JP4247230B2 - 磁化観察方法および磁化観察装置 - Google Patents
磁化観察方法および磁化観察装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4247230B2 JP4247230B2 JP2005503214A JP2005503214A JP4247230B2 JP 4247230 B2 JP4247230 B2 JP 4247230B2 JP 2005503214 A JP2005503214 A JP 2005503214A JP 2005503214 A JP2005503214 A JP 2005503214A JP 4247230 B2 JP4247230 B2 JP 4247230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- magnetization
- field strength
- value
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/12—Measuring magnetic properties of articles or specimens of solids or fluids
- G01R33/1215—Measuring magnetisation; Particular magnetometers therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
Claims (23)
- 所定の方向に沿って磁性体に指定の磁界強度H0で磁界を印加する工程と、磁気光学効果に基づき磁性体の磁化を検出し、磁化の第1検出値を特定する工程と、指定の磁界強度H0よりも小さな第1磁界強度H1の磁界内で磁性体の磁化を検出し、磁化の第2検出値を特定する工程と、指定の磁界強度H0よりも大きな第2磁界強度H2の磁界内で磁性体の磁化を検出し、磁化の第3検出値を特定する工程と、2:−1:−1の重み付けに基づき第1、第2および第3検出値を加算する工程とを備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項1または2に記載の磁化観察方法において、前記第1磁界強度は、磁性体内に確立される磁壁同士の接続関係を維持する大きさに設定されることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の磁化観察方法において、前記第2磁界強度は、磁性体内に確立される磁壁同士の接続関係を維持する大きさに設定されることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の磁化観察方法において、前記第1磁界強度は、第1検出値と第2検出値との間に相違を生み出す大きさに設定されることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の磁化観察方法において、前記第2磁界強度は、第1検出値と第3検出値との間に相違を生み出す大きさに設定されることを特徴とする磁化観察方法。
- 指定の磁界強度H0の磁界内に配置される磁性体の磁化に基づき生成される第1検出信号を取得する工程と、指定の磁界強度H0よりも小さな第1磁界強度H1の磁界内に配置される磁性体の磁化に基づき生成される第2検出信号を取得する工程と、指定の磁界強度H0よりも大きな第2磁界強度H2の磁界内に配置される磁性体の磁化に基づき生成される第3検出信号を取得する工程と、2:−1:−1の重み付けに基づき、第1、第2および第3検出信号でそれぞれ特定される磁化の検出値を加算する工程とをプロセッサに実行させることを特徴とする磁化観察ソフトウェアプログラム。
- 指定の磁界強度よりも小さな第1磁界強度範囲で変化する磁界を磁性体に作用させる工程と、第1磁界強度範囲内の磁界の変化中に磁性体の磁気光学効果に基づき磁化の変化の有無を検出する工程と、指定の磁界強度よりも大きな第2磁界強度範囲で変化する磁界を磁性体に作用させる工程と、第2磁界強度範囲内の磁界の変化中に磁性体の磁気光学効果に基づき磁化の変化の有無を検出する工程とを備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項8に記載の磁化観察方法において、変化の有無の検出にあたって、第1および第2磁界強度範囲で磁界強度を増大させ、磁化の変化に相当する磁化の増大を検出することを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項9に記載の磁化観察方法において、前記磁化の増大の検出にあたって、磁化の変化に基づき微分値が特定されることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項10に記載の磁化観察方法において、前記微分値の特定にあたって、前記第1および第2磁界強度範囲で離散的に磁界強度を増大させる工程と、個々の磁界強度ごとに磁気光学効果に基づき磁性体の磁化を検出し、個々の磁界強度ごとに磁化の検出値を特定する工程と、今回の検出値から前回の検出値を差し引き、磁化の変化値を算出する工程とを備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項8〜11のいずれかに記載の磁化観察方法において、変化の有無の検出にあたって、第1および第2磁界強度範囲で磁界強度を減少させ、磁化の変化に相当する磁化の減少を検出することを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項12に記載の磁化観察方法において、前記磁化の減少の検出にあたって、磁化の変化に基づき微分値が特定されることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項13に記載の磁化観察方法において、前記微分値の特定にあたって、前記第1および第2磁界強度範囲で離散的に磁界強度を減少させる工程と、個々の磁界強度ごとに磁気光学効果に基づき磁性体の磁化を検出し、個々の磁界強度ごとに磁化の検出値を特定する工程と、今回の検出値から前回の検出値を差し引き、磁化の変化値を算出する工程とを備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 指定の磁界強度よりも小さな第1磁界強度範囲で変化する磁界内に配置される磁性体の磁化に基づき生成される第1検出信号を取得する工程と、第1検出信号に基づき磁化の変化の有無を検出する工程と、指定の磁界強度よりも大きな第2磁界強度範囲で変化する磁界内に配置される磁性体の磁化に基づき生成される第2検出信号を取得する工程と、第2検出信号に基づき磁化の変化の有無を検出する工程とをプロセッサに実行させることを特徴とする磁化観察ソフトウェアプログラム。
- 波形信号に基づき特定の周期で変化する磁界を磁性体に作用させる工程と、磁気光学効果に基づき磁性体の磁化を検出し、磁化の検出値を特定する工程と、特定された検出値に、波形信号に一定の位相関係で同期しつつ波形信号の2倍の周波数で周期的に変化する数値を掛け合わせる工程とを備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項16に記載の磁化観察方法において、検出値と数値との乗算結果に積分処理を施す工程をさらに備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項16または17に記載の磁化観察方法において、前記波形信号の極大値および極小値を示す位相は、前記数値の極大値および極小値のいずれかを示す位相に一致することを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項16または17に記載の磁化観察方法において、前記数値との掛け合わせに先立って、前記検出値に微分処理を施す工程をさらに備えることを特徴とする磁化観察方法。
- 請求項19に記載の磁化観察方法において、前記波形信号の極大値および極小値を示す位相は、前記数値で極大値および極小値の中間値を示す位相に一致することを特徴とする磁化観察方法。
- 波形信号に基づき特定の周期で変化する磁界を生成する磁界生成機構と、磁界生成機構で生成される磁界に曝される磁性体まで光を誘導する光学系と、磁性体から帰還する光に基づき磁気光学効果の検出値を特定する検出信号を出力する受光素子と、受光素子に接続されて、波形信号に一定の位相関係で同期しつつ波形信号の2倍の周波数で周期的に変化する周期信号を検出信号に掛け合わせる掛け算器とを備えることを特徴とする磁化観察装置。
- 請求項21に記載の磁化観察装置において、前記掛け算器にはローパスフィルタが接続されることを特徴とする磁化観察装置。
- 請求項21または22に記載の磁化観察装置において、前記掛け算器および受光素子の間にはハイパスフィルタが配置されることを特徴とする磁化観察装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2003/008096 WO2005001495A1 (ja) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | 磁化観察方法および磁化観察装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005001495A1 JPWO2005001495A1 (ja) | 2006-07-27 |
