とN原子とが直接結合していないイミダゾールシラン(D)が0.01〜2.0重量部の割合で含有されているエポキ樹脂組成物が開示されている。このエポキシ樹脂組成物は、半導体チップとの接着性に優れ、IRリフロー後においても、剥離せず、さらに耐湿性にも優れているとされている。
Patent Document 1 discloses a resin composition containing a filler treated with a specific imidazole silane or a mixture of specific imidazole silanes as a sealing resin for a semiconductor device. In this resin composition, an imidazole group present on the surface of the filler acts as a curing catalyst and a reaction starting point. Therefore, chemical bonds are likely to occur, and curing the resin composition can increase the strength of the cured resin and is particularly useful when adhesion is required.
Patent Document 2 discloses an epoxy resin composition containing imidazole silane having an alkoxysilyl group or dimethylaminosilane having an alkoxysilyl group. This epoxy resin composition is said to be excellent in curability, adhesion, and storage stability.
Furthermore, Patent Document 3 discloses an imidazole silane (D) in which Si atoms and N atoms are not directly bonded in a resin composition containing an epoxy resin (A), a phenol resin (B), and an inorganic filler (C). ) Is contained in an amount of 0.01 to 2.0 parts by weight. This epoxy resin composition is excellent in adhesiveness to a semiconductor chip, does not peel even after IR reflow, and is also excellent in moisture resistance.

また、本発明者等も、特許文献4において、エポキシ系樹脂とエポキシ系樹脂の硬化剤およびイミダゾールシラン処理されてなる平均粒子径が5μm以下であるシリカとを含有する樹脂組成物を開示した。特許文献4に記載の樹脂組成物は、配線形成時において、粗化処理(エッチング)後の表面粗さが小さく、かつ銅メッキ密着性に優れ、微細配線対応性に優れている。   In addition, the present inventors also disclosed a resin composition containing, in Patent Document 4, an epoxy resin, a curing agent for the epoxy resin, and silica having an average particle diameter of 5 μm or less treated with imidazole silane. The resin composition described in Patent Document 4 has a small surface roughness after the roughening treatment (etching) during wiring formation, excellent copper plating adhesion, and excellent fine wiring compatibility.

ところが、近年、銅配線のL/Sがより一層小さくなってきていることに伴い、絶縁材料を構成する樹脂組成物には、より線膨張率の低いものが求められてきている。そして、線膨張率を低くするためには、シリカなどの無機充填材(又は充填剤)の含有割合を高くすることが一般的に行われるが、シリカなどの無機充填材(又は充填剤)の割合を高くすると、粗化処理後の表面粗さが大きくなるという問題があった。また、シリカ含有率が高くなりすぎると、銅メッキのメッキピール強度が下がるという問題があった。   However, in recent years, as the L / S of copper wiring is further reduced, a resin composition that constitutes an insulating material is required to have a lower linear expansion coefficient. And in order to make a linear expansion coefficient low, generally increasing the content rate of inorganic fillers (or fillers), such as a silica, is carried out, but inorganic fillers (or fillers), such as a silica, are carried out. When the ratio is increased, there is a problem that the surface roughness after the roughening treatment increases. Further, when the silica content is too high, there is a problem that the plating peel strength of the copper plating is lowered.

本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、樹脂組成物の硬化物の表面を粗化処理した場合に、粗化処理後の表面粗さが小さく、かつ、該樹脂組成物の硬化物の表面にメッキ層が形成された場合に、硬化物とメッキ層との密着性、或いは接着性が高められた樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板、および多層積層板を提供することにある。   The object of the present invention is to take into account the current state of the prior art described above, and when the surface of the cured product of the resin composition is roughened, the surface roughness after the roughening treatment is small, and the resin composition is cured. When a plated layer is formed on the surface of a product, a resin composition having improved adhesion between the cured product and the plated layer or adhesion, a prepreg using the resin composition, a cured product, and a sheet-like molded product It is in providing a laminated board and a multilayer laminated board.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、エポキシ系樹脂、硬化剤、イミダゾールシラン処理などされた特定径のシリカ、およびノニオン系界面活性剤を、特定割合で含有させた樹脂組成物は、シリカの分散状態が良好であって、その硬化物の表面を粗化処理した際にも、粗化処理後の表面粗さが好適となり、上記課題が達成されることを見出した。本発明は、こうした知見に基づいて、さらに検討を重ね、完成するに至ったものである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that epoxy resin, curing agent, silica having a specific diameter treated with imidazole silane, and nonionic surfactant are contained in a specific ratio. The composition has a good dispersion state of silica, and when the surface of the cured product is roughened, the surface roughness after the roughening treatment is suitable, and the above-described problems are achieved. . Based on these findings, the present invention has been further studied and completed.

すなわち、本発明の第1の発明によれば、エポキシ系樹脂(a)と、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)と、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理され、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカ(c)と、ノニオン系界面活性剤(d)とを含有する樹脂組成物であり、エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、シリカ(c)を25〜400重量部、ノニオン系界面活性剤(d)を0.1〜10重量部の割合で含有することを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。   That is, according to the first invention of the present invention, the epoxy resin (a), the epoxy resin curing agent (b), and any one or more of imidazole silane, amino silane, and epoxy silane are processed, and the average A resin composition containing silica (c) having a particle size of 5 μm or less and a nonionic surfactant (d), and a mixture of an epoxy resin (a) and a curing agent for epoxy resin (b) (A + b) An epoxy resin composition comprising silica (c) in an amount of 25 to 400 parts by weight and nonionic surfactant (d) in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (a + b). Things are provided.

本発明の第2の発明によれば、第1の発明において、ノニオン系界面活性剤(d)は、エステル系界面活性剤、エーテル系界面活性剤およびエステル・エーテル系界面活性剤からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
また、本発明の第3の発明によれば、第1又は2の発明において、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理されたシリカ(c)は、シリカ100重量部に対し、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランによる処理量が0.1〜5重量部であることを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
さらに、本発明の第4の発明によれば、第1〜3のいずれかの発明において、前記イミダゾールシランが分子内に水酸基を有しないことを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
According to a second invention of the present invention, in the first invention, the nonionic surfactant (d) is selected from the group consisting of an ester surfactant, an ether surfactant, and an ester / ether surfactant. An epoxy resin composition is provided that is at least one selected.
According to the third invention of the present invention, in the first or second invention, the silica (c) treated with any one or more of imidazole silane, amino silane, and epoxy silane is 100 parts by weight of silica, An epoxy resin composition characterized in that the treatment amount with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane is 0.1 to 5 parts by weight.
Furthermore, according to the fourth invention of the present invention, there is provided an epoxy resin composition characterized in that, in any one of the first to third inventions, the imidazole silane has no hydroxyl group in the molecule.

また、本発明の第5の発明によれば、第1〜4のいずれかの発明において、エポキシ系樹脂(a)は、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂およびビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ樹脂全量に対し、5質量%以上含有することを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
さらに、本発明の第6の発明によれば、第1〜5のいずれかの発明において、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)は、ビフェニル骨格を有する硬化剤、活性エステル硬化剤、ベンゾオキサジン構造を含有する硬化剤、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤およびナフタレン骨格を有する硬化剤からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ系樹脂用硬化剤全量に対し、5質量%以上含有することを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
According to the fifth invention of the present invention, in any one of the first to fourth inventions, the epoxy resin (a) has an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, and an adamantane skeleton. An epoxy resin composition comprising 5% by mass or more of at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an epoxy resin having a triazine skeleton, and an epoxy resin having a biphenyl skeleton with respect to the total amount of the epoxy resin Is provided.
Furthermore, according to the sixth invention of the present invention, in any one of the first to fifth inventions, the epoxy resin curing agent (b) comprises a curing agent having a biphenyl skeleton, an active ester curing agent, a benzoxazine structure. 5 mass% or more of at least one selected from the group consisting of a curing agent containing an aminotriazine skeleton and a curing agent having a naphthalene skeleton with respect to the total amount of the epoxy resin curing agent. An epoxy resin composition is provided.

本発明の第7の発明によれば、第1〜6のいずれかの発明において、シリカ(c)は、平均粒子径が1μm以下であることを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
また、本発明の第8の発明によれば、第1〜7のいずれかの発明において、エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、平均粒子径が500nm以下である有機化層状珪酸塩(e)を2重量部以下の割合で、さらに含有することを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
さらに、本発明の第9の発明によれば、第1〜8のいずれかの発明において、さらに、樹脂組成物全量に対し、マレイミド系化合物(f)を2〜45質量%含有することを特徴とするエポキシ系樹脂組成物が提供される。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an epoxy resin composition characterized in that in any one of the first to sixth aspects, the silica (c) has an average particle size of 1 μm or less. .
According to the eighth invention of the present invention, in any one of the first to seventh inventions, 100 parts by weight of the mixture (a + b) of the epoxy resin (a) and the epoxy resin curing agent (b) is used. On the other hand, an epoxy resin composition characterized by further containing an organically modified layered silicate (e) having an average particle diameter of 500 nm or less in a proportion of 2 parts by weight or less is provided.
Furthermore, according to the ninth invention of the present invention, in any one of the first to eighth inventions, the maleimide compound (f) is further contained in an amount of 2 to 45% by mass based on the total amount of the resin composition. An epoxy resin composition is provided.

一方、本発明の第10の発明によれば、第1〜9のいずれかの発明に係るエポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させてなるプリプレグが提供される。
また、本発明の第11の発明によれば、第1〜9のいずれかの発明に係るエポキシ系樹脂組成物または第10の発明に係るプリプレグを加熱硬化させてなる樹脂硬化物に、粗化処理が施された硬化体であって、表面粗さRaが0.2μm以下であり、かつ表面粗さRzが2.0μm以下であることを特徴とする硬化体が提供される。
さらに、本発明の第12の発明によれば、第11の発明において、前記樹脂硬化物を粗化処理する前に、膨潤処理が施されていることを特徴とする硬化体が提供される。
On the other hand, according to the tenth aspect of the present invention, there is provided a prepreg obtained by impregnating a porous substrate with the epoxy resin composition according to any one of the first to ninth aspects.
Further, according to the eleventh invention of the present invention, the epoxy resin composition according to any one of the first to ninth inventions or the resin cured product obtained by heat-curing the prepreg according to the tenth invention is roughened. Provided is a cured body that has been subjected to a treatment and has a surface roughness Ra of 0.2 μm or less and a surface roughness Rz of 2.0 μm or less.
Furthermore, according to a twelfth aspect of the present invention, there is provided the cured body according to the eleventh aspect, wherein a swelling treatment is performed before the resin cured product is roughened.

また、本発明の第13の発明によれば、第1〜9のいずれかの発明に係るエポキシ系樹脂組成物、第10の発明に係るプリプレグ、又は第11若しくは12の発明に係る硬化体を用いてなることを特徴とするシート状成形体が提供される。
さらに、本発明の第14の発明によれば、第13の発明に係るシート状成形体の少なくとも片面に、金属層及び/又は接着性を有する接着層が形成されてなることを特徴とする積層板が提供される。
According to the thirteenth aspect of the present invention, there is provided the epoxy resin composition according to any one of the first to ninth aspects, the prepreg according to the tenth aspect, or the cured body according to the eleventh or twelfth aspect. A sheet-like molded body characterized by being used is provided.
Furthermore, according to the fourteenth aspect of the present invention, the laminate is characterized in that a metal layer and / or an adhesive layer having adhesiveness is formed on at least one surface of the sheet-like molded body according to the thirteenth aspect. A board is provided.

また、本発明の第15の発明によれば、第14の発明において、前記金属層が回路として形成されていることを特徴とする積層板が提供される。
さらに、本発明の第16の発明によれば、第14又は15の発明に係る積層板から選ばれる少なくとも1種類の積層板を積層してなることを特徴とする多層積層板が提供される。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided the laminated board according to the fourteenth aspect, wherein the metal layer is formed as a circuit.
Furthermore, according to the sixteenth aspect of the present invention, there is provided a multilayer laminated board characterized by laminating at least one kind of laminated board selected from the laminated boards according to the fourteenth or fifteenth invention.

本発明のエポキシ系樹脂組成物は、エポキシ系樹脂(a)と、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)と、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理され、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカ(c)と、ノニオン系界面活性剤(d)とを含有する樹脂組成物であり、エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、シリカ(c)を25〜400重量部、ノニオン系界面活性剤(d)を0.1〜10重量部の割合で含有することを特徴としているため、特に、特定のシリカを特定量含有しているため、樹脂組成物を加熱処理させた後に粗化処理することにより、多くの樹脂をエッチングしなくても容易にシリカが脱離し、硬化物の表面粗さを小さくすることができる。また、硬化物(硬化体)表面の孔は、平均粒子径が5μm以下であるシリカが脱離したものであるため、孔の平均径は5μm程度以下となる。さらに、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカは、特に平均粒子径が1μm以下でかつ含有量が多くなるに従って、凝集傾向となりやすく、表面粗さが大きくなるものの、ノニオン系界面活性剤(d)を特定量含有させることにより、平均粒子径1μm以下のイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカの含有量が多い場合にも、良好な分散性を維持できるという効果を奏する。従って、樹脂部分が平滑であり、平均粒子径が5μm以下のシリカの脱離した微細な凹凸が形成された、銅めっき接着性に優れた硬化体を得ることができる。   The epoxy resin composition of the present invention is treated with an epoxy resin (a), a curing agent for epoxy resin (b), and any one or more of imidazole silane, aminosilane, and epoxy silane, and the average particle size is A resin composition containing silica (c) having a size of 5 μm or less and a nonionic surfactant (d), and a mixture (a + b) of an epoxy resin (a) and an epoxy resin curing agent (b) Since the silica (c) is contained in an amount of 25 to 400 parts by weight and the nonionic surfactant (d) is contained in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight, particularly a specific silica Since the resin composition contains a specific amount, the surface of the cured product can be reduced by removing the silica easily without etching much resin by roughening the resin composition after heat treatment. This Can. Moreover, since the pores on the surface of the cured product (cured body) are those from which silica having an average particle diameter of 5 μm or less is detached, the average diameter of the holes is about 5 μm or less. Further, silica treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane tends to agglomerate and the surface roughness tends to increase as the average particle size is 1 μm or less and the content increases, but nonionic surfactants ( By containing a specific amount of d), it is possible to maintain good dispersibility even when the content of silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane having an average particle diameter of 1 μm or less is large. Therefore, it is possible to obtain a cured body excellent in copper plating adhesiveness in which the resin portion is smooth and the fine irregularities from which silica having an average particle diameter of 5 μm or less is detached are formed.

本発明では、樹脂組成物を加熱硬化させた後に粗化処理すると、硬化物の表面に、シリカが脱離した複数の微細な孔が形成される。よって、硬化物の表面に、例えば、銅などの金属めっき層などが形成された場合には、表面に形成された複数の孔の内部にも、金属めっき層が至る。よって、物理的なアンカー効果により、硬化物と金属めっきとの密着性を高めることができる。
また、シリカの平均粒子径が1μm以下である場合には、樹脂組成物を加熱硬化させて、さらに、例えば膨潤、粗化処理を施すと、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカをより一層容易に脱離させることができる。また、シリカの平均粒子径が小さいほど、シリカが脱離しやすく、また、形成される孔が微細となる。これにより、硬化物の表面に、微細な凹凸面を形成される。よって、硬化物の表面に、例えば銅などの金属めっき層などが形成された場合に、硬化物と金属めっきとの密着性をより一層高めることができる。
さらに、エポキシ系樹脂(a)およびエポキシ系樹脂の硬化剤(b)からなる混合物(a+b)100重量部に対し、有機化層状珪酸塩(e)を2重量部以下の割合で、さらに含む場合には、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)の周囲には、有機化層状珪酸塩(e)が分散されることになる。そのため、この樹脂組成物を硬化させた後に、例えば膨潤、粗化処理を施すことにより、硬化物の表面に存在するイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)を、より一層容易に脱離させることができる。従って、硬化物の表面に、微細で、かつ均一な凹凸面を形成することができる。よって、硬化物の表面に、例えば銅などの金属めっき層などが形成された場合に、硬化体と金属めっきとの密着性を高めることができる。
前記特許文献4においては、有機化層状珪酸塩(e)は0.1〜50重量部の割合と規定しているが、本発明では、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)の含有割合が25重量部以上で、有機化層状珪酸塩(e)が2重量部以下とし、更に、ノニオン系界面活性剤(d)を特定量含有させることにより、粗化処理後の表面粗さを、更に、小さくできることを本発明で見出したのである。
In the present invention, when a roughening treatment is carried out after the resin composition is heat-cured, a plurality of fine holes from which silica has been detached are formed on the surface of the cured product. Therefore, for example, when a metal plating layer such as copper is formed on the surface of the cured product, the metal plating layer reaches the inside of the plurality of holes formed on the surface. Therefore, the adhesion between the cured product and the metal plating can be enhanced by the physical anchor effect.
In addition, when the average particle diameter of silica is 1 μm or less, the resin composition is heated and cured, and further subjected to, for example, swelling or roughening treatment, the silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane It can be desorbed more easily. Further, as the average particle diameter of silica is smaller, silica is more easily detached and the formed pores are finer. Thereby, a fine uneven surface is formed on the surface of the cured product. Therefore, when a metal plating layer such as copper is formed on the surface of the cured product, the adhesion between the cured product and the metal plating can be further enhanced.
Furthermore, when the organic layered silicate (e) is further contained in a proportion of 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the mixture (a + b) comprising the epoxy resin (a) and the epoxy resin curing agent (b). The organic layered silicate (e) is dispersed around the silica (c) treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane. Therefore, after curing the resin composition, for example, by performing swelling and roughening treatment, silica (c) treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane present on the surface of the cured product can be more easily obtained. Can be desorbed. Therefore, a fine and uniform uneven surface can be formed on the surface of the cured product. Therefore, when the metal plating layer etc., such as copper, are formed in the surface of hardened | cured material, the adhesiveness of a hardening body and metal plating can be improved, for example.
In Patent Document 4, the organically modified layered silicate (e) is defined as a ratio of 0.1 to 50 parts by weight, but in the present invention, silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane (c). The surface roughness after the roughening treatment is such that the content ratio of the organic layered silicate (e) is 2 parts by weight or less, and a nonionic surfactant (d) is contained in a specific amount. The present invention has found that this can be further reduced.

本発明に係るプリプレグは、樹脂組成物が多孔質基材に含浸されている。従って、多孔質基材に含浸されている樹脂組成物を硬化させた後に粗化処理することにより、硬化物の表面粗さを小さくすることができる。よって、硬化物の表面に、例えばめっきなどによる銅などの金属層などが形成された場合に、硬化後の樹脂組成物と金属層の密着性をより一層高めることができる。
そのため、めっきによって回路を形成する部材、例えばビルドアップ基板のような電子回路を形成用部材、樹脂製アンテナのような接続端子を形成用部材であって、めっき層の密着性に優れた信頼性の高い部材を得ることができる。なお、回路の形成は、公知の手法、例えばエッチング等により形成することができる。
In the prepreg according to the present invention, a porous substrate is impregnated with a resin composition. Therefore, the surface roughness of the cured product can be reduced by curing the resin composition impregnated in the porous substrate and then performing the roughening treatment. Therefore, when the metal layer of copper etc. by plating etc. is formed in the surface of hardened | cured material, the adhesiveness of the resin composition after hardening and a metal layer can be improved further.
Therefore, it is a member that forms a circuit by plating, for example, a member for forming an electronic circuit such as a build-up substrate, a member for forming a connection terminal such as a resin antenna, and has excellent reliability in the adhesion of the plating layer Can be obtained. The circuit can be formed by a known method such as etching.

