JP4255724B2 - Manufacturing method of organic EL display and organic EL display - Google Patents

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    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/17Passive-matrix OLED displays
    • H10K59/173Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機EL(Electroluminescence )ディスプレイの製造方法および有機ELディスプレイに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、有機EL素子を使用した有機ELディスプレイの開発が盛んに行われている。有機ELディスプレイは、液晶表示装置と比較して視野角が広く、また、応答速度も速く、有機物が有する発光性の多様性から、次世代の表示装置として期待されている。有機ELディスプレイに用いられる有機EL素子は、基板上に陽極が形成され、陽極の上に薄膜状の有機化合物が積層され、その有機化合物の層の上に、基板上に形成された陽極と対向するように陰極が形成された構造である。有機EL素子は、陽極と陰極との間に配置された有機化合物の層に電流が供給されると自発光する電流駆動型の表示素子である。以下、積層される有機化合物の薄膜を有機薄膜層と記す。陽極、複数の有機薄膜層および陰極を重ねて配置した個所が表示画素となる。
【0003】
基板に設けられた電極上に有機化合物を積層する場合、有機材料を真空蒸着させて有機薄膜層を形成する場合がある。しかし、有機材料を蒸着させる場合、有機薄膜層の下地となる電極の表面に異物の付着や突起、窪みがあると、その影響により、有機薄膜層を所望の状態にできないことがある。
【0004】
この問題を解決する方法として、有機薄膜層となる有機材料を液体中に分散または溶解させ、溶液として塗布することで異物、突起、窪み等を被覆し、所望の有機薄膜層を形成する技術(湿式塗布方法、以下、単に塗布法と記す。)が知られている。例えば、特許文献1には、有機薄膜層のうち少なくとも一層を塗布法により形成することが記載されている。
【0005】
塗布法としては、例えば、オフセット印刷法、凸版印刷法、マスクスプレー法等がある。オフセット印刷法や凸版印刷法では、有機材料を溶媒中に分散または溶解させた溶液の層を所定の領域のみに形成する。また、マスクスプレー法では、所望の領域に合致するような開口部を有する金属マスク等を配置し、有機材料を分散または溶解させた溶液を噴霧する。この場合、溶液を窒素等の気体媒体中に分散させたり、または二流体ノズル等を用いて溶液を霧状にする。
【0006】
また、有機ELディスプレイでは、有機薄膜層の上に設けられる陰極配線が分離配置されるように分離構造体(以下、隔壁と記す。)が設けられる。このような構成は、例えば、特許文献1に記載されている。図16は、特許文献1に記載された隔壁の例を示す断面図である。基板111上には、陽極配線101が設けられ、その後、隔壁100が設けられる。隔壁100は、例えば、基板11から離れるにつれて断面が広がるように形成される。このような隔壁100の構造は、逆テーパ構造あるいはオーバハング構造と称されている。隔壁100を逆テーパ構造とすることで、陰極配線の分離をより確実なものとすることができる。隔壁100が設けられた状態で各有機薄膜層(ホール注入輸送層102、発光層103、電子注入輸送層104)を塗布法等により形成すると、隔壁100により有機薄膜層が分離され、この結果、各隔壁100の間に各有機薄膜層が形成される。その後、陰極配線105が、蒸着法等によって形成される。陰極配線105も隔壁100により分離され、パターニングされた陰極配線105が形成される。
【0007】
また、開口部を有する絶縁膜を陽極配線上に形成し、表示画素となる位置を開口部の位置によって定める場合もある。図17は、特許文献1に記載された構成に、開口部を有する絶縁膜を設けた場合の構成例を示す説明図である。図17(a)は、電極が配置される側から基板を観察した状況を示す模式図であり、図17(b)は、図17(a)のA−A’における断面図である。図17(a)では、上層に設けられた陰極配線等によって隠れてしまう構成部も示している。
【0008】
図17に示す例において、基板111上には、まず陽極配線101と、陰極配線に接続される陰極接続配線121とが形成される。続いて、開口部123を有する絶縁膜122が形成される。開口部123は、陽極配線と陰極配線とが交差することになる位置に設けられる。そして、陽極配線101と直交するように隔壁100が形成される。続いて、有機材料の溶液が塗布または蒸着され、有機薄膜層124が形成される。なお、有機薄膜層として複数の層が形成されるが、図17(b)では、複数の層をまとめて有機薄膜層124として示している。溶液は、有機薄膜層を形成すべき領域に一定の厚みで有機薄膜層が形成されるように、有機材料濃度等を調整される。有機薄膜層124形成後、陰極配線105が有機薄膜層上に蒸着される。隔壁100が有機薄膜層124や陰極配線105を分離することにより、隔壁間に有機薄膜層124が形成され、また、パターニングされた陰極配線105が形成される。
【0009】
陰極配線105を形成した後、有機EL素子を保護するために、ポリマー等で構成される有機薄膜層を陰極配線105上に形成する場合もある。この有機薄膜層(図示せず。)も、塗布法等によって形成される。
【0010】
また、基板111の電極等が配置された面には、もう一枚の基板(図示せず。)が対向するように配置される。この基板において、基板111の有機EL素子に対向する領域の外周にシール材(図示せず。)が塗布される。このシール材によって、基板111ともう一枚の基板は接着される。有機EL素子は、基板およびシール材によって封止されることで、水分や酸素にさらされないように保たれる。
【0011】
【特許文献1】
特開2001−351779号公報(段落0012−0017、第1図および第2図)
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
隔壁100を形成した後に、有機材料の溶液を塗布すると、塗布した溶液が隔壁100に沿って広がってしまうという問題が生じる。例えば、図17に示す例では、隔壁100の側面と絶縁膜122とが交差する部分に沿って、溶液が広がってしまう。これは、隔壁100の側面と絶縁膜122の表面の交差する部分の近傍空間により毛細管現象と同様の現象が生じているためである。特に、陰極配線105等を確実に分離するために逆テーパ構造を有するように隔壁100を形成すると、隔壁100の側面と絶縁膜122の表面の交差する部分の近傍空間は狭くなり、溶液がより広がりやすくなってしまう。
【0013】
図18は、隔壁に沿って、有機材料の溶液が広がった状態を示す説明図である。図18では、隔壁100と有機材料の溶液125を示し、他の構成部の図示は省略した。図17および図18において、破線で示した領域は、塗布した溶液が広がらずに留まっているべき範囲を示している。すなわち、溶液は、この破線の領域よりも広がらないことが理想的である。しかし、既に説明したように、溶液125は、隔壁100に沿って広がってしまう。その結果、図18に示すように、溶液は、破線で示す範囲よりも広がってしまう。以下に示す各図においても、溶液が留まっているべき範囲を破線で示す。
【0014】
このように、溶液が広がってしまうことにより、以下のような問題が生じる。溶液が広がると、二枚の基板を対向させたときにシール材が接触することになる位置においても薄膜が形成される。基板同士を接着させるためのシール材がこの薄膜に接すると、シール材の接着力は低下してしまう。その結果、水分や酸素が基板間に入り、有機EL素子が水分や酸素にさらされ、有機EL素子の性能が低下しやすくなってしまう。
【0015】
また、溶液が広がり、陰極接続配線121上に有機薄膜が形成されてしまうと、その薄膜が、陰極接続配線121と、蒸着される陰極配線105との間の抵抗体となってしまう。有機EL素子では、陰極配線105と陽極配線101との間に電流を流すことによって駆動を行う。そのため、陰極接続配線121と陰極配線105との間に抵抗体が存在すると発熱が生じてしまうという問題が生じる。また、抵抗体によって陰極配線105と陰極接続配線121との間の接続不良が生じる場合もある。
【0016】
また、溶液は一定の厚みが得られるように濃度等を調整されるが、隔壁100に沿って広がってしまうために、所望の厚みを実現することが困難になってしまう。特に、破線で示した領域の外周部付近の溶液は、より外側に広がってしまうため、有機薄膜層の厚さは、破線で示した領域の外周部になるほど薄くなる。このように、有機薄膜層の厚さにむらが生じるため、各表示画素を発光させたときに発光むらが生じてしまう。
【0017】
また、溶液が広がってしまうという問題は、有機EL素子を保護するために陰極配線105上にポリマー等による有機薄膜層を塗布法で形成する場合にも生じる。
【0018】
そこで、本発明は、有機薄膜層を形成するために塗布した液体が広がってしまうことを防止し、シール材の接着力低下、抵抗体の発生、および発光むらの発生を防ぐことができる有機ELディスプレイおよび有機ELディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明の態様1は、基板上に第1の電極を形成し、第1の電極上に複数の有機化合物層を形成し、有機化合物層の上に第2の電極を形成する有機ELディスプレイの製造方法であって、表示画素以外の位置に、液状材料の広がりを防止する液状材料拡散防止部を液状材料が流れ込む開口部として形成し、その後に、有機化合物層の少なくとも一層の液状材料を面状に配置するか、または、第2の電極上部に有機化合物層を形成するために、液状材料を面状に配置することを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法を提供する。
【0020】
本発明の態様2は、態様1において、第1の電極上に複数の有機化合物層を形成する前に、第2の電極の配置位置の両側に、隣接する第2の電極同士を区分する隔壁を形成し、開口部が隔壁と隔壁の間に位置するように形成する有機ELディスプレイの製造方法を提供する。このような方法によれば、開口部に液状材料が流れ込むので、液状材料の広がりを防止することができる。
【0021】
本発明の態様3は、態様において、隔壁と隔壁との間に開口部を複数設ける有機ELディスプレイの製造方法を提供する
【0022】
本発明の態様4は、態様2または態様3において、隔壁を形成する前に基板上の少なくとも表示画素以外の位置に絶縁膜を形成し、その後に、絶縁膜の一部を除去して開口部を形成する有機ELディスプレイの製造方法を提供する
【0025】
本発明の態様は、基板上に第1の電極と、複数の有機化合物層と、第2の電極とを順に積層した有機ELディスプレイであって、複数の有機化合物層のうち少なくとも一層は液状材料を面状に配置することによって形成され、表示画素以外の位置に、液状材料の広がりを防止する液状材料拡散防止部を備え、液状材料拡散防止部が、液状材料を流れ込ませる開口部であることを特徴とする有機ELディスプレイを提供する。
【0027】
本発明の態様は、態様において、第2の電極の両側に、隣接する第2の電極同士を区分する隔壁を備え、開口部を、隔壁と隔壁との間に備える有機ELディスプレイを提供する。このような構成によれば、開口部に液状材料が流れ込むので、液状材料の広がりを防止することができる。
【0028】
本発明の態様は、態様において、開口部が隔壁と隔壁との間に複数設けられている有機ELディスプレイを提供する。
本発明の態様8は、態様5から態様7のいずれかにおいて、開口部が、基板上の少なくとも表示画素以外の位置に設けられた絶縁膜から当該絶縁膜の一部を除去して形成された開口部である有機ELディスプレイを提供する。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
[実施の形態1]まず、第一の実施の形態について説明する。図1は、本発明による有機ELディスプレイの構成例を示す説明図であり、電極が配置される側から基板を観察した状況を示している。また、図1では、上層に設けられた電極等によって隠れてしまう構成部も示している。
【0030】
基板11上には、基板11の表面に接するように陽極配線1と、陰極に接続される陰極接続配線21とが形成されている。陽極配線1および陰極接続配線21が形成された基板上には、絶縁膜22が形成されている。絶縁膜22の膜厚は、例えば、0.7μmである。絶縁膜22には、陽極配線と陰極配線とが交差する位置(すなわち表示画素となる位置)に第一の開口部23が設けられている。さらに、絶縁膜22において、表示画素以外の位置には、第二の開口部26が設けられている。表示画素以外の位置とは、一番端の陽極配線よりも外側の領域である。例えば、図1に示す絶縁膜22では、一番端の陽極配線より外側の領域31が表示画素以外の領域に該当し、一番端の陽極配線より外側の領域31に第二の開口部26が設けられている。
【0031】
各隔壁10の間において、第二の開口部26を複数分散させて設けていることが好ましい。図1に示す例では、各隔壁の間に、それぞれ第二の開口部26を四つ設けた場合を示している。
【0032】
絶縁膜22は、第一の開口部23および第二の開口部26を除き、陽極配線1、陰極接続配線21または基板11のいずれかに接している。
【0033】
絶縁膜22の上層には、複数の有機薄膜層(有機化合物層)、陰極配線5が順に積層される。ただし、図1では有機薄膜層の図示を省略している。また、有機薄膜層を形成する前に、隣接する陰極配線同士を区分する隔壁10が設けられる。隔壁10は、陰極配線5を蒸着等により形成する際に、所望のパターンに形成される。例えば、図1に示すように、陽極配線1と直交する複数の陰極配線5が形成されるように、陽極配線1と直交する複数の隔壁10が形成される。隔壁10は、逆テーパ構造を有していることが好ましい。すなわち、基板11から離れるにつれて断面が広がるように形成されることが好ましい。隔壁10の高さは、例えば、3.4μmである。
【0034】
有機材料の溶液を塗布して有機薄膜層を積層する場合、有機薄膜層は、各隔壁10によって分離される。同様に、陰極配線5を蒸着させる場合、陰極配線は、各隔壁10によって分離され、その結果、図1に示すように複数の陰極配線5が形成される。隔壁10は、陰極配線5の両側に位置することになる。有機薄膜層の膜厚は、例えば、10〜100nmである。また、陰極配線5の厚さは、例えば100nmである。
【0035】
このように複数の有機薄膜層および陰極配線5を積層することにより、それぞれの第一の開口部23では、陽極配線1と陰極配線5との間に複数の有機薄膜層が形成された構成となる。第一の開口部23において陽極配線側から陰極配線側に定電流を流せば、第一の開口部23に位置する有機薄膜層(発光層)が発光する。
【0036】
また、図1に示す基板11の面と対向するようにもう一枚の基板(図示せず。)が配置される。この基板において、基板11の有機EL素子に対向する領域の外周にシール材(図示せず。)が塗布される。このシール材によって2枚の基板は接着される。
【0037】
各陰極接続配線21は、走査電極ドライバ(図示せず。)に接続され、各陽極配線1は、信号電極ドライバ(図示せず。)に接続される。有機ELディスプレイを駆動する際、走査電極ドライバは、各陰極配線5を順次選択する。また、信号電極ドライバは、選択行において発光させるべき表示画素を発光させるように陽極配線から選択行の陰極配線に電流を流す。
【0038】
有機材料の溶液を塗布する際、溶液は、隔壁10の側面と絶縁膜22の表面とが交差する部分に沿って広がろうとする。しかし、絶縁膜22の外側に広がろうとする溶液は第二の開口部26に流れ込むため、溶液が広範囲に広がるのを防止することができる。従って、二枚の基板を対向させたときにシール材と接触することになる位置まで溶液が広がることはなく、シール材の接着力低下を防ぐことができる。その結果、有機EL素子が水分や酸素に触れにくくすることができ、有機EL素子の性能の低下を防止することができる。また、溶液の広がりを防止できるため、陰極接続配線21上に抵抗体となる有機薄膜が形成されることがなくなる。従って、陰極接続配線21と陰極配線5との接触不良や駆動時の発熱を防止することができる。さらに、溶液の広がりを防止することにより、有機薄膜層の膜厚のむらを低減させ、発光むらも低減させることができる。
【0039】
また、有機ELディスプレイを保護するために、ポリマー等の有機薄膜層が陰極配線5の上層に形成されていてもよい。絶縁膜の膜厚(第二の開口部26の深さ)は、例えば、0.7μmである。また、有機薄膜層の膜厚および陰極配線5の厚さは、それぞれ10〜100nm、100nm程度である。従って、陰極配線5を形成した後も、第二の開口部26は凹形状を維持している。よって、陰極配線5の上層に有機薄膜層を形成するために溶液を塗布する場合であっても、溶液の広がりを防止することができる。
【0040】
次に、図1および図2を用いて、本実施の形態の有機ELディスプレイの製造方法について説明する。図2は、本実施の形態の有機ELディスプレイの製造方法の一例を示す流れ図である。
【0041】
まず、基板11上に陽極配線1および陰極接続配線21を形成する(ステップS101)。基板11として、例えばガラス基板等の透明基板を用いる。陽極配線1および陰極接続配線21は、基板11上にITO(Indium Tin Oxide)を成膜し、エッチングを施すことによって形成する。
【0042】
次に、陽極配線1を設けた基板11の面に絶縁膜22を成膜する(ステップS102)。絶縁膜22は、例えば、ポリイミドの溶液を塗布することにより形成される。この絶縁膜22の膜厚は、例えば、0.7μmになるようにすればよい。また、絶縁膜の層を形成したのち、表示画素となる位置の絶縁膜を除去し、第一の開口部23を設ける。後述するステップS105で形成される陰極配線5と、陽極配線1との交差部分が表示画素となる位置である。また、表示画素以外の位置(一番端の陽極配線より外側の領域31)において、絶縁膜の一部を除去して、第二の開口部26を設ける。このとき、各隔壁10の間に、第二の開口部26を複数設けて、空間的に分散させるようにすることが好ましい。例えば、隔壁に挟まれた領域で、絶縁膜22がはしご形状に残るように絶縁膜の一部を除去し、複数の開口部26を設けるようにすることが好ましい。第二の開口部26を複数設けることで、溶液の広がりを防止する効果を高めることができる。ステップS102の工程により、一番端の陽極配線より外側の領域31に第二の開口部26が設けられる。
【0043】
図1では、左端の陽極配線よりも外側の領域に第二の開口部26を設けた場合を示しているが、左端の陽極配線より外側の領域と右端の陽極配線より外側の領域にそれぞれ第二の開口部26を設けることが好ましい。
【0044】
続いて、絶縁膜22の上層に、隣接する陰極配線同士を区分する隔壁10を形成する(ステップS103)。このとき、陰極配線を分離すべき位置(陰極配線の配置位置の両側)に隔壁10を形成する。陰極配線21は、陽極配線1と直交するように形成されるので、隔壁10も陽極配線1と直交するように形成する。隔壁10の材料としては、例えば、アクリル樹脂膜を用いればよい。また、隔壁10の高さは、例えば、3.4μmになるようにすればよい。隔壁10は、基板11から離れるにつれて断面が広がる逆テーパ構造となるように形成することが好ましい。逆テーパ構造とすることにより、有機薄膜層や陰極配線5を確実に分離することができる。
【0045】
隔壁を形成した後、各有機薄膜層を積層する(ステップS104)。発光領域を開口した金属マスクを予め作成しておき、ステップS104において、その金属マスクを基板11に取り付ける。そして、正孔注入層を形成するための溶液を例えばマスクスプレー法によって塗布する。マスクスプレー法により、溶液を面状に配置することができる。正孔注入層を形成するための溶液としては、例えば、ポリビニルカルバゾールを0.5%(質量百分率)溶解した安息香酸エチル溶液がある。
【0046】
このとき、塗布された溶液は、隔壁10に沿って広がろうとする。しかし、一番端の陽極配線より外側の領域31に第二の開口部26が設けられているので、溶液は第二の開口部26に流れ、シール材が接触することになる位置や、陰極接続配線21と陰極配線5との接触部分まで溶液が広がることはない。また、それぞれの第一の開口部23における有機薄膜層(この場合、正孔注入層)の膜厚のむらも低減される。
【0047】
正孔注入層の上に、正孔輸送層、発光層を順に積層していく。これらの層を塗布法により形成する際にも、第二の開口部26によって液状材料の広がりは防止される。正孔輸送層、発光層を蒸着法によって積層してもよい。
【0048】
陰極界面層を形成した後、陰極配線5を形成する(ステップS105)。ステップS105では、発光層の上層に陰極界面層を蒸着させ、その上層に陰極配線5を蒸着させる。陰極界面層として、例えばLiFを蒸着させ、陰極配線として、例えばアルミニウムを蒸着させればよい。図3は、陰極配線5を蒸着させる態様を示す説明図である。基板11に対し、噴射部41から陰極配線5の材料(例えばアルミニウム)が噴射される。基板11を支える支持部42は回転し、この回転によって陰極配線5が基板11上の所定の位置(各隔壁の間)に均一に形成される。
【0049】
ステップS104やステップS105において、有機薄膜層、陰極界面層および陰極配線5は、隔壁10によって分離され、各隔壁10の間の領域に形成される。
【0050】
次に、基板11と対になる基板(図示せず。)において、有機EL素子と対向する領域の外周にシール材を塗布する。そして、シール材を塗布した基板と基板11とを重ね合わせる(ステップS106)。
【0051】
このような有機ELディスプレイの製造方法によれば、ステップS104において有機材料の溶液を塗布する際、第二の開口部26によって溶液の広がりが防止される。よって、基板11において、シール材が接触する位置に有機薄膜層は形成されないので、シール材の接着力が低下することはなく、水分や酸素が基板間に入りにくくなる。従って、有機ELディスプレイの性能の低下を防ぐことができる。また、ステップS105では、陰極接続配線21と陰極配線5との接続部には有機薄膜は形成されていない。よって、ステップS105において、陰極配線5と陰極接続配線21とは良好な状態で接続される。従って、駆動時における発熱を防止することができる。さらに、第一の開口部23における有機薄膜層の膜厚のむらも低減されるので、発光むらも低減することができる。
【0052】
なお、ステップS106の工程を行う前に、ポリマー等で構成される有機薄膜層を陰極配線5の上層に形成してもよい。この有機薄膜層は、有機EL素子を保護する役割を果たす。この有機薄膜層を塗布法により形成する際にも、第二の開口部26によって溶液の広がりは防止される。
【0053】
また、各表示画素によって表示を行う領域(表示エリア)において、隔壁10から、画素間に張り出す突起を設けてもよい。この突起は、画素間だけでなく、一番端の陽極配線上の表示画素の外側に設けてもよい。図4は、隔壁10から張り出す突起を設けた場合の有機ELディスプレイの構成例を示す説明図である。隔壁10には、隔壁10から画素間および一番端の陽極配線上の表示画素の外側に張り出す突起51が設けられている。また、各突起51は、絶縁膜22と接触している。各突起51は、隔壁10と同様に逆テーパ構造(基板側から離れるにつれて断面が広がる構造)を有していることが好ましい。すなわち、各突起51の断面は絶縁膜22と接する部分が最も狭く、絶縁膜22から離れるにつれて広くなるように各突起51を形成することが好ましい。
【0054】
突起51を形成する場合、例えば、ステップS103において、隔壁10を形成する際に、隔壁10と突起51とを同一の材料で同時に一体形成すればよい。同一の材料で形成したり、同時に形成することで製造工程を簡略化することができる。
【0055】
突起51は、隔壁10に沿って広がろうとする溶液を堰き止める機能を発揮する。従って、第二の開口部26だけでなく、突起51も存在することによって、溶液の広がりを一層効果的に防止することができる。その結果、突起51を設けない場合(図1に例示する構成)に比べ、各表示画素における有機薄膜層の膜厚のむらが一層低減され、発光むらもより改善される。
【0056】
図4では、各表示画素の間のそれぞれの領域および一番端の陽極配線上の各表示画素の外側に突起51を設ける場合の構成を示した。しかし、画素間の各領域等のいずれに対しても突起51を設けると、隔壁10および突起51を逆テーパ構造にしたとしても、陰極配線5を分離できなくなる可能性が生じる。この理由について説明する。
【0057】
図5は、陰極配線5を蒸着させる際における陰極配線5の表面および隔壁10と突起51の側面の状況を示す説明図である。図5では、陰極配線5の表面を斜線で示している。また、陰極配線5の蒸着時、隔壁10の上面にも陰極配線5の材料が吹き付けられるため、隔壁10の上面にも陰極配線5と同一材料の層が形成される。図3に示すように、陰極配線5の材料は噴射部41から広がるようにして基板11に噴射される。従って、陰極配線5の材料は必ずしも基板に垂直に吹き付けられるわけではなく、斜め方向から吹き付けられる場合もある。この場合、突起51が存在することにより、隔壁10の側面と突起51の側面とが交差する領域の近傍32にも陰極配線5の材料が吹き付けられやすくなる。近傍32に陰極配線5の材料が吹き付けられると、陰極配線5と隔壁10の上面の層(陰極配線5と同一材料の層)とが、近傍32を介して接続されてしまう。また、図3に示す支持台42は回転しているので、図5に示す陰極配線5の隣の陰極配線(図5において図示せず。)側においても、陰極配線と隔壁10の上面の層とが接続されしまう場合がある。従って、図5に示す陰極配線5とその隣の陰極配線とが十分に分離されなくなってしまう(短絡してしまう)ことがある。
【0058】
隔壁10の両側に設ける突起の数が多くなるにつれて、隣接する陰極配線同士の短絡発生確率も上昇する。従って、図4に示すように各表示画素の間のそれぞれの領域および一番端の陽極配線上の各表示画素の外側に突起51を設けると、短絡発生確率が高くなってしまう。短絡発生確率を低くするには、一画素分よりも広い間隔で突起51を設ければよい。図6は、隔壁10のそれぞれの側面において2画素分の間隔をおいて突起51を設けた場合の構成例を示す説明図である。この場合も、突起51の存在によって、溶液の広がりを防止することができる。また、図4に示す構成例に比べて突起51の数は少なくなるので、図4に示す場合よりも陰極配線同士の短絡発生確率を低くすることができる。
【0059】
図6では、隔壁10の両側において2画素分の間隔をおいて突起51を設けた場合を示しているが、3画素分以上の間隔をおいて突起51を設けてもよい。また、図6では、個々の突起51の存在位置において、隔壁10の片側にのみ突起が張り出す場合を示しているが、隔壁10の同じ場所から両側に張り出すように各突起51を設けてもよい。
【0060】
なお、一つの隔壁10の片側の側面にのみ突起51が張り出し、もう一方の側面に突起51が存在しないと、隔壁の両側で溶液の流れに偏りが生じてしまう。よって、隔壁10の両側に溶液が塗布される場合、隔壁10の両側に突起51を設ける。この点は、後述する第二の突起52でも同様である。ただし、図6に示したように、個々の突起51の存在位置では、片側にしか突起が存在しない場合もある。
【0061】
第一の実施の形態において、陽極配線1は第1の電極に相当し、陰極配線5は第2の電極に相当する。また、第二の開口部26は、液状材料拡散防止部に相当する。
【0062】
[実施の形態2(参考形態)]次に、第二の実施の形態について説明する。図7は、本発明による有機ELディスプレイの構成例を示す説明図である。図7は、図1と同様、電極が配置される側から基板を観察した状況を示している。また、上層に設けられた電極等によって隠れてしまう構成部も示している。
【0063】
第二の実施の形態における有機ELディスプレイは、一番端の陽極配線より外側の領域31における構成が第一の実施の形態と異なる。他の構成部は第一の実施の形態と同様であるので、第一の実施の形態と同一の符号で示し、説明を省略する。図7に示すように、第二の実施の形態では、一番端の陽極配線より外側の領域31において、第二の開口部は設けられない。陽極配線1および陰極接続配線21の上層に設けられる絶縁膜22は、第一の開口部23のみを有する。
【0064】
第一の実施の形態と同様、絶縁膜22の上層には隔壁10が形成される。ただし、隔壁10のうち、一番端の陽極配線より外側の領域31に属する部分では、表示画素が存在する側に張り出す突起52が設けられる。以下の説明では、表示画素が存在する表示エリア内に設けられる突起を第一の突起と記し、一番端の陽極配線より外側の領域31に設けられる突起を第二の突起と記す。なお、第一の実施の形態で説明した突起51は、第一の突起に該当する。
【0065】
第二の突起52は、隔壁10と同様に逆テーパ構造を有していることが好ましい。すなわち、第二の突起52の断面は絶縁膜22と接する部分が最も狭く、絶縁膜22から離れるにつれて広くなるようにそれぞれの第二の突起52を形成することが好ましい。
【0066】
図8は、第二の実施の形態の有機ELディスプレイの製造方法の一例を示す流れ図である。最初に、基板11上に陽極配線1および陰極接続配線21を形成する(ステップS111)。この工程は、ステップS101と同様の工程である。続いて、陽極配線1および陰極接続配線21の上層に絶縁膜22を成膜する(ステップS112)。ステップS112の工程は、第二の開口部を設けない点を除けば、ステップS102と同様の工程である。
【0067】
続いて、隣接する陰極配線同士を区分する隔壁10を陰極配線の配置位置の両側に形成する(ステップS113)。このとき、一番端の陽極配線より外側の領域31において隔壁10から張り出す第二の突起52も形成する。第二の突起52は、隔壁10と同一の材料(例えばアクリル樹脂膜)を用いて隔壁10と同時に一体形成すればよい。第二の突起52と隔壁10とを同一の材料を用いて形成したり、あるいは同時に形成すれば、製造工程を簡略化することができる。隔壁10および突起52の高さは、例えば、3.4μmになるようにすればよい。隔壁10および第二の突起52は、逆テーパ構造(基板側から離れるにつれて断面が広がる構造)となるように形成することが好ましい。
【0068】
図7では、隔壁10の一つの場所から片側のみに張り出すように第二の突起52を設けた場合を示しているが、隔壁10の同じ場所から隔壁10の両側に張り出すように第二の突起52を設けてもよい。
【0069】
また、図7では、左端の陽極配線よりも外側の領域に第二の突起52を設けた場合を示しているが、左端の陽極配線より外側の領域と右端の陽極配線より外側の領域にそれぞれ第二の突起52を設けることが好ましい。
【0070】
続いて、第一の実施の形態におけるステップS104と同様に、各有機薄膜層を積層する(ステップS114)。有機材料の溶液を塗布する場合、その溶液は隔壁10に沿って広がろうとする。しかし、第二の突起52が、隔壁10に沿って広がろうとする溶液を堰き止める。そのため、シール材が接触することになる位置や、陰極接続配線21と陰極配線5との接触部分まで溶液が広がることはない。また、それぞれの第一の開口部23における有機薄膜層の膜厚のむらも低減される。
【0071】
続いて、陰極界面層および陰極配線5を形成し(ステップS115)、基板11ともう一枚の基板(図示せず)をシール材によって接着する(ステップS116)。ステップS115,S116の工程は、ステップS105,S106の工程と同様である。
【0072】
このような有機ELディスプレイの製造方法によれば、有機材料の溶液を塗布する際、第二の突起52が溶液を堰き止めるため、溶液の広がりが防止される。従って、第一の実施の形態と同様、シール材の接着力低下を防ぎ、有機ELディスプレイの性能低下を防止することができる。また、陰極配線5と陰極接続配線21とを良好に接続し、駆動時における発熱を防止することができる。さらに、発光むらを低減することができる。
【0073】
なお、ステップS116の工程を行う前に、ポリマー等で構成される有機薄膜層(有機EL素子を保護する保護膜)を陰極配線5の上層に形成してもよい。この有機薄膜層を塗布法により形成する際にも、第二の突起52によって溶液の広がりは防止される。
【0074】
また、第一の実施の形態と同様に、表示エリアにおいて、表示画素と表示画素との間に張り出す第一の突起を隔壁10に形成してもよい。図9は、第二の実施の形態において、表示エリアに第一の突起を形成した場合の構成例を示す説明図である。図9に示す第一の突起51を形成する場合、例えばステップS113において、隔壁10、第一の突起51および第二の突起52を同一の材料で同時に一体形成すればよい。隔壁10の一つの場所から片側のみに張り出すように第一の突起51を設けても、隔壁10の同じ場所から隔壁10の両側に張り出すように第一の突起51を設けてもよい。ただし、短絡発生確率の上昇を防ぐため、隔壁10のそれぞれの側面において2画素分以上の間隔をおいて第一の突起51を設けることが好ましい。
【0075】
第一の突起51を形成すると、有機材料の溶液が第二の突起52だけでなく、第一の突起51によっても堰き止められる。従って、第一の突起51を形成すると、溶液の広がりを防止する効果を高めることができる。
【0076】
第二の実施の形態において、第二の突起52は液状材料拡散防止部に相当する。
【0077】
[実施の形態3(参考形態)]次に、第三の実施の形態について説明する。図10は、本発明による有機ELディスプレイの構成例を示す説明図である。図10は、図1と同様、電極が配置される側から基板を観察した状況を示している。また、上層に設けられた電極等によって隠れてしまう構成部も示している。
【0078】
第三の実施の形態における有機ELディスプレイは、一番端の陽極配線より外側の領域31における構成が第一の実施の形態および第二の実施の形態と異なる。他の構成部は第一の実施の形態および第二の実施の形態と同様であるので、第一の実施の形態と同一の符号で示し、説明を省略する。
【0079】
図10に示すように、第三の実施の形態では、一番端の陽極配線より外側の領域31において、第二の開口部は設けられない。この点は、第二の実施の形態と同様である。しかし、第三の実施の形態では、一番端の陽極配線より外側の領域31に、第三の突起53が形成される。第三の突起53は、第一の突起51や第二の突起52とは異なり、隔壁10から分離した突起として形成される。第三の突起53も隔壁10と同様に逆テーパ構造(基板側から離れるにつれて断面が広がる構造)を有していることが好ましい。
【0080】
ただし、第三の突起53が存在することにより、陰極配線5を蒸着させる際、陰極配線5に孔があく。このような孔が密集すると、陰極配線5の抵抗が高くなり、駆動時に電流が流れにくくなる。そこで、第三の突起53は、分散するように形成する。図11は、第三の突起53の配置状況を示す説明図である。図11に示すように、蒸着される陰極配線5の長手方向と直交する任意の断面における第三の突起53の数が1個以下になるように、第三の突起53を分散させることが好ましい。陰極配線5の長手方向と直交する断面において、第三の突起53が複数存在すると、その部分における抵抗が高くなってしまう。
【0081】
第三の実施の形態の有機ELディスプレイの製造方法は、第二の実施の形態における製造方法(図8参照)と同様である。ただし、ステップS113では、隔壁10を形成する際、隔壁10から分離した第三の突起53を形成する。図11に示したように、第三の突起53を分散させるように形成する。第三の突起53の材料には、隔壁10と同一の材料(例えばアクリル樹脂膜)を用いればよい。また、第三の突起53と隔壁10とを同時に形成することが好ましい。第三の突起53と隔壁10とを同一の材料で形成したり、同時に形成すれば、製造工程を簡略化することができる。また、第三の突起53の高さは、例えば、隔壁10と同じ高さにすればよい。
【0082】
また、図10では、左端の陽極配線よりも外側の領域に第三の突起53を設けた場合を示しているが、左端の陽極配線より外側の領域と右端の陽極配線より外側の領域にそれぞれ第三の突起53を設けることが好ましい。
【0083】
ステップS113に続く工程では、各有機薄膜層を積層する(ステップS114)。有機材料の溶液を塗布する場合、その溶液は隔壁10に沿って広がろうとする。しかし、第三の突起53が、隔壁10に沿って広がろうとする溶液を堰き止める。そのため、シール材が接触することになる位置まで溶液が広がらず、シール材の接着力低下を防ぎ、有機ELディスプレイの性能低下を防止することができる。また、陰極接続配線21と陰極配線5との接触部分まで溶液が広がらないので、陰極配線5と陰極接続配線21とを良好に接続し、駆動時における発熱を防止することができる。また、それぞれの第一の開口部23における有機薄膜層の膜厚のむらも低減されるので、発光むらを低減することもできる。
【0084】
また、ポリマー等で構成される有機薄膜層(有機EL素子を保護する保護膜)を陰極配線5の上層に形成するために溶液を塗布するときにも、第三の突起53によって溶液の広がりは防止される。
【0085】
また、第一の実施の形態や第二の実施の形態と同様に、表示エリアにおいて、表示画素と表示画素との間に張り出す第一の突起を隔壁10に形成してもよい。このとき隔壁10の一つの場所から片側のみに張り出すように第一の突起を設けても、隔壁10の同じ場所から隔壁10の両側に張り出すように第一の突起を設けてもよい。ただし、短絡発生確率の上昇を防ぐため、隔壁10のそれぞれの側面において2画素分以上の間隔をおいて第一の突起を設けることが好ましい。第一の突起を形成すると、有機材料の溶液が第三の突起53だけでなく、第一の突起によっても堰き止められる。従って、第一の突起を形成すると、溶液の広がりを防止する効果を高めることができる。
【0086】
第三の実施の形態において、第三の突起53は液状材料拡散防止部に相当する。
【0087】
なお、上記の各実施の形態において、陽極配線から陰極配線までの積層構成を逆にして、上層の電極から下層の電極に電流を流す構成にしてもよい。
【0088】
また、図4、図6および図9では、第一の突起51の断面形状が矩形である場合を示した。同様に、図7および図9では、第二の突起52の断面形状が矩形である場合を示した。また、第一の突起51や第二の突起52を逆テーパ構造(基板側から離れるにつれて断面が広がる構造)にすると、これらの突起の形状は、角錐台(切頭角錐)になる。ただし、第一の突起51や第二の突起52の形状は、基板11と平行な面における断面形状が矩形になる角錐台に限定されない。例えば、基板11と平行な面における断面形状が、隔壁10から離れるにつれて幅が広がる形状(図12(a)参照)になる角錐台であってもよい。また、隔壁10との接触面とは反対側の面が円錐状の曲面になるように、第一の突起51や第二の突起52を形成してもよい。この場合、基板11と平行な面における断面形状は、図12(b)に示すようになる。また、各突起を逆テーパ構造としない場合、突起の形状は角錐台ではなく柱体となる。
【0089】
また、第三の突起53の形状は、例えば、四角錐台や四角柱である。この場合、基板11と平行な面における断面形状は、図10において示したように矩形になる。ただし、第三の突起53もこのような形状に限定されるわけではない。例えば、三角錐台や三角柱であってもよい。一つの側面が、液状材料が流れて来る方向に向いていることが好ましい。
【0090】
また、図7および図9では、第二の突起52の幅が、第二の突起52同士の間隔よりも狭い場合を示したが、図13に示すように、第二の突起52の幅は、第二の突起52同士の間隔より広くてもよい。
【0091】
なお、図12および図13において示した断面は、基板11に平行な面に沿う断面である。
【0092】
また、上記の各実施の形態では、隔壁10と各種突起(第一の突起51、第二の突起52、または第三の突起53)とを同じ材料で形成したり、同時に形成することで製造工程を簡略化できると説明したが、隔壁10と各種突起とを異なる材料で形成してもよい。例えば、隔壁10をアクリル樹脂膜で形成し、突起を絶縁膜22と同様にポリイミドで形成してもよい。隔壁10と各種突起とを異なる材料で形成する場合、隔壁10と各種突起とは、別工程で形成する。また、隔壁10と各種突起とを同じ材料で形成し、かつ、別工程で形成してもよい。
【0093】
なお、隔壁10は、フォトリソグラフィー工程によって形成すればよい。そして、フォトリソグラフィー工程において、現像液を隔壁10の底部に回り込ませることで、隔壁10を逆テーパ構造にすることができる。また、突起をポリイミドで形成する場合、例えば、スピンコート法によってポリイミドの層を作り、フォトリソグラフィー工程によって突起を形成すればよい。ポリイミドを用いた場合、0.7〜3.0μmの高さの突起を形成することができる。なお、突起の高さ(ポリイミドの層の膜厚)に変動が生じるが、この膜厚分布は10%以内である。
【0094】
隔壁10と各種突起とを別工程で形成する場合、隔壁10を先に形成することが好ましい。突起を先に形成すると、隔壁10を形成する際に、突起の存在によって隔壁10の底部に現像液が回り込みにくくなり、突起の付近で隔壁10を逆テーパ構造にしにくくなるからである。
【0095】
突起を先に形成すると、以下のような問題も生じる。図14は、突起を先に形成した場合の問題点を示す説明図である。図14(a)に示すように、絶縁膜22上に第二の突起52を先に形成したとする。この場合、図14(b)に示すように、隔壁10の材料(ここではアクリル樹脂とする)を絶縁膜22上に配置する。隔壁10を形成するために、隔壁10となる位置以外にマスクを配置し、光を照射すると、光を照射された材料が硬化して隔壁10が形成される。このとき、図14(c)に示すように、マスクを設けない領域71が第二の突起52から離れてしまうと、隔壁10が第二の突起52から離れて形成されてしまう。また、図14(d)に示すように、マスクを設けない領域71が第二の突起52に近づきすぎ、第二の突起52が隔壁10の内部に入り込んでしまうような位置関係になったとする。この場合、隔壁10の側面に余分な隔壁材料75が残ってしまう。第二の突起52の側面と、隔壁10の所望の側面とが接するようにマスクを配置したとしても、隔壁10の側面に余分な隔壁材料75が残ってしまう(図14(e))。
【0096】
一方、図15は、隔壁を先に形成した場合の状況を示す説明図である。図15(a)に示すように、絶縁膜22上に隔壁10を先に形成したとする。この場合、図15(b)に示すように、第二の突起52の材料(ここではポリイミドとする)を絶縁膜22上に配置する。第二の突起52を形成するために、第二の突起52となる位置にマスク73を配置し、光を照射すると、光が照射されなかった部分が残って第二の突起52が形成される。このとき、マスク73の位置が隔壁10から離れてしまったとする。この場合、マスクされなかった領域であっても、逆テーパ構造の隔壁10によって光が遮られることで、第二の突起52は隔壁10と接するように形成される(図15(c))。また、マスク73の位置が隔壁10に近づきすぎたとする。この場合には、隔壁10から張り出す突起の大きさは小さくなるものの、隔壁10に接する第二の突起52を形成することができる(図15(d))。また、図14(d),(e)に示すような余分な隔壁材料75が残ってしまうことはない。従って、隔壁10を形成してから第二の突起52を形成することが好ましい。ここでは、第二の突起52を用いて説明したが、第一の突起51に関しても、隔壁10を形成した後に形成することが好ましい。
【0097】
なお、図14,図15では、第二の突起52として、基板側から離れるにつれて、断面が小さくなっていく突起を示したが、既に説明したように、突起の形状は、基板側から離れるにつれて断面が広くなるような形状にすることが好ましい。
【0098】
また、隔壁10と突起とを別工程で形成する場合、突起10の高さが隔壁10の高さの50〜75%になるように形成することが好ましい。突起を形成する際、膜厚の変動によって、所望の高さより高い突起が形成されることもある。しかし、突起10の高さが隔壁10の高さの75%以下になるように形成すれば、所望の高さより高い突起が形成されたとしても、隔壁10より高くなってしまうことはない。また、突起10の高さが低すぎると、液状材料を堰き止める効果が減少してしまうので、突起の高さが隔壁10の高さの50%以上になるように形成することが好ましい。隔壁10の高さが3.4μmである場合、突起の高さを例えば2.4μmにすればよい。
【0099】
なお、隔壁10と突起とを同一材料で同時に一体形成する場合には、隔壁10の高さと突起の高さとが同一になるように形成すればよい。
【0100】
【実施例】
[例1]ガラス基板上にITOを成膜し、エッチングを施すことにより、陽極配線および陰極接続配線を形成した。陰極接続配線の厚さは、300nmとした。
【0101】
次に、陽極配線を設けた基板の面にポリイミドの溶液を塗布し、0.7μmの膜厚の絶縁膜を成膜した。続いて、表示画素となる位置のポリイミドを除去し、第一の開口部を設けた。このとき、第一の開口部が300μm×300μmの正方形になるようにポリイミドを除去した。さらに、一番端の陽極配線より外側の領域において、絶縁膜がはしご形状に残るように絶縁膜の一部を除去し、第二の開口部を複数設けた。
【0102】
続いて、絶縁膜(ポリイミドの層)の表面において、64本の陰極配線を分離配置できるように隔壁を形成した。隔壁は、絶縁膜の上層にアクリル樹脂膜を塗布することにより形成した。また、隔壁が逆テーパ構造となるようにした。隔壁の高さは3.4μmとした。
【0103】
その後、開口部を有する金属マスクをガラス基板に取り付けた。このとき、金属マスクの開口部と有機薄膜層を設けるべき位置が重なるように配置し、また、金属マスクとガラス基板との間に50μmの空間があくように取り付けた。そして、0.5%(質量百分率)のポリビニルカルバゾールを溶解した安息香酸エチル溶液をマスクスプレー法によって塗布し、正孔注入層を形成した。
【0104】
続いて、正孔注入層の上層にα−NPD(N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン)を蒸着して膜厚40nmの正孔輸送層を形成した。さらに、その上層に、発光層のホスト化合物となるAlq(トリス(8−ヒドロキシナト)アルミニウム)と、ゲスト化合物の蛍光性色素となるクマリン6とを同時に蒸着して、膜厚60nmの発光層を形成した。
【0105】
続いて、発光層の上層にLiFを蒸着して、膜厚0.5nmの陰極界面層を形成した。その後、アルミニウムを蒸着して、膜厚100nmの陰極配線を形成した。この結果、隔壁によってアルミニウムの膜は分離され、64本の陰極配線が形成された。
【0106】
このガラス基板とは別の基板にシール材を塗布し、有機EL素子を配置したガラス基板と対向させた。シール材として、エポキシ系紫外線硬化性樹脂を用いた。また、シール材は、有機EL素子と対向する領域の外周に塗布した。二枚の基板を対向させた後、紫外線を照射してシール材を硬化させ、基板同士を接着した。この後、シール材の硬化をより促進させるために80℃のクリンオーブン中で1時間熱処理を施した。この結果、シール材および一対の基板によって、有機EL素子が存在する基板間と、基板の外部とが隔離された。
【0107】
基板の外周付近の不要部分を切断除去し、陽極配線に信号電極ドライバを接続し、陰極接続配線に走査電極ドライバを接続した。
【0108】
有機EL素子の溶液を塗布する際、溶液が、シール材の接触する位置や、陰極配線と陰極接続配線の接触部分まで広がることは防止され、信頼性の高い有機ELディスプレイを製造することができた。また、有機薄膜層の膜厚のむらも軽減され、有機ELディスプレイを駆動したときに各表示画素の発光むらも軽減することができた。
【0109】
[例2]例1と同様に有機ELディスプレイを製造した。ただし、絶縁膜には第一の開口部のみを設け、第二の開口部は設けなかった。また、隔壁のうち、一番端の陽極配線より外側の領域に属する部分には、表示画素が存在する側に張り出す突起(第二の突起)を形成した。なお、隔壁の一つの場所から隔壁のいずれか一方の側にのみ突起が張り出すように突起を形成した。この場合も、例1と同様に、溶液の広がりを防止することができ、信頼性の高い有機ELディスプレイを製造することができた。また、有機ELディスプレイを駆動したときに発光むらは視認されなかった。
【0110】
[例3]隔壁から張り出す突起ではなく、隔壁から分離した突起(第三の突起)を形成する点を除き、例2と同様に有機ELディスプレイを製造した。この場合も、溶液の広がりを防止することができ、信頼性の高い有機ELディスプレイを製造することができた。また、有機ELディスプレイを駆動したときに発光むらは視認されなかった。
【0111】
【発明の効果】
本発明による有機ELディスプレイの製造方法によれば、液状材料を面状に配置する前に、表示画素以外の位置に、液状材料の広がりを防止する液状材料拡散防止部を液状材料が流れ込む開口部として形成するので、配置した液状材料が広がってしまうのを防ぐことができる。従って、液状材料の広がりによってシール材の接着力が低下し、その結果、有機ELディスプレイの性能が低下してしまうことを防ぐことができる。また、第2の電極に接する抵抗体の発生を防止し、駆動時における発熱を防ぐことができる。また、有機化合物層の膜厚のむらを抑え、発光むらを低減することができる。
【0112】
本発明による有機ELディスプレイによれば、表示画素以外の位置に、液状材料の広がりを防止する液状材料拡散防止部を備え、液状材料拡散防止部が、液状材料を流れ込ませる開口部であるので、配置した液状材料が広がってしまうのを防ぐことができる。従って、液状材料の広がりによってシール材の接着力が低下し、その結果、有機ELディスプレイの性能が低下してしまうことを防ぐことができる。また、第2の電極に接する抵抗体の発生を防止し、駆動時における発熱を防ぐことができる。また、有機化合物層の膜厚のむらを抑え、発光むらを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第一の実施の形態の有機ELディスプレイの構成例を示す説明図。
【図2】 第一の実施の形態の有機ELディスプレイの製造方法の一例を示す流れ図。
【図3】 陰極配線を蒸着させる態様を示す説明図。
【図4】 突起を設けた場合の有機ELディスプレイの構成例を示す説明図。
【図5】 陰極配線を蒸着させる際における陰極配線の表面および隔壁と突起の側面の状況を示す説明図。
【図6】 突起を設けた場合の有機ELディスプレイの他の構成例を示す説明図。
【図7】 第二の実施の形態の有機ELディスプレイの構成例を示す説明図。
【図8】 第二の実施の形態の有機ELディスプレイの製造方法の一例を示す流れ図。
【図9】 突起を設けた場合の有機ELディスプレイの構成例を示す説明図。
【図10】 第三の実施の形態の有機ELディスプレイの構成例を示す説明図。
【図11】 第三の突起の配置状況を示す説明図。
【図12】 突起の断面形状の例を示す説明図。
【図13】 第二の突起の幅の例を示す説明図。
【図14】 突起を隔壁より先に形成した場合の状況を示す説明図。
【図15】 隔壁を突起より先に形成した場合の状況を示す説明図。
【図16】 従来の隔壁の例を示す断面図。
【図17】 隔壁を有する従来の有機ELディスプレイに絶縁膜を配置した場合の構成例を示す説明図。
【図18】 隔壁に沿って、有機材料の溶液が広がった状態を示す説明図。
【符号の説明】
1 陽極配線
5 陰極配線
10 隔壁
11 基板
21 陰極接続配線
22 絶縁膜
23 第一の開口部
26 第二の開口部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an organic EL (Electroluminescence) display manufacturing method and an organic EL display.
[0002]
[Prior art]
In recent years, organic EL displays using organic EL elements have been actively developed. An organic EL display has a wider viewing angle than liquid crystal display devices, has a high response speed, and is expected as a next-generation display device because of the variety of light-emitting properties of organic substances. An organic EL element used in an organic EL display has an anode formed on a substrate, a thin-film organic compound is laminated on the anode, and is opposed to the anode formed on the substrate on the organic compound layer. Thus, the cathode is formed. An organic EL element is a current-driven display element that emits light when a current is supplied to an organic compound layer disposed between an anode and a cathode. Hereinafter, a thin film of an organic compound to be laminated is referred to as an organic thin film layer. A display pixel is a portion where an anode, a plurality of organic thin film layers, and a cathode are stacked.
[0003]
When an organic compound is stacked on an electrode provided on a substrate, an organic thin film layer may be formed by vacuum evaporation of an organic material. However, when an organic material is deposited, if the surface of the electrode serving as the base of the organic thin film layer has foreign matter attached, protrusions, or depressions, the organic thin film layer may not be in a desired state due to the influence.
[0004]
As a method for solving this problem, a technique for forming a desired organic thin film layer by dispersing or dissolving an organic material to be an organic thin film layer in a liquid and coating it as a solution to cover foreign matters, protrusions, depressions, etc. A wet coating method, hereinafter simply referred to as a coating method) is known. For example, Patent Document 1 describes that at least one of the organic thin film layers is formed by a coating method.
[0005]
Examples of the coating method include an offset printing method, a relief printing method, and a mask spray method. In the offset printing method and the relief printing method, a layer of a solution in which an organic material is dispersed or dissolved in a solvent is formed only in a predetermined region. In the mask spray method, a metal mask or the like having an opening that matches a desired region is disposed, and a solution in which an organic material is dispersed or dissolved is sprayed. In this case, the solution is dispersed in a gaseous medium such as nitrogen, or the solution is atomized using a two-fluid nozzle or the like.
[0006]
In addition, in the organic EL display, a separation structure (hereinafter referred to as a partition) is provided so that the cathode wiring provided on the organic thin film layer is separately arranged. Such a configuration is described in Patent Document 1, for example. FIG. 16 is a cross-sectional view showing an example of a partition wall described in Patent Document 1. An anode wiring 101 is provided on the substrate 111, and then a partition wall 100 is provided. The partition wall 100 is formed, for example, so that the cross section increases as the distance from the substrate 11 increases. Such a structure of the partition wall 100 is called an inverted taper structure or an overhang structure. By making the partition wall 100 have an inversely tapered structure, the cathode wiring can be more reliably separated. When each organic thin film layer (hole injection transport layer 102, light emitting layer 103, electron injection transport layer 104) is formed by a coating method or the like with the partition wall 100 provided, the organic thin film layer is separated by the partition wall 100. As a result, Each organic thin film layer is formed between each partition wall 100. Thereafter, the cathode wiring 105 is formed by a vapor deposition method or the like. The cathode wiring 105 is also separated by the partition wall 100, and a patterned cathode wiring 105 is formed.
[0007]
In some cases, an insulating film having an opening is formed over the anode wiring, and a position to be a display pixel is determined by the position of the opening. FIG. 17 is an explanatory diagram illustrating a configuration example when an insulating film having an opening is provided in the configuration described in Patent Document 1. FIG. 17A is a schematic diagram illustrating a state where the substrate is observed from the side where the electrodes are arranged, and FIG. 17B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. FIG. 17A also shows components that are hidden by cathode wiring or the like provided in the upper layer.
[0008]
In the example shown in FIG. 17, first, the anode wiring 101 and the cathode connection wiring 121 connected to the cathode wiring are formed on the substrate 111. Subsequently, an insulating film 122 having an opening 123 is formed. The opening 123 is provided at a position where the anode wiring and the cathode wiring intersect. A partition wall 100 is formed so as to be orthogonal to the anode wiring 101. Subsequently, a solution of an organic material is applied or evaporated to form the organic thin film layer 124. Although a plurality of layers are formed as the organic thin film layer, in FIG. 17B, the plurality of layers are collectively shown as the organic thin film layer 124. The concentration of the organic material is adjusted so that the organic thin film layer is formed with a certain thickness in the region where the organic thin film layer is to be formed. After the organic thin film layer 124 is formed, the cathode wiring 105 is deposited on the organic thin film layer. The partition wall 100 separates the organic thin film layer 124 and the cathode wiring 105, whereby the organic thin film layer 124 is formed between the partition walls, and the patterned cathode wiring 105 is formed.