JP4247230B2 true JP4247230B2 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=33549040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005503214A Expired - Fee Related JP4247230B2 (ja) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | 磁化観察方法および磁化観察装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4247230B2 (ja) |
WO (1) | WO2005001495A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220162297A (ko) * | 2021-06-01 | 2022-12-08 | 한국표준과학연구원 | 수직자성박막의 자화의 크기를 측정하는 방법 및 장치 |
DE102020127895B4 (de) | 2019-12-24 | 2023-06-15 | Hitachi, Ltd. | Bilderfassungssystem und bilderfassungsverfahren |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0665883U (ja) * | 1991-06-19 | 1994-09-16 | 有限会社アスカ電子 | 微小域磁区構造観測装置 |
JPH05215828A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-08-27 | Hitachi Ltd | 磁区構造解析装置 |
JPH0921852A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-21 | Nippon Steel Corp | 磁性材料の磁区検出装置 |
-
2003
- 2003-06-26 WO PCT/JP2003/008096 patent/WO2005001495A1/ja active Application Filing
- 2003-06-26 JP JP2005503214A patent/JP4247230B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102020127895B4 (de) | 2019-12-24 | 2023-06-15 | Hitachi, Ltd. | Bilderfassungssystem und bilderfassungsverfahren |
KR20220162297A (ko) * | 2021-06-01 | 2022-12-08 | 한국표준과학연구원 | 수직자성박막의 자화의 크기를 측정하는 방법 및 장치 |
KR102554771B1 (ko) | 2021-06-01 | 2023-07-12 | 한국표준과학연구원 | 수직자성박막의 자화의 크기를 측정하는 방법 및 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2005001495A1 (ja) | 2006-07-27 |
WO2005001495A1 (ja) | 2005-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Reichlova et al. | Imaging and writing magnetic domains in the non-collinear antiferromagnet Mn3Sn | |
Park et al. | 4D Lorentz electron microscopy imaging: magnetic domain wall nucleation, reversal, and wave velocity | |
JP2013242295A (ja) | 光ポンピング磁力計及び磁気センシング方法 | |
Yao et al. | Magnetic hard nanobubble: a possible magnetization structure behind the bi-skyrmion | |
JPH04233150A (ja) | 高分解能電子顕微鏡でつくられた像から直接に物体の振幅および位相情報を得る方法 | |
Zweck | Imaging of magnetic and electric fields by electron microscopy | |
Neudert et al. | Small-amplitude magnetization dynamics in permalloy elements investigated by time-resolved wide-field Kerr microscopy | |
WO2020071383A1 (ja) | センサ素子、測定装置および測定方法 | |
JP4247230B2 (ja) | 磁化観察方法および磁化観察装置 | |
JP2018535430A (ja) | 複素フーリエ変換を実行する方法および装置 | |
Kovács et al. | Lorentz microscopy and off-axis electron holography of magnetic skyrmions in FeGe | |
JPH06273432A (ja) | 変位および変位速度測定装置 | |
Morrison et al. | The measurement of narrow domain‐wall widths in SmCo5 using differential phase contrast electron microscopy | |
Ando et al. | Real-time orientation-sensitive magnetooptic imager for leakage flux inspection | |
Ngo et al. | Visualization of vortex core polarity in NiFe nanodots by tilted Fresnel images | |
Phatak et al. | Determination of magnetic vortex polarity from a single Lorentz Fresnel image | |
JP2011033406A (ja) | 2次元複屈折測定装置 | |
JP4008193B2 (ja) | 画像処理方法、画像処理装置、mri装置および記録媒体 | |
Gräfe et al. | Ptychographic imaging and micromagnetic modeling of thermal melting of nanoscale magnetic domains in antidot lattices | |
Richter et al. | Estimation of a surface magnetization direction of thin cylinders by magnetooptical Kerr effect | |
Reyren et al. | Skyrmions in magnetic multilayers: chirality, electrical detection and current-induced motion | |
Kuncser et al. | A didactical perspective on the application of the magneto-optic Kerr effect in versatile studies of modern magnetic materials | |
McVitie et al. | Imaging amperian currents by Lorentz microscopy | |
Javon et al. | Electron holography study of the local magnetic switching process in magnetic tunnel junctions | |
Zhang et al. | Imaging and control of periodic array of stripe domain and domain wall in epitaxial BiFeO3 thin films |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080702 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090106 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140116 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |