JP4157539B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示装置に係り、特に表示品質に優れた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device excellent in display quality.

近年、フラットディスプレイとして、カラー液晶表示装置が注目されている。カラー液晶表示装置の一例として、ブラックマトリックス、複数の色(通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色)からなる着色層、共通透明電極層および配向層を備えたカラーフィルタと、薄膜トランジスタ(TFT素子)、画素電極および配向層を備えた対向電極基板とを所定の間隙をもたせて向かい合わせ、この間隙部に液晶材料を注入して液晶層とした透過型の液晶表示装置がある。また、上記のカラーフィルタの基板と着色層との間に反射層を設けた反射型の液晶表示装置もある。
このようなカラー液晶表示装置では、液晶の配向不良、液晶に印加される電圧変化、表示面内の電圧のバラツキ等により液晶の配向状態が変化すると、表示不良が生じる。この表示不良には、次の焼付きと白ムラとがある。
In recent years, a color liquid crystal display device has attracted attention as a flat display. As an example of a color liquid crystal display device, a black matrix, a colored layer composed of a plurality of colors (usually three primary colors of red (R), green (G), and blue (B)), a common transparent electrode layer, and an alignment layer are provided. A transmissive liquid crystal in which a color filter and a counter electrode substrate including a thin film transistor (TFT element), a pixel electrode, and an alignment layer face each other with a predetermined gap and a liquid crystal material is injected into the gap to form a liquid crystal layer. There is a display device. There is also a reflective liquid crystal display device in which a reflective layer is provided between the color filter substrate and the colored layer.
In such a color liquid crystal display device, when the alignment state of the liquid crystal changes due to a liquid crystal alignment failure, a voltage change applied to the liquid crystal, a voltage variation in the display surface, or the like, a display failure occurs. This display defect includes the following image sticking and white unevenness.

焼付きは、同一画素に一定時間電圧を印加した後、電圧を低下、あるいは、切った場合、この画素の透過率が周辺の一定時間電圧を印加しなかった画素の透過率と異なるため、見た目にムラ状態が認識され、さらに、長時間放置してもムラ状態が継続する現象である。ノーマリーホワイトパネルにおける焼付き現象では、一定時間電圧を印加した画素が周辺画素よりも暗く見える。このような焼付き現象は、電圧印加の間にイオン性物質が電極に付着し、次に電圧を解除してもイオン性物質が電極上に吸着したままとなり、このイオン性物質による電圧が液晶に作用し続けることが原因と考えられる。
また、白ムラは、電圧を印加して黒画面を表示した際、表示領域の一部が透過率ゼロとならないため、ムラ状態が認識される現象である。これは、本来電極間に印加された電圧が一定に維持されるべきところ、液晶中にイオン性物質が存在すると、このイオン性物質が移動する、すなわち、電流が流れるため、電極間の電圧が降下することが原因と考えられる。
Image sticking occurs when the voltage is lowered or turned off after a voltage is applied to the same pixel for a certain period of time, so that the transmittance of this pixel differs from the transmittance of the surrounding pixels for which the voltage was not applied for a certain period of time. This is a phenomenon in which the uneven state is recognized, and the uneven state continues even after being left for a long time. In a burn-in phenomenon in a normally white panel, a pixel to which a voltage is applied for a certain time appears darker than surrounding pixels. Such seizure phenomenon is caused by the fact that the ionic substance adheres to the electrode during voltage application, and the ionic substance remains adsorbed on the electrode even if the voltage is released next, and the voltage due to this ionic substance is liquid crystal. This is thought to be due to the fact that it continues to act.
Further, the white unevenness is a phenomenon in which the uneven state is recognized because a part of the display area does not become zero transmittance when a black screen is displayed by applying a voltage. This is because the voltage applied between the electrodes should be kept constant, but if there is an ionic substance in the liquid crystal, the ionic substance moves, that is, the current flows, so the voltage between the electrodes The cause is thought to be descending.

上記のような表示不良現象を引き起こすイオン性物質は、電極上に留まらず、液晶層の中を容易に移動すると考えられている。このイオン性物質の発生源としては種々の発生源が考えられ、表示不良を防止するために、製造工程で使用する薬液、大気、純水等に含まれる不純物管理や、装置、人体等からの発塵管理や、プロセス条件の最適化が行なわれている。また、カラーフィルタや対向電極基板の表面洗浄や、製造工程での紫外線照射・表面研磨等による残さ残さ等の不純物の除去が行なわれている。
このような対応により、表示不良現象は発生しにくくなったものの、長時間表示や高温高湿下等の厳しい表示条件下では、依然として発生する確率が高いという問題がある。
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、液晶層へのイオン性物質の混入防止がより確実になされ高品質の表示が可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。
It is considered that the ionic substance that causes the display defect phenomenon as described above does not stay on the electrode but easily moves in the liquid crystal layer. Various sources can be considered as the source of this ionic substance. In order to prevent display defects, impurities from chemicals, air, pure water, etc. used in the manufacturing process, management from equipment, human bodies, etc. Dust generation management and process conditions are optimized. Also, impurities such as residue are removed by cleaning the surface of the color filter and the counter electrode substrate, and by irradiating with ultraviolet rays and polishing the surface in the manufacturing process.
Although such a response makes it difficult for the display failure phenomenon to occur, there is a problem that the probability of the display failure is still high under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of preventing the mixing of an ionic substance into a liquid crystal layer and ensuring high quality display. To do.

本発明は、液晶表示装置の液晶層と接触する樹脂部材を上記のようなイオン性物質の発生源の一つと考え、樹脂部材から液晶層中に移行したイオン性物質による表示不良と相関のある特性として、樹脂部材からの不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)に着目してなされたものである。
すなわち、上記のような目的を達成するために、本発明は、シール部材を介して間隙部を設けるように相対向した共通電極基板および対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記共通電極基板は基板上に共通透明電極層を備え、前記対向電極基板は半導体駆動素子と各半導体駆動素子上に形成された樹脂遮光層と各半導体駆動素子に対応した所定のパターンで形成された複数色からなる樹脂着色層とを備えた液晶表示装置の製造方法において電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂遮光層と前記樹脂着色層を形成するような構成とした。
The present invention considers a resin member that is in contact with the liquid crystal layer of a liquid crystal display device as one of the sources of the ionic substance as described above, and has a correlation with a display defect due to the ionic substance transferred from the resin member into the liquid crystal layer. As a characteristic, attention is paid to the voltage holding ratio and the residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to the impurity extraction process from the resin member.
That is, in order to achieve the above object, the present invention provides a common electrode substrate and a counter electrode substrate that face each other so as to provide a gap portion through a seal member, and a liquid crystal layer sealed in the gap portion. The common electrode substrate has a common transparent electrode layer on the substrate, the counter electrode substrate has a semiconductor driving element, a resin light-shielding layer formed on each semiconductor driving element, and a predetermined pattern corresponding to each semiconductor driving element In the method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a plurality of resin-colored layers formed of a liquid crystal having a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less, As the resin member, a resin member is selected that has a voltage holding ratio of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less after being subjected to impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal. And the resin member The resin light-shielding layer and the resin-colored layer are formed using

また、本発明は、シール部材を介して間隙部を設けるように相対向したカラーフィルタおよび対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記カラーフィルタは基板と該基板上に順次積層した反射層、複数色からなる樹脂着色層および共通透明電極層とを備えた液晶表示装置の製造方法において電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂着色層を形成するような構成とした。 The present invention also includes a color filter and a counter electrode substrate facing each other so as to provide a gap portion through a seal member, and a liquid crystal layer sealed in the gap portion, and the color filter is formed on the substrate and the substrate. In a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a reflective layer, a resin colored layer composed of a plurality of colors, and a common transparent electrode layer , a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V The following liquid crystal is prepared, and as a resin member, the voltage holding ratio of the liquid crystal after being immersed in the liquid crystal and subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less. Such a resin member is selected, and the resin colored layer is formed using the resin member .

さらに、本発明は、シール部材を介して間隙部を設けるように相対向した共通電極基板および対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記共通電極基板は基板上に共通透明電極層を備え、前記対向電極基板は基板と該基板上に順次積層した駆動素子層、反射電極層、複数色からなる樹脂着色層とを備えた液晶表示装置の製造方法において電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂着色層を形成するような構成とした。 Furthermore, the present invention includes a common electrode substrate and the counter electrode substrate opposite to each other to provide a gap via a sealing member, and a liquid crystal layer sealed in the gap, to the common electrode substrate on the substrate a common transparent electrode layer, the counter electrode substrate driving element layer were sequentially stacked on a substrate and the substrate, the reflective electrode layer, in the manufacturing method of the liquid crystal display device provided with a composed of a plurality of colors resin colored layer, the voltage holding A liquid crystal having a ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and the voltage holding ratio of the liquid crystal after being subjected to an impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal as a resin member Is 80% or more and the residual DC (ΔE) is selected to be 0.5 V or less, and the resin colored layer is formed using the resin member .

