JP4320298B2 - Film peeling device - Google Patents

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JP4320298B2 JP2004350570A JP2004350570A JP4320298B2 JP 4320298 B2 JP4320298 B2 JP 4320298B2 JP 2004350570 A JP2004350570 A JP 2004350570A JP 2004350570 A JP2004350570 A JP 2004350570A JP 4320298 B2 JP4320298 B2 JP 4320298B2
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Description

本発明は、保護フィルムで保護された絶縁材層を有する基板から保護フィルムを剥離するためのフィルム剥離装置に関するものである。   The present invention relates to a film peeling apparatus for peeling a protective film from a substrate having an insulating material layer protected by a protective film.

従来、配線基板の製造プロセスは、基板の表面に絶縁材層を形成する工程を有している。このような工程の具体例としては、基板の表面に感光性のレジストフィルムをラミネートする工程や、基板の表面に感光性または熱硬化性の層間絶縁材フィルムをラミネートする工程などがある。絶縁材層の表層部は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)製のキャリアフィルムでカバーされている。このキャリアフィルムは、個々の基板の主面に対して1枚ずつラミネートされる。従って、貼り付けられた絶縁材層の処理を始めるためには、あらかじめ絶縁材層の表面からキャリアフィルムを剥離しておく必要がある。   Conventionally, the manufacturing process of a wiring board has a process of forming an insulating material layer on the surface of the board. Specific examples of such a process include a process of laminating a photosensitive resist film on the surface of the substrate and a process of laminating a photosensitive or thermosetting interlayer insulating film on the surface of the substrate. The surface layer portion of the insulating material layer is covered with a carrier film made of PET (polyethylene terephthalate), for example. One carrier film is laminated on each main surface of each substrate. Therefore, in order to start processing the attached insulating material layer, it is necessary to peel the carrier film from the surface of the insulating material layer in advance.

また、基板の表面に絶縁材層を形成する工程の他の具体例としては、基板の表面への液体レジストの塗布及び乾燥を繰り返して絶縁材層を形成する工程などがある。絶縁材層の表層部は、乾燥したとしても多少粘着性があるため、例えばPET製の保護フィルムによってカバーする必要がある。この保護フィルムも、キャリアフィルムの場合と同様に、個々の基板の主面に対して1枚ずつラミネートされるようになっている。ゆえに、絶縁材層を露光した後に現像を行うためには、キャリアフィルムを剥離する場合と同様に、あらかじめ基板の表面から保護フィルムを剥離しておく必要がある。   Another specific example of the step of forming the insulating material layer on the surface of the substrate includes a step of forming the insulating material layer by repeatedly applying and drying a liquid resist on the surface of the substrate. Since the surface layer portion of the insulating material layer is somewhat sticky even when dried, it needs to be covered with a protective film made of PET, for example. As with the carrier film, this protective film is laminated one by one on the main surface of each substrate. Therefore, in order to perform development after exposing the insulating material layer, it is necessary to peel the protective film from the surface of the substrate in advance, as in the case of peeling the carrier film.

このようなキャリアフィルムや保護フィルムなどのフィルムを剥離する従来の方法としては、例えば、ローレットロールを回転させてフィルムの面方向に移動させることにより、同フィルムを傷付けて浮き上がり部を形成すること(例えば、特許文献1参照)が提案されている。また、フィルム押圧部材をフィルムの面方向に移動させることにより、同フィルムを浮き上がらせて浮き上がり部を形成すること(例えば、特許文献2参照)が提案されている。
特開2000−86080号公報(図1等) 特開平10−324454号公報(図2等)
As a conventional method of peeling such a film such as a carrier film or a protective film, for example, by rotating a knurling roll and moving it in the surface direction of the film, the film is damaged to form a raised portion ( For example, see Patent Document 1). Further, it has been proposed that the film pressing member is moved in the surface direction of the film so that the film is lifted to form a raised portion (for example, see Patent Document 2).
JP 2000-86080 A (FIG. 1 etc.) JP-A-10-324454 (FIG. 2 etc.)

ところが、フィルムを剥離する場合には、剥離作業を基板の枚数と同じ回数(フィルムが基板の両面にラミネートされている場合には基板の枚数の2枚の回数)だけ行う必要があるため、剥離作業の効率を上げることができない。しかも、剥離したフィルムが基板と同数またはそれ以上別々に生じるため、フィルムの回収作業が面倒である。   However, when peeling the film, it is necessary to perform the peeling operation as many times as the number of substrates (when the film is laminated on both sides of the substrate, the number of times of the number of substrates is two). The efficiency of work cannot be increased. Moreover, since the peeled films are generated in the same number or more separately from the substrate, the film collecting operation is troublesome.

また、ローレットロールやフィルム押圧部材の移動時にフィルムに加わる力が強すぎると、絶縁材層や基板にダメージを与えてしまう可能性が高くなるため、歩留まりの低下につながってしまう。さらに、絶縁材層は、少し傷付いただけでも崩れてしまう脆弱な材料によって形成されている。そのため、絶縁材層の一部が崩れてごみとなってしまう可能性が高い。しかも、そのごみが絶縁材層上に付着すれば、絶縁材層の厚さが一定に保たれなくなる。このことも、歩留まりが低下する要因となっている。   Moreover, since the possibility of damaging an insulating material layer and a board | substrate will become high when the force added to a film at the time of the movement of a knurling roll or a film press member becomes too strong, it will lead to the fall of a yield. Furthermore, the insulating material layer is formed of a fragile material that is broken even if it is slightly damaged. Therefore, there is a high possibility that a part of the insulating material layer collapses and becomes dust. In addition, if the dust adheres to the insulating material layer, the thickness of the insulating material layer cannot be kept constant. This is also a factor that decreases the yield.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、保護フィルムの剥離作業及び回収作業を効率良く行うことができるとともに、歩留まりの低下を抑えることができるフィルム剥離装置を提供することにある。   This invention is made | formed in view of said subject, The objective provides the film peeling apparatus which can suppress the fall of a yield while being able to perform efficiently the peeling operation | work and collection | recovery operation | work of a protective film. There is.

そして上記課題を解決するための手段としては、保護フィルムで保護された絶縁材層を有する基板から前記保護フィルムを剥離する装置であって、前記保護フィルムの外周部分に前記保護フィルムを剥離する契機となる剥離契機部を形成する剥離契機部形成手段と、基板端部同士を近づけた状態で前記基板を複数枚隣接させて支持する基板支持手段と、前記基板支持手段により支持された前記基板の前記剥離契機部において前記保護フィルム同士を繋ぐように、可撓性を有するテープを貼付するテープ貼付手段と、前記テープの貼付によって繋がれた前記保護フィルムを、前記テープを介して順次持ち上げることにより、前記保護フィルムを連続的に剥離する剥離機構とを備えたことを特徴とするフィルム剥離装置がある。   And as a means for solving the above-mentioned problem, it is an apparatus for peeling off the protective film from a substrate having an insulating material layer protected by a protective film, the opportunity for peeling off the protective film on the outer peripheral portion of the protective film. A peeling trigger portion forming means for forming a peeling trigger portion, a substrate supporting means for supporting a plurality of the substrates adjacent to each other in a state where the substrate ends are brought close to each other, and a substrate supporting means supported by the substrate supporting means. By successively lifting the protective film connected by applying the tape and the tape applying means for applying a flexible tape so as to connect the protective films to each other at the peeling opportunity, via the tape There is a film peeling apparatus comprising a peeling mechanism for continuously peeling the protective film.

従って、このフィルム剥離装置では、テープ貼付手段によってテープを貼付することにより、個々の保護フィルムを繋ぐことができる。そして、剥離機構が、テープを介して保護フィルムを順次持ち上げることにより、保護フィルムを連続的に剥離することができる。よって、複数枚の基板に対して剥離作業を行えば、複数枚の保護フィルムをまとめて剥離することができるため、保護フィルムの剥離作業を効率良く行うことができる。また、保護フィルム同士がテープで繋がっているため、複数枚の保護フィルムをまとめて回収することができ、保護フィルムの回収作業を効率良く行うことができる。   Therefore, in this film peeling apparatus, each protective film can be connected by sticking a tape with a tape sticking means. And a peeling mechanism can peel a protective film continuously by raising a protective film sequentially via a tape. Therefore, if a peeling operation is performed on a plurality of substrates, a plurality of protective films can be peeled together, so that the protective film can be efficiently peeled off. Moreover, since the protective films are connected with a tape, a plurality of protective films can be collected together, and the protective film can be collected efficiently.

しかも、この装置では、テープ貼付手段によってテープを貼付してから剥離作業を行うため、保護フィルムの剥離作業によって絶縁材層や基板がダメージを受ける可能性が低くなり、歩留まりの低下を抑えることができる。また、絶縁材層のダメージが小さくなることに伴い、絶縁材層の一部が崩れることによるごみの発生も抑えることができる。ゆえに、そのごみが絶縁材層に悪影響を及ぼすことに起因した歩留まりの低下も抑えられる。   In addition, in this apparatus, since the peeling operation is performed after the tape is applied by the tape applying means, the possibility that the insulating material layer and the substrate are damaged by the peeling operation of the protective film is reduced, and the decrease in the yield can be suppressed. it can. Further, as the damage to the insulating material layer is reduced, the generation of dust due to the collapse of a part of the insulating material layer can be suppressed. Therefore, a decrease in yield due to the dust having an adverse effect on the insulating material layer can be suppressed.

さらに、剥離契機部において保護フィルム同士を繋ぐようにテープを貼付しているため、剥離契機部を基点として、剥離機構が保護フィルムを容易に剥離することができる。   Furthermore, since the tape is stuck so as to connect the protective films at the peeling trigger part, the peeling mechanism can easily peel the protective film from the peeling trigger part.

ここで、保護フィルムを構成する好適な材料としては、可撓性を有する樹脂や紙などを挙げることができる。これらの材料は、絶縁材層へのダメージが少ないこと、安価であること、薄く形成しても丈夫なことなどを考慮して適宜選択される。保護フィルムに使用される樹脂材料の具体例としては、PET樹脂(ポリエチレンテレフタレート樹脂)、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)などがある。   Here, as a suitable material which comprises a protective film, resin, paper, etc. which have flexibility can be mentioned. These materials are appropriately selected in consideration of little damage to the insulating material layer, low cost, and durability even when formed thin. Specific examples of the resin material used for the protective film include PET resin (polyethylene terephthalate resin), EP resin (epoxy resin), and PI resin (polyimide resin).

なお、保護フィルムの外周部分に形成される剥離契機部は、保護フィルムを貫通する複数の貫通孔であることが好ましい。この場合、貫通孔の周囲には空気溜りが生じるため、この空気溜りが生じた部分と基板との間に密着力が作用しなくなる。よって、空気溜りを基点として、剥離機構が保護フィルムを容易に剥離することができる。   In addition, it is preferable that the peeling opportunity part formed in the outer peripheral part of a protective film is a some through-hole which penetrates a protective film. In this case, since an air pool is generated around the through hole, the adhesion force does not act between the portion where the air pool is generated and the substrate. Therefore, the peeling mechanism can easily peel off the protective film from the air pocket.

なお、貫通孔の内径は特に限定されないが、例えば0.1mm以上1.5mm以下であることがよく、0.5mm以上1.0mm以下であることがよりよい。かかる直径が0.1mm以下であると、小さな空気溜りしか生じないため、空気溜りを基点として保護フィルムを剥離しようとしても、上手く剥離できない可能性があるからである。かかる直径が1.5mm以上であると、貫通孔を形成するときに貫通孔の端縁からクラックが発生する可能性があるからである。   In addition, although the internal diameter of a through-hole is not specifically limited, For example, it is preferable that they are 0.1 mm or more and 1.5 mm or less, and it is more preferable that they are 0.5 mm or more and 1.0 mm or less. This is because if the diameter is 0.1 mm or less, only a small air pocket is generated, so that even if the protective film is peeled off from the air pool, the protective film may not be peeled off successfully. This is because when the diameter is 1.5 mm or more, cracks may occur from the edge of the through hole when the through hole is formed.

また、貫通孔は、保護フィルムの進行方向側端のエッジに沿って一直線上に配置されるとともに、基板の進行方向に直交して一列だけ存在することが好ましい。複数の貫通孔が基板の進行方向に直交して複数列存在すると、絶縁材層や基板が貫通孔の形成によってダメージを受ける範囲が大きくなるため、絶縁材層において配線基板の構成に必要となる部分が傷付けられてしまう可能性がある。   Moreover, it is preferable that a through-hole is arrange | positioned on a straight line along the edge of the advancing direction side edge of a protective film, and exists only in 1 row orthogonal to the advancing direction of a board | substrate. If a plurality of through holes exist in a plurality of rows perpendicular to the direction of travel of the substrate, the range of damage to the insulating material layer and the substrate due to the formation of the through holes is increased, and thus the insulating material layer is necessary for the configuration of the wiring board. The part may be damaged.

なお、隣接する貫通孔間の中心間距離は、例えば1.0mm以上10mm以下であることがよく、特には2.5mm以上7.5mm以下であることがよりよい。かかる中心間距離が2.5mm未満であると、空気溜りが生じた部分のみが剥離されてしまい、保護フィルムの他の部分が剥離されずに絶縁材層上に残る可能性が高くなる。かかる中心間距離が7.5mmよりも長いと、前記テープ貼付手段によって前記テープを空気溜りが生じた部分全体に貼付することが困難となる。   The center-to-center distance between adjacent through holes is preferably 1.0 mm or more and 10 mm or less, and more preferably 2.5 mm or more and 7.5 mm or less. If the center-to-center distance is less than 2.5 mm, only the portion where the air accumulation has occurred is peeled off, and there is a high possibility that other portions of the protective film will remain on the insulating material layer without being peeled off. When the center-to-center distance is longer than 7.5 mm, it is difficult to apply the tape to the entire portion where the air pool is generated by the tape applying means.

基板とは、樹脂材料またはセラミック材料などを主体として構成された基板のことを意味する。樹脂材料を主体として構成された基板の具体例としては、EP樹脂(エポキシ樹脂)基板、PI樹脂(ポリイミド樹脂)基板、BT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)基板、PPE樹脂(ポリフェニレンエーテル樹脂)基板などがある。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料からなる基板を使用してもよい。あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料からなる基板等を使用してもよい。また、セラミック材料を主体として構成された基板の具体例としては、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ほう素、炭化珪素、窒化珪素などのセラミック材料からなる基板などがある。   The substrate means a substrate composed mainly of a resin material or a ceramic material. Specific examples of substrates composed mainly of resin materials include EP resin (epoxy resin) substrates, PI resin (polyimide resin) substrates, BT resin (bismaleimide-triazine resin) substrates, and PPE resin (polyphenylene ether resin) substrates. and so on. In addition, a substrate made of a composite material of these resins and organic fibers such as glass fibers (glass woven fabric or glass nonwoven fabric) or polyamide fibers may be used. Alternatively, a substrate made of a resin-resin composite material obtained by impregnating a thermosetting resin such as an epoxy resin with a three-dimensional network fluorine-based resin base material such as continuous porous PTFE may be used. Specific examples of the substrate mainly composed of a ceramic material include a substrate made of a ceramic material such as alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, and silicon nitride.

前記基板支持手段は基板を略水平に支持して搬送するローラなどの部材を備えている。基板支持手段は、基板端部同士を近づけた状態で基板を複数枚隣接させる場合のみ、即ち、基板の位置決めを行う場合のみに、基板を支持する支持台を備えることが好ましい。基板の位置決めを行う場合のみに基板を支持する具体的な構成としては、基板の位置決めを行う場合に支持台を上動させて基板に接触させるとともに、基板の位置決めを行わない場合に支持台を下動させて基板から離間させるアクチュエータなどが挙げられる。このようにすれば、基板の位置決めを行う場合に支持台によって基板が支持されるため、基板を正確に位置決めすることができる。また、基板の位置決めを行わない場合、例えば、基板を後工程に移動させる場合、基板が支持台に接触して抵抗とならなくなる。よって、基板の移動が容易になる。   The substrate support means includes a member such as a roller for supporting and transporting the substrate substantially horizontally. The substrate support means preferably includes a support base that supports the substrate only when a plurality of substrates are adjacent to each other with the substrate ends close to each other, that is, only when the substrate is positioned. As a specific configuration for supporting the substrate only when positioning the substrate, the support base is moved up and brought into contact with the substrate when positioning the substrate, and the support base when the substrate is not positioned. For example, an actuator that is moved downward and separated from the substrate can be used. In this way, since the substrate is supported by the support when the substrate is positioned, the substrate can be accurately positioned. Further, when the substrate is not positioned, for example, when the substrate is moved to a subsequent process, the substrate comes into contact with the support base and does not become a resistance. Therefore, the movement of the substrate is facilitated.

ここで、前記テープの基材となる好適な材料としては、樹脂や紙などを挙げることができる。これらの材料は、可撓性を有することなどを考慮して適宜選択される。仮に、可撓性を有しない材料で基材を形成すると、テープを貼付した保護フィルムを巻き取りにくくなり、保護フィルムの回収が困難になるからである。また、これらの材料は、安価であること、薄く形成しても丈夫なことなどを考慮して適宜選択される。テープの基材に使用される樹脂材料の具体例としては、PET樹脂(ポリエチレンテレフタレート樹脂)、PVC樹脂(塩化ビニル樹脂)、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)などが挙げられる。なお、テープの基材を保護フィルムと同じ材料で形成すれば、分別が容易になり、材料の再利用がしやすくなる。   Here, examples of suitable materials for the base material of the tape include resin and paper. These materials are appropriately selected in consideration of flexibility. If the base material is formed of a material having no flexibility, it is difficult to wind up the protective film with the tape attached thereto, and it is difficult to collect the protective film. Further, these materials are appropriately selected in consideration of being inexpensive and being strong even if formed thin. Specific examples of the resin material used for the base material of the tape include PET resin (polyethylene terephthalate resin), PVC resin (vinyl chloride resin), EP resin (epoxy resin), PI resin (polyimide resin), and the like. In addition, if the base material of a tape is formed with the same material as a protective film, separation will become easy and reuse of a material will become easy.

また、テープは、基材の裏面側に粘着層を有しないものであっても粘着層を有するものであってもよいが、粘着層を有する粘着テープであることが好ましい。このようにすれば、テープを貼付する際に、テープの裏側などに粘着材を塗布したりしなくても済むため、テープを効率的に貼付することができる。また、テープを貼付する際に熱などを加えたりしなくても済むため、熱などが絶縁材層に悪影響を及ぼすおそれがなく、それに起因した歩留まりの低下を抑えることができる。   Further, the tape may be one having no adhesive layer on the back side of the substrate or one having an adhesive layer, but is preferably an adhesive tape having an adhesive layer. In this way, when the tape is applied, it is not necessary to apply an adhesive material to the back side of the tape, so that the tape can be applied efficiently. In addition, since it is not necessary to apply heat or the like when applying the tape, heat or the like is not likely to adversely affect the insulating material layer, and a decrease in yield due to the heat can be suppressed.

粘着層を有するテープ(粘着テープ)としては、セロハンテープ、ビニールテープ、アルミテープなどが挙げられる。特に、セロハンテープは、基板へのダメージが少ない点、安価である点、薄く形成しても丈夫な点で好ましい。一方、粘着層を有しないテープの具体例としては、紙テープなどが挙げられる。   Examples of the tape having an adhesive layer (adhesive tape) include cellophane tape, vinyl tape, aluminum tape and the like. In particular, the cellophane tape is preferable in that it is less damaging to the substrate, is inexpensive, and is durable even if formed thin. On the other hand, a paper tape etc. are mentioned as a specific example of the tape which does not have an adhesion layer.

なお、前記テープ貼付手段は、保護フィルムの外周部分のみにテープを貼付してもよいし、保護フィルムの外周部分だけでなく中心部分にも達するようにテープを貼付してもよいが、保護フィルムの外周部分のみにテープを貼付することが好ましい。このようにすれば、保護フィルムを繋ぐのに長いテープを必要としないため、テープの使用量を低減させることができる。また、テープ貼付手段は、前記剥離契機部が形成された部分、具体的には、前記貫通孔の周囲に生じた空気溜りの部分にテープを貼付することが好ましい。このようにすれば、基板との間に密着力が作用しない空気溜りを基点として保護フィルムを剥離できるため、剥離作業がよりいっそう容易になる。   The tape applying means may apply the tape only to the outer peripheral portion of the protective film, or may apply the tape to reach the central portion as well as the outer peripheral portion of the protective film. It is preferable to affix a tape only to the outer peripheral part. In this way, since a long tape is not required to connect the protective films, the amount of tape used can be reduced. Moreover, it is preferable that a tape sticking means sticks a tape to the part in which the said peeling opportunity part was formed, specifically, the part of the air pocket produced around the said through-hole. If it does in this way, since a protective film can be peeled on the basis of the air pocket which adhesive force does not act between board | substrates, peeling work becomes still easier.

また、前記テープ貼付手段は、前記テープを繰り出すテープ繰出手段と、前記テープ繰出手段によって繰り出された前記テープを切断するテープ切断手段と、前記テープ繰出手段によって繰り出された前記テープを前記基板の基板端部に押し付けるテープ押付手段とを備えることが好ましい。   The tape sticking means includes a tape feeding means for feeding the tape, a tape cutting means for cutting the tape fed by the tape feeding means, and the tape fed by the tape feeding means as a substrate of the substrate. It is preferable to include a tape pressing unit that presses against the end.

ここで、テープ繰出手段は、保護フィルムの外周部分において、基板の進行方向と直交する方向に沿ってテープを繰り出すものであってもよいし、基板の進行方向に沿ってテープを繰り出すものであってもよいが、基板の進行方向に沿ってテープを繰り出すものであることが好ましい。このようにすれば、保護フィルムを繋ぐのに長いテープを必要としないため、テープの使用量を低減させることができる。なお、基板の進行方向に沿ってテープを繰り出す場合、テープを複数箇所に貼付することによって保護フィルムを繋ぐようにすることが好ましい。仮に、テープを1箇所のみに貼付することによって保護フィルムを繋ぐと、テープを介して保護フィルムを持ち上げたときにテンションが1箇所に集中してしまうため、テープが剥れたり破れたりして、保護フィルム同士が離れてしまう可能性が高くなる。   Here, the tape feeding means may feed the tape along the direction perpendicular to the substrate traveling direction at the outer peripheral portion of the protective film, or may feed the tape along the substrate traveling direction. However, it is preferable that the tape is fed out along the traveling direction of the substrate. In this way, since a long tape is not required to connect the protective films, the amount of tape used can be reduced. In addition, when extending | stretching a tape along the advancing direction of a board | substrate, it is preferable to attach a protective film by sticking a tape in multiple places. If the protective film is connected by affixing the tape to only one place, the tension will be concentrated in one place when the protective film is lifted through the tape. There is a high possibility that the protective films are separated from each other.

前記剥離機構は、前記テープの貼付によって繋がれた前記保護フィルムを持ち上げる方向に引っ張る引張手段と、前記基板上にある剥離前の前記保護フィルムに当接するように配置され、前記保護フィルムを自身の周面に沿って前記引張手段側にガイドするガイドローラと、前記ガイドローラの回転軸が前記基板端部よりも基板中心寄りに位置するように前記ガイドローラを位置決め可能なガイドローラ位置決め機構とを備えることが好ましい。   The peeling mechanism is arranged so as to abut on the protective film before peeling on the substrate, and a pulling means for pulling the protective film connected by the tape sticking in a direction to lift the protective film. A guide roller that guides to the tension means side along a peripheral surface, and a guide roller positioning mechanism that can position the guide roller so that a rotation shaft of the guide roller is positioned closer to the substrate center than the substrate end. It is preferable to provide.

このようにすれば、ガイドローラが保護フィルムに当接するように配置されているため、保護フィルムを持ち上げる際の基板の浮き上がりを防止できる。よって、保護フィルムを剥離した基板を確実に後工程に搬送することができる。また、仮に、ガイドローラの回転軸が基板端部よりも基板外側に位置するようにガイドローラが位置決めされていると、保護フィルムを剥しきれずに基板に残ってしまう可能性がある。一方、本発明によれば、ガイドローラ位置決め機構により、ガイドローラの回転軸が基板端部よりも基板中心寄りに位置するようにガイドローラを位置決め可能となっている。この場合、基板から保護フィルム全体を確実に剥離することができる。   If it does in this way, since it has been arranged so that the guide roller contacts the protective film, it is possible to prevent the substrate from being lifted when the protective film is lifted. Therefore, the board | substrate which peeled the protective film can be reliably conveyed to a post process. Further, if the guide roller is positioned so that the rotation axis of the guide roller is positioned outside the substrate end portion, the protective film may not be peeled off and may remain on the substrate. On the other hand, according to the present invention, the guide roller positioning mechanism can position the guide roller so that the rotation axis of the guide roller is located closer to the substrate center than the end portion of the substrate. In this case, the entire protective film can be reliably peeled from the substrate.

また、フィルム剥離装置は、前記基板支持手段における前記基板の基板端部の位置を検出する基板位置検出手段と、前記基板位置検出手段の検出結果に基づいて、前記基板端部間に隙間を設けた状態で前記基板を配置する基板配置手段とを備えることが好ましい。仮に、保護フィルムが基板の外周部からはみ出している場合に基板端部同士を接触させると、保護フィルムが基板の下側に潜り込んだりして、保護フィルムの剥離が困難になるからである。また、このようにすれば、基板位置検出手段の検出結果に基づいて、基板配置手段が基板の位置を調整するため、より確実に基板端部間に隙間を設けることができる。   Further, the film peeling apparatus provides a gap between the substrate position detecting means for detecting the position of the substrate end portion of the substrate in the substrate supporting means and the detection result of the substrate position detecting means. It is preferable that the apparatus includes a substrate placement unit that places the substrate in a state where the substrate is placed. If the protective film protrudes from the outer peripheral portion of the substrate, if the substrate ends are brought into contact with each other, the protective film will sink under the substrate, making it difficult to peel off the protective film. Further, according to this configuration, since the substrate placement unit adjusts the position of the substrate based on the detection result of the substrate position detection unit, it is possible to more reliably provide a gap between the substrate end portions.

なお、隙間の大きさは、0.7mm以上1.3mm以下に設定されることが好ましい。かかる隙間が0.7mm以下であると、保護フィルムが基板の下側に潜り込んだりする可能性が高くなる。一方、かかる隙間が1.3mm以上であると、保護フィルムを繋ぐ際に必要となるテープが長くなる。また、保護フィルムを繋いだ際に弱い区間(テープだけの区間)が長くなるため、テープが切れやすくなる。   The size of the gap is preferably set to 0.7 mm or more and 1.3 mm or less. When this gap is 0.7 mm or less, the possibility that the protective film will sink under the substrate increases. On the other hand, when the gap is 1.3 mm or more, the tape required for connecting the protective films becomes long. Moreover, when a protective film is connected, since a weak section (section only of a tape) becomes long, it becomes easy to cut a tape.

また、フィルム剥離装置は、前記剥離機構によって剥離された前記保護フィルムを巻き取って回収するフィルム巻取手段を備えることが好ましい。仮に、保護フィルムをごみ箱内に落として回収する場合、回収した保護フィルムが嵩張ってしまうため、廃棄に手間が掛かってしまう。それに対して、本発明によれば、保護フィルムを巻き取って回収するため、保護フィルムを小さくまとめることができ、廃棄が容易になる。   Moreover, it is preferable that a film peeling apparatus is provided with the film winding means to wind up and collect | recover the said protective films peeled by the said peeling mechanism. If the protective film is dropped into the trash box and collected, the collected protective film becomes bulky, which takes time for disposal. On the other hand, according to this invention, since a protective film is wound up and collect | recovered, a protective film can be packed small and disposal becomes easy.

前記フィルム巻取手段は、前記剥離機構によって剥離された前記保護フィルムが巻き付けられる芯体と、前記芯体を回転可能に支持する芯体支持手段と、前記芯体を回転駆動させる芯体駆動手段と、前記芯体と前記芯体駆動手段との間の回転駆動力の伝達量を調整するクラッチ機構とを備えることが好ましい。このようにした場合、保護フィルムが芯体に巻き付けられていって、芯体において保護フィルムが巻き付けられた部分の外径が大きくなった場合に、クラッチ機構によって回転駆動力の伝達量を小さくすれば、芯体の回転速度を遅くすることができる。これにより、保護フィルムの周速を一定に維持することができ、前記剥離機構によって保護フィルムを剥離する速度と同程度にすることができる。よって、保護フィルムの周速が大きくなり過ぎることによるテープの切断を防ぐことができる。   The film winding means includes a core body around which the protective film peeled off by the peeling mechanism is wound, a core body support means that rotatably supports the core body, and a core body driving means that rotationally drives the core body. And a clutch mechanism for adjusting a transmission amount of the rotational driving force between the core body and the core body driving means. In this case, when the protective film is wound around the core body and the outer diameter of the portion of the core body where the protective film is wound is increased, the transmission amount of the rotational driving force is reduced by the clutch mechanism. In this case, the rotational speed of the core can be reduced. Thereby, the peripheral speed of a protective film can be maintained constant, and it can be made comparable as the speed | rate which peels a protective film with the said peeling mechanism. Therefore, it is possible to prevent the tape from being cut due to an excessive increase in the peripheral speed of the protective film.

なお、前記芯体は、前記芯体支持手段によって着脱可能に支持されることが好ましい。このようにすれば、例えば、芯体に保護フィルムが巻き付けられていって、これ以上保護フィルムを巻き付けられなくなった場合であっても、芯体を交換することで、再び保護フィルムの回収を容易に行うことができる。   The core body is preferably detachably supported by the core body support means. In this way, for example, even when the protective film is wound around the core and the protective film can no longer be wound around, the protective film can be easily recovered again by replacing the core. Can be done.

ここで、芯体を構成する好適な材料としては、金属、樹脂、紙などを挙げることができる。特に、樹脂や紙などは、廃棄が容易であるという点で好ましい。さらに、芯体を保護フィルムと同じ材料で形成すれば、分別が容易になり、材料の再利用がしやすくなる。芯体に使用される樹脂材料の具体例としては、PET樹脂(ポリエチレンテレフタレート樹脂)、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)などがある。   Here, metal, resin, paper, etc. can be mentioned as a suitable material which comprises a core. In particular, resin and paper are preferable because they can be easily discarded. Furthermore, if the core is formed of the same material as the protective film, it becomes easy to separate and reuse the material. Specific examples of the resin material used for the core include PET resin (polyethylene terephthalate resin), EP resin (epoxy resin), and PI resin (polyimide resin).

また、前記保護フィルムが前記基板の両面に設けられる場合、両面にある前記保護フィルムのうちいずれか一方が前記基板から剥離された後に前記基板を反転させる反転機構を備えることが好ましい。この場合、両面にある保護フィルムのうちいずれか一方が剥離された基板を反転機構で反転させれば、もう一方の面の保護フィルムに対しても剥離作業を行うことができるため、両面の保護フィルムを剥離することができる。また、テープ貼付手段や剥離機構などの配置態様を変更しなくても、両面の保護フィルムを剥離することができる。なお、フィルム剥離装置は、前記反転機構によって反転された基板を前記テープ貼付手段に戻す基板戻し機構を備えることが好ましい。このようにすれば、両面の保護フィルムを剥離する必要があったとしても、テープ貼付手段や剥離機構などは1組で済む。   Moreover, when the said protective film is provided in both surfaces of the said board | substrate, it is preferable to provide the inversion mechanism which reverses the said board | substrate after either one of the said protective films in both surfaces peels from the said board | substrate. In this case, if the substrate from which either one of the protective films on both sides is peeled is reversed by the reversing mechanism, the peeling operation can be performed on the protective film on the other side, so that both sides are protected. The film can be peeled off. Moreover, even if it does not change arrangement | positioning aspects, such as a tape sticking means and a peeling mechanism, a protective film of both surfaces can be peeled. In addition, it is preferable that a film peeling apparatus is provided with the board | substrate return mechanism which returns the board | substrate reversed by the said inversion mechanism to the said tape sticking means. In this way, even if it is necessary to peel off the protective films on both sides, only one set of the tape applying means and the peeling mechanism is required.

次に、上記のフィルム剥離装置の使用方法の一例として、これを用いた配線基板の製造方法の具体例を以下に示す。   Next, as an example of a method for using the film peeling apparatus, a specific example of a method for manufacturing a wiring board using the same will be described below.

まず、保護フィルムで保護された絶縁材層を有する基板を搬送し、保護フィルムの外周部分に保護フィルムを剥離する契機となる剥離契機部を形成する剥離契機部形成工程を実施する。剥離契機部形成工程の具体例としては、保護フィルムの外周部分を針で穿孔して貫通孔(剥離契機部)を形成する貫通孔形成工程などが挙げられる。   First, the peeling trigger part formation process which conveys the board | substrate which has the insulating material layer protected by the protective film, and forms the peeling opportunity part used as the opportunity which peels a protective film in the outer peripheral part of a protective film is implemented. As a specific example of a peeling trigger part formation process, the through-hole formation process etc. which perforate the outer peripheral part of a protective film with a needle | hook and form a through-hole (peeling trigger part) are mentioned.

剥離契機部形成工程後、テープ貼付工程を実施する。具体的には、まず、基板端部同士に隙間を設けた状態で、基板を複数枚隣接させて配置する。そして、可撓性を有するテープを、保護フィルム同士を繋ぐように貼付する。具体的には、テープ繰出手段によって保護フィルム上にテープを繰り出し、テープ繰出手段によって繰り出されたテープをテープ切断手段によって切断した後、テープ切断手段によって切断されたテープをテープ押付手段によって基板の基板端部に押し付ける。これにより、テープが保護フィルム同士を繋ぐように貼付される。なお、テープ繰出手段によって繰り出されたテープをテープ押付手段によって基板の基板端部に押し付けた後、テープをテープ切断手段によって切断するようにしてもよい。   A tape sticking process is implemented after a peeling opportunity part formation process. Specifically, first, a plurality of substrates are arranged adjacent to each other with a gap provided between the substrate end portions. And the tape which has flexibility is stuck so that protection films may be connected. Specifically, the tape is fed onto the protective film by the tape feeding means, the tape fed by the tape feeding means is cut by the tape cutting means, and then the tape cut by the tape cutting means is used as the substrate substrate by the tape pressing means. Press against the edge. Thereby, a tape is stuck so that protection films may be connected. The tape may be cut by the tape cutting unit after the tape fed by the tape feeding unit is pressed against the substrate end of the substrate by the tape pressing unit.

テープ貼付工程後、互いに繋がれた保護フィルムを、テープを介して順次持ち上げることにより、保護フィルムを連続的に剥離して絶縁材層を基板に残す剥離工程を実施する。剥離工程では、基板上にある剥離前の保護フィルムに当接するようにガイドローラを配置し、その回転軸を基板端部よりも基板の中心寄りに位置させる。そして、テープの貼付によって繋がれた保護フィルムを、そのガイドローラの周面に沿って引っ張りながら持ち上げるようにする。このようにすれば、剥離機構によって保護フィルムを容易に剥離することができる。また、剥離工程において保護フィルムに熱を与えたりしなくても済むので、絶縁材層の変性(例えば熱硬化)を未然に防止することができる。   After the tape sticking step, the protective film connected to each other is sequentially lifted through the tape to perform a peeling step of continuously peeling the protective film and leaving the insulating material layer on the substrate. In the peeling step, a guide roller is disposed so as to abut on the protective film before peeling on the substrate, and the rotation axis thereof is positioned closer to the center of the substrate than the substrate end. Then, the protective film connected by applying the tape is lifted while being pulled along the peripheral surface of the guide roller. If it does in this way, a protective film can be easily peeled with a peeling mechanism. In addition, since it is not necessary to heat the protective film in the peeling step, it is possible to prevent the insulating material layer from being modified (for example, thermosetting).

なお、剥離工程後、剥離された前記保護フィルムを巻き取って回収する保護フィルム回収工程を実施してもよい。このようにすれば、基板から保護フィルムが完全に剥離され、絶縁材層が基板上に残るようになる。また、このように保護フィルムを巻き取ってロール状にすれば、廃棄物の減容にもつながる。   In addition, you may implement the protective film collection | recovery process which winds up and collects the said protective film peeled after the peeling process. If it does in this way, a protective film will peel from a board | substrate completely and an insulating material layer will come to remain on a board | substrate. Further, if the protective film is wound up into a roll shape in this way, the volume of waste is reduced.

さらに、テープ貼付工程を剥離契機部形成工程よりも先に実施してもよい。即ち、テープ貼付工程を実施し、テープ貼付工程後、剥離契機部形成工程においてテープを貼付した部分に剥離契機部を形成し、剥離契機部形成工程後に剥離工程を実施するようにしてもよい。   Furthermore, you may implement a tape sticking process before a peeling trigger part formation process. That is, a tape sticking process may be performed, and after the tape sticking process, a peeling trigger part may be formed in a part where the tape is stuck in the peeling trigger part forming process, and the peeling process may be performed after the peeling trigger part forming process.

そして、このようなフィルム剥離装置を用いれば、保護フィルムを高い確率で剥離することができる。よって、配線基板を効率よく製造することが可能となる。   And if such a film peeling apparatus is used, a protective film can be peeled with high probability. Therefore, it becomes possible to manufacture a wiring board efficiently.

以下、本発明を配線基板製造用のフィルム剥離装置に具体化した一実施形態を図1〜図10に基づき詳細に説明する。   Hereinafter, an embodiment in which the present invention is embodied in a film peeling apparatus for manufacturing a wiring board will be described in detail with reference to FIGS.

図1には、本実施形態のフィルム剥離装置1が全体的に示されている。このフィルム剥離装置1は、フィルム穿孔機構2、テープ貼付機構5(テープ貼付手段)、フィルム剥離機構4(剥離機構)及び基板搬出機構3を備えている。フィルム穿孔機構2は、保護フィルム12で保護された層間絶縁材14(絶縁材層)を有する基板15の前記保護フィルム12に貫通孔16を形成(図4参照)した後、その基板15をテープ貼付機構5に搬送する。テープ貼付機構5は、隣接する基板15の保護フィルム12同士を繋ぐように、可撓性を有するテープ31を貼付した後、それらの基板15をフィルム剥離機構4に搬送する。フィルム剥離機構4は、テープ31の貼付によって繋がれた保護フィルム12を、テープ31を介して順次持ち上げることにより、保護フィルム12を連続的に剥離する作業を行った後、それらの基板15を基板搬出機構3に搬送する。基板搬出機構3は、フィルム剥離機構4において剥離作業が終了した基板15をフィルム剥離装置1から搬出する。このフィルム剥離装置1は、基板15上にビルドアップ層を形成してビルドアップ多層樹脂配線基板(配線基板)を製造するときに用いられるものである。なお、ビルドアップ層とは、層間絶縁層と導体層とを交互に積層してなるものである。   FIG. 1 generally shows a film peeling apparatus 1 of the present embodiment. The film peeling apparatus 1 includes a film punching mechanism 2, a tape sticking mechanism 5 (tape sticking means), a film peeling mechanism 4 (peeling mechanism), and a substrate carry-out mechanism 3. The film perforation mechanism 2 forms a through hole 16 in the protective film 12 of the substrate 15 having the interlayer insulating material 14 (insulating material layer) protected by the protective film 12 (see FIG. 4), and then the substrate 15 is taped. It is conveyed to the sticking mechanism 5. The tape applying mechanism 5 applies a flexible tape 31 so as to connect the protective films 12 of the adjacent substrates 15, and then conveys the substrates 15 to the film peeling mechanism 4. The film peeling mechanism 4 performs the operation of continuously peeling the protective film 12 by sequentially lifting the protective film 12 connected by the application of the tape 31 through the tape 31, and then the substrates 15 are transferred to the substrate 15. Transport to the unloading mechanism 3. The substrate carry-out mechanism 3 carries out the substrate 15 that has been peeled off in the film peeling mechanism 4 from the film peeling apparatus 1. The film peeling apparatus 1 is used when a buildup layer is formed on a substrate 15 to manufacture a buildup multilayer resin wiring substrate (wiring substrate). The build-up layer is formed by alternately laminating interlayer insulating layers and conductor layers.

図2,図4などには、このフィルム剥離装置1による作業対象となる基板15が示されている。この基板15は、ビルドアップ多層樹脂配線基板におけるコア基板であって、例えば基材の両面に導体層を有するものが使用される。基板15の上面全体には層間絶縁材14が貼付されている。この層間絶縁材14は、例えば感光性エポキシ樹脂からなっている。さらに、この層間絶縁材14の表層部は、PET(ポリエチレンテレフタレート)製の保護フィルム12によって保護されている。また、保護フィルム12の外周部分における進行方向側端部には、保護フィルム12を剥離する契機となる複数の貫通孔16(剥離契機部)が形成されている。本実施形態では、貫通孔16の直径が約1.0mmに設定され、隣接する貫通孔16の中心間距離が約3mmに設定されている。また、貫通孔16と基板15の進行方向側端との距離は、約6mmに設定されている。なお、各貫通孔16は、保護フィルム12の進行方向側端のエッジ部13に沿って一直線上に配置されている。また、各貫通孔16は、基板15の進行方向に直交して一列だけ存在している。これらの貫通孔16は、フィルム穿孔機構2が有する針57の位置に対応している。   In FIG. 2, FIG. 4, etc., the board | substrate 15 used as the work object by this film peeling apparatus 1 is shown. The substrate 15 is a core substrate in a build-up multilayer resin wiring substrate, and for example, a substrate having conductor layers on both surfaces of a base material is used. An interlayer insulating material 14 is attached to the entire top surface of the substrate 15. The interlayer insulating material 14 is made of, for example, a photosensitive epoxy resin. Further, the surface layer portion of the interlayer insulating material 14 is protected by a protective film 12 made of PET (polyethylene terephthalate). In addition, a plurality of through holes 16 (peeling trigger parts) serving as a trigger for peeling the protective film 12 are formed at the end portion on the traveling direction side in the outer peripheral portion of the protective film 12. In the present embodiment, the diameter of the through hole 16 is set to about 1.0 mm, and the distance between the centers of the adjacent through holes 16 is set to about 3 mm. The distance between the through hole 16 and the end of the substrate 15 in the traveling direction is set to about 6 mm. In addition, each through-hole 16 is arrange | positioned on the straight line along the edge part 13 of the advancing direction side edge of the protective film 12. In addition, each through hole 16 is present in only one row perpendicular to the traveling direction of the substrate 15. These through holes 16 correspond to the positions of the needles 57 included in the film punching mechanism 2.

図1に示されるように、前記フィルム穿孔機構2は、複数の基板支持ローラ8や針57などによって構成されている。基板支持ローラ8は、基板15を下側から支持し、基板15の移動に伴って回転するようになっている。針57(剥離契機部形成手段)は、保護フィルム12の外周部分を穿孔して貫通孔16を形成するためのものである。そして、針57を保護フィルム12から抜去する動作が行われると、保護フィルム12において貫通孔16が形成された部分の周囲に空気溜り17(図4〜図8参照)が生じる。   As shown in FIG. 1, the film punching mechanism 2 includes a plurality of substrate support rollers 8 and needles 57. The substrate support roller 8 supports the substrate 15 from below and rotates as the substrate 15 moves. The needle 57 (peeling trigger part forming means) is for forming the through hole 16 by perforating the outer peripheral portion of the protective film 12. And if the operation | movement which removes the needle | hook 57 from the protective film 12 is performed, the air pocket 17 (refer FIGS. 4-8) will arise around the part in which the through-hole 16 was formed in the protective film 12. FIG.

図1,図2,図6,図7に示されるように、前記テープ貼付機構5は、基板15の基板端部18と進行方向側にある別の基板15の基板端部19とにおいて、保護フィルム12同士を繋ぐようにテープ31を離間した2箇所に貼付するようになっている。換言すると、テープ貼付機構5は、保護フィルム12において空気溜り17が生じた部分と、進行方向側にある別の基板15の保護フィルム12の外周部分とを繋ぐように、テープ31を貼付するようになっている。本実施形態では、テープ31は、裏面側に粘着層を有する粘着テープを用いている。   As shown in FIGS. 1, 2, 6, and 7, the tape applying mechanism 5 protects the substrate end 18 of the substrate 15 and the substrate end 19 of another substrate 15 on the traveling direction side. The tape 31 is attached to two spaced locations so as to connect the films 12 together. In other words, the tape applying mechanism 5 applies the tape 31 so as to connect the portion of the protective film 12 where the air pocket 17 is generated and the outer peripheral portion of the protective film 12 of another substrate 15 on the traveling direction side. It has become. In the present embodiment, the tape 31 uses an adhesive tape having an adhesive layer on the back side.

図1に示されるように、テープ貼付機構5はテープ繰出機構61(テープ繰出手段)を備えている。テープ繰出機構61は、テープ繰出ローラ64、ゴムローラ65及びテープ案内ローラ66を備えている。テープ繰出ローラ64は、テープ繰出用モータ(図示略)によって回転駆動されることにより、基板15の進行方向に沿ってテープ31を繰り出すようになっている。なお、テープ繰出ローラ64の外周面には複数の凹凸が設けられ、テープ繰出ローラ64の外周面はテープ31の裏面側(粘着層側)に当接するようになっている。これにより、テープ繰出ローラ64とテープ31との接触面積が小さくなるため、テープ繰出ローラ64へのテープ31の貼着が防止される。また、ゴムローラ65は、テープ31の表面側に当接し、テープ31の繰り出しに伴って回転するようになっている。なお、このゴムローラ65とテープ繰出ローラ64とにより、テープ31が挟持されるようになっている。また、テープ案内ローラ66は、テープ31の裏面側に当接し、テープ31の繰り出しに伴って回転するようになっている。そして、テープ案内ローラ66は、テープ繰出ローラ64によって繰り出されたテープ31を基板15上に案内するようになっている。   As shown in FIG. 1, the tape applying mechanism 5 includes a tape feeding mechanism 61 (tape feeding means). The tape feeding mechanism 61 includes a tape feeding roller 64, a rubber roller 65, and a tape guide roller 66. The tape supply roller 64 is driven to rotate by a tape supply motor (not shown) so as to supply the tape 31 along the traveling direction of the substrate 15. A plurality of irregularities are provided on the outer peripheral surface of the tape feeding roller 64, and the outer peripheral surface of the tape feeding roller 64 is in contact with the back surface side (adhesive layer side) of the tape 31. Thereby, since the contact area of the tape supply roller 64 and the tape 31 becomes small, sticking of the tape 31 to the tape supply roller 64 is prevented. Further, the rubber roller 65 abuts on the surface side of the tape 31 and rotates as the tape 31 is fed. The tape 31 is sandwiched between the rubber roller 65 and the tape feeding roller 64. The tape guide roller 66 is in contact with the back side of the tape 31 and rotates as the tape 31 is fed. The tape guide roller 66 guides the tape 31 fed by the tape feed roller 64 onto the substrate 15.

また、図1に示されるテープ貼付機構5は、テープカッター62(テープ切断手段)及びテープ押付ローラ63(テープ押付手段)を備えている。テープカッター62は、エアシリンダ67のロッド先端に取り付けられている。テープカッター62は、エアシリンダ67の駆動により上下動し、テープ繰出ローラ64によって繰り出されたテープ31を切断するようになっている(図6参照)。また、テープ押付ローラ63は、エアシリンダ68のロッド先端に取り付けられており、エアシリンダ68の駆動により上下動するようになっている。テープ押付ローラ63は、テープ繰出ローラ64によって繰り出されたテープ31の表面に当接した状態で、回転しながら基板15の進行方向(矢印F1,F2方向)に沿って移動するようになっている(図7参照)。これにより、テープ押付ローラ63は、テープ31を基板15の前記基板端部18,19に押し付ける。   Moreover, the tape sticking mechanism 5 shown in FIG. 1 includes a tape cutter 62 (tape cutting means) and a tape pressing roller 63 (tape pressing means). The tape cutter 62 is attached to the rod tip of the air cylinder 67. The tape cutter 62 moves up and down by driving the air cylinder 67 and cuts the tape 31 fed by the tape feeding roller 64 (see FIG. 6). The tape pressing roller 63 is attached to the rod tip of the air cylinder 68 and moves up and down by driving the air cylinder 68. The tape pressing roller 63 moves along the traveling direction (arrow F1, F2 direction) of the substrate 15 while rotating while in contact with the surface of the tape 31 fed by the tape feeding roller 64. (See FIG. 7). As a result, the tape pressing roller 63 presses the tape 31 against the substrate end portions 18 and 19 of the substrate 15.

図1に示されるように、テープ貼付機構5と前記フィルム剥離機構4との間には、基板15を支持するための基板支持部41(基板支持手段)が設けられている。基板支持部41は、基板搬送ローラ32、基板支持ローラ35及び支持台45を備えている。基板搬送ローラ32は、基板移動用モータ(図示略)によって回転駆動されることにより、支持している基板15をフィルム剥離機構4に搬送するようになっている。基板支持ローラ35は、基板15を下側から支持し、基板15の移動に伴って回転するようになっている。支持台45は、基板15の基板端部18と進行方向側にある別の基板15の基板端部19とを下方から支持するようになっている。即ち、支持台45は、基板端部18,19同士を近づけた状態で2枚の基板15を隣接させて支持するようになっている。支持台45は、エアシリンダ44のロッド先端に取り付けられており、エアシリンダ44の駆動により上下動するようになっている。エアシリンダ44は、基板15の位置決めを行う場合に、支持台45を上方に移動させて基板端部18,19を支持させるようになっている。また、エアシリンダ44は、基板15が移動する場合に、支持台45を下方に移動させるようになっている。   As shown in FIG. 1, a substrate support portion 41 (substrate support means) for supporting the substrate 15 is provided between the tape applying mechanism 5 and the film peeling mechanism 4. The substrate support unit 41 includes a substrate transport roller 32, a substrate support roller 35, and a support base 45. The substrate transport roller 32 is driven to rotate by a substrate moving motor (not shown) to transport the supporting substrate 15 to the film peeling mechanism 4. The substrate support roller 35 supports the substrate 15 from below and rotates as the substrate 15 moves. The support base 45 supports the substrate end 18 of the substrate 15 and the substrate end 19 of another substrate 15 on the traveling direction side from below. That is, the support base 45 is configured to support the two substrates 15 adjacent to each other with the substrate end portions 18 and 19 being brought close to each other. The support base 45 is attached to the rod tip of the air cylinder 44 and moves up and down by driving the air cylinder 44. When the substrate 15 is positioned, the air cylinder 44 supports the substrate end portions 18 and 19 by moving the support base 45 upward. The air cylinder 44 moves the support base 45 downward when the substrate 15 moves.

また、基板15の搬送経路近傍には、基板位置検出センサ71,72(基板位置検出手段)が設けられている(図5参照)。基板位置検出センサ71は、搬送経路の上方に設けられた発光部73と搬送経路の下方に設けられた受光部74とからなり、搬送されてきた基板15の進行方向側端の基板端部18が所定位置に到達したか否かを検出する。また、基板位置検出センサ72も、発光部75及び受光部76からなり、進行方向側にある別の基板15の基板端部19が所定位置にあるか否かを検出する。具体的には、基板位置検出センサ71,72は、基板端部18と基板端部19とが約1mmの隙間20を有した状態で隣接しているか否かを検出する。   Substrate position detection sensors 71 and 72 (substrate position detection means) are provided in the vicinity of the transport path of the substrate 15 (see FIG. 5). The substrate position detection sensor 71 includes a light emitting unit 73 provided above the transport path and a light receiving unit 74 provided below the transport path, and the substrate end 18 on the side in the traveling direction of the transported substrate 15. It is detected whether or not has reached a predetermined position. The substrate position detection sensor 72 also includes a light emitting unit 75 and a light receiving unit 76, and detects whether or not the substrate end 19 of another substrate 15 on the traveling direction side is at a predetermined position. Specifically, the substrate position detection sensors 71 and 72 detect whether or not the substrate end 18 and the substrate end 19 are adjacent to each other with a gap 20 of about 1 mm.

そして、前記基板移動用モータは、基板位置検出センサ71,72の検出結果に基づいて基板搬送ローラ32を回転駆動させることにより、基板15の基板端部18を移動させて、基板端部18,19間に隙間20を有する状態にする。即ち、基板移動用モータは、基板配置手段としての機能を有している。   The substrate moving motor moves the substrate end 18 of the substrate 15 by rotating the substrate transport roller 32 based on the detection results of the substrate position detection sensors 71 and 72, thereby moving the substrate end 18, 19 is set to have a gap 20 between them. That is, the substrate moving motor has a function as a substrate arranging means.

図1に示されるように、前記フィルム剥離機構4は、前記空気溜り17を基点として前記保護フィルム12を剥離するためのものである。フィルム剥離機構4は、複数の基板押さえローラ36及び一対の排出ローラ46を備えている。各基板押さえローラ36は、基板15の上面側及び下面側に当接するとともに、エアシリンダ(図示略)などのアクチュエータによって基板15を挟持するようになっている。各基板押さえローラ36は、基板15の移動に伴って回転するようになっている。また、両排出ローラ46は、基板15を上面側及び下面側から挟持し、基板15の移動に伴って回転するようになっている。そして、両排出ローラ46は、基板15を前記基板搬出機構3側に排出するようになっている。なお、基板搬出機構3は、主として複数のゴムローラ6によって構成されている。ゴムローラ6は、基板15を上面側及び下面側から挟持し、基板15の移動に伴って回転するようになっている。   As shown in FIG. 1, the film peeling mechanism 4 is for peeling the protective film 12 with the air reservoir 17 as a base point. The film peeling mechanism 4 includes a plurality of substrate pressing rollers 36 and a pair of discharge rollers 46. Each substrate pressing roller 36 is in contact with the upper surface side and the lower surface side of the substrate 15 and sandwiches the substrate 15 by an actuator such as an air cylinder (not shown). Each substrate pressing roller 36 rotates with the movement of the substrate 15. Further, both the discharge rollers 46 sandwich the substrate 15 from the upper surface side and the lower surface side, and rotate as the substrate 15 moves. The two discharge rollers 46 discharge the substrate 15 to the substrate carry-out mechanism 3 side. The substrate carry-out mechanism 3 is mainly composed of a plurality of rubber rollers 6. The rubber roller 6 sandwiches the substrate 15 from the upper surface side and the lower surface side and rotates as the substrate 15 moves.

また、図1に示されるフィルム剥離機構4は、ガイドローラ33及び一対の引張ローラ38(引張手段)を備えている。ガイドローラ33は、フィルム剥離機構4に搬送されてきた基板15の前端(進行方向側端)において、基板15上にある剥離前の保護フィルム12に当接するように配置されている。ガイドローラ33は、保護フィルム12を自身の周面に沿って引張ローラ38側にガイドするようになっている。両引張ローラ38は、保護フィルム12を表面側及び裏面側から挟持するようになっている。また、両引張ローラ38は、保護フィルム引張用モータ(図示略)によって回転駆動されることにより、前記テープ31の貼付によってつながれた保護フィルム12を持ち上げる方向に引っ張るようになっている。   The film peeling mechanism 4 shown in FIG. 1 includes a guide roller 33 and a pair of pulling rollers 38 (tensioning means). The guide roller 33 is disposed at the front end (traveling direction side end) of the substrate 15 conveyed to the film peeling mechanism 4 so as to contact the protective film 12 before peeling on the substrate 15. The guide roller 33 guides the protective film 12 toward the tension roller 38 along its peripheral surface. Both tension rollers 38 sandwich the protective film 12 from the front surface side and the back surface side. Further, both the pulling rollers 38 are driven to rotate by a protective film pulling motor (not shown) so as to pull the protective film 12 connected by applying the tape 31 in the lifting direction.

図1に示されるように、フィルム剥離装置1は、フィルム剥離機構4によって剥離された保護フィルム12を巻き取って回収するフィルム巻取機構7(フィルム巻取手段)を備えている。フィルム巻取機構7は、紙管34(芯体)及び紙管支持軸40(芯体支持手段)を備えている。紙管34は、紙管支持軸40に対して着脱可能に支持されている。具体的に言うと、紙管支持軸40は、紙管34内に対して挿脱可能となっている。また、紙管34の内径は紙管支持軸40の外径とほぼ等しくなっており、紙管34及び紙管支持軸40は相対回転しないようになっている。紙管支持軸40は、図10に示される紙管駆動用モータ39(芯体駆動手段)によって回転駆動されるようになっている。これにより、紙管34に保護フィルム12が巻き付けられる。   As shown in FIG. 1, the film peeling apparatus 1 includes a film winding mechanism 7 (film winding means) that winds and collects the protective film 12 peeled by the film peeling mechanism 4. The film winding mechanism 7 includes a paper tube 34 (core body) and a paper tube support shaft 40 (core body support means). The paper tube 34 is detachably supported with respect to the paper tube support shaft 40. Specifically, the paper tube support shaft 40 can be inserted into and removed from the paper tube 34. Further, the inner diameter of the paper tube 34 is substantially equal to the outer diameter of the paper tube support shaft 40, so that the paper tube 34 and the paper tube support shaft 40 do not rotate relative to each other. The paper tube support shaft 40 is rotationally driven by a paper tube drive motor 39 (core body driving means) shown in FIG. As a result, the protective film 12 is wound around the paper tube 34.

次に、上記のフィルム剥離装置1を用いたビルドアップ多層樹脂配線基板の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the buildup multilayer resin wiring board using said film peeling apparatus 1 is demonstrated.

まず、銅張積層板に対してドリル機を用いて孔あけ加工を行い、銅張積層板を貫通する貫通孔(図示略)を所定位置にあらかじめ形成しておく。なお、銅張積層板に対してYAGレーザまたは炭酸ガスレーザを用いてレーザ孔あけ加工を行うことで、貫通孔を形成してもよい。そして、従来公知の手法に従って無電解銅めっき及び電解銅めっきを行うことでめっきスルーホールを形成する。さらに、銅張積層板の両面の銅箔のエッチングを行って第1層めの導体層を例えばサブトラクティブ法によってパターニングする。具体的には、無電解銅めっきの後、この無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施す。さらにドライフィルムをラミネートし、同ドライフィルムに対して露光及び現像を行うことにより、ドライフィルムを所定パターンに形成する。この状態で、不要な電解銅めっき層、無電解銅めっき層及び銅箔をエッチングで除去する。その後、ドライフィルムを剥離することにより、両面板である基板15を得る。なお、基板15を、セミアディティブ法によって形成してもよい。具体的には、無電解銅めっきの後、露光及び現像を行って所定パターンのめっきレジストを形成する。この状態で無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施した後、まずレジストを溶解除去して、さらに不要な無電解銅めっき層をエッチングで除去する。その結果、両面板である基板15を得る。   First, a drilling machine is used for drilling a copper clad laminate, and a through hole (not shown) penetrating the copper clad laminate is formed in advance at a predetermined position. In addition, you may form a through-hole by performing a laser drilling process with respect to a copper clad laminated board using a YAG laser or a carbon dioxide gas laser. And a plating through hole is formed by performing electroless copper plating and electrolytic copper plating according to a conventionally well-known method. Further, the copper foil on both sides of the copper clad laminate is etched to pattern the first conductor layer by, for example, a subtractive method. Specifically, after the electroless copper plating, electrolytic copper plating is performed using the electroless copper plating layer as a common electrode. Further, the dry film is laminated, and the dry film is exposed and developed to form a dry film in a predetermined pattern. In this state, unnecessary electrolytic copper plating layer, electroless copper plating layer and copper foil are removed by etching. Then, the board | substrate 15 which is a double-sided board is obtained by peeling a dry film. The substrate 15 may be formed by a semi-additive method. Specifically, after electroless copper plating, exposure and development are performed to form a predetermined pattern of plating resist. In this state, after electrolytic copper plating is performed using the electroless copper plating layer as a common electrode, first, the resist is dissolved and removed, and further unnecessary electroless copper plating layer is removed by etching. As a result, a substrate 15 that is a double-sided board is obtained.

次に、基板15の主面にフィルム状の層間絶縁材14を貼付した後、従来周知のラミネータを使用して貼付工程を実施し、保護フィルム12を層間絶縁材14が貼付された基板15の主面にラミネートしておく。具体的には、まず、複数枚の基板15を隣接させて水平に配置した状態で、全基板15の主面を覆いうる大きさの保護フィルム12をラミネート機(図示略)でラミネートする。そして、ラミネートされた保護フィルム12を、各基板15の大きさに合わせてカットする。その後、層間絶縁材14に対して露光を行う。   Next, after affixing a film-like interlayer insulating material 14 to the main surface of the substrate 15, a pasting process is performed using a conventionally known laminator, and the protective film 12 is attached to the substrate 15 having the interlayer insulating material 14 affixed thereto. Laminate on the main surface. Specifically, first, in a state where a plurality of substrates 15 are arranged adjacent to each other and horizontally disposed, the protective film 12 having a size capable of covering the main surfaces of all the substrates 15 is laminated by a laminating machine (not shown). Then, the laminated protective film 12 is cut according to the size of each substrate 15. Thereafter, the interlayer insulating material 14 is exposed.

その後、保護フィルム12で保護された層間絶縁材14を有する基板15をフィルム穿孔機構2に搬送する。次に、図3に示す貫通孔形成工程S1(図3参照)を実施する。具体的には、針57で保護フィルム12の外周部分を穿孔する動作を行い、保護フィルム12の外周部分における進行方向側端部に貫通孔16を形成する。この後、針57を保護フィルム12から抜去する動作を行うことにより、保護フィルム12において貫通孔16が形成された部分の周囲に空気溜り17(図4参照)が生じる。   Thereafter, the substrate 15 having the interlayer insulating material 14 protected by the protective film 12 is conveyed to the film punching mechanism 2. Next, the through hole forming step S1 (see FIG. 3) shown in FIG. 3 is performed. Specifically, an operation of perforating the outer peripheral portion of the protective film 12 with the needle 57 is performed, and the through-hole 16 is formed in the traveling direction side end portion of the outer peripheral portion of the protective film 12. Thereafter, by performing an operation of removing the needle 57 from the protective film 12, an air pocket 17 (see FIG. 4) is generated around the portion of the protective film 12 where the through hole 16 is formed.

貫通孔形成工程S1後、テープ貼付工程S2(図3参照)を実施する。具体的には、基板15をフィルム剥離機構4に搬送し、基板端部18,19同士に隙間20を設けた状態で、基板15を複数枚隣接させて配置する(図5参照)。次に、テープ貼付機構5を用いて、保護フィルム12において空気溜り17が生じた部分と、進行方向側にある別の基板15の保護フィルム12の外周部分とを繋ぐようにテープ31を貼付する(図6,図7参照)。具体的には、まず、テープ繰出ローラ64によって保護フィルム12上にテープ31を繰り出すテープ繰出工程S2−1を実施する。そして、繰り出されたテープ31をテープカッター62によって切断するテープ切断工程S2−2を実施する(図6参照)。テープ切断工程S2−2後、テープ31をテープ押付ローラ63によって基板15の基板端部18,19に押し付けるテープ押付工程S2−3を実施する(図7参照)。これにより、テープ31が保護フィルム12同士を繋ぐように貼付され、テープ貼付工程S2が終了する。   After the through hole forming step S1, a tape applying step S2 (see FIG. 3) is performed. Specifically, the board | substrate 15 is conveyed to the film peeling mechanism 4, and the board | substrate 15 is arrange | positioned adjacently in the state which provided the clearance gap 20 between board | substrate edge parts 18 and 19 (refer FIG. 5). Next, using the tape applying mechanism 5, the tape 31 is applied so as to connect the portion of the protective film 12 where the air pocket 17 is generated and the outer peripheral portion of the protective film 12 of the other substrate 15 on the traveling direction side. (See FIGS. 6 and 7). Specifically, first, a tape feeding process S2-1 for feeding the tape 31 onto the protective film 12 by the tape feeding roller 64 is performed. And tape cutting process S2-2 which cuts | feeds out the tape 31 with the tape cutter 62 is implemented (refer FIG. 6). After the tape cutting step S2-2, a tape pressing step S2-3 is performed in which the tape 31 is pressed against the substrate ends 18 and 19 of the substrate 15 by the tape pressing roller 63 (see FIG. 7). Thereby, the tape 31 is affixed so that the protective films 12 may be connected, and tape adhering process S2 is complete | finished.

なお、テープ押付工程S2−3をテープ切断工程S2−2よりも先に実施してもよい。即ち、テープ押付工程S2−3を実施し、テープ押付工程S2−3後、テープ切断工程S2−2においてテープ31をテープカッター62によって切断するようにしてもよい。   Note that the tape pressing step S2-3 may be performed before the tape cutting step S2-2. That is, the tape pressing step S2-3 may be performed, and the tape 31 may be cut by the tape cutter 62 in the tape cutting step S2-2 after the tape pressing step S2-3.

前記テープ貼付工程S2後、互いに繋がれた保護フィルム12を、テープ31を介して順次持ち上げることにより、保護フィルム12を連続的に剥離する剥離工程S3(図3参照)を実施する。剥離工程S3では、基板15上にある剥離前の保護フィルム12に当接するようにガイドローラ33を配置し、その回転軸を基板端部18よりも基板15の中心寄りに位置させる。そして、テープ31の貼付によって繋がれた保護フィルム12を、そのガイドローラ33の周面に沿って引っ張りながら持ち上げるようにする(図8参照)。詳述すると、テープ31が持ち上げられると、次第に引張ローラ38に引っ張られて空気溜り17の容積が拡大する。このとき、空気溜り17は、エッジ部13における前記貫通孔16の形成部位近傍からエッジ部13の端部へと外方向に向かって波及する。この結果、空気溜り17がエッジ部13の全幅に波及し、最終的にはエッジ部13が層間絶縁材14から剥離する。   After the tape sticking step S2, a peeling step S3 (see FIG. 3) for continuously peeling the protective film 12 by sequentially lifting the protective films 12 connected to each other through the tape 31 is performed. In the peeling step S <b> 3, the guide roller 33 is disposed so as to contact the protective film 12 before peeling on the substrate 15, and the rotation axis thereof is positioned closer to the center of the substrate 15 than the substrate end 18. Then, the protective film 12 connected by applying the tape 31 is lifted while being pulled along the peripheral surface of the guide roller 33 (see FIG. 8). More specifically, when the tape 31 is lifted, it is gradually pulled by the pulling roller 38 to increase the volume of the air reservoir 17. At this time, the air reservoir 17 spills outward from the vicinity of the portion where the through hole 16 is formed in the edge portion 13 to the end portion of the edge portion 13. As a result, the air pocket 17 spreads over the entire width of the edge portion 13, and finally the edge portion 13 is peeled off from the interlayer insulating material 14.

剥離工程S3後、剥離された保護フィルム12を紙管34に巻き取って回収する保護フィルム回収工程S4を実施する。その結果、基板15から保護フィルム12が完全に剥離され、後にビルドアップ多層樹脂配線基板の層間絶縁層となるべき層間絶縁材14が基板15上に残るようになる(図9参照)。また、保護フィルム12が剥離された基板15は、基板搬出機構3によって搬出される。   After the peeling step S3, a protective film collecting step S4 is performed in which the peeled protective film 12 is wound around the paper tube 34 and collected. As a result, the protective film 12 is completely peeled off from the substrate 15, and the interlayer insulating material 14 to be an interlayer insulating layer of the build-up multilayer resin wiring substrate later remains on the substrate 15 (see FIG. 9). The substrate 15 from which the protective film 12 has been peeled is carried out by the substrate carrying-out mechanism 3.

そして、搬出された基板15の層間絶縁材14に対して現像を行うことにより、ビア導体が形成されるべき位置に盲孔(ビア)を有する層間絶縁層を形成する。次に、従来公知の手法(例えばセミアディティブ法)に従って無電解銅めっきを行い、露光及び現像を行って所定パターンのめっきレジストを形成する。この状態で無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施すことにより、前記盲孔の内部にビア導体を形成するとともに、層間絶縁層上に銅めっき層を形成する。さらに、レジストを溶解除去して、不要な無電解銅めっき層のエッチングを行うことにより、層間絶縁層上に第2層めの導体層を形成する(導体層形成工程)。   Then, development is performed on the interlayer insulating material 14 of the unloaded substrate 15 to form an interlayer insulating layer having a blind hole (via) at a position where a via conductor is to be formed. Next, electroless copper plating is performed according to a conventionally known method (for example, a semi-additive method), and exposure and development are performed to form a plating resist having a predetermined pattern. In this state, by performing electrolytic copper plating using the electroless copper plating layer as a common electrode, a via conductor is formed inside the blind hole, and a copper plating layer is formed on the interlayer insulating layer. Further, the resist is dissolved and removed, and an unnecessary electroless copper plating layer is etched to form a second conductor layer on the interlayer insulating layer (conductor layer forming step).

その後、前記貼付工程〜導体層形成工程を繰り返すことにより、層間絶縁層と導体層とが交互に積層されていく。これにより、ビルドアップ層が構成され、所望のビルドアップ多層樹脂配線基板が完成する。   Thereafter, by repeating the pasting step to the conductor layer forming step, the interlayer insulating layers and the conductor layers are alternately laminated. As a result, a build-up layer is formed, and a desired build-up multilayer resin wiring board is completed.

従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。   Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(1)本実施形態のフィルム剥離装置1では、テープ貼付機構5によってテープ31を貼付することにより、個々の基板15の保護フィルム12を繋ぐことができる。そして、フィルム剥離機構4が、テープ31を介して保護フィルム12を順次持ち上げることにより、保護フィルム12を連続的に剥離することができる。よって、複数枚の基板15に対して剥離作業を行えば、複数枚の保護フィルム12をまとめて剥離することができるため、保護フィルム12の剥離作業を効率良く行うことができる。また、保護フィルム12同士がテープ31で繋がっているため、複数枚の保護フィルム12をまとめて回収することができ、保護フィルム12の回収作業を効率良く行うことができる。   (1) In the film peeling apparatus 1 of this embodiment, the protective film 12 of each board | substrate 15 can be connected by sticking the tape 31 by the tape sticking mechanism 5. FIG. And the film peeling mechanism 4 can peel the protective film 12 continuously by raising the protective film 12 sequentially via the tape 31. FIG. Therefore, if the peeling operation is performed on the plurality of substrates 15, the plurality of protective films 12 can be peeled together, so that the protective film 12 can be efficiently peeled off. In addition, since the protective films 12 are connected to each other by the tape 31, a plurality of protective films 12 can be collected together, and the collecting operation of the protective films 12 can be performed efficiently.

しかも、この装置では、ローレットロールやフィルム押圧部材などを保護フィルム12の面方向に移動させる動作を行わせたりしてから剥離作業を行うのではなく、テープ貼付機構5によってテープ31を貼付してから剥離作業を行う。従って、保護フィルム12の剥離作業によって層間絶縁材14や基板15がダメージを受ける可能性を低くすることができるため、歩留まりの低下を抑えることができる。また、層間絶縁材14のダメージが小さくなることに伴い、層間絶縁材14の一部が崩れることによるごみの発生も抑えることができる。ゆえに、そのごみが層間絶縁材14に悪影響を及ぼすことに起因した歩留まりの低下も抑えられる。   Moreover, in this apparatus, the tape 31 is stuck by the tape sticking mechanism 5 instead of performing the peeling operation after moving the knurling roll or the film pressing member in the surface direction of the protective film 12. Peel off from. Therefore, it is possible to reduce the possibility that the interlayer insulating material 14 and the substrate 15 are damaged by the peeling operation of the protective film 12, and thus it is possible to suppress a decrease in yield. Further, as the damage to the interlayer insulating material 14 is reduced, the generation of dust due to the collapse of a part of the interlayer insulating material 14 can be suppressed. Therefore, a decrease in yield due to the dust having an adverse effect on the interlayer insulating material 14 can be suppressed.

(2)本実施形態では、ガイドローラ33が保護フィルム12に当接するように配置されるため、保護フィルム12を持ち上げる際の基板15の浮き上がりを防止できる。よって、保護フィルム12を剥離した基板15を確実に排出ローラ46間に進入させることができるため、基板15を確実に基板搬出機構3に搬送することができる。   (2) In this embodiment, since the guide roller 33 is disposed so as to contact the protective film 12, the substrate 15 can be prevented from being lifted when the protective film 12 is lifted. Therefore, since the substrate 15 from which the protective film 12 has been peeled can be surely entered between the discharge rollers 46, the substrate 15 can be reliably conveyed to the substrate carry-out mechanism 3.

(3)例えば、テープ貼付機構5によって貼付されるテープ31が、熱を加えることによって保護フィルム12に貼付されるものであると、その熱が層間絶縁材14に悪影響(例えば熱硬化など)を及ぼしてしまう可能性がある。しかし、本実施形態のテープ貼付機構5によって貼付するテープ31は、粘着層を有する粘着テープであるため、粘着時に特に熱を加える必要がない。よって、熱などが層間絶縁材14に悪影響を及ぼすおそれがなく、それに起因した歩留まりの低下を抑えることができる。   (3) For example, if the tape 31 applied by the tape applying mechanism 5 is applied to the protective film 12 by applying heat, the heat will adversely affect the interlayer insulating material 14 (for example, thermosetting). There is a possibility of affecting. However, since the tape 31 applied by the tape applying mechanism 5 of the present embodiment is an adhesive tape having an adhesive layer, it is not particularly necessary to apply heat during adhesion. Therefore, there is no possibility that heat or the like adversely affects the interlayer insulating material 14, and a decrease in yield due to it can be suppressed.

(4)テープ貼付工程S2において、1本のテープ31を切らずに複数枚の保護フィルム12を繋ぐように貼付することも考えられる。しかし、本実施形態では、テープ31を敢えて短く切断し、切断したテープ31で隣接する保護フィルム12を繋ぐように貼付している。このようにすれば、保護フィルム12を繋ぐのに長いテープ31を必要としないため、テープ31の使用量を最小限に抑えることができる。換言すれば、テープカッター62を用いてテープ31を切断するからこそ、テープ31の使用量を最小限に抑えることができるともいえる。   (4) In the tape applying step S2, it is conceivable to apply a plurality of protective films 12 so as not to cut one tape 31. However, in this embodiment, the tape 31 is dared to be cut short and pasted so as to connect the adjacent protective films 12 with the cut tape 31. In this way, since the long tape 31 is not required to connect the protective film 12, the amount of the tape 31 used can be minimized. In other words, it can be said that the amount of use of the tape 31 can be minimized because the tape 31 is cut using the tape cutter 62.

なお、本発明の実施形態は以下のように変更してもよい。   In addition, you may change embodiment of this invention as follows.

・上記実施形態において、フィルム剥離機構4は、ガイドローラ33の回転軸が基板端部18よりも基板15の中心寄りに位置するようにガイドローラ33を位置決め可能なガイドローラ位置決め機構を備えていてもよい。例えば、ガイドローラ33を回転軸に対して回転可能に取り付けるとともに、ガイドローラ位置決め機構を、回転軸を基板15の進行方向に沿って移動させるエアシリンダなどのアクチュエータによって構成してもよい。   In the above embodiment, the film peeling mechanism 4 includes a guide roller positioning mechanism that can position the guide roller 33 so that the rotation axis of the guide roller 33 is positioned closer to the center of the substrate 15 than the substrate end 18. Also good. For example, the guide roller 33 may be rotatably attached to the rotation shaft, and the guide roller positioning mechanism may be configured by an actuator such as an air cylinder that moves the rotation shaft along the traveling direction of the substrate 15.

このようにすれば、仮に、ガイドローラ33の回転軸が基板端部18よりも基板15の外側に位置していたとしても、エアシリンダを駆動させることにより、ガイドローラ33の回転軸を基板端部18よりも基板15の中心寄りに移動させることができる。よって、基板15を正確に位置決めしなくても、保護フィルム12全体を確実に剥離することができる。   In this case, even if the rotation axis of the guide roller 33 is located outside the substrate end 18 with respect to the substrate end portion 18, the rotation axis of the guide roller 33 is adjusted by driving the air cylinder. It can be moved closer to the center of the substrate 15 than the portion 18. Therefore, the entire protective film 12 can be reliably peeled without positioning the substrate 15 accurately.

・図10に示されるように、フィルム巻取機構7は、紙管34と紙管駆動用モータ39との間の回転駆動力の伝達量を調整するクラッチ機構81を備えていてもよい。例えば、クラッチ機構81を、紙管支持軸40に固定される紙管側プレート82と、紙管駆動用モータ39の回転軸83に固定されるモータ側プレート84と、紙管側プレート82及びモータ側プレート84を互いに圧着させるバネ(図示略)とから構成してもよい。   As shown in FIG. 10, the film winding mechanism 7 may include a clutch mechanism 81 that adjusts the amount of rotation drive force transmitted between the paper tube 34 and the paper tube drive motor 39. For example, the clutch mechanism 81 includes a paper tube side plate 82 fixed to the paper tube support shaft 40, a motor side plate 84 fixed to the rotation shaft 83 of the paper tube driving motor 39, the paper tube side plate 82 and the motor. You may comprise from the spring (not shown) which presses the side plate 84 mutually.

仮に、保護フィルム12が紙管34に巻き付けられていって、紙管34において保護フィルム12が巻き付けられた部分の外径が大きくなると、紙管支持軸40及び紙管34が1回転したときの保護フィルム12の巻取量が多くなる。このとき、バネによる圧着力を小さくして紙管側プレート82及びモータ側プレート84を互いに滑らせれば、回転駆動力の伝達量が小さくなるため、紙管支持軸40及び紙管34の回転速度を遅くすることができる。よって、保護フィルム12の周速を一定に維持することができ、引張ローラ38によって保護フィルム12を引っ張る速度と同程度にすることができる。よって、保護フィルム12の周速が大きくなり過ぎることによるテープ31の切断を防ぐことができる。   If the protective film 12 is wound around the paper tube 34 and the outer diameter of the portion of the paper tube 34 around which the protective film 12 is wound increases, the paper tube support shaft 40 and the paper tube 34 are rotated once. The winding amount of the protective film 12 increases. At this time, if the paper tube side plate 82 and the motor side plate 84 are slid relative to each other by reducing the pressure-bonding force by the spring, the amount of transmission of the rotational driving force is reduced, so that the rotational speed of the paper tube support shaft 40 and the paper tube 34 is reduced. Can slow down. Therefore, the peripheral speed of the protective film 12 can be maintained constant, and the speed can be made comparable to the speed at which the protective film 12 is pulled by the pulling roller 38. Therefore, cutting of the tape 31 due to the peripheral speed of the protective film 12 becoming too high can be prevented.

・上記実施形態では、フィルム剥離装置1を、ビルドアップ多層樹脂配線基板の層間絶縁層を形成する際に用いたが、ビルドアップ多層樹脂配線基板以外の配線基板の絶縁層を形成する際に用いてもよい。   In the above embodiment, the film peeling apparatus 1 is used when forming an interlayer insulating layer of a build-up multilayer resin wiring board, but is used when forming an insulating layer of a wiring board other than the build-up multilayer resin wiring board. May be.

・上記実施形態のフィルム剥離装置1は、ビルトアップ多層樹脂配線基板の層間絶縁層を形成する絶縁材(層間絶縁材14)から保護フィルム12を剥離するのに用いられていた。しかし、フィルム剥離装置1は、ソルダーレジストやめっきレジストを形成する絶縁材から保護フィルム12を剥離するのに用いられていてもよい。   -The film peeling apparatus 1 of the said embodiment was used for peeling the protective film 12 from the insulating material (interlayer insulating material 14) which forms the interlayer insulation layer of a built-up multilayer resin wiring board. However, the film peeling apparatus 1 may be used to peel the protective film 12 from an insulating material that forms a solder resist or a plating resist.

・上記実施形態のフィルム剥離装置1は、ビルトアップ多層樹脂配線基板などの配線基板を製造するときに用いられていた。しかし、フィルム剥離装置1は、配線基板を製造するときだけに用いられる訳ではなく、配線基板以外のものを製造するときに保護フィルム12を剥離するのに用いられていてもよい。   -The film peeling apparatus 1 of the said embodiment was used when manufacturing wiring boards, such as a built-up multilayer resin wiring board. However, the film peeling apparatus 1 is not used only when manufacturing a wiring board, but may be used when peeling the protective film 12 when manufacturing a thing other than the wiring board.

・上記実施形態の基板搬出機構3は、保護フィルム12が片面にラミネートされた基板15を搬出することを想定したものであり、フィルム剥離機構4において剥離作業が終了した基板15をフィルム剥離装置1から搬出するようになっていた。   -The board | substrate carrying-out mechanism 3 of the said embodiment assumes carrying out the board | substrate 15 with which the protective film 12 was laminated on one side, and the film | membrane peeling apparatus 1 removes the board | substrate 15 which the peeling operation | work completed in the film peeling mechanism 4. It was supposed to be carried out from.

しかし、基板搬出機構3は、保護フィルム12が両面にラミネートされた基板15を搬出することを想定したものであってもよい。即ち、基板搬出機構3は、両面にある保護フィルム12のうちいずれか一方が基板15から剥離された後に基板15を反転させる反転機構としての機能を兼ねていてもよい(図11参照)。この場合、両面にある保護フィルム12のうちいずれか一方が剥離された基板15を反転機構で反転させれば、もう一方の面の保護フィルム12に対しても剥離作業を行うことができるため、両面の保護フィルム12を剥離することができる。また、テープ貼付機構5やフィルム剥離機構4などの配置態様を変更しなくても、両面の保護フィルム12を剥離することができる。さらに、基板15は反転機構で反転されるため、基板15を人手で裏返さなくても済み、剥離作業が容易になる。   However, the substrate carry-out mechanism 3 may be assumed to carry out the substrate 15 having the protective film 12 laminated on both surfaces. That is, the substrate carry-out mechanism 3 may also serve as a reversing mechanism that reverses the substrate 15 after any one of the protective films 12 on both sides is peeled from the substrate 15 (see FIG. 11). In this case, if the substrate 15 from which one of the protective films 12 on both sides is peeled is reversed by the reversing mechanism, the peeling work can be performed on the protective film 12 on the other side, The protective films 12 on both sides can be peeled off. Moreover, even if it does not change arrangement | positioning aspects, such as the tape sticking mechanism 5 and the film peeling mechanism 4, the protective film 12 of both surfaces can be peeled. Further, since the substrate 15 is reversed by the reversing mechanism, it is not necessary to turn the substrate 15 upside down by hand, and the peeling work is facilitated.

なお、この場合、フィルム剥離装置1は、基板戻し機構91及び基板持ち上げ機構92を備えることが好ましい(図11参照)。基板戻し機構91は、複数の基板移動用ローラ93からなり、フィルム剥離機構4及びテープ貼付機構5の下方に配置されている。基板戻し機構91は、各基板移動用ローラ93を回転させることにより、反転機構によって反転された基板15をフィルム穿孔機構2側(基板持ち上げ機構92側)に戻すようになっている。また、基板持ち上げ機構92は、エアシリンダ94と、エアシリンダ94のロッド先端に取り付けられた基板支持ローラ8などを備え、エアシリンダ94の駆動によって上下動するようになっている。基板持ち上げ機構92は、基板戻し機構91によって搬送されて基板支持ローラ8によって支持された基板15を持ち上げて、フィルム穿孔機構2に搬出させるようになっている。このようにすれば、両面の保護フィルム12を剥離する必要があったとしても、テープ貼付機構5やフィルム剥離機構4などは1組で済む。   In this case, the film peeling apparatus 1 preferably includes a substrate returning mechanism 91 and a substrate lifting mechanism 92 (see FIG. 11). The substrate returning mechanism 91 includes a plurality of substrate moving rollers 93 and is disposed below the film peeling mechanism 4 and the tape applying mechanism 5. The substrate returning mechanism 91 is configured to return the substrate 15 reversed by the reversing mechanism to the film punching mechanism 2 side (substrate lifting mechanism 92 side) by rotating each substrate moving roller 93. The substrate lifting mechanism 92 includes an air cylinder 94 and a substrate support roller 8 attached to the rod tip of the air cylinder 94, and moves up and down by driving the air cylinder 94. The substrate lifting mechanism 92 is configured to lift the substrate 15 conveyed by the substrate returning mechanism 91 and supported by the substrate supporting roller 8 and to carry it out to the film punching mechanism 2. In this way, even if it is necessary to peel off the protective films 12 on both sides, only one set of the tape attaching mechanism 5 and the film peeling mechanism 4 is sufficient.

次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。   Next, the technical ideas grasped by the embodiment described above are listed below.

(1)保護フィルムで保護された絶縁材層を有する基板から前記保護フィルムを剥離する装置であって、前記保護フィルムの外周部分に前記保護フィルムを剥離する契機となる剥離契機部を形成する剥離契機部形成手段と、基板端部同士を近づけた状態で前記基板を複数枚隣接させて支持する基板支持手段と、前記基板支持手段により支持された前記基板の前記剥離契機部において前記保護フィルム同士を繋ぐように、可撓性を有するテープを貼付するテープ貼付手段と、前記テープの貼付によって繋がれた前記保護フィルムを、前記テープを介して順次持ち上げることにより、前記保護フィルムを連続的に剥離する剥離機構とを備え、前記テープ貼付手段は、前記テープを繰り出すテープ繰出手段と、前記テープ繰出手段によって繰り出された前記テープを切断するテープ切断手段と、前記テープ切断手段によって切断された前記テープを前記基板の基板端部に押し付けるテープ押付手段とを備えることを特徴とするフィルム剥離装置。   (1) Peeling device that peels off the protective film from a substrate having an insulating material layer protected by a protective film, and forms a peeling trigger portion that triggers the peeling of the protective film on the outer peripheral portion of the protective film. In the trigger part forming means, the substrate support means for supporting a plurality of the substrates adjacent to each other in a state where the substrate ends are brought close to each other, and the protective films in the peeling trigger part of the substrate supported by the substrate support means A tape applying means for attaching a flexible tape so as to connect the protective film, and the protective film connected by the application of the tape is sequentially lifted through the tape to continuously peel the protective film. The tape applying means is fed out by the tape feeding means for feeding the tape and the tape feeding means. Tape cutting means, said film peeling apparatus comprising: a tape pressing means for pressing the tape cut by the tape cutting means in the substrate end portion of the substrate for cutting the tape.

本実施形態のフィルム剥離装置を示す概略図。Schematic which shows the film peeling apparatus of this embodiment. 保護フィルムで保護された層間絶縁材を有する基板を示す要部上面図。The principal part top view which shows the board | substrate which has an interlayer insulation material protected with the protective film. 配線基板の製造工程の概略を示すフローチャート。The flowchart which shows the outline of the manufacturing process of a wiring board. 針を保護フィルムから抜去する動作を行った後の状態を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows the state after performing the operation | movement which extracts a needle | hook from a protective film. 基板を隣接して配置したときの状態を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows a state when arrange | positioning a board | substrate adjacently. テープカッターで繰り出したテープを切断する動作を行っているときの状態を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows a state when performing the operation | movement which cut | disconnects the tape extended | stretched with the tape cutter. テープ押付ローラでテープを押し付ける動作を行っているときの状態を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows a state when performing the operation | movement which presses a tape with a tape pressing roller. 保護フィルムを剥離する動作を行っているときの状態を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows a state when performing the operation | movement which peels a protective film. 保護フィルムを剥離した後の基板を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows the board | substrate after peeling a protective film. 他の実施形態におけるクラッチ機構を示す概略図。Schematic which shows the clutch mechanism in other embodiment. 他の実施形態におけるフィルム剥離装置を示す概略図。Schematic which shows the film peeling apparatus in other embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…フィルム剥離装置
4…剥離機構としてのフィルム剥離機構
5…テープ貼付手段としてのテープ貼付機構
7…フィルム巻取手段としてのフィルム巻取機構
12…保護フィルム
14…絶縁材層としての層間絶縁材
15…基板
16…剥離契機部としての貫通孔
18,19…基板端部
20…隙間
31…テープ
33…ガイドローラ
34…芯体としての紙管
38…引張手段としての引張ローラ
39…芯体駆動手段としての紙管駆動用モータ
40…芯体支持手段としての紙管支持軸
41…基板支持手段としての基板支持部
57…剥離契機部形成手段としての針
61…テープ繰出手段としてのテープ繰出機構
62…テープ切断手段としてのテープカッター
63…テープ押付手段としてのテープ押付ローラ
71,72…基板位置検出手段としての基板位置検出センサ
81…クラッチ機構
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film peeling apparatus 4 ... Film peeling mechanism 5 as peeling mechanism ... Tape sticking mechanism 7 as tape sticking means 7 ... Film winding mechanism 12 as film winding means ... Protective film 14 ... Interlayer insulating material as an insulating material layer DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 ... Board | substrate 16 ... Through-hole 18,19 as peeling trigger part ... Board | substrate edge part 20 ... Gap 31 ... Tape 33 ... Guide roller 34 ... Paper tube 38 as a core body ... Tension roller 39 as a tension means ... Core body drive Paper tube drive motor 40 as a means ... Paper tube support shaft 41 as a core support means ... Substrate support part 57 as a substrate support means ... Needle 61 as a peeling trigger part forming means ... Tape feeding mechanism as a tape feeding means 62 ... Tape cutter 63 as tape cutting means ... Tape pressing rollers 71 and 72 as tape pressing means ... Substrate position detection as substrate position detecting means Sensor 81 ... clutch mechanism

Claims (9)

保護フィルムで保護された絶縁材層を有する基板から前記保護フィルムを剥離する装置であって、
前記保護フィルムの外周部分に前記保護フィルムを剥離する契機となる剥離契機部を形成する剥離契機部形成手段と、
基板端部同士を近づけた状態で前記基板を複数枚隣接させて支持する基板支持手段と、
前記基板支持手段により支持された前記基板の前記剥離契機部において前記保護フィルム同士を繋ぐように、可撓性を有するテープを貼付するテープ貼付手段と、
前記テープの貼付によって繋がれた前記保護フィルムを、前記テープを介して順次持ち上げることにより、前記保護フィルムを連続的に剥離する剥離機構と
を備えたことを特徴とするフィルム剥離装置。
An apparatus for peeling the protective film from a substrate having an insulating material layer protected by a protective film,
Peeling trigger part forming means for forming a peeling trigger part that triggers peeling of the protective film on the outer peripheral part of the protective film;
Substrate support means for supporting a plurality of the substrates adjacent to each other with the substrate edges close to each other;
A tape applying means for applying a flexible tape so as to connect the protective films to each other in the peeling trigger part of the substrate supported by the substrate supporting means;
A film peeling apparatus comprising: a peeling mechanism for continuously peeling the protective film by sequentially lifting the protective films connected by the tape application through the tape.
前記基板支持手段における前記基板の基板端部の位置を検出する基板位置検出手段と、
前記基板位置検出手段の検出結果に基づいて、前記基板端部間に隙間を設けた状態で前記基板を配置する基板配置手段と
を備えたことを特徴とする請求項1に記載のフィルム剥離装置。
Substrate position detection means for detecting the position of the substrate end of the substrate in the substrate support means;
The film peeling apparatus according to claim 1, further comprising: a substrate placement unit that places the substrate in a state where a gap is provided between the substrate end portions based on a detection result of the substrate position detection unit. .
前記剥離機構は、
前記テープの貼付によって繋がれた前記保護フィルムを持ち上げる方向に引っ張る引張手段と、
前記基板上にある剥離前の前記保護フィルムに当接するように配置され、前記保護フィルムを自身の周面に沿って前記引張手段側にガイドするガイドローラと、
前記ガイドローラの回転軸が前記基板端部よりも基板中心寄りに位置するように前記ガイドローラを位置決め可能なガイドローラ位置決め機構と
を備えることを特徴とする請求項1または2に記載のフィルム剥離装置。
The peeling mechanism is
Tension means for pulling in the direction of lifting the protective film connected by applying the tape;
A guide roller that is disposed so as to abut on the protective film before peeling on the substrate and guides the protective film to the tension means side along its peripheral surface;
3. The film peeling according to claim 1, further comprising a guide roller positioning mechanism capable of positioning the guide roller so that a rotation shaft of the guide roller is positioned closer to a substrate center than an end portion of the substrate. apparatus.
前記剥離機構によって剥離された前記保護フィルムを巻き取って回収するフィルム巻取手段を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のフィルム剥離装置。   The film peeling apparatus according to claim 1, further comprising a film winding unit that winds and collects the protective film peeled by the peeling mechanism. 前記フィルム巻取手段は、
前記剥離機構によって剥離された前記保護フィルムが巻き付けられる芯体と、
前記芯体を回転可能に支持する芯体支持手段と、
前記芯体を回転駆動させる芯体駆動手段と、
前記芯体と前記芯体駆動手段との間の回転駆動力の伝達量を調整するクラッチ機構と
を備えることを特徴とする請求項4に記載のフィルム剥離装置。
The film winding means includes
A core around which the protective film peeled off by the peeling mechanism is wound;
Core body support means for rotatably supporting the core body;
Core driving means for rotating the core, and
The film peeling apparatus according to claim 4, further comprising a clutch mechanism that adjusts a transmission amount of a rotational driving force between the core body and the core body driving unit.
前記芯体は、前記芯体支持手段によって着脱可能に支持されることを特徴とする請求項5に記載のフィルム剥離装置。   6. The film peeling apparatus according to claim 5, wherein the core body is detachably supported by the core body supporting means. 前記テープ貼付手段は、
前記テープを繰り出すテープ繰出手段と、
前記テープ繰出手段によって繰り出された前記テープを切断するテープ切断手段と、
前記テープ繰出手段によって繰り出された前記テープを前記基板の基板端部に押し付けるテープ押付手段と
を備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のフィルム剥離装置。
The tape applying means is
A tape feeding means for feeding out the tape;
Tape cutting means for cutting the tape fed by the tape feeding means;
The film peeling apparatus according to any one of claims 1 to 6, further comprising a tape pressing unit that presses the tape fed by the tape feeding unit against a substrate end portion of the substrate.
前記テープは、粘着層を有する粘着テープであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のフィルム剥離装置。   The film peeling apparatus according to claim 1, wherein the tape is an adhesive tape having an adhesive layer. 前記保護フィルムが前記基板の両面に設けられ、
両面にある前記保護フィルムのうちいずれか一方が前記基板から剥離された後に前記基板を反転させる反転機構を備えた
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のフィルム剥離装置。
The protective film is provided on both sides of the substrate;
The film peeling apparatus according to claim 1, further comprising a reversing mechanism for reversing the substrate after any one of the protective films on both sides is peeled from the substrate. .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140042499A (en) * 2012-09-28 2014-04-07 엘지디스플레이 주식회사 Cutting apparatus and method for protect film
KR20180047039A (en) * 2016-10-31 2018-05-10 (주)트라이시스 Film Editor

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4666514B2 (en) 2006-07-20 2011-04-06 リンテック株式会社 Sheet peeling apparatus and peeling method
US10541160B2 (en) * 2009-12-29 2020-01-21 Nikon Corporation Substrate case and substrate accommodation apparatus
KR20140082443A (en) * 2012-12-24 2014-07-02 삼성전기주식회사 Protection film removal device and method of manufacturing the same
KR101518963B1 (en) * 2014-11-11 2015-05-12 주식회사 코엠에스 Semiconducter Substrate Protect Film Series Peeling Method
CN109013383B (en) * 2018-07-04 2024-02-09 深圳市哈德胜精密科技股份有限公司 Full-automatic detector and detection leak repairing method
CN112751050B (en) * 2020-12-30 2023-01-24 广东利元亨智能装备股份有限公司 Glue stripping equipment

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140042499A (en) * 2012-09-28 2014-04-07 엘지디스플레이 주식회사 Cutting apparatus and method for protect film
KR102052129B1 (en) * 2012-09-28 2019-12-04 엘지디스플레이 주식회사 Cutting Apparatus and Method for Protect Film
KR20180047039A (en) * 2016-10-31 2018-05-10 (주)트라이시스 Film Editor

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