JP4217935B2 - Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same - Google Patents

Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same Download PDF

Info

Publication number
JP4217935B2
JP4217935B2 JP28896199A JP28896199A JP4217935B2 JP 4217935 B2 JP4217935 B2 JP 4217935B2 JP 28896199 A JP28896199 A JP 28896199A JP 28896199 A JP28896199 A JP 28896199A JP 4217935 B2 JP4217935 B2 JP 4217935B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
solar cell
cell module
vapor deposition
protection sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP28896199A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2001111077A (en
Inventor
泰 山田
泰樹 鈴浦
晃次郎 大川
淳朗 續木
和幸 高澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP28896199A priority Critical patent/JP4217935B2/en
Publication of JP2001111077A publication Critical patent/JP2001111077A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4217935B2 publication Critical patent/JP4217935B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/049Protective back sheets
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関するものであり、更に詳しくは、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、光反射性、光拡散性、意匠性、その他等の諸特性に優れ、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れた太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、環境問題に対する意識の高まりから、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目され、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開発され、提案されている。
一般に、上記の太陽電池モジュ−ルは、例えば、結晶シリコン太陽電池素子あるいはアモルファスシリコン太陽電池素子等を製造し、そのような太陽電池素子を使用し、表面保護シ−ト層、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されている。
而して、上記の太陽電池モジュ−ルは、当初、電卓への適用を始めとし、その後、各種の電子機器等に応用され、民生用の利用として、その応用範囲は急速に広まりつつあり、更に、今後、最も重要な課題として、大規模集中型太陽電池発電の実現であるとされている。
ところで、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層としては、現在、強度に優れたプラスチック基材等が、最も一般的に使用され、その他、金属板等も使用されている。
而して、一般に、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層としては、例えば、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、光反射性、光拡散性、意匠性等の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐久性に富み、その保護能力性が高いこと、その他等の条件を充足することが必要とされいる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、例えば、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層として、現在、最も一般的に使用されている強度に優れたプラスチック基材等を使用する場合には、可塑性、軽量性、加工性、施工性、低コスト化等に富むものではあるが、強度、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性、光反射性、光拡散性、耐衝撃性、その他等の諸堅牢性に劣り、特に、防湿性、防汚性、意匠性等に欠けるという問題点がある。
また、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層として、金属板等を使用する場合には、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性、耐突き刺し性、耐衝撃性、その他等の諸堅牢性に優れ、また、防湿性等にも優れ、更に、表面硬度が硬く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、その保護能力性が極めて高い等の利点を有するが、可塑性、軽量性、光反射性、光拡散性、意匠性等に欠け、更に、その加工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けるという問題点がある。
そこで本発明は、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、光反射性、光拡散性、意匠性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、その保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを安定的に提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層について、上記のような問題点を解決すべく種々研究の結果、まず、基材フィルムの片面に、酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等のガラス質からなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸素バリア性等に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記で無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの両面に、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを積層して太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造し、而して、該太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、例えば、ガラス板等からなる通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン系樹脂フィルムの面を対向させて順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造したところ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防汚性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、また、光反射性、光拡散性、意匠性等についても著しく向上させ、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを安定的に製造し得ることを見出して本発明を完成したものである。
【0005】
すなわち、本発明は、基材フィルムの片面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの両面に、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを積層することを特徴とする太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。
なお、本発明において、シ−トとは、シ−ト状物ないしフィルム状物のいずれの場合も意味するものであり、また、フィルムとは、フィルム状物ないしシ−トシ−ト状物のいずれの場合も意味するものである。
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて更に具体的に説明すると、図1、図2および図3は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トの層構成についてその二三例を例示する概略的断面図であり、図4および図5は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを構成する無機酸化物の蒸着膜の層構成についてその他の例を例示する概略的断面図であり、図6は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面図である。
【0007】
まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トAは、図1に示すように、基材フィルム1の片面に、無機酸化物の蒸着膜2を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜2を設けた基材フィルム1の両面に、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルム3、3を積層した構成からなることを基本構造とするものである。
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについて具体例を例示すると、図2に示すように、基材フィルム1の片面に、無機酸化物の蒸着膜2を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜2を設けた基材フィルム1の両面に、ラミネ−ト用接着剤層4、4を介して、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルム3、3をドライラミネ−トして積層した構成からなる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トA1 を例示することができる。
あるいは、本発明においては、図3に示すように、基材フィルム1の片面に、無機酸化物の蒸着膜2を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜2を設けた基材フィルム1の両面に、アンカ−コ−ト剤等による接着助剤層5、5等を介して、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂組成物を押し出し積層し、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルム3、3を押し出しラミネ−トして積層した構成からなる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トA2 を例示することができる。
上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについてその二三例を例示するものであり、本発明は、これによって限定されるものではないことは勿論である。
【0008】
例えば、上記の図1〜3に示す太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トにおいて、無機酸化物の蒸着膜としては、図4、図5等に示すように、後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の2層以上、あるいは、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の2層以上のように、無機酸化物の蒸着膜2、2の2層以上を重層した多層膜2a(図4)、あるいは、後述する理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜2bと、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜2cとの異種の無機酸化物の蒸着膜2b、2cの2層以上を重層した複合膜2d(図5)等で構成することができるものである。
また、本発明においては、例えば、図示しないが、上記のドライラミネ−トによる積層と、押し出しラミネ−トによる積層とを組み合わせて、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造することもできるものである。
【0009】
次に、本発明において、上記の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示すると、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トAを使用した例で説明すると、図6に示すように、まず、通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト11、充填剤層12、光起電力素子としての太陽電池素子13、充填剤層14、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト15(A)を、その一方のポリプロピレン系樹脂フィルム3の面を対向させて順次に積層し、次いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として太陽電池モジュ−ルTを製造することができる。
上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示するものであり、本発明はこれにより限定されるものではない。
例えば、図示しないが、上記の図2〜図3等に示す太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、上記と同様にして、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルを製造することができ、また、上記の太陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収性、補強、その他等の目的のもとに、更に、他の層を任意に加えて積層することができるものである。
【0010】
次に、本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等について更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する基材フィルムとしては、基本的には、無機酸化物の蒸着膜等を形成する際の蒸着条件、その他等に耐え、かつ、それらの無機酸化物の蒸着膜等との密接着性に優れ、それらの膜の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができ、また、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性等の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、また、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐久性に富み、その保護能力性が高いこと等の特性を有する各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
具体的には、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−トまたはポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリ−ルフタレ−ト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエ−テルスルホン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、フッ素系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、または、ポリエステル系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
【0011】
更に、本発明においては、上記のような各種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系樹脂(PVDF)、または、フッ化ビニル系樹脂(PVF)等のフッ素系樹脂の1種ないしそれ以上からなるフッ素系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
なお、本発明においては、上記のフッ素系樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、ポリフッ化ビニル系樹脂(PVF)、または、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ETFE)からなるフッ素系樹脂のフィルムないしシ−トが、強度等の観点から特に好ましいものである。
【0012】
また、本発明においては、上記のような各種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例えば、シクロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロペンタジエンおよびその誘導体、シクロヘキサジエンおよびその誘導体、ノルボルナジエンおよびその誘導体、その他等の環状ジエンを重合させてなるポリマ−、あるいは、該環状ジエンとエチレン、プロピレン、4−メチル−1−ペンテン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、その他等のオレフィン系モノマ−の1種ないしそれ以上とを共重合させてなるコポリマ−等からなる環状ポリオレフィン系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
なお、本発明においては、上記の環状ポリオレフィン系樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、シクロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロペンタジエンおよびその誘導体、または、ノルボルナジエンおよびその誘導体等の環状ジエンのポリマ−ないしコポリマ−からなる環状ポリオレフィン系樹脂のフィルムないしシ−トが、強度等の観点から好ましいものである。
而して、本発明において、上記のようなフッ素系樹脂あるいは環状ポリオレフィン系樹脂からなるフィルムないしシ−トを使用することにより、該フッ素系樹脂あるは環状ポリオレフィン系樹脂が有する機械的特性、化学的特性、物理的特性等の優れた特性、具体的には、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐防湿性、耐汚染性、耐薬品性、その他等の諸特性を利用して太陽電池を構成する裏面保護シ−トとするものであり、これにより、耐久性、保護機能性等を有し、また、そのフレキシブル性や機械的特性、化学的特性等から軽く、かつ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易い等の利点を有するものである。
【0013】
本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの膜厚としては、12〜300μm位、より好ましくは、20〜200μm位が望ましい。
【0014】
なお、上記において、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
また、上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化繊維、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。
本発明においては、上記の添加剤の中でも、特に、紫外線吸収剤、あるいは、酸化防止剤等を練れ込み加工してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
上記の紫外線吸収剤としては、太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上を使用することができる。
また、上記の酸化防止剤としては、高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止するものであり、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸系、その他等の酸化防止剤を使用することができる。
更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤としては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてなるポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使用することができる。
上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約0.1〜10重量%位が好ましい。
【0015】
また、本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの表面は、無機酸化物の蒸着膜等との密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることができる。
本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができる。
上記の表面前処理は、別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズマ処理やグロ−放電処理等による表面前処理の場合は、上記の無機酸化物の蒸着膜等を形成する前処理としてインライン処理により前処理で行うことができ、このような場合は、その製造コストを低減することができるという利点がある。
上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィルムないしシ−トと無機酸化物の蒸着膜等との密接着性を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
上記の前処理のコ−ト剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。
【0016】
なお、上記の樹脂組成物には、密接着性を向上させるために、エポキシ系のシランカップリング剤、あるいは、基材フィルムのブロッキング等を防止するために、ブロッキング防止剤、その他等の添加剤を任意に添加することができる。
その添加量は、0.1重量%〜10重量%位が好ましいものである。
また、本発明において、上記の樹脂組成物中には、耐光性等を向上させるために、例えば、紫外線吸収剤および/または酸化防止剤を添加することができる。上記の紫外線吸収剤としては、前述の太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上を使用することができる。
また、上記の酸化防止剤としては、前述の高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止するものであり、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸系、その他等の酸化防止剤を使用することができる。
更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤としては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてなるポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使用することができる。
上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約0.1〜10重量%位が好ましい。
また、上記において、コ−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ−トの製膜後、あるいは、2軸延伸処理後の後工程として、あるいは、製膜、あるいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施することができる。
【0017】
更にまた、本発明においては、上記の基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を製膜化する際の蒸着条件等に対し該基材フィルムを保護し、例えば、その黄変、劣化ないし収縮、あるいは、フィルム表層ないし内層等における凝集破壊等を抑制し、更に、基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜が良好に製膜化され、かつ、該基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、予め、基材フィルムの一方の面に、表面前処理層として、例えば、後述するプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)、あるいは、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)を用いて、無機酸化物の蒸着薄膜を形成することにより、耐蒸着保護膜を設けることができる。
なお、本発明において、上記の酸化珪素等からなる耐蒸着保護膜の膜厚としては、薄膜であり、更に、水蒸気ガス、酸素ガス等に対するバリア性を有しない非バリア性膜で十分であり、具体的には、膜厚150Å未満であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、10〜100Å位、好ましくは、20〜80Å位、更に、より好ましくは、30〜60Å位が望ましい。
而して、上記において、150Å以上、具体的には、100Å、更に、80Å、更には、60Åより厚くなると、良好な耐蒸着保護膜を形成することが困難になるので好ましくなく、また、10Å、更に、30Å、更には、60Å未満であると、耐蒸着保護層としての機能を喪失し、その効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
【0018】
次に、本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜について説明すると、かかる無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、物理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、その両者を併用して、無機酸化物の蒸着膜の1層からなる単層膜あるいは2層以上からなる多層膜または複合膜を形成して製造することができるものである。
上記の物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明において、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して基材フィルムの上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルムの上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式(EB)等にて行うことができる。
【0019】
本発明において、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成する方法について、その具体例を挙げると、図7は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
図7に示すように、巻き取り式真空蒸着装置21の真空チャンバ−22の中で、巻き出しロ−ル23から繰り出す基材フィルム1は、ガイドロ−ル24、25を介して、冷却したコ−ティングドラム26に案内される。
而して、上記の冷却したコ−ティングドラム26上に案内された基材フィルム1の上に、るつぼ27で熱せられた蒸着源28、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口29より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク30、30を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を成膜化し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1を、ガイドロ−ル25′、24′を介して送り出し、巻き取りロ−ル31に巻き取ることによって、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
なお、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、2層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【0020】
上記において、無機酸化物の蒸着膜としては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(Na)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。
而して、好ましいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMOX (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表される。
また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(Si)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(Ca)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の値をとることができる。
上記において、X=0の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケイ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(Al)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用することができる。
本発明において、上記のような無機酸化物の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜4000Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する金属、または金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
【0021】
次にまた、本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
【0022】
具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一例を例示して説明すると、図8は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
上記の図8に示すように、本発明においては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャンバ−42内に配置された巻き出しロ−ル43から基材フィルム1を繰り出し、更に、該基材フィルム1を、補助ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ドラム45周面上に搬送する。
而して、本発明においては、ガス供給装置46、47および、原料揮発供給装置48等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル49を通して真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45周面上に搬送された基材フィルム1の上に、グロ−放電プラズマ50によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム45は、チャンバ−外に配置されている電源51から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム45の近傍には、マグネット52を配置してプラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1は、補助ロ−ル53を介して巻き取りロ−ル54に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を製造することができるものである。
なお、図中、55は、真空ポンプを表す。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
図示しないが、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の1層だけではなく、2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、また、使用する材料も1種または2種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
また、本発明においては、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、これを2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、2層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【0023】
上記において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
【0024】
本発明において、上記で形成される酸化珪素の蒸着膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が基材フィルムの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成することができ、通常、一般式SiOX (ただし、Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とする連続状の蒸着膜である。
而して、上記の酸化珪素の蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、Xの値は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
また、上記の酸化珪素の蒸着膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、または、その両者の元素を微量構成元素として含有する酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å〜4000Å位、好ましくは、100Å〜1000Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に変化しているものである。
更に、上記の酸化珪素の蒸着膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少していることを特徴とするものである。
而して、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、X線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Secondary Ion Mass Spectroscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。
また、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚50Å〜4000Å位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、100〜1000Å位が望ましく、而して、上記において、1000Å、更には、4000Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、100Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。
また、上記において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことができる。
【0025】
ところで、本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜として、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成して使用することもできるものである。
而して、上記の異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜としては、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいものである。
勿論、本発明においては、上記とは逆くに、基材フィルムの上に、先に、物理気相成長法により、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することもできるものである。
【0026】
次に、本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムについて説明すると、かかるポリプロピレン系樹脂フィルムとしては、まず、ポリプロピレン系樹脂を主成分とし、これに、光反射剤あるいは光拡散剤としての白色化剤および紫外線吸収剤の1種ないし2種以上を添加し、更に、必要ならば、可塑剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、架橋剤、硬化剤、充填剤、滑剤、強化剤、補強剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料・染料等の着色剤、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を任意に添加し、更に、要すれば、溶剤、希釈剤等を添加し、十分に混練してポリプロピレン系樹脂組成物を調製する。
而して、本発明においては、上記で調製したポリプロピレン系樹脂組成物を使用し、例えば、押し出し機、Tダイ押出機、キャスト成形機、インフレ−ション成形機等を使用し、押し出し法、Tダイ法、キャスト成形法、インフレ−ション法、その他等のフィルム成形法により、ポリプロピレン系樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸して、白色化剤と紫外線吸収剤とを練り込み加工してなる耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを製造するものである。
【0027】
あるいは、本発明においては、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムとしては、まず、通常の塗料用ないしインキ用ビヒクルを主成分とし、これに、光反射剤あるいは光拡散剤としての白色化剤および紫外線吸収剤の1種ないし2種以上を添加し、更に、必要ならば、可塑剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、架橋剤、硬化剤、充填剤、滑剤、強化剤、補強剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料・染料等の着色剤、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を任意に添加し、更に、要すれば、溶剤、希釈剤等を添加し、十分に混練して塗料ないしインキ組成物を調製する。
而して、本発明においては、上記で調製した塗料ないしインキ組成物を使用し、これを、透明な耐熱性を有するポリプロピレン系樹脂フィルムの表面に、通常のコ−ティング法あるいは印刷法等を用いて塗布ないし印刷し、その塗布膜あるいは印刷膜を形成して、その表面に白色化剤と紫外線吸収剤とを含む塗布膜あるいは印刷膜を有する耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを製造するものである。
なお、上記において、紫外線吸収剤は、予め、透明な耐熱性を有するポリプロピレン系樹脂フィルムの中に練り込み加工してある場合には、必ずしも、塗料ないしインキ組成物中に添加しなくてもよいものである。
【0028】
次いで、本発明においては、上記で製造した白色化剤と紫外線吸収剤とを練り込み加工してなる耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルム、あるいは、その表面に白色化剤と紫外線吸収剤とを含む塗布膜あるいは印刷膜を有する耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを等からなる白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを使用し、これを、前述の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの両面に、例えば、ラミネ−ト用接着剤層等を介して、ドライラミネ−トして積層することにより、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造することができるものである。
あるいは、本発明においては、上記で白色化剤と紫外線吸収剤とを練り込み加工してなる耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを製造するために調製したポリプロピレン系樹脂組成物を使用し、これを押し出し機等を使用して溶融押し出しし、前述の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの両面に、例えば、アンカ−コ−ト剤等による接着助剤層等を介して、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを溶融押し出し積層することにより、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造することができるものである。
上記において、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムの厚さとしては、10μm〜300μm位、好ましくは、15μm〜150μm位が望ましいものである。
【0029】
上記において、ポリプロピレン系樹脂としては、石油系炭化水素の熱分解によりエチレンを製造する際に生成する副生成物であるプロピレンの単独重合体、あるいは、プロピレンとα−オレフィン、その他等の他のモノマ−との共重合体を使用することができる。
而して、本発明において、ポリプロピレン系樹脂としては、具体的には、プロピレンを重合する際に、カチオン重合触媒等を用いる場合には、低分子量のポリマ−が得られるが、重合する際に、チ−グラ−・ナッタ触媒を用いる場合には、高分子量、高結晶度のアイソタクチック重合体を得ることができ、このアイソタクチック重合体を使用するものである。
上記のアイソタクチック重合体においては、その融点は、164℃〜170℃位であり、比重は、0.90〜0.91程度であり、分子量は、10万〜20万程度であり、その結晶性により性質は大きく支配されるが、アイソタクチックの高いポリマ−は、引っ張り強さ、衝撃強度に優れ、耐熱性、耐屈曲疲労強度を良好であり、かつ、加工性は極めて良好なものである。
なお、本発明において、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムとしては、ドライラミネ−トによる積層を行う場合には、その表面に、予め、コロナ放電処理、オゾン処理、あるいは、プラズマ放電処理等の表面改質前処理を任意に施すことがてきるものである。
また、本発明においては、上記のポリプロピレン系樹脂の他に、必要ならば、更に、例えば、ポリエチレン系樹脂、その他等のポリプロピレン系樹脂と相溶性を有する樹脂を任意に添加して改質することができるものである。
【0030】
また、上記において、白色化剤としては、太陽電池モジュ−ルにおいて透過した太陽光を光反射あるいは光拡散させて再利用するために光反射性、光拡散性等を付与することを目的とし添加するものであり、例えば、塩基性炭酸鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性けい酸鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、リトポン、三酸化アンチモン、アナタス形酸化チタン、ルチル形酸化チタン、その他等の白色顔料の1種ないし2種以上を使用することができる。
その使用量としては、ポリプロピレン系樹脂組成物において、0.1重量%〜30重量%位、好ましくは、0.5重量%〜10重量%位添加して使用することが望ましいものである。
【0031】
更に、上記において、紫外線吸収剤としては、前述の太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上を使用することができる。
その使用量としては、ポリプロピレン系樹脂組成物において、0.1重量%〜10重量%位、好ましくは、0.3重量%〜10重量%位添加して使用することが望ましいものである。
【0032】
次にまた、上記のドライラミネ−ト積層法において、ラミネ−ト用接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2−エチルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。
上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
而して、上記の接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
【0033】
なお、上記の接着剤中には、紫外線劣化等を防止するために、前述の紫外線吸収剤および/または酸化防止剤を添加することができる。
上記の紫外線吸収剤としては、前述の太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上を使用することができる。
また、上記の酸化防止剤としては、前述の高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止するものであり、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸系、その他等の酸化防止剤を使用することができる。
更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤としては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてなるポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使用することができる。
上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約0.1〜10重量%位が好ましい。
【0034】
また、上記の溶融押し出し積層法において、より強固な接着強度を得るために、例えば、アンカ−コ−ト剤等の接着助剤等を使用し、そのアンカ−コ−ト剤層を介して、積層することができる。
上記のアンカ−コ−ト剤としては、例えば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン系、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、ポリプタジエン系、その他等の水性ないし油性の各種のアンカ−コ−ト剤を使用することができる。
上記のアンカ−コ−ト剤は、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングすることができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜5g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
【0035】
なお、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムと白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムとの密接着性を改善するために、更に、例えば、予め、プライマ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
上記のプライマ−コ−ト剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。なお、本発明においては、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングしてプライマ−コ−ト剤層を形成することができ、而して、そのコ−ティング量としては、0.1〜5g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
【0036】
次に、本発明において、太陽電池モジュ−ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて説明すると、かかる表面保護シ−トとしては、太陽光の透過性、絶縁性等を有し、更に、耐候性、耐熱性、耐光性、耐水性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性を有し、物理的あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、極めて耐久性に富み、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが必要である。
上記の表面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、公知のガラス板等は勿論のこと、更に、例えば、フッ素系樹脂、ポリアミド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−トも使用することができる。
また、上記の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜200μm位、より好ましくは、25〜150μm位が望ましい。
【0037】
次に、本発明において、太陽電池モジュ−ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収することから透明性を有することが必要であり、また、表面保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが必要である。
具体的には、上記の充填剤層としては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、または、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の混合物を使用することができる。
なお、本発明においては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等の添加剤を任意に添加し、混合することができるものである。
而して、本発明においては、太陽光の入射側の充填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考慮すると、フッ素系樹脂、シリコ−ン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂が望ましい素材である。
なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜1000μm位、好ましくは、350〜600μm位が望ましい。
【0038】
次に、本発明において、太陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子について説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知のもの、例えば、単結晶シリコン型太陽電池素子、多結晶シリコン型太陽電池素子等の結晶シリコン太陽電子素子、シングル接合型あるいはタンデム構造型等からなるアモルファスシリコン太陽電池素子、ガリウムヒ素(GaAs)やインジウム燐(InP)等のIII −V 族化合物半導体太陽電子素子、カドミウムテルル(CdTe)や銅インジウムセレナイド(CuInSe2 )等のII−VI族化合物半導体太陽電子素子、その他等を使用することができる。
更に、薄膜多結晶性シリコン太陽電池素子、薄膜微結晶性シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリコン太陽電池素子とアモルファスシリコン太陽電池素子とのハイブリット素子等も使用することができる。
而して、本発明において、太陽電池素子は、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、金属基板、その他等の基板の上に、pn接合構造等の結晶シリコン、p−i−n接合構造等のアモルファスシリコン、化合物半導体等の起電力部分が形成されて太陽電池素子を構成するものである。
【0039】
次に、本発明において、太陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが必要である。
しかし、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、透明性を有することを必要としないものである。
具体的には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、または、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の混合物を使用することができる。
なお、本発明においては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等の添加剤を任意に添加し、混合することができるものである。
なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜1000μm位、より好ましくは、350〜600μm位が望ましい。
【0040】
なお、本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させるために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
【0041】
次に、本発明において、上記のような材料を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例えば、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、例えば、上記の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、上記の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン系樹脂フィルムの面を対向させて、順次に積層し、更に、必要ならば、各層間に、その他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造することができる。
上記において、必要ならば、各層間の接着性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクルの主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬化型接着剤、その他等を使用することができる。
【0042】
また、上記の積層において、各積層対向面には、密接着性を向上させるために、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。
更に、上記の積層においては、各積層対向面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面前処理を行うこともできる。
上記の前処理のコ−ト剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることができる。
【0043】
更にまた、本発明においては、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、その太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トのいずれか一方のポリプロピレン系樹脂フィルムの面に、上記の充填剤層を積層して、予め、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと充填剤層とが積層した積層体を製造し、しかる後、上記の積層体を構成する充填剤層の面に、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを順次に積層して、更に、必要ならば、その他の素材を任意に積層し、次いで、それらを真空吸引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造することができる。
【0044】
【実施例】
以下に本発明について実施例を挙げて更に具体的に本発明を説明する。
実施例1
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、下記の条件で厚さ800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:80m/分
次に、上記で膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行って、蒸着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向上させてたプラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記で形成した膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、ポリウレタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤(8.0重量%)とブロッキング防止剤(1.0重量%)を添加し、十分に混練してなるプライマ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてプライマ−層を形成した。
更に、上記で形成したプライマ−層の面に、紫外線吸収剤として、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(2.0重量%)を含有する2液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚5.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
(3).他方、アイソタクチックポリプロピレン樹脂に、白色化剤としての酸化チタン(8重量%)と紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm、3重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリプロピレン樹脂組成物を調製し、次いで、該ポリプロピレン樹脂組成物を押出機で押し出して、厚さ60μmの無延伸ポリプロピレン樹脂フィルムを製造し、更に、該無延伸ポリプロピレン樹脂フィルムの片面に、常法に従って、コロナ放電処理を施してコロナ処理面を形成した。
(4).次に、上記の(2)で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、同じく、上記の(3)で形成したポリプロピレン樹脂フィルムのコロナ処理面を対向させ、その両者をドライラミネ−ト積層した。
次いで、上記でドライラミネ−ト積層した酸化珪素の蒸着膜を有する2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面に、上記と同様にして、紫外線吸収剤として、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(2.0重量%)を含有する2液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚5.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
更に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、上記の(3)で形成した別のポリプロピレン樹脂フィルムのコロナ処理面を対向させ、上記と同様にして、その両者をドライラミネ−ト積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。
(5).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、厚さ3mmのガラス板、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン樹脂フィルムの面を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0045】
実施例2〜6
上記の実施例1において、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用する代わりに、下記に示す基材フィルムを使用し、その他は、上記の実施例1と全く同様に行って、上記の実施例1と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
実施例2.厚さ50μmのポリフッ化ビニル系樹脂シ−ト(PVF)
実施例3.厚さ100μmのポリジシクロペンタジエン樹脂シ−ト
実施例4.厚さ50μmのポリカ−ボネ−ト樹脂シ−ト
実施例5.厚さ50μmのポリアクリル系樹脂シ−ト
実施例6.厚さ20μmのナイロン6フィルム
【0046】
実施例7
厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記の2軸延伸ナイロン6フィルムのコロナ処理面に、膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
蒸着源:アルミニウム
真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar
EB出力:40KW
フィルム搬送速度:600m/分
次に、上記で膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記で形成した膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、ポリウレタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤(8.0重量%)とブロッキング防止剤(1.0重量%)を添加し、十分に混練してなるプライマ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてプライマ−層を形成した。
更に、上記で形成したプライマ−層の面に、紫外線吸収剤として、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(2.0重量%)を含有する2液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚5.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
(3).他方、アイソタクチックポリプロピレン樹脂に、白色化剤としての酸化チタン(8重量%)と紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm、3重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリプロピレン樹脂組成物を調製し、次いで、該ポリプロピレン樹脂組成物を押出機で押し出して、厚さ60μmの無延伸ポリプロピレン樹脂フィルムを製造し、更に、該無延伸ポリプロピレン樹脂フィルムの片面に、常法に従って、コロナ放電処理を施してコロナ処理面を形成した。
(4).次に、上記の(2)で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、同じく、上記の(3)で形成したポリプロピレン樹脂フィルムのコロナ処理面を対向させ、その両者をドライラミネ−ト積層した。
次いで、上記でドライラミネ−ト積層した酸化アルミニウムの蒸着膜を有する2軸延伸ナイロン6フィルムの2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、上記と同様にして、紫外線吸収剤として、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(2.0重量%)を含有する2液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚5.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
更に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、上記の(3)で形成した別のポリプロピレン樹脂フィルムのコロナ処理面を対向させ、上記と同様にして、その両者をドライラミネ−ト積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。
(5).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、厚さ3mmのガラス板、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン樹脂フィルムの面を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0047】
実施例8〜12
上記の実施例7において、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用する代わりに、下記に示す基材フィルムを使用し、その他は、上記の実施例1と全く同様に行って、上記の実施例1と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
実施例8.厚さ50μmのポリフッ化ビニル系樹脂シ−ト(PVF)
実施例9.厚さ100μmのポリジシクロペンタジエン樹脂シ−ト
実施例10.厚さ50μmのポリカ−ボネ−ト樹脂シ−ト
実施例11.厚さ50μmのポリアクリル系樹脂シ−ト
実施例12.厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
【0048】
実施例13
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、下記の条件で膜厚50Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設けた。
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=5:5:5(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度:7.0×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:3.8×10-2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:15kW
シ−トの搬送速度:100m/分
次に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施例1と同様にして、膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該酸化珪素の蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例1と全く同様に行って、上記の実施例1と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0049】
実施例14
(1).厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、コ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記の2軸延伸ナイロンフィルムのコロナ処理面に、膜厚50Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設けた。
(蒸着条件)
蒸着源:アルミニウム
真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar
EB出力:20KW
フィルム搬送速度:500m/分
更に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施例7と同様にして、膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プラスマ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例7と全く同様に行って、上記の実施例7と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0050】
実施例15
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、そのコロナ処理面に、1×10-4Torrの真空下、高周波誘電加熱方式で純度99.9%の一酸化珪素(SiO)を加熱蒸発させ、500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
次に、上記で膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向上させてたコロナ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例1と全く同様に行って、上記の実施例1と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0051】
実施例16
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1と同様にして、膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該酸化珪素の蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。
次に、上記で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面の上に、上記の実施例7と同様にして、膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プラスマ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例7と全く同様に行って、上記の実施例7と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0052】
実施例17
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、下記の条件で厚さ800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:20kW
フィルムの搬送速度:80m/分
次に、上記で膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Torr、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行って、蒸着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向上させたプラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記で形成した膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤(8.0重量%)とブロッキング防止剤(1.0重量%)を添加し、十分に混練してなるプライマ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてプライマ−層を形成した。
更に、上記で形成したプライマ−層の面に、2液硬化型のウレタン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.1g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてアンカ−コ−ト剤層を形成した。
(3).他方、アイソタクチックポリプロピレン樹脂に、白色化剤としての酸化チタン(25重量%)を含むポリエチレン樹脂製マスタ−バッチ(15重量%)と紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm、5重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリプロピレン樹脂組成物を調製した。
(4).次に、上記の(2)で形成したアンカ−コ−ト剤層面に、上記の(3)で形成したポリプロピレン樹脂組成物を使用し、これを押出機を用いて溶融押し出しして、厚さ60μmのポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−ト積層した。
次いで、上記で押し出しラミネ−ト積層した酸化珪素の蒸着膜を有する2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面に、上記と同様にして、2液硬化型のウレタン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.1g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてアンカ−コ−ト剤層を形成した。
更に、上記で形成したアンカ−コ−ト剤層面に、上記の(3)で形成したポリプロピレン樹脂組成物を使用し、上記と同様にして、これを押出機を用いて溶融押し出しして、厚さ60μmのポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−ト積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。
(5).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、厚さ3mmのガラス板、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン樹脂フィルムの面を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0053】
実施例18
厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記の2軸延伸ナイロン6フィルムのコロナ処理面に、膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
蒸着源:アルミニウム
真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar
EB出力:40KW
フィルム搬送速度:600m/分
次に、上記で膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Torr、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記で形成した膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤(8.0重量%)とブロッキング防止剤(1.0重量%)を添加し、十分に混練してなるプライマ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてプライマ−層を形成した。
更に、上記で形成したプライマ−層の面に、2液硬化型のウレタン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.1g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてアンカ−コ−ト剤層を形成した。
(3).他方、アイソタクチックポリプロピレン樹脂に、白色化剤としての酸化チタン(25重量%)を含むポリエチレン樹脂製マスタ−バッチ(15重量%)と紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm、5重量%)とを添加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練してポリプロピレン樹脂組成物を調製した。
(4).次に、上記の(2)で形成したアンカ−コ−ト剤層面に、上記の(3)で形成したポリプロピレン樹脂組成物を使用し、これを押出機を用いて溶融押し出しして、厚さ60μmのポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−ト積層した。
次いで、上記で押し出しラミネ−ト積層した酸化アルミニウムの蒸着膜を有する2軸延伸ナイロン6フィルムの2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、上記と同様にして、2液硬化型のウレタン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.1g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてアンカ−コ−ト剤層を形成した。
更に、上記で形成したアンカ−コ−ト剤層面に、上記の(3)で形成したポリプロピレン樹脂組成物を使用し、上記と同様にして、これを押出機を用いて溶融押し出しして、厚さ60μmのポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−ト積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。
(5).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、厚さ3mmのガラス板、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン樹脂フィルムの面を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0054】
実施例19
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、下記の条件で膜厚50Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設けた。
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=5:5:5(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度:7.0×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:3.8×10-2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:15kW
シ−トの搬送速度:100m/分
次に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施例17と同様にして、膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該酸化珪素の蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例17と全く同様に行って、上記の実施例17と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0055】
実施例20
(1).厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、コ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記の2軸延伸ナイロンフィルムのコロナ処理面に、膜厚50Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設けた。
(蒸着条件)
蒸着源:アルミニウム
真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar
EB出力:20KW
フィルム搬送速度:500m/分
更に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施例18と同様にして、膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例18と全く同様に行って、上記の実施例18と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0056】
実施例21
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、そのコロナ処理面に、1×10-4Torrの真空下、高周波誘電加熱方式で純度99.9%の一酸化珪素(SiO)を加熱蒸発させ、500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
次に、上記で膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向上させてたコロナ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例17と全く同様に行って、上記の実施例17と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0057】
実施例22
(1).厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例17と同様にして、膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該酸化珪素の蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。
次に、上記で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面の上に、上記の実施例18と同様にして、膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プラスマ処理面を形成した。
(2).以下、上記の実施例18と全く同様に行って、上記の実施例18と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0058】
比較例1
厚さ3mmのガラス板、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ50μmの白色の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0059】
比較例2
厚さ3mmのガラス板、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ50μmの白色のポリフッ化ビニル樹脂シ−トを対向させて、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0060】
実験例
上記の実施例1〜22で製造した本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと比較例1〜2にかかる裏面保護シ−トについて、反射率を測定し、また、上記の実施例1〜22で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜2で製造した太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価試験を行った。
(1).反射率の測定
これは、基材フィルムを基準とし、実施例1〜22で製造した本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと比較例1〜2にかかる裏面保護シ−トについて、分光光度計により、波長550nmの光線に対する反射率(%)を測定した。
(2).太陽電池モジュ−ル評価試験
これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起電力の出力を測定して、比較評価した。
(3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定
水蒸気透過度は、実施例1〜22で製造した本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと比較例1〜2にかかる裏面保護シ−トについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN)〕にて測定した。
(4).積層強度の測定
これは、保護シ−トを15mm巾に裁断し、引っ張り試験機〔エ−・アンド・デ−(A&D)株式会社製 機種名 テンシロン)を用いて、保護シ−トを構成する積層体の剥離強度を測定した。
上記の測定結果について下記の表1に示す。
【0061】
(表1)

Figure 0004217935
Figure 0004217935
Figure 0004217935
Figure 0004217935
上記の表1において、光線反射率の単位は、〔%〕であり、水蒸気バリア性の単位は、〔g/m2 /day・40℃・100%RH〕であり、酸素バリア性の単位は、〔cc/m2 /day・23℃・90%RH〕であり、出力低下率の単位は、〔%〕であり、積層強度の単位は、〔kg/15mm巾〕である。
【0062】
上記の表1に示す測定結果より明らかなように、実施例1〜22にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トは、反射率が高く、また、水蒸気バリア性、酸素バリア性、および、積層強度に優れていた。
更に、上記の実施例1〜22にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを用いた太陽電池モジュ−ルは、出力低下率も低いものであった。
これに対し、比較例1〜2にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トは、反射率は、高いものの、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低く、そのために、それを用いて製造した太陽電池モジュ−ルは、出力低下率が高い等の問題点がある。
【0063】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなよう、本発明は、基材フィルムの片面に、酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等のガラス質からなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸素バリア性等に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記で無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの両面に、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを積層して太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造し、而して、該太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、例えば、ガラス板等からなる通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その一方のポリプロピレン系樹脂フィルムの面を対向させて順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造して、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防汚性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、また、光反射性、光拡散性、意匠性等についても著しく向上させ、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを安定的に製造し得ることができるというものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図4】無機酸化物の蒸着膜について、他の例の層構成を示す概略を示す概略的断面図である。
【図5】無機酸化物の蒸着膜について、他の例の層構成を示す概略を示す概略的断面図である。
【図6】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図7】巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
【図8】プラズマ化学蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
【符号の説明】
A 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト
1 〜A2 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト
1 基材フィルム
2 無機酸化物の蒸着膜
2a 多層膜
2b 無機酸化物の蒸着膜
2c 無機酸化物の蒸着膜
2d 複合膜
3 ポリプロピレン系樹脂フィルム
4 ドライラミネ−ト用接着剤層
5 アンカ−コ−ト剤層
T 太陽電池モジュ−ル
11 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト
12 充填剤層
13 太陽電池素子
14 充填剤層
15 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a back surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module using the same. More specifically, the present invention has excellent strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, and light resistance. , Wind pressure resistance, yield resistance, chemical resistance, moisture proof, antifouling, light reflectivity, light diffusibility, design, and other characteristics, excellent durability, and excellent protective ability Further, the present invention relates to a back surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module using the same.
[0002]
[Prior art]
In recent years, solar cells as clean energy sources have attracted attention due to increasing awareness of environmental problems, and solar cell modules of various forms have been developed and proposed at present.
In general, the solar cell module described above is, for example, manufacturing a crystalline silicon solar cell element or an amorphous silicon solar cell element, and using such a solar cell element, a surface protective sheet layer, a filler layer, A solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a back surface protection sheet layer, and the like are laminated in this order, and are manufactured by using a lamination method or the like in which vacuum suction is performed and thermocompression bonding is performed.
Thus, the above solar cell module is initially applied to a calculator, and then applied to various electronic devices and the like, and its application range is rapidly expanding as a consumer use. Furthermore, in the future, the most important issue will be the realization of large-scale concentrated solar cell power generation.
By the way, as the back surface protection sheet layer constituting the above solar cell module, currently, a plastic base material having excellent strength is most commonly used, and a metal plate or the like is also used. .
Thus, in general, as the back surface protection sheet layer constituting the solar cell module, for example, it has excellent strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, yield resistance, Excellent fastness such as chemical resistance, light reflectivity, light diffusibility, and design, especially moisture resistance to prevent intrusion of moisture, oxygen, etc. Furthermore, surface hardness is high and surface contamination Therefore, it is necessary to satisfy other conditions such as excellent antifouling property for preventing accumulation of dust and the like, extremely durable, high protection ability, and the like.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, for example, when using the most commonly used plastic base material having excellent strength as the back surface protection sheet layer constituting the solar cell module, plasticity, lightness, Although it is rich in workability, workability, cost reduction, etc., strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, chemical resistance, light reflectivity, light diffusibility, impact resistance, etc. There is a problem that it is inferior in various fastnesses, and in particular, lacks moisture resistance, antifouling properties, design properties and the like.
In addition, when a metal plate or the like is used as the back surface protection sheet layer constituting the solar cell module, it has excellent strength and weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, chemical resistance, Excellent ruggedness such as piercing resistance, impact resistance, etc., excellent moisture resistance, etc. Furthermore, it has a hard surface hardness and antifouling property to prevent the accumulation of dirt and dust on the surface. It has excellent advantages such as excellent protection ability, but lacks in plasticity, lightness, light reflectivity, light diffusibility, design, etc., and is inferior in workability, workability, etc. There is a problem of lack of cost.
Therefore, the present invention is excellent in strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, rain resistance, chemical resistance, moisture resistance, antifouling properties, light reflectivity, light diffusibility, design In particular, it has excellent properties such as moisture, oxygen, etc., and it has significantly improved moisture resistance to prevent the intrusion of moisture, oxygen, etc., minimizes long-term performance degradation, and is extremely durable, and its protective ability It is to stably provide a back surface protection sheet that constitutes a solar cell module that is superior in terms of cost and safety at a lower cost, and a solar cell module using the same.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
As a result of various studies to solve the above-described problems with respect to the back surface protection sheet layer constituting the solar cell module, the present inventor first formed silicon oxide on one side of the base film, or A transparent film made of glassy material such as aluminum oxide, and provided with a vapor deposition film of an inorganic oxide excellent in water vapor barrier property, oxygen barrier property, etc. A heat-resistant polypropylene resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is laminated on both sides to produce a back surface protection sheet for a solar cell module, and thus for the solar cell module. Using a back surface protection sheet, for example, a normal surface protection sheet for a solar cell module made of a glass plate, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and Back for the above solar cell module Protective sheets are sequentially laminated with one of the polypropylene resin films facing each other, and then a solar cell module is utilized using a lamination method or the like in which these are vacuum-sucked together and thermocompression bonded. -When manufactured, the strength is excellent, and further, the weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, yield resistance, chemical resistance, antifouling properties, etc. are excellent. It has excellent moisture resistance to prevent intrusion of moisture, oxygen, etc., and also significantly improves light reflectivity, light diffusibility, design, etc., minimizes long-term performance deterioration, and is extremely durable. The present invention has been completed by finding that a solar cell module excellent in protective capability and safe at a lower cost can be stably produced.
[0005]
That is, the present invention provides an inorganic oxide vapor-deposited film on one side of the base film, and further, a whitening agent and an ultraviolet absorber on both sides of the base film provided with the inorganic oxide vapor-deposited film. The present invention relates to a back surface protection sheet for a solar cell module, and a solar cell module using the same.
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
In the present invention, the sheet means any of a sheet-like material or a film-like material, and the film means a film-like material or a sheet-like material. In either case, it means.
The layer structure of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the solar cell module using the same will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1, FIG. 2 and FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating a few examples of the layer structure of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and FIGS. 4 and 5 show the solar cell module according to the present invention. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating another example of the layer configuration of the inorganic oxide vapor deposition film constituting the back surface protection sheet for a solar cell, and FIG. 6 is a solar cell module according to the present invention shown in FIG. It is a schematic sectional drawing which illustrates the example about the layer structure of the solar cell module manufactured using the back surface protection sheet for water.
[0007]
First, as shown in FIG. 1, a solar cell module back surface protection sheet A according to the present invention is provided with an inorganic oxide vapor-deposited film 2 on one side of a base film 1, and further, the above-mentioned inorganic The basic structure consists of a laminate of heat-resistant polypropylene-based resin films 3 and 3 containing a whitening agent and an ultraviolet absorber on both surfaces of a base film 1 provided with an oxide deposition film 2 It is.
When a specific example is illustrated about the back surface protection sheet for solar cell modules concerning this invention, as shown in FIG. 2, the vapor deposition film | membrane 2 of the inorganic oxide is provided in the single side | surface of the base film 1, and also the said A heat-resistant polypropylene-based resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber on both surfaces of a base film 1 provided with a vapor-deposited film 2 of inorganic oxide via laminating adhesive layers 4 and 4 Back surface protection sheet A for solar cell module having a structure in which layers 3 and 3 are laminated by dry lamination 1 Can be illustrated.
Or in this invention, as shown in FIG. 3, the base film 1 which provided the vapor deposition film 2 of the inorganic oxide in one side of the base film 1, and also provided the vapor deposition film 2 of said inorganic oxide further. A heat-resistant polypropylene-based resin composition containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is extruded and laminated on both sides of the substrate through adhesion aid layers 5 and 5 such as an anchor coating agent. And a heat-resistant polypropylene-based resin film 3 and 3 containing a UV absorber and a back surface protection sheet A for a solar cell module, which is formed by extrusion lamination. 2 Can be illustrated.
The above examples illustrate a few examples of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and the present invention is of course not limited thereto.
[0008]
For example, in the back surface protection sheet for a solar cell module shown in FIGS. 1 to 3, the vapor deposition film of the inorganic oxide may be a physical vapor deposition method to be described later, as shown in FIGS. Two or more layers of the inorganic oxide vapor-deposited films 2 and 2 were stacked, such as two or more layers of the inorganic oxide vapor-deposited films by chemical vapor deposition or two or more layers of the inorganic oxide vapor-deposited films by chemical vapor deposition. The multilayer film 2a (FIG. 4), or an inorganic oxide vapor deposition film of an inorganic oxide vapor deposition film 2b by a physical vapor deposition method to be described later, and an inorganic oxide vapor deposition film 2c by a chemical vapor deposition method. It can be composed of a composite film 2d (FIG. 5) or the like in which two or more layers 2b and 2c are stacked.
In the present invention, for example, although not shown, a back surface protection sheet for a solar cell module can be manufactured by combining the lamination by the dry lamination and the lamination by the extrusion lamination. Is.
[0009]
Next, in the present invention, an example of the solar cell module manufactured using the above-described back surface protection sheet for solar cell module according to the present invention is illustrated as an example of the present invention shown in FIG. The example using the solar cell module back surface protection sheet A according to the present invention will be described. First, as shown in FIG. 6, a normal solar cell module surface protection sheet 11 and a filler layer 12 are used. The solar cell element 13 as a photovoltaic element, the filler layer 14, and the back surface protection sheet 15 (A) for the solar cell module are opposed to the surface of one polypropylene resin film 3. Then, the solar cell module T is formed by using the above-mentioned layers as an integrated molded body by using a normal molding method such as a lamination method in which these are integrally laminated and vacuum suctioned and heat-pressed together. Can be manufactured
The above illustration is an example of the solar cell module manufactured by using the back surface protection sheet for solar cell module according to the present invention, and the present invention is limited thereby. is not.
For example, although not shown, solar cell modules having various forms are manufactured in the same manner as described above using the solar cell module back surface protection sheet shown in FIGS. In addition, the above solar cell module can be laminated by arbitrarily adding other layers for the purpose of absorbing sunlight, reinforcing, etc. is there.
[0010]
Next, in the present invention, the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the materials, manufacturing methods and the like constituting the solar cell module using the same will be described in more detail. As a base film constituting a back surface protection sheet for solar cell modules, solar cell modules, etc., basically, vapor deposition conditions for forming a vapor deposition film of an inorganic oxide, etc. In addition, it is excellent in tight adhesion with such inorganic oxide vapor-deposited films, etc., can be maintained well without impairing the characteristics of those films, and has excellent strength and weather resistance. Excellent in various fastnesses such as water resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, yield resistance, chemical resistance, etc., especially in moisture resistance to prevent intrusion of moisture, oxygen, etc., and surface hardness High and prevents accumulation of dirt and dust on the surface That anti excellent stain resistance, very rich in durability, film or sheet of various resins having characteristics such that its high protection capability of - can be used and.
Specifically, examples of the above-described various resin films or sheets include polyethylene resins, polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins), and acrylonitrile. -Butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, fluorine resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc. Polyester resins, polyamide resins such as various nylons, polyimide resins, polyamideimide resins, polyaryl phthalate resins, silicone resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyethersulfone resins Resin, polyurethane resin, aceta Le resins, cellulose - scan resin, film or sheet of various resins other like - can be used and.
In the present invention, among the above-described resin films or sheets, fluorine-based resin, cyclic polyolefin-based resin, polycarbonate-based resin, poly (meth) acrylic resin, polyamide-based resin, or polyester-based resin It is preferable to use a resin film or sheet.
[0011]
Further, in the present invention, among the various resin films or sheets as described above, in particular, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE), co-polymerization of tetrafluoroethylene and perfluoroalkyl vinyl ether. Perfluoroalkoxy resin (PFA) composed of coalescence, tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene and perfluoroalkyl vinyl ether and hexafluoropropylene copolymer (EPE), tetrafluoroethylene and ethylene or propylene Copolymer (ETFE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCTFE), copolymer of ethylene and chlorotrifluoroethylene (ECTFE), vinylidene fluoride resin (PVDF), or fluorine Film or sheet of one or a fluorine-based resin comprising more fluorine-based resin such as vinyl resin (PVF) - those it is preferable to use the door.
In the present invention, among the above fluororesin films or sheets, in particular, it is made of polyvinyl fluoride resin (PVF), or a copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ETFE). A fluororesin film or sheet is particularly preferred from the standpoint of strength and the like.
[0012]
Further, in the present invention, among the various resin films or sheets as described above, in particular, for example, cyclopentadiene and derivatives thereof, dicyclopentadiene and derivatives thereof, cyclohexadiene and derivatives thereof, norbornadiene and derivatives thereof. Polymers obtained by polymerizing cyclic dienes such as derivatives and others, or one or more of the cyclic dienes and olefinic monomers such as ethylene, propylene, 4-methyl-1-pentene, styrene, butadiene, isoprene, etc. It is preferable to use a film or sheet of a cyclic polyolefin resin composed of a copolymer or the like obtained by copolymerization with more than that.
In the present invention, among the above cyclic polyolefin resin films or sheets, in particular, polymers of cyclic dienes such as cyclopentadiene and derivatives thereof, dicyclopentadiene and derivatives thereof, or norbornadiene and derivatives thereof, and the like. A film or sheet of a cyclic polyolefin resin made of a copolymer is preferable from the viewpoint of strength and the like.
Therefore, in the present invention, by using a film or sheet made of the above-mentioned fluororesin or cyclic polyolefin resin, the mechanical properties and chemical properties of the fluororesin or cyclic polyolefin resin can be obtained. Using various characteristics such as weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, moisture resistance, stain resistance, chemical resistance, etc. It is a back surface protection sheet that constitutes a solar cell. It has durability, protective functionality, etc., and is light and flexible due to its flexibility, mechanical properties, chemical properties, etc. It has advantages such as excellent properties and easy handling.
[0013]
In the present invention, as the above-mentioned various resin films or sheets, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, an inflation method are used. -A method of forming the above-mentioned various resins independently using a film-forming method such as an ionization method or the like, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more types of various resins In addition, by using two or more kinds of resins, a film or sheet of various resins is manufactured by a method of mixing and forming before forming a film, and if necessary, for example, Various resin films or sheets formed by stretching in a uniaxial or biaxial direction using a tenter system, a tubular system, or the like can be used.
In the present invention, the film thickness of various resin films or sheets is preferably about 12 to 300 μm, more preferably about 20 to 200 μm.
[0014]
In the above, one or more of the above-mentioned various resins are used, and when forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, etc. Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying slipperiness, releasability, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, etc. Can be arbitrarily added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose.
Moreover, in the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing fiber, a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, and a flame retardant Further, a foaming agent, an antifungal agent, a pigment, and the like can be used, and a modifying resin can also be used.
In the present invention, among the above-mentioned additives, it is particularly preferable to use various resin films or sheets obtained by kneading and processing an ultraviolet absorber or an antioxidant.
As the above UV absorber, harmful UV rays in sunlight are absorbed and converted into innocuous heat energy within the molecule, preventing activation of active species that initiate photodegradation in the polymer. For example, benzophenone, benzotriazole, saltylate, acrylonitrile, metal complex, hindered amine, ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm) or One or more inorganic ultraviolet absorbers such as ultrafine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm) can be used.
In addition, as the above-mentioned antioxidant, it is intended to prevent photodegradation or thermal degradation of the polymer. For example, phenol-based, amine-based, sulfur-based, phosphoric acid-based and other antioxidants are used. can do.
Further, as the above-mentioned ultraviolet absorber or antioxidant, for example, the above-mentioned ultraviolet absorber such as benzophenone or the above-mentioned antioxidant such as phenol is added to the main chain or side chain constituting the polymer. Polymer-type ultraviolet absorbers or antioxidants that are chemically bonded can also be used.
The content of the ultraviolet absorber and / or antioxidant varies depending on the particle shape, density, etc., but is preferably about 0.1 to 10% by weight.
[0015]
In addition, in the present invention, the surface of various resin films or sheets may have a desired surface treatment layer in advance, if necessary, in order to improve close adhesion with an inorganic oxide vapor deposition film or the like. Can be provided.
In the present invention, as the surface treatment layer, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc., For example, a corona treatment layer, an ozone treatment layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer, or the like can be formed and provided by optionally performing other pretreatments.
The surface pretreatment may be performed in a separate step. For example, in the case of surface pretreatment such as low-temperature plasma treatment or glow discharge treatment, before forming the inorganic oxide vapor deposition film or the like. The processing can be performed by pre-processing by in-line processing, and in such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced.
The above surface pretreatment is carried out as a method for improving the tight adhesion between various resin films or sheets and inorganic oxide deposited films, etc. In addition, for example, on the surface of various resin films or sheets, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, an anchor coat agent layer, an adhesive layer in advance. Alternatively, a surface treatment layer can be formed by arbitrarily forming a deposition anchor coating agent layer or the like.
Examples of the pretreatment coating agent layer include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, A resin composition comprising a polyolefin resin such as polyethylene aly polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like as a main component of the vehicle can be used.
[0016]
The above resin composition includes an epoxy silane coupling agent or an additive such as an antiblocking agent or the like to prevent blocking of the base film in order to improve tight adhesion. Can be optionally added.
The addition amount is preferably about 0.1 wt% to 10 wt%.
Moreover, in this invention, in order to improve light resistance etc., an ultraviolet absorber and / or antioxidant can be added in said resin composition, for example. As the above-mentioned ultraviolet absorber, the harmful ultraviolet rays in the above-mentioned sunlight are absorbed and converted into innocuous heat energy in the molecule, and the active species that initiate photodegradation in the polymer is excited. For example, benzophenone, benzotriazole, saltylate, acrylonitrile, metal complex, hindered amine, ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm) 1 type or more of inorganic type ultraviolet absorbers such as ultrafine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm).
Further, the above-mentioned antioxidant is to prevent photodegradation or thermal degradation of the above-mentioned polymer, and examples thereof include phenol-based, amine-based, sulfur-based, phosphoric acid-based and other antioxidants. Can be used.
Further, as the above-mentioned ultraviolet absorber or antioxidant, for example, the above-mentioned ultraviolet absorber such as benzophenone or the above-mentioned antioxidant such as phenol is added to the main chain or side chain constituting the polymer. Polymer-type ultraviolet absorbers or antioxidants that are chemically bonded can also be used.
The content of the ultraviolet absorber and / or antioxidant varies depending on the particle shape, density, etc., but is preferably about 0.1 to 10% by weight.
In the above, the coating agent layer can be formed by using, for example, a solvent type, aqueous type, or emulsion type coating agent, a roll coating method, a gravure roll coating, etc. The coating can be performed by using a coating method such as a method, a kiss coating method, or the like, and the coating time can be determined after film formation of a fluororesin sheet or biaxial stretching treatment. It can be carried out as a subsequent post-process, film formation, in-line processing of biaxial stretching processing, or the like.
[0017]
Furthermore, in the present invention, the base film is protected on one surface of the base film with respect to the vapor deposition conditions when the inorganic oxide vapor-deposited film is formed. Further, deterioration or shrinkage, or cohesive failure in the surface layer or inner layer of the film is suppressed, and a vapor-deposited film of an inorganic oxide is satisfactorily formed on one surface of the substrate film, and the substrate In order to improve the close adhesion between the film and the vapor-deposited film of the inorganic oxide, as a surface pretreatment layer on one surface of the base film in advance, for example, plasma chemical vapor deposition method, thermal chemistry described later Chemical vapor deposition methods (Chemical Vapor Deposition method, CVD method) such as vapor deposition method, photochemical vapor deposition method, or physical vapor phase such as, for example, vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, etc. With the aid of a long process (Physical Vapor Deposition method, PVD method), by forming a deposition film of an inorganic oxide, it may be provided with a steam-resistant adhesive protective film.
In the present invention, the film thickness of the above-mentioned deposition resistant protective film made of silicon oxide or the like is a thin film, and further, a non-barrier film having no barrier property against water vapor gas, oxygen gas, etc. is sufficient. Specifically, the film thickness is desirably less than 150 mm, and specifically, the film thickness is about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 80 mm, and more preferably about 30 to 60 mm. desirable.
Thus, in the above, if it is more than 150 mm, specifically, 100 mm, 80 mm, and more than 60 mm, it is not preferable because it becomes difficult to form a good deposition resistant protective film. Further, if the thickness is less than 30 mm and further less than 60 mm, the function as the vapor deposition resistant protective layer is lost, and it is difficult to achieve the effect, which is not preferable.
[0018]
Next, in the present invention, a description will be given of a vapor deposition film of an inorganic oxide constituting the back surface protection sheet for a solar cell module, a solar cell module, etc. according to the present invention. Is, for example, a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method, or a combination of both, and a single-layer film consisting of one layer of an inorganic oxide vapor-deposited film or a multilayer film consisting of two or more layers, or It can be manufactured by forming a composite membrane.
The inorganic oxide vapor-deposited film by the physical vapor deposition method will be described in more detail. Examples of the inorganic oxide vapor-deposited film by the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, A vapor deposition film of an inorganic oxide can be formed using a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as an ion cluster beam method.
In the present invention, specifically, a metal oxide is used as a raw material, and this is heated and vapor-deposited on a base film, or a metal or metal oxide is used as a raw material, and oxygen is added. The vapor deposition film can be formed using an oxidation reaction vapor deposition method in which it is introduced and oxidized to deposit on the base film, and further a plasma-assisted oxidation reaction vapor deposition method in which the oxidation reaction is supported by plasma.
In the above, as a heating method of the vapor deposition material, for example, a resistance heating method, a high frequency induction heating method, an electron beam heating method (EB), or the like can be used.
[0019]
In the present invention, specific examples of the method for forming a vapor-deposited film of an inorganic oxide by physical vapor deposition will be described. FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an example of a winding type vacuum vapor deposition apparatus.
As shown in FIG. 7, the base film 1 fed out from the unwinding roll 23 in the vacuum chamber 22 of the wind-up type vacuum deposition apparatus 21 is cooled through the guide rolls 24 and 25. -Guided to the dating drum 26;
Thus, the evaporation source 28 heated by the crucible 27, for example, metal aluminum or aluminum oxide is evaporated on the base film 1 guided on the cooled coating drum 26, Further, if necessary, an oxygen gas or the like is ejected from the oxygen gas outlet 29 and a vapor deposition film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed through the masks 30 and 30 while supplying the oxygen gas. Next, in the above, for example, the base film 1 on which an inorganic oxide vapor deposition film such as aluminum oxide is formed is sent out through the guide rolls 25 ′ and 24 ′ and wound up on the take-up roll 31. A vapor-deposited film of an inorganic oxide can be formed by physical vapor deposition according to the present invention.
In the present invention, the first-layer inorganic oxide vapor deposition film is first formed using the above-described take-up vacuum vapor deposition apparatus, and then the inorganic oxide vapor deposition film is formed in the same manner. Further, an inorganic oxide vapor deposition film is formed on the substrate, or by using the above-described take-up vacuum vapor deposition apparatus, these are connected in series, and the inorganic oxide vapor deposition is continuously performed. By forming the film, it is possible to form a vapor-deposited film of inorganic oxide composed of two or more multilayer films.
[0020]
In the above, as a vapor deposition film of an inorganic oxide, any thin film in which a metal oxide is vapor deposited can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg), calcium ( Deposition of metal oxides such as Ca), potassium (K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), yttrium (Y) A membrane can be used.
Thus, preferable examples include vapor-deposited films of metal oxides such as silicon (Si) and aluminum (Al).
Thus, the above metal oxide vapor deposition film can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, etc. X AlO X , MgO X MO etc. X (In the formula, M represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element.)
Moreover, as a range of said X value, silicon (Si) is 0-2, aluminum (Al) is 0-1.5, magnesium (Mg) is 0-1, calcium (Ca) is 0 to 1, potassium (K) is 0 to 0.5, tin (Sn) is 0 to 2, sodium (Na) is 0 to 0.5, boron (B) is 0 to 1, 5, Titanium (Ti) can take values in the range of 0 to 2, lead (Pb) in the range of 0 to 1, zirconium (Zr) in the range of 0 to 2, and yttrium (Y) in the range of 0 to 1.5.
In the above, when X = 0, it is a complete metal and is not transparent and cannot be used at all. The upper limit of the range of X is a completely oxidized value.
In the present invention, generally, examples other than silicon (Si) and aluminum (Al) are scarce, silicon (Si) is 1.0 to 2.0, and aluminum (Al) is 0.5. A value in the range of -1.5 can be used.
In the present invention, the film thickness of the inorganic oxide vapor-deposited film as described above varies depending on the type of metal or metal oxide used, but is, for example, about 50 to 4000 mm, preferably about 100 to 1000 mm. It is desirable to select and form arbitrarily within the range.
Further, in the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited film is a metal to be used, or the metal oxide is one or a mixture of two or more, and mixed with different materials. A vapor deposition film can also be comprised.
[0021]
Next, in the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited film by the chemical vapor deposition method will be further described. As the inorganic oxide vapor-deposited film by the chemical vapor deposition method, for example, plasma chemical vapor deposition is possible. A vapor deposition film of an inorganic oxide can be formed using a chemical vapor deposition method (CVD method) such as a chemical vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, or a photochemical vapor deposition method.
In the present invention, specifically, a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound is used as a raw material on one surface of a base film, and an inert gas such as argon gas or helium gas is used as a carrier gas. Furthermore, it is possible to form a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide by using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using an oxygen gas or the like as an oxygen supply gas and using a low temperature plasma generator or the like. .
In the above, for example, high-frequency plasma, pulse wave plasma, microwave plasma, or the like can be used as the low-temperature plasma generator. Thus, in the present invention, highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a high-frequency plasma generator.
[0022]
Specifically, an example of the formation method of the vapor-deposited film of the inorganic oxide by the low-temperature plasma chemical vapor deposition method will be described as an example. FIG. It is a schematic block diagram of the low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus which shows the outline | summary about the formation method of a vapor deposition film.
As shown in FIG. 8 above, in the present invention, the substrate film 1 is unwound from the unwinding roll 43 disposed in the vacuum chamber 42 of the plasma chemical vapor deposition apparatus 41, and further the substrate The film 1 is conveyed onto the circumferential surface of the cooling / electrode drum 45 at a predetermined speed via the auxiliary roll 44.
Thus, in the present invention, oxygen gas, inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 46 and 47 and the raw material volatilization supply device 48, and the like. The vapor deposition mixed gas composition was introduced into the vacuum chamber 42 through the raw material supply nozzle 49 without adjusting the vapor deposition mixed gas composition, and was conveyed onto the cooling / electrode drum 45 peripheral surface. Plasma is generated by the glow discharge plasma 50 on the base film 1 and irradiated to form a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide to form a film.
In the present invention, at that time, the cooling / electrode drum 45 is applied with a predetermined power from a power source 51 disposed outside the chamber, and a magnet 52 is provided in the vicinity of the cooling / electrode drum 45. Then, the generation of plasma is promoted, and then the base film 1 on which the deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide is formed as described above is wound on the winding roll 54 via the auxiliary roll 53. It is possible to manufacture a vapor-deposited film of an inorganic oxide by plasma chemical vapor deposition according to the present invention.
In the figure, 55 represents a vacuum pump.
The above exemplification is an example, and it is needless to say that the present invention is not limited thereby.
Although not shown, in the present invention, the inorganic oxide vapor deposition film may be not only one layer of the inorganic oxide vapor deposition film but also a multilayer film in which two or more layers are laminated, and is used. The material may be used alone or as a mixture of two or more, and an inorganic oxide vapor deposition film mixed with different materials may be formed.
In the present invention, the first layer of an inorganic oxide vapor deposition film is first formed using the low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus as described above, and then the inorganic oxide vapor deposition is performed in the same manner. An inorganic oxide vapor-deposited film is further formed on the film, or these are connected in series by using the low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus as described above. By forming this vapor deposition film, an inorganic oxide vapor deposition film composed of two or more multilayer films can be formed.
[0023]
In the above, the monomer gas for vapor deposition of an organic silicon compound or the like that forms a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide includes, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyl Trimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane , Methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used.
In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, it is possible to use 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material. In view of the above characteristics and the like, it is a particularly preferable raw material.
Moreover, in the above, as an inert gas, argon gas, helium gas, etc. can be used, for example.
[0024]
In the present invention, the vapor deposition film of silicon oxide formed as described above causes a chemical reaction between a monomer gas such as an organosilicon compound and oxygen gas, and the reaction product adheres tightly on the base film, resulting in a dense It is possible to form a thin film rich in flexibility, etc. X (Where X represents a number from 0 to 2), and is a continuous vapor deposition film mainly composed of silicon oxide.
Thus, the silicon oxide vapor-deposited film has a general formula SiO in terms of transparency and barrier properties. X (However, X represents the number of 1.3-1.9.) It is preferable that it is a thin film which mainly has the vapor deposition film | membrane of the silicon oxide represented.
In the above, the value of X varies depending on the molar ratio of the monomer gas and oxygen gas, the plasma energy, etc. In general, the gas permeability decreases as the value of X decreases, but the film itself Yellowish and less transparent.
The silicon oxide vapor-deposited film has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and one of carbon (C) and hydrogen (H), or an element of both of them. And a film thickness of about 50 to 4000 mm, preferably 100 to 1000 mm. Further, the essential constituent elements and trace constituent elements are The composition ratio is continuously changing in the film thickness direction.
Furthermore, when the silicon oxide vapor-deposited film contains a compound composed of carbon, the carbon content is reduced in the depth direction of the film thickness.
Thus, in the present invention, the above silicon oxide vapor deposition film is subjected to surface analysis such as an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron Spectroscopy, XPS), a secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spectroscopy, SIMS), etc. The physical properties as described above can be confirmed by conducting an elemental analysis of the deposited film of silicon oxide using a method of analyzing by ion etching in the depth direction using an apparatus.
In the present invention, the film thickness of the above-described silicon oxide vapor deposition film is preferably about 50 to 4000 mm, and specifically, the film thickness is preferably about 100 to 1000 mm. In the above, if it is thicker than 1000 mm, and more preferably 4000 mm, cracks and the like are likely to occur in the film, and it is not preferable. Is not preferable because it becomes difficult.
In the above, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name, RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation.
In the above, as means for changing the film thickness of the silicon oxide vapor deposition film, the volume velocity of the vapor deposition film is increased, that is, the method of increasing the amount of monomer gas and oxygen gas and the vapor deposition rate. This can be done by a method of slowing down.
[0025]
By the way, in this invention, as a vapor deposition film | membrane of the inorganic oxide which comprises the back surface protection sheet for solar cell modules concerning this invention, a solar cell module, etc., for example, a physical vapor deposition method and a chemical vapor phase A composite film composed of two or more vapor-deposited films of different inorganic oxides can be formed and used in combination with both growth methods.
Thus, as a composite film composed of two or more layers of the above-mentioned different types of inorganic oxide vapor-deposited films, first, on the base film, it is dense and flexible by chemical vapor deposition. An inorganic oxide vapor deposition film capable of preventing the occurrence of cracks is provided, and then an inorganic oxide vapor deposition film formed by physical vapor deposition is provided on the inorganic oxide vapor deposition film to form two or more layers. It is desirable to constitute an inorganic oxide vapor-deposited film made of a composite film made of
Of course, in the present invention, contrary to the above, an inorganic oxide vapor-deposited film is first provided on the base film by physical vapor deposition, and then dense by chemical vapor deposition. It is also possible to provide an inorganic oxide vapor deposition film composed of a composite film composed of two or more layers by providing an inorganic oxide vapor deposition film that is highly flexible and can relatively prevent the occurrence of cracks. is there.
[0026]
Next, in the present invention, a heat-resistant polypropylene-based resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber constituting the back surface protection sheet for a solar cell module and the solar cell module according to the present invention. To explain, such a polypropylene resin film is mainly composed of a polypropylene resin, and one or more of a whitening agent and an ultraviolet absorber as a light reflecting agent or a light diffusing agent are added thereto. Furthermore, if necessary, a plasticizer, a light stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, a crosslinking agent, a curing agent, a filler, a lubricant, a reinforcing agent, a reinforcing agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, and an antifungal agent. 1 to 2 or more kinds of additives such as coloring agents, pigments and dyes, and other additives are optionally added, and if necessary, a solvent, a diluent and the like are added, and kneaded thoroughly to obtain a polypropylene type Prepare resin composition To.
Thus, in the present invention, the polypropylene resin composition prepared above is used, for example, using an extruder, a T-die extruder, a cast molding machine, an inflation molding machine, etc. A film or sheet of polypropylene resin is produced by a film forming method such as a die method, a cast molding method, an inflation method, or the like, and if necessary, for example, a tenter method or a tuber -A heat-resistant polypropylene-based resin film obtained by stretching a monoaxial or biaxial direction using a method or the like and kneading a whitening agent and an ultraviolet absorber.
[0027]
Alternatively, in the present invention, the heat-resistant polypropylene-based resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is first composed of a normal paint or ink vehicle as a main component, and a light reflector or light Add one or more of whitening agents and UV absorbers as diffusing agents, and if necessary, plasticizer, light stabilizer, antioxidant, antistatic agent, crosslinking agent, curing agent, filling 1 or 2 types of additives such as additives, lubricants, reinforcing agents, reinforcing agents, flame retardants, flame retardants, foaming agents, antifungal agents, colorants such as pigments and dyes, etc. are optionally added, and If necessary, a solvent, a diluent or the like is added and sufficiently kneaded to prepare a paint or ink composition.
Thus, in the present invention, the coating or ink composition prepared above is used, and this is applied to the surface of a transparent heat-resistant polypropylene resin film by an ordinary coating method or printing method. It is used to produce a heat-resistant polypropylene-based resin film having a coating film or a printing film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber on its surface. is there.
In the above, the ultraviolet absorber is not necessarily added to the paint or ink composition if it has been kneaded into a transparent heat-resistant polypropylene resin film in advance. Is.
[0028]
Next, in the present invention, a heat-resistant polypropylene resin film obtained by kneading the whitening agent and the ultraviolet absorber produced above, or a coating containing the whitening agent and the ultraviolet absorber on the surface thereof A heat-resistant polypropylene resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber made of a heat-resistant polypropylene resin film having a film or a printed film is used, and this is applied to the above-mentioned inorganic oxide vapor deposition film. The back surface protection sheet for the solar cell module according to the present invention is manufactured by laminating by laminating on both surfaces of the provided base film through, for example, a laminating adhesive layer. Is something that can be done.
Alternatively, in the present invention, the polypropylene resin composition prepared for producing a heat-resistant polypropylene resin film obtained by kneading a whitening agent and an ultraviolet absorber as described above is used and extruded. A whitening agent is formed on both sides of the base film provided with the above-described inorganic oxide vapor-deposited film, for example, via an adhesion aid layer such as an anchor coating agent. The back surface protection sheet for solar cell modules according to the present invention can be manufactured by melt-extrusion and lamination of a heat-resistant polypropylene-based resin film containing an ultraviolet absorber.
In the above, the thickness of the heat-resistant polypropylene-based resin film containing the whitening agent and the ultraviolet absorber is desirably about 10 μm to 300 μm, preferably about 15 μm to 150 μm.
[0029]
In the above, the polypropylene resin may be a homopolymer of propylene, which is a by-product generated when ethylene is produced by thermal decomposition of petroleum hydrocarbons, or other monomer such as propylene and α-olefin. Copolymers with-can be used.
Thus, in the present invention, as the polypropylene-based resin, specifically, when a cationic polymerization catalyst or the like is used when polymerizing propylene, a low molecular weight polymer is obtained. When a Ziegler-Natta catalyst is used, an isotactic polymer having a high molecular weight and high crystallinity can be obtained, and this isotactic polymer is used.
In the isotactic polymer, the melting point is about 164 ° C. to 170 ° C., the specific gravity is about 0.90 to 0.91, the molecular weight is about 100,000 to 200,000, Properties are largely controlled by crystallinity, but high isotactic polymers are excellent in tensile strength and impact strength, have good heat resistance and bending fatigue strength, and have very good workability. It is.
In the present invention, as a heat-resistant polypropylene resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber, when laminating with a dry laminate, the surface is preliminarily subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, Alternatively, surface modification pretreatment such as plasma discharge treatment can be optionally performed.
In addition, in the present invention, in addition to the above-mentioned polypropylene resin, if necessary, for example, a resin having compatibility with polypropylene resin such as polyethylene resin and others may be arbitrarily added and modified. It is something that can be done.
[0030]
In the above, the whitening agent is added for the purpose of imparting light reflectivity, light diffusibility, etc. in order to reuse the sunlight transmitted through the solar cell module by reflecting or diffusing it. White pigments such as basic lead carbonate, basic lead sulfate, basic lead silicate, zinc white, zinc sulfide, lithopone, antimony trioxide, anatase-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, etc. 1 type (s) or 2 or more types can be used.
As for the amount used, it is desirable to add about 0.1 wt% to 30 wt%, preferably about 0.5 wt% to 10 wt%, in the polypropylene resin composition.
[0031]
Furthermore, in the above, as the ultraviolet absorber, the harmful ultraviolet rays in the above-mentioned sunlight are absorbed and converted into innocuous heat energy in the molecule, and the active species that initiates photodegradation in the polymer is excited. For example, benzophenone, benzotriazole, saltylate, acrylonitrile, metal complex, hindered amine, ultrafine titanium oxide (particle size, 0.01 to 0.06 μm) or one or more inorganic ultraviolet absorbers such as ultrafine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm) can be used.
As for the amount used, it is desirable to add about 0.1 wt% to 10 wt%, preferably about 0.3 wt% to 10 wt%, in the polypropylene resin composition.
[0032]
Next, in the dry lamination method described above, as an adhesive constituting the adhesive layer for laminating, for example, polyvinyl acetate adhesive, ethyl acrylate, butyl, 2-ethylhexyl ester, etc. Homopolymers or polyacrylic acid ester adhesives composed of copolymers of these with methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc., cyanoacrylate adhesives, ethylene and vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, From ethylene copolymer adhesives such as copolymers with monomers such as methacrylic acid, cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimide adhesives, urea resins or melamine resins Amino resin adhesive, phenol resin adhesive, epoxy adhesive, polyurethane adhesive Agent, reactive (meth) acrylic adhesive, chloroprene rubber, nitrile rubber, rubber adhesive made of styrene-butadiene rubber, silicone adhesive, alkali metal silicate, inorganic made of low melting point glass, etc. Adhesives such as system adhesives and others can be used.
The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the properties thereof are film / sheet type, powder type, solid type, etc. Any form may be used, and the adhesion mechanism may be any form such as a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a hot pressure type.
Thus, the above adhesive can be applied by, for example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, a coating method or the like, or a printing method. The coating amount is 0.1 to 10 g / m. 2 (Dry state) is desirable.
[0033]
In addition, in order to prevent ultraviolet-ray deterioration etc. in the said adhesive agent, the above-mentioned ultraviolet absorber and / or antioxidant can be added.
As the above-mentioned ultraviolet absorber, the harmful ultraviolet rays in the above-mentioned sunlight are absorbed and converted into innocuous heat energy in the molecule, and the active species that initiate photodegradation in the polymer is excited. For example, benzophenone, benzotriazole, saltylate, acrylonitrile, metal complex, hindered amine, ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm) 1 type or more of inorganic type ultraviolet absorbers such as ultrafine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm).
Further, the above-mentioned antioxidant is to prevent photodegradation or thermal degradation of the above-mentioned polymer, and examples thereof include phenol-based, amine-based, sulfur-based, phosphoric acid-based and other antioxidants. Can be used.
Further, as the above-mentioned ultraviolet absorber or antioxidant, for example, the above-mentioned ultraviolet absorber such as benzophenone or the above-mentioned antioxidant such as phenol is added to the main chain or side chain constituting the polymer. Polymer-type ultraviolet absorbers or antioxidants that are chemically bonded can also be used.
The content of the ultraviolet absorber and / or antioxidant varies depending on the particle shape, density, etc., but is preferably about 0.1 to 10% by weight.
[0034]
Further, in the above melt extrusion lamination method, in order to obtain stronger adhesive strength, for example, an adhesion assistant such as an anchor coat agent is used, and through the anchor coat agent layer, Can be stacked.
Examples of the anchor coating agent include various aqueous or oil-based anchor coating agents such as organic titanium-based, isocyanate-based, polyethyleneimine-based, polyptadiene-based, etc. such as alkyl titanate. Can be used.
The above-mentioned anchor coating agent can be coated using a coating method such as a roll coat, a gravure roll coat, a kiss coat, and the like. As an amount, 0.1 to 5 g / m 2 (Dry state) is desirable.
[0035]
In the present invention, in order to improve the tight adhesion between the base film provided with the inorganic oxide vapor deposition film, the heat-resistant polypropylene-based resin film containing the whitening agent and the ultraviolet absorber, For example, a primer coat agent layer or the like can be arbitrarily formed in advance to form a surface treatment layer.
Examples of the primer coating agent include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, polyethylene alcohols. It is possible to use a resin composition containing a polyolefin-based resin such as Iha polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose-based resin, or the like as a main component of the vehicle. In the present invention, for example, a primer coating layer is formed by coating using a coating method such as roll coating, gravure rolling coating, kiss coating, etc. Therefore, the coating amount is 0.1 to 5 g / m. 2 (Dry state) is desirable.
[0036]
Next, in the present invention, a description will be given of a normal surface protection sheet for a solar cell module constituting the solar cell module. Examples of such a surface protection sheet include sunlight permeability and insulation properties. In addition, it has various properties such as weather resistance, heat resistance, light resistance, water resistance, wind pressure resistance, rain resistance, chemical resistance, moisture resistance, antifouling properties, etc., physical or chemical Excellent strength, toughness, etc., extremely durable, and because it protects solar cell elements as photovoltaic elements, it must have excellent scratch resistance, shock absorption, etc. .
Specific examples of the surface protective sheet include not only known glass plates, but also, for example, fluorine resins, polyamide resins (various nylons), polyester resins, and polyethylene resins. Various resin films such as resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, acetal resin, cellulose resin, etc. Or a sheet can be used.
As the resin film or sheet, for example, a biaxially stretched resin film or sheet may be used.
Further, in the above-described resin film or sheet, the film thickness is preferably about 12 to 200 μm, more preferably about 25 to 150 μm.
[0037]
Next, in the present invention, the filler layer laminated under the surface protection sheet for the solar cell module constituting the solar cell module will be described. As such a filler layer, sunlight is incident. In order to transmit and absorb this, it is necessary to have transparency, and also to have adhesiveness with the surface protection sheet, and further, a solar cell element as a photovoltaic element It has thermoplasticity to fulfill the function of maintaining the smoothness of its surface, and also has excellent scratch resistance, shock absorption, etc. because it protects solar cell elements as photovoltaic elements. It is necessary.
Specifically, as the filler layer, for example, fluorine-based resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, Polyolefin resins such as polyethylene or polypropylene modified with unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc., acid-modified polyolene fin resins, polyvinyl butyral resins, silicone resins A resin, epoxy resin, (meth) acrylic resin, and other resins can be used as a mixture of one or more.
In the present invention, the resin constituting the filler layer is, for example, crosslinked within a range that does not impair its transparency in order to improve weather resistance such as heat resistance, light resistance, and water resistance. Additives such as additives, thermal antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, photo-antioxidants, etc. can be arbitrarily added and mixed.
Thus, in the present invention, as the filler on the sunlight incident side, in consideration of weather resistance such as light resistance, heat resistance, water resistance, etc., fluorine resin, silicon resin, ethylene-vinyl acetate System resin is a desirable material.
In addition, as thickness of said filler layer, about 200-1000 micrometers, Preferably, about 350-600 micrometers is desirable.
[0038]
Next, in the present invention, a solar cell element as a photovoltaic element constituting the solar cell module will be described. As such a solar cell element, a conventionally known one, for example, a single crystal silicon type solar cell element, Crystal silicon solar electronic devices such as polycrystalline silicon solar cell devices, amorphous silicon solar cell devices of single junction type or tandem structure type, III-V group compound semiconductors such as gallium arsenide (GaAs) and indium phosphorus (InP) Solar electronic devices, cadmium tellurium (CdTe) and copper indium selenide (CuInSe) 2 II-VI group compound semiconductor solar electronic devices, etc., etc., etc. can be used.
Furthermore, a thin film polycrystalline silicon solar cell element, a thin film microcrystalline silicon solar cell element, a hybrid element of a thin film crystalline silicon solar cell element and an amorphous silicon solar cell element, or the like can also be used.
Thus, in the present invention, the solar cell element is formed on, for example, a glass substrate, a plastic substrate, a metal substrate, or other substrate, a crystalline silicon such as a pn junction structure, or an amorphous such as a pin junction structure. An electromotive force portion such as silicon or a compound semiconductor is formed to constitute a solar cell element.
[0039]
Next, in the present invention, the filler layer laminated under the photovoltaic element constituting the solar cell module will be described. As the filler layer, the above-mentioned surface protection sheet for solar cell module is used. Similar to the filler layer laminated under the head, it is also necessary to have adhesiveness to the back surface protection sheet, and further to maintain the smoothness of the back surface of the solar cell element as a photovoltaic element. In order to achieve the above, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption, and the like because it has thermoplasticity and further protects the solar cell element as a photovoltaic element.
However, the filler layer laminated under the photovoltaic element constituting the solar cell module is different from the filler layer laminated under the surface protection sheet for the solar cell module. It is not necessarily required to have transparency.
Specifically, as the filler layer, for example, a fluororesin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, and the like, similar to the filler layer laminated under the surface protection sheet for the solar cell module described above. Polyolefin resins such as coalescence, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene or polypropylene are not suitable for acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. One or more kinds of resins such as acid-modified polyolene fin-based resin modified with saturated carboxylic acid, polyvinyl butyral resin, silicone-based resin, epoxy-based resin, (meth) acrylic resin, etc. Mixtures can be used.
In the present invention, the resin constituting the filler layer is, for example, crosslinked within a range that does not impair its transparency in order to improve weather resistance such as heat resistance, light resistance, and water resistance. Additives such as additives, thermal antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, photo-antioxidants, etc. can be arbitrarily added and mixed.
In addition, as thickness of said filler layer, about 200-1000 micrometers, More preferably, about 350-600 micrometers is desirable.
[0040]
In the present invention, when manufacturing the solar cell module according to the present invention, other materials such as, for example, other materials such as strength, weather resistance, scratch resistance, and the like are improved. , Low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene -Acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) Acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonite Ru-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene -Arbitrarily selected from saponified vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, and other known resin films or sheets. Can be used.
In the present invention, the above-described film or sheet may be any of unstretched, uniaxially or biaxially stretched.
The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.
Furthermore, in the present invention, the film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.
[0041]
Next, in the present invention, a method for producing a solar cell module using the above materials will be described. As such a production method, a known method, for example, the solar cell module according to the present invention is used. For example, the above-mentioned surface protection sheet for solar cell module, filler layer, solar cell element as a photovoltaic element, filler layer, and the present invention described above are used. The back surface protection sheet for the solar cell module according to the present invention is sequentially laminated with the surface of one polypropylene resin film facing each other, and if necessary, other materials can be arbitrarily placed between the respective layers. These layers are then laminated using a conventional molding method such as a lamination method in which these are integrated by vacuum suction or the like and thermocompression bonded. Manufacture It is possible.
In the above, if necessary, in order to improve the adhesion between each layer, a heat-melt adhesive having a vehicle as a main component of a vehicle such as a (meth) acrylic resin, an olefin resin, a vinyl resin, or the like, A solvent type adhesive, a photo-curing type adhesive, etc. can be used.
[0042]
Further, in the above lamination, each lamination facing surface has, as necessary, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, Pretreatments such as glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc., and others can be optionally applied.
Further, in the above lamination, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, an adhesive layer, an anchor coat agent layer, or the like is arbitrarily formed in advance on each lamination facing surface. And surface pretreatment can also be performed.
Examples of the pretreatment coating agent layer include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, A resin composition comprising a polyolefin resin such as polyethylene aly polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, the coating agent layer can be formed by using, for example, a solvent type, aqueous type, or emulsion type coating agent, a roll coating method, a gravure roll coating, etc. The coating can be performed using a coating method such as a method, a kiss coating method, or the like.
[0043]
Furthermore, in this invention, it is used as the back surface protection sheet for solar cell modules concerning this invention, The surface of the polypropylene resin film of any one of the back surface protection sheets for solar cell modules In addition, the above-mentioned filler layer is laminated, and a laminated body in which the back surface protection sheet for the solar cell module and the filler layer are laminated in advance is manufactured. A solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and a surface protection sheet for a solar cell module are sequentially laminated on the surface of the agent layer, and if necessary, other materials can be arbitrarily selected. Laminate them, and then use a conventional molding method such as a lamination method in which they are integrated by vacuum suction or the like and thermocompression-bonded. Can be manufactured.
[0044]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
Example 1
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and this was mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the following A silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm was formed under the conditions.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 5.0 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 6.0 × 10 -2 mbar
Cooling and electrode drum power supply: 20kW
Film transport speed: 80 m / min
Next, immediately after the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm is formed as described above, a glow discharge plasma generator is used on the silicon oxide vapor deposition film surface to generate a plasma output of 1500 W, oxygen gas (O 2 ): Argon gas (Ar) = 19: 1 is used, and the mixed gas pressure is 6 × 10 -Five Plasma treatment was performed with a mixed gas of oxygen / argon at a process speed of 420 m / min, and a plasma treated surface was formed in which the surface tension of the deposited film surface was improved from 35 dyne to 60 dyne.
(2). Next, on the plasma-treated surface of the vapor-deposited silicon oxide film having a thickness of 800 mm formed above, an epoxy-based silane coupling agent (8.0% by weight) and an anti-blocking agent (an initial condensation product of polyurethane resin) 1.0% by weight) is added, and a primer resin composition obtained by sufficiently kneading is used, and the film thickness is 0.5 g / m by gravure roll coating method. 2 A primer layer was formed by coating so as to be in a dry state.
Furthermore, on the surface of the primer layer formed as described above, a two-component curable urethane laminating adhesive containing a benzophenone ultraviolet absorber (2.0% by weight) as an ultraviolet absorber is used. In the same manner as above, the film thickness is 5.0 g / m by the gravure roll coating method. 2 An adhesive layer for laminating was formed by coating so as to be in a dry state.
(3). On the other hand, titanium oxide (8% by weight) as a whitening agent and ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm, 3% by weight) as an ultraviolet absorber are added to isotactic polypropylene resin. In addition, a necessary additive is added and sufficiently kneaded to prepare a polypropylene resin composition, and then the polypropylene resin composition is extruded by an extruder to produce an unstretched polypropylene resin film having a thickness of 60 μm. Furthermore, a corona discharge surface was formed on one side of the unstretched polypropylene resin film by a corona discharge treatment according to a conventional method.
(4). Next, the corona-treated surface of the polypropylene resin film formed in the above (3) was made to face the adhesive layer surface for laminating formed in the above (2), and both were laminated by dry lamination.
Next, on the surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the silicon oxide vapor deposited film laminated as described above on the surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the benzophenone series is used as the ultraviolet absorber in the same manner as described above. A two-component curable urethane laminating adhesive containing an ultraviolet absorber (2.0% by weight) was used, and this was applied to a film thickness of 5.0 g / m by a gravure roll coating method. 2 An adhesive layer for laminating was formed by coating so as to be in a dry state.
Furthermore, the laminating adhesive layer surface formed above is made to face the corona-treated surface of another polypropylene resin film formed in the above (3), and both are laminated in the same manner as described above. Thus, a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention was produced.
(5). Next, a solar cell composed of a glass plate having a thickness of 3 mm, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and amorphous silicon, using the back surface protection sheet for the solar cell module produced above. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm in which elements are arranged in parallel, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and the above-mentioned back surface protection sheet for a solar cell module Then, the surface of one of the polypropylene resin films is made to oppose, and the solar cell module according to the present invention is laminated with an acrylic resin adhesive layer facing the above solar cell element surface upward. Manufactured.
[0045]
Examples 2-6
In Example 1 above, instead of using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, the base film shown below was used, and the others were performed in exactly the same manner as in Example 1 above. Similar to Example 1 above, the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced.
Example 2 Polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) with a thickness of 50μm
Example 3 FIG. 100 μm thick polydicyclopentadiene resin sheet
Example 4 Polycarbonate resin sheet with a thickness of 50 μm
Embodiment 5 FIG. Polyacrylic resin sheet with a thickness of 50 μm
Example 6 Nylon 6 film with a thickness of 20μm
[0046]
Example 7
A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was used, and this was mounted on a feed-out roll of a take-up vacuum deposition apparatus. Then, this was fed out onto a coating drum, and under the following conditions: Aluminum oxide having a film thickness of 800 mm is applied to the corona-treated surface of the above biaxially stretched nylon 6 film by reactive vacuum vapor deposition using an electron beam (EB) heating method while using oxygen as a vapor deposition source and supplying oxygen gas. The deposited film was formed.
(Deposition conditions)
Deposition source: Aluminum
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 7.5 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2.1 × 10 -6 mbar
EB output: 40KW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm as described above, a glow discharge plasma generator was used on the aluminum oxide vapor deposition film surface, and the plasma output was 1500 W, oxygen gas (O 2 ): Argon gas (Ar) = 19: 1 is used, and the mixed gas pressure is 6 × 10 -Five A plasma processing surface was formed by performing plasma processing with an oxygen / argon mixed gas at Toor at a processing speed of 420 m / min.
(2). Next, on the plasma-treated surface of the aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm formed as described above, an initial condensation product of polyurethane resin, epoxy silane coupling agent (8.0 wt%) and antiblocking agent ( 1.0% by weight) is added, and a primer resin composition obtained by sufficiently kneading is used, and the film thickness is 0.5 g / m by gravure roll coating method. 2 A primer layer was formed by coating so as to be in a dry state.
Furthermore, on the surface of the primer layer formed as described above, a two-component curable urethane laminating adhesive containing a benzophenone ultraviolet absorber (2.0% by weight) as an ultraviolet absorber is used. In the same manner as above, the film thickness is 5.0 g / m by the gravure roll coating method. 2 An adhesive layer for laminating was formed by coating so as to be in a dry state.
(3). On the other hand, titanium oxide (8% by weight) as a whitening agent and ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm, 3% by weight) as an ultraviolet absorber are added to isotactic polypropylene resin. In addition, a necessary additive is added and sufficiently kneaded to prepare a polypropylene resin composition, and then the polypropylene resin composition is extruded by an extruder to produce an unstretched polypropylene resin film having a thickness of 60 μm. Furthermore, a corona discharge surface was formed on one side of the unstretched polypropylene resin film by a corona discharge treatment according to a conventional method.
(4). Next, the corona-treated surface of the polypropylene resin film formed in the above (3) was made to face the adhesive layer surface for laminating formed in the above (2), and both were laminated by dry lamination.
Then, on the surface of the biaxially stretched nylon 6 film having the aluminum oxide vapor deposited film laminated as described above, a benzophenone-based ultraviolet absorber ( 2.0 wt.%), A two-component curable urethane laminating adhesive, and using a gravure roll coating method, the film thickness is 5.0 g / m. 2 An adhesive layer for laminating was formed by coating so as to be in a dry state.
Furthermore, the laminating adhesive layer surface formed above is made to face the corona-treated surface of another polypropylene resin film formed in the above (3), and both are laminated in the same manner as described above. Thus, a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention was produced.
(5). Next, a solar cell composed of a glass plate having a thickness of 3 mm, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and amorphous silicon, using the back surface protection sheet for the solar cell module produced above. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm in which elements are arranged in parallel, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and the above-mentioned back surface protection sheet for a solar cell module Then, the surface of one of the polypropylene resin films is made to oppose, and the solar cell module according to the present invention is laminated with an acrylic resin adhesive layer facing the above solar cell element surface upward. Manufactured.
[0047]
Examples 8-12
In Example 7 above, instead of using a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm, the base film shown below was used, and the others were performed in exactly the same manner as in Example 1 above, Similar to Example 1, the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced.
Example 8 FIG. Polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) with a thickness of 50μm
Example 9 100 μm thick polydicyclopentadiene resin sheet
Example 10 Polycarbonate resin sheet with a thickness of 50 μm
Example 11 Polyacrylic resin sheet with a thickness of 50 μm
Example 12 Biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 μm
[0048]
Example 13
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and this was mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus. The corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film was subjected to the following conditions. A vapor-deposited thin film of silicon oxide having a thickness of 50 mm was formed, and a vapor-proof protective film was provided.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 5: 5: 5 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 7.0 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 3.8 × 10 -2 mbar
Cooling / electrode drum power supply: 15 kW
Sheet transport speed: 100 m / min
Next, a vapor deposition film of silicon oxide having a thickness of 800 mm is formed on the vapor deposition resistant protective film formed in the same manner as in the first embodiment, and further, plasma is deposited on the vapor deposition film surface of the silicon oxide. A treated surface was formed.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 1, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 1.
[0049]
Example 14
(1). A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used, and this is mounted on a feed-out roll of a take-up vacuum deposition apparatus, and then fed out onto a coating drum. Using a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas as a vapor deposition source, an aluminum oxide vapor deposition thin film having a thickness of 50 mm is formed on the corona-treated surface of the above biaxially stretched nylon film. And an anti-evaporation protective film was provided.
(Deposition conditions)
Deposition source: Aluminum
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 7.5 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2.1 × 10 -6 mbar
EB output: 20KW
Film transport speed: 500m / min
Further, an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm was formed on the vapor deposition resistant protective film formed in the same manner as in Example 7 above, and a plasma treatment was performed on the aluminum oxide vapor deposition film surface. A surface was formed.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 7, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 7.
[0050]
Example 15
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 μm is used, and 1 × 10 -Four Under a Torr vacuum, silicon monoxide (SiO) with a purity of 99.9% was heated and evaporated by a high frequency dielectric heating method to form a 500-nm silicon oxide vapor deposition film.
Next, immediately after forming the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 500 mm as described above, the silicon oxide vapor deposition film surface was subjected to corona discharge treatment at an output of 10 kW and a treatment speed of 100 m / min. A corona-treated surface having a surface tension improved from 35 dyne to 60 dyne was formed.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 1, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 1.
[0051]
Example 16
(1). Using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 500 mm was formed in the same manner as in Example 1 above. Further, on the silicon oxide vapor deposition film surface, A plasma treated surface was formed.
Next, an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 500 mm is formed on the plasma-treated surface of the silicon oxide vapor deposition film formed as described above, and the aluminum oxide vapor deposition is further performed. A plasma-treated surface was formed on the film surface.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 7, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 7.
[0052]
Example 17
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and this was mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the following A silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm was formed under the conditions.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 5.0 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 6.0 × 10 -2 mbar
Cooling and electrode drum power supply: 20kW
Film transport speed: 80 m / min
Next, immediately after the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm is formed as described above, a glow discharge plasma generator is used on the silicon oxide vapor deposition film surface to generate a plasma output of 1500 W, oxygen gas (O 2 ): Argon gas (Ar) = 19: 1 is used, and the mixed gas pressure is 6 × 10 -Five Plasma treatment with an oxygen / argon mixed gas was performed at a Torr and treatment speed of 420 m / min to form a plasma treatment surface in which the surface tension of the deposited film surface was improved from 35 dyne to 60 dyne.
(2). Next, on the plasma-treated surface of the 800 nm thick silicon oxide vapor deposition film formed as described above, an epoxy-based silane coupling agent (8.0 wt%) is added to the initial condensate of a two-component curable polyurethane resin. And a blocking resin (1.0% by weight) are added, and a primer resin composition obtained by sufficiently kneading is used, and this is formed into a film thickness of 0.5 g / m by a gravure roll coating method. 2 A primer layer was formed by coating so as to be in a dry state.
Further, a two-component curable urethane anchor coating agent is used on the surface of the primer layer formed as described above, and this is treated with a gravure roll coating method in the same manner as described above. 1g / m 2 An anchor coating layer was formed by coating so as to be in a dry state.
(3). On the other hand, a master batch (15% by weight) made of a polyethylene resin containing titanium oxide (25% by weight) as a whitening agent in isotactic polypropylene resin, and ultrafine titanium oxide (particle size, 0.1% by weight) as an ultraviolet absorber. 01 to 0.06 μm, 5% by weight) and other necessary additives were added and kneaded sufficiently to prepare a polypropylene resin composition.
(4). Next, the polypropylene resin composition formed in the above (3) is used on the anchor coating agent layer surface formed in the above (2), and this is melt-extruded using an extruder to obtain a thickness. A 60 μm polypropylene film was extruded and laminated.
Next, on the surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the silicon oxide vapor deposited film laminated by extrusion laminating as described above, the two-component curable urethane is formed in the same manner as described above. An anchor coat agent is used, and the film thickness is 0.1 g / m by the gravure roll coat method. 2 An anchor coating layer was formed by coating so as to be in a dry state.
Further, using the polypropylene resin composition formed in the above (3) on the anchor coating agent layer surface formed as described above, in the same manner as described above, this was melt-extruded using an extruder and thickened. A polypropylene film having a thickness of 60 μm was extruded and laminated to produce a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
(5). Next, a solar cell composed of a glass plate having a thickness of 3 mm, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and amorphous silicon, using the back surface protection sheet for the solar cell module produced above. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm in which elements are arranged in parallel, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and the above-mentioned back surface protection sheet for a solar cell module Then, the surface of one of the polypropylene resin films is made to oppose, and the solar cell module according to the present invention is laminated with an acrylic resin adhesive layer facing the above solar cell element surface upward. Manufactured.
[0053]
Example 18
A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was used, and this was mounted on a feed-out roll of a take-up vacuum deposition apparatus. Then, this was fed out onto a coating drum, and under the following conditions: Aluminum oxide having a film thickness of 800 mm is applied to the corona-treated surface of the above biaxially stretched nylon 6 film by reactive vacuum vapor deposition using an electron beam (EB) heating method while using oxygen as a vapor deposition source and supplying oxygen gas. The deposited film was formed.
(Deposition conditions)
Deposition source: Aluminum
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 7.5 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2.1 × 10 -6 mbar
EB output: 40KW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm as described above, a glow discharge plasma generator was used on the aluminum oxide vapor deposition film surface, and the plasma output was 1500 W, oxygen gas (O 2 ): Argon gas (Ar) = 19: 1 is used, and the mixed gas pressure is 6 × 10 -Five A plasma treatment surface was formed by performing a plasma treatment with an oxygen / argon mixed gas at Torr at a treatment speed of 420 m / min.
(2). Next, on the plasma-treated surface of the aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm formed above, an initial condensation product of a two-component curable polyurethane resin, an epoxy silane coupling agent (8.0% by weight) And a blocking resin (1.0% by weight) are added, and a primer resin composition obtained by sufficiently kneading is used, and this is formed into a film thickness of 0.5 g / m by a gravure roll coating method. 2 A primer layer was formed by coating so as to be in a dry state.
Further, a two-component curable urethane anchor coating agent is used on the surface of the primer layer formed as described above, and this is treated with a gravure roll coating method in the same manner as described above. 1g / m 2 An anchor coating layer was formed by coating so as to be in a dry state.
(3). On the other hand, a master batch (15% by weight) made of a polyethylene resin containing titanium oxide (25% by weight) as a whitening agent in isotactic polypropylene resin, and ultrafine titanium oxide (particle size, 0.1% by weight) as an ultraviolet absorber. 01 to 0.06 μm, 5% by weight) and other necessary additives were added and kneaded sufficiently to prepare a polypropylene resin composition.
(4). Next, the polypropylene resin composition formed in the above (3) is used on the anchor coating agent layer surface formed in the above (2), and this is melt-extruded using an extruder to obtain a thickness. A 60 μm polypropylene film was extruded and laminated.
Next, on the surface of the biaxially stretched nylon 6 film of the biaxially stretched nylon 6 film having the aluminum oxide vapor deposited film laminated by extrusion laminating as described above, a two-component curable urethane anchor coat is formed in the same manner as described above. -A coating agent is used, and the film thickness is 0.1 g / m by the gravure roll coating method. 2 An anchor coating layer was formed by coating so as to be in a dry state.
Further, using the polypropylene resin composition formed in the above (3) on the anchor coating agent layer surface formed as described above, in the same manner as described above, this was melt-extruded using an extruder and thickened. A polypropylene film having a thickness of 60 μm was extruded and laminated to produce a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
(5). Next, a solar cell composed of a glass plate having a thickness of 3 mm, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and amorphous silicon, using the back surface protection sheet for the solar cell module produced above. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm in which elements are arranged in parallel, an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet having a thickness of 400 μm, and the above-mentioned back surface protection sheet for a solar cell module Then, the surface of one of the polypropylene resin films is made to oppose, and the solar cell module according to the present invention is laminated with an acrylic resin adhesive layer facing the above solar cell element surface upward. Manufactured.
[0054]
Example 19
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and this was mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus. The corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film was subjected to the following conditions. A vapor-deposited thin film of silicon oxide having a thickness of 50 mm was formed, and a vapor-proof protective film was provided.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 5: 5: 5 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 7.0 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 3.8 × 10 -2 mbar
Cooling / electrode drum power supply: 15 kW
Sheet transport speed: 100 m / min
Next, a vapor deposition film of silicon oxide having a thickness of 800 mm is formed on the vapor deposition resistant protective film formed in the same manner as in Example 17 above, and further, plasma is deposited on the vapor deposition film surface of the silicon oxide. A treated surface was formed.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 17, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 17.
[0055]
Example 20
(1). A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used, and this is mounted on a feed-out roll of a take-up vacuum deposition apparatus, and then fed out onto a coating drum. Using a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas as a vapor deposition source, an aluminum oxide vapor deposition thin film having a thickness of 50 mm is formed on the corona-treated surface of the above biaxially stretched nylon film. And an anti-evaporation protective film was provided.
(Deposition conditions)
Deposition source: Aluminum
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 7.5 × 10 -6 mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2.1 × 10 -6 mbar
EB output: 20KW
Film transport speed: 500m / min
Further, an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 800 mm was formed on the vapor deposition resistant protective film formed in the same manner as in Example 18 above, and plasma treatment was performed on the aluminum oxide vapor deposition film surface. A surface was formed.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 18, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 18.
[0056]
Example 21
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 μm is used, and 1 × 10 -Four Under a Torr vacuum, silicon monoxide (SiO) with a purity of 99.9% was heated and evaporated by a high frequency dielectric heating method to form a 500-nm silicon oxide vapor deposition film.
Next, immediately after forming the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 500 mm as described above, the silicon oxide vapor deposition film surface was subjected to corona discharge treatment at an output of 10 kW and a treatment speed of 100 m / min. A corona-treated surface having a surface tension improved from 35 dyne to 60 dyne was formed.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 17, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 17.
[0057]
Example 22
(1). Using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, a silicon oxide vapor-deposited film having a thickness of 500 mm was formed in the same manner as in Example 17 above. Further, on the silicon oxide vapor-deposited film surface, A plasma treated surface was formed.
Next, an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 500 mm is formed on the plasma-treated surface of the silicon oxide vapor deposition film formed in the same manner as in Example 18 above, and further, the aluminum oxide vapor deposition is performed. A plasma-treated surface was formed on the film surface.
(2). Thereafter, the process was carried out in exactly the same manner as in Example 18, and the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced as in Example 18.
[0058]
Comparative Example 1
Biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm in which solar cell elements made of 3 mm thick glass plate, 400 μm thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet and amorphous silicon are arranged in parallel, 400 μm thick An ethylene-vinyl acetate copolymer sheet and a white biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm are faced with the solar cell element surface facing up and an acrylic resin adhesive layer interposed therebetween. Thus, a solar cell module was manufactured.
[0059]
Comparative Example 2
Biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm in which solar cell elements made of 3 mm thick glass plate, 400 μm thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet and amorphous silicon are arranged in parallel, 400 μm thick Adhesion of acrylic resin with the ethylene-vinyl acetate copolymer sheet of 50 μm and the white polyvinyl fluoride resin sheet of 50 μm thickness facing each other and with the solar cell element surface facing upward The solar cell module was manufactured by laminating through the agent layer.
[0060]
Experimental example
With respect to the back surface protection sheet for the solar cell module according to the present invention produced in Examples 1 to 22 and the back surface protection sheet according to Comparative Examples 1 and 2, the reflectance was measured. A solar cell module evaluation test was performed on the solar cell modules manufactured in Examples 1-22 and the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1-2.
(1). Reflectance measurement
This is based on the base film, and the spectrophotometry of the back surface protection sheet for the solar cell module according to the present invention and the back surface protection sheet according to Comparative Examples 1 and 2 manufactured in Examples 1-22. The reflectance (%) with respect to a light beam having a wavelength of 550 nm was measured by a meter.
(2). Solar cell module evaluation test
Based on JIS standard C8917-1989, the environmental test of the solar cell module was performed, and the output of the photovoltaic power before and after the test was measured for comparative evaluation.
(3). Measurement of water vapor permeability and oxygen permeability
The water vapor permeability was 40 ° C. and humidity 90% for the back surface protection sheet for solar cell modules according to the present invention produced in Examples 1 to 22 and the back surface protection sheet for Comparative Examples 1 and 2. Under the condition of RH, measurement was performed with a measuring instrument (model name, PERMATRAN) manufactured by MOCON, USA, and oxygen permeability was measured at a temperature of 23 ° C. for an object similar to the above. The measurement was performed with a measuring instrument (model name, OXTRAN) manufactured by MOCON, USA under the condition of a humidity of 90% RH.
(4). Lamination strength measurement
This is done by cutting the protective sheet to a width of 15 mm and using a tensile tester [model name Tensilon, manufactured by A & D Co., Ltd.] to peel off the laminate constituting the protective sheet. The strength was measured.
The measurement results are shown in Table 1 below.
[0061]
(Table 1)
Figure 0004217935
Figure 0004217935
Figure 0004217935
Figure 0004217935
In Table 1 above, the unit of light reflectance is [%], and the unit of water vapor barrier property is [g / m 2 / Day · 40 ° C. · 100% RH], and the unit of oxygen barrier property is [cc / m 2 / Day · 23 ° C. · 90% RH], the unit of the output decrease rate is [%], and the unit of the lamination strength is [kg / 15 mm width].
[0062]
As is clear from the measurement results shown in Table 1 above, the back surface protection sheets for solar cell modules according to Examples 1 to 22 have high reflectivity, water vapor barrier properties, oxygen barrier properties, and The laminate strength was excellent.
Furthermore, the solar cell module using the back surface protection sheet for a solar cell module according to the above Examples 1 to 22 had a low output reduction rate.
On the other hand, the solar cell module protective sheet according to Comparative Examples 1 and 2 has high reflectivity but low water vapor barrier property and oxygen barrier property. The battery module has problems such as a high output reduction rate.
[0063]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, the present invention provides a transparent inorganic oxide made of glassy material such as silicon oxide or aluminum oxide on one side of the base film, and excellent in water vapor barrier properties, oxygen barrier properties, etc. A solar cell in which a heat-resistant polypropylene resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is laminated on both sides of a base film provided with an inorganic oxide vapor deposition film as described above. Manufacturing a back surface protection sheet for a module, and thus using the back surface protection sheet for a solar cell module, for example, a surface protection for a normal solar cell module made of a glass plate or the like Sheet, filler layer, solar cell element as photovoltaic element, filler layer, and above-mentioned back surface protection sheet for solar cell module, facing one polypropylene resin film surface And stack them sequentially Next, a solar cell module is manufactured using a lamination method in which these are vacuum-sucked together and heat-pressed, etc., and has excellent strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, and light resistance. Excellent wind resistance, yield resistance, chemical resistance, antifouling properties, etc., especially moisture resistance to prevent intrusion of moisture, oxygen, etc., light reflectivity, light diffusibility, Designability and other features are also significantly improved, minimizing long-term performance degradation, extremely durable, excellent protection capability, and a lower cost and safer solar cell module. It can be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of an example of a layer structure of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an outline of an example of a layer structure of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an outline of an example of the layer structure of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing another example of the layer structure of an inorganic oxide vapor-deposited film.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an outline showing the layer structure of another example of an inorganic oxide vapor-deposited film.
6 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the layer structure of a solar cell module manufactured using the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention shown in FIG. 1. FIG. .
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an example of a take-up vacuum deposition apparatus.
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing an example of a plasma chemical vapor deposition apparatus.
[Explanation of symbols]
A Back protection sheet for solar cell module
A 1 ~ A 2 Back surface protection sheet for solar cell module
1 Base film
2 Vapor deposition film of inorganic oxide
2a multilayer film
2b Vapor deposition film of inorganic oxide
2c Vapor deposition film of inorganic oxide
2d composite membrane
3 Polypropylene resin film
4 Adhesive layer for dry lamination
5 Anchor coat layer
T Solar cell module
11 Surface protection sheet for solar cell module
12 Filler layer
13 Solar cell element
14 Filler layer
15 Back surface protection sheet for solar cell module

Claims (14)

フッ素系樹脂フィルム、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリ(メタ)アクリル系樹脂フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、または、ポリエステル系樹脂フィルムからなる基材フィルムの片面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの両面に、白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムを積層することを特徴とする太陽電池モジュール用裏面保護シート。Vapor deposition of inorganic oxide on one side of a substrate film made of a fluororesin film, cyclic polyolefin resin film, polycarbonate resin film, poly (meth) acrylic resin film, polyamide resin film, or polyester resin film A solar film characterized in that a heat-resistant polypropylene-based resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is laminated on both sides of a base film provided with a vapor deposition film of the above inorganic oxide. Back protection sheet for battery modules. 無機酸化物の蒸着膜が、無機酸化物の蒸着膜の1層若しくは2層以上の多層膜、または、異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上の複合膜からなることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The inorganic oxide vapor-deposited film is composed of one or two or more multilayer films of inorganic oxide vapor-deposited films, or a composite film of two or more layers of different inorganic oxide vapor-deposited films. Item 10. A back surface protective sheet for a solar cell module according to Item 1 . 無機酸化物の蒸着膜が膜厚50Å以上〜4000Å以下からなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The back protective sheet for a solar cell module according to claim 1 or 2 , wherein the inorganic oxide vapor-deposited film has a thickness of 50 to 4000 mm. 白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムが、白色化剤と紫外線吸収剤とを練り込み加工した耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムからなることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。2. The heat-resistant polypropylene resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is composed of a heat-resistant polypropylene resin film obtained by kneading a whitening agent and an ultraviolet absorber. The back surface protection sheet for solar cell modules of any one of Claims to Claim 3. 白色化剤と紫外線吸収剤とを含む耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムが、その表面に白色化剤と紫外線吸収剤とを含む塗布ないし印刷膜を有する耐熱性のポリプロピレン系樹脂フィルムからなることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。A heat-resistant polypropylene resin film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber is composed of a heat-resistant polypropylene resin film having a coating or printing film containing a whitening agent and an ultraviolet absorber on its surface. The back surface protection sheet for solar cell modules according to any one of claims 1 to 3 . 白色化剤が、白色系顔料からなることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The back surface protection sheet for solar cell modules according to any one of claims 1 to 5 , wherein the whitening agent comprises a white pigment. 前記白色化剤が、塩基性炭酸鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性けい酸鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、リトポン、三酸化アンチモン、アナタス形酸化チタンおよびルチル形酸化チタンからなる群から選択される少なくとも1種類のものであることを特徴とする請求項6に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The whitening agent is selected from the group consisting of basic lead carbonate, basic lead sulfate, basic lead silicate, zinc white, zinc sulfide, lithopone, antimony trioxide, anatase titanium oxide and rutile titanium oxide. The back surface protection sheet for a solar cell module according to claim 6 , wherein the back surface protection sheet is at least one type. 紫外線吸収剤が、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サルチレート系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダードアミン系、または、超微粒子酸化チタン(粒子系、0.01〜0.06μm)若しくは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)からなる無機系の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上からなることを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The ultraviolet absorber is benzophenone-based, benzotriazole-based, salicylate-based, acrylonitrile-based, metal complex-based, hindered amine-based, ultrafine titanium oxide (particle based, 0.01 to 0.06 μm) or ultrafine zinc oxide ( the solar cell module according to any one of claims of claims 1 to 7, characterized in that one of the inorganic ultraviolet absorbing agent or a more consisting of 0.01 to 0.04 .mu.m) Back protection sheet. 前記ポリプロピレン系樹脂フィルムに、更に、酸化防止剤を添加したことを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The back protective sheet for a solar cell module according to any one of claims 1 to 8 , wherein an antioxidant is further added to the polypropylene resin film. 前記酸化防止剤が、フェノール系、アミン系、硫黄系、および燐酸系からなる群から選択される少なくとも1種類のものであることを特徴とする請求項9に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The back protection sheet for a solar cell module according to claim 9 , wherein the antioxidant is at least one selected from the group consisting of phenol, amine, sulfur, and phosphoric acid. . ポリプロピレン系樹脂フィルムが、プロピレンの単独重合体またはプロピレンと他のモノマーとの共重合体のフィルムからなることを特徴とする請求項1から請求項10までのいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。Polypropylene resin film, a solar cell according to any one of claims of claims 1 to 10, characterized in that it consists of a film of a copolymer of homopolymer or propylene with other monomers propylene Back protection sheet for modules. 前記基材フィルム上に、密着性を改善するための表面処理層が形成され、更に、前記表面処理層上に前記無機酸化物の蒸着膜が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれかの請求項に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The surface treatment layer for improving adhesiveness is formed on the base film, and the vapor deposition film of the inorganic oxide is further formed on the surface treatment layer. The back surface protection sheet for solar cell modules of any one of Claims 11. 前記表面処理層が、プライマーコート剤層、アンダーコート層、アンカーコート層、接着剤層、および蒸着アンカーコート層からなる群から選択される少なくとも1種類のものであることを特徴とする請求項12に記載の太陽電池モジュール用裏面保護シート。The surface treatment layer, a primer coating agent layer, an undercoat layer, an anchor coat layer, claim, characterized in that at least one of those selected adhesive layer, and from the group consisting of vapor deposition anchor coating layer 12 The back surface protection sheet for solar cell modules as described in any one of. 太陽電池モジュール用表面保護シート、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、前記請求項1から請求項13までのいずれかの請求項に記載される太陽電池モジュール用裏面保護シートを、その一方のポリプロピレン系樹脂フィルムの面を対向させて順次に積層し、これらを真空吸引して加熱圧着ラミネーション法等により一体成形体としたことを特徴とする太陽電池モジュール。A surface protection sheet for a solar cell module, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and the solar cell module according to any one of claims 1 to 13. A solar cell module characterized in that a back protective sheet for use is laminated in order with one of the polypropylene resin films facing each other, and these are vacuum-sucked to form an integrally molded body by a thermocompression lamination method or the like.
JP28896199A 1999-10-12 1999-10-12 Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same Expired - Fee Related JP4217935B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28896199A JP4217935B2 (en) 1999-10-12 1999-10-12 Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28896199A JP4217935B2 (en) 1999-10-12 1999-10-12 Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007139385A Division JP4050780B2 (en) 2007-05-25 2007-05-25 Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001111077A JP2001111077A (en) 2001-04-20
JP4217935B2 true JP4217935B2 (en) 2009-02-04

Family

ID=17737051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28896199A Expired - Fee Related JP4217935B2 (en) 1999-10-12 1999-10-12 Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4217935B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102356469A (en) * 2009-03-19 2012-02-15 Lg化学株式会社 Solar cell back sheet including a fluorine-based copolymer, and method for manufacturing same
WO2013021860A1 (en) 2011-08-11 2013-02-14 東レ株式会社 Laminated sheet and method for producing same
KR101466298B1 (en) * 2009-01-15 2014-12-01 엘지전자 주식회사 Sollar Cell Having Diffusion Film
US9496439B2 (en) 2012-03-29 2016-11-15 Fujifilm Corporation Polyester film, back sheet for solar cell, and solar cell module
CN107256902A (en) * 2016-09-08 2017-10-17 合肥智慧殿投资管理有限公司 A kind of solar cell backboard film and preparation method thereof
WO2019205494A1 (en) * 2018-04-27 2019-10-31 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 Conductive electrode membrane layer and photovoltaic element

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004247390A (en) * 2003-02-12 2004-09-02 Dainippon Printing Co Ltd Rear face protecting sheet for solar cell module, and solar cell module using it
ATE552301T1 (en) * 2004-11-25 2012-04-15 Mitsui Chemicals Inc PROPYLENE RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF
JP5103801B2 (en) * 2006-06-14 2012-12-19 凸版印刷株式会社 Solar cell backsheet and solar cell module
US20080128018A1 (en) * 2006-12-04 2008-06-05 Richard Allen Hayes Solar cells which include the use of certain poly(vinyl butyral)/film bilayer encapsulant layers with a low blocking tendency and a simplified process to produce thereof
JP5237569B2 (en) 2007-02-27 2013-07-17 東洋アルミニウム株式会社 Solar cell back surface protection sheet and solar cell module including the same
JP2008227203A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Toppan Printing Co Ltd Rear face protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2010272761A (en) * 2009-05-22 2010-12-02 Dainippon Printing Co Ltd Reverse surface protective sheet for solar cell module
KR101524063B1 (en) 2010-03-03 2015-05-29 다이요 가가쿠 고교 가부시키가이샤 Method for fixation onto layer comprising amorphous carbon film, and laminate
JP5705643B2 (en) * 2010-05-17 2015-04-22 富士フイルム株式会社 Polymer sheet for solar cell backsheet and solar cell module
JP2012019059A (en) * 2010-07-08 2012-01-26 Mitsubishi Plastics Inc Backside protective sheet for solar battery module
US20130206214A1 (en) * 2010-08-31 2013-08-15 Mitsubishi Plastics, Inc. Solar battery cover film for and solar battery module manufactured using same
JP5804326B2 (en) * 2010-08-31 2015-11-04 東レフィルム加工株式会社 Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
WO2012124463A1 (en) * 2011-03-17 2012-09-20 三洋電機株式会社 Solar cell and solar cell module
JP2014013791A (en) * 2012-07-03 2014-01-23 Keiwa Inc Protection film for solar battery module, and solar battery module using the same
WO2014021003A1 (en) * 2012-07-30 2014-02-06 東レ株式会社 Laminate sheet and method for manufacturing same
WO2014057561A1 (en) * 2012-10-11 2014-04-17 三洋電機株式会社 Solar cell module
JP6201428B2 (en) * 2013-05-29 2017-09-27 大日本印刷株式会社 Fluorine resin laminated film
CN109608758B (en) * 2018-10-12 2021-04-13 宁波凯耀电器制造有限公司 Photodiffusion PP material and preparation method thereof

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101466298B1 (en) * 2009-01-15 2014-12-01 엘지전자 주식회사 Sollar Cell Having Diffusion Film
CN102356469A (en) * 2009-03-19 2012-02-15 Lg化学株式会社 Solar cell back sheet including a fluorine-based copolymer, and method for manufacturing same
CN102356469B (en) * 2009-03-19 2014-07-16 Lg化学株式会社 Solar cell back sheet including a fluorine-based copolymer, and method for manufacturing same
WO2013021860A1 (en) 2011-08-11 2013-02-14 東レ株式会社 Laminated sheet and method for producing same
US9496439B2 (en) 2012-03-29 2016-11-15 Fujifilm Corporation Polyester film, back sheet for solar cell, and solar cell module
CN107256902A (en) * 2016-09-08 2017-10-17 合肥智慧殿投资管理有限公司 A kind of solar cell backboard film and preparation method thereof
CN107256902B (en) * 2016-09-08 2019-02-19 广州奥鹏能源科技有限公司 A kind of solar cell backboard film and preparation method thereof
WO2019205494A1 (en) * 2018-04-27 2019-10-31 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 Conductive electrode membrane layer and photovoltaic element

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001111077A (en) 2001-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4217935B2 (en) Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP4050780B2 (en) Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2002083988A (en) Rear surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
US20060166023A1 (en) Backside protective sheet for solar battery module and solar battery module using the same
JP4303951B2 (en) Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2004247390A (en) Rear face protecting sheet for solar cell module, and solar cell module using it
JP2011014559A (en) Protective film for solar cell module, and solar cell module using the same
JP2003168814A (en) Rear face protection sheet for solar battery module and solar battery module using the same
JP2001119051A (en) Rear-surface protecting sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP4184675B2 (en) Back surface protection sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2001111073A (en) Back protective sheet for solar battery module and solar battery module using the sheet
JP2000208797A (en) Surface protecting sheet therefor solar battery module and solar battery module using it
JP2001068701A (en) Protective sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2003152212A (en) Reverse-surface protection sheet for solar battery module and the solar battery module using the same
JP2003152206A (en) Reverse-surface protection sheet for solar battery module and solar battery module using the same
JP4757364B2 (en) Solar cell module
JP4478250B2 (en) Protective sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2000138387A (en) Surface protective sheet for solar cell module, and solar cell module using it
JP2000332278A (en) Solar battery module and protective sheet therefor
JP2001196621A (en) Backside protective sheet for solar cell modules and solar cell module using same
JP2003152215A (en) Reverse-surface protection sheet for solar battery module and the solar battery module using the same
JP2000138388A (en) Surface protective sheet for solar cell module, and solar cell module using it
JP2000340818A (en) Solar battery module protection sheet and solar battery module using the same
JP2003092421A (en) Back protective sheet for solar cell module and solar cell module using the same
JP2001119045A (en) Rear protective sheet for solar cell module and solar cell module using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060911

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060919

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070226

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070712

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081029

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131121

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees