JP4218389B2 - Insulation layer, metal with resin, carrier film with resin, and multilayer printed circuit board - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、絶縁層、樹脂付き金属箔、樹脂付きキャリアフィルムおよび多層プリント回路板に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ノート型パーソナルコンピューターや携帯電話等の携帯型電子機器は、より軽量かつ小型化が求められている。そのため電子機器内部のCPUやLSI等を実装するプリント回路板についても、小型軽量化が自ずと求められる。小型軽量化を実現するためには、絶縁樹脂層の厚さを薄くすること、プリント配線幅および配線間距離を小さくすること、スルーホール径を小さくしスルーホールのメッキ厚さを薄くすること等が必要である。ここで、メッキ厚さを薄くすると熱衝撃時にメッキ金属にクラックが発生するおそれがあり、絶縁樹脂層に耐熱性や耐クラック性が要求される。
【0003】
また、同時にこれらの情報処理用機器の高速化も要求されており、CPUの高クロック周波数化が進んでいる。このため信号伝搬速度の高速化が要求されており、これを実現するために低誘電率、低誘電正接のプリント回路板が必要とされる。
【0004】
耐熱性に優れ、誘電特性に優れた樹脂として、ベンゾシクロブテン樹脂が用いられる。ベンゾシクロブテン樹脂は硬化反応により水酸基等の分極率の大きな官能基が生じないため、誘電特性が非常に優れている(特許文献1、参照)。
【0005】
しかし、ベンゾシクロブテン樹脂はその骨格構造に起因して機械的特性において脆く、ベンゾシクロブテン樹脂を樹脂付き金属箔等に用いた場合には、冷熱衝撃における耐クラック性に問題が生じる。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−21872号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、誘電特性、耐クラック性および高温処理後の特性に優れた絶縁層、樹脂付き金属箔、樹脂付きキャリアフィルムおよび多層プリント回路板を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記(1)〜(11)に記載の本発明により達成される。
(1)積層板の絶縁層であって、ベンゾシクロブテン樹脂および末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物を含む樹脂組成物で構成されていることを特徴とする絶縁層。
(2)前記絶縁層がベンゾシクロブテン樹脂を含む第1層と、ベンゾシクロブテン樹脂を含む第2層とで構成されるものであって、前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物、前記第1層または第2層の少なくとも一層に含まれるものである第(1)に記載の絶縁層。
(3)前記ベンゾシクロブテン樹脂は、式(I)で表されるものである第(1)または(2)に記載の絶縁層。
【化3】
(4)前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物は、式(II)で表されるものである第(1)ないし(3)に記載の絶縁層。
【化4】
(5)前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物の数平均分子量は、300〜100,000である第(1)ないし(4)のいずれかに記載の絶縁層。
(6)前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物の含有量は、前記ベンゾシクロブテン樹脂100重量部に対して、10〜80重量部である第(1)ないし(5)のいずれかに記載の絶縁層。
(7)前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物は、常温で液状である第(1)ないし(6)のいずれかに記載の絶縁層。
(8)第(1)ないし(7)のいずれかに記載の絶縁層と、金属箔とを有することを特徴とする樹脂付き金属箔。
(9)第(1)ないし(7)のいずれかに記載の絶縁層と、キャリアフィルムとを有することを特徴とする樹脂付きキャリアフィルム。
(10)第(8)に記載の樹脂付き金属箔を内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント回路板。
(11)第(9)に記載の樹脂付きキャリアフィルムを内層回路板の片面または両面に重ね合わせて、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント回路板。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の絶縁層、樹脂付き金属箔、樹脂付きキャリアフィルムおよび多層プリント回路板について詳細に説明する。
本発明の絶縁層は、積層板の絶縁層であって、ベンゾシクロブテン樹脂およびビスフェノールF型構造を有する化合物を含む樹脂組成物で構成されることを特徴とするものである。
また、本発明の樹脂付き金属箔は、上述の絶縁層と、金属箔とを有することを特徴とするものである。
また、本発明の樹脂付きキャリアフィルムは、上述の絶縁層と、キャリアフィルムとを有することを特徴とするものである。
また、本発明の多層プリント回路板は、上述の樹脂付き金属箔等を内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱、加圧してなることを特徴とするものである。
【0010】
まず、本発明の絶縁層について説明する。
本発明の絶縁層は、積層板の絶縁層に用いるものである。積層板としては、例えば多層プリント配線板、半導体搭載基板等の回路基板用材料等が挙げられる。本発明の絶縁層は、ベンゾシクロブテン樹脂およびビスフェノールF型構造を有する化合物で構成される。これにより、絶縁層の誘電特性、耐クラック性を向上することができる。さらに、高温処理後の誘電特性の低下や吸水率の低下を防止することもできる。
【0011】
前記ベンゾシクロブテン樹脂は、特に限定されるものではなく、シクロブテン骨格を含む樹脂であればよい。これらの中でも式(I)で表されるベンゾシクロブテン樹脂を含むこと好ましい。これにより、ガラス転移温度が高くでき、硬化後の樹脂特性(具体的には、誘電特性、耐熱性等)を向上することができる。
【化5】
ベンゾシクロブテン樹脂は硬化反応によって水酸基などの分極率の大きな官能基が生じないため、誘電特性が非常に優れており、かつ低吸水率である。また、剛直な化学構造を有するため耐熱性に優れている。
【0012】
前記ベンゾシクロブテン樹脂をBステージ化したものも成形性を調整するために好ましく使用され、本発明のベンゾシクロブテン樹脂に含まれるものである。Bステージ化は加熱溶融して行われる。Bステージ化したベンゾシクロブテン樹脂とは、数平均分子量が500以上のものをいう。
