JP4202949B2 - 平版印刷版原版 - Google Patents
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Description
本発明は、平版印刷版原版に関し、より詳細には、コンピュータ等のディジタル信号から直接製版できる、所謂ダイレクト製版用のポジ型平版印刷版原版に関する。
近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは、高出力且つ小型の物が容易に入手できるようになっている。これらのレーザは、平版印刷の分野においても、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として非常に有用である。
一般的な赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版としては、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収剤と、該バインダー樹脂と相互作用して現像液に対する溶解性を低下させる化合物（現像抑制剤）と、を必須成分とするが、現像抑制能を有する赤外線吸収剤を用いた場合、必須成分はバインダー樹脂及び赤外線吸収剤のみとなる。即ち、この赤外線吸収剤が、未露光部（画像部）では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働き、露光部（非画像部）では、発生した熱によりＩＲ染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して画像を形成する。
しかしながら、このような赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版では、様々な使用条件における未露光部（画像部）の現像液に対する耐溶解性と、露光部（非画像部）の溶解性との間の差、すなわち現像ラチチュードが未だ充分とは言えず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起き易いという問題があった。
このような問題は、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版とＵＶ露光により製版するポジ型平版印刷版原版との製版メカニズムの本質的な相違に由来する。即ち、ＵＶ露光により製版するポジ型平版印刷版原版では、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類とを必須成分とするが、このオニウム塩やキノンジアジド化合物類は、未露光部（画像部）でバインダー樹脂との相互作用により溶解阻止剤として働くだけでなく、露光部（非画像部）では、光によって分解して酸を発生し、溶解促進剤として働くという二つの役割を果たすものである。
これに対し、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版における赤外線吸収剤は、露光部（非画像部）における光熱変換作用、及び未露光部（画像部）の溶解阻止剤として働くのみで、露光部の溶解を促進するものではない。さらに、露光部の支持体との界面近傍では、発生した熱が支持体へと拡散し、効率よく画像形成に使用されないこともあって、残膜が発生しやすいという欠点を有する。
このような問題を解決する目的で、アルカリ現像液に対する溶解性の高いバインダー樹脂を使用して熱処理により耐アルカリ性を発現する方法（例えば、特許文献１参照。）や、メラミン誘導体のごとくアミノ基を有し反応性の高い化合物を添加する方法（例えば、特許文献２参照。）が提案されているが、これらの方法では、長時間におよぶ熱処理が必要となったり、現像前の状態が不安定なものとなり、保存安定性が低下する懸念があった。
また、同じく非画像部のアルカリ溶解性（現像性）を向上させる目的で、酸基を有する赤外線吸収剤を使用するなどの試みがなされていたが（例えば、特許文献３参照。）、これにより、非画像部の現像性は向上するものの、現像ラチチュードが実用上充分なレベルに達しないという問題があった。
特表２００１−５２０９５３号公報
特開平１１−２０２４８１号公報
特開２０００−２６７２６５公報
また、同じく非画像部のアルカリ溶解性（現像性）を向上させる目的で、酸基を有する赤外線吸収剤を使用するなどの試みがなされていたが（例えば、特許文献３参照。）、これにより、非画像部の現像性は向上するものの、現像ラチチュードが実用上充分なレベルに達しないという問題があった。
上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、現像ラチチュードに優れたポジ型平版印刷版原版を提供することにある。
本発明者は鋭意研究を重ねた結果、平版印刷版原版の記録層成分として、特定の赤外線吸収剤を用いることで上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、（Ａ）酸基を有するカチオン性色素であって、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンである赤外線吸収剤（以下、適宜「特定赤外線吸収剤」と称する）を含有し、赤外線の照射により画像形成可能な記録層を有することを特徴とする。
なお、本発明においては、上記記録層成分として、さらに（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい態様として挙げられる。
さらに、本発明においては、上記酸基が、カルボキシ基であることが好ましく、また、上記対アニオンが、スルホン酸基を有する２〜３価のイオンであることも好ましい。
即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、（Ａ）酸基を有するカチオン性色素であって、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンである赤外線吸収剤（以下、適宜「特定赤外線吸収剤」と称する）を含有し、赤外線の照射により画像形成可能な記録層を有することを特徴とする。
なお、本発明においては、上記記録層成分として、さらに（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい態様として挙げられる。
さらに、本発明においては、上記酸基が、カルボキシ基であることが好ましく、また、上記対アニオンが、スルホン酸基を有する２〜３価のイオンであることも好ましい。
本発明の請求項２に係る平版印刷版原版は、支持体上に、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び該（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層と、を有し、上層および下層の少なくとも一方に、（Ａ）酸基を有するカチオン性色素であって、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンである赤外線吸収剤を含有することを特徴とする。なお、この場合、上記（Ａ）成分は、上層に含まれていることが効果の観点から好ましい。
本発明の作用は明確ではないが、以下のように推測される。
上述したように、酸基を有する赤外線吸収剤を使用した平版印刷版原版は、非画像部のアルカリ溶解性は向上するが、現像ラチチュードが不充分となる傾向があった。これに対し、本発明に用いられる特定赤外線吸収剤は、酸基を有するカチオン性色素の対アニオンとして多価アニオンを用いているため、多価アニオンを介して複数のカチオン性色素が会合した状態で記録層中に存在する。ここで、酸基は一般的に水素結合性が高いため、上記カチオン性色素が会合することで、カチオン性色素上に存在する酸基同士の水素結合が促進され、酸基本来のアルカリ溶解性が抑制されるものと考えられる。また、上記会合状態は、赤外線露光時の発熱による分子運動で容易に解除されるため、同時に酸基間の水素結合も解除されて酸基本来のアルカリ溶解性が回復するものと考えられる。したがって、本発明の平版印刷版原版は、現像ラチチュードに優れるものと推測される。
色素から見た性能向上の観点から、例えば、特開平１１−１１９４２１号公報には、感度を向上する目的で、色素の対アニオンとして多価アニオンを用いることで色素の凝集を生起させる技術が開示されているが、多価アニオンを有していてもカチオン部に酸基を有しないこのような色素では本発明の如き現像ラチチュードの向上効果は得られない。
上述したように、酸基を有する赤外線吸収剤を使用した平版印刷版原版は、非画像部のアルカリ溶解性は向上するが、現像ラチチュードが不充分となる傾向があった。これに対し、本発明に用いられる特定赤外線吸収剤は、酸基を有するカチオン性色素の対アニオンとして多価アニオンを用いているため、多価アニオンを介して複数のカチオン性色素が会合した状態で記録層中に存在する。ここで、酸基は一般的に水素結合性が高いため、上記カチオン性色素が会合することで、カチオン性色素上に存在する酸基同士の水素結合が促進され、酸基本来のアルカリ溶解性が抑制されるものと考えられる。また、上記会合状態は、赤外線露光時の発熱による分子運動で容易に解除されるため、同時に酸基間の水素結合も解除されて酸基本来のアルカリ溶解性が回復するものと考えられる。したがって、本発明の平版印刷版原版は、現像ラチチュードに優れるものと推測される。
色素から見た性能向上の観点から、例えば、特開平１１−１１９４２１号公報には、感度を向上する目的で、色素の対アニオンとして多価アニオンを用いることで色素の凝集を生起させる技術が開示されているが、多価アニオンを有していてもカチオン部に酸基を有しないこのような色素では本発明の如き現像ラチチュードの向上効果は得られない。
また、記録層が重層構造をとった場合の画像部（未露光部）においては、記録層の上層が耐アルカリ現像層として存在するが、特に、上層に特定赤外線吸収剤を入れた場合は、前記した高い耐現像性が有効に機能するものと考えられる。このような観点から、特定赤外線吸収剤を上層に添加することが好ましい態様であると言える。また、特定赤外線吸収剤を下層に入れた場合は、下層の耐水性及び耐現像性が向上する。一方、非画像部（露光部）においては、上記いずれの場合も、露光により前記会合状態が容易に解除され、記録層がアルカリ現像液に速やかに溶解、分散するものと考えられる。
本発明によれば、現像ラチチュードに優れたポジ型平版印刷版原版を提供することができる。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、（Ａ）酸基を有するカチオン性色素であって、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンである赤外線吸収剤（特定赤外線吸収剤）を含有し、赤外線の照射により画像形成可能な記録層を有することを特徴とする。なお、上記記録層には、さらに（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を添加することが好ましい。また、記録層のインヒビション（溶解抑制能）を高める目的で（Ｃ）現像抑制剤を添加することも好ましい態様である。
このような記録層としては、その層構成に特に制限はなく、単層構造であっても、構成成分の異なる複数の層からなる重層構造であってもよい。
まず、単層型記録層について、詳細に説明する。
このような記録層としては、その層構成に特に制限はなく、単層構造であっても、構成成分の異なる複数の層からなる重層構造であってもよい。
まず、単層型記録層について、詳細に説明する。
［単層型記録層］
〔（Ａ）特定赤外線吸収剤〕
本発明に用いられる特定赤外線吸収剤としては、発色団に共有結合により連結された酸基を有するカチオン性色素であり、且つ、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンであれば特に制限なく用いることができるが、画像形成性の他、安定性、入手性、塗布溶剤への溶解性等の観点からポリメチン色素であることが好ましい。ポリメチン色素としては、シアニン色素、（チオ）ピリリウム色素等の窒素、硫黄、酸素原子上に正電荷を有する種々のカチオン性色素が好ましいが、安定性、溶剤に対する溶解性、入手性等の観点からシアニン色素が特に好ましい。シアニン色素の中でも本発明で好適に用いられる色素としては、そのカチオン部が下記一般式（１）で示される骨格を有するものが挙げられる。
〔（Ａ）特定赤外線吸収剤〕
本発明に用いられる特定赤外線吸収剤としては、発色団に共有結合により連結された酸基を有するカチオン性色素であり、且つ、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンであれば特に制限なく用いることができるが、画像形成性の他、安定性、入手性、塗布溶剤への溶解性等の観点からポリメチン色素であることが好ましい。ポリメチン色素としては、シアニン色素、（チオ）ピリリウム色素等の窒素、硫黄、酸素原子上に正電荷を有する種々のカチオン性色素が好ましいが、安定性、溶剤に対する溶解性、入手性等の観点からシアニン色素が特に好ましい。シアニン色素の中でも本発明で好適に用いられる色素としては、そのカチオン部が下記一般式（１）で示される骨格を有するものが挙げられる。
一般式（１）中、Ｑは環構造及び／又は置換基を有しても良いポリメチン鎖を表し、８３０ｎｍ付近に発光波長を有する半導体レーザや１０６４ｎｍのＹＡＧレーザに対する波長適合性の観点から、ペンタメチン鎖、ヘプタメチン鎖、ノナメチン鎖、ウンデカメチン鎖が好ましく、上記半導体レーザに対する波長適合性および安定性の観点からペンタメチン鎖、又はヘプタメチン鎖が特に好ましい。安定性の観点からＱで表されるポリメチン鎖内に環構造を有することが好ましく、環構造としては５員環または６員環が好ましい。特に好ましいＱの具体例としては下記のものが挙げられ、これらＱは、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基より選択される置換基を有していてもよく、波長適性や溶剤溶解性の観点からハロゲン原子、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基が好ましく、塩素原子、アリールチオ基、ジアリールアミノ基が特に好ましい置換基として挙げられる。
一般式（１）中、Ａｒ1及びＡｒ2は、各々独立に、芳香族炭化水素または複素環を表し、好ましい芳香族炭化水素としてはベンゼン環およびナフタレン環、好ましい複素環としてはピリジン環、ピリミジン環が挙げられ、原料入手性の観点からベンゼン環およびナフタレン環が特に好ましい。また、Ａｒ1、Ａｒ2は置換基を有しても良く、好ましい置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基が挙げられ、これらの置換基同士が結合して環構造を形成していても良い。
一般式（１）中、Ｙ1及びＹ2は、各々独立に、ヘテロ原子、ジアルキルメチレン基、−ＮＲ3−基又は−ＣＨ＝ＣＨ−基を表す。ヘテロ原子としては酸素原子、硫黄原子、セレン原子が挙げられるが安全性の観点から酸素原子または硫黄原子が好ましく、波長適性の観点から硫黄原子が特に好ましい。ジアルキルメチレン基としてはジメチルメチレン基が特に好ましいが、アルキル基は互いに連結して環を形成しても良く、形成する環としては５員環または６員環が好ましい。上記−ＮＲ3−基のＲ3は、水素原子、アルキル基、またはアリール基から選択され、水素原子、またはアルキル基が好ましい。これらの中でもＹ1、Ｙ2としてはヘテロ原子またはジアルキルメチレン基であることが好ましく、特に、硫黄原子またはジメチルメチレン基が好ましい。
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2は、各々独立に、アルキル基、又はアリール基を表す。これらは、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、シアノ基、水酸基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基より選択される置換基を有していてもよいが、Ｒ1、Ｒ2としては無置換のアルキル基が好ましい。
また、発色団が上記一般式（１）の骨格を有する場合、酸基は、一般式（１）で表される骨格中のいずれの部位に置換されてもよく、好ましい置換部位としては、Ｒ1およびＲ2で表されるアルキル基またはアリール基、Ａｒ1およびＡｒ2で表される芳香族炭化水素または複素環、Ｑで表されるポリメチン鎖が挙げられる。中でも、Ｒ1、Ｒ2、Ａｒ1及びＡｒ2のうち少なくとも１部位が置換部位となることがより好ましく、Ｒ1及びＲ2の少なくとも１部位が置換部位となることが特に好ましい。
なお、該酸基は、これらの置換部位に直接連結されていても、２価の有機基を介して連結されていても良い。そのような２価の有機連結基としては、上記Ｒ1又はＲ2で表されるアルキル基、又はアリール基より水素原子を１つ除したものが挙げられ、中でも、炭素数１〜１１のアルキレン基が好ましい。
なお、該酸基は、これらの置換部位に直接連結されていても、２価の有機基を介して連結されていても良い。そのような２価の有機連結基としては、上記Ｒ1又はＲ2で表されるアルキル基、又はアリール基より水素原子を１つ除したものが挙げられ、中でも、炭素数１〜１１のアルキレン基が好ましい。
発色団に共有結合により連結される酸基はアルカリ水溶液に対して解離性を示す水素原子を有する酸基であれば好適に用いることができるが、アルカリ可溶性の程度の観点から、酸基のｐＫａは１５以下であることが好ましく、ｐＫａが１３以下であることがより好ましく、ｐＫａが２〜１１であることが特に好ましい。また、酸基は、その前駆体であっても、共役塩基とともに塩を形成したものであってもよいが、露光部のアルカリ溶解性を向上する観点からはフリーの酸基であることが好ましい。
このような酸基としては、例えば、下記（１）〜（７）に挙げる基が、アルカリ現像液に対する溶解性および会合体（水素結合）形成性の点から好ましい。
（１）フェノール性水酸基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）
（３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）
［−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ］
（４）カルボキシ基（−ＣＯ2Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（６）ホスホン酸基（−ＰＯ3Ｈ2）
（７）メルカプト基（−ＳＨ）
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
（１）フェノール性水酸基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）
（３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）
［−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ］
（４）カルボキシ基（−ＣＯ2Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（６）ホスホン酸基（−ＰＯ3Ｈ2）
（７）メルカプト基（−ＳＨ）
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
上記（１）〜（７）より選ばれる酸基の中でも、（１）フェノール性水酸基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イミド基、（４）カルボキシ基が好ましく、特に、（３）活性イミド基、（４）カルボキシ基が最も好ましい。
このような酸基は、１つの発色団中に複数個存在していてもよく、好ましくは、１〜４個程度、より好ましくは１〜２個程度である。
このような酸基は、１つの発色団中に複数個存在していてもよく、好ましくは、１〜４個程度、より好ましくは１〜２個程度である。
また、本発明に用いられる赤外線吸収剤の対アニオンである多価アニオンとしては、２価以上の多価アニオンであれば限定することなく用いることができるが、好ましくは下記一般式（２）の構造を有するアニオンが挙げられる。
Ｒ（ＳＯ3 -）n ・・・一般式（２）
Ｒ（ＳＯ3 -）n ・・・一般式（２）
上記一般式（２）中、Ｒはｎ価の有機基を表し、好ましくは芳香族残基を表し、より好ましくは、ベンゼン残基、ナフタレン残基、アントラセン残基等を表す。これらの環上には置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、置換もしくは未置換のフェニル基、アラルキル基（例えば、ベンジル基等）、低級アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、ジ置換アミノ基（例えば、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モルホリノ基、イミダゾリノ基、エトキシカルボニルピペラジノ基等）、アルキルカルボニルオキシ基（例えば、アセトキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基等）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）を挙げることができる。
ｎは２以上の整数を表し、２〜４の整数が好ましく、２〜３の整数であることが特に好ましい。
ここで、一般式（２）で表される対アニオンのうち、好適に用いることのできるものを以下に挙げる。
ｎは２以上の整数を表し、２〜４の整数が好ましく、２〜３の整数であることが特に好ましい。
ここで、一般式（２）で表される対アニオンのうち、好適に用いることのできるものを以下に挙げる。
また、カチオン部と対アニオンを併せた好ましい例としては、以下の一般式（３）〜（５）で表されるものが挙げられる。
一般式（３）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｙ1、及びＹ2は、それぞれ前記一般式（１）と同義であり、特に、Ａｒ1、Ａｒ2はそれぞれ独立に、ベンゼン環またはナフタレン環であることが好ましく、Ｙ1、Ｙ2はそれぞれ独立に、ジメチルメチレン基であることが好ましい。
また、Ｒ1a、Ｒ2aは、それぞれ前記一般式（１）で定義したＲ1またはＲ2より水素原子を１つ除した２価の有機基を表し、そのような有機基としては、炭素数１〜１１のアルキレン基であることが好ましい。
Ａ1、Ａ2はそれぞれ独立に、酸基または水素原子を表し、Ａ1及びＡ2の少なくとも一方が酸基であることを要する。該酸基としては、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボキシ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、メルカプト基より選択されることが好ましく、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボキシ基より選択されることがより好ましい。
Ｒ3は、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基より選択され、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アリールチオ基、アミノ基より選択されることが好ましい。
Ｚは、Ｃ＝Ｃ−Ｃとともに５又は６員環を形成するのに必要な非金属性の原子団を表す。
Ｘn-はｎ価の対アニオンを表し、ｎは２〜４の整数を表す。好ましくは、前記一般式（２）で表される対アニオンが挙げられる。
また、Ｒ1a、Ｒ2aは、それぞれ前記一般式（１）で定義したＲ1またはＲ2より水素原子を１つ除した２価の有機基を表し、そのような有機基としては、炭素数１〜１１のアルキレン基であることが好ましい。
Ａ1、Ａ2はそれぞれ独立に、酸基または水素原子を表し、Ａ1及びＡ2の少なくとも一方が酸基であることを要する。該酸基としては、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボキシ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、メルカプト基より選択されることが好ましく、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボキシ基より選択されることがより好ましい。
Ｒ3は、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基より選択され、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アリールチオ基、アミノ基より選択されることが好ましい。
Ｚは、Ｃ＝Ｃ−Ｃとともに５又は６員環を形成するのに必要な非金属性の原子団を表す。
Ｘn-はｎ価の対アニオンを表し、ｎは２〜４の整数を表す。好ましくは、前記一般式（２）で表される対アニオンが挙げられる。
一般式（４）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ1、及びＲ2は、それぞれ前記一般式（１）と同義であり、Ｚ、Ｘn-、及びｎは、それぞれ上記一般式（３）と同義である。
Ｒ3aは、上記一般式（３）で定義したＲ3より水素原子を１つ除した２価の有機基であり、炭素数１〜６のアルキレンチオ基またはアリーレンチオ基であることが好ましい。
Ａは酸基であり、上記一般式（３）で定義したＡ1、Ａ2と同義である。
Ｒ3aは、上記一般式（３）で定義したＲ3より水素原子を１つ除した２価の有機基であり、炭素数１〜６のアルキレンチオ基またはアリーレンチオ基であることが好ましい。
Ａは酸基であり、上記一般式（３）で定義したＡ1、Ａ2と同義である。
一般式（５）中、Ｒ3、Ａ1、Ａ2、Ｚ、Ｘn-、及びｎは、それぞれ上記一般式（３）と同義であり、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ1、及びＲ2は、それぞれ前記一般式（１）と同義である。
Ｒ1b及びＲ2bはそれぞれ独立して、単結合、又は前記一般式（１）で定義したＲ1又はＲ2より水素原子を１つ除した２価の有機基を表し、単結合であることが好ましい。
本発明で好適に用いられる特定赤外線吸収剤の具体的な例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Ｒ1b及びＲ2bはそれぞれ独立して、単結合、又は前記一般式（１）で定義したＲ1又はＲ2より水素原子を１つ除した２価の有機基を表し、単結合であることが好ましい。
本発明で好適に用いられる特定赤外線吸収剤の具体的な例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明に係る特定赤外線吸収剤の合成方法としては、（Ａ）対アニオンが１価のアニオンであり、酸基を有するカチオン性色素をＣｙｔｏｍｅｔｒｙ２１巻２号１２０〜１２８頁（１９９５年）、特開２０００−２６７２６５公報、米国特許第５，４５３，５０５号公報等に記載の公知の合成方法により合成し、その後に、２価以上の多価アニオンに対アニオンを塩交換する方法や、（Ｂ）対アニオンが２価以上の多価アニオンであるカチオン性色素を合成した後に、酸基を導入することにより合成する方法等を挙げることができるが、適用範囲が広く、簡便であることから（Ａ）の合成方法で合成することが好ましい。（Ａ）の合成方法による本発明に係る特定赤外線吸収剤の合成方法の一例を以下に示す。
＜合成例：特定赤外線吸収剤Ｓ−１の合成＞
−（Ｓ−１Ｂ）の合成−
１，１，２−トリメチル−１Ｈ−ベンズ（ｅ）インドール（Ｓ−１Ｃ；下記構造）２５．２ｇ、ブロモ酢酸１３．９ｇ、及びトルエン４０ｇを混合し、１２０℃で４時間加熱した。反応後、析出した固体をろ取し、トルエンで洗浄した後に、トルエンとイソプロピルアルコールとの混合溶媒で再結晶し、４級塩化合物（Ｓ−１Ｂ；下記構造）２０．３ｇを得た。
−（Ｓ−１Ｂ）の合成−
１，１，２−トリメチル−１Ｈ−ベンズ（ｅ）インドール（Ｓ−１Ｃ；下記構造）２５．２ｇ、ブロモ酢酸１３．９ｇ、及びトルエン４０ｇを混合し、１２０℃で４時間加熱した。反応後、析出した固体をろ取し、トルエンで洗浄した後に、トルエンとイソプロピルアルコールとの混合溶媒で再結晶し、４級塩化合物（Ｓ−１Ｂ；下記構造）２０．３ｇを得た。
−（Ｓ−１Ａ）の合成−
上記４級塩化合物（Ｓ−１Ｂ）８．３６ｇ及びＮ−（（２−クロロ−３−（（フェニルアミノ）メチレン）−１−シクロヘキセン−１−イル）メチレン）ベンゼンアミン塩酸塩４．１１ｇをメタノール３６ｍｌに溶解し、撹拌下、無水酢酸４．６３ｇを加え１０分間撹拌を続けた。さらに、トリエチルアミン４．６４ｇを滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物２．６３ｇの水溶液（２０ｍｌ）を加え、約５℃まで冷却した。析出した固体をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、ｐ−トルエンスルホン酸アニオンを対アニオンとし、カルボキシ基を有するカチオン性赤外線吸収剤（Ｓ−１Ａ；下記構造）８．１ｇを得た。
上記４級塩化合物（Ｓ−１Ｂ）８．３６ｇ及びＮ−（（２−クロロ−３−（（フェニルアミノ）メチレン）−１−シクロヘキセン−１−イル）メチレン）ベンゼンアミン塩酸塩４．１１ｇをメタノール３６ｍｌに溶解し、撹拌下、無水酢酸４．６３ｇを加え１０分間撹拌を続けた。さらに、トリエチルアミン４．６４ｇを滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物２．６３ｇの水溶液（２０ｍｌ）を加え、約５℃まで冷却した。析出した固体をろ取し、酢酸エチルで洗浄し、ｐ−トルエンスルホン酸アニオンを対アニオンとし、カルボキシ基を有するカチオン性赤外線吸収剤（Ｓ−１Ａ；下記構造）８．１ｇを得た。
−（Ｓ−１）の合成−
２，６−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム８．０ｇを水２４０ｍｌに溶解した水溶液に、上記赤外線吸収剤（Ｓ−１Ａ）４．１ｇのメタノール溶液（４０ｍｌ）を撹拌下、滴下した。１時間撹拌を続けた後に、析出している固体をろ取し、水洗後、乾燥した。得られた赤外線吸収剤のメタノール溶液（４０ｍｌ）を２，６−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム８．０ｇを水２４０ｍｌに溶解した水溶液に撹拌下、滴下した。１時間撹拌を続けた後に、析出している固体をろ取し、水洗後、乾燥した。この操作をもう一度繰り返し、特定赤外線吸収剤Ｓ−１を３．４ｇ得た。得られたＳ−１のメタノール中での吸収極大波長は８１１ｎｍ、モル求光係数（ε）は４．７７×１０5（Ｍ-1・ｃｍ-1）であった。
以下に、特定赤外線吸収剤Ｓ−１の合成スキームを示す。
２，６−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム８．０ｇを水２４０ｍｌに溶解した水溶液に、上記赤外線吸収剤（Ｓ−１Ａ）４．１ｇのメタノール溶液（４０ｍｌ）を撹拌下、滴下した。１時間撹拌を続けた後に、析出している固体をろ取し、水洗後、乾燥した。得られた赤外線吸収剤のメタノール溶液（４０ｍｌ）を２，６−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム８．０ｇを水２４０ｍｌに溶解した水溶液に撹拌下、滴下した。１時間撹拌を続けた後に、析出している固体をろ取し、水洗後、乾燥した。この操作をもう一度繰り返し、特定赤外線吸収剤Ｓ−１を３．４ｇ得た。得られたＳ−１のメタノール中での吸収極大波長は８１１ｎｍ、モル求光係数（ε）は４．７７×１０5（Ｍ-1・ｃｍ-1）であった。
以下に、特定赤外線吸収剤Ｓ−１の合成スキームを示す。
本発明に係る特定赤外線吸収剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。また、本発明の効果を損なわない範囲で後述するその他の赤外線吸収剤を併用してもよい。
（その他の赤外線吸収剤）
上記（Ａ）特定赤外線吸収剤と併用可能なその他の赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。中でも、後述のアルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、記録層の現像液（アルカリ水溶液）に対する溶解性を実質的に低下させる機能を有する赤外線吸収剤を用いることが好ましく、例えば、シアニン色素が優れた溶解抑制能を有するものとして挙げられる。
上記（Ａ）特定赤外線吸収剤と併用可能なその他の赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。中でも、後述のアルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、記録層の現像液（アルカリ水溶液）に対する溶解性を実質的に低下させる機能を有する赤外線吸収剤を用いることが好ましく、例えば、シアニン色素が優れた溶解抑制能を有するものとして挙げられる。
本発明に係る赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち赤外光、若しくは近赤外光を吸収するものが、赤外光若しくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
そのような赤外光、若しくは近赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
また、染料として米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ III−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１２５等が、特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
単層型記録層における、特定赤外線吸収剤及びその他の赤外線吸収剤を含む、全赤外線吸収剤の添加量としては、感度及び記録層の被膜性の観点から、単層型記録層の全固形分中、０．５〜２５質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることがより好ましく、２〜１０質量％であることが最も好ましい。
また、その他の赤外線吸収剤を併用する場合の添加量は、上記全赤外線吸収剤の添加量に対して、５０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。
また、その他の赤外線吸収剤を併用する場合の添加量は、上記全赤外線吸収剤の添加量に対して、５０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。
〔（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂〕
本発明に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖および／または側鎖に酸基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれらの混合物をであることが好ましい。
中でも、下記（１）〜（６）に挙げる酸基を高分子の主鎖および／または側鎖中に有するものが、耐現像性の点、アルカリ水溶液に対する溶解性の点で好ましい。
本発明に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖および／または側鎖に酸基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれらの混合物をであることが好ましい。
中でも、下記（１）〜（６）に挙げる酸基を高分子の主鎖および／または側鎖中に有するものが、耐現像性の点、アルカリ水溶液に対する溶解性の点で好ましい。
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）
（３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）
〔−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ〕
（４）カルボキシ基（−ＣＯ2Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）
（３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）
〔−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ〕
（４）カルボキシ基（−ＣＯ2Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
上記（１）〜（６）より選ばれる酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基および（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、（１）フェノール基または（２）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
上記（１）〜（６）より選ばれる酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
（１）フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
（１）フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
フェノール基を有する化合物としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。
（２）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式（ｉ）〜一般式（ｖ）で表される化合物が挙げられる。
〔式中、Ｘ1、Ｘ2は、それぞれ独立に−Ｏ−または−ＮＲ7を表す。Ｒ1、Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子又は−ＣＨ3を表す。Ｒ2、Ｒ5、Ｒ9、Ｒ12、及び、Ｒ16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ3、Ｒ7、及び、Ｒ13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ6、Ｒ17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ8、Ｒ10、Ｒ14は、それぞれ独立に水素原子又は−ＣＨ3を表す。Ｒ11、Ｒ15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ1、Ｙ2は、それぞれ独立に単結合又はＣＯを表す。〕
一般式（ｉ）〜一般式（ｖ）で表される化合物のうち、特に、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物を挙げることができる。
具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
（４）カルボキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシ基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
（５）スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
（６）リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
（５）スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
（６）リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
本発明に係るアルカリ可溶性樹脂を構成する、前記（１）〜（６）より選ばれる酸基を有する最小構成単位は、特に１種類のみである必要はなく、同一の酸基を有する最小構成単位を２種以上、または異なる酸基を有する最小構成単位を２種以上共重合させたものを用いることもできる。
前記共重合体は、共重合させる（１）〜（６）より選ばれる酸基を有する化合物が共重合体中に１０モル％以上含まれているものが好ましく、２０モル％以上含まれているものがより好ましい。１０モル％未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させることができない傾向がある。
本発明では、化合物を共重合してアルカリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる化合物として、前記（１）〜（６）の酸基を含まない他の化合物を用いることもできる。（１）〜（６）の酸基を含まない他の化合物の例としては、下記（ｍ１）〜（ｍ１２）に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
（ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
（ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レーザ等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−、ｐ−、又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂は、その質量平均分子量が５００以上であることが画像形成性の点で好ましく、１，０００〜７００，０００であることがより好ましい。また、その数平均分子量が５００以上であることが好ましく、７５０〜６５０，０００であることがより好ましい。分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は１．１〜１０であることが好ましい。
また、これらのアルカリ可溶性樹脂は単独で用いるのみならず、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合には、米国特許第４１２３２７９号明細書に記載されているような、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先に提出した特開２０００−２４１９７２号公報に記載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂などを併用してもよい。
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を用いる場合の添加量は、膜強度及び画像形成性の観点から、単層型記録層の全固形分中、３０〜９８質量％が好ましく、４０〜９５質量％がより好ましい。
〔（Ｃ）現像抑制剤〕
本発明に係る記録層には、そのインヒビション（溶解抑制能）を高める目的で、（Ｃ）現像抑制剤を含有させることが好ましい。特に、前記赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを使用する場合には、この現像抑制剤は画像部の耐アルカリ性を維持するための重要成分となりうる。
本発明に用いられる現像抑制剤としては、前記アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、未露光部において該アルカリ可溶性樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させ、且つ、露光部においては該相互作用が弱まり、現像液に対して可溶となり得るものであれば特に限定はされないが、特に４級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。また後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
本発明に係る記録層には、そのインヒビション（溶解抑制能）を高める目的で、（Ｃ）現像抑制剤を含有させることが好ましい。特に、前記赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを使用する場合には、この現像抑制剤は画像部の耐アルカリ性を維持するための重要成分となりうる。
本発明に用いられる現像抑制剤としては、前記アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、未露光部において該アルカリ可溶性樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させ、且つ、露光部においては該相互作用が弱まり、現像液に対して可溶となり得るものであれば特に限定はされないが、特に４級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。また後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
４級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアリールアンモニウム塩、ジアルキルジアリールアンモニウム塩、アルキルトリアリールアンモニウム塩、テトラアリールアンモニウム塩、環状アンモニウム塩、二環状アンモニウム塩が挙げられる。
具体的には、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトララウリルアンモニウムブロミド、テトラフェニルアンモニウムブロミド、テトラナフチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラステアリルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ベヘニルトリメチルアンモニウムブロミド、ラウリルトリエチルアンモニウムブロミド、フェニルトリメチルアンモニウムブロミド、３−トリフルオロメチルフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ジベンジルジメチルアンモニウムブロミド、ジステアリルジメチルアンモニウムブロミド、トリステアリルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヒドロキシフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、Ｎ−メチルピリジニウムブロミド等が挙げられる。特に特願２００１−２２６２９７号、特願２００１−３７００５９、特願２００１−３９８０４７明細書記載の４級アンモニウム塩が好ましい。
具体的には、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトララウリルアンモニウムブロミド、テトラフェニルアンモニウムブロミド、テトラナフチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラステアリルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ベヘニルトリメチルアンモニウムブロミド、ラウリルトリエチルアンモニウムブロミド、フェニルトリメチルアンモニウムブロミド、３−トリフルオロメチルフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ジベンジルジメチルアンモニウムブロミド、ジステアリルジメチルアンモニウムブロミド、トリステアリルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヒドロキシフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、Ｎ−メチルピリジニウムブロミド等が挙げられる。特に特願２００１−２２６２９７号、特願２００１−３７００５９、特願２００１−３９８０４７明細書記載の４級アンモニウム塩が好ましい。
４級アンモニウム塩の添加量は、現像抑制効果や前記アルカリ可溶性樹脂の製膜性等の観点から、単層型記録層の全固形分に対して０．１〜２５質量％であることが好ましく、０．５〜１５質量％であることがより好ましい。
また、ポリエチレングリコール化合物としては、特に限定されないが、下記一般式（Ｉ）で表される構造のものが挙げられる。
Ｒ1−｛−Ｏ−（Ｒ3−Ｏ−）m−Ｒ2｝n ・・・一般式（Ｉ）
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1は多価アルコール残基又は多価フェノール残基を表し、Ｒ2は水素原子、置換基を有していても良い炭素原子数１〜２５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基を表す。Ｒ3は置換基を有しても良いアルキレン残基を表し、ｍは平均で１０以上、ｎは１以上４以下の整数を表す。
Ｒ1−｛−Ｏ−（Ｒ3−Ｏ−）m−Ｒ2｝n ・・・一般式（Ｉ）
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1は多価アルコール残基又は多価フェノール残基を表し、Ｒ2は水素原子、置換基を有していても良い炭素原子数１〜２５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基を表す。Ｒ3は置換基を有しても良いアルキレン残基を表し、ｍは平均で１０以上、ｎは１以上４以下の整数を表す。
上記一般式（Ｉ）で表されるポリエチレングリコール化合物の例としては、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール類、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールアリールエーテル類、ポリプロピレングリコールアリールエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールグリセリンエステル、ポリプロピレングリコールグリセリンエステル類、ポリエチレンソルビトールエステル類、ポリプロピレングリコールソルビトールエステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリプロピレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン類、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン類、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン類、ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン類が挙げられる。
更にこれらの具体例としては、ポリエチレングリコール１０００、ポリエチレングリコール２０００、ポリエチレングリコール４０００、ポリエチレングリコール１００００、ポリエチレングリコール２００００、ポリエチレングリコール５０００、ポリエチレングリコール１０００００、ポリエチレングリコール２０００００、ポリエチレングリコール５０００００、ポリプロピレングリコール１５００、ポリプロピレングリコール３０００、ポリプロピレングリコール４０００、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールエチルエーテル、ポリエチレングリコールフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジエチルエーテル、ポリエチレングリコールジフェニルエーテル、ポリエチレングリコールラウリルエーテル、ポリエチレングリコールジラウリルエーテル、ポリエチレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル、ポリエチレングリコールジステアリルエーテル、ポリエチレングリコールベヘニルエーテル、ポリエチレングリコールジベヘニルエーテル、ポリプロピレングリコールメチルエーテル、ポリプロピレングリコールエチルエーテル、ポリプロピレングリコールフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールジメチルエーテル、ポリプロピレングリコールジエチルエーテル、ポリプロピレングリコールジフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールラウリルエーテル、ポリプロピレングリコールジラウリルエーテル、ポリプロピレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコールアセチルエステル、ポリエチレングリコールジアセチルエステル、ポリエチレングリコール安息香酸エステル、ポリエチレングリコールラウリルエステル、ポリエチレングリコールジラウリルエステル、ポリエチレングリコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールセチル酸エステル、ポリエチレングリコールステアロイルエステル、ポリエチレングリコールジステアロイルエステル、ポリエチレングリコールベヘン酸エステル、ポリエチレングリコールジベヘン酸エステル、ポリプロピレングリコールアセチルエステル、ポリプロピレングリコールジアセチルエステル、ポリプロピレングリコール安息香酸エステル、ポリプロピレングリコールジ安息香酸エステル、ポリプロピレングリコールラウリル酸エステル、ポリプロピレングリコールジラウリル酸エステル、ポリプロピレングリコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールグリセリンエーテル、ポリプロピレングリコールグリセリンエーテル、ポリエチレングリコールソルビトールエーテル、ポリプロピレングリコールソルビトールエーテル、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン、ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン、ポリエチレングリコール化ペンタメチレンヘキサミンが挙げられる。
ポリエチレングリコール系化合物の添加量は、現像抑制効果や画像形成性等の観点から、単層型記録層の全固形分に対して１〜２５質量％であることが好ましく、３〜１５質量％であることがより好ましい。
また、このようなインヒビション（溶解抑制能）を高めるための施策を行った場合、感度の低下が生じるが、この場合、記録層中にラクトン化合物を添加することが感度低下の抑制に有効である。このラクトン化合物は、露光部、即ち、インヒビションが解除された領域の記録層中に現像液が浸透する際、現像液とラクトン化合物が反応し、新たにカルボン酸化合物が発生して、露光部領域の記録層の溶解を促進させることにより感度が向上するものと考えられる。なお、未露光部では、このラクトン化合物はアルカリ可溶性樹脂中の極性基、例えば、ノボラック樹脂中の水酸基と相互作用を形成しており、また、環を有する嵩高な構造とあいまって膜中に安定に存在するため、未露光部表面においてはアルカリ現像液が接触しても、現像処理中におけるラクトン環の急激な開環反応が抑制されているため、当該領域の耐現像性が低下することはない。この相互作用は露光或いは加熱により、前記現像抑制剤による抑制作用よりも更に容易に解除されるため、露光部におけるラクトン化合物の開環反応は速やかに行われる。
このようなラクトン化合物としては、特に限定されないが、下記一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物が挙げられる。
このようなラクトン化合物としては、特に限定されないが、下記一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物が挙げられる。
一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）において、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4は、環を構成する２価の非金属原子又は非金属原子団であって、それぞれ同じでも異なっていてもよい。また、これらはそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。更に、一般式（Ｌ−Ｉ）におけるＸ1、Ｘ2及びＸ3の少なくとも一つ、及び、一般式（Ｌ−II）におけるＸ1、Ｘ2、Ｘ3及びＸ4の少なくとも一つは、電子吸引性置換基又は電子吸引性基で置換された置換基であることが好ましい。
好ましい非金属原子又は非金属原子団は、メチレン基、スルフィニル基、カルボニル基、チオカルボニル基、スルホニル基、硫黄原子、酸素原子及びセレニウム原子から選ばれる原子又は原子団であって、より好ましくは、メチレン基、カルボニル基及びスルホニル基から選ばれる原子団である。
また、本明細書において電子吸引性置換基とは、ハメットの置換基定数σｐが正の価を取る基を指す。ハメットの置換基定数に関しては、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７３，Ｖｏｌ．１６，Ｎｏ．１１，１２０７−１２１６等を参考にすることができる。ハメットの置換基定数σｐが正の価を取る電子吸引性基としては、例えばハロゲン原子［フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：０．１８）］、トリハロアルキル基［トリブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５４）］、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリール若しくは複素環スルホニル基［例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．７２）］、脂肪族・アリール若しくは複素環アシル基［例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル（σｐ値：０．４３）］、アルキニル基［例えば、Ｃ≡ＣＨ（σｐ値：０．２３）］、脂肪族・アリール若しくは複素環オキシカルボニル基［例えば、メトキシカルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σｐ値：０．４４）］、カルバモイル基（σｐ値：０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）、スルホキシド基、ヘテロ環基、オキソ基、ホスホリル基等が挙げられる。
また、好ましい電子吸引性基としては、アミド基、アゾ基、ニトロ基、炭素数１〜５のフルオロアルキル基、ニトリル基、炭素数１〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜５のアシル基、炭素数１〜９のアルキルスルホニル基、炭素数６〜９のアリールスルホニル基、炭素数１〜９のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜９のアリールスルフィニル基、炭素数６〜９のアリールカルボニル基、チオカルボニル基、炭素数１〜９の含フッ素アルキル基、炭素数６〜９の含フッ素アリール基、炭素数３〜９の含フッ素アリル基、オキソ基及びハロゲン元素から選ばれる基が挙げられ、より好ましくは、ニトロ基、炭素数１〜５のフルオロアルキル基、ニトリル基、炭素数１〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜５のアシル基、炭素数６〜９のアリールスルホニル基、炭素数６〜９のアリールカルボニル基、オキソ基及びハロゲン元素から選ばれる基である。
以下に、一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
以下に、一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物の添加量は、添加の有効性や画像形成性の効果の観点から、単層型記録層の全固形分に対して０．１〜１０質量％が好ましく、更には、０．２〜６質量％がより好ましい。
本発明に用いられるラクトン化合物は、いずれか１種を用いても、２種以上を併用してもよい。また２種類以上の一般式（Ｌ−Ｉ）の化合物、又は２種類以上の一般式（Ｌ−II）の化合物を用いる場合、合計添加量が上記範囲内であれば任意の比率で併用することができる。
本発明に用いられるラクトン化合物は、いずれか１種を用いても、２種以上を併用してもよい。また２種類以上の一般式（Ｌ−Ｉ）の化合物、又は２種類以上の一般式（Ｌ−II）の化合物を用いる場合、合計添加量が上記範囲内であれば任意の比率で併用することができる。
そのほか、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の、熱分解性であり、且つ、分解しない状態では、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが画像部の現像液へのインヒビションの向上を図る点で好ましい。
本発明において用いられるオニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げられ、特に好適なものとしては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０１４０号の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０２，１１４号、同４，４９１，６２８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号に記載のスルホニウム塩、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
このようなオニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平５−１５８２３０号公報記載のものが挙げられる。
このようなオニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平５−１５８２３０号公報記載のものが挙げられる。
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
好適なキノンジアジド類としては、ｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解により現像抑制剤としてのインヒビションを失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により記録層の溶解性を助ける。
そのようなｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号に記載されているベンゾキノン−（１，２−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
そのようなｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号に記載されているベンゾキノン−（１，２−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
更にナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは単層型記録層の全固形分に対し、０．１〜８質量％、より好ましくは０．２〜５質量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
また特開平１１−２８８０８９号記載の少なくとも一部がエステル化されたアルカリ可溶性樹脂を含んでも良い。
また特開平１１−２８８０８９号記載の少なくとも一部がエステル化されたアルカリ可溶性樹脂を含んでも良い。
また、記録層表面のインヒビションの強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８号に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。
添加量としては、単層型記録層の全固形分に対し、０．５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％の範囲である。
添加量としては、単層型記録層の全固形分に対し、０．５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％の範囲である。
〔その他の添加剤〕
本発明に係る単層型記録層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
本発明に係る単層型記録層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
＜現像促進剤＞
本発明に係る単層型記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては無水酢酸などが挙げられる。
本発明に係る単層型記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては無水酢酸などが挙げられる。
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、２，２’−ビスヒドロキシスルホン、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の単層型記録層の全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の単層型記録層の全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
＜界面活性剤＞
本発明に係る単層型記録層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開平１１−２８８０９３号公報、特願２００１−２４７３５１に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
本発明に係る単層型記録層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開平１１−２８８０９３号公報、特願２００１−２４７３５１に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４、ＤＢＥ−６２１、ＤＢＥ−７１２、ＤＢＰ−７３２、ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが出来る。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の単層型記録層の全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５．０質量％、更に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の単層型記録層の全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５．０質量％、更に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
＜焼出し剤／着色剤＞
本発明に係る単層型記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
本発明に係る単層型記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
画像着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレットラクトン、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料は、単層型記録層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
これらの染料は、単層型記録層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
＜可塑剤＞
本発明に係る単層型記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、単層型記録層の全固形分に対し、０．５〜１０質量％、好ましくは１．０〜５質量％の割合で添加することができる。
本発明に係る単層型記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、単層型記録層の全固形分に対し、０．５〜１０質量％、好ましくは１．０〜５質量％の割合で添加することができる。
＜ＷＡＸ剤＞
本発明に係る単層型記録層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第６，１１７，９１３号明細書、或いは本願出願人が先に提案した特願２００１−２６１６２７号、特願２００２−０３２９０４号、特願２００２−１６５５８４号の各明細書に記載されているいるような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることが出来る。
添加量としては、単層型記録層の全固形分中に占める割合が０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
本発明に係る単層型記録層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第６，１１７，９１３号明細書、或いは本願出願人が先に提案した特願２００１−２６１６２７号、特願２００２−０３２９０４号、特願２００２−１６５５８４号の各明細書に記載されているいるような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることが出来る。
添加量としては、単層型記録層の全固形分中に占める割合が０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
［重層型記録層］
次に、本発明の平版印刷版原版の記録層が、構成成分の異なる複数の層からなる重層構造をとった場合について述べる。
本発明に係る重層型記録層は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び該（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層と、を有し、上層および下層の少なくとも一方に、（Ａ）特定赤外線吸収剤を含有することを特徴とする。
以下、このような重層型記録層に含まれる各成分について詳細に説明する。
次に、本発明の平版印刷版原版の記録層が、構成成分の異なる複数の層からなる重層構造をとった場合について述べる。
本発明に係る重層型記録層は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び該（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層と、を有し、上層および下層の少なくとも一方に、（Ａ）特定赤外線吸収剤を含有することを特徴とする。
以下、このような重層型記録層に含まれる各成分について詳細に説明する。
〔（Ａ）特定赤外線吸収剤〕
本発明に係る重層型記録層には、その上層および下層の少なくとも一方に（Ａ）特定赤外線吸収剤を添加する必要がある。ここで用いられる（Ａ）特定赤外線吸収剤としては、前記単層型記録層の成分として挙げた（Ａ）特定赤外線吸収剤と同様のものを用いることができる。
これらの特定赤外線吸収剤は、下層に添加しても上層に添加しても、上下層双方に添加してもよいが、感度の観点から、少なくとも記録層の上層或いはその近傍に添加することが好ましい。特に、上層において、溶解抑制能を有する特定赤外線吸収剤をアルカリ可溶性樹脂と同一の層に添加することで、高感度化と同時に、未露光部の耐現像性を向上させることができるためこの態様が好ましい。
これらの特定赤外線吸収剤は、記録層とは別の層を設けてそこへ添加してもよいが、その場合は記録層に隣接する層へ添加するのが望ましい。
さらに、特定赤外線吸収剤を下層に添加した場合には、更なる高感度化と、下層の耐水性の向上を実現することが可能である。上層と下層の双方に特定赤外線吸収剤を添加する場合には、互いに同じ化合物を用いてもよく、また異なる化合物を用いてもよい。
本発明に係る重層型記録層には、その上層および下層の少なくとも一方に（Ａ）特定赤外線吸収剤を添加する必要がある。ここで用いられる（Ａ）特定赤外線吸収剤としては、前記単層型記録層の成分として挙げた（Ａ）特定赤外線吸収剤と同様のものを用いることができる。
これらの特定赤外線吸収剤は、下層に添加しても上層に添加しても、上下層双方に添加してもよいが、感度の観点から、少なくとも記録層の上層或いはその近傍に添加することが好ましい。特に、上層において、溶解抑制能を有する特定赤外線吸収剤をアルカリ可溶性樹脂と同一の層に添加することで、高感度化と同時に、未露光部の耐現像性を向上させることができるためこの態様が好ましい。
これらの特定赤外線吸収剤は、記録層とは別の層を設けてそこへ添加してもよいが、その場合は記録層に隣接する層へ添加するのが望ましい。
さらに、特定赤外線吸収剤を下層に添加した場合には、更なる高感度化と、下層の耐水性の向上を実現することが可能である。上層と下層の双方に特定赤外線吸収剤を添加する場合には、互いに同じ化合物を用いてもよく、また異なる化合物を用いてもよい。
また、本発明の効果を損なわない範囲で、前記単層型記録層の成分として挙げた、その他の赤外線吸収剤を併用してもよい。その他の赤外線吸収剤は、特定赤外線吸収剤と同一層内で混合して用いてもよく、または別々の層、例えば、下層にその他の赤外線吸収剤のみを用いて、上層に特定赤外線吸収剤のみを用いてもよい。同一層内で混合して用いる場合、その他の赤外線吸収剤の添加量は、特定赤外線吸収剤を含む全赤外線吸収剤の添加量に対して、５０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。
重層型記録層の上層における、特定赤外線吸収剤およびその他の赤外線吸収剤の合計の含有量は、感度、被膜性、及び記録層表面の親疎水性の観点から、上層記録層の全固形分中、０．１〜３０質量％であることが好ましく、０．５〜２５質量％であることがより好ましく、１〜２０質量％であることが特に好ましい。
一方、下層における、特定赤外線吸収剤およびその他の赤外線吸収剤の合計の含有量は、感度、及び非画像部の汚れ性を軽減する観点から、下層記録層の全固形分中、０〜２５質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１５質量％であることが特に好ましい。
一方、下層における、特定赤外線吸収剤およびその他の赤外線吸収剤の合計の含有量は、感度、及び非画像部の汚れ性を軽減する観点から、下層記録層の全固形分中、０〜２５質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１５質量％であることが特に好ましい。
次に、上記（Ａ）成分以外について、下層と上層とに分けて説明する。
−下層成分−
本発明に係る下層は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする。ここで用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、前記単層型記録層の成分として挙げた（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と同様のものを用いることができるが、層間の境界を明瞭にするために、下層に用いるアルカリ可溶性樹脂は、上層に用いるアルカリ可溶性樹脂とは異なるものを主成分とすることが好ましい。下層に好適に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）（メタ）アクリルアミドと（メタ）アクリル酸アルキルエステルとアクリロニトリルとの共重合体、４−マレイミドベンゼンスルホンアミドとスチレンとの共重合体、（メタ）アクリル酸とＮ−フェニルマレイミドと（メタ）アクリルアミドとの共重合体等の高極性なユニットを有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく用いられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
このような重層型記録層の下層における、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、耐刷性及び重層形成性の観点から、下層記録層の全固形分中、５０〜１００質量％であることが好ましく、７５〜９９質量％であることがより好ましく、８５〜９５質量％であることが特に好ましい。
−下層成分−
本発明に係る下層は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする。ここで用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、前記単層型記録層の成分として挙げた（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と同様のものを用いることができるが、層間の境界を明瞭にするために、下層に用いるアルカリ可溶性樹脂は、上層に用いるアルカリ可溶性樹脂とは異なるものを主成分とすることが好ましい。下層に好適に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）（メタ）アクリルアミドと（メタ）アクリル酸アルキルエステルとアクリロニトリルとの共重合体、４−マレイミドベンゼンスルホンアミドとスチレンとの共重合体、（メタ）アクリル酸とＮ−フェニルマレイミドと（メタ）アクリルアミドとの共重合体等の高極性なユニットを有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく用いられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
このような重層型記録層の下層における、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、耐刷性及び重層形成性の観点から、下層記録層の全固形分中、５０〜１００質量％であることが好ましく、７５〜９９質量％であることがより好ましく、８５〜９５質量％であることが特に好ましい。
また、本発明に係る下層成分には、更に必要に応じて、その他の添加剤を用いることができる。その他の添加剤としては、例えば、現像促進剤、界面活性剤、焼出し剤／着色剤、可塑剤、及びＷＡＸ剤、等が挙げられる。これらの成分についての詳細は、後述する上層の成分として記載されるものと同様である。
−上層成分−
本発明に係る上層は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び該（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうることを特徴とする。
本発明に係る上層は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び該（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうることを特徴とする。
〔（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂〕
本発明に係る上層に使用可能なアルカリ可溶性樹脂としては、前記単層型記録層の成分として挙げたものと同様のものを用いることができる。
重層型記録層の上層における、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、感度、被膜性、及び記録層表面の親疎水性の観点から、上層記録層の全固形分中、５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９９質量％であることがより好ましく、７０〜９８質量％であることが特に好ましい。
本発明に係る上層に使用可能なアルカリ可溶性樹脂としては、前記単層型記録層の成分として挙げたものと同様のものを用いることができる。
重層型記録層の上層における、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、感度、被膜性、及び記録層表面の親疎水性の観点から、上層記録層の全固形分中、５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９９質量％であることがより好ましく、７０〜９８質量％であることが特に好ましい。
〔前記アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物〕
本発明に係る上層の必須成分である、前記アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物とは、具体的には、前記（Ａ）特定赤外線吸収剤、その他の赤外線吸収剤、及び、前記単層型記録層の成分として挙げた（Ｃ）溶解抑制剤などが挙げられる。上層には、これら成分のうち少なくとも１種が含まれていればよいが、特定赤外線吸収剤及びその他の赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを用いた場合には、（Ｃ）現像抑制剤は画像部のアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させるための重要成分となりうる。
本発明に係る上層の必須成分である、前記アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物とは、具体的には、前記（Ａ）特定赤外線吸収剤、その他の赤外線吸収剤、及び、前記単層型記録層の成分として挙げた（Ｃ）溶解抑制剤などが挙げられる。上層には、これら成分のうち少なくとも１種が含まれていればよいが、特定赤外線吸収剤及びその他の赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを用いた場合には、（Ｃ）現像抑制剤は画像部のアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させるための重要成分となりうる。
（（Ｃ）溶解抑制剤）
本発明に係る上層に用いられる現像抑制剤としては、前記単層型記録層の成分で挙げた（Ｃ）現像抑制剤と同様のものを用いることができる。例えば、４級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。また後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
本発明に係る上層に用いられる現像抑制剤としては、前記単層型記録層の成分で挙げた（Ｃ）現像抑制剤と同様のものを用いることができる。例えば、４級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。また後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
４級アンモニウム塩としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げた４級アンモニウム塩と同様のものを用いることができる。
４級アンモニウム塩の添加量は、現像抑制効果や前記アルカリ可溶性樹脂の製膜性等の観点から、上層全固形分に対して０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。
４級アンモニウム塩の添加量は、現像抑制効果や前記アルカリ可溶性樹脂の製膜性等の観点から、上層全固形分に対して０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。
ポリエチレングリコール化合物としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたポリエチレングリコール化合物と同様のものを用いることができる。
ポリエチレングリコール系化合物の添加量は、現像抑制効果や画像形成性等の観点から、上層全固形分に対して０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。
ポリエチレングリコール系化合物の添加量は、現像抑制効果や画像形成性等の観点から、上層全固形分に対して０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。
また、ラクトン化合物についても、前記単層型記録層における効果と同様の効果を得るために有効であり、前記単層型記録層で挙げたものと同様の化合物を用いることができる。
このようなラクトン化合物の中でも、特に好ましく用いられる前記一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物の添加量としては、添加の有効性や画像形成性の効果の観点から、上層全固形分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、更には、１〜３０質量％がより好ましい。
このようなラクトン化合物の中でも、特に好ましく用いられる前記一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物の添加量としては、添加の有効性や画像形成性の効果の観点から、上層全固形分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、更には、１〜３０質量％がより好ましい。
そのほか、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の、熱分解性であり、且つ、分解しない状態では、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが画像部の現像液へのインヒビションの向上を図る点で好ましい。
オニウム塩としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたオニウム塩と同様のものを用いることができる。
ｏ−キノンジアジド類としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたｏ−キノンジアジド類と同様のものを用いることができる。
ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは上層全固形分に対し、１〜５０質量％、更に好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。
オニウム塩としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたオニウム塩と同様のものを用いることができる。
ｏ−キノンジアジド類としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたｏ−キノンジアジド類と同様のものを用いることができる。
ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは上層全固形分に対し、１〜５０質量％、更に好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。
また、記録層表面のインヒビションの強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８号に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。
添加量としては、上層全固形分に対し、０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。
添加量としては、上層全固形分に対し、０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。
〔その他の添加剤〕
重合型記録層の下層及び上層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。以下に挙げる添加剤は下層のみに添加してもよいし、上層のみに添加してもよいし、両方の層に添加してもよい。
重合型記録層の下層及び上層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。以下に挙げる添加剤は下層のみに添加してもよいし、上層のみに添加してもよいし、両方の層に添加してもよい。
＜現像促進剤＞
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、感度を向上させる目的で、現像促進剤を添加してもよい。そのような現像促進剤としては、前記単層型記録層の現像促進剤として挙げた、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を用いることができる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、感度を向上させる目的で、現像促進剤を添加してもよい。そのような現像促進剤としては、前記単層型記録層の現像促進剤として挙げた、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を用いることができる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
＜界面活性剤＞
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、界面活性剤を添加することができる。そのような界面活性剤としては、前記単層型記録層の界面活性剤として挙げた非イオン界面活性剤、両性界面活性剤を用いることができる。
非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５．０質量％、更に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、界面活性剤を添加することができる。そのような界面活性剤としては、前記単層型記録層の界面活性剤として挙げた非イオン界面活性剤、両性界面活性剤を用いることができる。
非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５．０質量％、更に好ましくは０．５〜２．０質量％である。
＜焼出し剤／着色剤＞
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
そのような焼き出し剤または画像着色剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の焼き出し剤または画像着色剤を用いることができる。
これらの染料は、下層或いは上層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
そのような焼き出し剤または画像着色剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の焼き出し剤または画像着色剤を用いることができる。
これらの染料は、下層或いは上層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
＜可塑剤＞
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。そのような可塑剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の可塑剤を用いることができる。
これらの可塑剤は、下層或いは上層の全固形分に対し、０．５〜１０質量％、好ましくは１．０〜５質量％の割合で添加することができる。
本発明に係る記録層である上層及び／又は下層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。そのような可塑剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の可塑剤を用いることができる。
これらの可塑剤は、下層或いは上層の全固形分に対し、０．５〜１０質量％、好ましくは１．０〜５質量％の割合で添加することができる。
＜ＷＡＸ剤＞
本発明に係る上層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。このような化合物としては、前記単層型記録層で挙げたＷＡＸ剤と同様のものを用いることができる。添加量として好ましいのは、上層中に占める割合が０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜５質量％である。
本発明に係る上層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。このような化合物としては、前記単層型記録層で挙げたＷＡＸ剤と同様のものを用いることができる。添加量として好ましいのは、上層中に占める割合が０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜５質量％である。
〔記録層の形成〕
本発明の平版印刷版原版の記録層（単層型記録層、或いは、重層型記録層の下層又は上層）は、通常上記各成分を溶剤に溶かして、記録層塗布液とし、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶剤は単独或いは混合して使用される。
本発明の平版印刷版原版の記録層（単層型記録層、或いは、重層型記録層の下層又は上層）は、通常上記各成分を溶剤に溶かして、記録層塗布液とし、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶剤は単独或いは混合して使用される。
特に、重層型記録層においては、下層及び上層を、原則的に２つの層を分離して形成することが好ましい。
２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、これらの方法について詳述するが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、これらの方法について詳述するが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層成分をメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等で溶解し、塗布・乾燥することにより二層化が可能になる。
次に、２層目（上層）を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつける方法や、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール（加熱ロール）よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与える方法、或いはそれらの方法の組み合わせを挙げることができる。
また、新たな機能を付与するために、本発明の効果を充分に発揮する範囲において、積極的に上層及び下層の部分相溶を行う場合もある。そのような方法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する方法、２層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法何れにおいても、その程度を調整する事によって可能となる。
支持体上に塗布される記録層塗布液中の、溶剤を除いた前記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、重層型記録層における上層の塗布時は、下層へのダメージを防ぐため、上層塗布方法は非接触式である事が望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いる事も可能であるが、下層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布する事が望ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、重層型記録層における上層の塗布時は、下層へのダメージを防ぐため、上層塗布方法は非接触式である事が望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いる事も可能であるが、下層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布する事が望ましい。
単層型記録層における、記録層成分の乾燥後の塗布量は、感度や耐刷性等の観点から、０．７〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．８〜３．０ｇ／ｍ2の範囲である。
重層型記録層における、下層成分の乾燥後の塗布量は、感度や耐刷性等の観点から、０．５〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．６〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、感度、現像ラチチュード、及び耐傷性等の観点から、０．０５〜１．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．０８〜０．７ｇ／ｍ2の範囲である。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、感度、画像再現性、及び耐刷性等の観点から、０．６〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．７〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、感度、現像ラチチュード、及び耐傷性等の観点から、０．０５〜１．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．０８〜０．７ｇ／ｍ2の範囲である。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、感度、画像再現性、及び耐刷性等の観点から、０．６〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．７〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。
〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
中でも、本発明においては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行なってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。
本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示されているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
（下塗り層）
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗り層を設けることができる。
下塗り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗り層を設けることができる。
下塗り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。
また、下塗り層にはオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は、特開２０００−１０２９２公報、同２０００−１０８５３８公報等に詳述されている。その他、ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる化合物を用いることもできる。これらの高分子化合物として、より具体的には、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。
この有機下塗り層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗り層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗り層の被覆量は、耐刷性能の観点から、２〜２００ｍｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。
上記のようにして作製された平版印刷版原版は、画像様に露光され、その後、現像処理を施される。
有機下塗り層の被覆量は、耐刷性能の観点から、２〜２００ｍｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。
上記のようにして作製された平版印刷版原版は、画像様に露光され、その後、現像処理を施される。
（バックコート層）
本発明の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
〔露光〕
本発明の平版印刷版原版の像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版の像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
〔現像処理〕
本発明の平版印刷版原版の現像処理に適用することのできる現像液は、ｐＨが９．０〜１４．０の範囲、好ましくは１２．０〜１３．５の範囲にある現像液である。現像液（以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ）には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の平版印刷版原版の現像処理に適用することのできる現像液は、ｐＨが９．０〜１４．０の範囲、好ましくは１２．０〜１３．５の範囲にある現像液である。現像液（以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ）には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記のアルカリ水溶液のうち、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは、塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるｐＨ１２以上の水溶液であり、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖（緩衝作用を有する有機化合物）と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」である。
前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ2とアルカリ金属酸化物Ｍ2Ｏの比率（一般に〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ2Ｏ〕のモル比で表す）と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報に開示されているような、ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち〔ＳｉＯ2〕／〔Ｎａ2Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ2の含有量が１〜４質量％のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているような、〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即ち〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ2Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ2の濃度が１〜４質量％であり、且つ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも２０％のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。
また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」も、本発明の平版印刷版原版の現像に適用するのに好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版原版の現像処理を行うと、記録層の表面を劣化させることがなく、且つ記録層の着肉性をより良好な状態に維持することができる。
この現像液は、その主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のｐＨが９．０〜１３．５の範囲であることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはＤ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット及びアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトール及びオリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にＤ−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
これらの非還元糖は、単独若しくは二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は、緩衝作用の効果や現像性の観点から、０．１〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは、１〜２０質量％である。
非還元糖に組み合わせる塩基としては従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである、その理由は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広いｐＨ領域でｐＨ調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
これらのアルカリ剤は現像液のｐＨを９．０〜１３．５の範囲になるように添加され、その添加量は所望のｐＨ、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいｐＨ範囲は１０．０〜１３．２である。
これらのアルカリ剤は現像液のｐＨを９．０〜１３．５の範囲になるように添加され、その添加量は所望のｐＨ、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいｐＨ範囲は１０．０〜１３．２である。
現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離定数（ｐＫａ）が１０．０〜１３．２のものが好ましい。
このような弱酸としては、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ社発行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ ＣＯＮＳＴＡＮＴＳ ＯＦ ＯＲＧＡＮＩＣ ＡＣＩＤＳ ＩＮ ＡＱＵＥＯＵＳ ＳＯＬＵＴＩＯＮなどに記載されているものから選ばれ、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール−１（ＰＫａ１２．７４）、トリフルオロエタノール（同１２．３７）、トリクロロエタノール（同１２．２４）などのアルコール類、ピリジン−２−アルデヒド（同１２．６８）、ピリジン−４−アルデヒド（同１２．０５）などのアルデヒド類、サリチル酸（同１３．０）、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同１２．８４）、カテコール（同１２．６）、没食子酸（同１２．４）、スルホサリチル酸（同１１．７）、３，４−ジヒドロキシスルホン酸（同１２．２）、３，４−ジヒドロキシ安息香酸（同１１．９４）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン（同１１．８２）、ハイドロキノン（同１１．５６）、ピロガロール（同１１．３４）、ｏ−クレゾール（同１０．３３）、レゾルシノール（同１１．２７）、ｐ−クレゾール（同１０．２７）、ｍ−クレゾール（同１０．０９）などのフェノール性水酸基を有する化合物、２−ブタノンオキシム（同１２．４５）、アセトキシム（同１２．４２）、１，２−シクロヘプタンジオンジオキシム（同１２．３）、２−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム（同１２．１０）、ジメチルグリオキシム（同１１．９）、エタンジアミドジオキシム（同１１．３７）、アセトフェノンオキシム（同１１．３５）などのオキシム類、アデノシン（同１２．５６）、イノシン（同１２．５）、グアニン（同１２．３）、シトシン（同１２．２）、ヒポキサンチン（同１２．１）、キサンチン（同１１．９）などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸（同１２．３２）、１−アミノ−３，３，３−トリフルオロ安息香酸（同１２．２９）、イソプロピリデンジホスホン酸（同１２．１０）、１，１−エチリデンジホスホン酸（同１１．５４）、１，１−エチリデンジホスホン酸１−ヒドロキシ（同１１．５２）、ベンズイミダゾール（同１２．８６）、チオベンズアミド（同１２．８）、ピコリンチオアミド（同１２．５５）、バルビツル酸（同１２．５）などの弱酸が挙げられる。
このような弱酸としては、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ社発行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ ＣＯＮＳＴＡＮＴＳ ＯＦ ＯＲＧＡＮＩＣ ＡＣＩＤＳ ＩＮ ＡＱＵＥＯＵＳ ＳＯＬＵＴＩＯＮなどに記載されているものから選ばれ、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール−１（ＰＫａ１２．７４）、トリフルオロエタノール（同１２．３７）、トリクロロエタノール（同１２．２４）などのアルコール類、ピリジン−２−アルデヒド（同１２．６８）、ピリジン−４−アルデヒド（同１２．０５）などのアルデヒド類、サリチル酸（同１３．０）、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同１２．８４）、カテコール（同１２．６）、没食子酸（同１２．４）、スルホサリチル酸（同１１．７）、３，４−ジヒドロキシスルホン酸（同１２．２）、３，４−ジヒドロキシ安息香酸（同１１．９４）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン（同１１．８２）、ハイドロキノン（同１１．５６）、ピロガロール（同１１．３４）、ｏ−クレゾール（同１０．３３）、レゾルシノール（同１１．２７）、ｐ−クレゾール（同１０．２７）、ｍ−クレゾール（同１０．０９）などのフェノール性水酸基を有する化合物、２−ブタノンオキシム（同１２．４５）、アセトキシム（同１２．４２）、１，２−シクロヘプタンジオンジオキシム（同１２．３）、２−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム（同１２．１０）、ジメチルグリオキシム（同１１．９）、エタンジアミドジオキシム（同１１．３７）、アセトフェノンオキシム（同１１．３５）などのオキシム類、アデノシン（同１２．５６）、イノシン（同１２．５）、グアニン（同１２．３）、シトシン（同１２．２）、ヒポキサンチン（同１２．１）、キサンチン（同１１．９）などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸（同１２．３２）、１−アミノ−３，３，３−トリフルオロ安息香酸（同１２．２９）、イソプロピリデンジホスホン酸（同１２．１０）、１，１−エチリデンジホスホン酸（同１１．５４）、１，１−エチリデンジホスホン酸１−ヒドロキシ（同１１．５２）、ベンズイミダゾール（同１２．８６）、チオベンズアミド（同１２．８）、ピコリンチオアミド（同１２．５５）、バルビツル酸（同１２．５）などの弱酸が挙げられる。
これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホサリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度及び組み合わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用される。
現像液には、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水レイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤は、単独若しくは２種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜５質量％の範囲で添加される。
現像液には、種々の現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩及びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭５０−５１３２４号公報記載のアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤、また特開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質を挙げることができる。
更に、特開昭５９−８４２４１号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭６０−１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１−２１５５５４号公報記載の重量平均分子量３００以上のポリエチレングリコール、特開昭６３−１７５８５８号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平２−３９１５７号公報の酸又はアルコールに４モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
現像液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約１０質量％以下のものが適しており、好ましくは５質量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール及び４−メチルシクロヘキサノール、Ｎ−フェニルエタノールアミン及びＮ−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。
有機溶剤の含有量は使用液の総質量に対して０．１〜５質量％である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
有機溶剤の含有量は使用液の総質量に対して０．１〜５質量％である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
現像液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防止するものである。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸及び亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。
これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５質量％の範囲で含有される。
これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５質量％の範囲で含有される。
現像液には更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸及びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、２，４−ジヒドロシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
上記脂肪族及び芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩又はアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、０．１質量％より低いと効果が十分でなく、また１０質量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０．１〜１０質量％であり、より好ましくは０．５〜４質量％である。
現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリン酸及びそのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸及び１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）及び１−ヒドロキシタエン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩を挙げることができる。
このような硬水軟化剤はそのキレート化と使用される硬水の硬度及び硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜０．５質量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。
本発明に用いられる現像液としてはまた、特開平６−２８２０７９号公報記載の現像液も使用できる。これは、ＳｉＯ2／Ｍ2Ｏ（Ｍはアルカリ金属を示す）のモル比が０．５〜２．０の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を４以上有する糖アルコールに５モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する現像液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基及びケトン基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基としたものに相当する多価アルコールである。糖アルコールの貝体的な例としては、Ｄ，Ｌ−トレイット、エリトリット、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズルシット、アロズルシットなどであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタ及びヘキサグリセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖アルコール１モルに対し５モル以上のエチレンオキシドを付加することにより得られる。更にエチレンオキシド付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。これらのエチレンオキシド付加化合物は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は現像液（使用液）に対して０．００１〜５質量％が適しており、より好ましくは０．００１〜２質量％である。
これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は現像液（使用液）に対して０．００１〜５質量％が適しており、より好ましくは０．００１〜２質量％である。
この現像液には更に、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
かかる組成の現像液で現像処理された平版印刷版原版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明の平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
近年、型版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、ＰＳ版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、ＰＳ版を搬送する装置と、各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みのＰＳ版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像及び後処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによってＰＳ版を浸漬搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで再利用する方法も知られている。
このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
本発明の平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部（例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など）がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
以上のようにして本発明の平版印刷版原版より得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ2（乾燥質量）が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー（例えば、富士写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。
［支持体の作製］
＜アルミニウム板＞
Ｓｉ：０．０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０．０２５質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作製した。表面を平均１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行った後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍに仕上げ、ＪＩＳ １０５０材のアルミニウム板を得た。なお、得られたアルミニウムの平均結晶粒径の短径は５０μｍ、長径は３００μｍであった。このアルミニウム板を幅１０３０ｍｍにした後、以下に示す表面処理に供した。
＜アルミニウム板＞
Ｓｉ：０．０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０．０２５質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作製した。表面を平均１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行った後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍに仕上げ、ＪＩＳ １０５０材のアルミニウム板を得た。なお、得られたアルミニウムの平均結晶粒径の短径は５０μｍ、長径は３００μｍであった。このアルミニウム板を幅１０３０ｍｍにした後、以下に示す表面処理に供した。
＜表面処理＞
表面処理は、以下の（ａ）〜（ｋ）の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後には、ニップローラーで液切りを行った。
表面処理は、以下の（ａ）〜（ｋ）の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後には、ニップローラーで液切りを行った。
（ａ）機械的粗面化処理
比重１．１２の研磨剤（パミス）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。研磨剤の平均粒径は３０μｍ、最大粒径は１００μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長は４５ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。
比重１．１２の研磨剤（パミス）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。研磨剤の平均粒径は３０μｍ、最大粒径は１００μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長は４５ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。
（ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を１０ｇ／ｍ2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を１０ｇ／ｍ2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、液温５０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、液温５０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．５０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．５０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
温度３０℃の硝酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸５．０ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の炬形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸５．０ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の炬形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｊ）陽極酸化処理
陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．６ｇ／ｍ2であった。
陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．６ｇ／ｍ2であった。
（ｋ）アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度６０℃の３号ケイ酸ソーダの２質量％水溶液の処理槽中へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行い、表面シリケート親水化処理された支持体を得た。上記のようにして得られたアルカリ金属珪酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は１２ｍｇ／ｍ2であった。
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度６０℃の３号ケイ酸ソーダの２質量％水溶液の処理槽中へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行い、表面シリケート親水化処理された支持体を得た。上記のようにして得られたアルカリ金属珪酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は１２ｍｇ／ｍ2であった。
＜下塗り液組成＞
・下記化合物 ０．３ｇ
・メタノール １００ｇ
・水 １ｇ
・下記化合物 ０．３ｇ
・メタノール １００ｇ
・水 １ｇ
〔実施例１〜５、比較例１〜３〕
［記録層（重層）の形成］
得られたウェブ状の基板に下記組成の下層用塗布液１を乾燥後の塗布量が０．８５ｇ／ｍ2になるようバーコーターで塗布したのち１６０℃で４４秒間乾燥し、直ちに１７〜２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却した。
その後、下記組成の上層用塗布液１を乾燥後の塗布量が０．２５ｇ／ｍ2になるようバーコーター塗布したのち、１４８℃で２５秒間乾燥し、更に２０〜２６℃の風で徐冷し、平版印刷版原版を作製した。
［記録層（重層）の形成］
得られたウェブ状の基板に下記組成の下層用塗布液１を乾燥後の塗布量が０．８５ｇ／ｍ2になるようバーコーターで塗布したのち１６０℃で４４秒間乾燥し、直ちに１７〜２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却した。
その後、下記組成の上層用塗布液１を乾燥後の塗布量が０．２５ｇ／ｍ2になるようバーコーター塗布したのち、１４８℃で２５秒間乾燥し、更に２０〜２６℃の風で徐冷し、平版印刷版原版を作製した。
＜下層用塗布液＞
・Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、
メタクリル酸メチル、及びアクリロニトリルの共重合体 ２．１３３ｇ
（モル比３７：３３：３０、重量平均分子量７．４万、
未反応モノマーとしてＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）
メタクリルアミド）を４．１質量％含有）
・下記表１に記載の赤外線吸収剤 ０．１３４ｇ
・４，４’−ビスヒドロキシフェニルスルホン ０．１２６ｇ
・無水テトラヒドロフタル酸 ０．１９０ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００８ｇ
・３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート ０．０３２ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを
６−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの ０．０７８１ｇ
・ポリマー１（下記構造） ０．０３５ｇ
・メチルエチルケトン ２５．４１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール １２．９７ｇ
・γ−ブチロラクトン １３．１８ｇ
・Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、
メタクリル酸メチル、及びアクリロニトリルの共重合体 ２．１３３ｇ
（モル比３７：３３：３０、重量平均分子量７．４万、
未反応モノマーとしてＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）
メタクリルアミド）を４．１質量％含有）
・下記表１に記載の赤外線吸収剤 ０．１３４ｇ
・４，４’−ビスヒドロキシフェニルスルホン ０．１２６ｇ
・無水テトラヒドロフタル酸 ０．１９０ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００８ｇ
・３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート ０．０３２ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを
６−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの ０．０７８１ｇ
・ポリマー１（下記構造） ０．０３５ｇ
・メチルエチルケトン ２５．４１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール １２．９７ｇ
・γ−ブチロラクトン １３．１８ｇ
＜上層用塗布液＞
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック ０．３４８ｇ
（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量４６００、
未反応クレゾール０．８質量％含有）
・ポリマー３（下記構造 ＭＥＫ３０％溶液） ０．１４０ｇ
・下記表１に記載の赤外線吸収剤 ０．０１９ｇ
・ポリマー１（下記構造） ０．０１５ｇ
・ポリマー２（下記構造） ０．００３３ｇ
・１−（４−メチルベンジル）−１−フェニルピペリジニウムの
５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ
−２−メトキシベンゼンスルホン酸塩 ０．００４ｇ
・界面活性剤 ０．００８ｇ
（ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステルＨＬＢ８．５、
日光ケミカルズ（株）製 ＧＯ−４）
・メチルエチルケトン ６．７９ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール １３．０７ｇ
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック ０．３４８ｇ
（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量４６００、
未反応クレゾール０．８質量％含有）
・ポリマー３（下記構造 ＭＥＫ３０％溶液） ０．１４０ｇ
・下記表１に記載の赤外線吸収剤 ０．０１９ｇ
・ポリマー１（下記構造） ０．０１５ｇ
・ポリマー２（下記構造） ０．００３３ｇ
・１−（４−メチルベンジル）−１−フェニルピペリジニウムの
５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ
−２−メトキシベンゼンスルホン酸塩 ０．００４ｇ
・界面活性剤 ０．００８ｇ
（ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステルＨＬＢ８．５、
日光ケミカルズ（株）製 ＧＯ−４）
・メチルエチルケトン ６．７９ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール １３．０７ｇ
〔平版印刷版原版の評価〕
（現像ラチチュードの評価）
得られた各平版印刷版原版に対して、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ ＶＦＳにてビーム強度９．０Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２（希釈率を変化させて電導度を変化させたもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０Ｈを用い、現像温度３０℃、現像時間１２秒で現像を行った。この時、画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物の差を現像ラチチュードとして評価した。結果を表１に示す。
（現像ラチチュードの評価）
得られた各平版印刷版原版に対して、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ ＶＦＳにてビーム強度９．０Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２（希釈率を変化させて電導度を変化させたもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０Ｈを用い、現像温度３０℃、現像時間１２秒で現像を行った。この時、画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物の差を現像ラチチュードとして評価した。結果を表１に示す。
（保存安定性の評価）
保存安定性の評価は、得られた各平版印刷版原版について強制経時前後の感度変化により評価した。保存の前後で感度の値が変化しないものほど保存安定性（経時安定性）が良好であると判断する。評価の詳細は以下の通りである。結果を表１に示す。
保存安定性の評価は、得られた各平版印刷版原版について強制経時前後の感度変化により評価した。保存の前後で感度の値が変化しないものほど保存安定性（経時安定性）が良好であると判断する。評価の詳細は以下の通りである。結果を表１に示す。
＜強制経時前の感度測定＞
得られた各平版印刷用原板に対して、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ ＶＦＳにて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２を用い、上記現像ラチチュードの評価において画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物との中間（平均値）の電導度のアルカリ現像液で現像し、この現像液で非画像部が現像できる露光量（ドラム回転速度１５０ｒｐｍのときのビーム強度）を測定し、感度とした。数値が小さいほど高感度である。
得られた各平版印刷用原板に対して、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ ＶＦＳにて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２を用い、上記現像ラチチュードの評価において画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物との中間（平均値）の電導度のアルカリ現像液で現像し、この現像液で非画像部が現像できる露光量（ドラム回転速度１５０ｒｐｍのときのビーム強度）を測定し、感度とした。数値が小さいほど高感度である。
＜強制経時後の感度測定＞
得られた各平版印刷版を、温度３０℃、相対湿度５０％の条件下、１４日間保存した後に、上記の感度測定と同様の方法で感度を測定した。
得られた各平版印刷版を、温度３０℃、相対湿度５０％の条件下、１４日間保存した後に、上記の感度測定と同様の方法で感度を測定した。
上記実施例および比較例で用いた赤外線吸収剤（Ｓ−Ａ）、及び（Ｓ−Ｂ）の構造を以下に示す。なお、それ以外の赤外線吸収剤は、（Ａ）特定赤外線吸収剤であり、その構造は本文中に記載したものである。
上記表１の結果によれば、特定赤外線吸収剤を下層および上層の少なくとも一方に用いた実施例１〜５のいずれの平版印刷版原版も、特定赤外線吸収剤を用いなかった比較例１〜３と比べ、現像ラチチュード及び（感度）保存安定性の双方に優れていることが確認された。
〔実施例６〜９、比較例４〕
［支持体の作製］
実施例１の支持体の作製において、陽極酸化処理を施した後、シリケート処理を行わなかった以外は、実施例１と同様の基板処理を行い、平版印刷版原版用支持体を作製した。
［支持体の作製］
実施例１の支持体の作製において、陽極酸化処理を施した後、シリケート処理を行わなかった以外は、実施例１と同様の基板処理を行い、平版印刷版原版用支持体を作製した。
［記録層（単層）の形成］
上記で得られた支持体上に、下記組成の記録層（単層）用塗布液１を乾燥後の塗布量が１．５ｇ／ｍ2になるよう塗布、乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
上記で得られた支持体上に、下記組成の記録層（単層）用塗布液１を乾燥後の塗布量が１．５ｇ／ｍ2になるよう塗布、乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
＜記録層（単層）用塗布液＞
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック ０．９３ｇ
（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量７，５００、
未反応クレゾール０．４質量％含有）
・メタクリル酸とメタクリル酸イソプロピルの共重合体 ０．０７ｇ
（モル比２７：６３、重量平均分子量５．１万）
・下記表２に記載の特定赤外線吸収剤 ０．０４１ｇ
・２，４，６−トリス（ヘキシルオキシ）
ベンゼンジアゾニウム−２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノンー５−スルホネート ０．０１ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００３ｇ
・シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物 ０．０６ｇ
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを
１−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０１５ｇ
・フッ素系界面活性剤 ０．０２ｇ
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン １５ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック ０．９３ｇ
（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量７，５００、
未反応クレゾール０．４質量％含有）
・メタクリル酸とメタクリル酸イソプロピルの共重合体 ０．０７ｇ
（モル比２７：６３、重量平均分子量５．１万）
・下記表２に記載の特定赤外線吸収剤 ０．０４１ｇ
・２，４，６−トリス（ヘキシルオキシ）
ベンゼンジアゾニウム−２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノンー５−スルホネート ０．０１ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００３ｇ
・シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物 ０．０６ｇ
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを
１−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０１５ｇ
・フッ素系界面活性剤 ０．０２ｇ
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン １５ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ
〔平版印刷版原版の評価〕
実施例６〜９及び比較例４の平版印刷版原版を、現像液をコダックポリクロームグラフィックス（株）製現像液ＰＤ１に変更し、現像時間を２５秒に変更した以外は実施例１と同様にして露光、現像を行い、同様の試験を行った。結果を以下の表２に示す。
実施例６〜９及び比較例４の平版印刷版原版を、現像液をコダックポリクロームグラフィックス（株）製現像液ＰＤ１に変更し、現像時間を２５秒に変更した以外は実施例１と同様にして露光、現像を行い、同様の試験を行った。結果を以下の表２に示す。
上記表２の結果によれば、特定赤外線吸収剤を用いた実施例６〜９のいずれの平版印刷版原版も、特定赤外線吸収剤を用いなかった比較例４と比べ、現像ラチチュード及び（感度）保存安定性の双方に優れていることが確認された。
Claims (3)
- 支持体上に、（Ａ）酸基を有するカチオン性色素であって、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンである赤外線吸収剤を含有し、赤外線の照射により画像形成可能な記録層を有する平版印刷版原版。
- 上記記録層が、さらに（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版原版。
- 支持体上に、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、及び該（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ水溶液に対する溶解性を低下させる化合物を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層と、を有し、上層および下層の少なくとも一方に、（Ａ）酸基を有するカチオン性色素であって、該カチオンの対アニオンが２価以上の多価アニオンである赤外線吸収剤を含有する平版印刷版原版。
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