JP4206002B2 - 石英ガラスの接合方法及び石英ガラスの構造物 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、接着材を使用して石英ガラスを接合する方法、及び接着された石英ガラスの構造物に関する。
【0002】
【従来の技術】
石英ガラスは、高純度、耐熱性、耐蝕性、光透過性に優れた特性を有していることから、LCD基板、ウェハー、ハンガー、各種治具類等の半導体分野、セル、レンズ、プリズム、レーザー用素子等の光学材料分野、蒸留装置、分析機器、計器部品等の理化学機器分野において注目されている。しかし、1200℃以上の高温で軟化する熱特性を有するため、加工が困難であるという難点があった。特に、複数の部材を組み合わせてなる構造物を製造する場合、部材の接合方法が大きな課題となる。
【0003】
従来、石英ガラス部材の接合は、酸素・水素ガスの燃焼炎を利用して石英ガラスを軟化させ形状出しや溶接を行う火加工によって行うのが一般的であった(特開平11−60257)。しかし、この方法は、加工に長い時間と高度な熟練を要するという製造上の問題の他、局部的な高温加熱・伸張による材料の不均一性から、製品にクラックや亀裂を生じやすいという問題があった。
また、火加工以外の接合方法としては、グラファイトモールド等でモールドされた石英ガラス部材同士を固定し保護ガス存在下で石英ガラスの軟化温度(1710〜1790℃)まで昇温し次いで徐冷させる方法(特開2001−48559、接合面を水で濡らした状態で圧力をかけながら石英ガラスの転移点以上軟化点以下の温度で加熱する方法(特開2003−54971)、レーザー光を利用する方法(特開平5−163076)等が提案されている。しかしこれらの方法は、接合時に1000℃を超える高温とする必要があったり、または特殊な装置を要したりするなど、必ずしも製造上の困難を解決するものではなかった。その他、特開平10−36145には、フッ化水素酸含有溶液またはアルカリ溶液などの石英ガラスを溶解させるための溶液を接合面に施し、荷重によって石英ガラス部材を接合させて光学測定装置を製造する方法が開示されているが、高温あるいは真空条件での使用を目的とする用途には、耐熱性・気密性の点で満足できるものではなかった。
【0004】
一方、部材接合技術として接着剤を使用することも知られている。耐熱性を要求される部材の接着剤としては、例えばエポキシ系接着剤(特開平9−100457)、鉛ガラスを含有したフリット、アルミナやシリカを主成分とした無機系耐熱性接着剤があげられる。しかし、エポキシ系接着剤は250℃以上の高温で炭化現象が生じるため、高温雰囲気に曝されると接着強度の低下、気密性の低下、絶縁破壊等、製品の機能が低下する問題があった。無機系接着剤による接合も、高温・真空下での気密状態を維持することが困難であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来、石英ガラスの加工において困難を伴う工程であった接合を、精度よく効率的に行う方法と、それに使用する接着剤を提供することを目的とする。また、耐熱性・気密性に優れた石英ガラス部材を含む構造物、例えば半導体分野における各種治具類、特に減圧や高温条件で使用される各種処理工程(洗浄工程等)に使用されるのに好適な処理槽を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、検討の結果、特定のシリコーン系熱硬化性接着剤を使用して石英ガラス部材を接合することによって、従来の火加工のような高温条件を要さず、しかも耐熱性、気密性に優れた石英ガラス部材を含む構造物が得られることを見出し、本発明を完成した。
【0007】
すなわち、本発明は、少なくとも一方の接合面が石英ガラスである部材を接合する場合において、前記接合面にシリコーンレジンとフェニル基を有するオルガノシロキサンとの縮合物を含有する熱硬化性接着剤を介在させることを特徴とするものである。
また、本発明は、フェニル基を有するオルガノシロキサンが、フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンであることを特徴としている。
さらに、本発明は、石英ガラス製部材を1以上含む複数の部材からなり、少なくとも石英ガラス製部材と隣接部材の接合面が、シリコーンレジンとフェニル基を有するオルガノシロキサンとの縮合物を含有する熱硬化性接着剤によって接合されていることを特徴とするものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明で接合される部材は、少なくとも一方の接合面が石英ガラスである部材である。例えば、石英ガラスと石英ガラスの他、石英ガラスと他素材の接合面を有する部材(例えば石英以外のガラス、セラミックス、金属、樹脂など)の接合があげられる。
本発明の部材の接合方法は、清浄な各部材の接合面に、(A)シリコーンレジンと(B)フェニル基を有するオルガノシロキサンとの縮合物を含有する熱硬化性接着剤を施し、好ましくは脱泡させた後、接合面を合わせて硬化温度まで昇温させ接着させる。
【0009】
ここで使用される前記シリコーン系接着剤について詳述すると、(A)シリコーンレジンとしては、例えばメチルシリコーンレジン、メチルフェニルシリコーンレジン、各種変性シリコーンレジン(アルキル変性、エポキシ変性、ポリエステル変性、アルキッド変性等)があげられる。
【0010】
また、(B)フェニル基を有するオルガノシロキサンとしては、フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン、2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンなどがあげられ、これらの1種または2種以上を選択する。好ましいオルガノシロキサンは、フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン、2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンである。
【0011】
本発明に使用する熱硬化性接着剤は、前記(A)及び(B)の各成分を、トルエン、キシレン等の有機溶媒を使用して縮合反応させ、その後、温度100〜150℃、圧力100Pa〜1Paで溶媒除去・脱泡処理を行って製造され、この方法により粘度100〜10000mPa・sのペースト状の接着剤を得ることができる。
【0012】
前記接着剤は、ペースト状で、あるいは各種溶剤で希釈し、またはシート状接着剤とすることができる。希釈する場合の溶剤としては、通常接着剤に使用される公知の溶剤を使用することができ、例えばトルエン、キシレン等があげられる。
【0013】
シート状接着剤は、前期ペースト状接着剤を、テフロンシート上に平滑に塗布する際に、温度100〜150℃にて均一に塗布した後室温に戻して得ることができる。好ましいシート状接着剤の厚さは10〜300μmである。この接着剤は、軟化温度が約50〜150℃、硬化温度が約250〜300℃であり、部材接合の作業性が良好で、しかも耐熱性・気密性に優れた接着剤である。
【0014】
次に、前記熱硬化性接着剤を使用した、本発明の石英ガラス部材の好ましい接合方法を、具体的に説明する。
1)接合面の洗浄
予め、接合する部材の接合面を、アセトンやメタノール洗浄、硫酸と過酸化水素による洗浄、アンモニアと過酸化水素による洗浄、純粋洗浄等を、適宜組み合わせて洗浄することが好ましい。洗浄後に十分乾燥させ、接合部を清浄にする。
2)接着剤の塗布
清浄な接合面に、均一に接着剤を施す。ペースト・液を塗布する場合は、接着剤を軟化温度に加温して軟化させ、ディスペンサー塗布、ディッピング、スプレー、スクリーン印刷等の、公知の塗布方法を用いて、接合面に均一に塗布する。塗布量は、熱硬化後の接着剤層が、好ましくは50〜200μmの厚さとなるように調整する。シート状接着剤を使用する場合は、接合面の形状に裁断された接着剤を、接合面に合わせて設置後、加温し、軟化させる。
【0015】
3)脱泡
好ましくは、各部材に塗布された接着剤の脱泡処理を行う。脱泡は、気圧100Pa前後で行う。また、下限は特に設定されず、1〜10Pa程度の高真空下でもよい。温度は接着剤の軟化温度範囲(50〜150℃)に設定すればよいが、作業性・安全性の点から120℃前後で行うことが好ましい。さらに、処理時間は、10〜60分で行うことが好ましい。本発明で使用する前記のシリコーン系接着剤は、接着処理後の脱ガスが少なく優れたものである。
4)組み立て及び仮接着
接着剤付部材を、所定の構造に組み立て、硬化前の接着剤の粘着力により仮接着する。この際、耐熱性の重りやクリップ等で接合部に荷重をかけるてやることが好ましい。
【0016】
5)熱硬化
仮接着された構造物に、好ましくは荷重をかけたまま、接合部を接着剤の硬化温度以上で加熱して接着剤を熱硬化させる。好ましい硬化温度は、180〜350℃であり、より好ましくは250〜300℃である。硬化温度保持時間は、構造物の大きさ等にもよるが、10分〜1時間が好ましく、10〜30分程度とするのがより好ましい。
6)冷却
急激な温度低下とならないよう、冷却は100℃/hr以下で徐冷することが好ましい。加熱機内で、そのまま室温まで自然放冷してもよい。
前記1)〜6)の操作によって、本発明の石英ガラス製構造物を得ることができる。
【0017】
本発明の石英部材接合方法で作成される構造物としては、石英ガラス製の各種製品、例えば半導体分野加工品(CVD、拡散用各種炉芯管、各種ボート・治具類、洗浄槽、化学処理槽、ベルジャー、チャンバー、フォトマスク基板、マスクブランクス等)、光学用精密加工品(セル、プリズム、レンズ、合成ガラス板等)、理化学分野の各種器具(実験用器具、高純度蒸留水製造装置、溶剤蒸留器、ガラス管)等、接合を要する構造物であれば特に制限されない。特に、高温(特に300℃以上)や減圧条件で密封を要する使用を目的とする加工品、特に半導体分野の各種処理槽やチャンバーにおいて、本発明の効果は顕著に発揮される。また、石英ガラス部材からなる加工品だけでなく、一部に他の素材、例えば石英以外のガラス、セラミックス、金属、樹脂との接合を要する加工品の場合も、本発明の接合方法を使用して作成可能であり、優れた耐熱・気密特性を有するものを得ることができる。
【0018】
【実施例】
(実施例1)
接着剤1の製造
フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン1gとシリコーンレジン59gをトルエン40gに溶解し、100℃に加熱しながらトルエンを蒸発させ約2時間、より好ましくは5時間以上かけて縮合反応させる。次いで、この反応生成物を図4に示す真空チャンバー6のホットプルート7に移し、真空度100Pa、温度120℃で2〜5時間加熱しながら真空排気を行う。その後、この反応生成物を真空チャンバー6のホットプレート7上で、減圧下で加熱しながらトルエンを除去及び脱泡する。次いでホットプレート7を冷却しながら雰囲気を大気まで戻し、粘度数百mPa・sのペースト状接着剤を得た。この反応性生物を粘度200mPa・sに調整し、本発明の接着剤を得た。
【0019】
漏洩試験用チャンバー(図1参照)の作成
まず、図2に示すように、被着材として厚さ2.8mm、30mm角の直径3mmの穴1aの開いた石英ガラス板1と厚さ2.8mm、30mm角の石英ガラス板2を厚さ2.8mmで外寸25mm、幅3mmの石英ガラス枠3を用いて接着試験用の試料を作成した。各部材の接合面は、予めメチルアルコール、エチルメチルアルコール、ケトン等で洗浄を行い、十分乾燥させた。
【0020】
次に、図3に示すように、石英ガラス枠3をホットプレート7に載せ、接着剤4を石英ガラス枠3の上面に周辺を120℃に加熱したディスペンサー5を用いて該接着剤4を軟化させて塗布する。そして、図4に示すように、この接着剤4を塗布した石英ガラス枠3を真空加熱炉6に入れ、真空ポンプ9にて120℃100Paの条件で10〜60分間脱泡した。次に、穴1aの開いた石英ガラス1と石英ガラス枠3とを重ね合わせ仮接着させる。これを図示しないベーク炉に入れ、1kgの重りをのせ、300℃まで加熱し、接着剤を硬化させ接着させる。冷却後、図3に示す同様の工程で石英ガラス枠3の上面に周辺を120℃に加熱したディスペンサー5を用いて接着剤4を軟化させて塗布し、石英ガラス板2を接着し、漏洩試験用試料として真空排気可能なチャンバー8を作成した。
【0021】
漏洩試験用チャンバーの気密性、耐熱性評価
図5に示すように、漏洩試験用試料であるチャンバー8を室温にてヘリウムディテクタ(ALCATEL社製)10に接続し、ヘリウムガスをチャンバー8の周辺に吹きかけてリークチェックした結果、検出限界(10−10Pam3/S)以下の真空気密性が確認できた。
さらに、この漏洩試験用試料を300℃に加熱した後、再び室温にてリークチェックした結果、300℃加熱前と同様に検出限界以下の真空気密性が確認でき、高温においても優れていることが確認された。
【0022】
(実施例2)
シート状接着剤2の製造
フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン0.1g、2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサン0.1g、シリコーンレジン59.8gをトルエン40gに溶解し、120℃に加熱しながらトルエンを蒸発させ、約3時間縮合反応させる。次いで、図4に示すように、反応生成物を真空チャンバー6中のホットプレート7上に移し、減圧下で加熱しながら脱泡処理を行う。その後、反応生成物を真空チャンバー中のホットプレート上で、減圧下で加熱しながらトルエン除去を行う。次いで、ホットプレート7を冷却しながら雰囲気を室温まで下げ、粘度約数百mPa・sのペースト状接着剤を得た。このペースト状接着剤をテフロンシート上にトルエンで軟化させて平滑に塗布し、その状態で100℃にて5hr冷却した後、室温に戻して厚さ500μmのシート状接着剤を得た。
【0023】
漏洩試験用チャンバーの作成
実施例1で使用したペースト状接着剤を塗布する代わりに、接合面の大きさ・形状に裁断したシート状接着剤を使用し、図1に示す漏洩試験用チャンバー8を製造した。清浄化した接合面にシート状接着剤を設置してから軟化温度に昇温し軟化させる。その後、脱泡、硬化、冷却を、実施例1の方法に準じて行い、漏洩試験用チャンバー8を完成した。
【0024】
漏洩試験用チャンバーの気密性、耐熱性評価
実施例1と同様に、漏洩試験用試料であるチャンバーを室温、350℃で真空気密性を評価した結果、両温度で、良好な真空気密性が確認できた。
【0025】
(比較例1)
接着剤としてガラスフリットを使用し、実施例1と同じ漏洩試験用チャンバーを作成した。接合方法は、ガラスフリット接着剤の通常の接着方法に従った。実施例1と同様に、漏洩試験用試料であるチャンバーを室温、350℃で真空気密性を評価した結果、室温での機密性は良好であったが、340℃まで昇温した時点で大きなリークが発生し、高温での気密性は満足されるものではなかった。
【0026】
(比較例2)
接着剤としてポリスルホン系接着剤(テクノアルファ(株)製「ステイスティック301」)を使用し、実施例1と同じ漏洩試験用チャンバーを作成した。接合方法は実施例1に準じたが、温度条件等は、使用した接着剤の条件に従った。
実施例1と同様に、漏洩試験用試料であるチャンバーを室温、350℃で真空気密性を評価した結果、室温での機密性は良好であったが、300℃まで昇温した時点で大きなリークが発生し、高温での気密性は満足されるものではなかった。
【0027】
(実施例3)
石英ガラス製洗浄槽の作成
部材として、底面用の石英ガラス板1枚、側面用の石英ガラス板4枚を、上部が開放された直方体に組みたて、各部材が接着された洗浄槽を、以下の手順で作成した。
1)120℃に加温し軟化させた接着剤(実施例1で使用した接着剤)を、ディスペンサーを用いて、各部剤の接合部に均一に塗布する。
2)部材を真空炉に入れ、100Pa,120℃の条件で、10〜60分脱泡処理を行う。
3)部材の接合部を合わせて組み立て、仮接着させる。
4)3)をベーク炉に入れて100℃/hrにて300℃まで昇温し、30分間加熱する。
5)室温まで放冷する。
【0028】
上述のように構成された石英ガラス製洗浄槽は、耐熱性・機密性に優れ、高温においても接着材に含有されている有機性のガスが発生しない。そのため、図6に示すように、従来使用されていた高価な火加工によるウェハー洗浄槽の代わりに、ウェハー11を洗浄する安価なウェハー洗浄槽12として使用することができるものである。
【0029】
【発明の効果】
本発明によれば、石英ガラスの接合を高温・減圧下でも優れた密封性を有する、耐熱性・気密性に優れた石英ガラス製加工品を効率・精度よく製造することができ、安価なウェハー洗浄槽として使用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】漏洩試験用チャンバーの斜視図である。
【図2】図1におけるA−A断面図である。
【図3】ディスペンサーによる接着剤の塗布状態を示す平面図である。
【図4】真空チャンバーにおける脱泡、接着状態を示す断面図である。
【図5】実施例1、2で得た漏洩試験用チャンバーのリークディテクター試験状態を示す断面図である。
【図6】実施例3で得た石英ガラス製洗浄槽をウェハー洗浄槽として使用した状態を示す斜視図ある。
【符号の説明】
1 穴の開いた石英ガラス板
1a穴
2 石英ガラス板
3 石英ガラス枠
4 接着剤
5 ディスペンサー
6 真空チャンバー
7 ホットプレート
8 漏洩試験用チャンバー
9 真空ポンプ
10ヘリウムディテクタ
11ウェハー
12ウェハー洗浄槽
Claims (2)
- 少なくとも一方の接合面が石英ガラスである部材を接合する場合において、前記接合面にシリコーンレジンとフェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンとの縮合物を含有する熱硬化性接着剤を介在させることを特徴とする石英ガラスの接合方法。
- 石英ガラス製部材を1以上含む複数の部材からなり、少なくとも石英ガラス製部材と隣接部材の接合面が、シリコーンレジンとフェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンとの縮合物を含有する熱硬化性接着剤によって接合されていることを特徴とする石英ガラスの構造物。
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