JP4276890B2 - Scanning mechanism and scanning probe microscope using the same - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、走査型顕微鏡等において走査対象物を一定のパターンで移動させるための走査機構に関する。
【0002】
【従来の技術】
走査機構を用いた装置のひとつに走査型プローブ顕微鏡がある。走査型プローブ顕微鏡(SPM)は、機械的探針を機械的に走査して試料表面の情報を得る走査型顕微鏡であり、走査型トンネリング顕微鏡(STM)、原子間力顕微鏡(AFM)、走査型磁気力顕微鏡(MFM)、走査型電気容量顕微鏡(SCaM)、走査型近接場光顕微鏡(SNOM)、走査型熱顕微鏡(SThM)などを含む。最近では試料表面にダイヤモンド製の探針を押しつけて圧痕をつけ、その圧痕のつき具合を解析して試料の固さなどを調べるナノインデンテータ等もこのSPMのひとつと位置づけられており、前述の各種の顕微鏡と共に広く普及している。
【0003】
走査型プローブ顕微鏡で用いられる走査機構は、例えば機械的探針と試料とを相対的にXY方向にラスター走査し所望の試料領域の表面情報を機械的探針を介して得るものである。XY走査の間、Z方向についても試料と探針との相互作用が一定になるようフィードバック制御してZ方向の移動を担う走査機構を動かしている。このZ方向の動きは規則的な動きをするXY方向の動きとは異なり、試料の表面形状や表面状態を反映するため不規則な動きとなるが、一般にZ方向の走査動作とされている。このZ方向の走査はXYZ方向の各走査の中で最も高い周波数での動きとなる。
【0004】
走査型プローブ顕微鏡のX方向の走査周波数は0.05から200Hz程度であり、Y方向の走査周波数は、X方向走査周波数のY方向走査ライン数分の1程度であって、Y方向走査ライン数は10から1000ラインである。またZ方向の走査周波数はX走査方向周波数に対し、X方向走査1ラインあたりの画素数倍からその100倍程度である。
【0005】
例えば、X方向100画素、Y方向100画素の画像を1秒で取り込むとき、X方向の走査周波数は100Hz、Y方向の走査周波数は1Hz、Z方向の走査周波数は10kHz以上となる。なお、この例の走査周波数は走査型プローブ顕微鏡としては今のところ最も高い走査周波数にあたり、通常はX方向走査周波数は数Hz程度に留まっている。この例のような高い走査周波数を実現するには、その走査機構は、外部からの振動に対し安定であるのはもちろん、内部の走査動作にともない自分自身で発生する振動が小さく抑えられていることが求められる。
【0006】
特開2001−3304025号公報は、振動の発生が小さく抑えられた走査機構を開示している。
【0007】
図7は、特開2001−3304025号公報に開示されている走査機構のひとつを示している。
【0008】
図7に示されるように、この走査機構200は、走査機構保持台201と、これに固定されたアクチュエータ台座202、203と、伸縮可能なアクチュエータ204、205、206とを有している。アクチュエータ204はアクチュエータ保持部207を介してアクチュエータ台座202に支持されている。アクチュエータ205はアクチュエータ保持部208を介してアクチュエータ台座203に支持されている。アクチュエータ206はアクチュエータ保持部209と210を介してアクチュエータ台座202と203に支持されている。アクチュエータ206の端部には、走査対象物すなわち試料を保持するための試料保持部211が取り付けられている。
【0009】
アクチュエータ206に面するアクチュエータ204の端面に微小球212が取り付けられており、この微小球212はアクチュエータ206の一側面に当て付けられている。アクチュエータ206に面するアクチュエータ205の端面に微小球213が取り付けられており、この微小球213はアクチュエータ206の一側面に当て付けられている。
【0010】
図8は、特開2001−3304025号公報に開示されている別の走査機構を示している。
【0011】
図8に示されるように、この走査機構は、XY走査のための平行ばねステージ構造のXYステージと、Z走査のためのアクチュエータ606を有している。XYステージは、固定テーブル601と、可動テーブル607と、可動テーブル607のY軸に沿った両側に設けられた一対の弾性部材608、609と、可動テーブル607のX軸に沿った両側に設けられた一対の弾性部材610、611と、可動テーブル607をX軸に沿って移動させるための一対のX方向用アクチュエータ602、603と、可動テーブル607をY軸に沿って移動させるための一対のY方向用アクチュエータ604、605とを有している。
【0012】
弾性部材608、609は、X軸に沿って延びるスリットを持つX軸に沿って長い矩形ばねであり、それぞれ、X軸に沿っては比較的高い剛性を有し、反対に、Y軸に沿っては比較的低い剛性を有している。弾性部材610、611は、Y軸に沿って延びるスリットを持つY軸に沿って長い矩形ばねであり、それぞれ、Y軸に沿っては比較的高い剛性を有し、反対に、X軸に沿っては比較的低い剛性を有している。
【0013】
図9は、特開2001−3304025号公報に開示されている別の走査機構を示している。
【0014】
図9に示されるように、この走査機構1200は、走査機構保持台1201と、これに固定されたアクチュエータ保持部1206と、このアクチュエータ保持部1206に取り付けられたY軸に沿って伸縮可能なY走査用アクチュエータ1202と、Y走査用アクチュエータ1202の他端に取り付けられたブロック1208と、ブロック1208に固定されたアクチュエータ保持部1209と、このアクチュエータ保持部1209に取り付けられたX軸に沿って伸縮可能なX走査用アクチュエータ1203と、X走査用アクチュエータ1203の他端に取り付けられたアクチュエータ連結部1211と、アクチュエータ連結部1211に固定されたZ軸に沿って伸縮可能な二本のアクチュエータ1204、1205とを有している。
【0015】
アクチュエータ保持部1206はねじ1207によって走査機構保持台1201に固定され、アクチュエータ保持部1209はねじ1210によってブロック1208に固定されている。ブロック1208は、走査機構保持台1201と抑え板1212との間に位置し、微小球1216、1222、1224、1225、1215によって挟み込まれている。走査機構保持台1201と抑え板1212は、互いに平行に固定されるように、ねじ1213、1214によって間隔が調整されている。アクチュエータ連結部1211は、ブロック1208と抑え板1217との間に位置し、微小球1219、1220により上から、また微小球1221により下から支えられている。ブロック1208と抑え板1217は、互いに平行に固定されるように、ねじ1218、1227によって間隔が調整されている。
【0016】
【特許文献1】
特開2001−3304025号公報