本発明に係る硬化体は、本発明に従って構成された樹脂組成物、又は本発明に従って構成されたプリプレグを加熱硬化させてなる樹脂硬化物に、粗化処理が施されたものである。硬化体は、平均径が5μm以下である複数の孔を表面に有し、硬化体の表面粗さRaが0.2μm以下であり、かつ表面粗さRzが2.0μm以下であるため、硬化体の表面粗さが小さくされている。
よって、硬化物の表面に、例えば銅などの金属めっき層などが形成された場合に、硬化後の樹脂組成物と金属めっき層との密着性をより一層高めることができる。また、硬化体の表面粗さが小さいので、硬化体に、L/S値が小さい銅配線が形成された場合に、高速信号処理性能を高めることができる。信号が5GHz以上の高周波になったとしても、硬化体の表面の表面粗さが小さいので、銅めっきと硬化体との界面での電気信号のロスが小さくなるというメリットがある。また、アンカー穴が5μm以下と小さいので、L/Sが小さくなっても、パターン形成が可能である。例えばL/Sが10/10以下になっても、アンカー穴が小さいので、配線の短絡の心配がなく、高密度配線が形成可能である。本発明では、表面粗さが小さいにもかかわらず、銅めっき層の密着性を高めることができ、この点が、従来技術に対して、大きく異なる点である。
The cured body according to the present invention is obtained by subjecting a resin composition configured according to the present invention or a cured resin obtained by heat curing a prepreg configured according to the present invention to a roughening treatment. The cured body has a plurality of holes having an average diameter of 5 μm or less on the surface, the surface roughness Ra of the cured body is 0.2 μm or less, and the surface roughness Rz is 2.0 μm or less. The surface roughness of the body is reduced.
Therefore, when a metal plating layer such as copper is formed on the surface of the cured product, the adhesion between the cured resin composition and the metal plating layer can be further enhanced. Moreover, since the surface roughness of the cured body is small, high-speed signal processing performance can be enhanced when a copper wiring having a small L / S value is formed on the cured body. Even if the signal becomes a high frequency of 5 GHz or more, the surface roughness of the surface of the cured body is small, so that there is an advantage that the loss of the electrical signal at the interface between the copper plating and the cured body is reduced. Further, since the anchor hole is as small as 5 μm or less, a pattern can be formed even if L / S is reduced. For example, even if L / S is 10/10 or less, since the anchor hole is small, there is no fear of a short circuit of the wiring, and a high-density wiring can be formed. In the present invention, although the surface roughness is small, the adhesion of the copper plating layer can be enhanced, which is a point that is greatly different from the prior art.

さらに、本発明に係る硬化体を用いれば、例えば、樹脂付き銅箔、銅張積層板、プリント基板、プリプレグ、接着シートおよびTAB用テープなどの用途において、微細な配線を形成することができ、高速信号伝送性を高めることができる。
また、本発明に係る硬化体において、樹脂硬化物を粗化処理する前に、膨潤処理が施された場合には、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカを、より一層容易に脱離させることができる。よって、シリカが脱離して、微細な孔が形成されることにより、硬化体の表面に、微細な凹凸を形成することができる。
Furthermore, if the cured body according to the present invention is used, for example, in applications such as a resin-coated copper foil, a copper-clad laminate, a printed board, a prepreg, an adhesive sheet, and a TAB tape, a fine wiring can be formed. High-speed signal transmission can be improved.
Moreover, in the cured body according to the present invention, when the swelling treatment is performed before the resin cured product is roughened, the silica treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane is more easily detached. Can be made. Therefore, fine ruggedness can be formed on the surface of the cured body by releasing silica and forming fine pores.

本発明に係るシート状成形体では、本発明に従って構成された樹脂組成物、プリプレグ、又は硬化体が用いられているため、シート状成形体は、引張強度などの機械強度、線膨張率に優れており、かつガラス転移温度Tgも高められている。
また、本発明に係る積層板では、シート状成形体の少なくとも片面に、金属層及び/又は接着性を有する接着層が形成されている。この積層板では、シート状成形体の表面の凹凸面と、金属層及び/又は接着層とシート状成形体との密着性が高められており、密着信頼性に優れている。
さらに、金属層が回路として形成されている場合には、金属層がシート状成形体の表面に、強固に密着されているため、金属層からなる回路の信頼性が高められている。
In the sheet-like molded body according to the present invention, since the resin composition, prepreg, or cured body configured according to the present invention is used, the sheet-shaped molded body is excellent in mechanical strength such as tensile strength and linear expansion coefficient. The glass transition temperature Tg is also increased.
Moreover, in the laminated board which concerns on this invention, the adhesive layer which has a metal layer and / or adhesiveness is formed in the at least single side | surface of a sheet-like molded object. In this laminated board, the unevenness | corrugation surface of the surface of a sheet-like molded object, the adhesiveness of a metal layer and / or an adhesive layer, and a sheet-like molded object are improved, and it is excellent in adhesive reliability.
Furthermore, when the metal layer is formed as a circuit, the metal layer is firmly adhered to the surface of the sheet-like molded body, so that the reliability of the circuit made of the metal layer is enhanced.

本発明に係る多層積層板では、本発明に従って構成された積層板から選ばれる少なくとも1種類の積層板が積層されている。よって、本発明に係る多層積層板では、シート状成形体と金属層及び/又は接着層との密着性が高められている。また、複数の積層板の積層界面において、樹脂組成物が介在する場合には、積層板間の接合信頼性を高めることができる。   In the multilayer laminate according to the present invention, at least one kind of laminate selected from the laminates configured according to the present invention is laminated. Therefore, in the multilayer laminated board which concerns on this invention, the adhesiveness of a sheet-like molded object and a metal layer and / or an adhesive layer is improved. Further, when the resin composition is present at the lamination interface of the plurality of laminated plates, the bonding reliability between the laminated plates can be enhanced.

本発明のエポキシ系樹脂組成物では、エポキシ系樹脂(a)と、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)と、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理され、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカ(c)と、ノニオン系界面活性剤(d)とを含有する樹脂組成物であり、エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、シリカ(c)を25〜400重量部、ノニオン系界面活性剤(d)を0.1〜10重量部の割合で含有することを特徴とするものである。
以下、本発明のエポキシ系樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板および多層積層板などについて、項目毎に説明する。
In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin (a), the epoxy resin curing agent (b), and any one or more of imidazole silane, amino silane, and epoxy silane are processed, and the average particle size is A resin composition containing silica (c) having a size of 5 μm or less and a nonionic surfactant (d), and a mixture (a + b) of an epoxy resin (a) and an epoxy resin curing agent (b) The silica (c) is contained in an amount of 25 to 400 parts by weight and the nonionic surfactant (d) is contained in an amount of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight.
Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention, a prepreg using the resin composition, a cured body, a sheet-like molded body, a laminate, a multilayer laminate, and the like will be described for each item.

1.エポキシ系樹脂組成物
本発明のエポキシ系樹脂組成物は、エポキシ系樹脂(a)と、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)と、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理され、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカ(c)と、ノニオン系界面活性剤(d)とを必須成分として含有し、必要に応じて、好ましくは有機化層状珪酸塩(e)、或いはさらにマレイミド系化合物(f)、さらに、他の成分を含有するものである。
1. Epoxy resin composition The epoxy resin composition of the present invention is treated with an epoxy resin (a), a curing agent for epoxy resin (b), and any one or more of imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane, In addition, silica (c) having an average particle size of 5 μm or less and a nonionic surfactant (d) are contained as essential components, and if necessary, preferably an organically modified layered silicate (e) or further maleimide It contains the system compound (f) and other components.

(1)エポキシ系樹脂(a)
本発明において、エポキシ系樹脂(a)とは、少なくとも1個のエポキシ基(オキシラン環)を有する有機化合物をいう。
上記エポキシ系樹脂中のエポキシ基の数としては、1分子当たり1個以上であることが好ましく、1分子当たり2個以上であることがより好ましい。
エポキシ系樹脂(a)としては、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができ、例えば、以下に示すエポキシ系樹脂(1)〜エポキシ系樹脂(11)等が挙げられる。
これらのエポキシ系樹脂(a)は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、エポキシ系樹脂として、これらのエポキシ系樹脂の誘導体又は水添物が用いられてもよい。
(1) Epoxy resin (a)
In the present invention, the epoxy resin (a) refers to an organic compound having at least one epoxy group (oxirane ring).
The number of epoxy groups in the epoxy resin is preferably 1 or more per molecule, and more preferably 2 or more per molecule.
As the epoxy resin (a), conventionally known epoxy resins can be used, and examples thereof include the following epoxy resins (1) to (11).
These epoxy resins (a) may be used alone or in combination of two or more. Moreover, derivatives or hydrogenated products of these epoxy resins may be used as the epoxy resins.

芳香族エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(1)としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。
ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられる。また、ノボラック型エポキシ系樹脂としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、上記エポキシ系樹脂(1)としては、ナフタレン、ナフチレンエーテル、ビフェニル、アントラセン、ピレン、キサンテン、インドール等の芳香族環を主鎖中に有するエポキシ系樹脂、インドール−フェノール共縮合エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂などが挙げられる。この他には、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル等の芳香族化合物からなるエポキシ系樹脂等も挙げられる。
Examples of the epoxy resin (1) which is an aromatic epoxy resin include bisphenol type epoxy resins and novolac type epoxy resins.
Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Moreover, as a novolak-type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, a cresol novolak-type epoxy resin, etc. are mentioned.
Examples of the epoxy resin (1) include an epoxy resin having an aromatic ring in the main chain such as naphthalene, naphthylene ether, biphenyl, anthracene, pyrene, xanthene, indole, an indole-phenol co-condensed epoxy resin, Examples thereof include phenol aralkyl type epoxy resins. In addition to this, an epoxy resin made of an aromatic compound such as trisphenolmethane triglycidyl ether can also be used.

脂環族エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(2)としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−2−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−2−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル等が挙げられる。このようなエポキシ系樹脂(2)のうち市販されているものとしては、例えば、ダイセル化学工業社製の商品名「EHPE−3150」(軟化温度71℃)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (2) that is an alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3, for example. , 4-epoxy-2-methylcyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, and the like. As what is marketed among such an epoxy resin (2), the brand name "EHPE-3150" (softening temperature 71 degreeC) by Daicel Chemical Industries, etc. are mentioned, for example.

脂肪族エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(3)としては、例えば、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、炭素数が2〜9(好ましくは2〜4)のアルキレン基を含むポリオキシアルキレングリコールやポリテトラメチレンエーテルグリコール等を含む長鎖ポリオールのポリグリシジルエーテル等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (3) which is an aliphatic epoxy resin include diglycidyl ether of neopentyl glycol, diglycidyl ether of 1,4-butanediol, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, and glycerin. Triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, polyoxyalkylene glycol containing an alkylene group having 2 to 9 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms) And polyglycidyl ether of a long-chain polyol containing polytetramethylene ether glycol and the like.

グリシジルエステル型エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(4)としては、例えば、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ジグリシジル−p−オキシ安息香酸、サリチル酸のグリシジルエーテル−グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (4) that is a glycidyl ester type epoxy resin include phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, diglycidyl-p-oxybenzoic acid, and salicylic acid. Glycidyl ether-glycidyl ester, dimer acid glycidyl ester and the like.

グリシジルアミン型エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(5)としては、例えば、トリグリシジルイソシアヌレート、環状アルキレン尿素のN,N´−ジグリシジル誘導体、p−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体、m−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (5) which is a glycidylamine type epoxy resin include, for example, triglycidyl isocyanurate, N, N′-diglycidyl derivatives of cyclic alkylene urea, and N, N, O-triglycidyl of p-aminophenol. Derivatives, N, N, O-triglycidyl derivatives of m-aminophenol, and the like.

グリシジルアクリル型エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(6)としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレートと、エチレン、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル等のラジカル重合性モノマーとの共重合体等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (6) that is a glycidyl acrylic epoxy resin include a copolymer of glycidyl (meth) acrylate and a radical polymerizable monomer such as ethylene, vinyl acetate, (meth) acrylic acid ester, and the like. Is mentioned.

ポリエステル型エポキシ系樹脂である上記エポキシ系樹脂(7)としては、例えば、1分子当たり1個以上、好ましくは2個以上のエポキシ基を有するポリエステル樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (7) which is a polyester type epoxy resin include a polyester resin having one or more, preferably two or more epoxy groups per molecule.

上記エポキシ系樹脂(8)としては、例えば、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化ジシクロペンタジエン等の共役ジエン化合物を主体とする重合体またはその部分水添物の重合体における不飽和炭素の二重結合をエポキシ化した化合物等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (8) include unsaturated carbon double bonds in polymers mainly composed of conjugated diene compounds such as epoxidized polybutadiene and epoxidized dicyclopentadiene, or partially hydrogenated polymers thereof. Examples include epoxidized compounds.

上記エポキシ系樹脂(9)としては、ビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロックと、共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロック又はその部分水添物の重合体ブロックとを同一分子内にもつブロック共重合体において、共役ジエン化合物が有する不飽和炭素の二重結合部分をエポキシ化した化合物等が挙げられる。このような化合物としては、例えば、エポキシ化SBS等が挙げられる。   The epoxy resin (9) has a polymer block mainly composed of a vinyl aromatic compound and a polymer block mainly composed of a conjugated diene compound or a partially hydrogenated polymer block in the same molecule. Examples of the block copolymer include a compound obtained by epoxidizing a double bond portion of unsaturated carbon contained in a conjugated diene compound. Examples of such a compound include epoxidized SBS.

上記エポキシ系樹脂(10)としては、例えば、上記エポキシ系樹脂(1)〜(9)の構造中に、ウレタン結合やポリカプロラクトン結合を導入した、ウレタン変性エポキシ樹脂やポリカプロラクトン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (10) include urethane-modified epoxy resins and polycaprolactone-modified epoxy resins in which urethane bonds and polycaprolactone bonds are introduced into the structures of the epoxy resins (1) to (9). Can be mentioned.

上記エポキシ樹脂(11)としては、ビスアリールフルオレン骨格のエポキシ樹脂が挙げられる。このようなエポキシ樹脂(11)のうち市販されているものとしては、例えば、大阪ガスケミカル社製の商品名「オンコートEXシリーズ」等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (11) include an epoxy resin having a bisarylfluorene skeleton. As what is marketed among such an epoxy resin (11), the brand name "Oncoat EX series" by Osaka Gas Chemical Co., etc. are mentioned, for example.

また、低弾性成分を樹脂の構造で設計する場合は、エポキシ系樹脂として、可撓性エポキシ樹脂が好ましく用いられる。可撓性エポキシ樹脂としては、硬化後に柔軟性を有するものが好適である。
可撓性エポキシ樹脂としては、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、炭素数2〜9(好ましくは2〜4)のアルキレン基を含むポリオキシアルキレングリコールやポリテトラメチレンエーテルグリコール等を含む長鎖ポリオールのポリグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレートと、エチレン、酢酸ビニルもしくは(メタ)アクリル酸エステル等のラジカル重合性モノマーとの共重合体、共役ジエン化合物を主体とする(共)重合体またはその部分水添物の(共)重合体における不飽和炭素の二重結合をエポキシ化したもの、1分子当たり1個以上、好ましくは2個以上のエポキシ基を有するポリエステル樹脂、ウレタン結合やポリカプロラクトン結合を導入した、ウレタン変性エポキシ樹脂やポリカプロラクトン変性エポキシ樹脂、ダイマー酸またはその誘導体の分子内にエポキシ基を導入したダイマー酸変性エポキシ樹脂、NBR、CTBN、ポリブタジエン、アクリルゴム等のゴム成分の分子内にエポキシ基を導入したゴム変性エポキシ樹脂などが挙げられる。
Moreover, when designing the low elastic component with a resin structure, a flexible epoxy resin is preferably used as the epoxy resin. As a flexible epoxy resin, what has a softness | flexibility after hardening is suitable.
Examples of the flexible epoxy resin include diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol and polytetramethylene ether glycol containing an alkylene group having 2 to 9 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms), etc. Copolymers of polyglycidyl ethers and glycidyl (meth) acrylates of long-chain polyols containing ethylene and radical polymerizable monomers such as ethylene, vinyl acetate or (meth) acrylic acid esters, mainly conjugated diene compounds (co) Epoxidized unsaturated carbon double bond in polymer or partially hydrogenated (co) polymer, polyester resin having 1 or more, preferably 2 or more epoxy groups per molecule, urethane bond And introduced polycaprolactone bond Urethane-modified epoxy resin, polycaprolactone-modified epoxy resin, dimer acid-modified epoxy resin in which dimer acid or derivative thereof is introduced, epoxy group in rubber component such as NBR, CTBN, polybutadiene, acrylic rubber Examples thereof include a rubber-modified epoxy resin introduced.

上記可撓性エポキシ樹脂としては、分子内にエポキシ基及びブタジエン骨格を有する化合物がより好ましく用いられる。ブタジエン骨格を有する可撓性エポキシ樹脂を用いた場合には、樹脂組成物及びその硬化物の柔軟性をより一層高めることができ、低温域から高温域までの広い温度範囲にわたり、硬化物の伸度を高めることができる。   As the flexible epoxy resin, a compound having an epoxy group and a butadiene skeleton in the molecule is more preferably used. When a flexible epoxy resin having a butadiene skeleton is used, the flexibility of the resin composition and its cured product can be further increased, and the cured product can be stretched over a wide temperature range from a low temperature range to a high temperature range. The degree can be increased.

本発明のエポキシ系樹脂組成物において、エポキシ系樹脂(a)は、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂およびビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ樹脂全量に対し、5質量%以上含有することが好ましい。5質量%以上含有することにより、ガラス転移温度を向上させたり、線膨張率を低減化することができる。更にアントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂およびビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ樹脂全量に対し、5質量%以上含有すると、粗化処理後の表面粗さを、更に小さくできることができる。   In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin (a) has an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, and a biphenyl skeleton. It is preferable to contain at least 5% by mass of at least one selected from the group consisting of epoxy resins with respect to the total amount of epoxy resin. By containing 5 mass% or more, a glass transition temperature can be improved or a linear expansion coefficient can be reduced. Further, the total amount of the epoxy resin is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, and an epoxy resin having a biphenyl skeleton. On the other hand, when the content is 5% by mass or more, the surface roughness after the roughening treatment can be further reduced.

また、本発明のエポキシ系樹脂組成物には、必須成分である前記エポキシ系樹脂(a)、前記エポキシ系樹脂の硬化剤(b)、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)、ノニオン系界面活性剤(d)に加えて、必要に応じて、例えば、前記エポキシ樹脂と共重合可能な樹脂が含有されていてもよい。   Further, the epoxy resin composition of the present invention includes the epoxy resin (a) which is an essential component, a curing agent (b) of the epoxy resin, silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane (c). In addition to the nonionic surfactant (d), for example, a resin copolymerizable with the epoxy resin may be contained as necessary.

上記共重合可能な樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、フェノキシ樹脂、熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂等が挙げられる。これらの共重合可能な樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種類以上が併用されてもよい。   The copolymerizable resin is not particularly limited, and examples thereof include phenoxy resin, thermosetting modified polyphenylene ether resin, and benzoxazine resin. These copolymerizable resins may be used alone or in combination of two or more.

上記熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリフェニレンエーテル樹脂をエポキシ基、イソシアネート基、アミノ基などの熱硬化性を有する官能基で変性させた樹脂等が挙げられる。これらの熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種類以上が併用されてもよい。熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂のうちエポキシ基で変性されたものの例として、市販されているものとしては、例えば、三菱ガス化学社製の商品名「OPE−2Gly」等が挙げられる。   The thermosetting modified polyphenylene ether resin is not particularly limited. For example, a resin obtained by modifying a polyphenylene ether resin with a thermosetting functional group such as an epoxy group, an isocyanate group, or an amino group. Can be mentioned. These thermosetting modified polyphenylene ether resins may be used alone or in combination of two or more. As an example of what was modified by the epoxy group among thermosetting modified polyphenylene ether resin, the brand name "OPE-2Gly" by Mitsubishi Gas Chemical Company etc. is mentioned, for example.

上記ベンゾオキサジン樹脂とは、ベンゾオキサジンモノマーあるいはオリゴマー、および、これらがオキサジン環の開環重合によって高分子量化されたものを含む。上記ベンゾオキサジンとしては、特に限定されるものではないが、例えば、オキサジン環の窒素にメチル基、エチル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基などのアリール基骨格を有する置換基が結合したもの、あるいは2つのオキサジン環の窒素間にメチレン基、エチレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基、シクロヘキシレン基などのアリーレン基骨格を有する置換基が結合したもの等が挙げられる。これらのベンゾオキサジンモノマーあるいはオリゴマーおよびベンゾオキサジン樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種類以上が併用されてもよい。   The benzoxazine resin includes benzoxazine monomers or oligomers and those obtained by increasing the molecular weight by ring-opening polymerization of oxazine rings. The benzoxazine is not particularly limited, but, for example, one in which a substituent having an aryl group skeleton such as a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group is bonded to the nitrogen of the oxazine ring, Or the thing etc. which the substituent which has arylene group frame | skeletons, such as a methylene group, ethylene group, phenylene group, biphenylene group, naphthalene group, cyclohexylene group, couple | bonded between nitrogen of two oxazine rings are mentioned. These benzoxazine monomers or oligomers and benzoxazine resins may be used alone or in combination of two or more.

(2)エポキシ系樹脂用硬化剤(b)
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、上記のエポキシ系樹脂(a)を硬化させるエポキシ系樹脂用硬化剤(b)が含有される。
(2) Curing agent for epoxy resin (b)
The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin curing agent (b) for curing the above epoxy resin (a).

樹脂組成物における硬化剤(b)の配合割合は、エポキシ系樹脂(a)100重量部に対して、好ましくは1〜200重量部配合される。硬化剤(b)が1重量部より少ないと、エポキシ系樹脂(a)が十分硬化しないことがあり、一方、200重量部より多いと、エポキシ系樹脂(a)を硬化するのに過剰となることがある。   The blending ratio of the curing agent (b) in the resin composition is preferably 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin (a). If the curing agent (b) is less than 1 part by weight, the epoxy resin (a) may not be cured sufficiently, while if it is more than 200 parts by weight, it is excessive to cure the epoxy resin (a). Sometimes.

上記硬化剤(b)としては、特に限定されず、従来公知のエポキシ系樹脂用の硬化剤を用いることができ、例えば、ジシアンジアミド、アミン化合物、アミン化合物から合成される化合物、3級アミン化合物、イミダゾール化合物、ヒドラジド化合物、メラミン化合物、フェノール化合物、活性エステル化合物、ベンゾオキサジン化合物、熱潜在性カチオン重合触媒、光潜在性カチオン重合開始剤、及びそれらの誘導体等が挙げられる。
これらの硬化剤は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、硬化剤とともに、アセチルアセトン鉄等の樹脂硬化触媒として、これらの硬化剤の誘導体が用いられてもよい。
The curing agent (b) is not particularly limited, and conventionally known curing agents for epoxy resins can be used. For example, dicyandiamide, amine compounds, compounds synthesized from amine compounds, tertiary amine compounds, Examples include imidazole compounds, hydrazide compounds, melamine compounds, phenolic compounds, active ester compounds, benzoxazine compounds, thermal latent cationic polymerization catalysts, photolatent cationic polymerization initiators, and derivatives thereof.
These hardening | curing agents may be used independently and 2 or more types may be used together. In addition to the curing agent, derivatives of these curing agents may be used as a resin curing catalyst such as acetylacetone iron.

上記アミン化合物としては、例えば、鎖状脂肪族アミン化合物、環状脂肪族アミン、芳香族アミン等が挙げられる。
また、上記鎖状脂肪族アミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン等が挙げられる。
さらに、上記環状脂肪族アミン化合物としては、例えば、メンセンジアミン、イソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン等が挙げられる。
Examples of the amine compound include a chain aliphatic amine compound, a cyclic aliphatic amine, and an aromatic amine.
Examples of the chain aliphatic amine compound include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyoxypropylenediamine, and polyoxypropylenetriamine.
Further, examples of the cycloaliphatic amine compound include mensendiamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, diaminodicyclohexylmethane, bis (aminomethyl) cyclohexane, and N-aminoethylpiperazine. 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane and the like.

上記芳香族アミン化合物としては、m−キシレンジアミン、α−(m/p−アミノフェニル)エチルアミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、α,α−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
また、上記アミン化合物から合成される化合物としては、例えば、ポリアミノアミド化合物、ポリアミノイミド化合物、ケチミン化合物等が挙げられる。
さらに、上記ポリアミノアミド化合物としては、例えば、上記アミン化合物とカルボン酸とから合成される化合物等が挙げられる。カルボン酸としては、例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカ二酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ジヒドロイソフタル酸、テトラヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸等が挙げられる。
Examples of the aromatic amine compound include m-xylenediamine, α- (m / p-aminophenyl) ethylamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, α, α-bis (4-aminophenyl) -p. -Diisopropyl benzene etc. are mentioned.
Moreover, as a compound synthesize | combined from the said amine compound, a polyaminoamide compound, a polyaminoimide compound, a ketimine compound etc. are mentioned, for example.
Furthermore, examples of the polyaminoamide compound include compounds synthesized from the amine compounds and carboxylic acids. Examples of the carboxylic acid include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecadioic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, dihydroisophthalic acid, tetrahydroisophthalic acid, hexahydroisophthalic acid and the like.

上記ポリアミノイミド化合物としては、例えば、上記アミン化合物とマレイミド化合物とから合成される化合物等が挙げられる。マレイミド化合物としては、例えば、ジアミノジフェニルメタンビスマレイミド等が挙げられる。
また、上記ケチミン化合物としては、例えば、上記アミン化合物とケトン化合物とから合成される化合物等が挙げられる。
Examples of the polyaminoimide compound include compounds synthesized from the amine compound and maleimide compound. Examples of the maleimide compound include diaminodiphenylmethane bismaleimide.
Moreover, as said ketimine compound, the compound etc. which are synthesize | combined from the said amine compound and a ketone compound are mentioned, for example.

この他に、上記アミン化合物から合成される化合物としては、例えば、上記アミン化合物と、エポキシ化合物、尿素化合物、チオ尿素化合物、アルデヒド化合物、フェノール化合物、アクリル系化合物等の化合物とから合成される化合物が挙げられる。   In addition, as a compound synthesized from the amine compound, for example, a compound synthesized from the amine compound and a compound such as an epoxy compound, a urea compound, a thiourea compound, an aldehyde compound, a phenol compound, or an acrylic compound. Is mentioned.

上記3級アミン化合物としては、例えば、N,N−ジメチルピペラジン、ピリジン、ピコリン、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビスシクロ(5,4,0)ウンデセン−1等が挙げられる。   Examples of the tertiary amine compound include N, N-dimethylpiperazine, pyridine, picoline, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1, 8-diazabiscyclo (5,4,0) undecene-1 etc. are mentioned.

上記イミダゾール化合物としては、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−〔2´−メチルイミダゾリル−(1´)〕−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2´−ウンデシルイミダゾリル−(1´)〕−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2´−エチル−4´−メチルイミダゾリル−(1´)〕−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2´−メチルイミダゾリル−(1´)〕−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾリン、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール等が挙げられる。
イミダゾール化合物は、硬化剤としてだけではなく、他の硬化剤と併用して、硬化促進剤としても、使用され得る。
Examples of the imidazole compound include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1- Benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- Cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2' -Undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl] -(1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl Examples include -4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenylimidazoline, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole.
The imidazole compound can be used not only as a curing agent but also as a curing accelerator in combination with other curing agents.

上記ヒドラジド化合物としては、例えば、1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−イソプロピルヒダントイン、7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボヒドラジド、エイコサン二酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド等が挙げられる。
また、上記メラミン化合物としては、例えば、2,4−ジアミノ−6−ビニル−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。
さらに、上記酸無水物としては、例えば、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、ポリアゼライン酸無水物、ポリドデカン二酸無水物、クロレンド酸無水物等が挙げられる。
Examples of the hydrazide compound include 1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydantoin, 7,11-octadecadien-1,18-dicarbohydrazide, eicosane diacid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, and the like. Is mentioned.
Examples of the melamine compound include 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine.
Furthermore, examples of the acid anhydride include phthalic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bisanhydro trimellitate, glycerol tris anhydro trimellitate. Tate, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, 5- (2,5- Dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenyl succinic anhydride, polyazelenic anhydride, polydodecanedioic acid Anhydride, Chloré De anhydride, and the like.

上記熱潜在性カチオン重合触媒としては、特に限定されず、例えば、6フッ化アンチモン、6フッ化リン、4フッ化ホウ素等を対アニオンとした、ベンジルスルホニウム塩、ベンジルアンモニウム塩、ベンジルピリジニウム塩、ゼンジルスルホニウム塩等のイオン性熱潜在性カチオン重合触媒;N−ベンジルフタルイミド、芳香族スルホン酸エステル等の非イオン性熱潜在性カチオン重合触媒が挙げられる。   The heat-latent cationic polymerization catalyst is not particularly limited, and examples thereof include benzylsulfonium salt, benzylammonium salt, benzylpyridinium salt using antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride, boron tetrafluoride and the like as a counter anion, Examples include ionic thermal latent cationic polymerization catalysts such as zendylsulfonium salts; nonionic thermal latent cationic polymerization catalysts such as N-benzylphthalimide and aromatic sulfonic acid esters.

上記光潜在性カチオン重合触媒としては、特に限定されず、例えば、6フッ化アンチモン、6フッ化リン、4フッ化ホウ素等を対アニオンとした、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩及び芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩類、並びに鉄−アレン錯体、チタノセン錯体及びアリールシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等のイオン性光潜在性カチオン重合開始剤;ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン、N−ヒドロキシイミドスルホナート等の非イオン性光潜在性カチオン重合開始剤が挙げられる。   The photolatent cationic polymerization catalyst is not particularly limited, and examples thereof include aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and aromatics using antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride, boron tetrafluoride and the like as counter anions. Ionic photolatent cationic polymerization initiators such as onium salts such as sulfonium salts and organometallic complexes such as iron-allene complexes, titanocene complexes and arylsilanol-aluminum complexes; nitrobenzyl esters, sulfonic acid derivatives, phosphate esters And nonionic photolatent cationic polymerization initiators such as phenolsulfonic acid ester, diazonaphthoquinone, and N-hydroxyimide sulfonate.

また、上記硬化剤がフェノール基を有する場合には、耐熱性、低吸水性や、寸法安定性を向上させることができる。
上記フェノール基を有するフェノール化合物としては、例えば、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、フェノールアラルキル樹脂等が挙げられる。これらの誘導体も用いることができ、フェノール化合物は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
Moreover, when the said hardening | curing agent has a phenol group, heat resistance, low water absorption, and dimensional stability can be improved.
Examples of the phenol compound having a phenol group include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, phenol aralkyl resin, and the like. These derivatives can also be used, and the phenol compound may be used alone or in combination of two or more.

上記硬化剤がフェノール化合物である場合には、樹脂組成物を硬化させた後に、粗化処理すると、硬化物の表面粗さ(Ra,Rz)がより一層細かくなる。
上記硬化剤が下記式(1)〜(3)のいずれかで示されるフェノール化合物である場合には、硬化物の表面粗さ(Ra,Rz)がさらに一層細かくなる。また、上記硬化剤がフェノール化合物である場合には、耐熱性が高く、吸水性が低く、さらに硬化物に熱履歴を与えた場合の寸法安定性がより一層向上された硬化物を得ることができる。
When the curing agent is a phenol compound, the surface roughness (Ra, Rz) of the cured product becomes even finer when a roughening treatment is performed after the resin composition is cured.
When the curing agent is a phenol compound represented by any of the following formulas (1) to (3), the surface roughness (Ra, Rz) of the cured product is further reduced. Further, when the curing agent is a phenol compound, it is possible to obtain a cured product having high heat resistance, low water absorption, and further improved dimensional stability when giving a thermal history to the cured product. it can.

Figure 0005363841
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上記式(1)中、Rは、メチル基またはエチル基を示し、Rは、水素または炭化水素基を示し、nは2〜4の整数を示す。 In the above formula (1), R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents hydrogen or a hydrocarbon group, and n represents an integer of 2 to 4.

Figure 0005363841
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上記式(2)中、nは0または1〜5の整数を示す。   In said formula (2), n shows the integer of 0 or 1-5.

Figure 0005363841
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上記式(3)中、Rは、下記式(4a)または下記式(4b)で表される基を示し、Rは、下記式(5a),下記式(5b)または下記式(5c)で表される基を示し、Rは、下記式(6a)または下記式(6b)で表される基を示し、Rは、水素または炭素数1〜20の炭素原子含有分子鎖基を示し、pおよびqは、それぞれ1〜6の整数を示し、rは1〜11の整数を示す。 In the above formula (3), R 3 represents a group represented by the following formula (4a) or the following formula (4b), and R 4 represents the following formula (5a), the following formula (5b) or the following formula (5c). R 5 represents a group represented by the following formula (6a) or the following formula (6b), and R 6 represents hydrogen or a carbon atom-containing molecular chain group having 1 to 20 carbon atoms. P and q each represent an integer of 1 to 6, and r represents an integer of 1 to 11.

Figure 0005363841
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Figure 0005363841
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上記式(3)で示される硬化剤は、Rが上記式(5c)で示されるビフェニル構造を有するフェノール化合物である場合には、硬化物は、電気特性、低線膨張率、耐熱性、低吸水性などの諸物性に優れるとともに、硬化物に熱履歴を与えた場合の寸法安定性をさらに一層向上させることができる。なかでも下記式(7)で示される構造を有するものが、これらの性能をより一層高め得るため、好ましい。 Curing agent represented by the above formula (3), when R 4 is a phenolic compound having a biphenyl structure represented by the formula (5c), the cured product, electrical properties, low linear expansion coefficient, heat resistance, In addition to being excellent in various physical properties such as low water absorption, the dimensional stability can be further improved when a heat history is given to the cured product. Among these, those having a structure represented by the following formula (7) are preferable because these performances can be further improved.

Figure 0005363841
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上記式(7)中、nは1〜11の整数を示す。   In said formula (7), n shows the integer of 1-11.

また、上記活性エステル化合物は、例えば、芳香族多価エステル化合物が挙げられる。活性エステル基は,エポキシ樹脂との反応時のOH基を生成しないため、誘電率、誘電正接が優れた硬化体を得ることができるとされており、例えば、特開2002−12650号公報に開示されている。市販されているものとしては、例えば、大日本インキ化学工業社製の商品名「EPICLON EXB9451−65T」等が挙げられる。このような活性エステル化合物を用いた場合には、誘電率、誘電正接に優れた硬化物が得られる。   Examples of the active ester compound include aromatic polyvalent ester compounds. Since the active ester group does not generate an OH group upon reaction with the epoxy resin, it is said that a cured product having excellent dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. For example, disclosed in JP-A-2002-12650 Has been. Examples of commercially available products include trade name “EPICLON EXB9451-65T” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. When such an active ester compound is used, a cured product having excellent dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained.

上記ベンゾオキサジン化合物としては、脂肪族系ベンゾオキサジンあるいは芳香族系ベンゾオキサジン樹脂が挙げられる。市販されているものとしては、例えば、四国化成学工業社製の商品名「P−d型ベンゾオキサジン」「F−a型ベンゾオキサジン」等が挙げられる。   Examples of the benzoxazine compound include aliphatic benzoxazines and aromatic benzoxazine resins. Examples of commercially available products include trade names “Pd type benzoxazine” and “Fa type benzoxazine” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.

また、樹脂組成物には、前述のイミダゾール化合物以外に、トリフェノルホスフィンなどのホスフィン化合物あるいはDBU、DBN、及びそのフェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、オルソフタル酸塩、フェノールノボラック樹脂塩などの硬化促進剤が添加されてもよい。
また、シアネートエステル樹脂も用いることができる。シアネートエステル樹脂は、線膨張率の低い硬化物を得ることができ、例えばノボラック型シーネートエステル樹脂、ビスフェノール型シアネートエステル樹脂及び一部をトリアジン化したプレポリマーなどを用いることができる。
In addition to the imidazole compound described above, the resin composition includes a phosphine compound such as triphenorphosphine, or DBU, DBN, and its phenol salt, octylate, p-toluenesulfonate, formate, orthophthalate, A curing accelerator such as a phenol novolac resin salt may be added.
Cyanate ester resins can also be used. As the cyanate ester resin, a cured product having a low linear expansion coefficient can be obtained. For example, a novolac type sinate ester resin, a bisphenol type cyanate ester resin, a prepolymer obtained by partially triazine conversion, and the like can be used.

本発明のエポキシ系樹脂組成物において、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)は、ビフェニル骨格を有する硬化剤、活性エステル硬化剤、ベンゾオキサジン構造を含有する硬化剤、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤およびナフタレン骨格を有する硬化剤からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ系樹脂用硬化剤全量に対し、5質量%以上含有することが好ましい。
また、エポキシ系樹脂組成物は、硬化剤として、ビフェニル構造(または骨格)を有するフェノール系硬化剤、活性エステル硬化剤、ベンゾオキサジン構造を含有する硬化剤の少なくとも1種類を含有することがより好ましい。さらに、エポキシ系樹脂組成物は、ビフェニル構造を有するフェノール系硬化剤あるいは活性エステル硬化剤の少なくとも1種類を含有することが特に好ましい。この場合、硬化剤がビフェニル構造もしくは活性エステル構造を有するため、例えば、めっきの前処理としての膨潤・粗化処理において樹脂自体が影響を受け難い。従って、樹脂組成物を硬化させた後に、粗化処理すると、樹脂の表面が粗らされずに、平均粒子径が5μm以下のイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカが選択的に脱離して、孔が形成される。よって、硬化物の表面に、表面粗さの非常に小さい凹凸面を形成することができる。
In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin curing agent (b) includes a curing agent having a biphenyl skeleton, an active ester curing agent, a curing agent having a benzoxazine structure, a curing agent having an aminotriazine skeleton, and It is preferable to contain 5% by mass or more of at least one selected from the group consisting of curing agents having a naphthalene skeleton with respect to the total amount of the curing agent for epoxy resin.
The epoxy resin composition preferably contains at least one of a phenolic curing agent having a biphenyl structure (or skeleton), an active ester curing agent, and a curing agent having a benzoxazine structure as a curing agent. . Furthermore, it is particularly preferable that the epoxy resin composition contains at least one of a phenolic curing agent or an active ester curing agent having a biphenyl structure. In this case, since the curing agent has a biphenyl structure or an active ester structure, for example, the resin itself is hardly affected in the swelling / roughening treatment as a pretreatment for plating. Therefore, when the resin composition is cured and then roughened, the surface of the resin is not roughened, and the silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane having an average particle size of 5 μm or less is selectively detached. Thus, a hole is formed. Therefore, an uneven surface having a very small surface roughness can be formed on the surface of the cured product.

エポキシ系樹脂(a)及び/または硬化剤(b)の分子量が大きいと、硬化物の表面に、微細な粗面を形成しやすいため、エポキシ系樹脂(a)の重量平均分子量は、4000以上が好ましく、硬化剤(b)の重量平均分子量は、1800以上が好ましい。特に、硬化剤の分子量が微細な粗面を形成するのに重要である。   When the molecular weight of the epoxy resin (a) and / or the curing agent (b) is large, it is easy to form a fine rough surface on the surface of the cured product. Therefore, the weight average molecular weight of the epoxy resin (a) is 4000 or more. The weight average molecular weight of the curing agent (b) is preferably 1800 or more. In particular, the molecular weight of the curing agent is important for forming a fine rough surface.

また、エポキシ系樹脂のエポキシ等量及び/または硬化剤の等量は大きいと、硬化物の表面に微細な粗面を形成しやすい。   Moreover, if the epoxy equivalent of the epoxy resin and / or the equivalent of the curing agent is large, it is easy to form a fine rough surface on the surface of the cured product.

エポキシ系樹脂及び/またはフェノール硬化剤がビフェニル構造を有する場合には、樹脂組成物を硬化させた硬化物では、電気特性、特に誘電正接に優れると共に、強度・線膨張率にも優れ、吸水率も低くなる。硬化剤が芳香族多価エステル構造あるいはベンゾオキサジン構造を有する場合には、更に誘電率、誘電正接に優れた硬化物を得ることができる。また、低線膨張率が必要な場合には、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂などが適している。   When the epoxy resin and / or phenol curing agent has a biphenyl structure, the cured product obtained by curing the resin composition is excellent in electrical characteristics, in particular, dielectric loss tangent, excellent in strength and linear expansion coefficient, and in water absorption. Also lower. When the curing agent has an aromatic polyvalent ester structure or a benzoxazine structure, a cured product having further excellent dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. Further, when a low linear expansion coefficient is required, anthracene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, cyanate ester resin and the like are suitable.

上記ビフェニル型エポキシ系樹脂は、上述の式(1)〜(7)の疎水性を有するフェノール系化合物の水酸基の一部をエポキシ基含有基で置換し、残りを水酸基以外の置換基、例えば水素で置換した化合物などが挙げられ、下記式(8)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。   In the biphenyl type epoxy resin, a part of the hydroxyl groups of the hydrophobic phenol compounds of the above formulas (1) to (7) are substituted with an epoxy group-containing group, and the remainder is a substituent other than the hydroxyl group, for example, hydrogen. And a biphenyl type epoxy resin represented by the following formula (8) is preferably used.

Figure 0005363841
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上記式(8)中、nは1〜11の整数を示す。   In said formula (8), n shows the integer of 1-11.

(3)イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されており、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカ(c)が含有される。
樹脂組成物におけるイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)の配合割合は、エポキシ系樹脂(a)および硬化剤(b)からなる混合物(a+b)100重量部に対して、25〜400重量部配合される。シリカの配合割合は、上記混合物に対して、25〜250重量部の範囲が好ましく、43〜150重量部の範囲がさらに好ましい。シリカが25重量部より少ないと、粗化処理等によってシリカが脱離されて形成される孔の総表面積が小さくなり、充分なめっき接着強度が発現しなくなり、一方、400重量部より多いと、樹脂が脆くなり易い。
(3) Silica treated with imidazole silane, amino silane or epoxy silane (c)
The epoxy resin composition of the present invention contains silica (c) that has been treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane and has an average particle size of 5 μm or less.
The mixing ratio of the silica (c) treated with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane in the resin composition is 25 to 100 parts by weight of the mixture (a + b) composed of the epoxy resin (a) and the curing agent (b). 400 parts by weight is blended. The blending ratio of silica is preferably in the range of 25 to 250 parts by weight, and more preferably in the range of 43 to 150 parts by weight with respect to the mixture. When the amount of silica is less than 25 parts by weight, the total surface area of the holes formed by the removal of silica by roughening treatment or the like is reduced, and sufficient plating adhesion strength is not expressed. Resin tends to be brittle.

また、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)において、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランによる処理量は、シリカ100重量部に対し、好ましくは0.1〜5重量部であり、より好ましくは2〜4重量部である。イミダゾールシランなどの処理量が0.1重量部未満であると、処理量が不足であるために粗面の表面粗さが大きくなり、一方、5重量部を超えると、イミダゾール基、アミノ基またはエポキシ基の絶対量が多くなり、樹脂組成物の保存安定性が悪く(ゲル化し易く)なる。   In addition, in the silica (c) treated with imidazole silane, amino silane or epoxy silane, the treatment amount with imidazole silane, amino silane or epoxy silane is preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of silica. Preferably it is 2-4 weight part. When the amount of treatment such as imidazole silane is less than 0.1 parts by weight, the surface roughness of the rough surface increases because the amount of treatment is insufficient. On the other hand, when the amount exceeds 5 parts by weight, imidazole group, amino group or The absolute amount of the epoxy group increases, and the storage stability of the resin composition is deteriorated (easily gelled).

上記イミダゾールシランとしては、特開平9−169871号公報、特開2001−187836号公報、特開2002−128872号公報などに開示されているイミダゾール基を有するシランカップリング剤などを、適宜用いることができる。
シランカップリング剤は、有機物と珪素から構成される化合物であるが、イミダゾールシランは、分子内にイミダゾール基を有するカップリング剤である。イミダゾールシランは、分子内に水酸基を有しない構造であることが好ましい。水酸基を有するイミダゾールシラン化合物は、エポキシ樹脂と混ぜて保管した場合に、安定性が悪いという問題があるからである。水酸基を含まないイミダゾールシランとしては、具体的には、日鉱金属社製、商品名「IM−1000」が挙げられる。
As the imidazole silane, a silane coupling agent having an imidazole group disclosed in JP-A Nos. 9-169871, 2001-187836, 2002-128872, and the like can be appropriately used. it can.
The silane coupling agent is a compound composed of an organic substance and silicon, but imidazole silane is a coupling agent having an imidazole group in the molecule. The imidazole silane preferably has a structure having no hydroxyl group in the molecule. This is because the imidazole silane compound having a hydroxyl group has a problem of poor stability when mixed with an epoxy resin and stored. Specific examples of the imidazole silane that does not contain a hydroxyl group include “IM-1000” manufactured by Nikko Metal Co., Ltd.

また、上記アミノシランとしては、例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γーアミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the aminosilane include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl. Examples include trimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane.

さらに、上記エポキシシランとしては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シランカップリング剤としては、シリカの表面処理だけではなく、樹脂組成物にシランカップリング剤を別途添加することも可能であり、本発明の範囲に含まれるものである。特に、イミダゾールシランカップリング剤を更に添加することで粗化処理後の表面粗さを小さくすることが可能である。添加するシランカップリング剤の量は、樹脂組成物全量に対して5重量部以下が望ましい。5重量部以上になると、粘度が変化したり、硬化物の機械物性の低下などの影響があったりするからである。
Furthermore, examples of the epoxy silane include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethyltrimethoxysilane and the like.
As the silane coupling agent, not only the surface treatment of silica but also a silane coupling agent can be separately added to the resin composition and are included in the scope of the present invention. In particular, it is possible to reduce the surface roughness after the roughening treatment by further adding an imidazole silane coupling agent. The amount of the silane coupling agent to be added is desirably 5 parts by weight or less with respect to the total amount of the resin composition. This is because when the amount is 5 parts by weight or more, the viscosity is changed, or the mechanical properties of the cured product are deteriorated.

上記シリカとしては、天然シリカ原料を粉砕して得られる結晶性シリカ、火炎溶融・粉砕して得られる破砕溶融シリカ、火炎溶融・粉砕・火炎溶融して得られる球状溶融シリカ、フュームドシリカ(アエロジル)、あるいはゾルゲル法シリカなどの合成シリカ等が挙げられる。合成シリカは、イオン性不純物を含んでいる場合が多いため、純度の面で溶融シリカが好ましく用いられる。溶剤にシリカ粒子を分散させたシリカスラリーは、作業性、生産性の面でメリットがあり、使用することが可能である。   Examples of the silica include crystalline silica obtained by pulverizing natural silica raw material, crushed fused silica obtained by flame melting / pulverization, spherical fused silica obtained by flame melting / pulverization / flame melting, fumed silica (Aerosil ), Or synthetic silica such as sol-gel silica. Since synthetic silica often contains ionic impurities, fused silica is preferably used in terms of purity. Silica slurry in which silica particles are dispersed in a solvent is advantageous in terms of workability and productivity and can be used.

シリカの形状としては、例えば真球状、不定形状等が挙げられる。樹脂硬化物に粗化処理を施す際に、シリカがより一層脱離し易くなるため、真球状であることが好ましい。   Examples of the shape of silica include a true spherical shape and an indefinite shape. When the roughened resin is subjected to a roughening treatment, the silica is more easily detached, so that it is preferably spherical.

本発明では、微細な粗面を得るために、平均粒子径が5μm以下であるシリカが用いられる。そして、硬化物(硬化体)表面の孔は、平均粒子径が5μm以下であるシリカが脱離したものであるため、孔の平均径は5μm程度以下となる。ところが、平均粒子径が5μmより大きいと、樹脂硬化物に粗化処理を施す際に、シリカが脱離し難くなり、さらに脱離した部分に形成される孔が大きくなるため、表面粗さが粗くなる。特にエポキシ樹脂や硬化剤が、粗化処理等に処理され難いフェノールやビフェニル構造あるいは芳香族多価エステル構造、ベンゾオキサジン構造等を有する場合には、シリカの粒子径が大きくなるほど、脱離が起こり難くなる。   In the present invention, silica having an average particle size of 5 μm or less is used to obtain a fine rough surface. The pores on the surface of the cured product (cured body) are those from which silica having an average particle diameter of 5 μm or less is detached, and thus the average diameter of the holes is about 5 μm or less. However, if the average particle diameter is larger than 5 μm, it becomes difficult for silica to be detached when the resin-cured product is subjected to a roughening treatment, and the pores formed in the detached portion become larger, resulting in a rough surface roughness. Become. In particular, when the epoxy resin or the curing agent has a phenol, biphenyl structure, aromatic polyvalent ester structure, benzoxazine structure, or the like that is difficult to be processed by roughening treatment, desorption occurs as the silica particle size increases. It becomes difficult.

シリカの平均粒子径は、1μm以下であることが好ましい。平均粒子径が1μm以下であると、樹脂硬化物に粗化処理を施す際に、シリカがより一層脱離し易くなり、さらに脱離した硬化物の表面に形成される孔がより一層小さくなる。シリカの平均粒子径が1μm以下の場合には、粒子同士が凝集しやすくなり、イミダゾールシランカップリング剤などによるシリカの処理だけでは、分散性が不充分であることが明らかになり、本発明者らが鋭意検討した結果、次項で詳細に説明するノニオン系界面活性剤(d)を併用することにより、分散性を向上させることができ、その結果としてシリカの添加量が多くなっても、微細な粗面を形成することが可能となった。
シリカの平均粒子径は、50%となるメディアン径(d50)の値を採用することができ、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置にて測定することができる。
The average particle diameter of silica is preferably 1 μm or less. When the average particle size is 1 μm or less, when the roughened resin is subjected to a roughening treatment, silica is more easily detached, and the pores formed on the surface of the detached cured product are further reduced. When the average particle diameter of the silica is 1 μm or less, the particles are easily aggregated, and it becomes clear that the dispersibility is insufficient only by treating the silica with an imidazole silane coupling agent. As a result of their intensive studies, the dispersibility can be improved by using the nonionic surfactant (d) described in detail in the next section. As a result, even if the amount of silica added increases, It became possible to form a rough surface.
As the average particle diameter of silica, a median diameter (d50) value of 50% can be adopted, and it can be measured with a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring apparatus.

本発明では、平均粒子径の異なるシリカが併用されてもよい。細密充填を考慮して、粒度分布の異なるシリカを複数種類用いることにより、例えば部品内蔵基板のような流動性の要求される用途でも、好適に使用することができる。   In the present invention, silicas having different average particle diameters may be used in combination. Considering fine packing, by using a plurality of types of silica having different particle size distributions, it can be suitably used even in applications requiring fluidity, such as a component-embedded substrate.

シリカの最大粒子径は、5μm以下であることが好ましい。最大粒子径が5μm以下であると、樹脂組成物に粗化処理を施す際に、シリカがより一層脱離し易くなり、さらに硬化物表面に比較的粗大きな凹凸が形成されず、均一かつ微細な凹凸を形成することができる。特にエポキシ樹脂や硬化剤が、粗化処理等により処理され難いビフェニル構造あるいは芳香族多価エステル構造、ベンゾオキサジン構造等を有する場合には、硬化物の表面から粗化液が浸透し難いが、シリカの最大粒子径が5μm以下である場合には、シリカの脱離が起こり易い。   The maximum particle diameter of silica is preferably 5 μm or less. When the maximum particle size is 5 μm or less, when the resin composition is subjected to a roughening treatment, silica is more easily detached, and relatively coarse irregularities are not formed on the surface of the cured product. Unevenness can be formed. In particular, when the epoxy resin or the curing agent has a biphenyl structure or an aromatic polyvalent ester structure, a benzoxazine structure, or the like that is difficult to be processed by a roughening treatment, the roughening liquid is difficult to penetrate from the surface of the cured product. When the maximum particle diameter of silica is 5 μm or less, silica is easily detached.

シリカの比表面積は、3m/g以上であることが好ましい。比表面積が3m/gより小さいと、例えば硬化物の表面に、例えば銅などの金属めっき層などが形成された場合に、硬化物と金属めっきとの密着性が十分でないことがあり、機械的特性が低下するおそれがある。比表面積は、BET法により求めることができる。 The specific surface area of silica is preferably 3 m 2 / g or more. When the specific surface area is smaller than 3 m 2 / g, for example, when a metal plating layer such as copper is formed on the surface of the cured product, the adhesion between the cured product and the metal plating may not be sufficient. There is a risk that the physical characteristics will deteriorate. The specific surface area can be determined by the BET method.

イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランを用いてシリカを処理する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
乾式法と呼ばれる方法が挙げられ、一例としてシリカにシラン化合物を直接付着させる方法が挙げられる。具体的には、ミキサーにシリカを仕込み、攪拌しながらイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのアルコール又は水溶液を滴下又は噴霧し、後攪拌を行ってふるいで分級する。さらに、加熱によりシラン化合物とシリカとを脱水縮合させて、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカを得ることができる。
Examples of the method for treating silica using imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane include the following methods.
A method called a dry method is mentioned, and a method of directly attaching a silane compound to silica is an example. Specifically, silica is charged into a mixer, and alcohol or an aqueous solution of imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane is dropped or sprayed with stirring, followed by stirring and classification with a sieve. Furthermore, the silane compound and the silica can be dehydrated and condensed by heating to obtain silica treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxysilane.

別の方法として、湿式法と呼ばれる方法が挙げられる。その一例としては、シリカスラリーを攪拌しながらイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランを添加し、更に攪拌を行い、濾過・乾燥・ふるいによる分級を行い、さらに、加熱によりシラン化合物とシリカとを脱水縮合させて、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカを得ることができる。
更に、別の方法として、シリカスラリーを攪拌しながらイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランを添加した後に、加熱還流処理により脱水縮合を進行させ、シリカスラリーとして使用することも可能である。
Another method includes a method called a wet method. As an example, imidazole silane, amino silane or epoxy silane is added while stirring the silica slurry, further stirring, classification by filtration, drying and sieving, and dehydration condensation of the silane compound and silica by heating. Thus, silica treated with imidazole silane, amino silane or epoxy silane can be obtained.
Furthermore, as another method, it is also possible to add imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane while stirring the silica slurry, and then proceed to dehydration condensation by heating and refluxing to use as a silica slurry.

未処理のシリカを用いた場合と比べて、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカを用いた場合では、樹脂組成物を硬化させると、シリカがエポキシ樹脂と複合化されるので、硬化物のガラス転移温度Tgが10〜15℃高くなる。すなわち、樹脂組成物に未処理のシリカではなく、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)を樹脂組成物に含ませることで、ガラス転移温度Tgの高い硬化物を得ることができる。また、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカを用いることにより、硬化体のリフロー耐性を向上させることができる。   Compared to the case of using untreated silica, in the case of using silica treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane, when the resin composition is cured, the silica is combined with the epoxy resin. Increases the glass transition temperature Tg by 10 to 15 ° C. That is, a cured product having a high glass transition temperature Tg can be obtained by including silica (c) treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane in the resin composition instead of untreated silica. . Moreover, the reflow resistance of a hardening body can be improved by using the silica by which the imidazole silane, the aminosilane, or the epoxy silane process was used.

(4)ノニオン系界面活性剤(d)
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、ノニオン系界面活性剤(d)が含有される。
ノニオン系界面活性剤(d)としては、エーテル系、エステル系、エステル・エーテル系、含窒素系の化合物、さらには、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リシノレイン酸等の各種脂肪酸も、好適に用いることができる。
(4) Nonionic surfactant (d)
The epoxy resin composition of the present invention contains a nonionic surfactant (d).
As the nonionic surfactant (d), ether-based, ester-based, ester-ether-based, nitrogen-containing compounds, and various fatty acids such as stearic acid, oleic acid, linoleic acid, and ricinoleic acid are also suitable. Can be used.

上記エーテル系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエチレンコレステリルエーテル、ポリオキシエチレンイソセチルエーテル、ポリオキシエチレンイソステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、ポリオキシエチレンデシルテトラデシルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等が挙げられる。   Examples of the ether surfactant include polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene behenyl ether, polyoxyethylene cholesteryl ether , Polyoxyethylene isocetyl ether, polyoxyethylene isostearyl ether, polyoxyethylene octyldodecyl ether, polyoxyethylene alkyl ether such as polyoxyethylene decyl tetradecyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, and the like.

上記エステル系界面活性剤としては、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン縮合リシノレイン酸エステル、ポリオキシエチレングリセリルエーテル脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油脂肪酸エステル、ポリオキシエチレントリメチロールプロパン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル等が挙げられる。   Examples of the ester surfactant include glycerin fatty acid ester, polyglycerin condensed ricinoleic acid ester, polyoxyethylene glyceryl ether fatty acid ester, polyoxyethylene hydrogenated castor oil fatty acid ester, polyoxyethylene trimethylolpropane fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, And sucrose fatty acid esters.

上記グリセリン脂肪酸エステルとしては、例えば、モノ・ジステアリン酸ジグリセリン、モノステアリン酸ジグリセリン、モノ・ジオレイン酸ジグリセリン、モノステアリン酸ヘキサグリセリン、モノオレイン酸ヘキサグリセリン、モノミリスチン酸ヘキサグリセリン、モノラウリン酸ヘキサグリセリン、モノ・ジカプリル酸ヘキサグリセリン、ヘキサステアリン酸ヘキサグリセリン、オクタステアリン酸ヘキサグリセリン、モノステアリン酸デカグリセリン、ジステアリン酸デカグリセリン、ペンタステアリン酸デカグリセリン、デカステアリン酸デカグリセリン、モノオレイン酸デカグリセリン、ペンタオレイン酸デカグリセリン、デカオレイン酸デカグリセリン、モノミリスチン酸デカグリセリン、モノラウリン酸デカグリセリン、モノラウリン酸トリグリセリン、モノミリスチン酸トリグリセリン、モノオレイン酸トリグリセリン、モノステアリン酸トリグリセリン、モノラウリン酸ペンタグリセリン、モノミリスチン酸ペンタグリセリン、トリミリスチン酸ペンタグリセリン、モノオレイン酸ペンタグリセリン、トリオレイン酸ペンタグリセリン、モノステアリン酸ペンタグリセリン、トリステアリン酸ペンタグリセリン、ヘキサステアリン酸ペンタグリセリン等が挙げられる。   Examples of the glycerin fatty acid ester include mono-distearic acid diglycerin, monostearic acid diglycerin, mono-dioleic acid diglycerin, monostearic acid hexaglycerin, monooleic acid hexaglycerin, monomyristic acid hexaglycerin, monolauric acid hexa Glycerin, mono-dicaprylic acid hexaglycerin, hexastearic acid hexaglycerin, octastearic acid hexaglycerin, monostearic acid decaglycerin, distearic acid decaglycerin, pentastearic acid decaglycerin, decastearic acid decaglycerin, monooleic acid decaglycerin, Penaoleic acid decaglycerin, dekaoleic acid decaglycerin, monomyristic acid decaglycerin, monolauric acid decaglycerin, Triglycerol laurate, Triglycerol monomyristate, Triglycerol monooleate, Triglycerol monostearate, Pentaglycerol monolaurate, Pentaglycerol monomyristate, Pentaglycerol trimyristate, Pentaglycerol monooleate, Penta trioleate Examples thereof include glycerin, pentaglyceryl monostearate, pentaglyceryl tristearate, and pentaglycerin hexastearate.

上記ポリグリセリン縮合リシノレイン酸エステルとしては、例えば、縮合リシノレイン酸テトラグリセリン、縮合リシノレイン酸ヘキサグリセリン、縮合リシノレイン酸ペンタグリセリン等が挙げられる。
また、上記ポリグリセリンエチレングリセリルエーテル脂肪酸エステルとしては、例えば、ジステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル、トリステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル、イソステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル、トリオレイン酸ポリオキシエチレングリセリル等が挙げられる。
Examples of the polyglycerin condensed ricinoleic acid ester include condensed ricinoleic acid tetraglycerin, condensed ricinoleic acid hexaglycerin, condensed ricinoleic acid pentaglycerin and the like.
Examples of the polyglycerin ethylene glyceryl ether fatty acid ester include polyoxyethylene glyceryl distearate, polyoxyethylene glyceryl tristearate, polyoxyethylene glyceryl isostearate, polyoxyethylene glyceryl trioleate, and the like.

上記ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、イソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、トリイソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油等が挙げられる。
また、上記ポリオキシエチレントリメチロールプロパン脂肪酸エステルとしては、例えば、ポリオキシエチレントリミリスチン酸トリメチロールプロパン、ポリオキシエチレンジステアリン酸トリメチロールプロパン、ポリオキシエチレントリステアリン酸トリメチロールプロパン、ポリオキシエチレントリイソステアリン酸トリメチロールプロパン等が挙げられる。
Examples of the polyoxyethylene hydrogenated castor oil fatty acid ester include polyoxyethylene hydrogenated castor oil lauric acid, polyoxyethylene hydrogenated castor oil isostearate, polyoxyethylene hydrogenated castor oil triisostearate, and the like.
Examples of the polyoxyethylene trimethylolpropane fatty acid ester include, for example, polyoxyethylenetrimyristate trimethylolpropane, polyoxyethylene distearate trimethylolpropane, polyoxyethylenetristearate trimethylolpropane, polyoxyethylenetriisostearin. Examples include acid trimethylolpropane.

エステル・エーテル型界面活性剤としては、例えば、モノラウリン酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸ポリエチレングリコール、イソステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンソルビット・ソルビタン脂肪酸エステル、ステアリン酸ポリオキシエチレンラウリルエーテル、イソステアリン酸ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ステアリン酸ポリオキシエチレンセチルエーテル、ステアリン酸ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ジラウリン酸ポリエチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、ジイソステアリン酸ポリエチレングリコール、ジオレイン酸ポリエチレングリコール等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤は、充分に分散させることが重要であり、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカを含む溶剤ノニオン系界面活性剤を添加して充分に攪拌させることが重要である。シリカスラリーの場合には、予めノニオン系界面活性剤を添加して、充分攪拌しておくことが好ましい。攪拌は、ディスパーあるいはビーズミルなどを用いればよい。
Examples of the ester / ether type surfactant include polyethylene glycol monolaurate, polyethylene glycol monostearate, polyethylene glycol isostearate, polyethylene glycol monooleate, polyoxyethylene glyceryl monostearate, polyoxyethylene castor oil, polyoxyethylene Ethylene hydrogenated castor oil, polyoxyethylene sorbit sorbitan fatty acid ester, stearic acid polyoxyethylene lauryl ether, isostearic acid polyoxyethylene lauryl ether, stearic acid polyoxyethylene cetyl ether, stearic acid polyoxyethylene stearyl ether, dilauric acid polyethylene glycol , Polyethylene glycol distearate, polyethylene diisostearate Recall, polyethylene glycol, and the like dioleate.
It is important to disperse the nonionic surfactant sufficiently, and it is important to add a solvent nonionic surfactant containing silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane and to sufficiently stir. In the case of silica slurry, it is preferable to add a nonionic surfactant in advance and stir well. The stirring may be performed using a disper or a bead mill.

本発明のエポキシ系樹脂組成物において、ノニオン系界面活性剤(d)の含有量は、0.1〜10重量部の範囲が好ましい。0.1重量部より少ない場合には、分散性が充分でなく、一方、10重量部より多い場合には、硬化体の機械物性や電気特性に悪影響を与えるからである。ノニオン系界面活性剤(d)の含有量が0.5〜2重量部である場合、電気特性にほとんど影響を与えないため、より好ましい。   In the epoxy resin composition of the present invention, the content of the nonionic surfactant (d) is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight. If the amount is less than 0.1 part by weight, the dispersibility is not sufficient, while if it exceeds 10 parts by weight, the mechanical properties and electrical properties of the cured product are adversely affected. It is more preferable that the content of the nonionic surfactant (d) is 0.5 to 2 parts by weight because it hardly affects the electric characteristics.

(5)有機化層状珪酸塩(e)
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、好ましくは、有機化層状珪酸塩(e)が含有される。
樹脂組成物に、有機化層状珪酸塩(e)と、上述したイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)とを含有させると、シリカの周囲に有機化層状珪酸塩が存在することになる。この場合、樹脂組成物を加熱硬化させて、さらに、例えば膨潤、粗化処理を施すことにより、樹脂硬化物の表面に存在するイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカをより一層容易に脱離させることが可能となる。シリカが容易に脱離するメカニズムは明確ではないが、有機化層状珪酸塩の層間あるいは有機化層状珪酸塩と樹脂との間のナノオーダーの無数の界面から膨潤液、あるいは粗化液が浸透するとともに、エポキシ系樹脂(a)とイミダゾールシラン処理などされたシリカ(c)との界面にも浸透するためと推定される。
(5) Organized layered silicate (e)
The epoxy resin composition of the present invention preferably contains an organized layered silicate (e).
When the resin composition contains the organically modified layered silicate (e) and the silica (c) treated with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane, the organically modified layered silicate exists around the silica. become. In this case, the resin composition is heated and cured, and further subjected to swelling and roughening treatment, for example, to further easily remove silica treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane present on the surface of the resin cured product. Can be separated. The mechanism by which silica is easily detached is not clear, but the swelling liquid or roughening liquid permeates from the interface between the organically modified layered silicate or from the nano-ordered interface between the organically modified layered silicate and the resin. At the same time, it is presumed to penetrate into the interface between the epoxy resin (a) and silica (c) treated with imidazole silane.

樹脂組成物における有機化層状珪酸塩(e)の配合割合は、エポキシ系樹脂(a)および硬化剤(b)からなる混合物(a+b)100重量部に対して、2重量部以下の範囲が好ましい。有機化層状珪酸塩が2重量部より多いと、特にイミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカが25重量部以上の場合には、膨潤液あるいは粗化液の浸透する界面が多くなりすぎて、表面粗さが比較的大きくなってしまうからである。一方、有機化層状珪酸塩を添加しない場合には、表面粗さを更に小さくすることができる。   The blending ratio of the organically modified layered silicate (e) in the resin composition is preferably in the range of 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the mixture (a + b) composed of the epoxy resin (a) and the curing agent (b). . When the organic layered silicate is more than 2 parts by weight, especially when the amount of silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxysilane is 25 parts by weight or more, the interface through which the swelling liquid or the roughening liquid permeates increases. This is because the surface roughness becomes relatively large. On the other hand, when no organic layered silicate is added, the surface roughness can be further reduced.

本明細書において、有機化層状珪酸塩とは、層状珪酸塩を、樹脂中の分散性や、劈開性を向上させるなどの目的で、公知の有機化処理がなされているものをいう。   In this specification, the organically modified layered silicate refers to a layered silicate that has been subjected to a known organic treatment for the purpose of improving the dispersibility in the resin and the cleaving property.

層状珪酸塩としては、例えば、スメクタイト系粘土鉱物、膨潤性マイカ、バーミキュライト、ハロイサイト等が挙げられる。スメクタイト系粘土鉱物としては、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スティブンサイト、ノントロナイト等が挙げられる。
これらのうち、層状珪酸塩として、モンモリロナイト、ヘクトライト、及び膨潤性マイカからなる群より選択される少なくとも1種が好適に用いられる。これらの層状珪酸塩は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
Examples of layered silicates include smectite clay minerals, swellable mica, vermiculite, and halloysite. Examples of smectite clay minerals include montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, stevensite, and nontronite.
Among these, at least one selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite, and swellable mica is preferably used as the layered silicate. These layered silicates may be used alone or in combination of two or more.

有機化層状珪酸塩(e)の配合割合は、上述したが、樹脂組成物の用途に応じて、適宜設定することができる。
例えば、樹脂組成物が封止剤用途に用いられる場合には、有機化層状珪酸塩の配合割合は、エポキシ系樹脂(a)および硬化剤(b)からなる混合物(a+b)100重量部に対して、2重量部以下の範囲が好ましい。配合割合が2重量部より多いと、膨潤液及び粗化液の浸透速度が早くなることから、表面粗さが変化する速度が速すぎて充分な膨潤処理、粗化処理の処理時間が確保できないという問題が発生する可能性がある。膨潤処理及び粗化処理の温度を調節することで、ある程度は処理時間を長くとることは可能である。
Although the compounding ratio of the organically modified layered silicate (e) has been described above, it can be appropriately set according to the use of the resin composition.
For example, when the resin composition is used for sealing agents, the blending ratio of the organically modified layered silicate is based on 100 parts by weight of the mixture (a + b) composed of the epoxy resin (a) and the curing agent (b). The range of 2 parts by weight or less is preferable. If the blending ratio is more than 2 parts by weight, the permeation rate of the swelling liquid and the roughening liquid will be high, so that the surface roughness will change too fast and sufficient processing time for the swelling treatment and roughening treatment cannot be secured. May occur. By adjusting the temperature of swelling treatment and roughening treatment, it is possible to increase the treatment time to some extent.

エポキシ系樹脂及び硬化剤からなる混合物100重量部に対して、シリカが25〜400重量部と有機化層状珪酸塩が2重量部以下となるように樹脂組成物中に配合されると、シート状に形成された本発明の樹脂組成物を硬化させることにより構成された基板に、炭酸ガスレーザーなどのレーザーにより穿孔加工を施した場合に、エポキシ樹脂成分やエポキシ樹脂硬化剤成分と層状珪酸塩成分とが同時に分解蒸発し、部分的に残存する樹脂由来の成分や無機物の残渣も極わずかなものとなる。したがって、デスミア処理する場合に、その処理を複数回あるいは複数種を組み合わせて行わなくても、残存している層状珪酸塩の残渣を容易に除去することができる。よって、穿孔加工により発生する残渣によってめっき不良等の発生を抑制することができる。なお、デスミア処理は公知の方法を用いることができ、例えばプラズマ処理や薬液処理などにより行うことができる。   When blended in the resin composition such that the silica is 25 to 400 parts by weight and the organically modified layered silicate is 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the mixture comprising the epoxy resin and the curing agent, a sheet-like shape When the substrate formed by curing the resin composition of the present invention formed on the substrate is perforated by a laser such as a carbon dioxide gas laser, an epoxy resin component or an epoxy resin curing agent component and a layered silicate component At the same time, they decompose and evaporate, and the resin-derived components and inorganic residues that remain partially become extremely small. Therefore, when the desmear treatment is performed, the remaining layered silicate residue can be easily removed without performing the treatment a plurality of times or in combination of a plurality of types. Therefore, generation | occurrence | production of a plating defect etc. can be suppressed with the residue which generate | occur | produces by a drilling process. In addition, a known method can be used for the desmear process, for example, it can carry out by a plasma process, a chemical | medical solution process, etc.

(6)マレイミド系化合物(f)
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、好ましくは、さらにマレイミド系化合物(f)が含有される。
マレイミド(マレイン酸イミド)系化合物(f)としては、1分子中に1個以上のマレイミド基を有する化合物であれば、特に限定されるものではなく、例えば、N−フェニルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5−ジエチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、これらマレイミド化合物のプレポリマー、もしくはマレイミド化合物とアミン化合物のプレポリマーなどが挙げられ、1種もしくは2種以上を適宜混合して使用することもできる。より好適なものとしては、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}プロパン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミドが挙げられる。それらの具体的なものとしては、大和化成工業(株)製の商品名「BMI−1000」のビス(4−マレイミドフェニル)メタン(または4,4’−Diphenylmethane bismaleimide)、商品名「BMI−2000」のポリフェニルメタンマレイミド(またはoligomer of phenylmethane maleimide)、商品名「BMI−5100」のビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタンや、ケイ・アイ化成(株)製の商品名「BMI」のビス(4−マレイミドフェニル)メタン(または4,4’−Diphenylmethane bismaleimide)、商品名「BMI−70」のビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン(またはBis−(3−ethyl−5−methyl−4−maleimidephenyl)methane)、商品名「BMI−80」の2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}プロパン(または2,2’−Bis−[4−(4−maleimidephenoxy)phenyl]propane)などが挙げられる。
(6) Maleimide compound (f)
The epoxy resin composition of the present invention preferably further contains a maleimide compound (f).
The maleimide (maleic imide) compound (f) is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in one molecule. For example, N-phenylmaleimide, N-hydroxyphenyl Maleimide, bis (4-maleimidophenyl) methane, 2,2-bis {4- (4-maleimidophenoxy) -phenyl} propane, bis (3,5-dimethyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3-ethyl -5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3,5-diethyl-4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, prepolymers of these maleimide compounds, or prepolymers of maleimide compounds and amine compounds, etc. 1 type or 2 or more types may be used by appropriately mixing It can be. More preferred are bis (4-maleimidophenyl) methane, 2,2-bis {4- (4-maleimidophenoxy) phenyl} propane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane And polyphenylmethanemaleimide. Specific examples thereof include bis (4-maleimidophenyl) methane (or 4,4′-Diphenylmethyl bismaleimide) under the trade name “BMI-1000” manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., and the trade name “BMI-2000”. ”Polyphenylmethanemaleimide (or oligomer of phenylmaleimide), bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane with the trade name“ BMI-5100 ”, and products made by Kay Kasei Co., Ltd. Bis (4-maleimidophenyl) methane (or 4,4′-Diphenylmethane bismaleimide) with the name “BMI”, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane with the trade name “BMI-70” (or Bi s- (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl) methane), 2,2-bis {4- (4-maleimidophenoxy) phenyl} propane (or 2,2′-) under the trade name “BMI-80” Bis- [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane).

エポキシ系樹脂組成物に、上記マレイミド系化合物(f)が含有されると、熱膨張特性、金属箔引き剥がし強さ、ガラス転移温度(Tg)、吸湿時の耐熱性及び難燃性が優れるという効果を発揮する。
本発明のエポキシ系樹脂組成物において、マレイミド系化合物(f)の含有割合は、樹脂組成物全量に対し、2〜45質量%であり、好ましくは5〜25質量%である。
マレイミド系化合物(f)の含有量が2質量%未満であると、その添加効果がなく、一方、マレイミド系化合物(f)の含有量が45質量%を超えると、粗化処理後の表面粗さが大きくなったり、硬化物の引張強度や伸びが低下する懸念がある。
When the maleimide compound (f) is contained in the epoxy resin composition, the thermal expansion characteristics, the metal foil peeling strength, the glass transition temperature (Tg), the heat resistance at the time of moisture absorption and flame retardancy are excellent. Demonstrate the effect.
In the epoxy resin composition of the present invention, the content ratio of the maleimide compound (f) is 2 to 45% by mass, preferably 5 to 25% by mass, based on the total amount of the resin composition.
If the content of the maleimide compound (f) is less than 2% by mass, the addition effect is not obtained. On the other hand, if the content of the maleimide compound (f) exceeds 45% by mass, the surface roughness after the roughening treatment is obtained. There is a concern that the tensile strength and elongation of the cured product will decrease.

(7)その他の成分
本発明のエポキシ系樹脂組成物には、本発明の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、熱可塑性樹脂類、熱可塑性エラストマー類、架橋ゴム、オリゴマー類、無機化合物、造核剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、難燃助剤、帯電防止剤、防曇剤、充填剤、軟化剤、可塑剤、および着色剤等の添加剤が配合されてもよい。これらは単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(7) Other components In the epoxy resin composition of the present invention, thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, cross-linked rubbers, oligomers, inorganic compounds are included as long as the object of the present invention is not impaired. Nucleating agents, antioxidants, anti-aging agents, heat stabilizers, light stabilizers, UV absorbers, lubricants, flame retardant aids, antistatic agents, antifogging agents, fillers, softeners, plasticizers, and Additives such as colorants may be blended. These may be used independently and 2 or more types may be used together.

樹脂組成物には、例えば、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリイミド樹脂およびポリエーテルイミド樹脂からなる群より選択される少なくとも1種類の熱可塑性樹脂、ポリビニルベンジルエーテル樹脂、及び二官能ポリフェニレンエーテルオリゴマーとクロロメチルスチレンとの反応による得られる反応生成物(三菱ガス化学 商品名「OPE−2St」)からなる群より選択される少なくとも1種類の熱硬化性樹脂が添加されてもよい。これらの熱可組成樹脂及び熱硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種類以上が併用されてもよい。樹脂組成物における熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂の配合割合は、エポキシ系樹脂(a)100重量部に対して、0.5〜50重量部の範囲が好ましく、1〜20重量部の範囲がより好ましい。熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が0.5重量部より少ないと、伸びや靭性の向上が十分でないことがあり、50重量部より多いと、強度が低下することがある。   Examples of the resin composition include at least one thermoplastic resin selected from the group consisting of a polysulfone resin, a polyether sulfone resin, a polyimide resin, and a polyetherimide resin, a polyvinyl benzyl ether resin, and a bifunctional polyphenylene ether oligomer At least one kind of thermosetting resin selected from the group consisting of a reaction product (Mitsubishi Gas Chemical trade name “OPE-2St”) obtained by the reaction between chloromethylstyrene and chloromethylstyrene may be added. These thermocomposable resins and thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the thermoplastic resin or thermosetting resin in the resin composition is preferably in the range of 0.5 to 50 parts by weight, and in the range of 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin (a). More preferred. If the thermoplastic resin or thermosetting resin is less than 0.5 parts by weight, the elongation and toughness may not be sufficiently improved, and if it is more than 50 parts by weight, the strength may decrease.

(8)エポキシ系樹脂組成物の製造、用途
本発明のエポキシ系樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されないが、例えば、エポキシ系樹脂(a)と硬化剤(b)との混合物と、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)及びノニオン系界面活性剤(d)と、必要に応じて有機化層状珪酸塩(e)或いはさらにマレイミド系化合物(f)とを、溶剤に添加した後、乾燥して溶剤を除去する方法が挙げられる。
(8) Production and use of epoxy resin composition The production method of the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, a mixture of an epoxy resin (a) and a curing agent (b); Silica (c) and nonionic surfactant (d) treated with imidazole silane, amino silane or epoxy silane, and organic layered silicate (e) or further maleimide compound (f), if necessary, as a solvent After adding, the method of drying and removing a solvent is mentioned.

本発明のエポキシ系樹脂組成物は、例えば適当な溶媒に溶解したり、フィルム状に成形したりして、用いられる。樹脂組成物の用途としては、特に限定されないが、例えば、多層基板のコア層やビルドアップ層等を形成する基板用材料、シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ、ワニス等に好適に用いられる。
また、樹脂組成物を硬化させた後に、粗化処理した場合、粗化処理によって形成される表面の粗さは、従来のものよりも小さいため、電気的に見た場合、絶縁層の厚みが厚くなる。また、表面粗さが小さいため、絶縁層の厚さを薄くすることも可能となる。
よって、樹脂組成物が樹脂付き銅箔、銅張積層板、プリント基板、プリプレグ、接着シートおよびTAB用テープなどの絶縁性を要求される用途に用いられた際に、微細な配線を形成し得る。従って、信号伝送速度を高めることができる。
導電性めっきを施した後に回路を形成するアディティブ法や、セミアディティブ法などによって樹脂と導電性めっき層を多層に形成するビルドアップ基板などに、本発明の樹脂組成物を用いた場合には、導電性めっき層と樹脂の接合面の信頼性が高まるので好ましい。
The epoxy resin composition of the present invention is used, for example, dissolved in an appropriate solvent or molded into a film. The application of the resin composition is not particularly limited. For example, a substrate material, a sheet, a laminate, a resin-coated copper foil, a copper-clad laminate, a TAB tape for forming a core layer, a buildup layer, etc. of a multilayer substrate It is suitably used for printed circuit boards, prepregs, varnishes and the like.
In addition, when the roughening treatment is performed after the resin composition is cured, the roughness of the surface formed by the roughening treatment is smaller than the conventional one. Become thicker. Further, since the surface roughness is small, the thickness of the insulating layer can be reduced.
Therefore, when the resin composition is used for applications requiring insulation such as copper foil with resin, copper-clad laminate, printed circuit board, prepreg, adhesive sheet and TAB tape, fine wiring can be formed. . Therefore, the signal transmission speed can be increased.
When the resin composition of the present invention is used for an additive method for forming a circuit after conducting conductive plating, a build-up substrate for forming a resin and a conductive plating layer in multiple layers by a semi-additive method, etc. This is preferable because the reliability of the joint surface between the conductive plating layer and the resin is increased.

樹脂組成物を用いて、基板用材料、シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ、または接着性シートを製造する場合、多工程を通じて製造される場合でも、高い歩留りで製造することができ、接着性、電気特性、高温物性、寸法安定性(低線膨張率)及び耐湿性等のバリア性を向上させることができる。なお、本明細書において、シートには自立性のないフィルム状のシートも含まれる。   When a resin material is used to produce a substrate material, sheet, laminate, resin-coated copper foil, copper-clad laminate, TAB tape, printed circuit board, prepreg, or adhesive sheet, it is produced through multiple steps. Even in such a case, it can be manufactured at a high yield, and barrier properties such as adhesiveness, electrical properties, high-temperature properties, dimensional stability (low linear expansion coefficient), and moisture resistance can be improved. In the present specification, the sheet includes a film-like sheet having no self-supporting property.

上記成形方法としては、特に限定されず、例えば、押出機にて、溶融混練した後に押出し、Tダイやサーキュラーダイ等を用いて、フィルム状に成形する押出成形法;有機溶剤等の溶媒に溶解又は分散させた後、キャスティングしてフィルム状に成形するキャスティング成形法、従来公知のその他のフィルム成形法等が挙げられる。なかでも、本発明の樹脂組成物からなる樹脂シートを用いて多層プリント基板を作成した場合に、薄型化を進めることができるので、押出成形法やキャスティング成形法が好適に用いられる。   The molding method is not particularly limited. For example, extrusion molding after melt kneading in an extruder and extrusion into a film using a T die or a circular die; dissolved in a solvent such as an organic solvent Alternatively, after being dispersed, a casting molding method of casting to form a film, other conventionally known film molding methods, and the like can be mentioned. Especially, when a multilayer printed circuit board is produced using the resin sheet which consists of the resin composition of this invention, since thickness reduction can be advanced, the extrusion molding method and the casting molding method are used suitably.

本発明に従って構成された樹脂組成物は、封止用材料やソルダーレジストなどにも適用可能である。また、パッシブ部品やアクティブ部品を内蔵させる部品内蔵基板のような高周波特性の要求される用途には、本発明の樹脂組成物は、高速信号伝送性能に優れることから、好適に使用することができる。   The resin composition configured according to the present invention can be applied to a sealing material, a solder resist, and the like. In addition, the resin composition of the present invention can be suitably used for applications requiring high-frequency characteristics such as a passive component or a component-embedded substrate in which an active component is embedded because the resin composition of the present invention is excellent in high-speed signal transmission performance. .

2.プリプレグ
本発明のプリプレグは、上記エポキシ系樹脂組成物が多孔質基材に含浸されて構成されている。多孔質基材の材料は、樹脂組成物が含浸可能であれば、特に限定されないが、カーボン繊維、ポリアミド繊維,ポリアラミド繊維,ポリエステル繊維などの有機繊維やガラス繊維などが挙げられる。また、その形態としては、平織り、綾織りなどの織物や不織布などが挙げられる。なかでもガラス繊維不織布が好ましい。
2. Prepreg The prepreg of the present invention is constituted by impregnating a porous base material with the above epoxy resin composition. The material of the porous substrate is not particularly limited as long as the resin composition can be impregnated, and examples thereof include organic fibers such as carbon fibers, polyamide fibers, polyaramid fibers, and polyester fibers, and glass fibers. Moreover, as the form, textiles, such as a plain weave and a twill weave, and a nonwoven fabric are mentioned. Of these, a glass fiber nonwoven fabric is preferred.

3.硬化体
本発明のエポキシ系樹脂組成物、又はエポキシ系樹脂組成物が含浸されたプリプレグを加熱硬化させると、硬化体とすることができる。硬化体は、一般に、Bステージと呼ばれる半硬化状態である半硬化体から、完全な硬化状態である硬化体までの範囲を意味する。
本発明の硬化体は、例えば、以下のようにして得られる。
樹脂組成物を、例えば160℃で30分加熱すると、反応途中である半硬化体が得られる。さらに、この半硬化体を、高温で、例えば180℃で1〜2時間加熱すると、ほぼ完全に硬化した硬化体が得られる。
3. Cured body When the epoxy resin composition of the present invention or the prepreg impregnated with the epoxy resin composition is heated and cured, a cured body can be obtained. The cured product generally means a range from a semi-cured product in a semi-cured state called a B stage to a cured product in a completely cured state.
The cured product of the present invention is obtained, for example, as follows.
When the resin composition is heated at, for example, 160 ° C. for 30 minutes, a semi-cured product in the middle of the reaction is obtained. Furthermore, when this semi-cured product is heated at a high temperature, for example, at 180 ° C. for 1 to 2 hours, a cured product that is almost completely cured is obtained.

得られた樹脂硬化物の表面に、微細な凹凸を形成するためには、例えば粗化処理、または膨潤処理及び粗化処理が施される。
膨潤処理方法としては、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液や有機溶媒分散溶液などによる処理方法が用いられる。より具体的には、膨潤処理は、例えば、40質量%エチレングリコール水溶液などを用いて、処理温度30〜85℃で1〜20分間、樹脂硬化物を処理することにより行なわれる。
In order to form fine irregularities on the surface of the obtained cured resin, for example, a roughening treatment, or a swelling treatment and a roughening treatment are performed.
As the swelling treatment method, for example, a treatment method using an aqueous solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like or an organic solvent dispersion solution is used. More specifically, the swelling treatment is performed, for example, by treating the cured resin with a 40 mass% ethylene glycol aqueous solution at a treatment temperature of 30 to 85 ° C for 1 to 20 minutes.

また、粗化処理には、例えば、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウムなどのマンガン化合物、重クロム酸カリウム、無水クロム酸カリウムなどのクロム化合物、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸化合物を主成分とする化学酸化剤などが用いられる。これらの化学酸化剤は、例えば水溶液や有機溶媒分散溶液にされて用いられる。
粗化処理方法としては、特に限定されないが、例えば、30〜90g/L過マンガン酸又は過マンガン酸塩溶液、30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理温度30〜85℃、1〜10分間で1又は2回、硬化物を処理する方法が好適である。処理の回数が多いと粗化効果も大きいが、処理を繰り返すと樹脂の表面も削られる。粗化処理が3回以上行われた場合には、処理回数を増やしたことによる粗化効果が実質的に変わらないことがあり、若しくは硬化体の表面に明確な凹凸が形成され難くなることがある。
The roughening treatment includes, for example, manganese compounds such as potassium permanganate and sodium permanganate, chromium compounds such as potassium dichromate and anhydrous potassium chromate, sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate. A chemical oxidant mainly composed of a persulfate compound is used. These chemical oxidants are used, for example, in an aqueous solution or an organic solvent dispersion.
Although it does not specifically limit as a roughening processing method, For example, 30-90 g / L permanganic acid or a permanganate solution, 30-90 g / L sodium hydroxide solution is used, Processing temperature 30-85 degreeC, 1 A method of treating the cured product once or twice in 10 minutes is preferable. When the number of treatments is large, the roughening effect is large, but when the treatment is repeated, the surface of the resin is also shaved. When the roughening treatment is performed three times or more, the roughening effect due to the increase in the number of treatments may not be substantially changed, or it may be difficult to form clear irregularities on the surface of the cured body. is there.

上記のようにして得られた硬化体は、表面粗さRaが0.2μm以下であり、かつ表面粗さRzが2.0μm以下であることが好ましい。イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)の平均径が1μm以下である場合は、平均径が5μm以下である複数の孔を有し、表面粗さRaが0.15μm以下であり、かつ表面粗さRzが1.5μm以下であることが好ましい。
尚、本発明では、前記したとおり、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)とノニオン系界面活性剤(d)を併用することにより、分散性を向上させることができ、その結果としてシリカの添加量が多くなっても、微細な粗面を形成することが可能である。
複数の孔の平均径が5μmより大きいと、L/Sが小さくなった場合に配線間が短絡しやすくなり、微細な回路形成が困難となり、表面粗さRaが0.2μmより大きいと、電気信号の伝送速度を高速化できないことがある。表面粗さRzが2.0μmより大きいと、電気信号の伝送速度を高速化できないことがある。表面粗さRa、Rzは、JIS B0601−1994の測定法に準拠した測定装置等により求めることができる。
The cured product obtained as described above preferably has a surface roughness Ra of 0.2 μm or less and a surface roughness Rz of 2.0 μm or less. When silica (c) treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane has an average diameter of 1 μm or less, it has a plurality of pores with an average diameter of 5 μm or less, and surface roughness Ra is 0.15 μm or less. In addition, the surface roughness Rz is preferably 1.5 μm or less.
In the present invention, as described above, dispersibility can be improved by using silica (c) treated with imidazole silane, amino silane or epoxy silane and nonionic surfactant (d). Even if the amount of silica added is increased, a fine rough surface can be formed.
When the average diameter of the plurality of holes is larger than 5 μm, it becomes easy to short-circuit between the wires when L / S becomes small, and it becomes difficult to form a fine circuit. When the surface roughness Ra is larger than 0.2 μm, The signal transmission speed may not be increased. If the surface roughness Rz is larger than 2.0 μm, the transmission speed of the electric signal may not be increased. The surface roughness Ra, Rz can be determined by a measuring device or the like based on the measuring method of JIS B0601-1994.

樹脂組成物に含まれるシリカの平均粒子径が小さいほど、より微細な凹凸が形成される。従って、平均粒子径が小さいシリカを含む樹脂組成物は、L/Sが短くなる銅配線においては、信号処理の高速化を図ることができ、非常に有用である。シリカの平均粒子径がより小さいこと、例えば、回路の配線の微細度合いを示すL/Sが65/65μmあるいは45/45μmより微細の場合、シリカの平均粒子径は、好ましくは5μm以下、より好ましくは2μm以下であり、L/Sが13/13μmより微細の場合、好ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下である。   As the average particle size of silica contained in the resin composition is smaller, finer irregularities are formed. Therefore, a resin composition containing silica having a small average particle size is very useful because it can increase the speed of signal processing in copper wiring with a short L / S. When the average particle diameter of silica is smaller, for example, when L / S indicating the fineness of circuit wiring is 65/65 μm or smaller than 45/45 μm, the average particle diameter of silica is preferably 5 μm or less, more preferably Is 2 μm or less, and when L / S is finer than 13/13 μm, it is preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less.

粗化処理後の硬化体には、必要に応じて、公知のめっき用触媒を施したり、無電解めっきを施したりした後、電解めっきを施すことができる。   The hardened body after the roughening treatment can be subjected to electrolytic plating after being subjected to a known plating catalyst or electroless plating, if necessary.

また、シリカが離脱した孔の表面近傍では、イミダゾールなどによる硬化反応が進行し、機械強度が非常に強固になっていると思われる。そのため、銅などのめっき層を形成すると、形状的なアンカー効果に加え、アンカー効果を維持する孔の表面近傍の強度が保たれているため、粗化処理等により処理されにくいビフェニル構造、芳香族多価エステル構造またはベンゾオキサジン構造を有する硬化体に、密着性の強い銅めっき層を形成可能とすることができる。また、ノニオン系界面活性剤(d)を併用することにより、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されたシリカ(c)の分散性が向上し、低線膨張率化のためにシリカを多量に配合する場合にでも、シリカの凝集起因の局所的な強度低下が発生せずに、安定したメッキの密着性を発現させることができる。   Also, in the vicinity of the surface of the pores from which the silica has been detached, a curing reaction with imidazole proceeds and the mechanical strength seems to be very strong. Therefore, when a plating layer such as copper is formed, the strength in the vicinity of the surface of the hole that maintains the anchor effect is maintained in addition to the shape anchor effect. A copper plating layer having high adhesion can be formed on the cured body having a polyvalent ester structure or a benzoxazine structure. In combination with nonionic surfactant (d), dispersibility of silica treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane is improved, and a large amount of silica is blended to reduce the linear expansion coefficient. Even in this case, it is possible to develop stable plating adhesion without causing local strength reduction due to silica aggregation.

4.シート状成形体、積層板および多層積層板
本発明に係るシート状成形体は、樹脂組成物、プリプレグ、又は硬化体を、シートの形状に成形したものである。シート状成形体には、例えばフィルム状の形状を有するシートや、接着性シートが含まれる。
また、本発明に係る積層板は、シート状成形体の少なくとも片面に、金属層及び/又は接着性を有する接着層が形成されたものである。
さらに、本発明に係る多層積層板は、上記の積層板から選ばれる少なくとも1種類の積層板を積層してなるものである。
4). Sheet-like molded object, laminated board, and multilayer laminated board The sheet-like molded object which concerns on this invention shape | molds the resin composition, a prepreg, or a hardening body in the shape of a sheet | seat. Examples of the sheet-like molded body include a sheet having a film-like shape and an adhesive sheet.
Moreover, the laminated board which concerns on this invention has the adhesive layer which has a metal layer and / or adhesiveness formed in the at least single side | surface of a sheet-like molded object.
Furthermore, the multilayer laminated board which concerns on this invention laminates | stacks at least 1 type of laminated board chosen from said laminated board.

なお、上述したシート、積層板などは、搬送の補助やごみ付着や傷の防止などを目的として、シート、積層体などと、離型可能なフィルムと積層されてもよく、このような離型性を有するフィルムとしては、樹脂コート紙、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルムなどが挙げられ、必要に応じて、さらに離型処理がされていてもよい。   In addition, the sheet | seat, laminated board, etc. which were mentioned above may be laminated | stacked with the film which can be released | released with a sheet | seat, a laminated body, etc. for the purpose of conveyance assistance, prevention of dust adhesion, and a damage, etc. Examples of the film having properties include resin-coated paper, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polypropylene (PP) film, and the like, and may be further subjected to mold release treatment as necessary.

前記離型処理方法としては、前記フィルムにシリコン系化合物・フッ素系化合物・界面活性剤などを含有させたり、離型性を有するように表面に凹凸を付与する処理、例えば梨地のエンボス加工など、シリコン系化合物・フッ素系化合物・界面活性剤などの離型性を有する物質を表面に塗布する方法などを挙げることができる。これらの離型性を有するフィルムをさらに保護するために、樹脂コート紙、ポリエステルフィルム、PETフィルム、PPフィルムなどの保護フィルムがフィルムに積層されていてもよい。   As the mold release treatment method, the film contains a silicon compound, a fluorine compound, a surfactant, or the like, or a process for imparting unevenness to the surface so as to have mold release properties, such as embossing of satin. Examples thereof include a method of applying a releasable substance such as a silicon compound, a fluorine compound, and a surfactant on the surface. In order to further protect the film having releasability, a protective film such as a resin-coated paper, a polyester film, a PET film, or a PP film may be laminated on the film.

樹脂組成物、プリプレグ、その硬化体、およびこれらからなる基板用材料、シート状成形体、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、多層積層板、接着性シートなどには、少なくとも片面に、例えば回路として、金属層を形成することができる。   Resin composition, prepreg, cured product thereof, and substrate material, sheet-like molded body, laminate, resin-coated copper foil, copper-clad laminate, TAB tape, printed circuit board, multilayer laminate, adhesive sheet For example, a metal layer can be formed on at least one surface, for example, as a circuit.

前記金属としては、シールド用、回路形成用などに用いられる金属箔あるいは金属めっき、あるいは回路保護用に用いるめっき用材料を用いることができる。めっき材料としては、例えば、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル、錫などが挙げられ、これらは、2種類以上の合金であってもよく、また、2種類以上のめっき材料により多層構成されてもよい。さらに、目的に応じて特性改善のために他の金属や物質が含まれていてもよい。   As the metal, a metal foil or metal plating used for shielding, circuit formation or the like, or a plating material used for circuit protection can be used. Examples of the plating material include gold, silver, copper, rhodium, palladium, nickel, tin and the like. These may be two or more kinds of alloys. May be. Furthermore, other metals and substances may be included for improving the characteristics according to the purpose.

以下、本発明を実施例及び比較例を挙げることにより、具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.

(使用した材料):
本実施例及び比較例においては、以下に示す原材料を用いた。
1.エポキシ系樹脂:
・ビフェニル骨格含有エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名「NC−3000H」、重量平均分子量2070、エポキシ等量288)(前記式(8)に相当)
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成社製、商品名「YD−8125」、重量平均分子量約350)
・ビスフェノールF型エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名「RE−304S」)
・アントラセン骨格含有エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YX8800」、エポキシ等量181)
・ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂(DIC(旧大日本インキ工業)社製、商品名「HP4700」、エポキシ等量165)
・アダマンタン骨格含有エポキシ樹脂(出光興産社製、商品名「アダマンテートX−E−202」、エポキシ等量193)
・トリアジン骨格含有エポキシ樹脂(日産化学工業社製、商品名「TEPIC−PAS B22」、エポキシ等量180〜200)
(Materials used):
In the examples and comparative examples, the following raw materials were used.
1. Epoxy resin:
Biphenyl skeleton-containing epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “NC-3000H”, weight average molecular weight 2070, epoxy equivalent 288) (corresponding to the formula (8))
-Bisphenol A type epoxy resin (trade name “YD-8125”, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., weight average molecular weight about 350)
・ Bisphenol F type epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “RE-304S”)
・ Anthracene skeleton-containing epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “YX8800”, epoxy equivalent 181)
・ Naphthalene skeleton-containing epoxy resin (DIC (formerly Dainippon Ink Industries), trade name “HP4700”, epoxy equivalent 165)
・ Adamantane skeleton-containing epoxy resin (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., trade name “adamantate X-E-202”, epoxy equivalent 193)
-Triazine skeleton-containing epoxy resin (manufactured by Nissan Chemical Industries, trade name "TEPIC-PAS B22", epoxy equivalent 180-200)

2.エポキシ系樹脂用硬化剤:
・前記式(7)で表される疎水性フェノール化合物からなるフェノール系硬化剤(明和化成社製、商品名「MEH7851−4H」、Pst換算での重量平均分子量10200)
・活性エステル化合物型硬化剤(DIC(旧大日本インキ工業)社製、商品名「EXB−9451−65T」、Pst換算での重量平均分子量2840)
均分子量2840)
・アミノトリアジンノボラックフェノール型硬化剤(DIC(旧大日本インキ工業)社製、商品名「LA−1356」、60質量%MEK溶液)
・αナフトール型フェノール硬化剤(東都化成社製、商品名「SN−475」、軟化点75℃)
3.硬化促進剤:
・イミダゾール(四国化成工業社製、商品名「2MAOK−PW」)
2. Curing agent for epoxy resin:
A phenolic curing agent comprising the hydrophobic phenol compound represented by the formula (7) (Maywa Kasei Co., Ltd., trade name “MEH7851-4H”, weight average molecular weight 10200 in terms of Pst)
Active ester compound type curing agent (manufactured by DIC (former Dainippon Ink and Industries), trade name “EXB-9451-65T”, weight average molecular weight 2840 in terms of Pst)
Average molecular weight 2840)
Aminotriazine novolak phenol type curing agent (manufactured by DIC (former Dainippon Ink Industries), trade name “LA-1356”, 60% by mass MEK solution)
・ Α-naphthol type phenol curing agent (trade name “SN-475”, softening point 75 ° C., manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.)
3. Curing accelerator:
・ Imidazole (made by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “2MAOK-PW”)

4.有機化層状珪酸塩:
・トリオクチルメチルアンモニウム塩で化学処理が施された合成ヘクトライト(コープケミカル社製、商品名「ルーセンタイトSTN」)
4). Organized layered silicate:
・ Synthetic hectorite chemically treated with trioctylmethylammonium salt (trade name “Lucentite STN” manufactured by Co-op Chemical)

5.有機溶剤:
・N,N−ジメチルホルムアミド(DMF、特級、和光純薬社製)
5. Organic solvent:
・ N, N-dimethylformamide (DMF, special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

6.シリカ:
・シリカ(龍森社製、商品名「1−Fx」、平均粒径0.38μm、最大粒径1μm、表面積30m/g)
7.シリカ表面処理剤:
・分子内に水酸基を有しないイミダゾールシラン(日興マテリアルズ社製、商品名「IM−1000」)
・分子内に水酸基を有するイミダゾールシラン(日興マテリアルズ社製、商品名「IS−1000」)
・アミノシラン(信越化学社製、商品名「KBE−903」)
・エポキシシラン(信越化学社製、商品名「KBM−403」)
・ビニルシラン(信越化学社製、商品名「KBM−1003」)
6). silica:
・ Silica (manufactured by Tatsumori Co., Ltd., trade name “1-Fx”, average particle size 0.38 μm, maximum particle size 1 μm, surface area 30 m 2 / g)
7). Silica surface treatment agent:
・ Imidazolesilane having no hydroxyl group in the molecule (manufactured by Nikko Materials, trade name “IM-1000”)
・ Imidazolesilane having a hydroxyl group in the molecule (manufactured by Nikko Materials, trade name “IS-1000”)
・ Aminosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBE-903”)
・ Epoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBM-403”)
・ Vinylsilane (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KBM-1003”)

(シリカのイミダゾールシラン処理方法など):
シリカ100重量部、上記分子内に水酸基を有しないイミダゾールシラン4重量部およびエタノール100重量部を混合し、60℃で1時間撹拌後、揮発成分を留去した。続いて、減圧乾燥機で100℃、6時間乾燥し、分子内に水酸基を有しないイミダゾールシラン処理フィラーであるシリカ(1)を得た。また、同様の処理方法にて、分子内に水酸基を有するイミダゾールシラン処理フィラーであるシリカ(2)を得た。
また、上記と同様の処理方法にて、アミノシラン処理フィラーであるシリカ(3)、エポキシシラン処理フィラーであるシリカ(4)、ビニルシラン処理フィラーであるシリカ(5)を得た。
(Silica imidazole silane treatment method etc.):
100 parts by weight of silica, 4 parts by weight of imidazole silane having no hydroxyl group in the molecule and 100 parts by weight of ethanol were mixed and stirred at 60 ° C. for 1 hour, and then volatile components were distilled off. Then, it dried at 100 degreeC and 6 hours with the vacuum dryer, and obtained the silica (1) which is an imidazole silane processing filler which does not have a hydroxyl group in a molecule | numerator. Moreover, the silica (2) which is an imidazole silane processing filler which has a hydroxyl group in a molecule | numerator was obtained with the same processing method.
Moreover, the silica (3) which is an aminosilane processing filler, the silica (4) which is an epoxysilane processing filler, and the silica (5) which is a vinylsilane processing filler were obtained by the same processing method as described above.

8.ノニオン系界面活性剤:
・ポリグリセリン縮合リシノレイン酸エステル(太陽化学社製、商品名「チラバゾールH−818」)
8). Nonionic surfactant:
Polyglycerin condensed ricinoleic acid ester (manufactured by Taiyo Kagaku Co., Ltd., trade name “Tirabazole H-818”)

9.マレイミド:
・ポリフェニルメタンマレイミド(大和化成工業社製、商品名「BMI−2300」)
9. Maleimide:
・ Polyphenylmethanemaleimide (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “BMI-2300”)

[実施例1]:
合成ヘクトライト「ルーセンタイトSTN」2.00gおよびDMF84.53gを混合し、完全に均一な溶液となるまで常温で攪拌した。しかる後、イミダゾール「2MAOK−PW」1.00gを投入し、完全に均一な溶液となるまで常温で攪拌した。次に、イミダゾールシラン「IM−1000」にて表面処理されたシリカ「1−Fx」25.00g投入し、完全に均一な溶液となるまで、常温で攪拌した。
次に、ビフェニル型エポキシ樹脂「NC−3000H」53.29gを投入し、完全に均一な溶液となるまで常温で攪拌した。次いで、疎水性フェノール化合物からなるエポキシ樹脂硬化剤「MEH7851−4H」46.71gを上記溶液に投入し、完全に均一な溶液となるまで常温で攪拌して、樹脂組成物溶液を調製した。
樹脂組成物溶液は経時安定性を評価するために、1日(24時間)23℃で保存し、その後の流動性(ゲル化の度合い)を目視で確認した。調整後と同等の流動性を有しているものは○、調整後よりも明らかに流動性が低下したものを×とした。
[Example 1]:
2.00 g of synthetic hectorite “Lucentite STN” and 84.53 g of DMF were mixed and stirred at room temperature until a completely uniform solution was obtained. Thereafter, 1.00 g of imidazole “2MAOK-PW” was added and stirred at room temperature until a completely homogeneous solution was obtained. Next, 25.00 g of silica “1-Fx” surface-treated with imidazole silane “IM-1000” was added and stirred at room temperature until a completely uniform solution was obtained.
Next, 53.29 g of biphenyl type epoxy resin “NC-3000H” was added and stirred at room temperature until a completely uniform solution was obtained. Next, 46.71 g of an epoxy resin curing agent “MEH7851-4H” made of a hydrophobic phenol compound was added to the above solution, and stirred at room temperature until a completely uniform solution was obtained to prepare a resin composition solution.
In order to evaluate the temporal stability, the resin composition solution was stored at 23 ° C. for 1 day (24 hours), and the subsequent fluidity (degree of gelation) was visually confirmed. A sample having fluidity equivalent to that after adjustment was marked with ◯, and a sample with clearly lower fluidity than that after adjustment was marked with ×.

上記で得られた樹脂組成物溶液を、離型処理が施された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名「PET5011 550」、厚み50μm、リンテック社製)にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが50μmとなるように塗工し、100℃のギアオーブン中で12分間乾燥して、200mm×200mm×50μmの樹脂シートの未硬化物を作製した。次いで、樹脂シートの未硬化物を170℃のギアオーブン中で1時間加熱して、樹脂シートの半硬化物を作製した。   The resin composition solution obtained above was dried using an applicator on a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “PET5011 550”, thickness 50 μm, manufactured by Lintec Co., Ltd.) subjected to a release treatment. The coating was applied to a thickness of 50 μm and dried in a gear oven at 100 ° C. for 12 minutes to prepare an uncured resin sheet of 200 mm × 200 mm × 50 μm. Next, the uncured product of the resin sheet was heated in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour to prepare a semi-cured product of the resin sheet.

[実施例2〜19および比較例1〜13]
樹脂組成物溶液を表1〜3に示す配合組成としたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、樹脂組成物溶液を調製し、樹脂シートの未硬化物および半硬化物を作製した。
[Examples 2 to 19 and Comparative Examples 1 to 13]
A resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin composition solution had the composition shown in Tables 1 to 3, and an uncured product and a semicured product of the resin sheet were prepared. .

[実施例20]
樹脂組成物溶液を表2に示す配合組成とし、樹脂組成物溶液の経時安定性を、1時間後の流動性で確認したこと以外は、実施例1の場合と同様にして、樹脂組成物溶液を調製し、樹脂シートの未硬化物および半硬化物を作製した。
[Example 20]
The resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin composition solution had the composition shown in Table 2 and the stability over time of the resin composition solution was confirmed by the fluidity after 1 hour. Were prepared to prepare uncured and semi-cured resin sheets.

[実施例21〜30および比較例14]
樹脂組成物溶液を表4に示す配合組成としたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、樹脂組成物溶液を調製し、樹脂シートの未硬化物および半硬化物を作製した。
[Examples 21 to 30 and Comparative Example 14]
A resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin composition solution was formulated as shown in Table 4, and uncured and semi-cured products of the resin sheet were prepared.

(実施例1〜30及び比較例1〜14における未硬化物を用いた銅めっき処理):
上記のようにして得られた各樹脂シートの未硬化物を、ガラスエポキシ基板(FR−4、品番「CS−3665」、利昌工業社製)に真空ラミネートし、170℃で30分硬化した後に、表面を、下記の(a)膨潤処理し、次に、(b)過マンガン酸塩処理すなわち粗化処理を行い、さらに(c)銅めっき処理を行った。
(Copper plating treatment using uncured material in Examples 1 to 30 and Comparative Examples 1 to 14):
After the uncured product of each resin sheet obtained as described above was vacuum laminated on a glass epoxy substrate (FR-4, product number “CS-3665”, manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd.) and cured at 170 ° C. for 30 minutes. The surface was subjected to the following (a) swelling treatment, then (b) permanganate treatment, that is, roughening treatment, and (c) copper plating treatment.

(a)膨潤処理:
80℃の膨潤液(スウェリングディップセキュリガントP、アトテックジャパン社製)に、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートした樹脂シートを入れて10分間揺動処理を行った。その後純水でよく洗浄を行った。
(A) Swelling treatment:
A resin sheet that was vacuum-laminated on a glass epoxy substrate was placed in an 80 ° C. swelling liquid (Swelling Dip Securigant P, manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.), and subjected to a rocking treatment for 10 minutes. Thereafter, it was thoroughly washed with pure water.

(b)過マンガン酸塩処理:
80℃の過マンガン酸カリウム(コンセントレートコンパクトCP、アトテックジャパン社製)粗化水溶液に、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートした樹脂シートを入れて20分間揺動させる処理を行なった。また、過マンガン酸塩による粗化処理が終了した樹脂シートを、25℃の洗浄液(リダクションセキュリガントP、アトテックジャパン社製)を用いて2分間処理した後、純粋でよく洗浄した。
(B) Permanganate treatment:
A resin sheet vacuum-laminated on a glass epoxy substrate was placed in a roughened aqueous solution of potassium permanganate (Concentrate Compact CP, manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.) at 80 ° C. and rocked for 20 minutes. Further, the resin sheet that had been subjected to the permanganate roughening treatment was treated for 2 minutes using a 25 ° C. cleaning solution (Reduction Securigant P, manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.) and then washed purely and thoroughly.

(c)銅めっき処理:
次に、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートされており、かつ上記粗化処理が施された樹脂シートに無電解銅めっき及び電解銅めっき処理を以下の手順で行った。
樹脂シートを、60℃のアルカリクリーナ(クリーナーセキュリガント902)で5分間処理し、表面を脱脂洗浄した。洗浄後、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートされた上記樹脂シートを25℃のプリディップ液(プリディップネオガントB)で2分間処理した。その後、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートされた上記樹脂シートを40の℃のアクチベーター液(アクチベーターネオガント834)で5分間処理し、パラジウム触媒を付けた。次に、30℃の還元液(リデューサーネオガントWA)で5分間処理した。
(C) Copper plating treatment:
Next, the electroless copper plating and the electrolytic copper plating treatment were performed on the resin sheet vacuum-laminated on the glass epoxy substrate and subjected to the roughening treatment according to the following procedure.
The resin sheet was treated with an alkaline cleaner (cleaner securigant 902) at 60 ° C. for 5 minutes to degrease and clean the surface. After washing, the resin sheet vacuum-laminated on the glass epoxy substrate was treated with a pre-dip solution (pre-dip neogant B) at 25 ° C. for 2 minutes. Thereafter, the resin sheet vacuum-laminated on the glass epoxy substrate was treated with an activator solution (activator neogant 834) at 40 ° C. for 5 minutes to attach a palladium catalyst. Next, it was treated for 5 minutes with a reducing solution (reducer Neogant WA) at 30 ° C.

次に、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートした上記樹脂シートを化学銅液(ベーシックプリントガントMSK−DK、カッパープリントガントMSK、スタビライザープリントガントMSK)に入れ、無電解めっきをめっき厚さが0.5μm程度になるまで実施した。無電解めっき後は、残留水素ガス除去のため、120℃の温度で30分間アニールをかけた。無電解めっきの工程までのすべての工程においては、ビーカースケールで処理液を1Lとし、樹脂シートを揺動させながら各工程を実施した。   Next, the resin sheet vacuum-laminated on the glass epoxy substrate is placed in a chemical copper solution (basic print Gantt MSK-DK, copper print Gantt MSK, stabilizer print Gantt MSK), and electroless plating is performed with a plating thickness of about 0.5 μm. It was carried out until. After electroless plating, annealing was performed at a temperature of 120 ° C. for 30 minutes to remove residual hydrogen gas. In all the processes up to the electroless plating process, each process was performed while the treatment liquid was 1 L on a beaker scale and the resin sheet was swung.

次に、ガラスエポキシ基板に真空ラミネートされており、かつ無電解めっき処理された樹脂シートに、電解めっきをめっき厚さが25μmとなるまで実施した。電気銅めっきとして硫酸銅(リデューサーCu)を用い、電流は0.6A/cmとした。銅めっき処理後、180℃で1時間加熱硬化を行った。 Next, electrolytic plating was carried out on the resin sheet vacuum-laminated on the glass epoxy substrate and subjected to the electroless plating treatment until the plating thickness became 25 μm. Copper sulfate (reducer Cu) was used as the electrolytic copper plating, and the current was 0.6 A / cm 2 . After the copper plating treatment, heat curing was performed at 180 ° C. for 1 hour.

(硬化体の作成):
さらに、実施例1〜30及び比較例1〜14で得た半硬化物を、表1〜4に示す硬化条件で加熱し、硬化体を得た。
(Creating a cured product):
Furthermore, the semi-cured products obtained in Examples 1 to 30 and Comparative Examples 1 to 14 were heated under the curing conditions shown in Tables 1 to 4 to obtain cured bodies.

(実施例および比較例の樹脂組成物の評価):
実施例1〜30および比較例1〜14で得られた樹脂シートの半硬化物及び樹脂シートの上記硬化体の性能及び粗化処理後の表面状態を以下の方法で評価した。
(Evaluation of resin compositions of Examples and Comparative Examples):
The semi-cured product of the resin sheets obtained in Examples 1 to 30 and Comparative Examples 1 to 14 and the performance of the cured body of the resin sheet and the surface state after the roughening treatment were evaluated by the following methods.

評価項目は、1.誘電率、2.誘電正接、3.平均線膨張率、4.ガラス転移温度(Tg)、5.破断強度、6.破断点伸度、7.粗化接着強度、8.表面粗さ(Ra、Rz)、9.銅接着強度とした。また、硬化体について、1.誘電率、2.誘電正接、3.平均線膨張率、4.ガラス転移温度、5.破断強度、6.破断点伸度を評価した。また、上記銅めっき処理についての(a)膨潤処理、(b)過マンガン酸塩処理による粗化処理及び(c)銅めっき処理を行った工程に際し、ガラスエポキシ基板に未硬化物を真空ラミネートしたものを加熱硬化し、半硬化状態としたものに、膨潤・粗化処理した後に、8.表面粗さを評価し、さらに銅めっきした後に、7.粗化接着強度及び9.銅接着強度を測定した。詳細は、以下の通りである。   Evaluation items are: Dielectric constant, 2. 2. dissipation factor, 3. Average linear expansion coefficient 4. Glass transition temperature (Tg), Breaking strength, 6. 6. Elongation at break, Roughening adhesive strength, 8. 8. Surface roughness (Ra, Rz), The copper bond strength was used. Moreover, about hardened | cured material, 1. Dielectric constant, 2. 2. dissipation factor, 3. Average linear expansion coefficient Glass transition temperature, 5. Breaking strength, 6. The elongation at break was evaluated. Moreover, in the process which performed the (a) swelling process about the said copper plating process, the roughening process by (b) permanganate process, and the (c) copper plating process, the uncured material was vacuum-laminated on the glass epoxy board | substrate. After the product is cured by heating to a semi-cured state, it is swollen and roughened. After evaluating the surface roughness and further copper plating, 7. 8. Roughened adhesive strength and Copper bond strength was measured. Details are as follows.

(評価項目および評価方法の詳細):
1.誘電率、および、2.誘電正接:
樹脂シートの硬化体を15mm×15mmに裁断して8枚を重ね合わせて、厚み400μmの積層体とし、誘電率測定装置(品番「HP4291B」、HEWLETT PACKARD社製)を用いて、常温での周波数1GHzにおける誘電率および誘電正接を測定した。
(Details of evaluation items and evaluation methods):
1. Dielectric constant, and 2. Dissipation factor:
A cured resin sheet is cut into 15 mm × 15 mm and 8 sheets are stacked to form a 400 μm-thick laminate, using a dielectric constant measuring device (product number “HP4291B”, manufactured by HEWLETT PACKARD) at room temperature. The dielectric constant and dielectric loss tangent at 1 GHz were measured.

3.平均線膨張率:
樹脂シートの硬化体を、3mm×25mmに裁断し、線膨張率計(品番「TMA/SS120C」、セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、引張り荷重2.94×10−2N、昇温速度5℃/分の条件で、硬化体の23〜100℃における平均線膨張率(α1)および硬化体の150〜260℃における平均線膨張率(α2)を測定した。
3. Average linear expansion coefficient:
The cured body of the resin sheet is cut into 3 mm × 25 mm, and using a linear expansion coefficient meter (product number “TMA / SS120C”, manufactured by Seiko Instruments Inc.), the tensile load is 2.94 × 10 −2 N, the heating rate is 5 The average linear expansion coefficient (α1) of the cured product at 23 to 100 ° C. and the average linear expansion coefficient (α2) of the cured product at 150 to 260 ° C. were measured under the conditions of ° C./minute.

4.ガラス転移温度(Tg):
樹脂シートの硬化体を5mm×3mmに裁断し、粘弾性スペクトロレオメーター(品番「RSA−II」、レオメトリック・サイエンティフィックエフ・イー社製)を用いて、昇温速度5℃/分の条件で、30〜250℃まで測定を行い、損失率tanδが最大値になる温度(ガラス転移温度Tg)を測定した。
4). Glass transition temperature (Tg):
The cured body of the resin sheet is cut into 5 mm × 3 mm, and the temperature rising rate is 5 ° C./min using a viscoelastic spectrorometer (product number “RSA-II”, manufactured by Rheometric Scientific F.E.). Under the conditions, measurement was performed up to 30 to 250 ° C., and the temperature at which the loss rate tan δ became the maximum value (glass transition temperature Tg) was measured.

5.破断強度、および、6.破断点伸度:
樹脂シートの硬化体(厚み100μm)を10×80mmに裁断し、引張試験機(商品名「テンシロン」、オリエンテック社製)を用いて、チャック間距離60mm、クロスヘッド速度5mm/分の条件で引張試験を行って、破断強度(MPa)および破断伸び率(%)を測定した。
5. Breaking strength, and 6. Elongation at break:
A cured resin sheet (thickness: 100 μm) is cut to 10 × 80 mm, and using a tensile tester (trade name “Tensilon”, manufactured by Orientec Co., Ltd.) under conditions of a distance between chucks of 60 mm and a crosshead speed of 5 mm / min. A tensile test was performed to measure the breaking strength (MPa) and the breaking elongation (%).

7.粗化接着強度:
ガラスエポキシ基板(FR−4、品番「CS−3665」、利昌工業社製)に、樹脂シートの未硬化物を真空ラミネートし、170℃で30分間加熱処理後に、上記膨潤処理及び過マンガン酸塩による粗化処理を行い、化学銅めっき及び電解銅めっきを行い、180℃で1時間加熱硬化したものの銅めっき層表面に10mm幅に切り欠きを入れて引張試験機(商品名「オートグラフ」、島津製作所社製)を用いて、クロスヘッド速度5mm/分の条件で測定を行い、粗化接着強度を測定した。
7). Roughening adhesive strength:
A glass epoxy substrate (FR-4, product number “CS-3665”, manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd.) is vacuum-laminated with an uncured resin sheet, and after heat treatment at 170 ° C. for 30 minutes, the above swelling treatment and permanganate Roughening treatment, chemical copper plating and electrolytic copper plating, heat-cured at 180 ° C. for 1 hour, cut into a 10 mm width on the surface of the copper plating layer, a tensile tester (trade name “Autograph”, Using Shimadzu Corporation), the measurement was performed under the condition of a crosshead speed of 5 mm / min, and the roughened adhesive strength was measured.

8.表面粗さ(Ra、Rz):
ガラスエポキシ基板(FR−4、品番「CS−3665」、利昌工業社製)に半硬化物のシートを真空ラミネートし、170℃で30分間加熱処理後に、上記膨潤処理及び過マンガン酸塩による粗化処理を行った。樹脂表面を走査型レーザー顕微鏡(品番「1LM21」、レーザーテック社製)にて100μmの測定範囲における表面粗さ(Ra,Rz)を測定した。
8). Surface roughness (Ra, Rz):
A semi-cured sheet is vacuum laminated on a glass epoxy substrate (FR-4, product number “CS-3665”, manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd.), heat-treated at 170 ° C. for 30 minutes, and then subjected to the swelling treatment and roughening with permanganate. The treatment was performed. The surface roughness (Ra, Rz) in the measurement range of 100 μm 2 was measured on the resin surface with a scanning laser microscope (product number “1LM21”, manufactured by Lasertec Corporation).

9.銅接着強度:
CZ処理銅箔(CZ−8301、メック社製)に樹脂シートの半硬化物を真空中でラミネートし、180℃で1時間加熱処理を行った。銅箔の表面に10mm幅に切り欠きを入れて引張試験機(商品名「オートグラフ」、島津製作所社製)を用いて、クロスヘッド速度5mm/分の条件で測定を行い、銅接着強度を測定した。
9. Copper bond strength:
A semi-cured product of a resin sheet was laminated in a vacuum on a CZ-treated copper foil (CZ-8301, manufactured by MEC), and heat-treated at 180 ° C. for 1 hour. Cut the surface of the copper foil to 10mm width and measure it using a tensile tester (trade name "Autograph", manufactured by Shimadzu Corporation) under the condition of a crosshead speed of 5mm / min. It was measured.

上記の評価結果を、樹脂組成物組成と共に、下記表1〜4に示す。   Said evaluation result is shown to following Tables 1-4 with a resin composition composition.

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表1〜4の評価結果から明らかなように、ノニオン系界面活性剤(d)を含有しない樹脂組成物を用いた比較例1〜8では、例えば、実施例1〜4と比較例1〜4との対比などから、銅接着強度または粗化接着強度が低い、或いは粗化処理後の表面粗さが大きい結果となっている。また、ノニオン系界面活性剤(d)を含有しても本発明で規定した特定範囲の含有量でない樹脂組成物を用いた比較例9〜12でも、例えば、実施例13と比較例9との対比、或いは実施例15と比較例12との対比などから、銅接着強度や粗化接着強度が低い、又は粗化処理後の表面粗さが大きい結果となっている。さらに、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理されてなく、ビニルシラン処理されたシリカを含有した樹脂組成物を用いた比較例14では、銅接着強度や粗化接着強度が低い結果となっている。
一方、本発明のエポキシ系樹脂(a)、硬化剤(b)、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシラン処理された特定径のシリカ(c)、およびノニオン系界面活性剤(d)を、特定割合で含有させた樹脂組成物を用いた実施例1〜30では、粗化処理後の表面粗さが小さくて、銅接着強度や粗化接着強度が高いことは、明らかである。また、マレイド系化合物(f)を含有した樹脂組成物を用いた実施例29、30では、特にガラス転移温度(Tg)が高くなり、線膨張率が低くなっていることがわかる。
さらに、実施例4と実施例20、および実施例20と比較例13との対比では、水酸基を有しないイミダゾールシラン処理シリカを用いた系は、水酸基を有するイミダゾールシラン処理シリカを用いた系よりも、保存安定性に優れることが明らかである。
As is clear from the evaluation results of Tables 1 to 4, in Comparative Examples 1 to 8 using a resin composition not containing the nonionic surfactant (d), for example, Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 are used. In comparison with the above, the copper bond strength or the roughened bond strength is low, or the surface roughness after the roughening treatment is large. Further, even in Comparative Examples 9 to 12 using a resin composition that contains a nonionic surfactant (d) but does not fall within the specific range defined in the present invention, for example, between Example 13 and Comparative Example 9 From the comparison or the comparison between Example 15 and Comparative Example 12, the copper bond strength and the roughened bond strength are low, or the surface roughness after the roughening treatment is large. Furthermore, in Comparative Example 14 using a resin composition containing silica that has not been treated with imidazole silane, aminosilane, or epoxy silane but has been treated with vinyl silane, the copper bond strength and the roughened bond strength are low.
On the other hand, the epoxy resin (a), the curing agent (b), the silica (c) having a specific diameter treated with imidazole silane, aminosilane or epoxy silane, and the nonionic surfactant (d) of the present invention at a specific ratio. In Examples 1-30 using the contained resin composition, it is clear that the surface roughness after the roughening treatment is small and the copper adhesive strength and the roughening adhesive strength are high. In Examples 29 and 30 using the resin composition containing the maleide compound (f), it can be seen that the glass transition temperature (Tg) is particularly high and the linear expansion coefficient is low.
Furthermore, in the comparison between Example 4 and Example 20 and Example 20 and Comparative Example 13, the system using imidazole silane-treated silica having no hydroxyl group is more than the system using imidazole silane-treated silica having a hydroxyl group. It is clear that the storage stability is excellent.

本発明のエポキシ系樹脂組成物は、特に、エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、シリカ(c)を25〜400重量部、ノニオン系界面活性剤(d)を0.1〜10重量部の割合で含有することを特徴としているため、シリカの含有量が多い場合にも、良好な分散性を維持でき、その結果、硬化物の表面粗さを小さくすることができ、銅めっき接着性にも優れた硬化体を得ることができ、例えば、多層基板のコア層やビルドアップ層等を形成する基板用材料、シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ、ワニス等に好適に用いることができる。   In particular, the epoxy resin composition of the present invention comprises 25 to 400 parts by weight of silica (c) with respect to 100 parts by weight of the mixture (a + b) of the epoxy resin (a) and the epoxy resin curing agent (b). The nonionic surfactant (d) is contained in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight, so that even when the silica content is high, good dispersibility can be maintained. The surface roughness of the cured product can be reduced, and a cured product excellent in copper plating adhesion can be obtained. For example, a substrate material, a sheet, or the like that forms a core layer or a build-up layer of a multilayer substrate It can be suitably used for laminates, copper foils with resin, copper-clad laminates, TAB tapes, printed circuit boards, prepregs, varnishes, and the like.

特開平9−169871号公報JP-A-9-168771 特開2001−187836号公報JP 2001-187836 A 特開2002−128872号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-128772 国際公開WO2007/032424号公報International Publication WO2007 / 032424

Claims (16)

エポキシ系樹脂(a)と、エポキシ系樹脂用硬化剤(b)と、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理され、かつ平均粒子径が5μm以下であるシリカ(c)と、ノニオン系界面活性剤(d)とを含有する樹脂組成物であり、
エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、シリカ(c)を25〜400重量部、ノニオン系界面活性剤(d)を0.1〜10重量部の割合で含有することを特徴とするエポキシ系樹脂組成物。
Epoxy resin (a), epoxy resin curing agent (b), silica (c) treated with any one or more of imidazole silane, aminosilane, and epoxy silane, and having an average particle size of 5 μm or less, A resin composition containing a nonionic surfactant (d),
25 to 400 parts by weight of silica (c) and 0.1% of nonionic surfactant (d) are added to 100 parts by weight of the mixture (a + b) of the epoxy resin (a) and the epoxy resin curing agent (b). An epoxy resin composition comprising 1 to 10 parts by weight.
ノニオン系界面活性剤(d)は、エステル系界面活性剤、エーテル系界面活性剤およびエステル・エーテル系界面活性剤からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The nonionic surfactant (d) is at least one selected from the group consisting of an ester surfactant, an ether surfactant, and an ester / ether surfactant. The epoxy resin composition described. イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランのいずれか1以上で処理されたシリカ(c)は、シリカ100重量部に対し、イミダゾールシラン、アミノシランまたはエポキシシランによる処理量が0.1〜5重量部であることを特徴とする請求項1又は2に記載のエポキシ系樹脂組成物。   Silica (c) treated with any one or more of imidazole silane, amino silane or epoxy silane has a treatment amount of 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of silica. The epoxy resin composition according to claim 1 or 2. 前記イミダゾールシランが分子内に水酸基を有しないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the imidazole silane has no hydroxyl group in the molecule. エポキシ系樹脂(a)は、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂およびビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ樹脂全量に対し、5質量%以上含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin (a) is at least selected from the group consisting of an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, and an epoxy resin having a biphenyl skeleton. One type is contained 5 mass% or more with respect to the epoxy resin whole quantity, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. エポキシ系樹脂用硬化剤(b)は、ビフェニル骨格を有する硬化剤、活性エステル硬化剤、ベンゾオキサジン構造を含有する硬化剤、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤およびナフタレン骨格を有する硬化剤からなる群から選択される少なくとも1種を、エポキシ系樹脂用硬化剤全量に対し、5質量%以上含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin curing agent (b) is selected from the group consisting of a curing agent having a biphenyl skeleton, an active ester curing agent, a curing agent having a benzoxazine structure, a curing agent having an aminotriazine skeleton, and a curing agent having a naphthalene skeleton. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein at least one selected is contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the epoxy resin curing agent. シリカ(c)は、平均粒子径が1μm以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the silica (c) has an average particle diameter of 1 μm or less. エポキシ系樹脂(a)とエポキシ系樹脂用硬化剤(b)との混合物(a+b)100重量部に対し、平均粒子径が500nm以下である有機化層状珪酸塩(e)を2重量部以下の割合で、さらに含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The organic layered silicate (e) having an average particle diameter of 500 nm or less is 2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the mixture (a + b) of the epoxy resin (a) and the epoxy resin curing agent (b). The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising a proportion. さらに、樹脂組成物全量に対し、マレイミド系化合物(f)を2〜45質量%含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   Furthermore, 2-45 mass% of maleimide type compounds (f) are contained with respect to the resin composition whole quantity, The epoxy resin composition of any one of Claims 1-8 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜9のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させてなるプリプレグ。   A prepreg obtained by impregnating a porous substrate with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9. 請求項1〜9のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物または請求項10に記載のプリプレグを加熱硬化させてなる樹脂硬化物に、粗化処理が施された硬化体であって、
表面粗さRaが0.2μm以下であり、かつ表面粗さRzが2.0μm以下であることを特徴とする硬化体。
A cured product obtained by subjecting the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9 or a cured resin obtained by heat-curing the prepreg according to claim 10 to a roughening treatment,
A cured product having a surface roughness Ra of 0.2 μm or less and a surface roughness Rz of 2.0 μm or less.
前記樹脂硬化物を粗化処理する前に、膨潤処理が施されていることを特徴とする請求項11に記載の硬化体。   The cured body according to claim 11, wherein a swelling treatment is performed before the resin cured product is roughened. 請求項1〜9のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物、請求項10に記載のプリプレグ、又は請求項11若しくは12に記載の硬化体を用いてなることを特徴とするシート状成形体。   A sheet-like molding comprising the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9, the prepreg according to claim 10, or the cured body according to claim 11 or 12. body. 請求項13に記載のシート状成形体の少なくとも片面に、金属層及び/又は接着性を有する接着層が形成されてなることを特徴とする積層板。   A laminate comprising: a metal layer and / or an adhesive layer having adhesiveness formed on at least one surface of the sheet-like molded body according to claim 13. 前記金属層が回路として形成されていることを特徴とする請求項14に記載の積層板。   The laminate according to claim 14, wherein the metal layer is formed as a circuit. 請求項14又は15に記載の積層板から選ばれる少なくとも1種類の積層板を積層してなることを特徴とする多層積層板。   A multilayer laminate comprising at least one laminate selected from the laminates according to claim 14 or 15.
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