【0013】
また、前記式(I)を有するベンゾシクロブテン樹脂をBステージ化したものも成形性、流動性を調整するために好ましく使用され、本発明に含まれるものである。前記式(I)を有するベンゾシクロブテン樹脂をBステージ化した数平均分子量は、通常3,000〜1,000,000である。
数平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定することができる。
【0014】
前記ビスフェノールF型構造を有する化合物としては、例えばビスフェノールF、ビスフェノールFジメチルエーテル、ビスフェノールFジエチルエーテル、ビスフェノールFグリセロラート(1グリセロール/フェノール)ジメチル、ビスフェノールFグリセロラート(1グリセロール/フェノール)ジエチル、ビスフェノールFジエトキシラート(1EO/フェノール)ジメチルのような誘導体および末端に水酸基、シアネート基、イソシアネート基、エポキシ基、アミノ基や、アクリル基、メタクリル基等の官能基を有し、かつビスフェノールF型骨格を持つ化合物(例えばビスフェノールFジエトキシラート(1EO/フェノール)ジアクリラート等)、等が挙げられる。
これらの中でも末端にアクリル基またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物が好ましい。これにより、樹脂付き金属箔および樹脂付きキャリアフィルムの樹脂表面のタックを防ぐことができる。更にベンゾシクロブテン樹脂との相溶性を向上し誘電特性や吸水率の低下を防止することができる。
【0015】
また、前記ビスフェノールF型構造を有する化合物としては、式(II)で表されるものが好ましい。これにより、高温処理後の誘電特性が低下する場合がある。
【化6】
ビスフェノールF型構造を有する化合物がビスフェノールA型構造を有する化合物と比較して優れる理由は、ビスフェノールA型が主にパラ配向のみの構造をとるため剛直な化合物になるのに対し、ビスフェノールF型はオルト、パラ配向を混合するため柔軟な化合物になるためと考えられる。
【0016】
さらにビスフェノールF型構造を有する化合物は、ベンゾシクロブテン樹脂との相溶性に優れる。ベンゾシクロブテン樹脂と構造を有する化合物との相溶性に優れると、耐クラック性を向上する効果に加え、金属との密着性を向上することができる。ビスフェノールF型構造を有する化合物は、硬化後ソフトセグメントを含むためゴム弾性に優れ、また高温条件下にさらしても酸化されにくい。さらに骨格中に極性基が少ない化学構造を有しているため、双極子モーメントが小さく誘電特性を低下させない。
したがって、ビスフェノールF型構造を有する化合物をベンゾシクロブテン樹脂と併用することで優れた誘電特性を維持した状態で、耐クラック性、金属との密着性の向上を向上することができる。さらに、高温処理後の誘電特性や吸水率の低下を防止することもできる。
【0017】
前記ビスフェノールF型構造を有する化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、300〜100,000が好ましく、特に350〜10,000が好ましい。数平均分子量が前記下限値未満であると誘電特性や吸水率が悪化する場合が有り、前記上限値を超えるとベンゾシクロブテン樹脂との相溶性が低下する場合が有る。
なお、前記数平均分子量は、例えばGPCを用いて測定することができる。
【0018】
前記ビスフェノールF型構造を有する化合物の含有量は、特に限定されないが、ベンゾシクロブテン樹脂100重量部に対して10〜80重量部が好ましく、特に15〜50重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると耐クラック性を向上する効果が低下する場合が有り、前記上限値を超えると樹脂層にタックが生じ、加工性が低下する場合が有る。
【0019】
前記ビスフェノールF型構造を有する化合物は、特に限定されないが、常温で液状であることが好ましい。これにより、ベンゾシクロブテン樹脂との相溶性を特に向上することができる。
液状のビスフェノールF型構造を有する化合物が固形の樹脂と比較してベンゾシクロブテン樹脂との相溶性に優れる理由は、液状のビスフェノールF型構造を有する化合物が溶剤に対して容易に溶解するため、ベンゾシクロブテン樹脂とビスフェノールF型構造を有する化合物とを均一に混合することが容易となるからである。
【0020】
また、本発明の絶縁層には、樹脂成分として前記ベンゾシクロブテン樹脂、ビスフェノールF型構造を有する化合物以外に他の樹脂を添加しても良い。
他の樹脂としては、例えばポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等が挙げられる。
【0021】
本発明の絶縁層は、特に限定されないが、ベンゾシクロブテン樹脂を含む第1層と、ベンゾシクロブテン樹脂を含む第2層とを有する樹脂層であって、前記第1層または第2層の少なくとも一層にビスフェノールF型構造を有する化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。これにより、上述の優れた誘電特性、耐クラック性に加え、成形性(特に、樹脂層の厚さをより均一にすることができる)を向上することができる。樹脂層の厚さをより均一にできると、誘電特性をより向上することができるからである。
【0022】
なお、ビスフェノールF型構造を有する化合物は、前記第1層および第2層の少なくとも一方に含まれればよいが、両方の層に含まれることが好ましい。これにより、耐クラック性をより向上することができる。
【0023】
前記第1層は、金属箔またはキャリアフィルム面に形成されるのが好ましく、前記第2層は、前記第1層の上に形成されるのが好ましい。
第1層と第2層の樹脂成分として異なるものを使用することもできるが、同じものを使用することが好ましい。これにより、製品の特性をより均一にすることができる。
【0024】
前記第1層を構成する樹脂の反応率は、特に限定されないが、前記第2層を構成する樹脂の反応率よりも高いことが好ましい。これにより、樹脂付き金属箔等の成形性を特に向上することができる。前記反応率は、例えば、示差走査熱量計(DSC)によって求めることができる。
【0025】
前記第1層の厚さは、特に限定されないが、10〜100μmが好ましく、特に20〜80μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に絶縁層を金属箔またはキャリアフィルムに塗工乾燥後ロールに巻いた際、絶縁層のヒビ割れを防ぐことができる。
【0026】
また、前記第2層の厚さは、特に限定されないが、10〜100μmが好ましく、特に20〜80μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に絶縁層を金属箔またキャリアフィルムに塗工乾燥後ロールに巻いた際、絶縁層のヒビ割れを防ぐことができる。