[0009]
After forming the cathode wiring 105, an organic thin film layer made of a polymer or the like may be formed on the cathode wiring 105 in order to protect the organic EL element. This organic thin film layer (not shown) is also formed by a coating method or the like.
[0010]
In addition, another substrate (not shown) is disposed so as to face the surface of the substrate 111 on which electrodes and the like are disposed. In this substrate, a sealing material (not shown) is applied to the outer periphery of the region of the substrate 111 facing the organic EL element. With this sealing material, the substrate 111 and another substrate are bonded. The organic EL element is kept from being exposed to moisture and oxygen by being sealed with a substrate and a sealing material.
[0011]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-351799 (paragraphs 0012-0017, FIGS. 1 and 2)
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
When an organic material solution is applied after the partition wall 100 is formed, there is a problem that the applied solution spreads along the partition wall 100. For example, in the example illustrated in FIG. 17, the solution spreads along a portion where the side surface of the partition wall 100 and the insulating film 122 intersect. This is because a phenomenon similar to the capillary action is caused by the space near the portion where the side surface of the partition wall 100 and the surface of the insulating film 122 intersect. In particular, when the partition wall 100 is formed so as to have a reverse taper structure in order to reliably separate the cathode wiring 105 and the like, the space near the intersection of the side surface of the partition wall 100 and the surface of the insulating film 122 becomes narrower, and the solution is more concentrated. It becomes easy to spread.
[0013]
FIG. 18 is an explanatory view showing a state in which the organic material solution has spread along the partition walls. In FIG. 18, the partition wall 100 and the organic material solution 125 are shown, and the other components are not shown. In FIG. 17 and FIG. 18, a region indicated by a broken line indicates a range where the applied solution should remain without spreading. That is, the solution should ideally not expand beyond this dashed area. However, as already described, the solution 125 spreads along the partition wall 100. As a result, as shown in FIG. 18, the solution spreads beyond the range indicated by the broken line. Also in each figure shown below, the range where the solution should stay is shown with a broken line.
[0014]
Thus, the following problems arise when the solution spreads. When the solution spreads, a thin film is formed even at a position where the sealing material comes into contact when the two substrates face each other. When the sealing material for bonding the substrates is in contact with the thin film, the adhesive force of the sealing material is reduced. As a result, moisture and oxygen enter between the substrates, the organic EL element is exposed to moisture and oxygen, and the performance of the organic EL element is likely to deteriorate.
[0015]
When the solution spreads and an organic thin film is formed on the cathode connection wiring 121, the thin film becomes a resistor between the cathode connection wiring 121 and the deposited cathode wiring 105. The organic EL element is driven by passing a current between the cathode wiring 105 and the anode wiring 101. Therefore, if a resistor exists between the cathode connection wiring 121 and the cathode wiring 105, there arises a problem that heat is generated. In addition, a connection failure between the cathode wiring 105 and the cathode connection wiring 121 may occur due to the resistor.
[0016]
Further, the concentration and the like of the solution are adjusted so that a constant thickness can be obtained, but the solution spreads along the partition wall 100, making it difficult to achieve a desired thickness. In particular, since the solution near the outer periphery of the region indicated by the broken line spreads further outward, the thickness of the organic thin film layer becomes thinner toward the outer periphery of the region indicated by the broken line. As described above, unevenness occurs in the thickness of the organic thin film layer, and thus unevenness in light emission occurs when each display pixel emits light.
[0017]
The problem that the solution spreads also occurs when an organic thin film layer made of a polymer or the like is formed on the cathode wiring 105 by a coating method in order to protect the organic EL element.
[0018]
Therefore, the present invention prevents the spread of the liquid applied to form the organic thin film layer, and prevents the decrease in the adhesive strength of the sealing material, the generation of resistors, and the occurrence of uneven light emission. An object of the present invention is to provide a display and a method for manufacturing an organic EL display.
[0019]
[Means for Solving the Problems]
  Aspect 1 of the present invention is an organic EL display in which a first electrode is formed on a substrate, a plurality of organic compound layers are formed on the first electrode, and a second electrode is formed on the organic compound layer. A liquid material diffusion preventing portion for preventing the spread of the liquid material at a position other than the display pixel in the manufacturing method.As an opening through which liquid material flowsForming and then arranging at least one liquid material of the organic compound layer in a planar shape, or arranging the liquid material in a planar shape to form the organic compound layer on the second electrode. A method for producing an organic EL display is provided.
[0020]
  Aspect 2 of the present invention is the aspect 1The secondBefore forming a plurality of organic compound layers on one electrode, partition walls for separating adjacent second electrodes are formed on both sides of the second electrode arrangement position.OpenProvided is a method for manufacturing an organic EL display which is formed so that a mouth portion is located between partition walls. According to such a method, since the liquid material flows into the opening, it is possible to prevent the liquid material from spreading.
[0021]
  Aspect 3 of the present invention is an aspect.2InA plurality of openings are provided between the partition walls.Provide a method for manufacturing an organic EL display.
[0022]
  Aspect 4 of the present inventionAspect 2 or 3InBefore forming the partition wall, an insulating film is formed on the substrate at least at a position other than the display pixel, and thereafter, part of the insulating film is removed to form an opening.Provide a method for manufacturing an organic EL display.
[0025]
  Aspects of the invention5Is an organic EL display in which a first electrode, a plurality of organic compound layers, and a second electrode are sequentially laminated on a substrate, and at least one of the plurality of organic compound layers is formed of a liquid material in a planar shape. A liquid material diffusion prevention part that prevents the spread of the liquid material is provided at a position other than the display pixel, which is formed by arrangingThe liquid material diffusion preventing part is an opening through which the liquid material flows.An organic EL display is provided.
[0027]
  Aspects of the invention6Is an aspect5In this embodiment, a partition wall for separating adjacent second electrodes is provided on both sides of the second electrode.OpenAn organic EL display having a mouth portion between partition walls is provided. According to such a configuration, since the liquid material flows into the opening, it is possible to prevent the liquid material from spreading.
[0028]
  Aspects of the invention7Is an aspect6InA plurality of openings are provided between the partition walls.An organic EL display is provided.
  According to Aspect 8 of the present invention, in any one of Aspects 5 to 7, the opening is formed by removing a part of the insulating film from the insulating film provided at a position other than at least the display pixel on the substrate. An organic EL display having an opening is provided.
[0029]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Embodiment 1] First, a first embodiment will be described. FIG. 1 is an explanatory diagram showing a configuration example of an organic EL display according to the present invention, and shows a situation in which a substrate is observed from the side where electrodes are arranged. FIG. 1 also shows components that are hidden by electrodes or the like provided in the upper layer.
[0030]
On the substrate 11, the anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 connected to the cathode are formed so as to be in contact with the surface of the substrate 11. An insulating film 22 is formed on the substrate on which the anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 are formed. The film thickness of the insulating film 22 is 0.7 μm, for example. A first opening 23 is provided in the insulating film 22 at a position where the anode wiring and the cathode wiring intersect (that is, a position serving as a display pixel). Further, a second opening 26 is provided in the insulating film 22 at a position other than the display pixel. The position other than the display pixel is an area outside the anode wiring at the end. For example, in the insulating film 22 shown in FIG. 1, the region 31 outside the endmost anode wiring corresponds to a region other than the display pixel, and the second opening 26 is formed in the region 31 outside the endmost anode wiring. Is provided.
[0031]
It is preferable that a plurality of second openings 26 are dispersed between the partition walls 10. In the example shown in FIG. 1, a case where four second openings 26 are provided between the partition walls is shown.
[0032]
The insulating film 22 is in contact with any of the anode wiring 1, the cathode connection wiring 21, and the substrate 11 except for the first opening 23 and the second opening 26.
[0033]
A plurality of organic thin film layers (organic compound layers) and the cathode wiring 5 are sequentially stacked on the insulating film 22. However, illustration of the organic thin film layer is omitted in FIG. Further, before the organic thin film layer is formed, a partition wall 10 for separating adjacent cathode wirings is provided. The partition 10 is formed in a desired pattern when the cathode wiring 5 is formed by vapor deposition or the like. For example, as shown in FIG. 1, a plurality of partition walls 10 orthogonal to the anode wiring 1 are formed so that a plurality of cathode wirings 5 orthogonal to the anode wiring 1 are formed. The partition wall 10 preferably has an inverted taper structure. That is, it is preferable that the cross-section is formed so as to be separated from the substrate 11. The height of the partition wall 10 is, for example, 3.4 μm.
[0034]
When the organic thin film layer is laminated by applying an organic material solution, the organic thin film layer is separated by the partition walls 10. Similarly, when the cathode wiring 5 is vapor-deposited, the cathode wiring is separated by each partition wall 10, and as a result, a plurality of cathode wirings 5 are formed as shown in FIG. The partition walls 10 are located on both sides of the cathode wiring 5. The film thickness of the organic thin film layer is, for example, 10 to 100 nm. Moreover, the thickness of the cathode wiring 5 is 100 nm, for example.
[0035]
By laminating the plurality of organic thin film layers and the cathode wiring 5 in this manner, a configuration in which a plurality of organic thin film layers are formed between the anode wiring 1 and the cathode wiring 5 in each first opening 23. Become. When a constant current is passed from the anode wiring side to the cathode wiring side in the first opening 23, the organic thin film layer (light emitting layer) located in the first opening 23 emits light.
[0036]
Further, another substrate (not shown) is disposed so as to face the surface of the substrate 11 shown in FIG. In this substrate, a sealing material (not shown) is applied to the outer periphery of the region of the substrate 11 facing the organic EL element. The two substrates are bonded by this sealing material.
[0037]
Each cathode connection wiring 21 is connected to a scanning electrode driver (not shown), and each anode wiring 1 is connected to a signal electrode driver (not shown). When driving the organic EL display, the scanning electrode driver sequentially selects each cathode wiring 5. Further, the signal electrode driver causes a current to flow from the anode wiring to the cathode wiring of the selected row so that the display pixels to be lit in the selected row emit light.
[0038]
When the organic material solution is applied, the solution tends to spread along a portion where the side surface of the partition wall 10 and the surface of the insulating film 22 intersect. However, since the solution that attempts to spread outside the insulating film 22 flows into the second opening 26, it is possible to prevent the solution from spreading over a wide range. Therefore, the solution does not spread to a position where it comes into contact with the sealing material when the two substrates are opposed to each other, and a decrease in the adhesive strength of the sealing material can be prevented. As a result, the organic EL element can be made difficult to come into contact with moisture and oxygen, and the deterioration of the performance of the organic EL element can be prevented. Further, since the solution can be prevented from spreading, an organic thin film serving as a resistor is not formed on the cathode connection wiring 21. Therefore, poor contact between the cathode connection wiring 21 and the cathode wiring 5 and heat generation during driving can be prevented. Furthermore, by preventing the solution from spreading, the unevenness of the film thickness of the organic thin film layer can be reduced, and the unevenness of light emission can also be reduced.
[0039]
In order to protect the organic EL display, an organic thin film layer such as a polymer may be formed on the cathode wiring 5. The film thickness of the insulating film (depth of the second opening 26) is, for example, 0.7 μm. The film thickness of the organic thin film layer and the thickness of the cathode wiring 5 are about 10 to 100 nm and 100 nm, respectively. Therefore, even after the cathode wiring 5 is formed, the second opening 26 maintains a concave shape. Therefore, even when the solution is applied to form the organic thin film layer on the upper layer of the cathode wiring 5, it is possible to prevent the solution from spreading.
[0040]
Next, the manufacturing method of the organic EL display of this Embodiment is demonstrated using FIG. 1 and FIG. FIG. 2 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the organic EL display of the present embodiment.
[0041]
First, the anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 are formed on the substrate 11 (step S101). As the substrate 11, for example, a transparent substrate such as a glass substrate is used. The anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 are formed by depositing ITO (Indium Tin Oxide) on the substrate 11 and performing etching.
[0042]
Next, the insulating film 22 is formed on the surface of the substrate 11 provided with the anode wiring 1 (step S102). The insulating film 22 is formed, for example, by applying a polyimide solution. The thickness of the insulating film 22 may be set to 0.7 μm, for example. In addition, after forming the insulating film layer, the insulating film at a position to be a display pixel is removed, and the first opening 23 is provided. The intersection of the cathode wiring 5 formed in step S105 described later and the anode wiring 1 is a position that becomes a display pixel. In addition, a part of the insulating film is removed and a second opening 26 is provided at a position other than the display pixel (region 31 outside the endmost anode wiring). At this time, it is preferable to provide a plurality of second openings 26 between the partition walls 10 so as to be spatially dispersed. For example, it is preferable to remove a part of the insulating film and provide a plurality of openings 26 so that the insulating film 22 remains in a ladder shape in a region between the partition walls. By providing a plurality of second openings 26, the effect of preventing the spread of the solution can be enhanced. By the process of step S102, the second opening 26 is provided in the region 31 outside the outermost anode wiring.
[0043]
FIG. 1 shows a case where the second opening 26 is provided in a region outside the leftmost anode wiring. However, the second opening 26 is provided in a region outside the leftmost anode wiring and a region outside the rightmost anode wiring, respectively. Two openings 26 are preferably provided.
[0044]
Subsequently, the partition wall 10 for separating adjacent cathode wirings is formed in the upper layer of the insulating film 22 (step S103). At this time, the partition 10 is formed at a position where the cathode wiring is to be separated (on both sides of the position where the cathode wiring is arranged). Since the cathode wiring 21 is formed to be orthogonal to the anode wiring 1, the partition wall 10 is also formed to be orthogonal to the anode wiring 1. As a material of the partition wall 10, for example, an acrylic resin film may be used. The height of the partition wall 10 may be set to 3.4 μm, for example. The partition wall 10 is preferably formed so as to have an inverted taper structure in which the cross section increases as the distance from the substrate 11 increases. By adopting the reverse taper structure, the organic thin film layer and the cathode wiring 5 can be reliably separated.
[0045]
After forming the partition, each organic thin film layer is laminated (step S104). A metal mask having an opening in the light emitting region is prepared in advance, and the metal mask is attached to the substrate 11 in step S104. Then, a solution for forming the hole injection layer is applied by, for example, a mask spray method. The solution can be arranged in a plane by a mask spray method. As a solution for forming the hole injection layer, for example, there is an ethyl benzoate solution in which polyvinyl carbazole is dissolved by 0.5% (mass percentage).
[0046]
At this time, the applied solution tends to spread along the partition wall 10. However, since the second opening 26 is provided in the region 31 outside the anode wiring at the extreme end, the solution flows into the second opening 26 and the position where the sealing material comes into contact with the cathode. The solution does not spread to the contact portion between the connection wiring 21 and the cathode wiring 5. Further, the unevenness of the film thickness of the organic thin film layer (in this case, the hole injection layer) in each first opening 23 is also reduced.
[0047]
On the hole injection layer, a hole transport layer and a light emitting layer are sequentially laminated. Even when these layers are formed by a coating method, the second opening 26 prevents the liquid material from spreading. You may laminate | stack a positive hole transport layer and a light emitting layer by a vapor deposition method.
[0048]
After forming the cathode interface layer, the cathode wiring 5 is formed (step S105). In step S105, the cathode interface layer is vapor-deposited on the upper layer of the light emitting layer, and the cathode wiring 5 is vapor-deposited on the upper layer. For example, LiF may be deposited as the cathode interface layer, and aluminum may be deposited as the cathode wiring. FIG. 3 is an explanatory view showing a mode in which the cathode wiring 5 is deposited. The material of the cathode wiring 5 (for example, aluminum) is ejected from the ejection unit 41 to the substrate 11. The support portion 42 that supports the substrate 11 rotates, and the cathode wiring 5 is uniformly formed at a predetermined position (between each partition wall) on the substrate 11 by this rotation.
[0049]
In step S <b> 104 and step S <b> 105, the organic thin film layer, the cathode interface layer, and the cathode wiring 5 are separated by the partition walls 10 and are formed in regions between the partition walls 10.
[0050]
Next, a sealing material is applied to the outer periphery of a region facing the organic EL element in a substrate (not shown) paired with the substrate 11. Then, the substrate coated with the sealing material and the substrate 11 are overlapped (step S106).
[0051]
According to such an organic EL display manufacturing method, when the organic material solution is applied in step S104, the second opening 26 prevents the solution from spreading. Therefore, since the organic thin film layer is not formed on the substrate 11 at the position where the sealing material comes into contact, the adhesive force of the sealing material does not decrease, and moisture and oxygen do not easily enter between the substrates. Therefore, it is possible to prevent a decrease in the performance of the organic EL display. In step S <b> 105, no organic thin film is formed at the connection portion between the cathode connection wiring 21 and the cathode wiring 5. Therefore, in step S105, the cathode wiring 5 and the cathode connection wiring 21 are connected in a good state. Accordingly, heat generation during driving can be prevented. Furthermore, since unevenness in the thickness of the organic thin film layer in the first opening 23 is also reduced, unevenness in light emission can also be reduced.
[0052]
Note that an organic thin film layer made of a polymer or the like may be formed on the cathode wiring 5 before the step S106 is performed. This organic thin film layer plays a role of protecting the organic EL element. Even when the organic thin film layer is formed by a coating method, the second opening 26 prevents the solution from spreading.
[0053]
Further, in a region (display area) where display is performed by each display pixel, a protrusion protruding between the pixels from the partition wall 10 may be provided. This protrusion may be provided not only between the pixels but also outside the display pixel on the anode wiring at the end. FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration example of an organic EL display in the case where a protrusion protruding from the partition wall 10 is provided. The partition wall 10 is provided with protrusions 51 that project from the partition wall 10 to the outside of the display pixel between the pixels and on the anode wiring at the end. Further, each protrusion 51 is in contact with the insulating film 22. Each protrusion 51 preferably has an inversely tapered structure (a structure in which the cross section increases as the distance from the substrate side increases), as with the partition 10. That is, it is preferable to form each protrusion 51 so that the cross section of each protrusion 51 is the narrowest at the portion in contact with the insulating film 22 and becomes wider as the distance from the insulating film 22 increases.
[0054]
When forming the protrusion 51, for example, when the partition 10 is formed in step S103, the partition 10 and the protrusion 51 may be integrally formed of the same material at the same time. A manufacturing process can be simplified by forming with the same material, or forming simultaneously.
[0055]
The protrusion 51 exerts a function of blocking a solution that attempts to spread along the partition wall 10. Therefore, not only the second opening 26 but also the protrusion 51 can prevent the spread of the solution more effectively. As a result, as compared with the case where the protrusions 51 are not provided (configuration illustrated in FIG. 1), the unevenness of the film thickness of the organic thin film layer in each display pixel is further reduced, and the unevenness of light emission is further improved.
[0056]
FIG. 4 shows a configuration in which the protrusions 51 are provided outside the display pixels on the respective regions between the display pixels and the anode wiring at the end. However, if the protrusions 51 are provided in any of the regions between the pixels, there is a possibility that the cathode wiring 5 cannot be separated even if the partition wall 10 and the protrusions 51 have a reverse taper structure. The reason for this will be described.
[0057]
FIG. 5 is an explanatory diagram showing the state of the surface of the cathode wiring 5 and the side surfaces of the partition walls 10 and the protrusions 51 when the cathode wiring 5 is deposited. In FIG. 5, the surface of the cathode wiring 5 is indicated by oblique lines. In addition, since the material of the cathode wiring 5 is sprayed on the upper surface of the partition wall 10 during the deposition of the cathode wiring 5, a layer of the same material as the cathode wiring 5 is formed on the upper surface of the partition wall 10. As shown in FIG. 3, the material of the cathode wiring 5 is sprayed onto the substrate 11 so as to spread from the spraying part 41. Therefore, the material of the cathode wiring 5 is not necessarily sprayed perpendicularly to the substrate, and may be sprayed from an oblique direction. In this case, the presence of the protrusion 51 makes it easy to spray the material of the cathode wiring 5 also in the vicinity 32 of the region where the side surface of the partition wall 10 and the side surface of the protrusion 51 intersect. When the material of the cathode wiring 5 is sprayed on the vicinity 32, the cathode wiring 5 and the layer on the upper surface of the partition wall 10 (layer of the same material as the cathode wiring 5) are connected via the vicinity 32. Further, since the support table 42 shown in FIG. 3 is rotating, the cathode wiring and the upper layer of the partition wall 10 are also provided on the side of the cathode wiring (not shown in FIG. 5) adjacent to the cathode wiring 5 shown in FIG. May be connected. Accordingly, the cathode wiring 5 shown in FIG. 5 and the adjacent cathode wiring may not be sufficiently separated (short circuit).
[0058]
As the number of protrusions provided on both sides of the partition wall 10 increases, the probability of occurrence of a short circuit between adjacent cathode wirings also increases. Therefore, if the projections 51 are provided outside the respective display pixels on the respective regions between the respective display pixels and the anode wiring at the end as shown in FIG. 4, the probability of occurrence of a short circuit is increased. In order to reduce the probability of occurrence of a short circuit, the protrusions 51 may be provided at intervals wider than one pixel. FIG. 6 is an explanatory diagram showing a configuration example in the case where the protrusions 51 are provided at intervals of two pixels on each side surface of the partition wall 10. Also in this case, the presence of the protrusion 51 can prevent the solution from spreading. Further, since the number of protrusions 51 is smaller than in the configuration example shown in FIG. 4, the probability of occurrence of short circuit between the cathode wirings can be made lower than in the case shown in FIG.
[0059]
Although FIG. 6 shows a case where the protrusions 51 are provided at intervals of two pixels on both sides of the partition wall 10, the protrusions 51 may be provided at intervals of three pixels or more. Further, FIG. 6 shows a case where the protrusions protrude only on one side of the partition wall 10 at the positions where the individual protrusions 51 exist, but each protrusion 51 is provided so as to protrude from the same location of the partition wall 10 to both sides. Also good.
[0060]
In addition, if the protrusion 51 protrudes only on one side surface of one partition wall 10 and the protrusion 51 does not exist on the other side surface, the flow of the solution is biased on both sides of the partition wall. Therefore, when the solution is applied to both sides of the partition wall 10, the protrusions 51 are provided on both sides of the partition wall 10. This also applies to the second protrusion 52 described later. However, as shown in FIG. 6, there may be a case where the protrusions are present only on one side at the positions where the individual protrusions 51 are present.
[0061]
In the first embodiment, the anode wiring 1 corresponds to a first electrode, and the cathode wiring 5 corresponds to a second electrode. The second opening 26 corresponds to a liquid material diffusion preventing unit.
[0062]
[Embodiment 2(Reference form)Next, a second embodiment will be described. FIG. 7 is an explanatory diagram showing a configuration example of an organic EL display according to the present invention. FIG. 7 shows a situation where the substrate is observed from the side where the electrodes are arranged, as in FIG. Also shown are components that are hidden by an electrode or the like provided in the upper layer.
[0063]
The organic EL display in the second embodiment is different from the first embodiment in the configuration in the region 31 outside the anode wiring at the extreme end. Since other components are the same as those in the first embodiment, the same reference numerals as those in the first embodiment are used, and the description thereof is omitted. As shown in FIG. 7, in the second embodiment, the second opening is not provided in the region 31 outside the endmost anode wiring. The insulating film 22 provided on the upper layer of the anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 has only the first opening 23.
[0064]
As in the first embodiment, the partition wall 10 is formed in the upper layer of the insulating film 22. However, in the partition 10, a portion that belongs to the region 31 outside the outermost anode wiring is provided with a protrusion 52 that projects to the side where the display pixel exists. In the following description, the protrusion provided in the display area where the display pixel exists is referred to as a first protrusion, and the protrusion provided in the region 31 outside the anode wiring at the end is referred to as a second protrusion. The protrusion 51 described in the first embodiment corresponds to the first protrusion.
[0065]
The second protrusion 52 preferably has an inversely tapered structure like the partition wall 10. That is, it is preferable to form each of the second protrusions 52 so that the cross section of the second protrusion 52 is narrowest at a portion in contact with the insulating film 22 and becomes wider as the distance from the insulating film 22 increases.
[0066]
FIG. 8 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the organic EL display according to the second embodiment. First, the anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 are formed on the substrate 11 (step S111). This step is the same as step S101. Subsequently, the insulating film 22 is formed on the anode wiring 1 and the cathode connection wiring 21 (step S112). The process of step S112 is the same as that of step S102 except that the second opening is not provided.
[0067]
Subsequently, the partition walls 10 for separating adjacent cathode wirings are formed on both sides of the cathode wiring arrangement position (step S113). At this time, a second protrusion 52 protruding from the partition wall 10 is also formed in the region 31 outside the outermost anode wiring. The second protrusion 52 may be formed integrally with the partition 10 using the same material (for example, an acrylic resin film) as the partition 10. If the second protrusion 52 and the partition wall 10 are formed using the same material or are formed simultaneously, the manufacturing process can be simplified. The height of the partition wall 10 and the protrusion 52 may be set to 3.4 μm, for example. The partition wall 10 and the second protrusion 52 are preferably formed to have a reverse taper structure (a structure in which a cross section increases as the distance from the substrate side increases).
[0068]
Although FIG. 7 shows a case where the second protrusion 52 is provided so as to protrude from one place of the partition wall 10 to only one side, the second protrusion 52 extends from the same place of the partition wall 10 to both sides of the partition wall 10. The protrusion 52 may be provided.
[0069]
FIG. 7 shows the case where the second protrusion 52 is provided in a region outside the leftmost anode wiring. However, the second protrusion 52 is provided in a region outside the leftmost anode wiring and a region outside the rightmost anode wiring, respectively. It is preferable to provide the second protrusion 52.
[0070]
Then, each organic thin film layer is laminated | stacked similarly to step S104 in 1st embodiment (step S114). When an organic material solution is applied, the solution tends to spread along the partition wall 10. However, the second protrusion 52 blocks the solution that is about to spread along the partition wall 10. Therefore, the solution does not spread to the position where the sealing material comes into contact or the contact portion between the cathode connection wiring 21 and the cathode wiring 5. Further, the unevenness of the film thickness of the organic thin film layer in each first opening 23 is also reduced.
[0071]
Subsequently, the cathode interface layer and the cathode wiring 5 are formed (step S115), and the substrate 11 and another substrate (not shown) are bonded with a sealing material (step S116). Steps S115 and S116 are the same as steps S105 and S106.
[0072]
According to such a method for manufacturing an organic EL display, when the organic material solution is applied, the second protrusion 52 dams the solution, so that the solution is prevented from spreading. Therefore, similarly to the first embodiment, it is possible to prevent a decrease in the adhesive strength of the sealing material and to prevent a decrease in the performance of the organic EL display. In addition, the cathode wiring 5 and the cathode connection wiring 21 can be connected well to prevent heat generation during driving. Further, unevenness in light emission can be reduced.