本発明によれば、液晶表示装置において液晶層と接触する、あるいは、液晶層に薄膜を介して最近傍となる樹脂部材を、この樹脂部材からの不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)が所定の範囲となるような樹脂部材としているので、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れた液晶表示装置が可能となる。   According to the present invention, the resin member that is in contact with the liquid crystal layer in the liquid crystal display device or that is closest to the liquid crystal layer through the thin film is subjected to an impurity extraction treatment from the resin member and the voltage holding ratio of the liquid crystal Resin member with residual DC (ΔE) within the specified range prevents display defects such as burn-in and white unevenness even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. Thus, a liquid crystal display device having excellent display quality is possible.

以下、本発明の最良の実施形態について図面を参照して説明する。
[第1の実施形態]
図1は、本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す概略断面図である。図1において、液晶表示装置401は、対向電極基板411と共通電極基板431とを所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材(図示せず)により封止し、間隙部分に液晶層405が形成されたものである。尚、図示されていないが、対向電極基板411と共通電極基板431の外側には、それぞれ偏光板が配設されている。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 1, a liquid crystal display device 401 has a counter electrode substrate 411 and a common electrode substrate 431 facing each other at a predetermined interval, a peripheral portion is sealed with a seal member (not shown), and a liquid crystal layer 405 is formed in the gap portion. It is formed. Although not shown, polarizing plates are disposed outside the counter electrode substrate 411 and the common electrode substrate 431, respectively.

本発明の液晶表示装置401を構成する対向電極基板411は、透明基板412上に一体的に形成された半導体駆動素子420と、透明画素電極413と、半導体駆動素子420上に形成された樹脂遮光層414と、透明画素電極413上に形成された樹脂着色層415と、透明画素電極413、樹脂遮光層414、樹脂着色層415および半導体駆動素子420を覆う形成された配向層416とを備えている。
半導体駆動素子420は、ゲート電極421、ゲート絶縁膜422、アモルファスシリコン等の半導体層423、ソース電極424およびドレイン電極425とから構成された薄膜トランジスタ(TFT)である。また、ドレイン電極425は、一端を半導体層423に接続され、他端を画素電極413に接続されている。
The counter electrode substrate 411 constituting the liquid crystal display device 401 of the present invention includes a semiconductor driving element 420 integrally formed on the transparent substrate 412, a transparent pixel electrode 413, and a resin light-shielding formed on the semiconductor driving element 420. A layer 414, a resin colored layer 415 formed on the transparent pixel electrode 413, and an alignment layer 416 formed to cover the transparent pixel electrode 413, the resin light shielding layer 414, the resin colored layer 415, and the semiconductor driving element 420. Yes.
The semiconductor driving element 420 is a thin film transistor (TFT) including a gate electrode 421, a gate insulating film 422, a semiconductor layer 423 such as amorphous silicon, a source electrode 424, and a drain electrode 425. The drain electrode 425 has one end connected to the semiconductor layer 423 and the other end connected to the pixel electrode 413.

また、樹脂遮光層414は、半導体層423を遮光するようにソース電極424およびドレイン電極425上に形成され、半導体駆動素子420の光リーク電流を抑制する作用をなす。この樹脂遮光層414は、液晶表示装置401において、配向層416を介して液晶層405に接触している樹脂部材であり、本発明では、樹脂遮光層414を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上となるものであり、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下となるものとする。
本発明では、液晶表示装置の液晶層と接触する樹脂部材をイオン性物質等の不純物の発生源の一つと考え、樹脂部材から液晶層中に移行した不純物による表示不良と相関のある特性として、樹脂部材からの不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)に着目した。
The resin light-shielding layer 414 is formed on the source electrode 424 and the drain electrode 425 so as to shield the semiconductor layer 423, and functions to suppress the light leakage current of the semiconductor driving element 420. The resin light-shielding layer 414 is a resin member that is in contact with the liquid crystal layer 405 via the alignment layer 416 in the liquid crystal display device 401. In the present invention, the resin light-shielding layer 414 is a liquid crystal layer subjected to impurity extraction treatment. The voltage holding ratio is 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0. .1V or less.
In the present invention, the resin member that is in contact with the liquid crystal layer of the liquid crystal display device is considered as one of the sources of impurities such as ionic substances, and as a characteristic that correlates with display defects due to impurities transferred from the resin member into the liquid crystal layer, We paid attention to the voltage holding ratio and residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment from the resin member.

すなわち、表示不良の一つである白ムラを防止するには、液晶層の両側に位置する電極間に印加された電圧を維持することが必要であり、本発明では、樹脂遮光層414と、後述するように樹脂着色層415とを、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上となるものと規定する。また、表示不良の一つである焼付きを防止するには、残留DC(ΔE)をできる小さくして、液晶層に印加した電圧を解除したときに、不要な電圧が液晶層にかかり続けることを防止することが必要である。本発明では、樹脂遮光層414、樹脂着色層415をそれぞれ不純物抽出処理を施した液晶の残留DC(ΔE)が0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下となるものと規定する。これにより、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れた液晶表示装置が可能となる。   That is, in order to prevent white unevenness, which is one of display defects, it is necessary to maintain the voltage applied between the electrodes located on both sides of the liquid crystal layer. In the present invention, the resin light-shielding layer 414, As will be described later, the resin coloring layer 415 is defined such that the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more. In order to prevent image sticking, which is one of display defects, an unnecessary voltage continues to be applied to the liquid crystal layer when the residual DC (ΔE) is reduced as much as possible and the voltage applied to the liquid crystal layer is released. It is necessary to prevent this. In the present invention, the residual DC (ΔE) of the liquid crystal obtained by subjecting the resin light-shielding layer 414 and the resin coloring layer 415 to the impurity extraction treatment is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. It prescribes. Thereby, even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity, display defects such as image sticking and white unevenness can be prevented, and a liquid crystal display device with excellent display quality can be achieved.

ここで、上記の不純物抽出処理、電圧保持率の測定条件、残留DC(ΔE)の測定条件について説明する。
(不純物抽出処理)
表面積が4cm2である樹脂部材を容量0.2mlの液晶中に浸漬し、105℃に5時間保持して抽出を行う。尚、使用する液晶は、不純物抽出処理前の状態において、下記の電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、下記の残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶とする。
Here, the impurity extraction process, the measurement condition of the voltage holding ratio, and the measurement condition of the residual DC (ΔE) will be described.
(Impurity extraction process)
A resin member having a surface area of 4 cm 2 is immersed in a liquid crystal having a volume of 0.2 ml and extracted at a temperature of 105 ° C. for 5 hours. In addition, the liquid crystal to be used has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the following voltage holding ratio measuring conditions in the state before the impurity extraction treatment, and a residual measured under the following residual DC (ΔE) measuring conditions. A liquid crystal having a DC (ΔE) of 0.05 V or less is used.

(電圧保持率測定条件)
層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からなる測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の条件で測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・印加電圧パルス振幅 :5V
・印加電圧パルス周波数:60Hz
・印加電圧パルス幅 :16.67msec
(Voltage holding ratio measurement conditions)
As a layer structure, a measurement cell comprising a substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared, and liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is injected and measured under the following conditions.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
・ Applied voltage pulse amplitude: 5V
・ Applied voltage pulse frequency: 60 Hz
・ Applied voltage pulse width: 16.67 msec

(残留DC(ΔE)測定条件)
残留DC(ΔE)とは、図2に例示する電圧−静電容量ヒステリシスループにおいて、最大静電容量(Cs)と最小静電容量(C0)から式(C0+Cs)/2で規定される静電容量における電圧シフト量(図2に矢印で示す)のことである。測定は、層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からなる測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の条件で測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・使用液晶 :静電容量飽和電圧(図2のVs′)が10V
以下のもの
・電圧−静電容量ヒステリシスループ測定電圧範囲 :−10V〜+10V
(Residual DC (ΔE) measurement conditions)
In the voltage-capacitance hysteresis loop illustrated in FIG. 2, the residual DC (ΔE) is an electrostatic capacity defined by the formula (C0 + Cs) / 2 from the maximum capacitance (Cs) and the minimum capacitance (C0). This is a voltage shift amount in the capacitor (indicated by an arrow in FIG. 2). For the measurement, a measurement cell comprising a substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared as a layer structure, and the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is injected and measured under the following conditions.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
Liquid crystal used: Capacitance saturation voltage (Vs ′ in FIG. 2) is 10V
・ Voltage-Capacitance hysteresis loop measurement voltage range: -10V to + 10V

上記のような樹脂遮光層414は、Cu−Fe−Mn複合酸化物等の絶縁性の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
対向電極基板411の樹脂着色層415は、各透明画素電極413を覆うように形成され、赤色パターン415R、緑色パターン415Gおよび青色パターン(図示せず)が画素電極毎に所望のパターン形状で形成されている。この樹脂着色層415は、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、転写法等の公知の方法により形成することができる。また、樹脂着色層415を、例えば、赤色パターンが最も薄く、緑色パターン、青色パターンの順に厚くすることにより、各色ごとに最適な液晶層厚みを設定するようにしてもよい。
The resin light-shielding layer 414 is formed by forming a photosensitive resin layer containing insulating light-shielding particles such as Cu—Fe—Mn composite oxide, and patterning the photosensitive resin layer. Or any of them.
The resin coloring layer 415 of the counter electrode substrate 411 is formed so as to cover each transparent pixel electrode 413, and a red pattern 415R, a green pattern 415G, and a blue pattern (not shown) are formed in a desired pattern shape for each pixel electrode. ing. The resin coloring layer 415 can be formed by a pigment dispersion method using a photosensitive resin containing a desired colorant, and can be formed by a known method such as a printing method or a transfer method. Further, for example, the resin coloring layer 415 may have an optimum liquid crystal layer thickness for each color by making the red pattern the thinnest and then increasing the thickness in the order of the green pattern and the blue pattern.

本発明の液晶表示装置401では、上述のように、樹脂着色層415を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるものとする。樹脂着色層415に、このような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を付与するには、アクリル共重合体等の樹脂材料を使用することができる。
上記の対向電極基板411を構成する透明基板412としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置に適している。
In the liquid crystal display device 401 of the present invention, as described above, the resin coloring layer 415 has a voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less. To do. In order to provide the resin coloring layer 415 with such characteristics (voltage holding ratio of liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is 80% or more and residual DC (ΔE) is 0.5 V or less), an acrylic copolymer or the like is used. Resin materials can be used.
As the transparent substrate 412 constituting the counter electrode substrate 411, a non-flexible transparent rigid material such as quartz glass, pyrex glass and synthetic quartz plate, or a flexible resin material such as a transparent resin film and an optical resin plate is used. The transparent flexible material which has can be used. Among them, Corning 7059 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the active matrix. Suitable for color liquid crystal display devices.

一方、本発明の液晶表示装置401を構成する共通電極基板431は、透明基板432上に共通透明電極433、配向層434が形成されている。透明基板432としては、上述の透明基板412として挙げたものを使用することができる。
また、液晶表示装置401を構成する透明画素電極413、共通透明電極層433は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成されたものである。このような電極層の厚みは0.01〜1μm程度であり、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。
On the other hand, in the common electrode substrate 431 constituting the liquid crystal display device 401 of the present invention, the common transparent electrode 433 and the alignment layer 434 are formed on the transparent substrate 432. As the transparent substrate 432, those described as the transparent substrate 412 can be used.
Further, the transparent pixel electrode 413 and the common transparent electrode layer 433 constituting the liquid crystal display device 401 are made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. The film is formed by a general film forming method such as sputtering, vacuum deposition, or CVD. The thickness of such an electrode layer is about 0.01 to 1 μm, and an effect of shielding impurities can hardly be expected.

さらに、液晶表示装置401を構成する配向層416,434は、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリウレタン系およびポリ尿素系等の有機化合物により形成することができ、厚みは0.01〜1μm程度とすることができる。このような配向層416,434は、種々の印刷法、公知の塗布方法により塗布した後、焼成してから配向処理(ラビング)が行なわれる。尚、このような有機化合物からなる配向層416,434は、その厚みが極めて小さいことから、表示不良の原因となるような液晶層405中への不純物混入は考慮しなくてもよく、同時に、このような配向層416,434は、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。   Furthermore, the alignment layers 416 and 434 constituting the liquid crystal display device 401 can be formed of an organic compound such as polyimide, polyamide, polyurethane, or polyurea, and the thickness is about 0.01 to 1 μm. Can do. Such alignment layers 416 and 434 are coated by various printing methods and known coating methods, and then fired and then subjected to alignment treatment (rubbing). Since the alignment layers 416 and 434 made of such an organic compound have a very small thickness, it is not necessary to consider the mixing of impurities into the liquid crystal layer 405 that causes display defects. Such alignment layers 416 and 434 can hardly be expected to act to shield impurities.

液晶表示装置401を構成する液晶層405は、上述の不純物抽出処理前の状態において、上述のような電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、上述のような残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を用いて形成することができる。
このような本発明の液晶表示装置401では、液晶層405と直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極のような薄膜を介して液晶層405の最近傍に位置する樹脂部材は、対向電極基板411の樹脂遮光層414と樹脂着色層415のみである。そして、この樹脂遮光層414および樹脂着色層415が、上述のように、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上とするものであり、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下とするものである。これにより、液晶表示装置401は、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れたものである。
The liquid crystal layer 405 constituting the liquid crystal display device 401 has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the voltage holding ratio measuring condition as described above in the state before the impurity extraction process, and the above-described It can be formed using a liquid crystal having a residual DC (ΔE) measured under a residual DC (ΔE) measurement condition of 0.05 V or less.
In the liquid crystal display device 401 of the present invention as described above, the resin member located at the position in direct contact with the liquid crystal layer 405 or the nearest part of the liquid crystal layer 405 through a thin film such as an alignment layer or a transparent electrode is opposed to Only the resin light shielding layer 414 and the resin coloring layer 415 of the electrode substrate 411 are provided. The resin light-shielding layer 414 and the resin coloring layer 415 make the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, as described above. And the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. As a result, the liquid crystal display device 401 has excellent display quality by preventing the occurrence of display defects such as image sticking and white unevenness even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. .

[第2の実施形態]
図3は、本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。図3において、液晶表示装置501は反射型の液晶表示装置であり、カラーフィルタ11′と対向電極基板511とを所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材(図示せず)により封止し、間隙部分に液晶層505が形成されたものである。尚、図示されていないが、観察者側である対向電極基板511の外側には、位相差板と偏光板が配設されている。
本発明の液晶表示装置501を構成するカラーフィルタ11′は、基板12と、反射層17と、反射層17上に形成されたブラックマトリックス14′および、ブラックマトリックス14′を覆うように所定のパターンで形成された複数色からなる樹脂着色層15′とを備えている。そして、本発明の液晶表示装置501では、カラーフィルタ11′を構成する樹脂着色層15′は、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものである。
[Second Embodiment]
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 3, a liquid crystal display device 501 is a reflective liquid crystal display device, in which a color filter 11 ′ and a counter electrode substrate 511 are opposed to each other at a predetermined interval, and a peripheral portion is sealed with a seal member (not shown). The liquid crystal layer 505 is formed in the gap portion. Although not shown, a retardation plate and a polarizing plate are disposed outside the counter electrode substrate 511 on the viewer side.
The color filter 11 ′ constituting the liquid crystal display device 501 of the present invention has a predetermined pattern so as to cover the substrate 12, the reflective layer 17, the black matrix 14 ′ formed on the reflective layer 17, and the black matrix 14 ′. And a colored resin layer 15 'composed of a plurality of colors. In the liquid crystal display device 501 of the present invention, the resin coloring layer 15 ′ constituting the color filter 11 ′ has the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC ( ΔE) is 0.5 V or less).

上記のカラーフィルタ11を構成する基板12としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに適している。   The substrate 12 constituting the color filter 11 has flexibility such as a transparent rigid material such as quartz glass, pyrex glass, and synthetic quartz plate, or a transparent resin film or an optical resin plate. A transparent flexible material can be used. Among them, Corning 7059 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the active matrix. Suitable for color filters for color liquid crystal display devices.

また、カラーフィルタ11′のブラックマトリックス14′は、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
尚、本発明では、上記のカラーフィルタ11′においてブラックマトリックス14′を備えないものであってもよい。この場合、樹脂着色層15′の非形成部位では基板12が露出してもよく、あるいは、基板12を覆うように樹脂着色層15′を形成してもよい。
The black matrix 14 ′ of the color filter 11 ′ is formed by forming a resin layer containing light-shielding particles such as carbon fine particles and patterning the resin layer, and light-shielding carbon fine particles and metal oxides. Any of those formed by forming a photosensitive resin layer containing photosensitive particles and patterning the photosensitive resin layer may be used.
In the present invention, the color filter 11 ′ may not include the black matrix 14 ′. In this case, the substrate 12 may be exposed at a portion where the resin coloring layer 15 ′ is not formed, or the resin coloring layer 15 ′ may be formed so as to cover the substrate 12.

また、カラーフィルタ11′の樹脂着色層15′は、赤色パターン15′R、緑色パターン15′Gおよび青色パターン15′Bが所望のパターン形状で配列されており、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、転写法等の公知の方法により形成することができる。また、樹脂着色層15′を、例えば、赤色パターン15′Rが最も薄く、緑色パターン15′G、青色パターン15′Bの順に厚くすることにより、樹脂着色層15′の各色ごとに最適な液晶層厚みを設定するようにしてもよい。樹脂着色層15′に、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を付与するには、アクリル共重合体等の樹脂材料を使用することができる。   The resin colored layer 15 'of the color filter 11' has a red pattern 15'R, a green pattern 15'G and a blue pattern 15'B arranged in a desired pattern shape, and a photosensitive material containing a desired colorant. It can be formed by a pigment dispersion method using a functional resin, and can also be formed by a known method such as a printing method or a transfer method. Further, the resin colored layer 15 'is, for example, the thinnest red pattern 15'R, and thickened in the order of the green pattern 15'G and the blue pattern 15'B, so that an optimum liquid crystal for each color of the resin colored layer 15' is obtained. The layer thickness may be set. In order to provide the resin coloring layer 15 ′ with the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less), an acrylic copolymer Etc. can be used.

カラーフィルタ11′を構成する反射層17は、アルミニウム等の金属薄膜を蒸着法、スパッタリング法等の公知の成膜手段により形成することにより作成することができる。
尚、カラーフィルタ11′の樹脂着色層15′の上には、液晶駆動用の共通透明電極層506、配向層507が形成されている。
一方、本発明の液晶表示装置501を構成する対向電極基板511は、透明基板512上に液晶駆動用の透明画素電極513および薄膜トランジスタ(TFT)514を備え、透明画素電極513を覆うように配向層515が形成されている。この対向電極基板511には、薄膜トランジスタ(TFT)514を開閉するゲート線群(図示せず)、映像信号を供給する信号線群(図示せず)、および、カラーフィルタ11′側の共通透明電極層506への電圧供給線(図示せず)が配設されている。これらのリード線は、通常、薄膜トランジスタ(TFT)514の製造工程で一括して形成されたアルミニウム等の金属からなるものである。
The reflective layer 17 constituting the color filter 11 'can be formed by forming a metal thin film such as aluminum by a known film forming means such as a vapor deposition method or a sputtering method.
A common transparent electrode layer 506 for driving liquid crystal and an alignment layer 507 are formed on the resin colored layer 15 'of the color filter 11'.
On the other hand, a counter electrode substrate 511 constituting the liquid crystal display device 501 of the present invention includes a transparent pixel electrode 513 and a thin film transistor (TFT) 514 for driving liquid crystal on a transparent substrate 512, and an alignment layer covering the transparent pixel electrode 513. 515 is formed. The counter electrode substrate 511 includes a gate line group (not shown) for opening and closing a thin film transistor (TFT) 514, a signal line group (not shown) for supplying a video signal, and a common transparent electrode on the color filter 11 'side. A voltage supply line (not shown) to the layer 506 is provided. These lead wires are usually made of a metal such as aluminum formed in a lump in the manufacturing process of the thin film transistor (TFT) 514.

上記の対向電極基板511を構成する透明基板512としては、透明基板412用として挙げたものを使用することができる。
また、液晶表示装置501を構成する共通透明電極層506、透明画素電極層513は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成されたものである。このような電極層の厚みは0.01〜1μm程度であり、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。
As the transparent substrate 512 constituting the counter electrode substrate 511, those described for the transparent substrate 412 can be used.
The common transparent electrode layer 506 and the transparent pixel electrode layer 513 constituting the liquid crystal display device 501 are made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. The film is formed by a general film formation method such as sputtering, vacuum deposition, or CVD. The thickness of such an electrode layer is about 0.01 to 1 μm, and an effect of shielding impurities can hardly be expected.

さらに、液晶表示装置501を構成する配向層507,515は、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリウレタン系およびポリ尿素系等の有機化合物により形成することができ、厚みは0.01〜1μm程度とすることができる。このような配向層507,515は、種々の印刷法、公知の塗布方法により塗布した後、焼成してから配向処理(ラビング)が行なわれる。尚、このような有機化合物からなる配向層507,515は、その厚みが極めて小さいことから、表示不良の原因となるような不純物の液晶層505中への混入は考慮しなくてもよく、同時に、このような配向層107,115は、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。
液晶表示装置501を構成する液晶層505は、上述の不純物抽出処理前の状態において、上述のような電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、上述のような残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を用いて形成することができる。
Furthermore, the alignment layers 507 and 515 constituting the liquid crystal display device 501 can be formed of an organic compound such as polyimide, polyamide, polyurethane, or polyurea, and the thickness is about 0.01 to 1 μm. Can do. Such alignment layers 507 and 515 are coated by various printing methods and known coating methods, and then fired and then subjected to alignment treatment (rubbing). Since the alignment layers 507 and 515 made of such an organic compound are extremely small in thickness, it is not necessary to consider the mixing of impurities into the liquid crystal layer 505 that cause display defects. Such alignment layers 107 and 115 are hardly expected to shield impurities.
The liquid crystal layer 505 constituting the liquid crystal display device 501 has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the voltage holding ratio measuring condition as described above in the state before the impurity extraction process described above, and as described above. It can be formed using a liquid crystal having a residual DC (ΔE) measured under a residual DC (ΔE) measurement condition of 0.05 V or less.

このような本発明の液晶表示装置501では、液晶層505と直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極のような薄膜を介して液晶層505の最近傍に位置する樹脂部材は、カラーフィルタ11′を構成する樹脂着色層15′のみである。そして、この樹脂着色層15′が、上述のように、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上とするものであり、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下とするものである。これにより、液晶表示装置501は、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れたものである。   In such a liquid crystal display device 501 of the present invention, the resin member located at the position in direct contact with the liquid crystal layer 505 or the nearest part of the liquid crystal layer 505 through a thin film such as an alignment layer or a transparent electrode is colored. Only the resin colored layer 15 'constituting the filter 11'. As described above, the resin-colored layer 15 ′ has a voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment of 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and The residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. Accordingly, the liquid crystal display device 501 has excellent display quality by preventing the occurrence of display defects such as image sticking and white unevenness even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. .

尚、上記の液晶表示装置501では、カラーフィルタとして、反射層を設けた本発明のカラーフィルタ11′を用いているが、これに限定されるものではない。例えば、樹脂着色層15′を構成する赤色パターン15′R、緑色パターン15′G、青色パターン15′Bの境界部位にブラックマトリックス14′が露出しているようなカラーフィルタであってもよい。この場合、ブラックマトリックス14′に、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を付与する必要があり、これには、アクリル共重合体等の樹脂材料を使用することができる。   In the liquid crystal display device 501 described above, the color filter 11 ′ of the present invention provided with a reflective layer is used as the color filter, but the present invention is not limited to this. For example, a color filter in which the black matrix 14 'is exposed at the boundary portion of the red pattern 15'R, the green pattern 15'G, and the blue pattern 15'B constituting the resin coloring layer 15' may be used. In this case, it is necessary to give the black matrix 14 'the above characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction process is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5V or less). A resin material such as an acrylic copolymer can be used.

また、カラーフィルタとして、樹脂着色層15′とブラックマトリックス14′を覆うように透明な樹脂保護層を配設したカラーフィルタを使用することもできる。この場合、樹脂保護層は、カラーフィルタの表面を平坦化するとともに、着色層に含有される成分の液晶層への溶出を防止するために設けられたものである。したがって、この樹脂保護層を、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものとする必要があり、そのためにはアクリル共重合体等の樹脂材料を用いて形成することができる。樹脂保護層の厚みは、使用される材料の光透過率、カラーフィルタの表面状態等考慮して設定することができ、例えば、0.1〜3.0μmの範囲で設定することができる。尚、このような樹脂保護層を備える場合であっても、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有する樹脂着色層15′とブラックマトリックス14′を備えるものであってよい。   Further, as the color filter, a color filter in which a transparent resin protective layer is provided so as to cover the resin coloring layer 15 ′ and the black matrix 14 ′ can be used. In this case, the resin protective layer is provided in order to flatten the surface of the color filter and to prevent the components contained in the colored layer from eluting into the liquid crystal layer. Therefore, it is necessary that the resin protective layer has the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less) For that purpose, it can form using resin materials, such as an acrylic copolymer. The thickness of the resin protective layer can be set in consideration of the light transmittance of the material used, the surface state of the color filter, etc., and can be set in the range of 0.1 to 3.0 μm, for example. Even when such a resin protective layer is provided, the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less). The resin coloring layer 15 ′ and the black matrix 14 ′ may be provided.

さらに、上記のような樹脂保護層上であって、ブラックマトリックス14′の所定の箇所に複数の透明な樹脂柱状凸部を備えるカラーフィルタを用いることもできる。この場合、樹脂柱状凸部は、カラーフィルタを対向電極基板511と貼り合わせたときにスペーサーとして作用するものである。この樹脂柱状凸部は、例えば、感光性樹脂塗料を塗布し、所定のパターンで露光、現像し硬化することにより形成することができる。樹脂柱状凸部は、上記の樹脂保護層よりも2〜10μm程度の範囲で突出するように一定の高さをもつものであり、突出量は液晶表示装置の液晶層に要求される厚み等から適宜設定することができる。また、樹脂柱状凸部の形成密度は、液晶層の厚みムラ、開口率、樹脂柱状凸部の形状、材質等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、赤色パターン15′R、緑色パターン15′Gおよび青色パターン15′Bの1組に1個の割合で必要十分なスペーサー機能を発現する。このような樹脂柱状凸部の形状は特に制限はなく、円柱形状、角柱形状、截頭錐体形状等であってもよい。そして、このような樹脂柱状凸部を備えたカラーフィルタを使用する場合には、樹脂柱状凸部と保護層を、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものとする必要があり、そのためにはアクリル共重合体等の樹脂材料を用いて形成することができる。   Furthermore, a color filter having a plurality of transparent resin columnar protrusions on a predetermined portion of the black matrix 14 'on the resin protective layer as described above may be used. In this case, the resin columnar protrusion functions as a spacer when the color filter is bonded to the counter electrode substrate 511. This resin columnar convex part can be formed, for example, by applying a photosensitive resin paint, exposing, developing and curing in a predetermined pattern. The resin columnar protrusion has a certain height so as to protrude in the range of about 2 to 10 μm from the above resin protective layer, and the protrusion amount depends on the thickness required for the liquid crystal layer of the liquid crystal display device. It can be set appropriately. Further, the formation density of the resin columnar protrusions can be appropriately set in consideration of the thickness unevenness of the liquid crystal layer, the aperture ratio, the shape and material of the resin columnar protrusions, and for example, the red pattern 15′R, green Necessary and sufficient spacer functions are expressed at a ratio of one pattern 15'G and one blue pattern 15'B. The shape of such resin columnar convex portions is not particularly limited, and may be a cylindrical shape, a prismatic shape, a truncated cone shape, or the like. And when using the color filter provided with such a resin columnar convex part, the resin columnar convex part and the protective layer have the above characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80%. As described above, the residual DC (ΔE) needs to have 0.5 V or less), and for that purpose, it can be formed using a resin material such as an acrylic copolymer.

[第3の実施形態]
図4は、本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。図4において、液晶表示装置601は反射型の液晶表示装置であり、対向電極基板611と共通電極基板621を所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材(図示せず)により封止し、間隙部分に液晶層605が形成されたものである。尚、図示されていないが、観察者側である共通電極基板621の外側には、位相差板と偏光板が配設されている。
本発明の液晶表示装置601を構成する対向電極基板611は、基板612上に液晶駆動素子層をなす複数の薄膜トランジスタ(TFT)613と、反射電極層をなす複数の反射画素電極614を備え、各反射画素電極614を覆うように樹脂着色層615が形成され、さらに、反射画素電極614と樹脂着色層615とを覆うように形成された配向層606とを備えている。
[Third Embodiment]
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 4, a liquid crystal display device 601 is a reflective liquid crystal display device. A counter electrode substrate 611 and a common electrode substrate 621 are opposed to each other at a predetermined interval, and a peripheral portion is sealed with a seal member (not shown). A liquid crystal layer 605 is formed in the gap portion. Although not shown, a retardation plate and a polarizing plate are disposed outside the common electrode substrate 621 on the viewer side.
The counter electrode substrate 611 constituting the liquid crystal display device 601 of the present invention includes a plurality of thin film transistors (TFTs) 613 forming a liquid crystal driving element layer on a substrate 612 and a plurality of reflective pixel electrodes 614 forming a reflective electrode layer. A resin colored layer 615 is formed so as to cover the reflective pixel electrode 614, and an alignment layer 606 is formed so as to cover the reflective pixel electrode 614 and the resin colored layer 615.

対向電極基板611の反射画素電極614は、アルミニウム等の金属薄膜を蒸着法、スパッタリング法等の公知の成膜手段により設け、これをパターニングすることのより形成することができる。
対向電極基板611の樹脂着色層615は、各反射画素電極614を覆うように形成され、赤色パターン615R、緑色パターン615Gおよび青色パターン615Bが反射画素電極毎に所望のパターン形状で形成されている。この樹脂着色層615は、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、転写法等の公知の方法により形成することができる。また、樹脂着色層615を、例えば、赤色パターンが最も薄く、緑色パターン、青色パターンの順に厚くすることにより、各色ごとに最適な液晶層厚みを設定するようにしてもよい。
The reflective pixel electrode 614 of the counter electrode substrate 611 can be formed by providing a metal thin film such as aluminum by a known film forming means such as a vapor deposition method or a sputtering method and patterning it.
The resin coloring layer 615 of the counter electrode substrate 611 is formed so as to cover each reflective pixel electrode 614, and a red pattern 615R, a green pattern 615G, and a blue pattern 615B are formed in a desired pattern shape for each reflective pixel electrode. The resin coloring layer 615 can be formed by a pigment dispersion method using a photosensitive resin containing a desired colorant, and can be formed by a known method such as a printing method or a transfer method. Further, for example, the resin coloring layer 615 may be set to have an optimal liquid crystal layer thickness for each color by making the red pattern the thinnest and then increasing the thickness in the order of the green pattern and the blue pattern.

液晶表示装置601では、樹脂着色層615を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるものとする。このような着色層615は、上述の液晶表示装置401の樹脂着色層415の説明で挙げたような樹脂材料を用いて形成することができる。
上記の対向電極基板611を構成する基板612としては、上述の透明基板412として挙げたものを使用することができる。
In the liquid crystal display device 601, the resin coloring layer 615 has a voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less. Such a colored layer 615 can be formed using a resin material as described in the description of the resin colored layer 415 of the liquid crystal display device 401 described above.
As the substrate 612 constituting the counter electrode substrate 611, those described as the transparent substrate 412 can be used.

一方、本発明の液晶表示装置601を構成する共通電極基板621は、透明基板622上に共通透明電極層623、配向層624が形成されている。透明基板622としては、上述の透明基板412として挙げたものを使用することができる。また、共通透明電極層623は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成されたものである。このような電極層の厚みは0.01〜1μm程度であり、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。
さらに、液晶表示装置601を構成する配向層606,624は、上述の液晶表示装置401を構成する配向層416,434と同様とすることができる。
液晶表示装置601を構成する液晶層605は、上述の不純物抽出処理前の状態において、上述のような電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、上述のような残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を用いて形成することができる。
On the other hand, in the common electrode substrate 621 constituting the liquid crystal display device 601 of the present invention, the common transparent electrode layer 623 and the alignment layer 624 are formed on the transparent substrate 622. As the transparent substrate 622, those described as the transparent substrate 412 can be used. In addition, the common transparent electrode layer 623 is made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), etc., and alloys thereof, etc., such as sputtering, vacuum evaporation, CVD, etc. Formed by a typical film forming method. The thickness of such an electrode layer is about 0.01 to 1 μm, and an effect of shielding impurities can hardly be expected.
Further, the alignment layers 606 and 624 included in the liquid crystal display device 601 can be the same as the alignment layers 416 and 434 included in the liquid crystal display device 401 described above.
The liquid crystal layer 605 constituting the liquid crystal display device 601 has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the above-described voltage holding ratio measurement conditions in the state before the impurity extraction process, and the above-described It can be formed using a liquid crystal having a residual DC (ΔE) measured under a residual DC (ΔE) measurement condition of 0.05 V or less.

このような本発明の液晶表示装置601では、液晶層605と直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極のような薄膜を介して液晶層605の最近傍に位置する樹脂部材は、対向電極基板611を構成する樹脂着色層615のみである。そして、この樹脂着色層615が、上述のように、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上とするものであり、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下とするものである。これにより、液晶表示装置601は、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れたものである。   In such a liquid crystal display device 601 of the present invention, the resin member located at the position in direct contact with the liquid crystal layer 605 or the nearest part of the liquid crystal layer 605 through a thin film such as an alignment layer or a transparent electrode is opposed to Only the resin coloring layer 615 constituting the electrode substrate 611 is provided. Then, as described above, the resin coloring layer 615 has a voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment of 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and The residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. As a result, the liquid crystal display device 601 has excellent display quality by preventing the occurrence of display defects such as image sticking and white unevenness even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. .

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
不純物抽出処理試験
A.試料の作製
不純物抽出処理に供するために、以下のようにガラス基板(コーニング社製7059ガラス)上にカラー液晶表示装置に用いられる種々の材料を用いて塗膜を形成した。
(1)ブラックマトリックス用感光性塗料と着色層用感光性塗料
ブラックマトリックス用感光性塗料および各色の着色層用感光性塗料R1、G1、G2、B1は、分散液組成物(顔料、分散剤、および溶剤を含有)にビーズを加え、分散機で3時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液と、クリアレジスト組成物(ポリマー、モノマー、添加剤、開示剤および溶剤)とを混合したものであり、その組成を下記に示す。尚、分散機としては、ペイントシェーカーを用いた。
Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
Impurity extraction treatment test Preparation of sample In order to use for the impurity extraction process, a coating film was formed on a glass substrate (Corning 7059 glass) using various materials used for a color liquid crystal display device as follows.
(1) Black matrix photosensitive paint and colored layer photosensitive paint Black matrix photosensitive paint and colored layer photosensitive paint R1, G1, G2, B1 are dispersion compositions (pigments, dispersants, And a solvent) containing beads, dispersed for 3 hours with a disperser, and then mixed with a dispersion obtained by removing the beads and a clear resist composition (polymer, monomer, additive, disclosure agent and solvent). Yes, its composition is shown below. A paint shaker was used as the disperser.

次に、調製したブラックマトリックス用感光性塗料および各色の着色層用感光性塗料R1、G1、G2、B1を、それぞれガラス基板上にスピンコート法で1.5μmの厚さに塗布、90℃、3分間の条件でプリベーク、全面露光(500mJ/cm2)、0.05%KOH水溶液を用いたスプレー現像を60秒行った後、200℃、30分間ポストベークすることで、塗膜付きのガラス基板を作製した。
(ブラックマトリックス用感光性塗料)
・黒顔料 … 14.0重量部
(大日精化工業(株)製TMブラック#9550)
・分散剤(ビックケミー(株)製Disperbyk111)… 1.2重量部
・ポリマー(昭和高分子(株)製VR60) … 2.8重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 3.5重量部
・添加剤(綜研化学(株)製L−20) … 0.7重量部
・開始剤 … 1.6重量部
(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ
フェニル)−ブタノン−1)
・開始剤 … 0.3重量部
(4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン)
・開始剤(2,4−ジエチルチオキサントン) … 0.1重量部
・溶剤(エチレングリコールモノブチルエーテル) … 75.8重量部
Next, the prepared black matrix photosensitive paint and colored layer photosensitive paints R1, G1, G2, and B1 were each applied to a glass substrate to a thickness of 1.5 μm by spin coating, 90 ° C., Pre-baked under conditions of 3 minutes, whole surface exposure (500 mJ / cm 2 ), spray development using 0.05% KOH aqueous solution for 60 seconds, and then post-baked at 200 ° C. for 30 minutes, glass with a coating film A substrate was produced.
(Photosensitive paint for black matrix)
Black pigment: 14.0 parts by weight (TM Black # 95550 manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
-Dispersant (Disperbyk 111 manufactured by Big Chemie Co., Ltd.) ... 1.2 parts by weight-Polymer (VR60 manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) ... 2.8 parts by weight-Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) ... 3.5 weights Parts ・ Additive (L-20, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.7 parts by weight Initiator 1.6 parts by weight (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino)
Phenyl) -butanone-1)
・ Initiator: 0.3 part by weight (4,4′-diethylaminobenzophenone)
Initiator (2,4-diethylthioxanthone) 0.1 part by weight Solvent (ethylene glycol monobutyl ether) 75.8 parts by weight

(赤色パターン用感光性塗料R1)
・赤顔料 … 4.8重量部
(チバガイギー社製クロモフタールレッドA2B)
・黄顔料 … 1.2重量部
(BASF社製パリオトールイエローD1819)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 3.0重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint R1 for red pattern)
・ Red pigment: 4.8 parts by weight (Chromotal Red A2B manufactured by Ciba Geigy)
・ Yellow pigment: 1.2 parts by weight (PASFOL Yellow D1819 manufactured by BASF)
Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 3.0 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

(緑色パターン用感光性塗料G1)
・緑顔料 … 4.2重量部
(ゼネカ(株)製モナストラルグリーン9Y−C)
・黄顔料 … 1.8重量部
(BASF社製パリオトールイエローD1819)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 3.0重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint G1 for green pattern)
Green pigment: 4.2 parts by weight (Monestral Green 9Y-C manufactured by Zeneca)
・ Yellow pigment: 1.8 parts by weight (PASFOL Yellow D1819 manufactured by BASF)
Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 3.0 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

(緑色パターン用感光性塗料G2)
・緑顔料 … 4.2重量部
(ゼネカ(株)製モナストラルグリーン6Y−CL)
・黄顔料 … 1.8重量部
(BASF社製パリオトールイエローD1819)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 3.0重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint G2 for green pattern)
Green pigment: 4.2 parts by weight (Zeneca Co., Ltd. Monastral Green 6Y-CL)
・ Yellow pigment: 1.8 parts by weight (PASFOL Yellow D1819 manufactured by BASF)
Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 3.0 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

(青色パターン用感光性塗料B1)
・青顔料 … 6.0重量部
(BASF社製ヘリオゲンブルーL6700F)
・顔料誘導体 … 0.6重量部
(ゼネカ(株)製ソルスパース12000)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 2.4重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint B1 for blue pattern)
・ Blue pigment: 6.0 parts by weight (BASF Heliogen Blue L6700F)
-Pigment derivative: 0.6 parts by weight (Solsperse 12000 manufactured by Zeneca)
・ Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 2.4 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

尚、上記のポリマー1は、ベンジルメタクリレート:スチレン:アクリル酸:2−ヒドロキシエチルメタクリレート=15.6:37.0:30.5:16.9(モル比)の共重合体100モル%に対して、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.9モル%付加したものであり、重量平均分子量は42500である。以下の他の塗料に用いられるポリマー1も同様である。   The polymer 1 is based on 100 mol% of a copolymer of benzyl methacrylate: styrene: acrylic acid: 2-hydroxyethyl methacrylate = 15.6: 37.0: 30.5: 16.9 (molar ratio). 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added at 16.9 mol%, and the weight average molecular weight was 42500. The same applies to the polymer 1 used in the following other paints.

(2)保護層用塗料
下記組成の保護層用塗料を調製し、上記と同様にして塗膜付きのガラス基板を作製した。
(保護層用塗料)
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 7.1重量部
・ポリマー1 … 8.8重量部
・エポキシ樹脂 … 9.7重量部
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート180S70)
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 1.0重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤(ジメチルジグリコール) … 38.0重量部
・溶剤(酢酸−3−メトチキブチル) … 34.0重量部
(2) Coating for protective layer A coating for protective layer having the following composition was prepared, and a glass substrate with a coating film was prepared in the same manner as described above.
(Protective layer paint)
・ Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 7.1 parts by weight Polymer 1 8.8 parts by weight Epoxy resin 9.7 parts by weight (Epicoat 180S70 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
Initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) ... 1.4 parts by weight Initiator ... 1.0 part by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent (dimethyldiglycol): 38.0 parts by weight ・ Solvent (3-methoxybutyl acetate): 34.0 parts by weight

(3)柱状凸部用感光性塗料
下記組成の2種の柱状凸部用感光性塗料S1、S2を調製した。次いで、調製した各柱状凸部用感光性塗料をガラス基板上にスピンコート法で塗布し、100℃、3分間の条件でプリベーク、全面露光、0.01%KOH水溶液を用いたスプレー現像を行った後、200℃、30分間ポストベークすることで、塗膜付きのガラス基板を作製した。
(柱状凸部用感光性塗料S1)
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 8.7重量部
・ポリマー1 … 10.9重量部
・エポキシ樹脂 … 12.1重量部
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート180S70)
・界面活性剤 … 1.0重量部
(日本油化(株)製ノニオンHS−210)
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア369) … 1.2重量部
・開始剤 … 1.0重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 29.1重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
・溶剤(酢酸−3−メトチキブチル) … 36.0重量部
(3) Photosensitive paint for columnar projections Two types of photosensitive coatings S1 and S2 for columnar projections having the following compositions were prepared. Next, the prepared photosensitive coatings for columnar protrusions are applied onto a glass substrate by a spin coating method, prebaked at 100 ° C. for 3 minutes, exposed to the whole surface, and spray-developed using a 0.01% KOH aqueous solution. Then, a glass substrate with a coating film was produced by post-baking at 200 ° C. for 30 minutes.
(Photosensitive paint S1 for columnar protrusions)
Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 8.7 parts by weight Polymer 1 10.9 parts by weight Epoxy resin 12.1 parts by weight (Epicoat 180S70 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
-Surfactant: 1.0 part by weight (Nippon Yuka nonionic HS-210)
・ Initiator (Irgacure 369 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1.2 parts by weight Initiator 1.0 part by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 29.1 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Solvent (Acetic acid-3-methyoxybutyl) 36.0 parts by weight

(柱状凸部用感光性塗料S2)
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 8.7重量部
・ポリマー1 … 10.9重量部
・エポキシ樹脂 … 12.1重量部
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート180S70)
・界面活性剤 … 2.0重量部
(日本油化(株)製ノニオンHS−210)
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア369) … 1.2重量部
・開始剤 … 1.0重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 28.1重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
・溶剤(酢酸−3−メトチキブチル) … 36.0重量部
(Photosensitive paint S2 for columnar protrusions)
Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 8.7 parts by weight Polymer 1 10.9 parts by weight Epoxy resin 12.1 parts by weight (Epicoat 180S70 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
・ Surfactant ... 2.0 parts by weight (Nippon Yuka nonionic HS-210)
・ Initiator (Irgacure 369 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1.2 parts by weight Initiator 1.0 part by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 28.1 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Solvent (Acetic acid-3-methyoxybutyl) 36.0 parts by weight

B.不純物抽出処理と電圧保持率・残留DC(ΔE)の測定
上記のA.で作製した各種の塗膜付きガラス基板について、液晶(メルクジャパン社製MLC−6846−000)に対する不純物抽出処理を下記の方法で行い、その後、この液晶の電圧保持率、残留DC(ΔE)を下記に示す測定条件で測定し、結果を下記の表1に示した。
B. Impurity extraction treatment and measurement of voltage holding ratio / residual DC (ΔE) For the various glass substrates with a coating film produced in step 1, the impurity extraction treatment for liquid crystal (MLC-6846-000 manufactured by Merck Japan Co., Ltd.) is performed by the following method, and then the voltage holding ratio and residual DC (ΔE) of this liquid crystal are determined. The measurement was performed under the following measurement conditions, and the results are shown in Table 1 below.

尚、使用した液晶は、不純物抽出処理前の状態において、下記の電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が98%以上となり、下記の残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.01V以下となるものであった。
(不純物抽出処理方法)
表面積が4cm2である塗膜付きガラス基板を容量0.2mlの液晶中に
浸漬し、105℃に5時間保持して抽出を行う。
The liquid crystal used had a voltage holding ratio of 98% or more measured under the following voltage holding ratio measurement conditions in the state before the impurity extraction treatment, and the residual DC (ΔE) measured under the following residual DC (ΔE) measuring conditions. ) Was 0.01 V or less.
(Impurity extraction method)
A glass substrate with a coating having a surface area of 4 cm 2 is immersed in a liquid crystal having a capacity of 0.2 ml, and extraction is carried out by holding at 105 ° C. for 5 hours.

(電圧保持率測定条件)
層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からな
る測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の
条件で測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・印加電圧パルス振幅 :5V
・印加電圧パルス周波数:60Hz
・印加電圧パルス幅 :16.67msec
(Voltage holding ratio measurement conditions)
As a layer structure, a measurement cell consisting of substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared, and liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is injected and measured under the following conditions.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
・ Applied voltage pulse amplitude: 5V
・ Applied voltage pulse frequency: 60 Hz
・ Applied voltage pulse width: 16.67 msec

(残留DC(ΔE)測定条件)
層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からな
る測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の
条件で残留DC(ΔE)(電圧−静電容量ヒステリシスループにおいて、
最大静電容量(Cs)と最小静電容量(C0)から式(C0+Cs)/
2で規定される静電容量における電圧シフト量(図2に矢印で示す)の
こと)を測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・使用液晶 :静電容量飽和電圧(図2のVs′)が10V
以下のもの
・電圧−静電容量ヒステリシスループ測定電圧範囲:−10V〜+10V
(Residual DC (ΔE) measurement conditions)
As a layer structure, a measurement cell comprising a substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared, and liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is injected, and residual DC (ΔE) ( In the voltage-capacitance hysteresis loop,
From the maximum capacitance (Cs) and the minimum capacitance (C0), the formula (C0 + Cs) /
Measure the voltage shift amount (indicated by the arrow in FIG. 2) in the capacitance specified in 2.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
Liquid crystal used: Capacitance saturation voltage (Vs ′ in FIG. 2) is 10V
・ Voltage-capacitance hysteresis loop measurement voltage range: -10V to + 10V

Figure 0004157539
Figure 0004157539

カラーフィルタの作製
(1)カラーフィルタ試料1
カラーフィルタ用の基板として、100mm×100mm、厚さ0.7mmのガラス基板(コーニング社製7059ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面に上記組成のブラックマトリックス用感光性塗料を塗布し、マスク露光、現像、ポストベークを行ってブラックマトリックス(厚み1.5μm)を形成した。
Production of color filter (1) Color filter sample 1
As a substrate for a color filter, a glass substrate (Corning 7059 glass) having a size of 100 mm × 100 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. After this substrate was washed according to a conventional method, a black matrix photosensitive paint having the above composition was applied to the entire surface of one side of the substrate, and mask exposure, development, and post-baking were performed to form a black matrix (thickness: 1.5 μm).

次に、上記組成の3種の着色層用感光性塗料R1、G1、B1を用いて着色層を形成した。すなわち、ブラックマトリックスが形成された上記の基板全面に、赤色パターン用の感光性塗料R1をスピンコート法により塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、プリベーク(90℃、3分間)を行った。その後、所定の着色パターン用フォトマスクを用いて赤色感光性樹脂層をアライメント露光し、現像液(0.05%KOH水溶液)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(200℃、30分間)を行って、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に赤色パターン(厚み1.5μm)を形成した。
同様に、緑色パターン用の感光性塗料G1を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に緑色パターン(厚み1.5μm)を形成した。さらに、青色パターン用の感光性塗料B1を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に青色パターン(厚み1.5μm)を形成した。
これにより図1に示すような構造のカラーフィルタ(試料1)を得た。
Next, a colored layer was formed using the three types of photosensitive paints R1, G1, and B1 for the colored layer having the above composition. That is, a red pattern photosensitive paint R1 was applied to the entire surface of the substrate on which the black matrix was formed by spin coating to form a red photosensitive resin layer, and prebaked (90 ° C., 3 minutes). . Thereafter, the red photosensitive resin layer is alignment-exposed using a photomask for a predetermined colored pattern, developed with a developer (0.05% KOH aqueous solution), and then post-baked (200 ° C., 30 minutes). Then, a red pattern (thickness: 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern.
Similarly, a green pattern (thickness of 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern using the photosensitive paint G1 for the green pattern. Further, a blue pattern (thickness: 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern by using the photosensitive paint B1 for the blue pattern.
As a result, a color filter (sample 1) having a structure as shown in FIG. 1 was obtained.

(2)カラーフィルタ試料2
着色層用感光性塗料として、上記組成の3種の感光性塗料R1、G2、B1を用いた他は、上記の試料1と同様にしてカラーフィルタ(試料2)を作製した。
(2) Color filter sample 2
A color filter (Sample 2) was produced in the same manner as Sample 1 except that three types of photosensitive paints R1, G2, and B1 having the above compositions were used as the photosensitive paint for the colored layer.

(3)カラーフィルタ試料3
上記のカラーフィルタ(試料2)のブラックマトリックスおよび着色層を覆うように上記組成の保護層用塗料をスピンコート法により塗布し、乾燥して、厚みが1.5μmの保護層を形成して、図4に示されるような構造のカラーフィルタ(試料3)を得た。
(3) Color filter sample 3
The protective layer paint having the above composition is applied by spin coating so as to cover the black matrix and the colored layer of the color filter (sample 2), and dried to form a protective layer having a thickness of 1.5 μm. A color filter (sample 3) having a structure as shown in FIG. 4 was obtained.

(4)カラーフィルタ試料4
上記のカラーフィルタ(試料3)の保護層を覆うように上記組成の柱状凸部用感光性塗料S1をスピンコート法により塗布し、プレベーク(100℃、3分間)を行った。その後、所定の柱状凸部用フォトマスクを用いて露光し、現像液(0.01%KOH水溶液)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(200℃、30分間)を行って、高さ5μmの柱状凸部を複数形成して、図5に示されるような構造のカラーフィルタ(試料4)を得た。
(4) Color filter sample 4
The columnar convex photosensitive paint S1 having the above composition was applied by spin coating so as to cover the protective layer of the color filter (sample 3), and prebaked (100 ° C., 3 minutes). Thereafter, exposure is performed using a predetermined columnar convex photomask, development is performed with a developer (0.01% KOH aqueous solution), and then post-baking (200 ° C., 30 minutes) is performed, and the height is 5 μm. A plurality of columnar protrusions were formed to obtain a color filter (sample 4) having a structure as shown in FIG.

(5)カラーフィルタ試料5
柱状凸部用感光性塗料として、上記組成の感光性塗料S2を用いた他は、上記の試料4と同様にして、カラーフィルタ(試料5)とした。
(5) Color filter sample 5
A color filter (Sample 5) was prepared in the same manner as Sample 4 except that the photosensitive coating S2 having the above composition was used as the photosensitive coating for columnar convex portions.

液晶表示装置の作製
上記の各カラーフィルタ(試料1〜5)上に酸化インジウムスズ(ITO)からなる透明共通電極を形成した。
また、透明基板として100mm×100mm、厚さ0.7mmのガラス基板(コーニング社製7059ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板上の所定の複数の個所に薄膜トランジスタ(TFT)を形成し、各TFTのドレイン電極に接続するように透明画素電極を酸化インジウムスズ(ITO)により形成して、対向電極基板を作製した。
次に、上記のカラーフィルタの透明共通電極上と対向電極基板の透明画素電極を覆うようにポリイミド樹脂塗料を塗布、乾燥して配向層(厚み0.07μm)を設け、配向処理を施した。
次いで、これらのカラーフィルタと対向電極基板を用いて液晶表示装置(試料1〜5)を作製した。尚、液晶としてメルクジャパン社製MLC−6846−000を使用した。
Production of Liquid Crystal Display Device A transparent common electrode made of indium tin oxide (ITO) was formed on each of the color filters (samples 1 to 5).
Further, a glass substrate (Corning 7059 glass) having a size of 100 mm × 100 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared as a transparent substrate. After this substrate is cleaned according to a standard method, thin film transistors (TFTs) are formed at a plurality of predetermined locations on the substrate, and transparent pixel electrodes are formed of indium tin oxide (ITO) so as to be connected to the drain electrodes of each TFT. Thus, a counter electrode substrate was produced.
Next, a polyimide resin coating was applied and dried to cover the transparent common electrode of the color filter and the transparent pixel electrode of the counter electrode substrate, and an alignment layer (thickness 0.07 μm) was provided to perform alignment treatment.
Next, liquid crystal display devices (Samples 1 to 5) were produced using these color filters and the counter electrode substrate. In addition, Merck Japan MLC-6846-000 was used as liquid crystal.

液晶表示装置の評価
作製した5種の液晶表示装置(試料1〜5)について、23℃、60%RHの条件下で72時間連続で画像表示を行い、下記の基準で表示品質を評価して結果を下記の表2に示した。
(表示品質の評価基準)
○:焼付き及び白ムラがなく表示品質が極めて良好
×:焼付き及び白ムラがみられ、表示不良現象が認められる
Evaluation of liquid crystal display devices For the five types of liquid crystal display devices (samples 1 to 5) produced, image display was continuously performed for 72 hours under the conditions of 23 ° C. and 60% RH, and the display quality was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 2 below.
(Evaluation criteria for display quality)
○: Display quality is extremely good without image sticking and white unevenness ×: Image sticking and white unevenness are observed, and a display defect phenomenon is observed.

Figure 0004157539
Figure 0004157539

表2に示されるように、試料1、3、4の各液晶表示装置は、構成するカラーフィルタがいずれも、液晶層と直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極を介して液晶層の最近傍に位置する樹脂部材が、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下に保つ本発明のカラーフィルタであるため、高温高湿下における長時間表示を行っても、表示不良現象が生じないものであった。
これに対し、試料2の液晶表示装置では、電圧保持率が80%未満で残留DC(ΔE)が0.5Vを超える着色層の緑色パターンが液晶層と直接に接触し、また、試料5の液晶表示装置では、電圧保持率が80%未満で残留DC(ΔE)が0.5Vを超える柱状凸部が液晶層と直接に接触するので、共に焼付き及び白ムラがみられ、表示不良現象が認められた。
As shown in Table 2, each of the liquid crystal display devices of Samples 1, 3, and 4 has a liquid crystal layer in a position where each of the constituting color filters is in direct contact with the liquid crystal layer or through an alignment layer or a transparent electrode Is the color filter of the present invention that maintains the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment at 80% or more and the residual DC (ΔE) at 0.5 V or less. Even when the display is performed for a long time under high humidity, the display failure phenomenon does not occur.
On the other hand, in the liquid crystal display device of sample 2, the green pattern of the colored layer having a voltage holding ratio of less than 80% and a residual DC (ΔE) exceeding 0.5 V is in direct contact with the liquid crystal layer. In a liquid crystal display device, columnar protrusions having a voltage holding ratio of less than 80% and a residual DC (ΔE) of more than 0.5 V are in direct contact with the liquid crystal layer, so both image sticking and white unevenness are observed, resulting in a display failure phenomenon. Was recognized.

高品質の表示が可能な液晶表示装置の製造において有用である。   This is useful in manufacturing a liquid crystal display device capable of high quality display.

本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 残留DC(ΔE)を説明するための電圧−静電容量ヒステリシスループを示す図である。It is a figure which shows the voltage-capacitance hysteresis loop for demonstrating residual DC ((DELTA) E). 本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows other embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows other embodiment of the liquid crystal display device of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11′…カラーフィルタ
12…基板
14′…ブラックマトリックス
15′…樹脂着色層
401,501,601…液晶表示装置
405,505,605…液晶層
411,511,611…対向電極基板
420,514,613…半導体駆動素子(薄膜トランジスタ)
414…樹脂遮光層
415…樹脂着色層
615…樹脂着色層
433,506,623…共通透明電極
413,513…透明画素電極
614…反射電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 '... Color filter 12 ... Board | substrate 14' ... Black matrix 15 '... Resin colored layer 401,501,601 ... Liquid crystal display device 405,505,605 ... Liquid crystal layer 411,511,611 ... Counter electrode board | substrate 420,514,613 ... Semiconductor drive elements (thin film transistors)
414 ... Resin light shielding layer 415 ... Resin colored layer 615 ... Resin colored layer 433, 506, 623 ... Common transparent electrode 413, 513 ... Transparent pixel electrode 614 ... Reflective electrode

Claims (3)

シール部材を介して間隙部を設けるように相対向した共通電極基板および対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記共通電極基板は基板上に共通透明電極層を備え、前記対向電極基板は半導体駆動素子と各半導体駆動素子上に形成された樹脂遮光層と各半導体駆動素子に対応した所定のパターンで形成された複数色からなる樹脂着色層とを備えた液晶表示装置の製造方法において
電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂遮光層と前記樹脂着色層を形成することを特徴とした液晶表示装置の製造方法
A common electrode substrate and a counter electrode substrate opposed to each other so as to provide a gap portion through a seal member; and a liquid crystal layer sealed in the gap portion, wherein the common electrode substrate has a common transparent electrode layer on the substrate. , the counter electrode substrate is a liquid crystal display that includes a resin colored layer consisting of a plurality of colors formed in a predetermined pattern corresponding to the semiconductor driving element resin light shielding layer and formed on the semiconductor driving element and the semiconductor driving element In the device manufacturing method ,
A liquid crystal having a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and as a resin member, the voltage of the liquid crystal after being subjected to impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal Selecting a resin member having a retention rate of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less, and using the resin member to form the resin light-shielding layer and the resin-colored layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device.
シール部材を介して間隙部を設けるように相対向したカラーフィルタおよび対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記カラーフィルタは基板と該基板上に順次積層した反射層、複数色からなる樹脂着色層および共通透明電極層とを備えた液晶表示装置の製造方法において
電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂着色層を形成することを特徴とした液晶表示装置の製造方法
A color filter and a counter electrode substrate opposed to each other so as to provide a gap through a seal member, and a liquid crystal layer sealed in the gap, the color filter being sequentially laminated on the substrate and the substrate. In a manufacturing method of a liquid crystal display device comprising a resin colored layer composed of a plurality of colors and a common transparent electrode layer,
A liquid crystal having a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and as a resin member, the voltage of the liquid crystal after being subjected to impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal A liquid crystal display characterized in that a resin member having a retention rate of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less is selected, and the resin colored layer is formed using the resin member. Device manufacturing method .
シール部材を介して間隙部を設けるように相対向した共通電極基板および対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記共通電極基板は基板上に共通透明電極層を備え、前記対向電極基板は基板と該基板上に順次積層した駆動素子層、反射電極層、複数色からなる樹脂着色層とを備えた液晶表示装置の製造方法において
電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂着色層を形成することを特徴とした液晶表示装置の製造方法
A common electrode substrate and a counter electrode substrate opposed to each other so as to provide a gap portion through a seal member; and a liquid crystal layer sealed in the gap portion, wherein the common electrode substrate has a common transparent electrode layer on the substrate. In the method of manufacturing a liquid crystal display device, the counter electrode substrate includes a substrate, a driving element layer sequentially laminated on the substrate, a reflective electrode layer, and a resin coloring layer composed of a plurality of colors.
A liquid crystal having a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and as a resin member, the voltage of the liquid crystal after being subjected to impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal A liquid crystal display characterized in that a resin member having a retention rate of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less is selected, and the resin colored layer is formed using the resin member. Device manufacturing method .
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