【0027】
本発明の絶縁層は、本発明の目的に反しない範囲において、硬化促進剤、カップリング剤、難燃剤、フィラー、その他の成分を添加しても良い。
【0028】
次に、本発明の樹脂付き金属箔および樹脂付きキャリアフィルムについて説明する。
本発明の樹脂付き金属箔および樹脂付きキャリアフィルムは、少なくともその片面に前記絶縁層を有する。図を用いて本発明の樹脂付き金属箔の構成を具体的に説明する。
本発明の樹脂付き金属箔1は、図1に示すように金属箔11の上面(図1上側)に、ベンゾシクロブテン樹脂等を含む樹脂組成物で構成される樹脂層12が2層形成される。すなわち、前記樹脂組成物で構成される第1の層121と、前記樹脂組成物で構成される第2の層122とが形成される。これにより、誘電特性と、成形性との両立を図ることができる。
なお、樹脂付きキャリアフィルムの場合も同様である。
【0029】
前記絶縁層は、金属箔およびキャリアフィルムに種々の方法で形成することができるが、通常絶縁層を形成する樹脂等を溶剤に溶解したワニスの形で使用することが製膜性の点で好ましい。用いられる溶媒は組成に対して良好な溶解性を示すことが望ましいが、悪影響をおよばさない範囲で貧溶媒を使用しても構わない。良溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキサノン等が挙げられる。また、ワニスを調製する場合、樹脂組成物の固形分は、特に限定されないが20〜90重量%が好ましく、特に30〜70重量%が好ましい。
【0030】
前記金属箔を構成する金属は、例えば銅または銅系合金、アルミまたはアルミ系合金等が挙げられ、また、前記キャリアフィルムを構成する樹脂としてはフッ素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂等が挙げられる。
【0031】
本発明では、上述の絶縁層を構成する樹脂等を溶剤に溶解して得られる樹脂ワニスを、金属箔またはキャリアフィルムに塗工し、例えば80〜200℃で乾燥させることにより樹脂付き金属箔または樹脂付きキャリアフィルムを得ることが出来る。また、上記作業を複数繰り返すことにより、前記第1層および第2層を形成することができる。
塗工、乾燥後の絶縁層の厚さは10〜100μmが好ましく、特に20〜80μmが好ましい。これにより、絶縁層の割れ発生が無く裁断時の粉落ちも少なくすることができる。
【0032】
次に、多層プリント回路板について説明する。
本発明の多層プリント回路板は、上述の樹脂付き金属箔等を内層回路板の片面又は両面に重ね合わせて加熱、加圧してなる多層プリント回路板である。
樹脂付き金属箔を用いる場合は、上述の樹脂付き金属箔を内層回路の片面又は両面に重ね合わせて加熱、加圧して積層板を得る。樹脂付きキャリアフィルムの場合は、樹脂付きキャリアフィルムを積層後に剥離または加熱、加圧前に剥離し、
重ね合わせて加熱、加圧して多層プリント配線板を得る。
前記加熱する温度は、特に限定されないが、140〜240℃が好ましい。前記加圧圧力は、特に限定されないが、10〜40kg/cm2が好ましい。
また、内層回路板は、例えば銅張積層版の両面に回路を形成し、黒化処理したものを挙げることができる。
【0033】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例により詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)
▲1▼樹脂ワニスの調製 ベストのもの
ベンゾシクロブテン樹脂として、ジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテン(プレポリマー化したもの。数平均分子量140,000、ダウケミカル社製サイクロテンXUR)100重量部と、ビスフェノールF型構造を有する化合物としてビスフェノールFジエトキシラート(1EO/フェノール)ジアクリラート)20重量部とをメシチレンに溶解して不揮発分濃度50重量%となるように樹脂ワニスを調製した。
【0034】
▲2▼樹脂付き金属箔の製造
上述の樹脂ワニス100重量部に部分架橋剤として1,2−ビス(アジドベンジル)エチレンを3重量部溶解させ調製したワニスを用いて、銅箔(厚さ0.018mm、古河サーキットフォイル(株)製)に樹脂ワニスを厚さ0.07mmで塗工し、150℃の乾燥機炉で10分、170℃の乾燥機炉で10分乾燥させ第1層目の樹脂層を形成した。引き続き、上述の樹脂ワニス100重量部に1,2−ビス(アジドベンジル)エチレンを0.5重量部溶解させ調製したワニスを前記第1層目の樹脂層に重ねて、厚さ0.07mmで塗工し、150℃の乾燥機炉で10分、170℃の乾燥機炉で10分乾燥させることで第2層目の樹脂層を形成し、全樹脂厚さ(第1層と第2層との合計厚さ)0.07mmの樹脂付き金属箔を作成した。
【0035】
▲3▼多層プリント回路板の製造
銅箔を両面に張った両面銅張積層板の銅箔表面を黒化処理(酸化銅形成)した後還元したものをコアとして、その両面に上述の樹脂付き金属箔を170℃、1時間、200℃、2時間加熱加圧接着し、熱硬化後表面銅箔をエッチングすることにより多層プリント回路板を製造した。
【0036】
(実施例2)
ビスフェノールF型構造を有する化合物(ビスフェノールFジエトキシラート(1EO/フェノール)ジアクリラート)の添加量を60重量部にした以外は、実施例1と同様にした。
【0037】
(実施例3)
ビスフェノールF型構造を有する化合物(ビスフェノールFジエトキシラート(1EO/フェノール)ジアクリラート)の添加量を12重量部にした以外は、実施例1と同様にした。
【0038】
(実施例4)
樹脂付き金属箔を製造するかわりに、以下のように樹脂付きキャリアフィルムを製造した以外は、実施例1と同様にした。
金属箔の変わりにキャリアフィルムとして、ポリイミドフィルム(東レデュポン(株)社製 カプトンEN、厚さ25μm)を用いた。
【0039】
(実施例5)
樹脂付き金属箔の製造において、樹脂層を以下のように1層塗りとした以外は、実施例1と同様にした。
前述の樹脂ワニスに部分架橋剤として1,2−ビス(アジドベンジル)エチレンを3重量部溶解させ調整したものを用いて、銅箔(厚さ0.018mm、古河サーキットフォイル(株)製)に樹脂ワニスを厚さ0.14mmで塗工し、150℃の乾燥機炉で10分、170℃の乾燥機炉で10分乾燥させ、樹脂厚さ0.07mmの樹脂付き金属箔を作成した。
【0040】
(比較例1)
ビスフェノールF型構造を有する化合物を添加しなかった以外は、実施例1と同様にした。
【0041】
各実施例および比較例で得られた多層プリント回路板について、以下の評価を行った。なお、各評価の方法を併せて示す。得られた結果を表1に示す。
▲1▼誘電特性
誘電率および誘電正接は、空隙測定法によってA状態で測定した。
【0042】
▲2▼耐クラック性
耐クラック性は、液相冷熱試験(−65℃と125℃で30分間処理/300サイクル)で評価した。測定は、タバイエスペック製液槽冷熱衝撃装置TSB−2型、フロリナート液を用いた。なお、クラックの有無は目視で判断した。各記号は以下の事項を示す。
◎:クラック全く発生せず。
○:クラック一部発生するが実用上問題なし。
△:クラックが一部発生し、実用不可。
×:クラック発生する。
【0043】
▲3▼高温処理後の特性
各実施例および比較例で得られた多層プリント配線板を乾燥機中で125℃、1000時間処理した。その後、誘電特性を上述と同様に測定した。また、水中に24h、24時間浸漬後の吸水率を測定した。
【0044】
▲4▼成形性
成形性は、多層プリント回路板を作成後におけるボイドの発生の有無で評価した。なお、ボイドの有無は目視で判断した。各記号は以下の事項を表す。
◎:ボイド発生なし。
○:ボイド一部発生するが実用上問題なし。
△:ボイド一部発生し、実用上使用不可。
×;ボイドが発生。
【0045】
▲5▼厚さ精度
厚さ精度は、多層プリント回路板の断面を光学顕微鏡で観察した。各記号は以下の事項を示す。
◎:厚さのバラツキが15μm未満である。
○:厚さのバラツキが15〜20μmで一部有るが、実用上問題なし。
△:厚さのバラツキが20〜25μm一部有り、実用上使用不可。
×:厚さのバラツキ25μmを超える。
【0046】
▲6▼密着性
密着性は、銅箔ピール強度により評価した。銅箔ピール強度の測定は、JISC 6481に準じて行った。
【0047】
▲7▼機械的物性
機械的物性は、多層プリント回路板の銅箔をエッチングにて除去したものの弾性率、引っ張り強度、伸び率を測定した。弾性率、引っ張り強度、伸び率は、引っ張りモードで荷重フルスケール20kgf、速度5mm/minで測定した。
【0048】
▲8▼タック性
樹脂付き金属箔及び樹脂付きキャリアフィルムの樹脂表面のタック性(ベタツキ性)を触感により評価した。各符号は、以下の通りである。
◎:ベタツキ無し
○:ベタツキ多少有るが、実用可能レベル
△:ベタツキ多少有り、実用不可
×:ベタツキ有り
【0049】
【表1】
【0050】
表から明らかなように実施例1〜5は、誘電特性、耐クラック性および高温処理後の誘電特性に優れていた。
また、実施例1ないし4は、特に成形性にも優れていた。
また、実施例1ないし4は、特に厚さ精度にも優れていた。
また、実施例1および3ないし5は、タックも無く作業性にも優れていた。
【0051】
【発明の効果】
本発明によれば、誘電特性、耐クラック性および高温処理後の特性に優れる絶縁層、樹脂付き金属箔、樹脂付きキャリアフィルムおよび多層プリント回路板を提供することができる。
また、絶縁層を特定の層構造とする場合、特に成形性および厚さ精度にも優れることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における樹脂付き金属箔の一例を示す側面図である。
【符号の説明】
1 樹脂付き金属箔
11 金属箔
12 樹脂層
121 第1の樹脂層
122 第2の樹脂層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an insulating layer, a metal foil with resin, a carrier film with resin, and a multilayer printed circuit board.
[0002]
[Prior art]
In recent years, portable electronic devices such as notebook personal computers and mobile phones have been required to be lighter and smaller. For this reason, printed circuit boards on which CPUs, LSIs, etc. in electronic devices are mounted are naturally required to be small and light. To achieve small size and light weight, reduce the thickness of the insulating resin layer, reduce the printed wiring width and distance between wiring, reduce the through-hole diameter and reduce the through-hole plating thickness, etc. is required. Here, if the plating thickness is reduced, cracks may occur in the plated metal during thermal shock, and the insulating resin layer is required to have heat resistance and crack resistance.
[0003]
At the same time, speeding up of these information processing devices is also demanded, and the CPU clock frequency is increasing. For this reason, a high signal propagation speed is required, and a printed circuit board having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent is required to realize this.
[0004]
A benzocyclobutene resin is used as a resin having excellent heat resistance and excellent dielectric properties. Since the benzocyclobutene resin does not generate a functional group having a large polarizability such as a hydroxyl group by a curing reaction, the dielectric properties are very excellent (see Patent Document 1).
[0005]
However, benzocyclobutene resin is brittle in mechanical properties due to its skeletal structure, and when benzocyclobutene resin is used for a resin-coated metal foil or the like, there is a problem in crack resistance in cold shock.