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
走査機構には、結局のところ、高い走査速度が望まれる。勿論、それは、高い線形性を有していること、すなわち、走査対象物を直線的に移動させることを前提としてである。
【0018】
上述した走査機構は、それぞれ、以下の様な不具合を有している。
【0019】
図7に示される走査機構は、XY走査の際、アクチュエータ206はアクチュエータ保持部209と210を中心に回転して移動するため、走査対象物は直線から外れて移動される。つまり、この走査機構は、線形性が高くはない。
【0020】
図8に示される走査機構は、XY走査の際、可動テーブル607は、二つのアクチュエータ602と603によってX方向に、二つのアクチュエータ604と605によってY方向に移動される。これらのアクチュエータを構成する圧電素子は個体差が大きい。このため、走査対象物は直線から外れて移動され易い。つまり、この走査機構は、線形性が高くはない。
【0021】
また、可動テーブル607は、X軸に沿って長い矩形ばね608と609とアクチュエータ602と603とを介して、また、Y軸に沿って長い矩形ばね610と611とアクチュエータ604と605とを介して、固定テーブル601と接続されている。このように機械的結合長さが長いため、可動テーブル607は振動し易い。従って、対応し得る走査速度の上限が高くはない。
【0022】
図9に示される走査機構では、Y走査用アクチュエータ1202の中心軸が、Y走査用アクチュエータ1202によって移動される部分の重心位置を外れている。このため、Y走査用アクチュエータ1202が特に高速で動作された場合に、慣性力により大きな回転モーメントが発生し易い。また、Y走査用アクチュエータ1202によって移動される部分が移動し得る方向がY方向に拘束されていない。このため、Y走査用アクチュエータ1202が特に高速で動作された場合に、走査対象物は直線から外れて移動され易い。
【0023】
本発明は、この様な実状を考慮して成されたものであり、その目的は、対応し得る走査速度の上限が高い走査機構を提供することである。
【0024】
【課題を解決するための手段】
本発明は、走査対象物を一定のパターンで移動させる走査機構に向けられており、以下の各項に列記する走査機構を含んでいる。
【0025】
1.本発明の走査機構は、互いに直交するX軸とY軸とZ軸とを有しており、固定台と、固定台に収容されたXYステージと、XYステージと固定台の間にX軸に沿って延びているXアクチュエーターと、XYステージと固定台の間にY軸に沿って延びているYアクチュエーターとを備えている。XYステージは、X軸とY軸に沿って移動される可動部と、可動部の周囲に位置する固定部と、可動部のX軸に沿った両側に位置し、可動部と固定部を接続している一対の第一の弾性支持部と、可動部のY軸に沿った両側に位置し、可動部と固定部を接続している一対の第二の弾性支持部と、可動部のZ軸に沿った片側に位置し、可動部と固定部を接続している少なくとも一つの第三の弾性支持部とを有している。Xアクチュエーターは、第一の弾性支持部と固定台に接して延びており、X軸に沿って伸縮し得、Yアクチュエーターは、第二の弾性支持部と固定台に接して延びており、Y軸に沿って伸縮し得る。
【0026】
この走査機構においては、X軸とY軸に沿って移動される可動部が、X軸に沿った両側に位置する第一の弾性支持部と、Y軸に沿った両側に位置する第二の弾性支持部に加えて、Z軸に沿った片側に位置する第三の弾性支持部によって支持されている。このため、この走査機構は、高い共振周波数を有する。
【0027】
2.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、可動部と固定部と第一の弾性支持部と第二の弾性支持部と第三の弾性支持部は一体的に形成されている。
【0028】
この走査機構においては、XYステージが高い共振周波数を有する。
【0029】
3.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、第一の弾性支持部は、ZX面に広がる板状部分と、YZ面に広がる板状部分とを有し、第二の弾性支持部は、YZ面に広がる板状部分と、ZX面に広がる板状部分とを有している。
【0030】
この走査機構においては、第一の弾性支持部と第二の弾性支持部の好適な一態様を示している。
【0031】
4.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、XYステージは、複数の第三の弾性支持部を有しており、第三の弾性支持部は、それぞれ、棒状の形状を有しており、可動部の重心を通りZ軸に平行な直線に対して対称性良く位置している。
【0032】
この走査機構においては、第三の弾性支持部の好適な一態様を示している。
【0033】
5.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、Xアクチュエーターの中心軸は可動部の重心を通り、Yアクチュエーターの中心軸は可動部の重心を通っている。
【0034】
この走査機構においては、可動部に不所望な回転が発生しない。
【0035】
6.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、XアクチュエーターとYアクチュエーターは、それぞれ、積層型圧電素子で構成され、それらは、それぞれ、電圧印加に応じてX軸とY軸に沿って伸縮する。
【0036】
この走査機構においては、XアクチュエーターとYアクチュエーターの好適な一態様を示している。
【0037】
7.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、固定台の材質は、XYステージの材質よりも、高いヤング率を有している。
【0038】
この走査機構においては、XアクチュエーターとYアクチュエーターの伸びすなわち変位が可動部に効率良く伝えられる。
【0039】
8.本発明の別の走査機構は、第1項の走査機構において、XYステージの可動部に固定されたZステージを更に備えており、Zステージは、Z軸に沿って伸縮し得る少なくとも一つのZアクチュエーターを有し、Zアクチュエーターの中心軸直線は可動部の重心を通っている。
【0040】
この走査機構においては、走査対象物はZ軸に沿っても移動され得る。
【0041】
9.本発明の別の走査機構は、第8項の走査機構において、Zステージは、Z軸に沿って伸縮し得る二つのZアクチュエーターを有し、二つのZアクチュエーターはそれぞれXYステージの可動部からZ軸に沿って反対側に延びている。
【0042】
この走査機構においては、二つのZアクチュエーターを同じ量だけ逆向きに伸縮されることにより、不所望な振動の発生が抑えられる。
【0043】
本発明は、また、第1項〜第9項のいずれかひとつの走査機構を用いた走査型プローブ顕微鏡も含んでいる。
【0044】
この走査型プローブ顕微鏡においては、走査機構が高い共振周波数を有するので、高速走査に好適に対応し得る。
【0045】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。
【0046】
第一実施形態
本実施形態は、走査機構に向けられている。以下、図1と図2を参照しながら本実施形態について説明する。
【0047】
図1は、本発明の第一実施形態の走査機構の上面図である。図2は、図1に示されたII−II線に沿った走査機構の断面図である。
【0048】
図1と図2に示されるように、本実施形態の走査機構100Aは、互いに直交する三本の軸、すなわちX軸とY軸とZ軸とを有しており、固定台101と、固定台101に収容されたXYステージ109と、XYステージ109と固定台101の間にX軸に沿って延びているXアクチュエーター102Aと、XYステージ109と固定台101の間にY軸に沿って延びているYアクチュエーター102Bとを備えている。
【0049】
XYステージ109は、X軸とY軸に沿って移動される可動部104と、可動部104の周囲に位置する固定部105と、可動部104のX軸に沿った両側に位置し、可動部104と固定部105を接続している一対の第一の弾性支持部106Aと106Cと、可動部104のY軸に沿った両側に位置し、可動部104と固定部105を接続している一対の第二の弾性支持部106Bと106Dと、可動部104のZ軸に沿った片側すなわち下側に位置し、可動部104と固定部105を接続している四つの第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dとを有している。
【0050】
XYステージ109の固定部105は、これに限定されないが、例えば、ねじ締結や接着によって固定台101に固定されている。
【0051】
第一の弾性支持部106Aと106Cは、Y軸に沿っては比較的容易に弾性変形し得るが、X軸に沿っては変形し難い。第二の弾性支持部106Bと106Dは、X軸に沿っては比較的容易に弾性変形し得るが、Y軸に沿っては変形し難い。第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは、X軸に沿ってもY軸に沿っても比較的容易に弾性変形し得るが、Z軸に沿っては変形し難い。
【0052】
従って、可動部104は、第一の弾性支持部106Aと106Cにより、X軸に沿った方向に関して高剛性に支持され、第二の弾性支持部106Bと106Dにより、Y軸に沿った方向に関して高剛性に支持され、第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dにより、Z軸に沿った方向に関して高剛性に支持されている。
【0053】
第一の弾性支持部106Aと106Cと第二の弾性支持部106Bと106Dは共にT字形状を有している。第一の弾性支持部106Aと106Cは、それぞれ、ZX面に広がる板状部分と、YZ面に広がる板状部分とを有している。また、第二の弾性支持部106Bと106Dは、それぞれ、YZ面に広がる板状部分と、ZX面に広がる板状部分とを有している。
【0054】
より詳しくは、第一の弾性支持部106Aと106Cは、ZX面に広がりX軸に沿って細長い矩形の板状部分と、YZ面に広がりY軸に沿って細長い矩形の板状部分とを有している。X軸に沿って細長い矩形の板状部分は、X軸に沿った一方の端部が可動部104と連続し、X軸に沿った一方の端部がY軸に沿って細長い矩形の板状部分の中央部と連続している。Y軸に沿って細長い矩形の板状部分は、Y軸に沿った両端部が固定部105と連続している。これらの板状部分の厚さすなわちZ軸に沿った寸法は共に、可動部104の厚さと同じである。
【0055】
第二の弾性支持部106Bと106Dは、向きが90度異なる点を除けば、第一の弾性支持部106Aと106Cと全く同じ形態を有している。
【0056】
さらに、Xアクチュエーター102Aの側に位置する第一の弾性支持部106Cは、Xアクチュエーター102Aによって押される押圧部108Aを有し、また、Yアクチュエーター102Bの側に位置する第二の弾性支持部106Dは、Yアクチュエーター102Bによって押される押圧部108Bを有している。
【0057】
第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは、それぞれ、可動部104の重心を通りZ軸に平行な直線に対して対称性良く位置している。例えば、第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは、いずれも、棒状の形状を有し、Z軸に平行に延びている。
【0058】
第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは、可動部104の重心から等距離にあり、可動部104の重心を通りZ軸に平行な直線に対して均等に配置されている。つまり、第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dの中心は、それぞれ、可動部104の重心を通りZ軸に平行な直線上に中心がある円周上に90度の角度間隔で位置している。
【0059】
好ましくは、可動部104と固定部105と第一の弾性支持部106Aと106Cと第二の弾性支持部106Bと106Dと第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは一体的に形成されている。例えば、XYステージ109は、一体の部品、例えばアルミニウム製の金属のブロックを選択的に切り欠いて作製される。
【0060】
固定台101の材質は、好ましくは、XYステージ109の材質よりも、高いヤング率を有している。例えば、固定台101はステンレス鋼製で、XYステージ109はアルミニウム製である。
【0061】
Xアクチュエーター102Aは、第一の弾性支持部106Cの押圧部108Aと固定台101の間に所定の予圧がかかるように配置されている。例えば、Xアクチュエーター102Aは積層型圧電素子であり、電圧印加に応じてX軸に沿って伸縮する。また、Yアクチュエーター102Bは、第二の弾性支持部106Dの押圧部108Bと固定台101の間に所定の予圧がかかるように配置されている。例えば、Yアクチュエーター102Bは積層型圧電素子であり、電圧印加に応じてY軸に沿って伸縮する。
【0062】
Xアクチュエーター102Aの中心軸すなわちXアクチュエーター102Aの中心を通りX軸に平行な直線は可動部104の重心Gを通っている。同様に、Yアクチュエーター102Bの中心軸すなわちYアクチュエーター102Bの中心を通りY軸に平行な直線は可動部104の重心Gを通っている。
【0063】
走査機構100Aは更に、XYステージ109の可動部104に固定された二つのZアクチュエーター103Aと103Bを有している。二つのZアクチュエーター103Aと103BはそれぞれXYステージ109の可動部104からZ軸に沿って反対側に延びている。
【0064】
Zアクチュエーター103Aと103Bは、例えば、積層型圧電素子で構成され、電圧印加に応じてZ軸に沿って伸縮する。Zアクチュエーター103Aと103Bの中心軸すなわちZアクチュエーター103Aと103Bの中心を通りZ軸に平行な直線は可動部104の重心を通っている。
【0065】
これら二つのZアクチュエーター103Aと103BはZステージを構成しており、上側のZアクチュエーター103Aの自由端に走査対象物が取り付けられる。走査対象物の質量が大きい場合、好ましくは、下側のZアクチュエーター103Bの自由端に移動対象物と同等の質量を持つ部材が取り付けられるとよい。
【0066】
走査機構100Aにおいて、X走査の際、Xアクチュエーター102AがX軸に沿って伸縮される。Xアクチュエーター102Aの伸びは第一の弾性支持部106Cを介して可動部104を押し、これにより可動部104がX軸に沿って一方向に移動され、これに伴って第二の弾性支持部106Bと106DはX軸に沿って弾性変形される。一方、Xアクチュエーター102Aの縮みは弾性変形している第二の弾性支持部106Bと106Dの復元の妨げを軽減し、これに伴って第二の弾性支持部106Bと106Dが元の形状に近づくため、可動部104がX軸に沿って逆方向に移動される。
【0067】
同様に、Y走査の際、Yアクチュエーター102BがY軸に沿って伸縮される。Yアクチュエーター102Bの伸びは第二の弾性支持部106Dを介して可動部104を押し、これにより可動部104がY軸に沿って一方向に移動され、これに伴って第一の弾性支持部106Aと106CはY軸に沿って弾性変形される。Yアクチュエーター102Bの縮みは弾性変形している第一の弾性支持部106Aと106Cの復元の妨げを軽減し、これに伴って第一の弾性支持部106Aと106Cが元の形状に近づくため、可動部104がY軸に沿って逆方向に移動される。
【0068】
このような可動部104のX軸とY軸に沿った移動において、第一の弾性支持部106Aと106CはY軸に対して対称的に配置され、第二の弾性支持部106Bと106DはX軸に対して対称的に配置されているため、可動部104はXY平面内で回転動作することなく移動する。また、第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは平行ばねとして作用するため、可動部104は、上面がXY平面に対して傾斜することなく、すなわち上面とXY平面の平行を保ったまま、水平に移動する。
【0069】
さらに、Xアクチュエーター102AとYアクチュエーター102Bの中心軸が可動部104の重心Gを通るため、可動部104が高速で移動された場合も、慣性力による回転モーメントが発生し難い。このため、可動部104は回転動作なく高精度に変位する。
【0070】
Xアクチュエーター102AとYアクチュエーター102Bの伸びは、第一の弾性支持部106Aと106Cと第二の弾性支持部106Bと106Dをそれぞれ変形させ、その結果、それらの変形の反作用は、Xアクチュエーター102AとYアクチュエーター102Bがそれぞれ固定されている固定台101の部位にそれぞれ働く。固定台101の材質のヤング率がXYステージ109のそれよりも高い場合、固定台101に引き起こされる変形が小さいため、Xアクチュエーター102AとYアクチュエーター102Bの伸びすなわち変位はそれぞれ押圧部108Aと108Bに効率良く伝えられる。
【0071】
また、Z走査の際、Zアクチュエーター103Aと103Bが、同じ量だけ逆向きに伸縮される。これにより、Zアクチュエーター103Aの伸縮が可動部104に与えるZ軸に沿った力が、Zアクチュエーター103Bの伸縮によって打ち消される。このため、可動部104は殆ど振動しない。
【0072】
Zアクチュエーター103Aと103Bの中心軸が可動部104の重心を通り、さらに、第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dは可動部104の重心を通りZ軸に平行な直線に対して対称的に配置されているため、Zアクチュエーター103Aと103Bが高速で駆動された場合も、可動部104の上面は殆ど傾くことがない。これにより、高精度な動作が可能となる。
【0073】
本実施形態の走査機構100Aでは、X軸とY軸に沿って移動される可動部104が、X軸に沿った両側に位置する第一の弾性支持部106Aと106Cと、Y軸に沿った両側に位置する第二の弾性支持部106Bと106Dに加えて、Z軸に沿った片側に位置する第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dによって支持されている。このため、走査機構100Aは高い共振周波数を有する。従って、走査機構100Aは、対応し得る走査速度の上限が高い。
【0074】
例えば、本実施形態の走査機構100Aは、X軸とY軸に沿った方向に関して25kHz、Z軸に沿った方向に関して40kHzの共振周波数を有する。比較例として、走査機構100Aから第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dを省いた構造体を考える。このような構造体は、たかだか、X軸とY軸に沿った方向に関して18kHz、Z軸に沿った方向に関して20kHzの共振周波数を有するに留まる。
【0075】
第二実施形態
本実施形態は、別の走査機構に向けられている。以下、図3と図4を参照しながら本実施形態について説明する。
【0076】
図3は、本発明の第二実施形態の走査機構の上面図である。図4は、図3に示されたIV−IV線に沿った走査機構の断面図である。図3と図4において、図1や図2に示された部材と同一の参照符号で指示された部材は同様の部材であり、その詳しい説明は省略する。
【0077】
図3と図4に示されるように、本実施形態の走査機構100Bは、第一実施形態の走査機構100Aから、可動部104の下側のZアクチュエーター103Bが省かれた構成を有している。つまり、本実施形態の走査機構100Bは、XYステージ109の可動部104に固定されたただ一つのZアクチュエーター103Aを有している。Zアクチュエーター103AはXYステージ109の可動部104からZ軸に沿って上側に延びている。
【0078】
本実施形態の走査機構100Bは、第一実施形態の走査機構100Aと同様に、X軸とY軸に沿って移動される可動部104が、X軸に沿った両側に位置する第一の弾性支持部106Aと106Cと、Y軸に沿った両側に位置する第二の弾性支持部106Bと106Dに加えて、Z軸に沿った片側に位置する第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dによって支持されている。このため、走査機構100Bは、高い共振周波数を有しており、対応し得る走査速度の上限が高い。
【0079】
本実施形態の走査機構100Bは、第一実施形態の走査機構100Aと比べてZアクチュエーター103Aの伸縮により可動部104に振動が引き起こされ易い。その反面、本実施形態の走査機構100Bは、第一実施形態の走査機構100Aと比べて、可動部104の下側のZアクチュエーター103Bを持たない分、組立が容易になると共に製造コストが安価になる。また、走査時に移動される部分の質量が小さい分、可動部の固有振動数が高く、高速での走査にも対応し得る。
【0080】
第三実施形態
本実施形態は、別の走査機構に向けられている。以下、図5と図6を参照しながら本実施形態について説明する。
【0081】
図5は、本発明の第三実施形態の走査機構の上面図である。図6は、図5に示されたVI−VI線に沿った走査機構の断面図である。図5と図6において、図1や図2に示された部材と同一の参照符号で指示された部材は同様の部材であり、その詳しい説明は省略する。
【0082】
図5と図6に示されるように、本実施形態の走査機構100Cは、第一実施形態の走査機構100Aに、ダンパーを付加した構成を有している。つまり、本実施形態の走査機構100Cは、可動部104の上に置かれたダンピング部材110と、ダンピング部材110に接し、固定台101に固定されたカバー111とを更に備えている。カバー111は、これに限定されないが、例えば、ねじ締結や接着によって固定台101に固定されている。ダンピング部材110は、これに限定されないが、例えば、ゴムやゲル状物質から成る。
【0083】
本実施形態の走査機構100Cは、第一実施形態の走査機構100Aと同様に、X軸とY軸に沿って移動される可動部104が、X軸に沿った両側に位置する第一の弾性支持部106Aと106Cと、Y軸に沿った両側に位置する第二の弾性支持部106Bと106Dに加えて、Z軸に沿った片側に位置する第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dによって支持されている。このため、走査機構100Bは、高い共振周波数を有しており、対応し得る走査速度の上限が高い。
【0084】
可動部104は、このように高剛性に支持されているが、可動部104の固有振動数とほぼ等しい周波数の力を受けると、それが非常に小さな力であっても容易に振動してしまう。
【0085】
本実施形態の走査機構100Cでは、可動部104の振動はダンピング部材110によって速やかに減衰される。従って、本実施形態の走査機構100Cにおいては、可動部104の固有振動数とほぼ等しい周波数の力が働いたときでも、可動部104は不所望な振動を殆ど起こさない。
【0086】
これまで、図面を参照しながら本発明の実施の形態を述べたが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において様々な変形や変更が施されてもよい。
【0087】
上述したいずれの実施形態においては、XYステージ109は、可動部と固定部を接続している四つの第三の弾性支持部107Aと107Bと107Cと107Dを有しているが、その個数はこれに限定されない。
【0088】
例えば、第二実施形態においては、XYステージ109は、ただ一つの第三の弾性支持部を有していもよい。その場合、ただ一つの第三の弾性支持部の中心軸は、可動部の重心を通りZ軸に平行な直線に一致しているとよい。
【0089】
また、第一実施形態〜第三実施形態のいずれにおいては、XYステージ109は、四つ以外の複数の第三の弾性支持部を有していもよい。その場合、複数の第三の弾性支持部は、可動部の重心を通りZ軸に平行な直線の周りに等間隔で位置しているとよい。
【0090】
つまり、XYステージ109は、少なくとも一つの第三の弾性支持部を有していればよく、より好ましくは、それらは、可動部の重心を通りZ軸に平行な直線に対して対称性良く位置しているとよい。
【0091】
【発明の効果】
本発明によれば、対応し得る走査速度の上限が高い走査機構が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第一実施形態の走査機構の上面図である。
【図2】 図1に示されたII−II線に沿った走査機構の断面図である。
【図3】 本発明の第二実施形態の走査機構の上面図である。
【図4】 図3に示されたIV−IV線に沿った走査機構の断面図である。
【図5】 本発明の第三実施形態の走査機構の上面図である。
【図6】 図5に示されたVI−VI線に沿った走査機構の断面図である。
【図7】 特開2001−3304025号公報に開示されている走査機構のひとつを示している。
【図8】 特開2001−3304025号公報に開示されている別の走査機構を示している。
【図9】 特開2001−3304025号公報に開示されている別の走査機構を示している。
【符号の説明】
100A…走査機構、100B…走査機構、100C…走査機構、101…固定台、102A…Xアクチュエーター、102B…Yアクチュエーター、103A…Zアクチュエーター、103B…Zアクチュエーター、104…可動部、105…固定部、106A,106C…第一の弾性支持部、106B,106D…第二の弾性支持部、107A,107B,107C,107D…第三の弾性支持部、109…XYステージ。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a scanning mechanism for moving a scanning object in a fixed pattern in a scanning microscope or the like.
[0002]
[Prior art]
One of the apparatuses using the scanning mechanism is a scanning probe microscope. A scanning probe microscope (SPM) is a scanning microscope that mechanically scans a mechanical probe to obtain information on the surface of a sample, and includes a scanning tunneling microscope (STM), an atomic force microscope (AFM), and a scanning type. Includes a magnetic force microscope (MFM), a scanning capacitance microscope (SCaM), a scanning near-field light microscope (SNOM), a scanning thermal microscope (SThM), and the like. Recently, a nano-indenter that presses a diamond probe on the sample surface to make an impression, analyzes the condition of the impression to check the hardness of the sample, etc. is also positioned as one of these SPMs. Widely used with various microscopes.
[0003]
A scanning mechanism used in a scanning probe microscope is, for example, a method in which a mechanical probe and a sample are raster-scanned relatively in the X and Y directions to obtain surface information of a desired sample region via the mechanical probe. During XY scanning, the scanning mechanism responsible for movement in the Z direction is moved by feedback control so that the interaction between the sample and the probe is constant in the Z direction. This movement in the Z direction is different from the movement in the XY direction, which is a regular movement, and is an irregular movement because it reflects the surface shape and surface state of the sample, but is generally a scanning operation in the Z direction. This scanning in the Z direction is the movement at the highest frequency among the scanning in the XYZ directions.
[0004]
The scanning probe microscope has a scanning frequency in the X direction of about 0.05 to 200 Hz, the scanning frequency in the Y direction is about one-tenth the number of Y-direction scanning lines of the X-direction scanning frequency, and the number of Y-direction scanning lines. Is 10 to 1000 lines. The scanning frequency in the Z direction is about 100 times the number of pixels per line in the X direction scanning with respect to the frequency in the X scanning direction.
[0005]
For example, when an image of 100 pixels in the X direction and 100 pixels in the Y direction is captured in 1 second, the scanning frequency in the X direction is 100 Hz, the scanning frequency in the Y direction is 1 Hz, and the scanning frequency in the Z direction is 10 kHz or more. Note that the scanning frequency in this example is the highest scanning frequency for a scanning probe microscope so far, and the X-direction scanning frequency is usually only about several Hz. In order to realize a high scanning frequency as in this example, the scanning mechanism is not only stable against external vibrations, but also suppresses vibrations generated by itself due to internal scanning operations. Is required.
[0006]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-334025 discloses a scanning mechanism in which the occurrence of vibration is suppressed to a small level.
[0007]
FIG. 7 shows one of scanning mechanisms disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-334025.
[0008]
As shown in FIG. 7, the
[0009]
A
[0010]
FIG. 8 shows another scanning mechanism disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-334025.
[0011]
As shown in FIG. 8, this scanning mechanism has an XY stage having a parallel spring stage structure for XY scanning, and an
[0012]
The
[0013]
FIG. 9 shows another scanning mechanism disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-334025.
[0014]
As shown in FIG. 9, the
[0015]
The
[0016]
[Patent Document 1]
JP 2001-304025 A
[0017]
[Problems to be solved by the invention]
After all, a high scanning speed is desired for the scanning mechanism. Of course, it is premised on having high linearity, that is, moving the scanning object linearly.
[0018]
Each of the scanning mechanisms described above has the following problems.
[0019]
In the scanning mechanism shown in FIG. 7, during the XY scanning, the
[0020]
In the scanning mechanism shown in FIG. 8, during XY scanning, the movable table 607 is moved in the X direction by the two
[0021]
In addition, the movable table 607 is connected via long
[0022]
In the scanning mechanism shown in FIG. 9, the central axis of the
[0023]
The present invention has been made in consideration of such a situation, and an object of the present invention is to provide a scanning mechanism having a high upper limit of the scanning speed that can be handled.
[0024]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is directed to a scanning mechanism that moves a scanning object in a fixed pattern, and includes scanning mechanisms that are listed in the following items.
[0025]
1. The scanning mechanism of the present invention has an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis that are orthogonal to each other. The X-axis is located between the fixed base, the XY stage accommodated in the fixed base, and the XY stage and the fixed base. An X actuator extending along the Y axis, and a Y actuator extending along the Y axis between the XY stage and the fixed base. The XY stage is located on both sides of the movable part along the X axis of the movable part, the movable part moved along the X axis and the Y axis, the fixed part located around the movable part, and connected to the movable part. A pair of first elastic support portions, a pair of second elastic support portions located on both sides along the Y-axis of the movable portion and connecting the movable portion and the fixed portion, and Z of the movable portion It has at least one third elastic support part which is located on one side along the axis and which connects the movable part and the fixed part. The X actuator extends in contact with the first elastic support portion and the fixed base and can expand and contract along the X axis, and the Y actuator extends in contact with the second elastic support portion and the fixed base. Can expand and contract along the axis.
[0026]
In this scanning mechanism, the movable part moved along the X axis and the Y axis has a first elastic support part located on both sides along the X axis, and a second part located on both sides along the Y axis. In addition to the elastic support part, it is supported by a third elastic support part located on one side along the Z-axis. For this reason, this scanning mechanism has a high resonance frequency.
[0027]
2. Another scanning mechanism of the present invention is the scanning mechanism according to the first item, wherein the movable portion, the fixed portion, the first elastic support portion, the second elastic support portion, and the third elastic support portion are integrally formed. Yes.
[0028]
In this scanning mechanism, the XY stage has a high resonance frequency.
[0029]
3. Another scanning mechanism of the present invention is the scanning mechanism according to the first item, wherein the first elastic support portion includes a plate-like portion extending on the ZX plane and a plate-like portion extending on the YZ plane, and the second elastic support portion. The support part has a plate-like portion extending on the YZ plane and a plate-like portion extending on the ZX plane.
[0030]
In this scanning mechanism, the suitable one aspect | mode of the 1st elastic support part and the 2nd elastic support part is shown.
[0031]
4). Another scanning mechanism of the present invention is the scanning mechanism according to the first item, wherein the XY stage has a plurality of third elastic support portions, and each of the third elastic support portions has a rod-like shape. It is positioned with good symmetry with respect to a straight line passing through the center of gravity of the movable part and parallel to the Z axis.
[0032]
In this scanning mechanism, the suitable one aspect | mode of the 3rd elastic support part is shown.
[0033]
5. According to another scanning mechanism of the present invention, in the scanning mechanism of the first item, the central axis of the X actuator passes through the center of gravity of the movable part, and the central axis of the Y actuator passes through the center of gravity of the movable part.
[0034]
In this scanning mechanism, undesired rotation does not occur in the movable part.
[0035]
6). According to another scanning mechanism of the present invention, in the scanning mechanism according to the first item, the X actuator and the Y actuator are each composed of a laminated piezoelectric element, and they are respectively in the X axis and the Y axis according to voltage application. Stretch along.
[0036]
In this scanning mechanism, a preferred embodiment of an X actuator and a Y actuator is shown.
[0037]
7). According to another scanning mechanism of the present invention, in the scanning mechanism according to the first item, the material of the fixed base has a higher Young's modulus than the material of the XY stage.
[0038]
In this scanning mechanism, the extension or displacement of the X and Y actuators is efficiently transmitted to the movable part.
[0039]
8). Another scanning mechanism of the present invention further includes a Z stage fixed to the movable part of the XY stage in the scanning mechanism of the first item, and the Z stage can expand and contract along the Z axis. It has an actuator, and the central axis of the Z actuator passes through the center of gravity of the movable part.
[0040]
In this scanning mechanism, the scanning object can also be moved along the Z axis.
[0041]
9. According to another scanning mechanism of the present invention, in the scanning mechanism according to item 8, the Z stage has two Z actuators that can expand and contract along the Z axis, and the two Z actuators are respectively moved from the movable part of the XY stage to the Z stage. It extends to the opposite side along the axis.
[0042]
In this scanning mechanism, the two Z actuators are expanded and contracted in the opposite directions by the same amount, thereby suppressing the occurrence of unwanted vibrations.
[0043]
The present invention also includes a scanning probe microscope using the scanning mechanism according to any one of Items 1 to 9.
[0044]
In this scanning probe microscope, since the scanning mechanism has a high resonance frequency, it can suitably cope with high-speed scanning.
[0045]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0046]
First embodiment
This embodiment is directed to a scanning mechanism. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
[0047]
FIG. 1 is a top view of the scanning mechanism according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of the scanning mechanism along the line II-II shown in FIG.