[0073]
Note that an organic thin film layer (protective film for protecting the organic EL element) made of a polymer or the like may be formed in the upper layer of the cathode wiring 5 before performing the step S116. Even when the organic thin film layer is formed by a coating method, the second protrusion 52 prevents the solution from spreading.
[0074]
Further, as in the first embodiment, a first protrusion that protrudes between the display pixel may be formed on the partition wall 10 in the display area. FIG. 9 is an explanatory diagram showing a configuration example when the first protrusion is formed in the display area in the second embodiment. When the first protrusion 51 shown in FIG. 9 is formed, for example, in Step S113, the partition wall 10, the first protrusion 51, and the second protrusion 52 may be integrally formed of the same material at the same time. The first protrusions 51 may be provided so as to protrude from one place of the partition wall 10 only to one side, or the first protrusions 51 may be provided so as to protrude from the same place of the partition wall 10 to both sides of the partition wall 10. However, in order to prevent an increase in the probability of occurrence of a short circuit, it is preferable to provide the first protrusions 51 at intervals of two pixels or more on each side surface of the partition wall 10.
[0075]
When the first protrusion 51 is formed, the organic material solution is blocked not only by the second protrusion 52 but also by the first protrusion 51. Therefore, when the first protrusion 51 is formed, the effect of preventing the solution from spreading can be enhanced.
[0076]
In the second embodiment, the second protrusion 52 corresponds to a liquid material diffusion preventing portion.
[0077]
[Embodiment 3(Reference form)Next, a third embodiment will be described. FIG. 10 is an explanatory diagram showing a configuration example of an organic EL display according to the present invention. FIG. 10 shows a situation where the substrate is observed from the side where the electrodes are arranged, as in FIG. Also shown are components that are hidden by an electrode or the like provided in the upper layer.
[0078]
The organic EL display according to the third embodiment is different from the first embodiment and the second embodiment in the configuration of the region 31 outside the outermost anode wiring. The other components are the same as those in the first embodiment and the second embodiment, and thus the same reference numerals as those in the first embodiment are used, and the description thereof is omitted.
[0079]
As shown in FIG. 10, in the third embodiment, the second opening is not provided in the region 31 outside the outermost anode wiring. This point is the same as in the second embodiment. However, in the third embodiment, the third protrusion 53 is formed in the region 31 outside the outermost anode wiring. Unlike the first protrusion 51 and the second protrusion 52, the third protrusion 53 is formed as a protrusion separated from the partition wall 10. It is preferable that the third protrusion 53 also has an inversely tapered structure (a structure in which a cross section increases as the distance from the substrate side) is the same as that of the partition wall 10.
[0080]
However, the presence of the third protrusion 53 causes a hole in the cathode wiring 5 when the cathode wiring 5 is deposited. When such holes are densely packed, the resistance of the cathode wiring 5 becomes high, and current hardly flows during driving. Therefore, the third protrusions 53 are formed so as to be dispersed. FIG. 11 is an explanatory diagram showing an arrangement state of the third protrusions 53. As shown in FIG. 11, it is preferable to disperse the third protrusions 53 so that the number of the third protrusions 53 in an arbitrary cross section orthogonal to the longitudinal direction of the cathode wiring 5 to be deposited is one or less. . If a plurality of third protrusions 53 are present in the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the cathode wiring 5, the resistance at that portion becomes high.
[0081]
The manufacturing method of the organic EL display of the third embodiment is the same as the manufacturing method (see FIG. 8) in the second embodiment. However, in step S113, when the partition 10 is formed, the third protrusion 53 separated from the partition 10 is formed. As shown in FIG. 11, the third protrusions 53 are formed to be dispersed. The material of the third protrusion 53 may be the same material as the partition wall 10 (for example, an acrylic resin film). Further, it is preferable to form the third protrusion 53 and the partition wall 10 at the same time. If the third protrusion 53 and the partition wall 10 are formed of the same material or are formed simultaneously, the manufacturing process can be simplified. The height of the third protrusion 53 may be the same as that of the partition wall 10, for example.
[0082]
FIG. 10 shows the case where the third protrusion 53 is provided in a region outside the leftmost anode wiring. However, the third projection 53 is provided in a region outside the leftmost anode wiring and a region outside the rightmost anode wiring, respectively. It is preferable to provide a third protrusion 53.
[0083]
In the process following step S113, each organic thin film layer is laminated (step S114). When an organic material solution is applied, the solution tends to spread along the partition wall 10. However, the third protrusion 53 blocks the solution that is about to spread along the partition wall 10. Therefore, the solution does not spread to the position where the sealing material comes into contact, the adhesive force of the sealing material is prevented from being lowered, and the performance of the organic EL display can be prevented from being lowered. In addition, since the solution does not spread to the contact portion between the cathode connection wiring 21 and the cathode wiring 5, the cathode wiring 5 and the cathode connection wiring 21 can be connected well, and heat generation during driving can be prevented. Moreover, since unevenness of the film thickness of the organic thin film layer in each first opening 23 is also reduced, unevenness in light emission can be reduced.
[0084]
Further, when the solution is applied to form an organic thin film layer (protective film for protecting the organic EL element) composed of a polymer or the like on the upper layer of the cathode wiring 5, the spread of the solution is prevented by the third protrusion 53. Is prevented.
[0085]
Further, similarly to the first embodiment and the second embodiment, in the display area, a first protrusion protruding between the display pixel and the display pixel may be formed on the partition wall 10. At this time, the first protrusion may be provided so as to protrude from one place of the partition wall 10 only to one side, or the first protrusion may be provided so as to protrude from both sides of the partition wall 10 from the same place of the partition wall 10. However, in order to prevent an increase in the probability of occurrence of a short circuit, it is preferable to provide the first protrusions at intervals of two pixels or more on each side surface of the partition wall 10. When the first protrusion is formed, the organic material solution is blocked not only by the third protrusion 53 but also by the first protrusion. Therefore, when the first protrusion is formed, the effect of preventing the solution from spreading can be enhanced.
[0086]
In the third embodiment, the third protrusion 53 corresponds to a liquid material diffusion preventing portion.
[0087]
In each of the above-described embodiments, the laminated structure from the anode wiring to the cathode wiring may be reversed so that a current flows from the upper electrode to the lower electrode.
[0088]
4, FIG. 6, and FIG. 9 show the case where the cross-sectional shape of the first protrusion 51 is rectangular. Similarly, FIGS. 7 and 9 show the case where the cross-sectional shape of the second protrusion 52 is rectangular. Further, when the first protrusion 51 and the second protrusion 52 have a reverse taper structure (a structure in which a cross section increases as the distance from the substrate side), the shape of these protrusions becomes a truncated pyramid (a truncated pyramid). However, the shape of the first protrusion 51 and the second protrusion 52 is not limited to a truncated pyramid having a rectangular cross-sectional shape in a plane parallel to the substrate 11. For example, the truncated pyramid may have a cross-sectional shape in a plane parallel to the substrate 11 such that the width increases as the distance from the partition wall 10 increases (see FIG. 12A). Further, the first protrusion 51 and the second protrusion 52 may be formed so that the surface opposite to the contact surface with the partition wall 10 is a conical curved surface. In this case, the cross-sectional shape in a plane parallel to the substrate 11 is as shown in FIG. In addition, when each protrusion does not have an inversely tapered structure, the shape of the protrusion is not a truncated pyramid but a column.
[0089]
The shape of the third protrusion 53 is, for example, a quadrangular frustum or a quadrangular column. In this case, the cross-sectional shape in a plane parallel to the substrate 11 is rectangular as shown in FIG. However, the third protrusion 53 is not limited to such a shape. For example, a triangular frustum or a triangular prism may be used. It is preferable that one side face in the direction in which the liquid material flows.
[0090]
7 and FIG. 9, the case where the width of the second protrusion 52 is narrower than the distance between the second protrusions 52 is shown. However, as shown in FIG. The distance between the second protrusions 52 may be wider.
[0091]
The cross section shown in FIGS. 12 and 13 is a cross section along a plane parallel to the substrate 11.
[0092]
Further, in each of the above embodiments, the partition wall 10 and various protrusions (the first protrusion 51, the second protrusion 52, or the third protrusion 53) are formed of the same material or simultaneously formed. Although it has been described that the process can be simplified, the partition wall 10 and the various protrusions may be formed of different materials. For example, the partition wall 10 may be formed of an acrylic resin film, and the protrusion may be formed of polyimide similarly to the insulating film 22. When the partition 10 and the various protrusions are formed of different materials, the partition 10 and the various protrusions are formed in separate steps. Further, the partition wall 10 and the various protrusions may be formed of the same material and formed in separate steps.
[0093]
Note that the partition 10 may be formed by a photolithography process. In the photolithography process, the partition wall 10 can have an inverted taper structure by causing the developer to wrap around the bottom of the partition wall 10. Further, when the protrusion is formed of polyimide, for example, a polyimide layer may be formed by a spin coating method, and the protrusion may be formed by a photolithography process. When polyimide is used, a protrusion having a height of 0.7 to 3.0 μm can be formed. Note that the height of the protrusion (the film thickness of the polyimide layer) varies, but the film thickness distribution is within 10%.
[0094]
When the partition wall 10 and the various protrusions are formed in separate steps, it is preferable to form the partition wall 10 first. If the protrusions are formed first, when the partition wall 10 is formed, the presence of the protrusions makes it difficult for the developer to flow into the bottom of the partition wall 10 and makes it difficult for the partition wall 10 to have an inverted taper structure in the vicinity of the protrusions.
[0095]
If the protrusion is formed first, the following problem also occurs. FIG. 14 is an explanatory view showing a problem when the protrusion is formed first. As shown in FIG. 14A, it is assumed that the second protrusion 52 is formed on the insulating film 22 first. In this case, as shown in FIG. 14B, the material for the partition wall 10 (here, acrylic resin) is disposed on the insulating film 22. In order to form the partition 10, when a mask is disposed at a position other than the position where the partition 10 is to be irradiated and light is irradiated, the material irradiated with the light is cured and the partition 10 is formed. At this time, as shown in FIG. 14C, if the region 71 where the mask is not provided is separated from the second protrusion 52, the partition wall 10 is formed away from the second protrusion 52. Further, as shown in FIG. 14D, it is assumed that the region 71 where the mask is not provided is too close to the second protrusion 52 and the second protrusion 52 enters the inside of the partition wall 10. . In this case, excess partition wall material 75 remains on the side surface of the partition wall 10. Even if the mask is arranged so that the side surface of the second protrusion 52 and the desired side surface of the partition wall 10 are in contact with each other, excess partition wall material 75 remains on the side surface of the partition wall 10 (FIG. 14E).
[0096]
On the other hand, FIG. 15 is explanatory drawing which shows the condition at the time of forming a partition first. As shown in FIG. 15A, it is assumed that the partition 10 is formed on the insulating film 22 first. In this case, as shown in FIG. 15B, the material of the second protrusion 52 (here, polyimide) is disposed on the insulating film 22. In order to form the second protrusion 52, a mask 73 is disposed at a position to be the second protrusion 52, and when the light is irradiated, a portion not irradiated with the light remains and the second protrusion 52 is formed. . At this time, it is assumed that the position of the mask 73 has moved away from the partition wall 10. In this case, even in the unmasked region, the second protrusion 52 is formed so as to be in contact with the partition wall 10 because the light is blocked by the partition wall 10 having the reverse taper structure (FIG. 15C). Further, it is assumed that the position of the mask 73 is too close to the partition wall 10. In this case, although the size of the protrusion protruding from the partition wall 10 is reduced, the second protrusion 52 in contact with the partition wall 10 can be formed (FIG. 15D). In addition, an extra partition material 75 as shown in FIGS. 14D and 14E does not remain. Therefore, it is preferable to form the second protrusion 52 after the partition wall 10 is formed. Although the second protrusion 52 has been described here, the first protrusion 51 is preferably formed after the partition wall 10 is formed.
[0097]
In FIGS. 14 and 15, the second protrusion 52 is a protrusion whose cross section becomes smaller as it is away from the substrate side. However, as already described, the shape of the protrusion is as it is away from the substrate side. It is preferable to have a shape with a wide cross section.
[0098]
Further, when the partition wall 10 and the protrusion are formed in separate steps, it is preferable that the height of the protrusion 10 is 50 to 75% of the height of the partition wall 10. When forming the protrusions, the protrusions higher than the desired height may be formed due to fluctuations in the film thickness. However, if the protrusion 10 is formed so that the height of the protrusion 10 is 75% or less of the height of the partition wall 10, even if a protrusion higher than the desired height is formed, the protrusion 10 will not be higher than the partition wall 10. If the height of the protrusion 10 is too low, the effect of blocking the liquid material is reduced. Therefore, it is preferable to form the protrusion so that the height of the protrusion is 50% or more of the height of the partition wall 10. When the height of the partition wall 10 is 3.4 μm, the height of the protrusion may be set to 2.4 μm, for example.
[0099]
In the case where the partition wall 10 and the protrusion are integrally formed of the same material at the same time, the partition wall 10 and the protrusion may be formed to have the same height.
[0100]
【Example】
[Example 1] ITO film was formed on a glass substrate and etched to form anode wiring and cathode connection wiring. The thickness of the cathode connection wiring was 300 nm.
[0101]
Next, a polyimide solution was applied to the surface of the substrate provided with the anode wiring to form an insulating film having a thickness of 0.7 μm. Subsequently, the polyimide at a position to be a display pixel was removed, and a first opening was provided. At this time, the polyimide was removed so that the first opening was a 300 μm × 300 μm square. Further, a part of the insulating film was removed so that the insulating film remained in a ladder shape in a region outside the endmost anode wiring, and a plurality of second openings were provided.
[0102]
Subsequently, partition walls were formed on the surface of the insulating film (polyimide layer) so that 64 cathode wirings could be separated and arranged. The partition was formed by applying an acrylic resin film on the upper layer of the insulating film. In addition, the partition walls have a reverse taper structure. The height of the partition wall was 3.4 μm.
[0103]
Thereafter, a metal mask having an opening was attached to the glass substrate. At this time, the metal mask opening and the organic thin film layer were disposed so as to overlap each other, and the metal mask was attached so that a space of 50 μm was left between the metal mask and the glass substrate. And the ethyl benzoate solution which melt | dissolved 0.5% (mass percentage) polyvinyl carbazole was apply | coated by the mask spray method, and the positive hole injection layer was formed.
[0104]
Subsequently, α-NPD (N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine) is deposited on the upper layer of the hole injection layer to form a hole transport layer having a thickness of 40 nm. Formed. Further, Alq (tris (8-hydroxynato) aluminum) serving as the host compound of the light emitting layer and coumarin 6 serving as the fluorescent dye of the guest compound are simultaneously vapor deposited on the upper layer to form a light emitting layer having a thickness of 60 nm. Formed.
[0105]
Subsequently, LiF was vapor-deposited on the upper layer of the light emitting layer to form a cathode interface layer having a thickness of 0.5 nm. Then, aluminum was vapor-deposited and the cathode wiring with a film thickness of 100 nm was formed. As a result, the aluminum film was separated by the partition walls, and 64 cathode wirings were formed.
[0106]
A sealing material was applied to a substrate different from the glass substrate, and was made to face the glass substrate on which the organic EL element was arranged. An epoxy ultraviolet curable resin was used as the sealing material. Moreover, the sealing material was apply | coated to the outer periphery of the area | region facing an organic EL element. After making two board | substrates oppose, ultraviolet rays were irradiated, the sealing material was hardened, and board | substrates were adhere | attached. Thereafter, heat treatment was performed for 1 hour in a clean oven at 80 ° C. in order to further accelerate the curing of the sealing material. As a result, the sealing material and the pair of substrates separated the substrate where the organic EL element was present from the outside of the substrate.
[0107]
Unnecessary portions near the outer periphery of the substrate were cut and removed, a signal electrode driver was connected to the anode wiring, and a scanning electrode driver was connected to the cathode connection wiring.
[0108]
When applying a solution of an organic EL element, the solution is prevented from spreading to the position where the sealing material contacts and the contact portion between the cathode wiring and the cathode connection wiring, and a highly reliable organic EL display can be manufactured. It was. Further, the unevenness of the film thickness of the organic thin film layer was reduced, and the unevenness of light emission of each display pixel was able to be reduced when the organic EL display was driven.
[0109]
[Example 2] An organic EL display was produced in the same manner as in Example 1. However, only the first opening was provided in the insulating film, and the second opening was not provided. In addition, a protrusion (second protrusion) that protrudes to the side where the display pixel exists is formed in a portion belonging to a region outside the anode wiring at the end of the partition. In addition, the protrusion was formed so that the protrusion protruded only from one place of the partition to either side of the partition. Also in this case, as in Example 1, the spread of the solution could be prevented, and a highly reliable organic EL display could be manufactured. Further, when the organic EL display was driven, uneven light emission was not visually recognized.
[0110]
[Example 3] An organic EL display was produced in the same manner as in Example 2 except that a protrusion (third protrusion) separated from the partition was formed instead of the protrusion protruding from the partition. Also in this case, the spread of the solution could be prevented, and a highly reliable organic EL display could be manufactured. Further, when the organic EL display was driven, uneven light emission was not visually recognized.
[0111]
【The invention's effect】
  According to the method of manufacturing an organic EL display according to the present invention, the liquid material diffusion preventing unit for preventing the liquid material from spreading at positions other than the display pixels before the liquid material is arranged in a planar shape.As an opening through which liquid material flowsSince it forms, it can prevent that the arrange | positioned liquid material spreads. Therefore, it is possible to prevent the adhesive force of the sealing material from being lowered due to the spread of the liquid material, and as a result, the performance of the organic EL display is prevented from being lowered. In addition, it is possible to prevent the generation of a resistor in contact with the second electrode and to prevent heat generation during driving. In addition, unevenness in the thickness of the organic compound layer can be suppressed, and unevenness in light emission can be reduced.
[0112]
    According to the organic EL display according to the present invention, the liquid material diffusion preventing unit for preventing the liquid material from spreading is provided at a position other than the display pixel.The liquid material diffusion preventing part is an opening through which the liquid material flows.Therefore, it is possible to prevent the arranged liquid material from spreading. Therefore, it is possible to prevent the adhesive force of the sealing material from being lowered due to the spread of the liquid material, and as a result, the performance of the organic EL display is prevented from being lowered. In addition, it is possible to prevent the generation of a resistor in contact with the second electrode and to prevent heat generation during driving. In addition, unevenness in the thickness of the organic compound layer can be suppressed, and unevenness in light emission can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a configuration example of an organic EL display according to a first embodiment.
FIG. 2 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the organic EL display according to the first embodiment.
FIG. 3 is an explanatory view showing a mode in which a cathode wiring is deposited.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration example of an organic EL display when a protrusion is provided.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing the state of the surface of the cathode wiring and the side surfaces of the partition walls and protrusions when the cathode wiring is deposited.
FIG. 6 is an explanatory diagram showing another configuration example of the organic EL display when a protrusion is provided.
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a configuration example of an organic EL display according to a second embodiment.
FIG. 8 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing an organic EL display according to the second embodiment.
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a configuration example of an organic EL display when a protrusion is provided.
FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating a configuration example of an organic EL display according to a third embodiment.
FIG. 11 is an explanatory diagram showing an arrangement state of third protrusions.
FIG. 12 is an explanatory diagram showing an example of a cross-sectional shape of a protrusion.
FIG. 13 is an explanatory diagram showing an example of the width of a second protrusion.
FIG. 14 is an explanatory diagram showing a situation when a protrusion is formed before a partition wall.
FIG. 15 is an explanatory view showing a situation when a partition wall is formed before a protrusion.
FIG. 16 is a cross-sectional view showing an example of a conventional partition wall.
FIG. 17 is an explanatory diagram showing a configuration example when an insulating film is arranged on a conventional organic EL display having a partition;
FIG. 18 is an explanatory view showing a state in which a solution of an organic material spreads along a partition wall.
[Explanation of symbols]
1 Anode wiring
5 Cathode wiring
10 Bulkhead
11 Substrate
21 Cathode connection wiring
22 Insulating film
23 First opening
26 Second opening

Claims (8)

基板上に第1の電極を形成し、第1の電極上に複数の有機化合物層を形成し、有機化合物層の上に第2の電極を形成する有機ELディスプレイの製造方法であって、
表示画素以外の位置に、液状材料の広がりを防止する液状材料拡散防止部を前記液状材料が流れ込む開口部として形成し、その後に、
前記有機化合物層の少なくとも一層の液状材料を面状に配置するか、または、第2の電極上部に有機化合物層を形成するために、液状材料を面状に配置する
ことを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。
A method for producing an organic EL display, comprising: forming a first electrode on a substrate; forming a plurality of organic compound layers on the first electrode; and forming a second electrode on the organic compound layer,
Forming a liquid material diffusion preventing portion that prevents the spread of the liquid material as an opening into which the liquid material flows , at a position other than the display pixel,
An organic EL characterized in that at least one liquid material of the organic compound layer is arranged in a planar shape, or a liquid material is arranged in a planar shape in order to form an organic compound layer on the second electrode. Display manufacturing method.
1の電極上に複数の有機化合物層を形成する前に、第2の電極の配置位置の両側に、隣接する第2の電極同士を区分する隔壁を形成し、
前記開口部が隔壁と隔壁の間に位置するように形成する
請求項1に記載の有機ELディスプレイの製造方法。
Before forming a plurality of organic compound layers on the first electrode, on both sides of the arrangement position of the second electrode, a partition that separates adjacent second electrodes is formed,
The method for manufacturing an organic EL display according to claim 1, wherein the opening is formed so as to be positioned between the partition walls.
隔壁と隔壁との間に前記開口部を複数設ける請求項2に記載の有機ELディスプレイの製造方法。 The method for producing an organic EL display according to claim 2 , wherein a plurality of the openings are provided between the partition walls . 前記隔壁を形成する前に前記基板上の少なくとも前記表示画素以外の位置に絶縁膜を形成し、その後に、前記絶縁膜の一部を除去して前記開口部を形成する請求項2または請求項3に記載の有機ELディスプレイの製造方法。 3. The insulating film is formed on at least a position other than the display pixel on the substrate before the partition is formed, and then the opening is formed by removing a part of the insulating film. 3. A method for producing an organic EL display according to 3 . 基板上に第1の電極と、複数の有機化合物層と、第2の電極とを順に積層した有機ELディスプレイであって、
前記複数の有機化合物層のうち少なくとも一層は液状材料を面状に配置することによって形成され、
表示画素以外の位置に、液状材料の広がりを防止する液状材料拡散防止部を備え
前記液状材料拡散防止部は、液状材料を流れ込ませる開口部である
ことを特徴とする有機ELディスプレイ。
An organic EL display in which a first electrode, a plurality of organic compound layers, and a second electrode are sequentially stacked on a substrate,
At least one of the plurality of organic compound layers is formed by disposing a liquid material in a planar shape,
Provided with a liquid material diffusion prevention part that prevents the spread of the liquid material at a position other than the display pixel ,
The organic EL display, wherein the liquid material diffusion preventing portion is an opening through which the liquid material flows .
第2の電極の両側に、隣接する第2の電極同士を区分する隔壁を備え、
前記開口部を、隔壁と隔壁との間に備える
請求項5に記載の有機ELディスプレイ。
Provided on both sides of the second electrode with partition walls that separate adjacent second electrodes,
The opening is provided between the partition walls.
The organic EL display according to claim 5 .
前記開口部が隔壁と隔壁との間に複数設けられている請求項6に記載の有機ELディスプレイ。The organic EL display according to claim 6 , wherein a plurality of the openings are provided between the partition walls . 前記開口部は、前記基板上の少なくとも前記表示画素以外の位置に設けられた絶縁膜から当該絶縁膜の一部を除去して形成された開口部である請求項5から請求項7のうちのいずれか1項に記載の有機ELディスプレイ。 The opening is an opening formed by removing a part of the insulating film from an insulating film provided at least on the substrate at a position other than the display pixel. The organic EL display according to any one of the above.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7166860B2 (en) * 2004-12-30 2007-01-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electronic device and process for forming same
JP4687351B2 (en) * 2005-09-20 2011-05-25 カシオ計算機株式会社 Manufacturing method of display panel
JP4853876B2 (en) * 2006-02-02 2012-01-11 パイオニア株式会社 Deposition mask, display device manufacturing method, and display device
US8207667B2 (en) 2007-08-31 2012-06-26 Sharp Kabushiki Kaisha Organic EL display and manufacturing method thereof
JP5257362B2 (en) 2007-09-07 2013-08-07 凸版印刷株式会社 Pattern forming substrate and color filter using the same
JP5286719B2 (en) * 2007-09-10 2013-09-11 セイコーエプソン株式会社 Film forming method, optical element forming method, conductive film forming method, optical element and wiring
JP2009265178A (en) * 2008-04-22 2009-11-12 Toppan Printing Co Ltd Pattern forming substrate, color filter, and liquid crystal display device
WO2010004865A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 富士電機ホールディングス株式会社 Organic el display and method for manufacturing same
JP4612741B2 (en) 2008-08-29 2011-01-12 パナソニック株式会社 Organic EL display panel and manufacturing method thereof
JP5312909B2 (en) 2008-11-11 2013-10-09 シャープ株式会社 Color conversion filter panel for color organic EL display and color organic EL display
WO2010070800A1 (en) 2008-12-18 2010-06-24 パナソニック株式会社 Organic el light emitting device
JP2011090909A (en) * 2009-10-22 2011-05-06 Sumitomo Chemical Co Ltd Substrate for organic el device, and manufacturing method of organic el device using the same
EP2563097B1 (en) * 2010-04-19 2016-11-23 Joled Inc. Organic el display panel and organic el display device equipped with same, and production method for organic el display panel
WO2012095962A1 (en) * 2011-01-12 2012-07-19 パイオニア株式会社 Organic el device and method for manufacturing same
JPWO2014115333A1 (en) * 2013-01-28 2017-01-26 パイオニア株式会社 Light emitting device
WO2014115334A1 (en) * 2013-01-28 2014-07-31 パイオニア株式会社 Light emission device
WO2014115335A1 (en) * 2013-01-28 2014-07-31 パイオニア株式会社 Light emitting device
CN106063374B (en) * 2014-02-10 2018-02-23 夏普株式会社 El light emitting device
US9812516B2 (en) 2014-05-27 2017-11-07 Joled Inc. Display panel
JP6441595B2 (en) * 2014-06-04 2018-12-19 パイオニア株式会社 Light emitting device
JP2016119201A (en) * 2014-12-19 2016-06-30 パイオニア株式会社 Light-emitting device
KR102561329B1 (en) * 2016-06-10 2023-07-28 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus and manufacturing method thereof
CN113835557B (en) * 2021-09-24 2023-07-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel and manufacturing method thereof

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