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2000-21807
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide an insulating layer, a resin-coated metal foil, a resin-coated carrier film, and a multilayer printed circuit board having excellent dielectric properties, crack resistance, and properties after high-temperature treatment.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (11).
(1) An insulating layer of a laminated board, comprising a resin composition containing a benzocyclobutene resin and a compound having an acryl group or a methacryl group at a terminal and a bisphenol F-type structure Insulating layer.
(2) The insulating layer is composed of a first layer containing a benzocyclobutene resin and a second layer containing a benzocyclobutene resin, and has an acrylic group or a methacrylic group at the terminal, The insulating layer according to (1), which is contained in at least one of the compound having the bisphenol F-type structure and the first layer or the second layer.
(3) The insulating layer according to (1) or (2), wherein the benzocyclobutene resin is represented by the formula (I).
[Chemical 3]
(4) The insulating layer according to any one of (1) to (3), wherein the compound having an acrylic group or a methacrylic group at the terminal and having a bisphenol F-type structure is represented by the formula (II) .
[Formula 4]
(5) having said terminal acrylic groups or methacrylic groups, and the number average molecular weight of the compound having a bisphenol F type structure, according to any one to the (1) to a 300 to 100,000 of (4) Insulating layer.
(6) The content of the compound having an acryl group or a methacryl group at the terminal and having a bisphenol F structure is 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzocyclobutene resin. The insulating layer according to any one of 1) to (5).
(7) The insulating layer according to any one of (1) to (6), wherein the compound having an acryl group or a methacryl group at the terminal and having a bisphenol F-type structure is liquid at room temperature.
(8) A resin-coated metal foil comprising the insulating layer according to any one of (1) to (7) and a metal foil.
(9) A carrier film with a resin comprising the insulating layer according to any one of (1) to (7) and a carrier film.
(10) A multilayer printed circuit board, wherein the resin-coated metal foil according to (8) is superposed on one or both surfaces of the inner layer circuit board and heated and pressed.
(11) A multilayer printed circuit board, wherein the carrier film with resin according to (9) is superposed on one side or both sides of an inner layer circuit board and heated and pressurized.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the insulating layer, the metal foil with resin, the carrier film with resin and the multilayer printed circuit board of the present invention will be described in detail.
The insulating layer of the present invention is an insulating layer of a laminated board, and is characterized by being composed of a resin composition containing a benzocyclobutene resin and a compound having a bisphenol F-type structure.
Moreover, the metal foil with resin of this invention has the above-mentioned insulating layer and metal foil, It is characterized by the above-mentioned.
Moreover, the carrier film with resin of this invention has the above-mentioned insulating layer and a carrier film, It is characterized by the above-mentioned.
The multilayer printed circuit board of the present invention is characterized in that the above-mentioned resin-coated metal foil or the like is superposed on one or both surfaces of the inner layer circuit board and heated and pressurized.
[0010]
First, the insulating layer of the present invention will be described.
The insulating layer of this invention is used for the insulating layer of a laminated board. As a laminated board, circuit board materials, such as a multilayer printed wiring board and a semiconductor mounting board, etc. are mentioned, for example. The insulating layer of the present invention is composed of a benzocyclobutene resin and a compound having a bisphenol F type structure. Thereby, the dielectric properties and crack resistance of the insulating layer can be improved. Furthermore, it is possible to prevent a decrease in dielectric characteristics and a decrease in water absorption after the high temperature treatment.
[0011]
The benzocyclobutene resin is not particularly limited as long as it includes a cyclobutene skeleton. Among these, it is preferable to include a benzocyclobutene resin represented by the formula (I). Thereby, a glass transition temperature can be made high and the resin characteristics (specifically dielectric characteristics, heat resistance, etc.) after hardening can be improved.
[Chemical formula 5]
Since the benzocyclobutene resin does not generate a functional group having a large polarizability such as a hydroxyl group by a curing reaction, the dielectric property is very excellent and the water absorption is low. Moreover, since it has a rigid chemical structure, it has excellent heat resistance.
[0012]
B-staged benzocyclobutene resin is also preferably used for adjusting moldability and is included in the benzocyclobutene resin of the present invention. B-staging is performed by heating and melting. B-staged benzocyclobutene resin refers to those having a number average molecular weight of 500 or more.
[0013]
A B-staged benzocyclobutene resin having the above formula (I) is also preferably used for adjusting moldability and fluidity, and is included in the present invention. The number average molecular weight of the B-staged benzocyclobutene resin having the formula (I) is usually 3,000 to 1,000,000.
The number average molecular weight can be measured using, for example, gel permeation chromatography (GPC).
[0014]
Examples of the compound having the bisphenol F type structure include bisphenol F, bisphenol F dimethyl ether, bisphenol F diethyl ether, bisphenol F glycerolate (1 glycerol / phenol) dimethyl, bisphenol F glycerolate (1 glycerol / phenol) diethyl, and bisphenol F. A derivative such as diethoxylate (1EO / phenol) dimethyl and a functional group such as a hydroxyl group, a cyanate group, an isocyanate group, an epoxy group, an amino group, an acryl group, and a methacryl group at the terminal, and a bisphenol F-type skeleton And the like (for example, bisphenol F diethoxylate (1EO / phenol) diacrylate) and the like.
Among these, a compound having an acryl group or a methacryl group at the terminal and having a bisphenol F structure is preferable. Thereby, the tack on the resin surface of the metal foil with resin and the carrier film with resin can be prevented. Furthermore, compatibility with the benzocyclobutene resin can be improved, and a decrease in dielectric properties and water absorption can be prevented.
[0015]
Moreover, as a compound which has the said bisphenol F-type structure, what is represented by Formula (II) is preferable. As a result, the dielectric properties after the high temperature treatment may deteriorate.
[Chemical 6]
The reason why a compound having a bisphenol F type structure is superior to a compound having a bisphenol A type structure is that the bisphenol A type is a rigid compound because it mainly has a para-oriented structure. This is considered to be a flexible compound because of mixing ortho and para orientations.
[0016]
Furthermore, a compound having a bisphenol F-type structure is excellent in compatibility with a benzocyclobutene resin. When the compatibility between the benzocyclobutene resin and the compound having a structure is excellent, in addition to the effect of improving the crack resistance, the adhesion to the metal can be improved. A compound having a bisphenol F structure has excellent rubber elasticity because it contains a soft segment after curing, and is hardly oxidized even when exposed to high temperature conditions. Furthermore, since it has a chemical structure with few polar groups in the skeleton, the dipole moment is small and the dielectric properties are not deteriorated.
Therefore, by using a compound having a bisphenol F-type structure in combination with the benzocyclobutene resin, it is possible to improve the crack resistance and the adhesion to the metal while maintaining excellent dielectric properties. Furthermore, it is possible to prevent a decrease in dielectric properties and water absorption after the high temperature treatment.
[0017]
The number average molecular weight of the compound having the bisphenol F-type structure is not particularly limited, but is preferably 300 to 100,000, and particularly preferably 350 to 10,000. If the number average molecular weight is less than the lower limit, the dielectric properties and water absorption may be deteriorated. If the number average molecular weight exceeds the upper limit, the compatibility with the benzocyclobutene resin may be reduced.
The number average molecular weight can be measured using, for example, GPC.
[0018]
The content of the compound having the bisphenol F-type structure is not particularly limited, but is preferably 10 to 80 parts by weight, and particularly preferably 15 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzocyclobutene resin. If the content is less than the lower limit value, the effect of improving crack resistance may be reduced, and if the content exceeds the upper limit value, tackiness may occur in the resin layer and workability may be reduced.
[0019]
The compound having the bisphenol F-type structure is not particularly limited, but is preferably liquid at room temperature. Thereby, the compatibility with the benzocyclobutene resin can be particularly improved.
The reason why a compound having a liquid bisphenol F-type structure is superior in compatibility with a benzocyclobutene resin compared to a solid resin is that a compound having a liquid bisphenol F-type structure is easily dissolved in a solvent. This is because it becomes easy to uniformly mix the benzocyclobutene resin and the compound having a bisphenol F-type structure.
[0020]
In addition to the benzocyclobutene resin and the compound having a bisphenol F type structure, other resins may be added to the insulating layer of the present invention.
Examples of other resins include polyolefin-based thermoplastic elastomers, polyamide-based elastomers, and polyester-based elastomers.
[0021]
The insulating layer of the present invention is not particularly limited, and is a resin layer having a first layer containing a benzocyclobutene resin and a second layer containing a benzocyclobutene resin, the first layer or the second layer It is preferable to have a resin layer containing a compound having a bisphenol F-type structure in at least one layer. Thereby, in addition to the above-mentioned excellent dielectric properties and crack resistance, the moldability (in particular, the thickness of the resin layer can be made more uniform) can be improved. This is because if the thickness of the resin layer can be made more uniform, the dielectric characteristics can be further improved.
[0022]
The compound having a bisphenol F-type structure may be contained in at least one of the first layer and the second layer, but is preferably contained in both layers. Thereby, crack resistance can be improved more.
[0023]
The first layer is preferably formed on a metal foil or carrier film surface, and the second layer is preferably formed on the first layer.
Different resin components can be used for the first layer and the second layer, but it is preferable to use the same resin component. Thereby, the characteristic of a product can be made more uniform.
[0024]
The reaction rate of the resin constituting the first layer is not particularly limited, but is preferably higher than the reaction rate of the resin constituting the second layer. Thereby, especially moldability, such as metal foil with resin, can be improved. The said reaction rate can be calculated | required with a differential scanning calorimeter (DSC), for example.
[0025]
The thickness of the first layer is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 μm, and particularly preferably 20 to 80 μm. When the thickness is within the above range, cracking of the insulating layer can be prevented particularly when the insulating layer is coated on a metal foil or carrier film and wound on a roll after drying.
[0026]
The thickness of the second layer is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 μm, and particularly preferably 20 to 80 μm. When the thickness is within the above range, cracking of the insulating layer can be prevented particularly when the insulating layer is coated on a metal foil or carrier film and then wound on a roll.
[0027]
In the insulating layer of the present invention, a curing accelerator, a coupling agent, a flame retardant, a filler, and other components may be added within a range not departing from the object of the present invention.
[0028]
Next, the metal foil with resin and the carrier film with resin of the present invention will be described.
The metal foil with resin and the carrier film with resin of the present invention have the insulating layer on at least one side thereof. The configuration of the resin-coated metal foil of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
In the metal foil 1 with resin of the present invention, two resin layers 12 made of a resin composition containing a benzocyclobutene resin or the like are formed on the upper surface (upper side in FIG. 1) of the metal foil 11 as shown in FIG. The That is, a first layer 121 composed of the resin composition and a second layer 122 composed of the resin composition are formed. Thereby, both dielectric properties and moldability can be achieved.
The same applies to a carrier film with resin.
[0029]
The insulating layer can be formed on the metal foil and the carrier film by various methods, but it is usually preferable from the viewpoint of film forming property to use in the form of a varnish in which a resin or the like forming the insulating layer is dissolved in a solvent. . The solvent used preferably has good solubility in the composition, but a poor solvent may be used as long as it does not adversely affect the composition. Examples of good solvents include toluene, xylene, mesitylene, cyclohexanone, and the like. Moreover, when preparing a varnish, although solid content of a resin composition is not specifically limited, 20 to 90 weight% is preferable and 30 to 70 weight% is especially preferable.
[0030]
Examples of the metal constituting the metal foil include copper or a copper alloy, aluminum or an aluminum alloy, and the resin constituting the carrier film includes a fluorine resin, a polyimide resin, polybutylene terephthalate, and polyethylene terephthalate. And polyester resins.
[0031]
In the present invention, a resin varnish obtained by dissolving the resin or the like constituting the insulating layer in a solvent is applied to a metal foil or a carrier film, and dried at, for example, 80 to 200 ° C. A carrier film with a resin can be obtained. In addition, the first layer and the second layer can be formed by repeating the above operation a plurality of times.
10-100 micrometers is preferable and, as for the thickness of the insulating layer after coating and drying, 20-80 micrometers is especially preferable. Thereby, there is no generation | occurrence | production of a crack of an insulating layer and the powder fall at the time of cutting can also be decreased.
[0032]
Next, a multilayer printed circuit board will be described.
The multilayer printed circuit board of the present invention is a multilayer printed circuit board obtained by superimposing the above-mentioned metal foil with resin or the like on one or both surfaces of the inner layer circuit board and heating and pressing.
When using metal foil with resin, the above-mentioned metal foil with resin is superposed on one or both sides of the inner layer circuit and heated and pressed to obtain a laminate. In the case of a carrier film with resin, peeling or heating after laminating the carrier film with resin, peeling before pressurization,
A multilayer printed wiring board is obtained by overlapping, heating and pressing.
Although the temperature to heat is not specifically limited, 140-240 degreeC is preferable. Although the said pressurization pressure is not specifically limited, 10-40 kg / cm < 2 > is preferable.
Further, examples of the inner layer circuit board include a circuit in which circuits are formed on both sides of a copper clad laminate and blackened.
[0033]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is not limited to this.
Example 1
(1) Preparation of resin varnish As the best benzocyclobutene resin, 100 parts by weight of divinylsiloxane-bisbenzocyclobutene (prepolymerized, number average molecular weight 140,000, cycloten XUR manufactured by Dow Chemical Company), A resin varnish was prepared by dissolving 20 parts by weight of bisphenol F diethoxylate (1EO / phenol) diacrylate) as a compound having a bisphenol F-type structure in mesitylene to a non-volatile concentration of 50% by weight.
[0034]
(2) Production of resin-coated metal foil Using a varnish prepared by dissolving 3 parts by weight of 1,2-bis (azidobenzyl) ethylene as a partial crosslinking agent in 100 parts by weight of the resin varnish described above, a copper foil (thickness 0) was prepared. .018 mm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) with a resin varnish coated at a thickness of 0.07 mm, dried for 10 minutes in a dryer oven at 150 ° C. and 10 minutes in a dryer oven at 170 ° C. The resin layer was formed. Subsequently, a varnish prepared by dissolving 0.5 part by weight of 1,2-bis (azidobenzyl) ethylene in 100 parts by weight of the resin varnish described above was stacked on the first resin layer, and the thickness was 0.07 mm. The second resin layer is formed by coating and drying in a dryer oven at 150 ° C. for 10 minutes and in a dryer oven at 170 ° C. for 10 minutes, and the total resin thickness (first and second layers) And a metal foil with resin having a thickness of 0.07 mm.
[0035]
(3) Manufacture of multilayer printed circuit board The copper foil surface of a double-sided copper-clad laminate with copper foil stretched on both sides is blackened (copper oxide formation) and then reduced, with the above resin on both sides A metal foil was heated and pressure bonded at 170 ° C. for 1 hour, 200 ° C. for 2 hours, and the surface copper foil was etched after thermosetting to produce a multilayer printed circuit board.
[0036]
(Example 2)
The procedure of Example 1 was repeated except that the amount of the compound having a bisphenol F type structure (bisphenol F diethoxylate (1EO / phenol) diacrylate) was changed to 60 parts by weight.
[0037]
(Example 3)
The procedure of Example 1 was repeated except that the amount of the compound having a bisphenol F-type structure (bisphenol F diethoxylate (1EO / phenol) diacrylate) was 12 parts by weight.
[0038]
(Example 4)
Instead of producing the metal foil with resin, the same procedure as in Example 1 was conducted except that a carrier film with resin was produced as follows.
Instead of metal foil, a polyimide film (Kapton EN manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., thickness 25 μm) was used as a carrier film.
[0039]
(Example 5)
The production of the metal foil with resin was the same as Example 1 except that the resin layer was coated as a single layer as follows.
Copper foil (thickness 0.018 mm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) was prepared by dissolving 3 parts by weight of 1,2-bis (azidobenzyl) ethylene as a partial crosslinking agent in the resin varnish described above. The resin varnish was applied at a thickness of 0.14 mm and dried in a dryer oven at 150 ° C. for 10 minutes and in a dryer oven at 170 ° C. for 10 minutes to prepare a metal foil with a resin having a resin thickness of 0.07 mm.
[0040]
(Comparative Example 1)
Example 1 was repeated except that the compound having a bisphenol F-type structure was not added.
[0041]
The following evaluation was performed about the multilayer printed circuit board obtained by each Example and the comparative example. In addition, the method of each evaluation is shown collectively. The obtained results are shown in Table 1.
(1) Dielectric characteristics The dielectric constant and dielectric loss tangent were measured in the A state by the void measurement method.
[0042]
(2) Crack resistance The crack resistance was evaluated by a liquid phase cooling test (treatment at −65 ° C. and 125 ° C. for 30 minutes / 300 cycles). The measurement was carried out using a Tabai Espec liquid bath thermal shock device TSB-2 type, Fluorinert liquid. In addition, the presence or absence of the crack was judged visually. Each symbol indicates the following items.
(Double-circle): A crack does not generate | occur | produce at all.
○: Some cracks occur but there is no practical problem.
(Triangle | delta): A crack generate | occur | produces partially and is impractical.
X: Cracks occur.
[0043]
(3) Characteristics after high-temperature treatment The multilayer printed wiring boards obtained in each Example and Comparative Example were treated in a dryer at 125 ° C for 1000 hours. Thereafter, the dielectric properties were measured as described above. Further, the water absorption after immersion in water for 24 hours was measured.
