JP4341201B2 - 有機エレクトロルミネッセンス装置およびその製造方法、電子機器 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パーソナルコンピューターやテレビジョンなどの情報端末や、電気製品の表示部に用いる表示装置等として好適に使用される、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略称する。）装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ表示装置でカラー表示を行う従来の方法としては、▲１▼各発光色毎に発光層を形成する方法、▲２▼白色発光層でパネル全面を発光させ、その上にカラーフィルターを配置してカラー表示する方法、▲３▼青色に発光する発光層でパネル全面を発光させ、その上に色変換層を配置して緑、赤の発光を得る方法等が挙げられる。
【０００３】
これらの方法のうち、▲１▼の各発光色毎に発光層を形成する方法が、消費電力と色度の点から、最も良く研究されている。また、製造方法が簡単な事から、発光層の材料として高分子を用い、発光層を所定パターンで形成する方法としてインクジェット法が用いられている。
カラー有機ＥＬ表示装置を▲１▼の方法で形成する場合には、例えば以下の工程が行われる。
【０００４】
先ず、透明なガラス基板上に、透明な陽極（画素電極）として、ＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）を所定パターンで製膜する。次に、基板面の全面に、正孔注入／輸送層をスピンコート法またはインクジェット法で形成する。
次に、赤、緑、青に発光する材料（発光層形成材料）を、各画素位置にそれぞれインクジェット法等で配置することにより、各画素位置に各色の発光層を形成する。次に、必要に応じて電子注入層を全面に形成した後に、陰極層を全面に形成する。次に、少なくとも陰極層の上面全体を封止する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、カラー有機ＥＬ表示装置を▲１▼の方法で形成する場合、従来の技術では、電子注入層や陰極層を、各色の発光層に対してすべて同じ材料で基板全面に形成していた。すなわち、各色の発光層毎に、電子注入層や陰極層の構成を変えること（電子注入層の有無、陰極材料の変更等）が行われていなかった。そのため、発光層の電気光学特性が各色毎に最適化されてはいなかった。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の問題点に着目してなされたものであり、発光層の電気光学特性が各発光領域（例えば各色の発光領域）毎に最適化された有機ＥＬ装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明にかかる有機エレクトロルミネセッセンス装置は、第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、第３陰極と、第３陽極と、前記第３陰極と前記第３陽極との間に位置する第３発光層とからなり、前記第１陰極と前記第１発光層との間にフッ化リチウムから成る電子注入層が形成され、前記第１発光層の色と前記第２発光層の色と前記第３発光層の色とが異なり、
前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料と前記第３陰極の構成材料とが異なり、前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料と前記第３陰極の構成材料は、順に、前記第１発光層の構成材料と前記第２発光層の構成材料と前記第３発光層の構成材料に応じた構成となっている、ことを特徴とする。
また、上記有機エレクトロルミネセッセンス装置において、前記第１発光層が青色を発光するものであることを特徴とする。
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に第１陽極と第２陽極と第３陽極を形成する第１工程と、前記第１陽極上に第１発光層を、前記第２陽極上に第２発光層を、前記第３陽極上に第３発光層をそれぞれ形成する第２工程と、前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、お互いに異なる構成材料からなり、前記第１発光層に応じた材料からなる第１陰極を前記電子注入層上に、前記第２発光層に応じた材料からなる第２陰極を前記第２発光層上に、前記第３発光層に応じた材料からなる第３陰極を前記第３発光層上にそれぞれ形成する第４工程と、
を含むことを特徴とする。
上記有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記第１発光層が青色を発光するものであることが好ましい。
上記課題を解決するために、本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置は、第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、を含み、前記第１発光層の仕事関数が前記第２発光層の仕事関数より大きく、前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料とが異なることを特徴とする。
【０００８】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記第１陰極と前記第１発光層との間に前記第１陰極及び前記第１発光層より仕事関数の大きい電子注入層が形成され、前記第２陰極と前記第２発光層との間に前記第２陰極及び前記第２発光層より仕事関数の大きい電子注入層が形成されていないことが好ましい。
【０００９】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記電子注入層がアルカリ金属のフッ化物またはアルカリ土類金属のフッ化物を含む材料からなることが好ましい。
【００１０】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記第１発光層の色と前記第２発光層の色とが異なるものであることが好ましい。また、前記第１発光層が青色を発光するものであることが好ましい。
【００１１】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置は、第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、を含み、前記第１陰極と前記第１発光層との間に電子注入層が形成され、前記第１発光層の色と前記第２発光層の色とが異なり、前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料とが異なることを特徴とするものであってもよい。
【００１２】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に第１陽極と第２陽極とを形成する第１工程と、前記第１陽極上に第１発光層を、前記第２陽極上に第２発光層をそれぞれ形成する第２工程と、前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、前記電子注入層上に第１陰極を、前記第２発光層上に第２陰極をそれぞれ形成する第４工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に第１陽極を形成する第１工程と、前記第１陽極上に第１発光層を形成する第２工程と、前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、前記電子注入層上に第１陰極を形成する第４工程と、を含むことを特徴とするものであってもよい。
【００１４】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記第１発光層が青色を発光するものであることが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図１は本発明の一実施形態に相当する有機ＥＬ装置を示す断面図である。
この有機ＥＬ装置はカラー有機ＥＬ表示装置であり、赤色発光領域（赤色発光層を有する有機ＥＬ素子）Ｒ、青色発光領域（青色発光層を有する有機ＥＬ素子）Ｂ、および緑色発光領域（緑色発光層を有する有機ＥＬ素子）Ｇを、それぞれ画素として多数個、所定配置でパネル面（基板面）内に備えている。そして、各画素毎に、ガラス基板１の上にＴＦＴ素子２が、絶縁層３を介してＩＴＯからなる陽極４が形成されている。
【００１６】
また、ポリアミドからなる隔壁５で囲われた各画素領域内に、赤色発光領域Ｒでは、バイエル社の「バイトロンＰ（登録商標）」からなる正孔注入層６と赤色発光材料であるＭＥＨ−ＰＰＶ（poly (Methoxy-(2-ethyl)hexyloxy-paraphenylenevinylene)からなる赤色発光層７Ｒが、この順に形成されている。
青色発光領域Ｂでは、バイエル社の「バイトロンＰ（登録商標）」からなる正孔注入層６、青色発光材料であるポリジオクチルフルオレンからなる青色発光層７Ｂ、およびフッ化リチウムからなる電子注入層８が、この順に形成されている。緑色発光領域Ｇでは、バイエル社の「バイトロンＰ（登録商標）」からなる正孔注入層６と緑色発光材料であるＰＰＶからなる緑色発光層７Ｇが、この順に形成されている。
【００１７】
そして、赤色発光領域Ｒおよび緑色発光領域Ｇでは赤色発光層７Ｒおよび緑色発光層７Ｇの上（反基板側の面：ガラス基板１とは反対側の面）に、青色発光領域Ｂでは電子注入層８上に、カルシウム薄膜（２０ｎｍ）とアルミニウム薄膜（２００ｎｍ）とからなる積層構造（基板側がカルシウム薄膜）の陰極９が形成されている。
【００１８】
この陰極９の上面全体および端面とパネル面の周縁位置にある隔壁５の外側面とが、端子部Ｔとして露出させる部分を除いて、エポキシ樹脂製の封止材１０で覆われている。さらに、この封止材１０の上面に、封止用のガラス板１１が固定されている。なお、端子部Ｔとしては、図１で断面となっていない部分に、各陽極４に接続された各画素毎の陽極端子と、共通の陰極９に接続された一つの陰極端子が形成されている。
【００１９】
このカラー有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した。この方法を図２を用いて説明する。
先ず、ガラス基板１の上に、各画素毎のＴＦＴ素子２を形成した後、絶縁層３を介して、各画素位置にＩＴＯからなる陽極４を形成した。各陽極４の形成は、絶縁層３に各画素用のＴＦＴ素子２と陽極４とを接続する配線を形成した後に、絶縁層３上の全面にＩＴＯ薄膜を形成し、このＩＴＯ薄膜をフォトリソグラフィ工程およびエッチング工程によりパターニングすることで行った。また、この陽極４の形成と同時に、各陽極４毎の陽極端子と陰極端子を端子部Ｔへ形成することと、各陽極と陽極端子を接続する配線の形成を行った。
【００２０】
次に、このガラス基板１の上に、各発光領域に対応させた開口部５１を有する隔壁５を、基板面の端子部Ｔとする部分を除いた範囲で、ポリアミドにより形成した。次に、図２（ａ）に示すように、全開口部５１内の陽極４の上に、インクジェット法で正孔注入層６を形成した。すなわち、バイトロンＰを溶媒（イソプロピルアルコール、Ｎ−メチルピロリドン、１，３ジメチルーイミダゾリノン）に溶解させた溶液を全ての開口部５１内に滴下して、溶媒を蒸発させた。
【００２１】
次に、図２（ｂ）に示すように、各開口部５１内の正孔注入層６の上に、対応する各色の発光層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂをインクジェット法で形成した。すなわち、各色発光領域用に、対応する前記発光材料をキシレンに溶解させて１重量％溶液を調製し、各溶液を対応する各色発光領域の開口部５１内に滴下して、キシレンを蒸発させた。
【００２２】
次に、図２（ｃ）に示すように、所定位置に開口部Ｋを有するマスクＭを用いて、真空蒸着法により電子注入層８をなすフッ化リチウム薄膜を形成した。マスクＭの開口部Ｋは、隔壁５の開口部５１の、青色発光層７Ｂが形成されている部分に対応する位置にのみ設けた。このようにして、青色発光層７Ｂの上にのみ電子注入層８を形成し、赤色発光層７Ｒおよび緑色発光層７Ｇの上には電子注入層８を形成しなかった。
【００２３】
次に、このガラス基板１の上に、基板面の隔壁５が形成されている範囲内で、カルシウム薄膜（２０ｎｍ）とアルミニウム薄膜（２００ｎｍ）を真空蒸着法で順次形成した。これにより、図２（ｄ）に示すように、前記範囲内に、カルシウム／アルミニウム積層薄膜からなる陰極９が形成された。次に、この陰極９と端子部Ｔに形成されている前記陰極端子を配線で接続した。
【００２４】
次に、陰極９の上面全体および端面と基板面の周縁位置にある隔壁５の外側面とに、端子部Ｔとして露出させる部分を除いて、エポキシ樹脂系接着剤を所定厚さで塗布し、その上にガラス板１１を載せた状態でこの接着剤を硬化させた。これにより封止材１０およびガラス板１１による封止を行った。図２（ｅ）はこの状態を示す。
【００２５】
このようにして得られたカラー有機ＥＬ表示装置の端子部Ｔに駆動回路を接続して、この表示装置を駆動したところ、青色発光領域Ｂで２０Ｃｄ／ｍ2 の発光輝度を得るために必要な消費電力は６０ｍＷであった。これに対して、青色発光領域Ｂに電子注入層８をしない以外は全て同じ方法で作製したカラー有機ＥＬ表示装置では、青色発光領域Ｂで２０Ｃｄ／ｍ2 の発光輝度を得るために必要な消費電力は２００ｍＷであった。また、この実施形態で得られた図１の構成のカラー有機ＥＬ表示装置において、赤色発光領域Ｒおよび緑色発光領域Ｇで２０Ｃｄ／ｍ2 の発光輝度を得るために必要な消費電力は共に６０ｍＷであった。
【００２６】
これにより、青色発光領域Ｂにのみ電子注入層８を形成し、赤色発光領域Ｒおよび緑色発光領域Ｇには電子注入層８を形成しない構成とすること（すなわち、発光層より陰極側の構成を各発光領域の発光層形成材料に対応させた構成とすること）で、各色発光領域毎に電気光学特性の最適化が図られたことが分かる。
図１の構成のカラー有機ＥＬ表示装置は、図２に示す方法に代えて、図３に示す方法で作製することもできる。
【００２７】
この方法は、図３（ｃ）に示す工程が図２（ｃ）に示す工程と異なるだけで、他の工程は図２の方法と同じである。すなわち、青色発光領域Ｂにのみ電子注入層８を形成する工程を、図３の方法では、マスクＭを用いた真空蒸着法ではなくインクジェット法にて行っている。具体的には、フッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で隔壁５の開口部５１に配置した後、溶媒を蒸発させることによって電子注入層８を形成している。
【００２８】
図４は、本発明の別の実施形態に相当するカラー有機ＥＬ表示装置であり、この装置は、陰極の構成を発光領域の色によって異なるものとしている。それ以外の点は図１の装置と同じである。
各色発光領域用の陰極の構成としては、青色発光領域Ｂの陰極９ＢをＣａ／Ａｌ（Ｃａを発光層側とした積層膜）、赤色発光領域Ｒの陰極９ＲをＬｉ−Ａｌ合金、緑色発光領域Ｇの陰極９ＧをＬｉ／Ａｌ（Ｌｉを発光層側とした積層膜）とすることによって、各色発光領域毎に電気光学特性の最適化を図ることができる。また、各色発光領域毎の陰極９Ｂ，９Ｒ，９Ｇの形成は、各陰極に対応する開口部を有するマスクを用いた成膜方法で行うことができる。
【００２９】
なお、上記実施形態では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の発光領域を有するカラー有機ＥＬ表示装置について記載されているが、これ以外に、例えば（シアン、マゼンタ、イエロー）の３色の発光領域を有するカラー有機ＥＬ表示装置も本発明に含まれる。また、カラー有機ＥＬ表示装置としての色の種類が３色以外のもの（例えば、２色や４色等）も本発明に含まれる。
【００３０】
また、本発明の有機ＥＬ装置は、表示装置にも限定されず、部分的に色が異なるように構成された光源も含まれる。さらに、色の違いに限定されず、発光層形成材料の違いによって最適な電気光学特性となる有機ＥＬ素子の構成が異なる場合に、各有機ＥＬ素子をその構成とした有機ＥＬ装置も本発明に含まれる。
なお、基板としては、ガラス基板１のほか、プラスチック基板、シリコン、ステンレスなどの金属、金属酸化物などを用いることもできる。
【００３１】
また、陽極４としては、ＩＴＯ以外にも、出光興産株式会社製ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＺｎＯ）膜など、導電性を有する透明導電膜、仕事関数の高い金属、たとえば金、銀、プラチナなどを使用することができる。また、正孔注入層６としては、前記実施形態で用いた「バイトロン」のほか、ポリアニリン、金属フタロシアニン等を使用することができる。
【００３２】
また、前記実施形態では正孔注入層６の形成方法としてインクジェット法を採用したが、水または有機溶剤に溶解しない材料を用いる場合には、蒸着法等によって形成することができる。また、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を形成する場合には、その材料としてフェニルアミン系材料を用いることができる。
また、前記実施形態では発光層の形成方法としてインクジェット法を採用したが、水または有機溶剤に溶解しない材料を用いる場合には、蒸着法等によって形成することができる。
【００３３】
また、前記実施形態では、陰極９として、カルシウム／アルミニウム積層膜を形成したが、仕事関数が４ｅＶ以下の金属であれば用いる事ができる。
また、前記実施形態では、電子注入層８としてフッ化リチウムを使用しているが、これ以外のアルカリ金属のフッ化物またはアルカリ土類金属のフッ化物を使用してもよい。
【００３４】
また、封止構造としては、前記実施形態の構造以外に、ガスバリア性の高い保護膜を製膜する方法、パネル周辺部と脱酸素材または脱水材を含む缶を張り合わせる方法などを採用することができる。
また、前記実施形態では、ＴＦＴ素子２として低温ポリシリコンＴＦＴ素子を用い、基板周辺部にドライバー回路を形成したが、ＸＹドライバーのどちらかだけを形成しても良いし、いずれのドライバーを形成せず、ドライバーを外付けとしても良い。また、ＴＦＴ素子を画素内に作らず、単純マトリックス構造となるように陽極群を短冊形に形成しても良い。
【００３５】
また、前記各実施形態では、基板として透明なガラス基板１を用い、基板側に透明な陽極４を設け、陰極９を不透明にしているため、発光層７Ｂ、７Ｒ、７Ｇで生じた光は陰極９で反射されてガラス基板１側に出射されるが、基板側の電極（第１電極）を不透明とし第２電極を透明とすることで、発光層で生じた光を基板とは反対側に出射させるようにしてもよい。
【００３６】
この場合の陰極の材料としては、ＩＴＯの他に、金、銀、銅や仕事関数の低いカルシウム、マグネシウム、セシウム、ストロンチウム、ルビジウムなどの金属材料を透明性を有するように薄膜化したものを用いることができる。または、マグネシウムと銀や、アルミニウムとリチウムの合金を薄膜化したのものを用いることもできる。
【００３７】
この場合、第１電極が不透明であることから、基板面内の画素位置にＴＦＴ素子を形成することが可能となるため、ＴＦＴ素子を画素間位置に形成する必要のある図１の構造よりも、全画素面積の基板面積に対する比率を大きくすることができる。また、不透明な基板が使用できるため、シリコン基板等の半導体基板を使用することも可能になる。
【００３８】
また、前記各実施形態では、基板側の電極（第１電極）を陽極とし、基板とは反対側の電極（第２電極）を陰極としているが、第１電極を陰極、第２電極を陽極としてもよい。基板を基準とした各層の位置関係が、前記各実施形態に記載された構造とは逆転する。
さらに、本発明の有機ＥＬ装置は、例えば、モバイル型のパーソナルコンピュータ、携帯電話、ディジタルスチルカメラ等の各種電子機器に適用することができる。
【００３９】
図５は、モバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
図５において、パーソナルコンピュータ１００は、キーボード１０２を備えた本体部１０４と、本発明の有機ＥＬ装置からなる表示ユニット１０６とから構成されている。
図６は、携帯電話の斜視図である。図６において、携帯電話２００は、複数の操作ボタン２０２の他、受話口２０４、送話口２０６と共に、本発明の有機ＥＬ装置からなる表示パネル２０８を備えている。
【００４０】
図７は、ディジタルスチルカメラ３００の構成を示す斜視図である。なお、外部機器との接続についても簡易的に示している。通常のカメラは、被写体の光像によってフィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge coupled device)等の撮像素子により光電変換して撮像信号を生成するものである。
【００４１】
ここで、ディジタルスチルカメラ３００におけるケース３０２の背面には、本発明の有機ＥＬ装置からなる表示パネル３０４が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて、表示を行う構成となっている。このため、表示パネル３０４は、被写体を表示するファイダとして機能する。また、３０２の観察側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット３０６が設けられている。
【００４２】
ここで、撮影者が表示パネル３０４に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン３０８を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板３１０のメモリに転送されて格納される。また、このディジタルスチルカメラ３００にあっては、ケース３０２の側面にビデオ信号出力端子３１２と、データ通信用の入出力端子３１４とが設けられている。
【００４３】
そして、図示されているように、ビデオ信号出力端子３１２にはテレビモニタ４３０が、データ通信用の入出力端子３１４にはパーソナルコンピュータ４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作によって、回路基板３１０のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ４３０やパーソナルコンピュータ４４０に出力される構成となっている。
【００４４】
なお、本発明の有機ＥＬ装置を表示部等として適用できる電子機器としては、図５のパーソナルコンピュータ、図６の携帯電話、および図７のディジタルスチルカメラの他にも、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、およびタッチパネルを備えた機器等を挙げることができる。
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、発光層の電気光学特性が各発光領域毎に最適化された有機ＥＬ装置が得られる。
特に、請求項４および５の有機ＥＬ装置によれば、発光層の電気光学特性が各色の有機ＥＬ素子毎に最適化されたものとすることができる。
【００４６】
また、本発明の方法によれば、本発明の有機ＥＬ装置を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に相当する有機ＥＬ装置を示す断面図である。
【図２】図１の有機ＥＬ装置の製造方法の一例を説明する工程図である。
【図３】図１の有機ＥＬ装置の製造方法の別の例を説明する工程図である。
【図４】本発明の別の実施形態に相当する有機ＥＬ装置を示す断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ装置を適用した電子機器の一例に相当するパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ装置を適用した電子機器の一例に相当する携帯電話の構成を示す斜視図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ装置を適用した電子機器の一例に相当するディジタルスチルカメラの背面側の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ ガラス基板
２ ＴＦＴ素子
３ 絶縁層
４ 陽極
５ 隔壁
５１ 隔壁の開口部
６ 正孔注入層
７Ｒ 赤色発光層
７Ｇ 緑色発光層
７Ｂ 青色発光層
８ 電子注入層
９ 陰極
９Ｒ 赤色発光領域の陰極
９Ｇ 緑色発光領域の陰極
９Ｂ 青色発光領域の陰極
１０ エポキシ樹脂からなる封止材
１１ 封止用のガラス板
Ｍ マスク
Ｋ マスクの開口部
Ｔ 端子
Ｒ 赤色発光領域（赤色発光層を有する有機ＥＬ素子）
Ｇ 緑色発光領域（緑色発光層を有する有機ＥＬ素子）
Ｂ 青色発光領域（青色発光層を有する有機ＥＬ素子）
１００ パーソナルコンピュータ
１０２ キーボード
１０４ 本体部
１０６ 表示ユニット
２００ 携帯電話
２０２ 操作ボタン
２０４ 受話口
２０６ 送話口
２０８ 表示パネル
３００ ディジタルスチルカメラ
３０２ ケース
３０４ 表示パネル
３０８ シャッタボタン
３１０ 回路基板
３１２ ビデオ信号出力端子
３１４ データ通信用の入出力端子
４３０ テレビモニタ
４４０ パーソナルコンピュータ
【発明の属する技術分野】
本発明は、パーソナルコンピューターやテレビジョンなどの情報端末や、電気製品の表示部に用いる表示装置等として好適に使用される、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略称する。）装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ表示装置でカラー表示を行う従来の方法としては、▲１▼各発光色毎に発光層を形成する方法、▲２▼白色発光層でパネル全面を発光させ、その上にカラーフィルターを配置してカラー表示する方法、▲３▼青色に発光する発光層でパネル全面を発光させ、その上に色変換層を配置して緑、赤の発光を得る方法等が挙げられる。
【０００３】
これらの方法のうち、▲１▼の各発光色毎に発光層を形成する方法が、消費電力と色度の点から、最も良く研究されている。また、製造方法が簡単な事から、発光層の材料として高分子を用い、発光層を所定パターンで形成する方法としてインクジェット法が用いられている。
カラー有機ＥＬ表示装置を▲１▼の方法で形成する場合には、例えば以下の工程が行われる。
【０００４】
先ず、透明なガラス基板上に、透明な陽極（画素電極）として、ＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）を所定パターンで製膜する。次に、基板面の全面に、正孔注入／輸送層をスピンコート法またはインクジェット法で形成する。
次に、赤、緑、青に発光する材料（発光層形成材料）を、各画素位置にそれぞれインクジェット法等で配置することにより、各画素位置に各色の発光層を形成する。次に、必要に応じて電子注入層を全面に形成した後に、陰極層を全面に形成する。次に、少なくとも陰極層の上面全体を封止する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、カラー有機ＥＬ表示装置を▲１▼の方法で形成する場合、従来の技術では、電子注入層や陰極層を、各色の発光層に対してすべて同じ材料で基板全面に形成していた。すなわち、各色の発光層毎に、電子注入層や陰極層の構成を変えること（電子注入層の有無、陰極材料の変更等）が行われていなかった。そのため、発光層の電気光学特性が各色毎に最適化されてはいなかった。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の問題点に着目してなされたものであり、発光層の電気光学特性が各発光領域（例えば各色の発光領域）毎に最適化された有機ＥＬ装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明にかかる有機エレクトロルミネセッセンス装置は、第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、第３陰極と、第３陽極と、前記第３陰極と前記第３陽極との間に位置する第３発光層とからなり、前記第１陰極と前記第１発光層との間にフッ化リチウムから成る電子注入層が形成され、前記第１発光層の色と前記第２発光層の色と前記第３発光層の色とが異なり、
前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料と前記第３陰極の構成材料とが異なり、前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料と前記第３陰極の構成材料は、順に、前記第１発光層の構成材料と前記第２発光層の構成材料と前記第３発光層の構成材料に応じた構成となっている、ことを特徴とする。
また、上記有機エレクトロルミネセッセンス装置において、前記第１発光層が青色を発光するものであることを特徴とする。
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に第１陽極と第２陽極と第３陽極を形成する第１工程と、前記第１陽極上に第１発光層を、前記第２陽極上に第２発光層を、前記第３陽極上に第３発光層をそれぞれ形成する第２工程と、前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、お互いに異なる構成材料からなり、前記第１発光層に応じた材料からなる第１陰極を前記電子注入層上に、前記第２発光層に応じた材料からなる第２陰極を前記第２発光層上に、前記第３発光層に応じた材料からなる第３陰極を前記第３発光層上にそれぞれ形成する第４工程と、
を含むことを特徴とする。
上記有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記第１発光層が青色を発光するものであることが好ましい。
上記課題を解決するために、本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置は、第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、を含み、前記第１発光層の仕事関数が前記第２発光層の仕事関数より大きく、前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料とが異なることを特徴とする。
【０００８】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記第１陰極と前記第１発光層との間に前記第１陰極及び前記第１発光層より仕事関数の大きい電子注入層が形成され、前記第２陰極と前記第２発光層との間に前記第２陰極及び前記第２発光層より仕事関数の大きい電子注入層が形成されていないことが好ましい。
【０００９】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記電子注入層がアルカリ金属のフッ化物またはアルカリ土類金属のフッ化物を含む材料からなることが好ましい。
【００１０】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記第１発光層の色と前記第２発光層の色とが異なるものであることが好ましい。また、前記第１発光層が青色を発光するものであることが好ましい。
【００１１】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置は、第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、を含み、前記第１陰極と前記第１発光層との間に電子注入層が形成され、前記第１発光層の色と前記第２発光層の色とが異なり、前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料とが異なることを特徴とするものであってもよい。
【００１２】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に第１陽極と第２陽極とを形成する第１工程と、前記第１陽極上に第１発光層を、前記第２陽極上に第２発光層をそれぞれ形成する第２工程と、前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、前記電子注入層上に第１陰極を、前記第２発光層上に第２陰極をそれぞれ形成する第４工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に第１陽極を形成する第１工程と、前記第１陽極上に第１発光層を形成する第２工程と、前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、前記電子注入層上に第１陰極を形成する第４工程と、を含むことを特徴とするものであってもよい。
【００１４】
上記有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記第１発光層が青色を発光するものであることが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図１は本発明の一実施形態に相当する有機ＥＬ装置を示す断面図である。
この有機ＥＬ装置はカラー有機ＥＬ表示装置であり、赤色発光領域（赤色発光層を有する有機ＥＬ素子）Ｒ、青色発光領域（青色発光層を有する有機ＥＬ素子）Ｂ、および緑色発光領域（緑色発光層を有する有機ＥＬ素子）Ｇを、それぞれ画素として多数個、所定配置でパネル面（基板面）内に備えている。そして、各画素毎に、ガラス基板１の上にＴＦＴ素子２が、絶縁層３を介してＩＴＯからなる陽極４が形成されている。
【００１６】
また、ポリアミドからなる隔壁５で囲われた各画素領域内に、赤色発光領域Ｒでは、バイエル社の「バイトロンＰ（登録商標）」からなる正孔注入層６と赤色発光材料であるＭＥＨ−ＰＰＶ（poly (Methoxy-(2-ethyl)hexyloxy-paraphenylenevinylene)からなる赤色発光層７Ｒが、この順に形成されている。
青色発光領域Ｂでは、バイエル社の「バイトロンＰ（登録商標）」からなる正孔注入層６、青色発光材料であるポリジオクチルフルオレンからなる青色発光層７Ｂ、およびフッ化リチウムからなる電子注入層８が、この順に形成されている。緑色発光領域Ｇでは、バイエル社の「バイトロンＰ（登録商標）」からなる正孔注入層６と緑色発光材料であるＰＰＶからなる緑色発光層７Ｇが、この順に形成されている。
【００１７】
そして、赤色発光領域Ｒおよび緑色発光領域Ｇでは赤色発光層７Ｒおよび緑色発光層７Ｇの上（反基板側の面：ガラス基板１とは反対側の面）に、青色発光領域Ｂでは電子注入層８上に、カルシウム薄膜（２０ｎｍ）とアルミニウム薄膜（２００ｎｍ）とからなる積層構造（基板側がカルシウム薄膜）の陰極９が形成されている。
【００１８】
この陰極９の上面全体および端面とパネル面の周縁位置にある隔壁５の外側面とが、端子部Ｔとして露出させる部分を除いて、エポキシ樹脂製の封止材１０で覆われている。さらに、この封止材１０の上面に、封止用のガラス板１１が固定されている。なお、端子部Ｔとしては、図１で断面となっていない部分に、各陽極４に接続された各画素毎の陽極端子と、共通の陰極９に接続された一つの陰極端子が形成されている。
【００１９】
このカラー有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した。この方法を図２を用いて説明する。
先ず、ガラス基板１の上に、各画素毎のＴＦＴ素子２を形成した後、絶縁層３を介して、各画素位置にＩＴＯからなる陽極４を形成した。各陽極４の形成は、絶縁層３に各画素用のＴＦＴ素子２と陽極４とを接続する配線を形成した後に、絶縁層３上の全面にＩＴＯ薄膜を形成し、このＩＴＯ薄膜をフォトリソグラフィ工程およびエッチング工程によりパターニングすることで行った。また、この陽極４の形成と同時に、各陽極４毎の陽極端子と陰極端子を端子部Ｔへ形成することと、各陽極と陽極端子を接続する配線の形成を行った。
【００２０】
次に、このガラス基板１の上に、各発光領域に対応させた開口部５１を有する隔壁５を、基板面の端子部Ｔとする部分を除いた範囲で、ポリアミドにより形成した。次に、図２（ａ）に示すように、全開口部５１内の陽極４の上に、インクジェット法で正孔注入層６を形成した。すなわち、バイトロンＰを溶媒（イソプロピルアルコール、Ｎ−メチルピロリドン、１，３ジメチルーイミダゾリノン）に溶解させた溶液を全ての開口部５１内に滴下して、溶媒を蒸発させた。
【００２１】
次に、図２（ｂ）に示すように、各開口部５１内の正孔注入層６の上に、対応する各色の発光層７Ｒ，７Ｇ，７Ｂをインクジェット法で形成した。すなわち、各色発光領域用に、対応する前記発光材料をキシレンに溶解させて１重量％溶液を調製し、各溶液を対応する各色発光領域の開口部５１内に滴下して、キシレンを蒸発させた。
【００２２】
次に、図２（ｃ）に示すように、所定位置に開口部Ｋを有するマスクＭを用いて、真空蒸着法により電子注入層８をなすフッ化リチウム薄膜を形成した。マスクＭの開口部Ｋは、隔壁５の開口部５１の、青色発光層７Ｂが形成されている部分に対応する位置にのみ設けた。このようにして、青色発光層７Ｂの上にのみ電子注入層８を形成し、赤色発光層７Ｒおよび緑色発光層７Ｇの上には電子注入層８を形成しなかった。
【００２３】
次に、このガラス基板１の上に、基板面の隔壁５が形成されている範囲内で、カルシウム薄膜（２０ｎｍ）とアルミニウム薄膜（２００ｎｍ）を真空蒸着法で順次形成した。これにより、図２（ｄ）に示すように、前記範囲内に、カルシウム／アルミニウム積層薄膜からなる陰極９が形成された。次に、この陰極９と端子部Ｔに形成されている前記陰極端子を配線で接続した。
【００２４】
次に、陰極９の上面全体および端面と基板面の周縁位置にある隔壁５の外側面とに、端子部Ｔとして露出させる部分を除いて、エポキシ樹脂系接着剤を所定厚さで塗布し、その上にガラス板１１を載せた状態でこの接着剤を硬化させた。これにより封止材１０およびガラス板１１による封止を行った。図２（ｅ）はこの状態を示す。
【００２５】
このようにして得られたカラー有機ＥＬ表示装置の端子部Ｔに駆動回路を接続して、この表示装置を駆動したところ、青色発光領域Ｂで２０Ｃｄ／ｍ2 の発光輝度を得るために必要な消費電力は６０ｍＷであった。これに対して、青色発光領域Ｂに電子注入層８をしない以外は全て同じ方法で作製したカラー有機ＥＬ表示装置では、青色発光領域Ｂで２０Ｃｄ／ｍ2 の発光輝度を得るために必要な消費電力は２００ｍＷであった。また、この実施形態で得られた図１の構成のカラー有機ＥＬ表示装置において、赤色発光領域Ｒおよび緑色発光領域Ｇで２０Ｃｄ／ｍ2 の発光輝度を得るために必要な消費電力は共に６０ｍＷであった。
【００２６】
これにより、青色発光領域Ｂにのみ電子注入層８を形成し、赤色発光領域Ｒおよび緑色発光領域Ｇには電子注入層８を形成しない構成とすること（すなわち、発光層より陰極側の構成を各発光領域の発光層形成材料に対応させた構成とすること）で、各色発光領域毎に電気光学特性の最適化が図られたことが分かる。
図１の構成のカラー有機ＥＬ表示装置は、図２に示す方法に代えて、図３に示す方法で作製することもできる。
【００２７】
この方法は、図３（ｃ）に示す工程が図２（ｃ）に示す工程と異なるだけで、他の工程は図２の方法と同じである。すなわち、青色発光領域Ｂにのみ電子注入層８を形成する工程を、図３の方法では、マスクＭを用いた真空蒸着法ではなくインクジェット法にて行っている。具体的には、フッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で隔壁５の開口部５１に配置した後、溶媒を蒸発させることによって電子注入層８を形成している。
【００２８】
図４は、本発明の別の実施形態に相当するカラー有機ＥＬ表示装置であり、この装置は、陰極の構成を発光領域の色によって異なるものとしている。それ以外の点は図１の装置と同じである。
各色発光領域用の陰極の構成としては、青色発光領域Ｂの陰極９ＢをＣａ／Ａｌ（Ｃａを発光層側とした積層膜）、赤色発光領域Ｒの陰極９ＲをＬｉ−Ａｌ合金、緑色発光領域Ｇの陰極９ＧをＬｉ／Ａｌ（Ｌｉを発光層側とした積層膜）とすることによって、各色発光領域毎に電気光学特性の最適化を図ることができる。また、各色発光領域毎の陰極９Ｂ，９Ｒ，９Ｇの形成は、各陰極に対応する開口部を有するマスクを用いた成膜方法で行うことができる。
【００２９】
なお、上記実施形態では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の発光領域を有するカラー有機ＥＬ表示装置について記載されているが、これ以外に、例えば（シアン、マゼンタ、イエロー）の３色の発光領域を有するカラー有機ＥＬ表示装置も本発明に含まれる。また、カラー有機ＥＬ表示装置としての色の種類が３色以外のもの（例えば、２色や４色等）も本発明に含まれる。
【００３０】
また、本発明の有機ＥＬ装置は、表示装置にも限定されず、部分的に色が異なるように構成された光源も含まれる。さらに、色の違いに限定されず、発光層形成材料の違いによって最適な電気光学特性となる有機ＥＬ素子の構成が異なる場合に、各有機ＥＬ素子をその構成とした有機ＥＬ装置も本発明に含まれる。
なお、基板としては、ガラス基板１のほか、プラスチック基板、シリコン、ステンレスなどの金属、金属酸化物などを用いることもできる。
【００３１】
また、陽極４としては、ＩＴＯ以外にも、出光興産株式会社製ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＺｎＯ）膜など、導電性を有する透明導電膜、仕事関数の高い金属、たとえば金、銀、プラチナなどを使用することができる。また、正孔注入層６としては、前記実施形態で用いた「バイトロン」のほか、ポリアニリン、金属フタロシアニン等を使用することができる。
【００３２】
また、前記実施形態では正孔注入層６の形成方法としてインクジェット法を採用したが、水または有機溶剤に溶解しない材料を用いる場合には、蒸着法等によって形成することができる。また、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を形成する場合には、その材料としてフェニルアミン系材料を用いることができる。
また、前記実施形態では発光層の形成方法としてインクジェット法を採用したが、水または有機溶剤に溶解しない材料を用いる場合には、蒸着法等によって形成することができる。
【００３３】
また、前記実施形態では、陰極９として、カルシウム／アルミニウム積層膜を形成したが、仕事関数が４ｅＶ以下の金属であれば用いる事ができる。
また、前記実施形態では、電子注入層８としてフッ化リチウムを使用しているが、これ以外のアルカリ金属のフッ化物またはアルカリ土類金属のフッ化物を使用してもよい。
【００３４】
また、封止構造としては、前記実施形態の構造以外に、ガスバリア性の高い保護膜を製膜する方法、パネル周辺部と脱酸素材または脱水材を含む缶を張り合わせる方法などを採用することができる。
また、前記実施形態では、ＴＦＴ素子２として低温ポリシリコンＴＦＴ素子を用い、基板周辺部にドライバー回路を形成したが、ＸＹドライバーのどちらかだけを形成しても良いし、いずれのドライバーを形成せず、ドライバーを外付けとしても良い。また、ＴＦＴ素子を画素内に作らず、単純マトリックス構造となるように陽極群を短冊形に形成しても良い。
【００３５】
また、前記各実施形態では、基板として透明なガラス基板１を用い、基板側に透明な陽極４を設け、陰極９を不透明にしているため、発光層７Ｂ、７Ｒ、７Ｇで生じた光は陰極９で反射されてガラス基板１側に出射されるが、基板側の電極（第１電極）を不透明とし第２電極を透明とすることで、発光層で生じた光を基板とは反対側に出射させるようにしてもよい。
【００３６】
この場合の陰極の材料としては、ＩＴＯの他に、金、銀、銅や仕事関数の低いカルシウム、マグネシウム、セシウム、ストロンチウム、ルビジウムなどの金属材料を透明性を有するように薄膜化したものを用いることができる。または、マグネシウムと銀や、アルミニウムとリチウムの合金を薄膜化したのものを用いることもできる。
【００３７】
この場合、第１電極が不透明であることから、基板面内の画素位置にＴＦＴ素子を形成することが可能となるため、ＴＦＴ素子を画素間位置に形成する必要のある図１の構造よりも、全画素面積の基板面積に対する比率を大きくすることができる。また、不透明な基板が使用できるため、シリコン基板等の半導体基板を使用することも可能になる。
【００３８】
また、前記各実施形態では、基板側の電極（第１電極）を陽極とし、基板とは反対側の電極（第２電極）を陰極としているが、第１電極を陰極、第２電極を陽極としてもよい。基板を基準とした各層の位置関係が、前記各実施形態に記載された構造とは逆転する。
さらに、本発明の有機ＥＬ装置は、例えば、モバイル型のパーソナルコンピュータ、携帯電話、ディジタルスチルカメラ等の各種電子機器に適用することができる。
【００３９】
図５は、モバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
図５において、パーソナルコンピュータ１００は、キーボード１０２を備えた本体部１０４と、本発明の有機ＥＬ装置からなる表示ユニット１０６とから構成されている。
図６は、携帯電話の斜視図である。図６において、携帯電話２００は、複数の操作ボタン２０２の他、受話口２０４、送話口２０６と共に、本発明の有機ＥＬ装置からなる表示パネル２０８を備えている。
【００４０】
図７は、ディジタルスチルカメラ３００の構成を示す斜視図である。なお、外部機器との接続についても簡易的に示している。通常のカメラは、被写体の光像によってフィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge coupled device)等の撮像素子により光電変換して撮像信号を生成するものである。
【００４１】
ここで、ディジタルスチルカメラ３００におけるケース３０２の背面には、本発明の有機ＥＬ装置からなる表示パネル３０４が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて、表示を行う構成となっている。このため、表示パネル３０４は、被写体を表示するファイダとして機能する。また、３０２の観察側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット３０６が設けられている。
【００４２】
ここで、撮影者が表示パネル３０４に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン３０８を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板３１０のメモリに転送されて格納される。また、このディジタルスチルカメラ３００にあっては、ケース３０２の側面にビデオ信号出力端子３１２と、データ通信用の入出力端子３１４とが設けられている。
【００４３】
そして、図示されているように、ビデオ信号出力端子３１２にはテレビモニタ４３０が、データ通信用の入出力端子３１４にはパーソナルコンピュータ４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作によって、回路基板３１０のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ４３０やパーソナルコンピュータ４４０に出力される構成となっている。
【００４４】
なお、本発明の有機ＥＬ装置を表示部等として適用できる電子機器としては、図５のパーソナルコンピュータ、図６の携帯電話、および図７のディジタルスチルカメラの他にも、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、およびタッチパネルを備えた機器等を挙げることができる。
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、発光層の電気光学特性が各発光領域毎に最適化された有機ＥＬ装置が得られる。
特に、請求項４および５の有機ＥＬ装置によれば、発光層の電気光学特性が各色の有機ＥＬ素子毎に最適化されたものとすることができる。
【００４６】
また、本発明の方法によれば、本発明の有機ＥＬ装置を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に相当する有機ＥＬ装置を示す断面図である。
【図２】図１の有機ＥＬ装置の製造方法の一例を説明する工程図である。
【図３】図１の有機ＥＬ装置の製造方法の別の例を説明する工程図である。
【図４】本発明の別の実施形態に相当する有機ＥＬ装置を示す断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ装置を適用した電子機器の一例に相当するパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ装置を適用した電子機器の一例に相当する携帯電話の構成を示す斜視図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ装置を適用した電子機器の一例に相当するディジタルスチルカメラの背面側の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ ガラス基板
２ ＴＦＴ素子
３ 絶縁層
４ 陽極
５ 隔壁
５１ 隔壁の開口部
６ 正孔注入層
７Ｒ 赤色発光層
７Ｇ 緑色発光層
７Ｂ 青色発光層
８ 電子注入層
９ 陰極
９Ｒ 赤色発光領域の陰極
９Ｇ 緑色発光領域の陰極
９Ｂ 青色発光領域の陰極
１０ エポキシ樹脂からなる封止材
１１ 封止用のガラス板
Ｍ マスク
Ｋ マスクの開口部
Ｔ 端子
Ｒ 赤色発光領域（赤色発光層を有する有機ＥＬ素子）
Ｇ 緑色発光領域（緑色発光層を有する有機ＥＬ素子）
Ｂ 青色発光領域（青色発光層を有する有機ＥＬ素子）
１００ パーソナルコンピュータ
１０２ キーボード
１０４ 本体部
１０６ 表示ユニット
２００ 携帯電話
２０２ 操作ボタン
２０４ 受話口
２０６ 送話口
２０８ 表示パネル
３００ ディジタルスチルカメラ
３０２ ケース
３０４ 表示パネル
３０８ シャッタボタン
３１０ 回路基板
３１２ ビデオ信号出力端子
３１４ データ通信用の入出力端子
４３０ テレビモニタ
４４０ パーソナルコンピュータ
Claims (5)
- 第１陰極と、第１陽極と、前記第１陰極と前記第１陽極との間に位置する第１発光層と、第２陰極と、第２陽極と、前記第２陰極と前記第２陽極との間に位置する第２発光層と、第３陰極と、第３陽極と、前記第３陰極と前記第３陽極との間に位置する第３発光層とからなり、
前記第１陰極と前記第１発光層との間にフッ化リチウムから成る電子注入層が形成され、
前記第１発光層の色と前記第２発光層の色と前記第３発光層の色とが異なり、
前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料と前記第３陰極の構成材料とが異なり、
前記第１陰極の構成材料と前記第２陰極の構成材料と前記第３陰極の構成材料は、順に、前記第１発光層の構成材料と前記第２発光層の構成材料と前記第３発光層の構成材料に応じた構成となっている、
有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項１において、前記第１発光層が青色を発光するものである、有機エレクトロルミネッセンス装置。
- 請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を含む、電子機器。
- 基板上に第１陽極と第２陽極と第３陽極を形成する第１工程と、
前記第１陽極上に第１発光層を、前記第２陽極上に第２発光層を、前記第３陽極上に第３発光層をそれぞれ形成する第２工程と、
前記第１発光層上にフッ化リチウムの水溶液をインクジェット法で塗布し、電子注入層を形成する第３工程と、
お互いに異なる構成材料からなり、前記第１発光層に応じた材料からなる第１陰極を前記電子注入層上に、前記第２発光層に応じた材料からなる第２陰極を前記第２発光層上に、前記第３発光層に応じた材料からなる第３陰極を前記第３発光層上にそれぞれ形成する第４工程と、
を含む、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項４において、前記第１発光層が青色を発光するものである、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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