JP4340764B2 - Method for manufacturing inner surface coated plastic container - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内面側にアモルファス炭素を含む被膜を備える内面被覆プラスチック容器の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、飲料、食品、エアゾール、化粧品、医薬品等の流動性物質の容器として、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の各種プラスチックからなる容器が用いられている。前記プラスチック容器は、金属容器やガラス容器に比較して軽量であるが、ガスバリヤ性に劣るという問題がある。
【0003】
近年、前記ガスバリヤ性を改善するために、前記プラスチック容器の内面側に、プラズマCVD法によりアモルファス炭素を含む被膜を設けることが提案され、実用化されている。前記プラズマCVD法は、例えば、中空の処理室に前記プラスチック容器を配置し、該処理室及びプラスチック容器内部を排気して真空に保持した状態で、該プラスチック容器の口部から内部にアセチレン等の出発原料をガス状として導入し、高周波またはマイクロ波電圧を印加して該プラスチック容器内にプラズマを発生させることにより、該プラスチック容器内面側に前記被膜を形成するものである。
【0004】
内面側に前記被膜を形成したプラスチック容器は、該被膜の膜厚を厚くすることにより、優れたガスバリヤ性を示すことができる。しかし、前記被膜の膜厚を厚くすると、前記プラスチック容器に対する該被膜の密着性が低下し加工変形に追随できなくなるので、十分な加工性が得られないとの問題がある。また、前記被膜の膜厚を厚くすると、該被膜による着色が顕著になるとの問題もある。
【0005】
前記被膜による着色は、内容物によっては、消費者に好まれない場合がある。また、前記被膜による着色があると、ポリエチレンテレフタレート樹脂製容器(以下、プラスチック容器と略記する)等の使用済みの容器を回収して再利用する際に障害になることがある。
【0006】
そこで、前記被膜の膜厚が薄く、しかも優れたガスバリヤ性を備えるプラスチック容器の製造方法の開発が望まれる。
【0007】
前記事情に鑑み、本発明者らは、プラスチック容器の内面側に形成されるアモルファス炭素を含む被膜のガスバリヤ性能について検討を重ねた。この結果、前記被膜のガスバリヤ性能は、該被膜中に含まれる炭素以外の原子、特に窒素原子または酸素原子の割合により大きく変化することが判明した。
【0008】
本発明者らは、前記知見に基づいてさらに検討を重ね、前記被膜中に含まれる炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の割合を所定の範囲内に抑えることにより、前記被膜の膜厚を薄くしても優れたガスバリヤ性が得られることを見出した。
【0009】
前記製造方法において、前記プラスチック容器中に供給されるガス成分は、前記ガス状の出発原料の他に、ジメチルホルムアミド等の窒素含有化合物や、空気を含んでおり、前記被膜中に含まれる窒素原子または酸素原子は、前記窒素含有化合物や、空気に由来するものである。前記空気は、前記処理室及びプラスチック容器内部の排気が不完全であったり、所定の真空度に保持されている装置の気密が不十分となり、プラスチック容器に空気のリークが生じたりしたときに、前記出発原料中に混入する。
【0010】
そこで、前記製造方法では、前記プラスチック容器中に供給されるガス成分中の窒素ガスまたは酸素ガスの量を制御することにより、前記被膜中に含まれる炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の割合を所定の範囲内に抑えることができる。
【0011】
しかしながら、前記従来の製造方法においては、一旦製造が開始された後、前記出発原料中に混入する窒素含有化合物や空気の量が変化して所定の範囲を超えてもそれを検出して制御することができないので、前記被膜中に含まれる炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の割合を所定の範囲内に抑えることができず、所定のガスバリヤ性を備えるプラスチック容器が得られないという不都合があり、製造工程の管理、製品の品質管理、製品の歩留りの点で改善が求められる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる不都合を解消して、プラスチック容器中に供給されるガス成分中に混入する窒素含有化合物や空気の量が所定の範囲を超えたときに、ガスバリヤ性の低いプラスチック容器の製造を防止し、さらには製造したプラスチック容器中、ガスバリヤ性の低いものを製造工程上で排除することができる内面被覆プラスチック容器の製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明の内面被覆プラスチック容器の製造方法は、プラズマCVD装置にプラスチック容器を収容し、該プラズマCVD装置内を所定の真空度に保持し、該プラスチック容器内に炭素原子を含む出発原料をガス状で供給し、該プラズマCVD装置内に所定のエネルギーを付与して該プラスチック容器内にプラズマを発生させることにより、該プラスチック容器の内面にアモルファス炭素を含む被膜を形成する内面被覆プラスチック容器の製造方法において、該プラスチック容器内に供給された該出発原料を含むガス成分により発生したプラズマの発光スペクトル中の特定の波長領域の光線を選択的に検出することにより、窒素のプラズマによる発光強度を検出して、該ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときには、該ガス成分に混入する窒素含有化合物の濃度を調整して、該ガス成分の全量に対して窒素ガスが20容量%以下となるようにすることを特徴とする。
【0014】
本発明の製造方法では、前記プラスチック容器内に供給されたガス成分は、前記ガス状の出発原料の他に窒素含有化合物や空気が混入していると、前記窒素含有化合物や空気に由来する窒素成分を含んでいる。
【0015】
そこで、本発明の製造方法では、前記プラスチック容器内に前記出発原料を含むガス成分を供給し、前記プラズマCVD装置内に所定のエネルギーを付与することにより該プラスチック容器内で発生したプラズマによる発光スペクトルを測定し、該発光スペクトル中の特定の波長領域の光線を選択的に検出することにより、前記窒素成分のプラズマによる発光強度(以下、窒素プラズマ発光強度と略記する)を検出する。このようにすると、前記窒素プラズマ発光強度から前記ガス成分中の窒素の有無、その量を知ることができるので、該窒素プラズマ発光強度が所定の強度を超えているときには、前記ガス成分に含有される前記窒素成分が所定の範囲を超えているものと判断し、その原因を排除する。
【0016】
本発明の製造法では、前記原因の排除として、具体的には、前記プラスチック容器内に供給されたガス成分に混入する窒素含有化合物の濃度を制御する。この結果、前記ガス成分の全量に対して窒素ガスが20容量%以下となるように抑えられる。
【0017】
従って、本発明の製造方法によれば、プラスチック容器中に供給されるガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときに、ガスバリヤ性の低いプラスチック容器の製造を防止することができる。
【0018】
前記ガス成分に混入する窒素含有化合物の濃度の制御は、例えばフィードバック制御により行うことができ、前記ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出された場合、直ちに窒素含有化合物の混入量を抑制する処置を取ることにより、その後に製造されるプラスチック容器について、所定のガスバリヤ性を確保することができる。しかし、前記フィードバック制御により行うときには、前記ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときに製造されたプラスチック容器については、所定のガスバリヤ性が得られない。
【0019】
そこで、本発明の製造方法では、前記ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときに、前記被膜が形成されたプラスチック容器を製造工程から排除することを特徴とする。このようにするときには、前記ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときに製造されたプラスチック容器を、前記被膜形成の後の製造工程から排除することにより、ガスバリヤ性の低いプラスチック容器の良品への混入を防止することができる。
【0020】
本発明の製造方法では、前記ガス成分に含有される窒素成分の量は、窒素成分の量と前記特定の波長領域の光線の強度とについて予め検量線を作成しておき、検出された窒素プラズマ発光強度を該検量線と比較することにより求めることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】
次に、添付の図面を参照しながら本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。図1は本実施形態の製造方法に用いる装置の一構成例を示すシステム構成図であり、図2はプラスチック容器内に供給されたガス成分が、前記ガス状の出発原料のみであるときに発生したプラズマのスペクトルの一例を示す図であり、図3はプラスチック容器内に供給されたガス成分が、前記ガス状の出発原料の他に窒素成分を含むときに発生したプラズマのスペクトルの一例を示す図である。
【0022】
本実施形態では、図1示の装置を用いて内面被覆プラスチック容器を製造する。
【0023】
図1示の装置において1はプラズマCVD装置であり、プラズマCVD装置1は、パイレックス(登録商標)ガラスで形成された側壁2と、昇降自在の底板3とにより画成された処理室4を備え、側壁2に臨む位置にマイクロ波発生装置5を備える。処理室4の上方には、側壁6と上壁7とにより画成された排気室8が備えられ、処理室4との間には隔壁9が設けられている。
【0024】
底板3は、プラスチック容器10を配置して上昇移動することにより、プラスチック容器10を処理室4内に収納する。このようにして収納されたプラスチック容器10は、口部保持具11を介して容器内部が隔壁9に設けられた排気孔12と連通するように配置される。口部保持具11は上部突出部13が排気孔12に密に挿入され、口部保持部14がプラスチック容器10の口部に所定の間隔を存して挿入される。
【0025】
処理室4と排気室8とは隔壁9に設けられた通気口15のバルブ16を介して連通しており、排気室8の側壁6に形成された開口17は図示しない真空装置に接続されている。排気室8の上壁7にはシール18を介して、ガス状の出発原料(以下、原料ガスと略記する)を供給するガス導入管19が支持されており、ガス導入管19は上壁7と口部保持具11とを貫通して、プラスチック容器10内に挿入される。尚、ガス導入管19と口部保持具11の内周面との間には間隙がある。
【0026】
また、処理室4の側壁2に臨む位置(図1ではマイクロ波発生装置5と対向する面)には、プラスチック容器10内におけるプラズマの発生に伴う発光を受光する受光部20が設けられている。受光部20は、光ファイバー21によりプラズマ発光分光分析装置22に接続されている。プラズマ発光分光分析装置22は、バンドパスフィルター23、検出手段24、主制御手段25を備えており、光ファイバー21はバンドパスフィルター23に接続されている。また、主制御手段25は、前記ガス成分中に混入する窒素含有化合物の濃度を制御するガス成分制御手段26と、所定のガスバリヤ性を備えていないプラスチック容器10を不良容器として製造工程から排除する不良容器排除手段27とに接続されている。
【0027】
図1示の装置では、まず、プラズマCVD装置1の底板3にプラスチック容器10を載置する。そして、底板3を上昇移動せしめ、処理室4内にプラスチック容器10を収納する。
【0028】
プラスチック容器10は、飲料、食品、エアゾール、化粧品、医薬品等の流動性物質の容器として用いられるものであり、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアクリル系樹脂等からなる。プラスチック容器10は、飲料容器として用いられる場合には、ポリエステル樹脂またはポリオレフィン樹脂からなることが適している。
【0029】
次に、図示しない真空装置を作動して、排気室7内を排気し、これにより通気口15を介して処理室4の内部を1〜50Paの真空度に減圧する。同時に、排気孔12に挿入されたガス導入管19と口部保持具11の内周面との間隙を介して、プラスチック容器10の内部を1〜50Paの真空度に減圧する。
【0030】
次に、ガス導入管19からプラスチック容器10内に、所定の組成を備える原料ガスを供給する。プラズマCVD装置1では、前記原料ガスを連続的に供給すると共に、前記真空装置により連続的に排気し、処理室4とプラスチック容器10との内部を前記真空度に保持する。また、前記原料ガスの供給量は、対象となるプラスチック容器10の表面積、形成される被膜の厚さに応じて適正な量に設定される。前記原料ガスの供給量は、内容積200ml〜2000mlのサイズのプラスチック容器10に、0.02〜0.08μmの膜厚の前記被膜を形成するには、容器表面積当たり0.1〜0.8sccm/cmの範囲とすることが適している。
【0031】
前記原料ガスとしては、エチレン、アセチレン等の脂肪族不飽和炭化水素、メタン、エタン、プロパン等の脂肪族飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、含酸素炭化水素類、含窒素炭化水素類を用いることができる。前記原料ガスは、単独で用いても、必要に応じて2種以上混合して用いてもよく、被膜改質剤として少量の水素、有機珪素化合物、その他の被膜形成性有機化合物を併用してもよい。また、前記原料ガスは、アルゴン、ヘリウム等の希ガスで希釈して用いるようにしてもよい。
【0032】
ただし、ガスバリヤ性に優れた被膜であるポリマー性薄膜をより短時間で形成するためには、前記原料ガスの60容量%以上、好ましくは80容量%以上をアセチレンとすることが適しており、さらに好ましくは前記原料ガスを実質的にアセチレンとすることが適している。尚、前記原料ガスが実質的にアセチレンからなる場合、該アセチレンは製造過程等で混入する不可避的な不純物を含んでいてもよい。
【0033】
そして、前記原料ガスが供給されている間、マイクロ波発生装置5を作動して、例えば2.45GHz、150〜600Wのマイクロ波を、0.2〜2.0秒間、好ましくは0.4〜1.5秒間照射することにより、前記原料ガスを電磁励起してプラスチック容器10内にプラズマを発生せしめ、プラスチック容器10の内面にアモルファス炭素被膜(図示せず)を形成する。このとき、前述のように、前記原料ガスを連続的に供給しつつ、前記真空装置により連続的に排気し、処理室4とプラスチック容器10との内部を前記真空度に保持することにより、安定な前記被膜を形成することができる。また、前記マイクロ波の照射時間が0.2秒未満のときには前記被膜において所望の膜厚が得られないことがあり、2.0秒を超えると前記被膜の膜厚が大になり、着色が濃くなることがある。
【0034】
次に、前記原料ガスの供給が終了したならば、マイクロ波発生装置5を停止して、処理室4とプラスチック容器10との内部を大気圧に戻し、底板3を降下させてプラスチック容器10を取り出すことにより、処理を終了する。マイクロ波発生装置5は、前記原料ガスの供給が終了と同時に停止してもよいが、短時間延長して照射するようにしてもよい。このようにすることにより、容器中に残存している原料ガス成分を完全に被膜化することができ、得られたプラスチック容器10のガスバリヤ性、内容物を充填した際の耐フレーバー性をさらに向上させることができる。
【0035】
本実施形態の製造方法では、マイクロ波発生装置5を作動してプラスチック容器10内に供給されたガス成分によるプラズマを発生せしめたときに、該プラズマによる発光スペクトルをプラズマ発光分光分析装置22により分析し、前記発光スペクトルに含まれる窒素プラズマ発光強度を検出する。
【0036】
プラズマ発光分光分析装置22によれば、プラスチック容器10内で発生したプラズマによる発光は、受光部20により受光され、光ファイバー21によりバンドパスフィルター23に送られる。
【0037】
このとき、前記プラズマによる発光スペクトルは、プラスチック容器10内に供給されたガス成分が前記原料ガスのみであるときには、図2に示すようになる。一方、プラスチック容器10内に供給されたガス成分が前記原料ガスの他に窒素成分を含むときには、前記発光スペクトルは図3に示すようになる。図3に示すスペクトルでは、700〜800nmの波長領域の光線が窒素プラズマに特有の発光に対応し、その他の成分の発光と比較的重なりにくい領域であると考えられる。
【0038】
そこで、バンドパスフィルター23では前記700〜800nmの波長領域の光線を選択的に透過させ、検出手段24で該波長領域の光線の強度を窒素プラズマ発光強度として検出する。次に、検出手段24で検出された窒素プラズマ発光強度のデータは、主制御手段25に送られる。主制御手段25は、前記ガス成分に含有される窒素成分の量と前記波長領域の光線の強度とについて予め作成された検量線を記憶しており、検出手段24で検出された窒素プラズマ発光強度のデータを該検量線と比較することにより、前記ガス成分に含有される窒素成分の量を求める。
【0039】
内面側に前記被膜を備えるプラスチック容器10は、該被膜中に含まれる炭素原子数を100とするときに、炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であるか、炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であるか、または炭素原子数に対する窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下であるときに、優れたガスバリヤ性を得ることができる。前記ガスバリヤ性は、例えばプラスチック容器10が飲料用容器である場合、酸素透過率として容器1本当たり好ましくは0.02ml/日以下、さらに好ましくは0.015ml/日以下とされている。尚、前記被膜中の炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の比率は、例えば、X線光電子分光分析装置(ESCA)等により測定することができる。
【0040】
本実施形態の製造方法では、前記被膜中に含まれる窒素と酸素とを前記範囲内に抑えるために、プラスチック容器10内に供給されたガス成分が、該ガス成分の全量に対し窒素ガスが20容量%以下であるか、或いは該ガス成分の全量に対し酸素ガスが10容量%以下であり、かつ窒素ガスと酸素ガスとが両者の総和として、15容量%以下である必要がある。
【0041】
そこで、主制御手段25は、前記ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときには、ガス成分制御手段26により、前記ガス成分に混入する窒素含有化合物の濃度を調整して、前記プラスチック容器10内に供給されたガス成分が、該ガス成分の全量に対し窒素ガスが20容量%以下となるようにする
【0042】
この結果、後続のプラスチック容器10については、形成された前記被膜中に含まれる窒素を前記範囲内に抑えることができ、ガスバリヤ性の低いプラスチック容器10の製造を防止することができる。
【0043】
また、主制御手段25は、前記ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときには、処理室4から取り出されたプラスチック容器10を不良容器として、不良容器排除手段27により製造工程から排除する。
【0044】
尚、本実施形態では、プラスチック容器10内で発生したプラズマによる発光を、受光部20で受光した後、バンドパスフィルター23、検出手段24、制御手段25を備えるプラズマ発光分光分析装置22により分析しているが、バンドパスフィルター23を使用せずに分析することもできる。また、受光部20に代えて、側壁2に望む位置に直接光センサーを設けて分析するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法に用いる装置の一構成例を示すシステム構成図。
【図2】プラスチック容器内に供給されたガス成分が、ガス状の出発原料のみであるときに発生したプラズマの発光スペクトルの一例を示す図。
【図3】プラスチック容器内に供給されたガス成分が、ガス状の出発原料の他に窒素成分を含むときに発生したプラズマの発光スペクトルの一例を示す図。
【符号の説明】
1…プラズマCVD装置、 22…プラズマ発光分光分析装置、 26…ガス成分制御手段、 27…不良容器排除手段。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing an inner surface-coated plastic container having a coating containing amorphous carbon on the inner surface side.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, containers made of various plastics such as polyethylene terephthalate resin have been used as containers for fluid substances such as beverages, foods, aerosols, cosmetics, and pharmaceuticals. The plastic container is lighter than a metal container or a glass container, but has a problem that it is inferior in gas barrier properties.
[0003]
In recent years, in order to improve the gas barrier property, it has been proposed and put to practical use to provide a film containing amorphous carbon by the plasma CVD method on the inner surface side of the plastic container. In the plasma CVD method, for example, the plastic container is disposed in a hollow processing chamber, the inside of the processing chamber and the plastic container is evacuated and kept in a vacuum, and the inside of the plastic container is made of acetylene or the like from the mouth. The coating is formed on the inner surface of the plastic container by introducing the starting material in the form of gas and applying a high frequency or microwave voltage to generate plasma in the plastic container.
[0004]
A plastic container in which the coating film is formed on the inner surface side can exhibit excellent gas barrier properties by increasing the thickness of the coating film. However, when the film thickness is increased, the adhesion of the film to the plastic container is lowered and cannot follow the processing deformation, so that there is a problem that sufficient workability cannot be obtained. Further, when the film thickness is increased, there is a problem that coloring by the film becomes remarkable.
[0005]
The coloring by the film may not be preferred by consumers depending on the contents. In addition, when the coating film is colored, it may be an obstacle when a used container such as a polyethylene terephthalate resin container (hereinafter abbreviated as a plastic container) is collected and reused.
[0006]
Therefore, it is desired to develop a method for producing a plastic container having a thin coating film and excellent gas barrier properties.
[0007]
In view of the above circumstances, the present inventors have studied the gas barrier performance of the coating containing amorphous carbon formed on the inner surface side of the plastic container. As a result, it has been found that the gas barrier performance of the coating varies greatly depending on the proportion of atoms other than carbon, particularly nitrogen atoms or oxygen atoms, contained in the coating.
[0008]
The present inventors have further studied based on the above knowledge, and by suppressing the ratio of the number of nitrogen atoms or the number of oxygen atoms to the number of carbon atoms contained in the film within a predetermined range, the film thickness of the film It has been found that excellent gas barrier properties can be obtained even if the thickness is reduced.
[0009]
In the manufacturing method, the gas component supplied into the plastic container contains a nitrogen-containing compound such as dimethylformamide and air in addition to the gaseous starting material, and nitrogen atoms contained in the coating film. Alternatively, the oxygen atom is derived from the nitrogen-containing compound or air. The air is incompletely exhausted inside the processing chamber and the plastic container, or when the airtightness of the apparatus maintained at a predetermined degree of vacuum is insufficient, and air leakage occurs in the plastic container. It is mixed in the starting material.
[0010]
Therefore, in the manufacturing method, by controlling the amount of nitrogen gas or oxygen gas in the gas component supplied into the plastic container, the number of nitrogen atoms or the number of oxygen atoms relative to the number of carbon atoms contained in the film is reduced. The ratio can be kept within a predetermined range.
[0011]
However, in the conventional manufacturing method, once the manufacturing is started, even if the amount of nitrogen-containing compound or air mixed in the starting material changes and exceeds a predetermined range, it is detected and controlled. Therefore, the ratio of the number of nitrogen atoms or the number of oxygen atoms to the number of carbon atoms contained in the coating film cannot be suppressed within a predetermined range, and a plastic container having a predetermined gas barrier property cannot be obtained. There is a need for improvement in terms of manufacturing process control, product quality control, and product yield.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention eliminates such inconvenience, and manufactures a plastic container having a low gas barrier property when the amount of nitrogen-containing compound or air mixed in the gas component supplied into the plastic container exceeds a predetermined range. Another object of the present invention is to provide a method for producing an inner surface-coated plastic container that can prevent and further eliminate those having low gas barrier properties in the produced plastic container.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve such an object, a method for producing an inner surface-coated plastic container according to the present invention includes storing a plastic container in a plasma CVD apparatus, maintaining the inside of the plasma CVD apparatus at a predetermined degree of vacuum, and placing carbon in the plastic container. Forming a film containing amorphous carbon on the inner surface of the plastic container by supplying a starting material containing atoms in a gaseous state and applying predetermined energy to the plasma CVD apparatus to generate plasma in the plastic container In the method of manufacturing an inner surface-coated plastic container, nitrogen is selectively detected by detecting light in a specific wavelength region in an emission spectrum of plasma generated by a gas component containing the starting material supplied into the plastic container. by detecting the emission intensity of the plasma, more than 20% by volume based on the total amount of said gas component When the nitrogen content of the is detected, by adjusting the concentration of the nitrogen-containing compound to be mixed into the gas component, nitrogen gas is characterized in that so as to be 20% by volume based on the total amount of the gas component .
[0014]
In the production method of the present invention, when the gas component supplied into the plastic container contains a nitrogen-containing compound or air in addition to the gaseous starting material, nitrogen derived from the nitrogen-containing compound or air. Contains ingredients.
[0015]
Therefore, in the manufacturing method of the present invention, a gas component containing the starting material is supplied into the plastic container, and a predetermined energy is applied to the plasma CVD apparatus, whereby an emission spectrum due to plasma generated in the plastic container. Is measured, and the light emission intensity by the plasma of the nitrogen component (hereinafter abbreviated as nitrogen plasma light emission intensity) is detected by selectively detecting light in a specific wavelength region in the emission spectrum. In this way, since the presence or absence of nitrogen in the gas component and the amount thereof can be known from the nitrogen plasma emission intensity, when the nitrogen plasma emission intensity exceeds a predetermined intensity, it is contained in the gas component. It is determined that the nitrogen component exceeds the predetermined range, and the cause is eliminated.
[0016]
In the production process of the present invention, as the elimination of the cause, specifically, it controls the concentration of nitrogen-containing compounds to be mixed into the gas component supplied into the plastic container. As a result, the nitrogen gas is suppressed to 20% by volume or less with respect to the total amount of the gas components.
[0017]
Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, when a nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume is detected with respect to the total amount of the gas component supplied into the plastic container, the manufacturing of the plastic container having a low gas barrier property is prevented. can do.
[0018]
The concentration of the control of the nitrogen-containing compound to be mixed into the gas component, for example, can be performed by the feedback control, if the nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume based on the total amount of the gas component is detected immediately containing nitrogen By taking measures to suppress the amount of compound contamination, a predetermined gas barrier property can be secured for a plastic container produced thereafter. However, when performing the feedback control, a predetermined gas barrier property cannot be obtained for a plastic container manufactured when a nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume is detected with respect to the total amount of the gas component .
[0019]
Therefore, in the production method of the present invention, when a nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume is detected with respect to the total amount of the gas component, the plastic container on which the coating film is formed is excluded from the production process. To do. In this case, by removing the plastic container manufactured when the nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume with respect to the total amount of the gas component is detected from the manufacturing process after the film formation, the gas barrier is removed. It is possible to prevent mixing of a low-quality plastic container into a good product.
[0020]
Nitrogen in the manufacturing method of the present invention, the amount of nitrogen components contained before SL gas component, for the intensity of the light quantity and the specific wavelength region of nitrogen components must have already created the calibration curve, which is detected The plasma emission intensity can be obtained by comparing with the calibration curve.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a system configuration diagram showing a configuration example of an apparatus used in the manufacturing method of the present embodiment, and FIG. 2 is generated when the gas component supplied into the plastic container is only the gaseous starting material. FIG. 3 shows an example of the spectrum of plasma generated when the gas component supplied into the plastic container contains a nitrogen component in addition to the gaseous starting material. FIG.
[0022]
In this embodiment, an inner surface-coated plastic container is manufactured using the apparatus shown in FIG.
[0023]
In the apparatus shown in FIG. 1, reference numeral 1 denotes a plasma CVD apparatus. The plasma CVD apparatus 1 includes a processing chamber 4 defined by a side wall 2 made of Pyrex (registered trademark) glass and a bottom plate 3 that can be raised and lowered. The microwave generator 5 is provided at a position facing the side wall 2. An exhaust chamber 8 defined by a side wall 6 and an upper wall 7 is provided above the processing chamber 4, and a partition wall 9 is provided between the processing chamber 4.
[0024]
The bottom plate 3 accommodates the plastic container 10 in the processing chamber 4 by placing the plastic container 10 and moving upward. The plastic container 10 housed in this manner is arranged so that the inside of the container communicates with the exhaust hole 12 provided in the partition wall 9 through the mouth holder 11. In the mouth holder 11, the upper protrusion 13 is closely inserted into the exhaust hole 12, and the mouth holder 14 is inserted into the mouth of the plastic container 10 with a predetermined interval.
[0025]
The processing chamber 4 and the exhaust chamber 8 communicate with each other through a valve 16 of a vent 15 provided in the partition wall 9, and an opening 17 formed in the side wall 6 of the exhaust chamber 8 is connected to a vacuum device (not shown). Yes. A gas introduction pipe 19 for supplying a gaseous starting material (hereinafter abbreviated as a raw material gas) is supported on the upper wall 7 of the exhaust chamber 8 via a seal 18, and the gas introduction pipe 19 is supported on the upper wall 7. And the mouth holder 11 are inserted into the plastic container 10. There is a gap between the gas introduction pipe 19 and the inner peripheral surface of the mouth holder 11.
[0026]
In addition, at a position facing the side wall 2 of the processing chamber 4 (a surface facing the microwave generator 5 in FIG. 1), a light receiving unit 20 that receives light emitted from the generation of plasma in the plastic container 10 is provided. . The light receiving unit 20 is connected to the plasma emission spectroscopic analyzer 22 by an optical fiber 21. The plasma emission spectrometer 22 includes a bandpass filter 23, a detection unit 24, and a main control unit 25, and the optical fiber 21 is connected to the bandpass filter 23. The main control unit 25, excluded from the manufacturing process and the gas component control means 26 for controlling the concentration of nitrogen-containing compound to be mixed in said gas component, the plastic container 10 which is not provided with a predetermined gas barrier properties as a defective container Connected to the defective container removing means 27.
[0027]
In the apparatus shown in FIG. 1, first, a plastic container 10 is placed on the bottom plate 3 of the plasma CVD apparatus 1. Then, the bottom plate 3 is moved up and the plastic container 10 is stored in the processing chamber 4.
[0028]
The plastic container 10 is used as a container for fluid substances such as beverages, foods, aerosols, cosmetics, pharmaceuticals, and the like. Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyamide resins, poly It consists of ether resin, polyacrylic resin, and the like. When used as a beverage container, the plastic container 10 is suitably made of a polyester resin or a polyolefin resin.
[0029]
Next, a vacuum device (not shown) is operated to exhaust the inside of the exhaust chamber 7, and thereby the pressure inside the processing chamber 4 is reduced to a vacuum degree of 1 to 50 Pa through the vent 15. At the same time, the inside of the plastic container 10 is depressurized to a vacuum degree of 1 to 50 Pa through a gap between the gas introduction pipe 19 inserted into the exhaust hole 12 and the inner peripheral surface of the mouth holder 11.
[0030]
Next, a raw material gas having a predetermined composition is supplied from the gas introduction pipe 19 into the plastic container 10. In the plasma CVD apparatus 1, the raw material gas is continuously supplied and continuously exhausted by the vacuum apparatus, so that the inside of the processing chamber 4 and the plastic container 10 is maintained at the degree of vacuum. The supply amount of the source gas is set to an appropriate amount according to the surface area of the target plastic container 10 and the thickness of the coating film to be formed. The supply amount of the source gas is 0.1 to 0.8 sccm per surface area of the container in order to form the coating film having a thickness of 0.02 to 0.08 μm in the plastic container 10 having an internal volume of 200 to 2000 ml. A range of / cm 2 is suitable.
[0031]
Examples of the source gas include aliphatic unsaturated hydrocarbons such as ethylene and acetylene, aliphatic saturated hydrocarbons such as methane, ethane and propane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, oxygen-containing hydrocarbons, Nitrogen hydrocarbons can be used. The source gas may be used alone or as a mixture of two or more as required. A small amount of hydrogen, an organosilicon compound, or other film-forming organic compound is used in combination as a film modifier. Also good. The source gas may be diluted with a rare gas such as argon or helium.
[0032]
However, in order to form a polymer thin film that is a coating with excellent gas barrier properties in a shorter time, it is suitable that 60% by volume or more, preferably 80% by volume or more of the raw material gas is acetylene, Preferably, the source gas is substantially acetylene. When the source gas is substantially composed of acetylene, the acetylene may contain inevitable impurities mixed in during the production process.
[0033]
And while the said source gas is supplied, the microwave generator 5 is operated, for example, 2.45 GHz, 150-600 W of microwaves are 0.2-2.0 second, Preferably it is 0.4- By irradiating for 1.5 seconds, the source gas is electromagnetically excited to generate plasma in the plastic container 10, thereby forming an amorphous carbon film (not shown) on the inner surface of the plastic container 10. At this time, as described above, the raw material gas is continuously supplied and continuously exhausted by the vacuum device, so that the interior of the processing chamber 4 and the plastic container 10 is maintained at the vacuum degree. The above-mentioned film can be formed. In addition, when the microwave irradiation time is less than 0.2 seconds, a desired film thickness may not be obtained in the coating film. When the microwave irradiation time exceeds 2.0 seconds, the film thickness of the coating film increases and coloring may occur. May become darker.
[0034]
Next, when the supply of the source gas is completed, the microwave generator 5 is stopped, the inside of the processing chamber 4 and the plastic container 10 is returned to atmospheric pressure, the bottom plate 3 is lowered, and the plastic container 10 is removed. The processing is terminated by taking out. The microwave generator 5 may be stopped at the same time as the supply of the source gas is completed, but may be irradiated for a short time. By doing in this way, the raw material gas component remaining in the container can be completely formed into a film, and the gas barrier property of the obtained plastic container 10 and the flavor resistance when the contents are filled are further improved. Can be made.
[0035]
In the manufacturing method of the present embodiment, when the microwave generator 5 is operated to generate plasma by the gas component supplied into the plastic container 10, the emission spectrum of the plasma is analyzed by the plasma emission spectrometer 22. Then, the nitrogen plasma emission intensity included in the emission spectrum is detected.
[0036]
According to the plasma emission spectroscopic analyzer 22, the light emitted by the plasma generated in the plastic container 10 is received by the light receiving unit 20 and sent to the bandpass filter 23 by the optical fiber 21.
[0037]
At this time, the emission spectrum of the plasma is as shown in FIG. 2 when the gas component supplied into the plastic container 10 is only the source gas. On the other hand, when the gas component supplied into the plastic container 10 contains a nitrogen component in addition to the source gas, the emission spectrum is as shown in FIG. In the spectrum shown in FIG. 3, it is considered that light in the wavelength region of 700 to 800 nm corresponds to light emission unique to nitrogen plasma, and is relatively difficult to overlap with light emission of other components.
[0038]
Therefore, the bandpass filter 23 selectively transmits light in the wavelength region of 700 to 800 nm, and the detecting means 24 detects the intensity of the light in the wavelength region as nitrogen plasma emission intensity. Next, the data of the nitrogen plasma emission intensity detected by the detection means 24 is sent to the main control means 25. The main control means 25 stores a calibration curve prepared in advance for the amount of nitrogen component contained in the gas component and the intensity of light in the wavelength region, and the nitrogen plasma emission intensity detected by the detection means 24 Is compared with the calibration curve to determine the amount of nitrogen component contained in the gas component.
[0039]
The plastic container 10 having the coating on the inner surface side has a ratio of the number of nitrogen atoms to the number of carbon atoms of 15 or less when the number of carbon atoms contained in the coating is 100, or an oxygen atom to the number of carbon atoms Excellent gas barrier properties can be obtained when the number ratio is 20 or less, or the ratio of the total number of nitrogen atoms and oxygen atoms to the number of carbon atoms is 27 or less. For example, when the plastic container 10 is a beverage container, the gas barrier property is preferably 0.02 ml / day or less, more preferably 0.015 ml / day or less, as an oxygen transmission rate per container. The ratio of the number of nitrogen atoms or the number of oxygen atoms to the number of carbon atoms in the film can be measured by, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (ESCA).
[0040]
In the manufacturing method of the present embodiment, in order to keep nitrogen and oxygen contained in the coating within the above range, the gas component supplied into the plastic container 10 contains 20 nitrogen gas with respect to the total amount of the gas component. It is necessary that the oxygen gas is 10% by volume or less with respect to the total amount of the gas components, and the total of nitrogen gas and oxygen gas is 15% by volume or less.
[0041]
Therefore, the main control means 25 adjusts the concentration of the nitrogen-containing compound mixed in the gas component by the gas component control means 26 when an amount of nitrogen component exceeding 20% by volume is detected with respect to the total amount of the gas component. Then, the gas component supplied into the plastic container 10 is set so that the nitrogen gas is 20 volume% or less with respect to the total amount of the gas component .
[0042]
As a result, the subsequent plastic container 10, the nitrogen contained in said coating film formed can be suppressed within the range, it is possible to prevent the production of low plastic container 10 having gas barrier properties.
[0043]
Further, when a nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume with respect to the total amount of the gas components is detected, the main control unit 25 sets the plastic container 10 taken out from the processing chamber 4 as a defective container, and rejects the defective container 27. To eliminate from the manufacturing process.
[0044]
In the present embodiment, light emitted from the plasma generated in the plastic container 10 is received by the light receiving unit 20 and then analyzed by the plasma emission spectroscopic analyzer 22 including the bandpass filter 23, the detection unit 24, and the control unit 25. However, the analysis can be performed without using the bandpass filter 23. Further, instead of the light receiving unit 20, a light sensor may be provided directly at a desired position on the side wall 2 for analysis.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a system configuration diagram showing a configuration example of an apparatus used in a manufacturing method of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an example of an emission spectrum of plasma generated when a gas component supplied into a plastic container is only a gaseous starting material.
FIG. 3 is a diagram showing an example of an emission spectrum of plasma generated when a gas component supplied into a plastic container contains a nitrogen component in addition to a gaseous starting material.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plasma CVD apparatus, 22 ... Plasma emission spectroscopy analyzer, 26 ... Gas component control means, 27 ... Defective container exclusion means.

Claims (3)

プラズマCVD装置にプラスチック容器を収容し、該プラズマCVD装置内を所定の真空度に保持し、該プラスチック容器内に炭素原子を含む出発原料をガス状で供給し、該プラズマCVD装置内に所定のエネルギーを付与して該プラスチック容器内にプラズマを発生させることにより、該プラスチック容器の内面にアモルファス炭素を含む被膜を形成する内面被覆プラスチック容器の製造方法において、
該プラスチック容器内に供給された該出発原料を含むガス成分により発生したプラズマの発光スペクトル中の特定の波長領域の光線を選択的に検出することにより、窒素のプラズマによる発光強度を検出して、該ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときには、該ガス成分に混入する窒素含有化合物の濃度を調整して、該ガス成分の全量に対して窒素ガスが20容量%以下となるようにすることを特徴とする内面被覆プラスチック容器の製造方法。
A plastic container is accommodated in the plasma CVD apparatus, the inside of the plasma CVD apparatus is maintained at a predetermined degree of vacuum, a starting material containing carbon atoms is supplied in the form of a gas into the plastic container, and a predetermined amount is supplied into the plasma CVD apparatus. In the method for producing an inner surface-coated plastic container in which a film containing amorphous carbon is formed on the inner surface of the plastic container by applying energy and generating plasma in the plastic container
By selectively detecting light in a specific wavelength region in the emission spectrum of the plasma generated by the gas component containing the starting material supplied into the plastic container, the emission intensity of the nitrogen plasma is detected, When a nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume is detected with respect to the total amount of the gas component, the concentration of the nitrogen-containing compound mixed in the gas component is adjusted so that the nitrogen gas is 20 % with respect to the total amount of the gas component. A method for producing an inner surface-coated plastic container, wherein the volume% or less is set .
前記窒素のプラズマによる発光強度が所定の強度を超えているときに、前記被膜が形成されたプラスチック容器を製造工程から排除することを特徴とする請求項1記載の内面被覆プラスチック容器の製造方法。2. The method for manufacturing an inner surface-coated plastic container according to claim 1, wherein when the emission intensity of the nitrogen plasma exceeds a predetermined intensity, the plastic container on which the film is formed is excluded from the manufacturing process. プラズマCVD装置にプラスチック容器を収容し、該プラズマCVD装置内を所定の真空度に保持し、該プラスチック容器内に炭素原子を含む出発原料をガス状で供給し、該プラズマCVD装置内に所定のエネルギーを付与して該プラスチック容器内にプラズマを発生させることにより、該プラスチック容器の内面にアモルファス炭素を含む被膜を形成する内面被覆プラスチック容器の製造方法において、A plastic container is accommodated in the plasma CVD apparatus, the inside of the plasma CVD apparatus is maintained at a predetermined degree of vacuum, a starting material containing carbon atoms is supplied in the form of gas into the plastic container, and a predetermined amount is supplied into the plasma CVD apparatus. In the method for producing an inner surface-coated plastic container in which a film containing amorphous carbon is formed on the inner surface of the plastic container by applying energy and generating plasma in the plastic container,
該プラスチック容器内に供給された該出発原料を含むガス成分により発生したプラズマの発光スペクトル中の特定の波長領域の光線を選択的に検出することにより、窒素のプラズマによる発光強度を検出して、該ガス成分の全量に対し20容量%を超える量の窒素成分が検出されたときには、該被膜が形成されたプラスチック容器を製造工程から排除することを特徴とする内面被覆プラスチック容器の製造方法。By selectively detecting the light in a specific wavelength region in the emission spectrum of the plasma generated by the gas component containing the starting material supplied into the plastic container, the emission intensity of the nitrogen plasma is detected, A method for producing an inner surface-covered plastic container, characterized in that when a nitrogen component in an amount exceeding 20% by volume is detected with respect to the total amount of the gas component, the plastic container on which the coating is formed is excluded from the production process.
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