[0044]
{Circle around (4)} Formability Formability was evaluated based on the presence or absence of voids after the production of the multilayer printed circuit board. The presence or absence of voids was determined visually. Each symbol represents the following items.
A: No void was generated.
○: Some voids are generated, but there is no practical problem.
Δ: Some voids occur and cannot be used practically.
X: Void occurred.
[0045]
(5) Thickness accuracy For thickness accuracy, the cross section of the multilayer printed circuit board was observed with an optical microscope. Each symbol indicates the following items.
A: Thickness variation is less than 15 μm.
○: Some variation in thickness is 15 to 20 μm, but there is no practical problem.
Δ: Some variation in thickness is 20 to 25 μm, and cannot be used practically.
X: Thickness variation exceeds 25 μm.
[0046]
(6) Adhesiveness Adhesiveness was evaluated by copper foil peel strength. The copper foil peel strength was measured according to JISC 6481.
[0047]
(7) Mechanical properties Mechanical properties were measured by measuring the elastic modulus, tensile strength, and elongation rate of the multilayer printed circuit board obtained by removing the copper foil by etching. Elastic modulus, tensile strength, and elongation were measured in a tensile mode at a load full scale of 20 kgf and a speed of 5 mm / min.
[0048]
(8) The tackiness (stickiness) of the resin surface of the metal foil with tackiness resin and the carrier film with resin was evaluated by tactile sensation. Each code is as follows.
◎: No stickiness ○: Some stickiness, but practical level △: Some stickiness, not practical use ×: There is stickiness [0049]
[Table 1]
[0050]
As is apparent from the table, Examples 1 to 5 were excellent in dielectric properties, crack resistance and dielectric properties after high temperature treatment.
In addition, Examples 1 to 4 were particularly excellent in moldability.
In addition, Examples 1 to 4 were particularly excellent in thickness accuracy.
In addition, Examples 1 and 3 to 5 were excellent in workability without tack.
[0051]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide an insulating layer, a metal foil with resin, a carrier film with resin, and a multilayer printed circuit board that are excellent in dielectric properties, crack resistance, and properties after high-temperature treatment.
In addition, when the insulating layer has a specific layer structure, it is particularly excellent in moldability and thickness accuracy.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a side view showing an example of a metal foil with resin in the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal foil with resin 11 Metal foil 12 Resin layer 121 1st resin layer 122 2nd resin layer

Claims (11)

積層板の絶縁層であって、ベンゾシクロブテン樹脂、および末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物を含む樹脂組成物で構成されていることを特徴とする絶縁層。An insulating layer of a laminated board, comprising a resin composition comprising a benzocyclobutene resin and a compound having an acryl group or a methacryl group at a terminal and a bisphenol F-type structure Insulation layer. 前記絶縁層がベンゾシクロブテン樹脂を含む第1層と、ベンゾシクロブテン樹脂を含む第2層とで構成されるものであって、前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物は、前記第1層または第2層の少なくとも一層に含まれるものである請求項1に記載の絶縁層。The insulating layer is composed of a first layer containing a benzocyclobutene resin and a second layer containing a benzocyclobutene resin , having an acryl group or a methacryl group at the terminal, and bisphenol F The insulating layer according to claim 1, wherein the compound having a mold structure is included in at least one of the first layer and the second layer. 前記ベンゾシクロブテン樹脂は、式(I)で表されるもので
ある請求項1または2に記載の絶縁層。
The insulating layer according to claim 1, wherein the benzocyclobutene resin is represented by the formula (I).
前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物は、式(II)で表されるものである請求項1ないし3に記載の絶縁層。
4. The insulating layer according to claim 1, wherein the compound having an acryl group or a methacryl group at the terminal and having a bisphenol F-type structure is represented by the formula (II). 5.
前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物の数平均分子量は、300〜100,000である請求項1ないし4のいずれかに記載の絶縁層。 Acrylic groups in the terminal or has a methacrylic group, and the number average molecular weight of the compound having a bisphenol F type structure, the insulating layer according to any one of the claims 1 to 300 to 100,000 4. 前記末端にアクリル基、またはメタクリル基を有し、かつビスフェノールF型構造を有する化合物の含有量は、前記ベンゾシクロブテン樹脂100重量部に対して、10〜80重量部である請求項1ないし5のいずれかに記載の絶縁層。The content of the compound having an acryl group or a methacryl group at the terminal and having a bisphenol F-type structure is 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the benzocyclobutene resin. The insulating layer according to any one of the above. 前記ビスフェノールF型構造を有し、さらにアクリル基、またはメタクリル基を有する化合物は、常温で液状である請求項1ないし6のいずれかに記載の絶縁層。The insulating layer according to any one of claims 1 to 6, wherein the compound having a bisphenol F structure and further having an acryl group or a methacryl group is liquid at room temperature. 請求項1ないし7のいずれかに記載の絶縁層と、金属箔とを有することを特徴とする樹脂付き金属箔。  A resin-coated metal foil comprising the insulating layer according to claim 1 and a metal foil. 請求項1ないし7のいずれかに記載の絶縁層と、キャリアフィルムとを有することを特徴とする樹脂付きキャリアフィルム。  A carrier film with a resin comprising the insulating layer according to claim 1 and a carrier film. 請求項8に記載の樹脂付き金属箔を内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント回路板。  A multilayer printed circuit board, wherein the metal foil with resin according to claim 8 is superposed on one or both sides of an inner layer circuit board and heated and pressurized. 請求項9に記載の樹脂付きキャリアフィルムを内層回路板の片面または両面に重ね合わせて、加熱、加圧してなることを特徴とする多層プリント回路板。  A multilayer printed circuit board, wherein the carrier film with resin according to claim 9 is superposed on one or both surfaces of an inner circuit board, and heated and pressurized.
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