[0048]
As shown in FIGS. 1 and 2, the
[0049]
The
[0050]
The fixing
[0051]
The first
[0052]
Therefore, the
[0053]
Both the first
[0054]
More specifically, each of the first
[0055]
The second
[0056]
Further, the first
[0057]
The third
[0058]
The third
[0059]
Preferably, the
[0060]
The material of the fixing
[0061]
The X actuator 102A is arranged so that a predetermined preload is applied between the
[0062]
A straight line passing through the center axis of the
[0063]
The
[0064]
The Z actuators 103A and 103B are composed of, for example, stacked piezoelectric elements and expand and contract along the Z axis in response to voltage application. A straight line passing through the central axes of the
[0065]
These two
[0066]
In the
[0067]
Similarly, during Y scanning, the
[0068]
In such movement of the
[0069]
Further, since the central axes of the
[0070]
The elongation of the
[0071]
During Z scanning, the
[0072]
The center axes of the
[0073]
In the
[0074]
For example, the
[0075]
Second embodiment
This embodiment is directed to another scanning mechanism. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4.
[0076]
FIG. 3 is a top view of the scanning mechanism according to the second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of the scanning mechanism along the line IV-IV shown in FIG. 3 and 4, members indicated by the same reference numerals as those shown in FIGS. 1 and 2 are the same members, and detailed description thereof is omitted.
[0077]
As shown in FIGS. 3 and 4, the scanning mechanism 100 </ b> B of the present embodiment has a configuration in which the lower Z actuator 103 </ b> B of the
[0078]
Similar to the
[0079]
In the
[0080]
Third embodiment
This embodiment is directed to another scanning mechanism. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6.
[0081]
FIG. 5 is a top view of the scanning mechanism according to the third embodiment of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view of the scanning mechanism along the line VI-VI shown in FIG. 5 and 6, the members indicated by the same reference numerals as those shown in FIGS. 1 and 2 are the same members, and detailed description thereof is omitted.
[0082]
As shown in FIGS. 5 and 6, the scanning mechanism 100 </ b> C of this embodiment has a configuration in which a damper is added to the scanning mechanism 100 </ b> A of the first embodiment. That is, the scanning mechanism 100 </ b> C of this embodiment further includes a damping
[0083]
Similar to the
[0084]
The
[0085]
In the scanning mechanism 100 </ b> C of this embodiment, the vibration of the
[0086]
Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the drawings, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention. May be.
[0087]
In any of the above-described embodiments, the
[0088]
For example, in the second embodiment, the
[0089]
In any of the first to third embodiments, the
[0090]
In other words, the
[0091]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the scanning mechanism with the high upper limit of the scanning speed which can respond is provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a top view of a scanning mechanism according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the scanning mechanism along the line II-II shown in FIG.
FIG. 3 is a top view of a scanning mechanism according to a second embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of the scanning mechanism along the line IV-IV shown in FIG. 3;
FIG. 5 is a top view of a scanning mechanism according to a third embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of the scanning mechanism along the line VI-VI shown in FIG.
FIG. 7 shows one of scanning mechanisms disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-334025.
FIG. 8 shows another scanning mechanism disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-334025.
FIG. 9 shows another scanning mechanism disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-334025.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (10)
互いに直交するX軸とY軸とZ軸とを有しており、
固定台と、
固定台に収容されたXYステージと、
XYステージと固定台の間にX軸に沿って延びているXアクチュエーターと、XYステージと固定台の間にY軸に沿って延びているYアクチュエーターとを備えており、
XYステージは、X軸とY軸に沿って移動される可動部と、可動部の周囲に位置する固定部と、可動部のX軸に沿った両側に位置し、可動部と固定部を接続している一対の第一の弾性支持部と、可動部のY軸に沿った両側に位置し、可動部と固定部を接続している一対の第二の弾性支持部と、可動部のZ軸に沿った片側に位置し、可動部と固定部を接続している少なくとも一つの第三の弾性支持部とを有しており、
Xアクチュエーターは、第一の弾性支持部と固定台に接して延びており、X軸に沿って伸縮し得、Yアクチュエーターは、第二の弾性支持部と固定台に接して延びており、Y軸に沿って伸縮し得る、走査機構。A scanning mechanism for moving a scanning object in a fixed pattern;
It has an X axis, a Y axis, and a Z axis that are orthogonal to each other,
A fixed base;
An XY stage housed on a fixed base;
An X actuator extending along the X axis between the XY stage and the fixed base, and a Y actuator extending along the Y axis between the XY stage and the fixed base,
The XY stage is located on both sides of the movable part along the X axis of the movable part, the movable part moved along the X axis and the Y axis, the fixed part located around the movable part, and connected to the movable part. A pair of first elastic support portions, a pair of second elastic support portions located on both sides along the Y-axis of the movable portion and connecting the movable portion and the fixed portion, and Z of the movable portion Having at least one third elastic support portion located on one side along the axis and connecting the movable portion and the fixed portion;
The X actuator extends in contact with the first elastic support portion and the fixed base and can expand and contract along the X axis, and the Y actuator extends in contact with the second elastic support portion and the fixed base. A scanning mechanism that can expand and contract along an axis.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|
JP2004333335A JP2004333335A (en) | 2004-11-25 |
JP2004333335A5 JP2004333335A5 (en) | 2006-06-22 |
JP4276890B2 true JP4276890B2 (en) | 2009-06-10 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP2006308363A (en) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Olympus Corp | Scanning mechanism |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060426 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060426 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090217 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090309 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4276890 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130313 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140313 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |